JPH0798812B2 - 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 - Google Patents

2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法

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JPH0798812B2
JPH0798812B2 JP61218865A JP21886586A JPH0798812B2 JP H0798812 B2 JPH0798812 B2 JP H0798812B2 JP 61218865 A JP61218865 A JP 61218865A JP 21886586 A JP21886586 A JP 21886586A JP H0798812 B2 JPH0798812 B2 JP H0798812B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は紫外線吸収剤として有用な、下記一般式IIで示
される2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法に関
する。
一般式II (但しR1は水素又は塩素原子、炭素数1〜4の低級アル
キル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カルボキ
シル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素又は塩素原
子、炭素数1〜4の低級アルキル基又は炭素数1〜4の
低級アルコキシル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、
炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコ
キシル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置
換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を表わし、R4は水
素又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数1〜4のア
ルコキシル基を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12の
アルキル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニ
ルアルキル基を表わす。) で示される2−フェニルベンゾトリアゾール類はプラス
チック、塗料、油等に添加される紫外線吸収剤として知
られている。
従来、これらの2−フェニルベンゾトリアゾール類は一
般式I (但しR1,R2,R3,R4,R5は一般式IIに同じ) で示される。o−ニトロアゾベンゼン誘導体を化学的又
は電解的に還元して製造されている。しかし従来法は夫
々一長一短があって十分満足し得る方法ではない。
例えば特公昭37-5934号公報及び米国特許第3,773,751号
明細書ではo−ニトロアゾベンゼン誘導体をアルコール
性水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に還元して
相当する2−フェニルベンゾトリアゾール類を良好な収
率で得ているが、この水酸化ナトリウム−亜鉛系は亜鉛
スラッジを生じる点で排水汚染の問題を含んでいる。
硫化アンモニア、アルカリスルフィド、亜鉛−アンモニ
ア系、硫酸水素−ナトリウム系及び亜鉛−塩酸系も米国
特許第2,362,988号明細書に開示されるように前記還元
反応の化学的還元剤として使用されているが、この方法
は多量の亜硫酸塩又は亜鉛塩を生成するため、排水汚染
の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガスが、
また使用した硫化系還元剤からは有毒な硫化水素が発生
するため、大気汚染の問題にもつながる。
特開昭51-138679号公報及び同51-138680号公報には加圧
水素の添加による還元法が、また特開昭50-88072号公報
にはヒドラジンによる還元法が記載されているが、これ
らの方法は収率及び経済の面で不満足であり、しかも反
応中、副反応が起こる等の理由で目的物を高純度で得る
ことは不可能であり、特にこの傾向は塩素原子を含む目
的物を得る場合(この場合は脱塩素反応等の副反応が起
こる)に強い。
また本発明者の出願に係る特開昭59-170172号にはアル
コール類でo−ニトロアゾベンゼンを還元する方法が記
載されているが、触媒であるキノン類は皮膚や粘膜を刺
激し、場合によっては発疹を伴う恐れがあるため、取扱
い上、直接皮膚にふれたり、その蒸気等にはさらされな
いような注意が必要である。又、使用後の触媒は変化又
は変質して触媒としての能力が低下し、回収が困難であ
る欠点を有している。
本発明の目的は以上の従来技術が内包していた問題を全
て解消し得る2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法を提供することである。
本発明者等は従来の2−フェニルベンゾトリアゾール類
の製造法における前述のような問題点、特に取扱いが容
易で変質の少ない触媒の開発に努力し、種々検討した結
果、 1) 一般式Iのo−ニトロアゾベンゼン誘導体を芳香
族ケトン化合物よりなる触媒及び塩基の存在下に第1級
アルコール、及び/又は第2級アルコールで還元する
か、或は 2) 一般式III (但し、R1,R2,R3,R4,R5は前述の通り)で示される。2
−フェニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類を同様
に芳香族ケトン化合物よりなる触媒及び塩基の存在下、
第1級アルコール及び/又は第2級アルコールで還元す
れば、一般式IIの目的物が技術的にも経済的にも有利
に、また公害的にも問題がなく得られることを見出し
た。
本発明の1)の方法は反応温度、反応時間及び第1級ア
ルコール類または第2級アルコールの消費量によって下
記1つ又は2つの工程を経て行なわれる。
(i) 1工程(下記工程a)の場合 この場合の反応温度は60〜110℃反応式間は3時間〜12
時間が適当であり、その時の第1級アルコールの使用量
は式Iの化合物1モル分子当り0.9〜1.3モル分子であ
り、第2級アルコールの使用量は1.8〜2.6モル分子であ
る。
第1級アルコールの場合の反応式 第2級アルコール類の場合の反応式 (ii) 2工程(下記工程b及びc)の場合 この場合の反応温度は最初約60〜100℃、時間は2〜10
時間、ついで約70〜110℃、時間は1〜4時間が適当で
ある。
この方法は、工程が2つになるが1工程の方法より品質
及び収率の面で有利になることがある。
アルコールの使用量は工程bでは式Iの化合物1モル分
子当り、第1級アルコールは0.4〜0.7モル分子、第2級
アルコールは0.8〜1.4モル分子、また工程Cでは式III
の化合物1モル、分子当り第1級アルコールは0.4〜0.7
モル分子、第2級アルコールは0.8〜1.4モル分子であ
る。
第1級アルコール類の場合の反応式 第2級アルコール類の場合の反応式 本発明の方法は(i)及び(ii)のいずれの場合も反応
を円滑にするため、通常、還元に使用するアルコール類
を溶媒とし、場合によって、トルエン、アセトン、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリルのような不活性溶媒
中で実施することもできる。
本発明の(i)の方法で原料として用いられる一般式I
の化合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t
−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾベン
ゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルア
ゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルアゾ
ベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′,5′
−ジ−t−ブチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ア
ミルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブ
チルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−
5′−メチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′,4′−ジヒドロキシアゾ
ベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−4′−メトキシアゾベ
ンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′,5′
−ジ−t−アミルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−アミルアゾ
ベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−5′−t
−アミルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ(α,α
−ジメチルベンジル)アゾベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′,5′
−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)アゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−α−メチルベン
ジル−5′−メチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−α
−メチルベンジル−5′−メチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−n−ドデシルア
ゾベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−5′−n
−ドデシルアゾベンゼン、 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−オ
クチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′,5′
−ジ−t−オクチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−5′−t
−オクチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−5′−メ
チルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−3′−t
−ブチル−5−メチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ−3′
−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4−t−ブチル−2′−ヒドロキシ−3′
−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキシ−5′
−t−ブチルアゾベンゼン、 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキシ−3′,
5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン、及び 2−ニトロ−4−カルボキシ−2′−ヒドロキシ−5−
メチルアゾベンゼン。
本発明の2)の方法で用いられる一般式IIIの化合物は
たとえば前記般式Iの化合物をN−オキシドまで還元す
ることにより得られるが、その具体例としは次のものが
挙げられる。
2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフ
ェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシ
ド、 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド、 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド、 2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾト
リアゾール−N−オキシド、 2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール−N−オキシド、 2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシド、 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド、 2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド、 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル−N−オキシド、 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−5−クロルベン
ゾトリアゾール−N−オキシド、 2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール−N−オキシド、 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジ(α,α−ジメチルベ
ンジル)フェニル〕ベンゾトリアゾール−N−オキシ
ド、及び 2−(2−ヒドロキシ−3−α−メチルベンジル−5−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド。
なお、これら一般式IIIのN−オキシド類は一般式Iの
o−ニトロアゾベンゼン誘導体を原料として前記(i)
の工程bの方法で作ることが好ましいが、他の公知の方
法で作ることも可能である。
本発明の還元剤であるアルコール類としては、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、
イソブタノール、n−アミルアルコール、イソアミルア
ルコール、n−ヘキサノール、2−エチルブタノール、
n−ヘプチルアルコール、n−オクタノール、2−エチ
ルヘキサノール、3,5,5−トリメチルヘキサノール、n
−デカノール、ドデカノール、テトラデカノール、イソ
プロピルアルコール、第2ブタノール、3−ペンタノー
ル、メチルアミルアルコール、2−ヘプタノール、3−
ヘプタノール、2−オクタノール、ノナノール、ウンデ
カノールなどがあげられ、中でもn−プロパノール、n
−ブタノール、n−アミルアルコール、イソプロピルア
ルコール、第2ブタノール、第2アミルアルコール、n
−オクタノールが好ましい。
第1級または第2級アルコールは化学当量以上使用する
のが好ましく、一般には反応の溶媒をかねて使用するの
で出発物質である式(I)のo−ニトロアゾベンゼン
類、あるいは式(III)のN−オキシド類に対し、重量
で1〜20倍、好ましくは2〜8倍量使用する。
また2種以上のアルコール類を混合しても何ら反応には
悪影響がなく、好ましい結果をもたらす場合もある。
さらにアルコール類は水溶液としても使用することがで
き、この場合は50重量%以上の濃度が好ましい。アルコ
ール類を水溶液の形で使用できることは回収したアルコ
ールを脱水することなく再使用できる点で工業的製造に
は非常に有利である。
本発明の触媒である芳香族ケトン化合物の具体例として
は、ベンゾフェノン;アルキル基、アルコキシル基、ハ
ロゲン原子又は水酸基で置換されたベンゾフェノン;ベ
ンズアントロン;9−フルオレノン;9−キサンテノン等の
少くとも1種が挙げられるが、中でも9−フルオレノ
ン、ベンズアントロンが好ましい。これらは2種以上混
合して使用してもよく、むしろ好ましい場合がある。
いずれにしてもその使用量は式(I)のo−ニトロアゾ
ベンゼン誘導体の重量に対し、0.2〜30重量%が適当で
あり、好ましくは2〜20%である。
また出発原料として一般式(III)のN−オキシド類を
使用する場合のN−オキシド類の重量に対し0.2〜30
%、好ましくは2〜20%である。
本発明の触媒である芳香族ケトン化合物は一般にベンゼ
ン、トルエン、キシレン、アルコール等の有機溶剤に可
溶であり、又は沸点を持っているため、使用後の触媒を
反応系内から置換蒸留により容易に回収でき、次回の反
応に再使用できる。半永久的に触媒の使用が本発明の最
も大きな特徴の一つでもある。
塩基としては、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムが
好ましい。その使用量は一般式(I)のo−ニトロアゾ
ベンゼン誘導体又は一般式(III)のN−オキシド類1
モル分子に対し、各1〜12モル分子が適当であり、好ま
しくは2〜8モル分子である。
以下に本発明を実施例によって説明する。
実施例1 n−ブタノール80g、水14g、及び97%苛性ソーダ8.2gの
混合物に、2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−
ジ−t−アミルアゾベンゼン25.5gを加え、攪拌しなが
ら65℃に昇温後、50℃に冷却し、9−フルオレノン2.0g
を加え、1時間で90℃に昇温し、90〜96℃で4時間攪拌
反応させると、アゾベンゼンの殆どが消失して、2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工程bの反
応が終了する。
次に工程cの反応を行うため、60℃に冷却し、97%苛性
ソーダ8.2gについで9−フルオレノン1.0gを加え、1時
間で90℃に昇温、更に90〜97℃で2時間攪拌反応すると
N−オキシドが消失し、工程cの反応が終了すると。水
80mlを加えてから62%硫酸26.0gでPH8〜9に中和し、60
〜70℃で静置すると、上層に2−(2−ヒドロキシ−3,
5−ジ−t−アミルフェノン)ベンゾトリアゾールを含
んだブタノール層が上層に生成し、下層に水層が生成す
る。下層の水層を除去した後、上層のブタノール層を蒸
留器に移し、常圧または軽い真空でブタノールの大部分
を回収後、真空度2〜4mmHgとなし、120〜140℃留分2.9
gを採取する。これは使用した触媒9−フルオレノンで
あり、次回の触媒として再使用することができる。触媒
回収後、残留物をメタノールで洗浄すると目的物、2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル)ベ
ンゾトリアゾールが20.0gの収量で得られた。
収率 85.4% 融点 78〜80℃ 実施例2 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ア
ミルアゾベンゼン25.5gの代りに、2−ニトロ−2′−
ヒドロキシ−5′−t−オクチルアゾベンゼン23.7gを
使用した他は実施例1と同じ方法で触媒を回収しメタノ
ールで洗浄すると、18.0gの収量で2−(2−−ヒドロ
キシ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール
を得た。
収率 83.7% 融点 103〜105℃ 実施例3 n−ブタノール80gの代りに、n−プロパノール80gを使
用し、他は実施例1と同じ方法を繰返し、実施例1と同
く同様の収量収率で目的物を得た。
(本実施例で使用した9−フルオレノンは実施例1,2で
回収したものを使用した。) 実施例4 9−フルオレノンの代りにイ)ベンズアントロン、ロ)
ベンゾフェノンを夫々用いた他は実施例1と同じ方法を
繰返し、夫々下記収量で2−(2−ヒドロキシ−3,5−
ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾールを得た。
イ) 19.4g、収率83%、融点77〜80℃ ロ) 14.3g、収率61%、融点76〜79℃ 実施例5 n−ブタノール60g、水10.6g、97%苛性ソーダ6.9gの混
合物に、2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン23.2gを
加え攪拌しながら65℃に昇温後、50℃に冷却して、9−
フルオレノン1.5gを加え、1時間で90℃に昇温し、90〜
96℃で5時間攪拌反応させると、アゾベンゼンが消失
し、反応が終了した。水50mlを加えてから、62%硫酸10
gでPH8〜9に中和し、20℃に冷却し、析出した結晶を
過におり分離し、2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチ
ル−5−メチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾ
ール−N−オキシドの湿潤品22.9g(乾燥品20.6g、収率
93.0% 融点160〜163℃)を得た。
次にこの湿潤品22.9gに90%n−ブタノール66.7g、97%
苛性ソーダ16.5g、及び9−フレオレノン1.5gを加え、
1時間で90℃に昇温、90〜97℃で3時間反応させると、
N−オキシドが消失し、工程cの反応が終了した。
反応液に水80mlを加えてから、62%硫酸28gでPH8〜9に
中和し、20℃に冷却して析出した結晶を過により分離
し、充分水洗後、更に少量のメタノールで洗浄乾燥する
と、18.2gの終了で2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブ
チル−5−メチルフェニル)−5−クロルベンゾトリア
ゾールの淡黄色結晶を得た。
収率87%(アゾベンゼンよりの収率)、融点139〜140℃ (使用した触媒の回収はN−オキシドおよび目的物を
過した後の液を放置するとブタノール層が分離するか
ら蒸留器に採取し、蒸留によりブタノール回収後、2〜
4mmHgの真空で120〜140℃の留分を捕集すると、使用し
た触媒の80%以上が回収される。) 実施例6 イソプロピルアルコール80g、水14g、97%苛性ソーダ1
1.0gの混合物に、2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒド
ロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン26.0g
および9−フルオレノン2.0gを加え、沸点79℃で8時間
攪拌反応するとアゾベンゼンが消失して2−(2−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロル
ベンゾトリアゾール−N−オキシドを生成し、工程bの
反応が終了する。
次に工程cの反応を行うため、60℃に冷却し97%苛性ソ
ーダ8.2gについで9−フルオレノン1.0gを加え、沸点
(79〜82℃)に6時間攪拌反応するとN−オキシドが消
失し、工程cの反応が終了する。水80mlを加え、62%硫
酸36gでPH8〜9に中和し、20℃に冷却し、析出した結晶
を過により分離し、充分水洗後、少量のイソプロピル
アルコールで洗浄して乾燥すると、18.6gの収量で2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)−
5−クロルベンゼントリアゾールを得た。
収率 78%、 融点 153〜155℃ 実施例7 第2ブタノール80g、水14g、97%苛性ソーダ22.4gの混
合物に9−フルオレノン2.5gを加え、80℃に加熱攪拌
下、2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチル
アゾベンゼン19.9gを1時間に亘って加えてから90〜97
℃で4時間攪拌すると、アゾベンゼンが消失して2−
(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ベンゾト
リアゾール−N−オキシドが生成し、工程bの反応が終
了する。更に攪拌を4時間続行すると、N−オキシドが
消失して、工程cの反応が終了する。
水80mlを加えてから蒸留により過剰の第2ブタノールを
回収後、残存液にトルエン50mlを加え、62%硫酸31gでP
H8に中和し、70℃で静置すると、目的物を含んだトルエ
ン層が上層に生成し、下層には硫酸カリを含んだ水層が
分離するから上層のトルエン層を蒸留器に移し、常圧で
トルエンの大部分を蒸留により除去した後、2〜4mmHg
の真空で120〜140℃の留分2.5gを採取する。これは使用
した触媒9−フルオレノンであり、次回の触媒として再
使用することができる。触媒回収後、残留物として目的
物である2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾールが13.5gの収量で得られた。
収率 76%、融点 96〜98℃ 実施例8 n−オクタノール50g、水14g、97%苛性ソーダ8.2gの混
合物に2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
t−ブチルアゾベンゼン23.7gを加え、65℃に加熱後、5
0℃に冷却して9−フルオレノン2.0gを加えてから90〜9
7℃で2時間攪拌するとアゾベンゼンが消失して2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工程bの反
応が終了する。
次に工程cの反応を行うため、60℃に冷却し、97%苛性
ソーダ8.2gについで9−フルオレノン1.0gを加え、1時
間で90℃に昇温、更に90〜97℃で2時間攪拌するとN−
オキシドが消失し、工程cの反応が終了する。
水80mlを加え、62%硫酸26gでPH8〜9に中和し、20℃で
冷却すると結晶が析出するから過により分離し、充分
水洗してから少量のメタノールで洗浄後乾燥すると、1
7.0gの収量で2−(2−ヒドロキシ−3,5′−ジ−t−
ブチルフェニル)ベンゼントリアゾールが得られた。
収率 79%、 融点 150〜152℃ 実施例9 n−ブタノール60g、水12g、及び97%苛性ソーダ16.5g
の混合物に、2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t
−オクチルアゾベンゼン23.7gを加え、攪拌しながら50
℃に昇温後、更に9−フルオレノン2.0gを加え、2時間
で80℃とする。80℃〜84℃で3.5時間攪拌反応すると還
元反応が終了する。
水80mlを加えてから62%硫酸28gでPH8に中和し、60〜70
℃に静置すると、上層に2−(2−ヒドロキシ−5−t
−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾールを含んだブタ
ノール層が上層に生成し、下層には水層が生成する。下
層の水層を除去した後、上層のブタノール層を蒸留器に
移し、常圧または軽い真空でブタノールの大部分を回収
後、2〜3mmHgとなし、120〜140℃留分1.8gを採取す
る。これは使用した触媒9−フルオレノンであり、次回
の触媒として再使用することができる。触媒回収後、残
渣をメタノールで洗浄すると、目的物である2−(2−
ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリア
ゾールが17.4gの収量で得られた。
収率 81.0%、 融点 103〜105℃ 実施例1− 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド23.2gをn−ブ
タノール60g、水12g及び97%苛性ソーダ16.5gを混合物
に加え、ついで9−フルオレノン2.0gを加えてから80℃
に昇温、80〜85℃で2.5時間攪拌反応すると還元反応が
終了する。実施例9と同様に後処理してブタノールを回
収後、真空度を2〜3mmHgとなし、120〜130℃の留分と
して9−フルオレノン触媒1.8gを回収した。触媒回収
後、残渣をメタノールで洗浄すると、目的物である。2
−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル)
ベンゾトリアゾールが20.5gの収量で得られた。
収率 92.3%、 融点 79〜80℃

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式I (但しR1は水素又は塩素原子、炭素数1〜4の低級アル
    キル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カルボキ
    シル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素又は塩素原
    子、炭素数1〜4の低級アルキル基又は炭素数1〜4の
    低級アルコキシル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、
    炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコ
    キシル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置
    換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
    炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を表わし、R4は水
    素又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数1〜4のア
    ルコキシル基を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12の
    アルキル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニ
    ルアルキル基を表わす。) で示されるo−ニトロアゾベンゼン誘導体を芳香族ケト
    ン化合物より成る触媒及び塩基の存在下、第1級アルコ
    ール及び第2級アルコールの少くとも1種で還元するこ
    とを特徴とする一般式II (但しR1,R2,R3,R4,R5に一般式Iに同じ) で示される2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
    法。
  2. 【請求項2】一般式II (但しR1は水素又は塩素原子、炭素数1〜4の低級アル
    キル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カルボキ
    シル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素又は塩素原
    子、炭素数1〜4の低級アルキル基又は炭素数1〜4の
    低級アルコキシル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、
    炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコ
    キシル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置
    換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
    炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を表わし、R4は水
    素又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数1〜4のア
    ルコキシル基を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12の
    アルキル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニ
    ルアルキル基を表わす。) で示される2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オキ
    シド類を芳香族ケトン化合物より成る触媒及び塩基の存
    在下、第1級アルコール及び第2級アルコールの少くと
    も1種で還元することを特徴とする一般式II (但しR1,R2,R3,R4,R5に一般式Iに同じ) で示される2−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
    法。
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