JPH0798812B2 - ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 - Google Patents
２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法Info
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- JPH0798812B2 JPH0798812B2 JP61218865A JP21886586A JPH0798812B2 JP H0798812 B2 JPH0798812 B2 JP H0798812B2 JP 61218865 A JP61218865 A JP 61218865A JP 21886586 A JP21886586 A JP 21886586A JP H0798812 B2 JPH0798812 B2 JP H0798812B2
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は紫外線吸収剤として有用な、下記一般式IIで示
される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法に関
する。
される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法に関
する。
一般式II （但しR1は水素又は塩素原子、炭素数１〜４の低級アル
キル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキ
シル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素又は塩素原
子、炭素数１〜４の低級アルキル基又は炭素数１〜４の
低級アルコキシル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、
炭素数１〜12のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコ
キシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキル基で置
換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わし、R4は水
素又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数１〜４のア
ルコキシル基を表わし、R5は水素原子、炭素数１〜12の
アルキル基又はアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニ
ルアルキル基を表わす。） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類はプラス
チック、塗料、油等に添加される紫外線吸収剤として知
られている。
キル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキ
シル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素又は塩素原
子、炭素数１〜４の低級アルキル基又は炭素数１〜４の
低級アルコキシル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、
炭素数１〜12のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコ
キシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキル基で置
換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わし、R4は水
素又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数１〜４のア
ルコキシル基を表わし、R5は水素原子、炭素数１〜12の
アルキル基又はアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニ
ルアルキル基を表わす。） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類はプラス
チック、塗料、油等に添加される紫外線吸収剤として知
られている。
従来、これらの２−フェニルベンゾトリアゾール類は一
般式Ｉ （但しR1,R2,R3,R4,R5は一般式IIに同じ） で示される。ｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を化学的又
は電解的に還元して製造されている。しかし従来法は夫
々一長一短があって十分満足し得る方法ではない。
般式Ｉ （但しR1,R2,R3,R4,R5は一般式IIに同じ） で示される。ｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を化学的又
は電解的に還元して製造されている。しかし従来法は夫
々一長一短があって十分満足し得る方法ではない。
例えば特公昭37-5934号公報及び米国特許第3,773,751号
明細書ではｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体をアルコール
性水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に還元して
相当する２−フェニルベンゾトリアゾール類を良好な収
率で得ているが、この水酸化ナトリウム−亜鉛系は亜鉛
スラッジを生じる点で排水汚染の問題を含んでいる。
明細書ではｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体をアルコール
性水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に還元して
相当する２−フェニルベンゾトリアゾール類を良好な収
率で得ているが、この水酸化ナトリウム−亜鉛系は亜鉛
スラッジを生じる点で排水汚染の問題を含んでいる。
硫化アンモニア、アルカリスルフィド、亜鉛−アンモニ
ア系、硫酸水素−ナトリウム系及び亜鉛−塩酸系も米国
特許第2,362,988号明細書に開示されるように前記還元
反応の化学的還元剤として使用されているが、この方法
は多量の亜硫酸塩又は亜鉛塩を生成するため、排水汚染
の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガスが、
また使用した硫化系還元剤からは有毒な硫化水素が発生
するため、大気汚染の問題にもつながる。
ア系、硫酸水素−ナトリウム系及び亜鉛−塩酸系も米国
特許第2,362,988号明細書に開示されるように前記還元
反応の化学的還元剤として使用されているが、この方法
は多量の亜硫酸塩又は亜鉛塩を生成するため、排水汚染
の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガスが、
また使用した硫化系還元剤からは有毒な硫化水素が発生
するため、大気汚染の問題にもつながる。
特開昭51-138679号公報及び同51-138680号公報には加圧
水素の添加による還元法が、また特開昭50-88072号公報
にはヒドラジンによる還元法が記載されているが、これ
らの方法は収率及び経済の面で不満足であり、しかも反
応中、副反応が起こる等の理由で目的物を高純度で得る
ことは不可能であり、特にこの傾向は塩素原子を含む目
的物を得る場合（この場合は脱塩素反応等の副反応が起
こる）に強い。
水素の添加による還元法が、また特開昭50-88072号公報
にはヒドラジンによる還元法が記載されているが、これ
らの方法は収率及び経済の面で不満足であり、しかも反
応中、副反応が起こる等の理由で目的物を高純度で得る
ことは不可能であり、特にこの傾向は塩素原子を含む目
的物を得る場合（この場合は脱塩素反応等の副反応が起
こる）に強い。
また本発明者の出願に係る特開昭59-170172号にはアル
コール類でｏ−ニトロアゾベンゼンを還元する方法が記
載されているが、触媒であるキノン類は皮膚や粘膜を刺
激し、場合によっては発疹を伴う恐れがあるため、取扱
い上、直接皮膚にふれたり、その蒸気等にはさらされな
いような注意が必要である。又、使用後の触媒は変化又
は変質して触媒としての能力が低下し、回収が困難であ
る欠点を有している。
コール類でｏ−ニトロアゾベンゼンを還元する方法が記
載されているが、触媒であるキノン類は皮膚や粘膜を刺
激し、場合によっては発疹を伴う恐れがあるため、取扱
い上、直接皮膚にふれたり、その蒸気等にはさらされな
いような注意が必要である。又、使用後の触媒は変化又
は変質して触媒としての能力が低下し、回収が困難であ
る欠点を有している。
本発明の目的は以上の従来技術が内包していた問題を全
て解消し得る２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法を提供することである。
て解消し得る２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法を提供することである。
本発明者等は従来の２−フェニルベンゾトリアゾール類
の製造法における前述のような問題点、特に取扱いが容
易で変質の少ない触媒の開発に努力し、種々検討した結
果、 １） 一般式Ｉのｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を芳香
族ケトン化合物よりなる触媒及び塩基の存在下に第１級
アルコール、及び／又は第２級アルコールで還元する
か、或は ２） 一般式III （但し、R1,R2,R3,R4,R5は前述の通り）で示される。２
−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類を同様
に芳香族ケトン化合物よりなる触媒及び塩基の存在下、
第１級アルコール及び／又は第２級アルコールで還元す
れば、一般式IIの目的物が技術的にも経済的にも有利
に、また公害的にも問題がなく得られることを見出し
た。
の製造法における前述のような問題点、特に取扱いが容
易で変質の少ない触媒の開発に努力し、種々検討した結
果、 １） 一般式Ｉのｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を芳香
族ケトン化合物よりなる触媒及び塩基の存在下に第１級
アルコール、及び／又は第２級アルコールで還元する
か、或は ２） 一般式III （但し、R1,R2,R3,R4,R5は前述の通り）で示される。２
−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類を同様
に芳香族ケトン化合物よりなる触媒及び塩基の存在下、
第１級アルコール及び／又は第２級アルコールで還元す
れば、一般式IIの目的物が技術的にも経済的にも有利
に、また公害的にも問題がなく得られることを見出し
た。
本発明の１）の方法は反応温度、反応時間及び第１級ア
ルコール類または第２級アルコールの消費量によって下
記１つ又は２つの工程を経て行なわれる。
ルコール類または第２級アルコールの消費量によって下
記１つ又は２つの工程を経て行なわれる。
（ｉ） １工程（下記工程ａ）の場合 この場合の反応温度は60〜110℃反応式間は３時間〜12
時間が適当であり、その時の第１級アルコールの使用量
は式Ｉの化合物１モル分子当り0.9〜1.3モル分子であ
り、第２級アルコールの使用量は1.8〜2.6モル分子であ
る。
時間が適当であり、その時の第１級アルコールの使用量
は式Ｉの化合物１モル分子当り0.9〜1.3モル分子であ
り、第２級アルコールの使用量は1.8〜2.6モル分子であ
る。
第１級アルコールの場合の反応式 第２級アルコール類の場合の反応式 （ii） ２工程（下記工程ｂ及びｃ）の場合 この場合の反応温度は最初約60〜100℃、時間は２〜10
時間、ついで約70〜110℃、時間は１〜４時間が適当で
ある。
時間、ついで約70〜110℃、時間は１〜４時間が適当で
ある。
この方法は、工程が２つになるが１工程の方法より品質
及び収率の面で有利になることがある。
及び収率の面で有利になることがある。
アルコールの使用量は工程ｂでは式Ｉの化合物１モル分
子当り、第１級アルコールは0.4〜0.7モル分子、第２級
アルコールは0.8〜1.4モル分子、また工程Ｃでは式III
の化合物１モル、分子当り第１級アルコールは0.4〜0.7
モル分子、第２級アルコールは0.8〜1.4モル分子であ
る。
子当り、第１級アルコールは0.4〜0.7モル分子、第２級
アルコールは0.8〜1.4モル分子、また工程Ｃでは式III
の化合物１モル、分子当り第１級アルコールは0.4〜0.7
モル分子、第２級アルコールは0.8〜1.4モル分子であ
る。
第１級アルコール類の場合の反応式 第２級アルコール類の場合の反応式 本発明の方法は（ｉ）及び（ii）のいずれの場合も反応
を円滑にするため、通常、還元に使用するアルコール類
を溶媒とし、場合によって、トルエン、アセトン、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリルのような不活性溶媒
中で実施することもできる。
を円滑にするため、通常、還元に使用するアルコール類
を溶媒とし、場合によって、トルエン、アセトン、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリルのような不活性溶媒
中で実施することもできる。
本発明の（ｉ）の方法で原料として用いられる一般式Ｉ
の化合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
の化合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベン
ゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′,4′−ジヒドロキシアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−４′−メトキシアゾベ
ンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α
−ジメチルベンジル）アゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）アゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ
−ドデシルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジクロル−２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジクロル−２′−ヒドロキシ−３′,
5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、及び ２−ニトロ−４−カルボキシ−２′−ヒドロキシ−５−
メチルアゾベンゼン。
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベン
ゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′,4′−ジヒドロキシアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−４′−メトキシアゾベ
ンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α
−ジメチルベンジル）アゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）アゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ
−ドデシルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジクロル−２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジクロル−２′−ヒドロキシ−３′,
5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、及び ２−ニトロ−４−カルボキシ−２′−ヒドロキシ−５−
メチルアゾベンゼン。
本発明の２）の方法で用いられる一般式IIIの化合物は
たとえば前記般式Ｉの化合物をＮ−オキシドまで還元す
ることにより得られるが、その具体例としは次のものが
挙げられる。
たとえば前記般式Ｉの化合物をＮ−オキシドまで還元す
ることにより得られるが、その具体例としは次のものが
挙げられる。
２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフ
ェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシ
ド、 ２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（2,4−ジヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル−Ｎ−オキシド、 ２−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−５−クロルベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベ
ンジル）フェニル〕ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシ
ド、及び ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベンジル−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド。
ェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシ
ド、 ２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（2,4−ジヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル−Ｎ−オキシド、 ２−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−５−クロルベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール−Ｎ−オキシド、 ２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベ
ンジル）フェニル〕ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシ
ド、及び ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベンジル−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド。
なお、これら一般式IIIのＮ−オキシド類は一般式Ｉの
ｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を原料として前記（ｉ）
の工程ｂの方法で作ることが好ましいが、他の公知の方
法で作ることも可能である。
ｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を原料として前記（ｉ）
の工程ｂの方法で作ることが好ましいが、他の公知の方
法で作ることも可能である。
本発明の還元剤であるアルコール類としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
イソブタノール、ｎ−アミルアルコール、イソアミルア
ルコール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルブタノール、
ｎ−ヘプチルアルコール、ｎ−オクタノール、２−エチ
ルヘキサノール、3,5,5−トリメチルヘキサノール、ｎ
−デカノール、ドデカノール、テトラデカノール、イソ
プロピルアルコール、第２ブタノール、３−ペンタノー
ル、メチルアミルアルコール、２−ヘプタノール、３−
ヘプタノール、２−オクタノール、ノナノール、ウンデ
カノールなどがあげられ、中でもｎ−プロパノール、ｎ
−ブタノール、ｎ−アミルアルコール、イソプロピルア
ルコール、第２ブタノール、第２アミルアルコール、ｎ
−オクタノールが好ましい。
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
イソブタノール、ｎ−アミルアルコール、イソアミルア
ルコール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルブタノール、
ｎ−ヘプチルアルコール、ｎ−オクタノール、２−エチ
ルヘキサノール、3,5,5−トリメチルヘキサノール、ｎ
−デカノール、ドデカノール、テトラデカノール、イソ
プロピルアルコール、第２ブタノール、３−ペンタノー
ル、メチルアミルアルコール、２−ヘプタノール、３−
ヘプタノール、２−オクタノール、ノナノール、ウンデ
カノールなどがあげられ、中でもｎ−プロパノール、ｎ
−ブタノール、ｎ−アミルアルコール、イソプロピルア
ルコール、第２ブタノール、第２アミルアルコール、ｎ
−オクタノールが好ましい。
第１級または第２級アルコールは化学当量以上使用する
のが好ましく、一般には反応の溶媒をかねて使用するの
で出発物質である式（Ｉ）のｏ−ニトロアゾベンゼン
類、あるいは式（III）のＮ−オキシド類に対し、重量
で１〜20倍、好ましくは２〜８倍量使用する。
のが好ましく、一般には反応の溶媒をかねて使用するの
で出発物質である式（Ｉ）のｏ−ニトロアゾベンゼン
類、あるいは式（III）のＮ−オキシド類に対し、重量
で１〜20倍、好ましくは２〜８倍量使用する。
また２種以上のアルコール類を混合しても何ら反応には
悪影響がなく、好ましい結果をもたらす場合もある。
悪影響がなく、好ましい結果をもたらす場合もある。
さらにアルコール類は水溶液としても使用することがで
き、この場合は50重量％以上の濃度が好ましい。アルコ
ール類を水溶液の形で使用できることは回収したアルコ
ールを脱水することなく再使用できる点で工業的製造に
は非常に有利である。
き、この場合は50重量％以上の濃度が好ましい。アルコ
ール類を水溶液の形で使用できることは回収したアルコ
ールを脱水することなく再使用できる点で工業的製造に
は非常に有利である。
本発明の触媒である芳香族ケトン化合物の具体例として
は、ベンゾフェノン；アルキル基、アルコキシル基、ハ
ロゲン原子又は水酸基で置換されたベンゾフェノン；ベ
ンズアントロン;9−フルオレノン;9−キサンテノン等の
少くとも１種が挙げられるが、中でも９−フルオレノ
ン、ベンズアントロンが好ましい。これらは２種以上混
合して使用してもよく、むしろ好ましい場合がある。
は、ベンゾフェノン；アルキル基、アルコキシル基、ハ
ロゲン原子又は水酸基で置換されたベンゾフェノン；ベ
ンズアントロン;9−フルオレノン;9−キサンテノン等の
少くとも１種が挙げられるが、中でも９−フルオレノ
ン、ベンズアントロンが好ましい。これらは２種以上混
合して使用してもよく、むしろ好ましい場合がある。
いずれにしてもその使用量は式（Ｉ）のｏ−ニトロアゾ
ベンゼン誘導体の重量に対し、0.2〜30重量％が適当で
あり、好ましくは２〜20％である。
ベンゼン誘導体の重量に対し、0.2〜30重量％が適当で
あり、好ましくは２〜20％である。
また出発原料として一般式（III）のＮ−オキシド類を
使用する場合のＮ−オキシド類の重量に対し0.2〜30
％、好ましくは２〜20％である。
使用する場合のＮ−オキシド類の重量に対し0.2〜30
％、好ましくは２〜20％である。
本発明の触媒である芳香族ケトン化合物は一般にベンゼ
ン、トルエン、キシレン、アルコール等の有機溶剤に可
溶であり、又は沸点を持っているため、使用後の触媒を
反応系内から置換蒸留により容易に回収でき、次回の反
応に再使用できる。半永久的に触媒の使用が本発明の最
も大きな特徴の一つでもある。
ン、トルエン、キシレン、アルコール等の有機溶剤に可
溶であり、又は沸点を持っているため、使用後の触媒を
反応系内から置換蒸留により容易に回収でき、次回の反
応に再使用できる。半永久的に触媒の使用が本発明の最
も大きな特徴の一つでもある。
塩基としては、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムが
好ましい。その使用量は一般式（Ｉ）のｏ−ニトロアゾ
ベンゼン誘導体又は一般式（III）のＮ−オキシド類１
モル分子に対し、各１〜12モル分子が適当であり、好ま
しくは２〜８モル分子である。
好ましい。その使用量は一般式（Ｉ）のｏ−ニトロアゾ
ベンゼン誘導体又は一般式（III）のＮ−オキシド類１
モル分子に対し、各１〜12モル分子が適当であり、好ま
しくは２〜８モル分子である。
以下に本発明を実施例によって説明する。
実施例１ ｎ−ブタノール80g、水14g、及び97％苛性ソーダ8.2gの
混合物に、２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−
ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン25.5gを加え、攪拌しなが
ら65℃に昇温後、50℃に冷却し、９−フルオレノン2.0g
を加え、１時間で90℃に昇温し、90〜96℃で４時間攪拌
反応させると、アゾベンゼンの殆どが消失して、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドが生成し、工程ｂの反
応が終了する。
混合物に、２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−
ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン25.5gを加え、攪拌しなが
ら65℃に昇温後、50℃に冷却し、９−フルオレノン2.0g
を加え、１時間で90℃に昇温し、90〜96℃で４時間攪拌
反応させると、アゾベンゼンの殆どが消失して、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドが生成し、工程ｂの反
応が終了する。
次に工程ｃの反応を行うため、60℃に冷却し、97％苛性
ソーダ8.2gについで９−フルオレノン1.0gを加え、１時
間で90℃に昇温、更に90〜97℃で２時間攪拌反応すると
Ｎ−オキシドが消失し、工程ｃの反応が終了すると。水
80mlを加えてから62％硫酸26.0gでPH8〜９に中和し、60
〜70℃で静置すると、上層に２−（２−ヒドロキシ−3,
5−ジ−ｔ−アミルフェノン）ベンゾトリアゾールを含
んだブタノール層が上層に生成し、下層に水層が生成す
る。下層の水層を除去した後、上層のブタノール層を蒸
留器に移し、常圧または軽い真空でブタノールの大部分
を回収後、真空度２〜4mmHgとなし、120〜140℃留分2.9
gを採取する。これは使用した触媒９−フルオレノンで
あり、次回の触媒として再使用することができる。触媒
回収後、残留物をメタノールで洗浄すると目的物、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾールが20.0gの収量で得られた。
ソーダ8.2gについで９−フルオレノン1.0gを加え、１時
間で90℃に昇温、更に90〜97℃で２時間攪拌反応すると
Ｎ−オキシドが消失し、工程ｃの反応が終了すると。水
80mlを加えてから62％硫酸26.0gでPH8〜９に中和し、60
〜70℃で静置すると、上層に２−（２−ヒドロキシ−3,
5−ジ−ｔ−アミルフェノン）ベンゾトリアゾールを含
んだブタノール層が上層に生成し、下層に水層が生成す
る。下層の水層を除去した後、上層のブタノール層を蒸
留器に移し、常圧または軽い真空でブタノールの大部分
を回収後、真空度２〜4mmHgとなし、120〜140℃留分2.9
gを採取する。これは使用した触媒９−フルオレノンで
あり、次回の触媒として再使用することができる。触媒
回収後、残留物をメタノールで洗浄すると目的物、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾールが20.0gの収量で得られた。
収率 85.4％ 融点 78〜80℃ 実施例２ ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルアゾベンゼン25.5gの代りに、２−ニトロ−２′−
ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルアゾベンゼン23.7gを
使用した他は実施例１と同じ方法で触媒を回収しメタノ
ールで洗浄すると、18.0gの収量で２−（２−−ヒドロ
キシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール
を得た。
ミルアゾベンゼン25.5gの代りに、２−ニトロ−２′−
ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルアゾベンゼン23.7gを
使用した他は実施例１と同じ方法で触媒を回収しメタノ
ールで洗浄すると、18.0gの収量で２−（２−−ヒドロ
キシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール
を得た。
収率 83.7％ 融点 103〜105℃ 実施例３ ｎ−ブタノール80gの代りに、ｎ−プロパノール80gを使
用し、他は実施例１と同じ方法を繰返し、実施例１と同
く同様の収量収率で目的物を得た。
用し、他は実施例１と同じ方法を繰返し、実施例１と同
く同様の収量収率で目的物を得た。
（本実施例で使用した９−フルオレノンは実施例1,2で
回収したものを使用した。） 実施例４ ９−フルオレノンの代りにイ）ベンズアントロン、ロ）
ベンゾフェノンを夫々用いた他は実施例１と同じ方法を
繰返し、夫々下記収量で２−（２−ヒドロキシ−3,5−
ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾールを得た。
回収したものを使用した。） 実施例４ ９−フルオレノンの代りにイ）ベンズアントロン、ロ）
ベンゾフェノンを夫々用いた他は実施例１と同じ方法を
繰返し、夫々下記収量で２−（２−ヒドロキシ−3,5−
ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾールを得た。
イ） 19.4g、収率83％、融点77〜80℃ ロ） 14.3g、収率61％、融点76〜79℃ 実施例５ ｎ−ブタノール60g、水10.6g、97％苛性ソーダ6.9gの混
合物に、２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−
３′−ｔ−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン23.2gを
加え攪拌しながら65℃に昇温後、50℃に冷却して、９−
フルオレノン1.5gを加え、１時間で90℃に昇温し、90〜
96℃で５時間攪拌反応させると、アゾベンゼンが消失
し、反応が終了した。水50mlを加えてから、62％硫酸10
gでPH8〜９に中和し、20℃に冷却し、析出した結晶を
過におり分離し、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチ
ル−５−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシドの湿潤品22.9g（乾燥品20.6g、収率
93.0％ 融点160〜163℃）を得た。
合物に、２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−
３′−ｔ−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン23.2gを
加え攪拌しながら65℃に昇温後、50℃に冷却して、９−
フルオレノン1.5gを加え、１時間で90℃に昇温し、90〜
96℃で５時間攪拌反応させると、アゾベンゼンが消失
し、反応が終了した。水50mlを加えてから、62％硫酸10
gでPH8〜９に中和し、20℃に冷却し、析出した結晶を
過におり分離し、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチ
ル−５−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシドの湿潤品22.9g（乾燥品20.6g、収率
93.0％ 融点160〜163℃）を得た。
次にこの湿潤品22.9gに90％ｎ−ブタノール66.7g、97％
苛性ソーダ16.5g、及び９−フレオレノン1.5gを加え、
１時間で90℃に昇温、90〜97℃で３時間反応させると、
Ｎ−オキシドが消失し、工程ｃの反応が終了した。
苛性ソーダ16.5g、及び９−フレオレノン1.5gを加え、
１時間で90℃に昇温、90〜97℃で３時間反応させると、
Ｎ−オキシドが消失し、工程ｃの反応が終了した。
反応液に水80mlを加えてから、62％硫酸28gでPH8〜９に
中和し、20℃に冷却して析出した結晶を過により分離
し、充分水洗後、更に少量のメタノールで洗浄乾燥する
と、18.2gの終了で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブ
チル−５−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリア
ゾールの淡黄色結晶を得た。
中和し、20℃に冷却して析出した結晶を過により分離
し、充分水洗後、更に少量のメタノールで洗浄乾燥する
と、18.2gの終了で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブ
チル−５−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリア
ゾールの淡黄色結晶を得た。
収率87％（アゾベンゼンよりの収率）、融点139〜140℃ （使用した触媒の回収はＮ−オキシドおよび目的物を
過した後の液を放置するとブタノール層が分離するか
ら蒸留器に採取し、蒸留によりブタノール回収後、２〜
4mmHgの真空で120〜140℃の留分を捕集すると、使用し
た触媒の80％以上が回収される。） 実施例６ イソプロピルアルコール80g、水14g、97％苛性ソーダ1
1.0gの混合物に、２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒド
ロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン26.0g
および９−フルオレノン2.0gを加え、沸点79℃で８時間
攪拌反応するとアゾベンゼンが消失して２−（２−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロル
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドを生成し、工程ｂの
反応が終了する。
過した後の液を放置するとブタノール層が分離するか
ら蒸留器に採取し、蒸留によりブタノール回収後、２〜
4mmHgの真空で120〜140℃の留分を捕集すると、使用し
た触媒の80％以上が回収される。） 実施例６ イソプロピルアルコール80g、水14g、97％苛性ソーダ1
1.0gの混合物に、２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒド
ロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン26.0g
および９−フルオレノン2.0gを加え、沸点79℃で８時間
攪拌反応するとアゾベンゼンが消失して２−（２−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロル
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドを生成し、工程ｂの
反応が終了する。
次に工程ｃの反応を行うため、60℃に冷却し97％苛性ソ
ーダ8.2gについで９−フルオレノン1.0gを加え、沸点
（79〜82℃）に６時間攪拌反応するとＮ−オキシドが消
失し、工程ｃの反応が終了する。水80mlを加え、62％硫
酸36gでPH8〜９に中和し、20℃に冷却し、析出した結晶
を過により分離し、充分水洗後、少量のイソプロピル
アルコールで洗浄して乾燥すると、18.6gの収量で２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
５−クロルベンゼントリアゾールを得た。
ーダ8.2gについで９−フルオレノン1.0gを加え、沸点
（79〜82℃）に６時間攪拌反応するとＮ−オキシドが消
失し、工程ｃの反応が終了する。水80mlを加え、62％硫
酸36gでPH8〜９に中和し、20℃に冷却し、析出した結晶
を過により分離し、充分水洗後、少量のイソプロピル
アルコールで洗浄して乾燥すると、18.6gの収量で２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
５−クロルベンゼントリアゾールを得た。
収率 78％、 融点 153〜155℃ 実施例７ 第２ブタノール80g、水14g、97％苛性ソーダ22.4gの混
合物に９−フルオレノン2.5gを加え、80℃に加熱攪拌
下、２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル
アゾベンゼン19.9gを１時間に亘って加えてから90〜97
℃で４時間攪拌すると、アゾベンゼンが消失して２−
（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾト
リアゾール−Ｎ−オキシドが生成し、工程ｂの反応が終
了する。更に攪拌を４時間続行すると、Ｎ−オキシドが
消失して、工程ｃの反応が終了する。
合物に９−フルオレノン2.5gを加え、80℃に加熱攪拌
下、２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル
アゾベンゼン19.9gを１時間に亘って加えてから90〜97
℃で４時間攪拌すると、アゾベンゼンが消失して２−
（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾト
リアゾール−Ｎ−オキシドが生成し、工程ｂの反応が終
了する。更に攪拌を４時間続行すると、Ｎ−オキシドが
消失して、工程ｃの反応が終了する。
水80mlを加えてから蒸留により過剰の第２ブタノールを
回収後、残存液にトルエン50mlを加え、62％硫酸31gでP
H8に中和し、70℃で静置すると、目的物を含んだトルエ
ン層が上層に生成し、下層には硫酸カリを含んだ水層が
分離するから上層のトルエン層を蒸留器に移し、常圧で
トルエンの大部分を蒸留により除去した後、２〜4mmHg
の真空で120〜140℃の留分2.5gを採取する。これは使用
した触媒９−フルオレノンであり、次回の触媒として再
使用することができる。触媒回収後、残留物として目的
物である２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾールが13.5gの収量で得られた。
回収後、残存液にトルエン50mlを加え、62％硫酸31gでP
H8に中和し、70℃で静置すると、目的物を含んだトルエ
ン層が上層に生成し、下層には硫酸カリを含んだ水層が
分離するから上層のトルエン層を蒸留器に移し、常圧で
トルエンの大部分を蒸留により除去した後、２〜4mmHg
の真空で120〜140℃の留分2.5gを採取する。これは使用
した触媒９−フルオレノンであり、次回の触媒として再
使用することができる。触媒回収後、残留物として目的
物である２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾールが13.5gの収量で得られた。
収率 76％、融点 96〜98℃ 実施例８ ｎ−オクタノール50g、水14g、97％苛性ソーダ8.2gの混
合物に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−
ｔ−ブチルアゾベンゼン23.7gを加え、65℃に加熱後、5
0℃に冷却して９−フルオレノン2.0gを加えてから90〜9
7℃で２時間攪拌するとアゾベンゼンが消失して２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドが生成し、工程ｂの反
応が終了する。
合物に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−
ｔ−ブチルアゾベンゼン23.7gを加え、65℃に加熱後、5
0℃に冷却して９−フルオレノン2.0gを加えてから90〜9
7℃で２時間攪拌するとアゾベンゼンが消失して２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドが生成し、工程ｂの反
応が終了する。
次に工程ｃの反応を行うため、60℃に冷却し、97％苛性
ソーダ8.2gについで９−フルオレノン1.0gを加え、１時
間で90℃に昇温、更に90〜97℃で２時間攪拌するとＮ−
オキシドが消失し、工程ｃの反応が終了する。
ソーダ8.2gについで９−フルオレノン1.0gを加え、１時
間で90℃に昇温、更に90〜97℃で２時間攪拌するとＮ−
オキシドが消失し、工程ｃの反応が終了する。
水80mlを加え、62％硫酸26gでPH8〜９に中和し、20℃で
冷却すると結晶が析出するから過により分離し、充分
水洗してから少量のメタノールで洗浄後乾燥すると、1
7.0gの収量で２−（２−ヒドロキシ−3,5′−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）ベンゼントリアゾールが得られた。
冷却すると結晶が析出するから過により分離し、充分
水洗してから少量のメタノールで洗浄後乾燥すると、1
7.0gの収量で２−（２−ヒドロキシ−3,5′−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）ベンゼントリアゾールが得られた。
収率 79％、 融点 150〜152℃ 実施例９ ｎ−ブタノール60g、水12g、及び97％苛性ソーダ16.5g
の混合物に、２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン23.7gを加え、攪拌しながら50
℃に昇温後、更に９−フルオレノン2.0gを加え、２時間
で80℃とする。80℃〜84℃で3.5時間攪拌反応すると還
元反応が終了する。
の混合物に、２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン23.7gを加え、攪拌しながら50
℃に昇温後、更に９−フルオレノン2.0gを加え、２時間
で80℃とする。80℃〜84℃で3.5時間攪拌反応すると還
元反応が終了する。
水80mlを加えてから62％硫酸28gでPH8に中和し、60〜70
℃に静置すると、上層に２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ
−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールを含んだブタ
ノール層が上層に生成し、下層には水層が生成する。下
層の水層を除去した後、上層のブタノール層を蒸留器に
移し、常圧または軽い真空でブタノールの大部分を回収
後、２〜3mmHgとなし、120〜140℃留分1.8gを採取す
る。これは使用した触媒９−フルオレノンであり、次回
の触媒として再使用することができる。触媒回収後、残
渣をメタノールで洗浄すると、目的物である２−（２−
ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリア
ゾールが17.4gの収量で得られた。
℃に静置すると、上層に２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ
−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールを含んだブタ
ノール層が上層に生成し、下層には水層が生成する。下
層の水層を除去した後、上層のブタノール層を蒸留器に
移し、常圧または軽い真空でブタノールの大部分を回収
後、２〜3mmHgとなし、120〜140℃留分1.8gを採取す
る。これは使用した触媒９−フルオレノンであり、次回
の触媒として再使用することができる。触媒回収後、残
渣をメタノールで洗浄すると、目的物である２−（２−
ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリア
ゾールが17.4gの収量で得られた。
収率 81.0％、 融点 103〜105℃ 実施例１− ２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド23.2gをｎ−ブ
タノール60g、水12g及び97％苛性ソーダ16.5gを混合物
に加え、ついで９−フルオレノン2.0gを加えてから80℃
に昇温、80〜85℃で2.5時間攪拌反応すると還元反応が
終了する。実施例９と同様に後処理してブタノールを回
収後、真空度を２〜3mmHgとなし、120〜130℃の留分と
して９−フルオレノン触媒1.8gを回収した。触媒回収
後、残渣をメタノールで洗浄すると、目的物である。２
−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニル）
ベンゾトリアゾールが20.5gの収量で得られた。
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド23.2gをｎ−ブ
タノール60g、水12g及び97％苛性ソーダ16.5gを混合物
に加え、ついで９−フルオレノン2.0gを加えてから80℃
に昇温、80〜85℃で2.5時間攪拌反応すると還元反応が
終了する。実施例９と同様に後処理してブタノールを回
収後、真空度を２〜3mmHgとなし、120〜130℃の留分と
して９−フルオレノン触媒1.8gを回収した。触媒回収
後、残渣をメタノールで洗浄すると、目的物である。２
−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ−アミルフェニル）
ベンゾトリアゾールが20.5gの収量で得られた。
収率 92.3％、 融点 79〜80℃
Claims (2)
- 【請求項１】一般式Ｉ （但しR1は水素又は塩素原子、炭素数１〜４の低級アル
キル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキ
シル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素又は塩素原
子、炭素数１〜４の低級アルキル基又は炭素数１〜４の
低級アルコキシル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、
炭素数１〜12のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコ
キシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキル基で置
換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わし、R4は水
素又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数１〜４のア
ルコキシル基を表わし、R5は水素原子、炭素数１〜12の
アルキル基又はアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニ
ルアルキル基を表わす。） で示されるｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を芳香族ケト
ン化合物より成る触媒及び塩基の存在下、第１級アルコ
ール及び第２級アルコールの少くとも１種で還元するこ
とを特徴とする一般式II （但しR1,R2,R3,R4,R5に一般式Ｉに同じ） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法。 - 【請求項２】一般式II （但しR1は水素又は塩素原子、炭素数１〜４の低級アル
キル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキ
シル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素又は塩素原
子、炭素数１〜４の低級アルキル基又は炭素数１〜４の
低級アルコキシル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、
炭素数１〜12のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコ
キシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキル基で置
換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わし、R4は水
素又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数１〜４のア
ルコキシル基を表わし、R5は水素原子、炭素数１〜12の
アルキル基又はアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニ
ルアルキル基を表わす。） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド類を芳香族ケトン化合物より成る触媒及び塩基の存
在下、第１級アルコール及び第２級アルコールの少くと
も１種で還元することを特徴とする一般式II （但しR1,R2,R3,R4,R5に一般式Ｉに同じ） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61218865A JPH0798812B2 (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| EP86309122A EP0263905B1 (en) | 1986-09-16 | 1986-11-21 | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-n-oxides |
| DE8686309122T DE3684922D1 (de) | 1986-09-16 | 1986-11-21 | Verfahren zur herstellung von 2-phenylbenzotriazolen und 2-phenylbenzotriazol-n-oxyden. |
| US07/232,567 US4943637A (en) | 1986-09-16 | 1988-08-12 | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61218865A JPH0798812B2 (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6372683A JPS6372683A (ja) | 1988-04-02 |
| JPH0798812B2 true JPH0798812B2 (ja) | 1995-10-25 |
Family
ID=16726522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61218865A Expired - Lifetime JPH0798812B2 (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0798812B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2004120783A (ru) | 2001-12-05 | 2006-01-10 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch) | Способ получения 2-(2-нитрофенилазо)фенолов без использования органических растворителей |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59170172A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-26 | Shuichi Seino | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法 |
| JPS61197571A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-01 | Kemipuro Kasei Kk | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
-
1986
- 1986-09-16 JP JP61218865A patent/JPH0798812B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6372683A (ja) | 1988-04-02 |
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