JP3027403B2 - ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 - Google Patents
２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法Info
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- JP3027403B2 JP3027403B2 JP02286852A JP28685290A JP3027403B2 JP 3027403 B2 JP3027403 B2 JP 3027403B2 JP 02286852 A JP02286852 A JP 02286852A JP 28685290 A JP28685290 A JP 28685290A JP 3027403 B2 JP3027403 B2 JP 3027403B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は紫外線吸収剤として有用な下記一般式III （式中R1は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級
アルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カル
ボキシル基又は、スルホン酸基を表わし、 R2は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級アルキ
ル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基を表わし、 R3は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜12のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、フェニル基、
炭素数１〜８のアルキル基で置換されたフェニル基、フ
ェノキシ基又はアルキル部分の炭素数１〜４のフェニル
アルキル基を表わし、 R4は、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数
１〜４のアルコキシル基を表わし、 R5は水素原子、炭素数１〜12のアルキル基又はアルキル
部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わ
す。） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類の中間体
である２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
類の製造法に関する。
アルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カル
ボキシル基又は、スルホン酸基を表わし、 R2は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級アルキ
ル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基を表わし、 R3は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜12のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、フェニル基、
炭素数１〜８のアルキル基で置換されたフェニル基、フ
ェノキシ基又はアルキル部分の炭素数１〜４のフェニル
アルキル基を表わし、 R4は、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数
１〜４のアルコキシル基を表わし、 R5は水素原子、炭素数１〜12のアルキル基又はアルキル
部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わ
す。） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類の中間体
である２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
類の製造法に関する。
従来、これらの２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ
−オキシド類はＯ−ニトロアゾベンゼン類を化学的又
は、電解的に還元して製造されている。しかし、従来法
は夫々一長一短があって充分満足し得る方法ではない。
−オキシド類はＯ−ニトロアゾベンゼン類を化学的又
は、電解的に還元して製造されている。しかし、従来法
は夫々一長一短があって充分満足し得る方法ではない。
例えば特公昭37−5934号公報及び米国特許第3,773,75
1号では、Ｏ−ニトロアゾベンゼン類をアルコール性水
酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に還元して相当
する２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類
を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウム−亜
鉛系は、亜鉛スラッジを生じる点で排水問題を含んでい
る。
1号では、Ｏ−ニトロアゾベンゼン類をアルコール性水
酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に還元して相当
する２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類
を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウム−亜
鉛系は、亜鉛スラッジを生じる点で排水問題を含んでい
る。
米国特許第2,362,988号明細書に開示されるように硫
化アンモニウム、アルカリスルフィド亜鉛−塩酸系、亜
鉛−アンモニア系、硫化水素−ナトリウム系などは前記
還元反応の化学的還元剤として使用されているが、この
方法は多量の亜硫酸塩又は、亜鉛塩を生成するため、排
水汚染の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは、亜硫酸
ガスが、又使用した硫化水素還元剤からは、有毒な硫化
水素が発生するため、大気汚染の問題にもつながる。
化アンモニウム、アルカリスルフィド亜鉛−塩酸系、亜
鉛−アンモニア系、硫化水素−ナトリウム系などは前記
還元反応の化学的還元剤として使用されているが、この
方法は多量の亜硫酸塩又は、亜鉛塩を生成するため、排
水汚染の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは、亜硫酸
ガスが、又使用した硫化水素還元剤からは、有毒な硫化
水素が発生するため、大気汚染の問題にもつながる。
本出願人による二酸化チオ尿素や、ホルマリン等によ
るアルデヒド、さらに水素移動触媒及び塩基の存在下に
糖類で還元する方法など、すでに公知であるが、例えば
IPAなど高価なアルコールをつかったり、苛性ソーダ等
の塩基の使用が多く、そのため、あとの中和硫酸量が増
えるなど、経済性の面でなお、難点を有するばかりか、
無機塩濃度の高い排水が出るため、排水処理の難易さ等
も加味して考慮すると、十分に満足出来る方法とはいい
難い。
るアルデヒド、さらに水素移動触媒及び塩基の存在下に
糖類で還元する方法など、すでに公知であるが、例えば
IPAなど高価なアルコールをつかったり、苛性ソーダ等
の塩基の使用が多く、そのため、あとの中和硫酸量が増
えるなど、経済性の面でなお、難点を有するばかりか、
無機塩濃度の高い排水が出るため、排水処理の難易さ等
も加味して考慮すると、十分に満足出来る方法とはいい
難い。
本発明の目的は、２−フェニルベンゾトリアゾール−
Ｎ−オキシド類の全く新規な製造法を提供することにあ
る。
Ｎ−オキシド類の全く新規な製造法を提供することにあ
る。
さらに本発明のもう一つの目的は、従来技術が内包し
ている前記問題を全て解消し得る２−フェニルベンゾト
リアゾール−Ｎ−オキシド類の製法を提供することであ
る。
ている前記問題を全て解消し得る２−フェニルベンゾト
リアゾール−Ｎ−オキシド類の製法を提供することであ
る。
本発明者は、従来の２−フェニルベンゾトリアゾール
−Ｎ−オキシド類の製造法における問題点を解消するた
めに、種々検討した結果Ｏ−ニトロアゾベンゼン類を塩
基の存在下、ジエチルヒドロキシルアミン等のジ低級ア
ルキルヒドロキシルアミンで還元すれば対応する２−フ
ェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類が極めて高
収率で、しかも生産性よく得られることを見出したばか
りか、副生する下記式 （Ｒ＝メチル、エチル、プロピル、ブチル等の低級アル
キル） で示されるニトロンがラジカルスカベンジャーになり得
るため光安定剤、酸化防止剤としての使用用途があり、
極めて有利であることを見出した。さらに、反応溶媒
が、アルコール類、例えば安価で回収が簡単に行えるメ
タノール等を用いるため、排水処理が容易で公害的にも
何んら問題なく、極めて経済的に製造出来ることを見出
した。
−Ｎ−オキシド類の製造法における問題点を解消するた
めに、種々検討した結果Ｏ−ニトロアゾベンゼン類を塩
基の存在下、ジエチルヒドロキシルアミン等のジ低級ア
ルキルヒドロキシルアミンで還元すれば対応する２−フ
ェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類が極めて高
収率で、しかも生産性よく得られることを見出したばか
りか、副生する下記式 （Ｒ＝メチル、エチル、プロピル、ブチル等の低級アル
キル） で示されるニトロンがラジカルスカベンジャーになり得
るため光安定剤、酸化防止剤としての使用用途があり、
極めて有利であることを見出した。さらに、反応溶媒
が、アルコール類、例えば安価で回収が簡単に行えるメ
タノール等を用いるため、排水処理が容易で公害的にも
何んら問題なく、極めて経済的に製造出来ることを見出
した。
本発明の方法において原料として用いられる一般式II
の化合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
の化合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベン
ゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルアゾ
ベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブ
チルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′,4′ジヒドロキシアゾベ
ンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−４′−メトキシアゾベ
ンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルアゾ
ベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−アミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α
−ジメチルベンジル）アゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）アゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ
−ドデシルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−カルボキシ−２′−ヒドロキシ−５′
−メチルアゾベンゼン なおこれらの一般式IIのＯ−ニトロアゾベンゼン類は
公知のジアゾ化反応、カップリング反応によって製造す
ることができる。
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベン
ゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルアゾ
ベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブ
チルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′,4′ジヒドロキシアゾベ
ンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−４′−メトキシアゾベ
ンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルアゾ
ベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−アミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α
−ジメチルベンジル）アゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）アゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ
−ドデシルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−カルボキシ−２′−ヒドロキシ−５′
−メチルアゾベンゼン なおこれらの一般式IIのＯ−ニトロアゾベンゼン類は
公知のジアゾ化反応、カップリング反応によって製造す
ることができる。
本発明の還元剤であるジエチルヒドロキシルアミン等
のジ低級アルキルヒドロキシルアミンの使用量は一般式
IIの化合物１モル分子当り1.0〜3.0モル分子、好ましく
は1.0〜1.5モル分子が適当である。
のジ低級アルキルヒドロキシルアミンの使用量は一般式
IIの化合物１モル分子当り1.0〜3.0モル分子、好ましく
は1.0〜1.5モル分子が適当である。
塩基性物質としては、アルカリ金属の水酸化物又は炭
酸塩およびアルカリ土類金属の水酸化物などが使用でき
るが水酸化ナトリウム又は、水酸化カリウムが好まし
い。その使用量は、一般式IIの化合物１モル分子に対
し、1.0〜3.0モル分子が適当であり、好ましくは1.0〜
1.5モル分子である。
酸塩およびアルカリ土類金属の水酸化物などが使用でき
るが水酸化ナトリウム又は、水酸化カリウムが好まし
い。その使用量は、一般式IIの化合物１モル分子に対
し、1.0〜3.0モル分子が適当であり、好ましくは1.0〜
1.5モル分子である。
反応を円滑にするための溶媒は、安価なアルコール類
がよいが、特に回収が容易なメタノールを用いるのが好
ましい。また不活性溶媒と水の二層系で反応を行っても
よい。
がよいが、特に回収が容易なメタノールを用いるのが好
ましい。また不活性溶媒と水の二層系で反応を行っても
よい。
また必要に応じ更に界面活性剤を添加しても良い。
還元反応の温度は通常常温ないしは沸点で実施する。
また、本反応を実施するにあたり、特に窒素を使かわな
くてもよい。
また、本反応を実施するにあたり、特に窒素を使かわな
くてもよい。
本発明によって得られるベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド類は、一般式Ｉで示される化合物であり、たとえ
ば、 ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ
−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）−５−クロ
ル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−４′−メトキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］−５−クロル−ベンゾトリア
ゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−５′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−５′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｔ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−カルボキシベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド 等である。
キシド類は、一般式Ｉで示される化合物であり、たとえ
ば、 ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ
−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）−５−クロ
ル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−４′−メトキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］−５−クロル−ベンゾトリア
ゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−５′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−５′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｔ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−カルボキシベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド 等である。
以下に本発明を実施例により説明する。
実施例１ メタノール50mlに、攪拌下、98％フレーク苛性ソーダ
ー2.45gと２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルアゾベンゼン12.85g、さらにN,N−ジエチルヒドロキ
シルアミン5.35gを加え、温浴中、加熱し、沸点で30分
間反応させた。冷却後25〜40℃で62％硫酸を加え、pHが
９になるまで中和した。
ー2.45gと２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルアゾベンゼン12.85g、さらにN,N−ジエチルヒドロキ
シルアミン5.35gを加え、温浴中、加熱し、沸点で30分
間反応させた。冷却後25〜40℃で62％硫酸を加え、pHが
９になるまで中和した。
析出結晶を濾別し、メタノール30mlで洗浄後、さらに
水30mlで洗浄し、乾燥すると11.9gの収量で２−（２′
−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド11.93gが得られた。
水30mlで洗浄し、乾燥すると11.9gの収量で２−（２′
−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド11.93gが得られた。
収率 99％、 m.p. 135℃〜138.5℃ 実施例２ メタノール70mlに、攪拌下、98％フレーク苛性ソーダ
ー2.24gを加えて溶解し、２−ニトロ−４−クロル−
２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルア
ゾベンゼン17.38g、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン
5.35gを加え、20分間還流反応させた。冷却後62％硫酸
でpH9まで中和し室温で析出結晶を濾別後、メタノール3
0ml、さらに水30mlで結晶を洗浄し、乾燥すると２−
（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチル
フェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド16.57gが得られた。
ー2.24gを加えて溶解し、２−ニトロ−４−クロル−
２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルア
ゾベンゼン17.38g、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン
5.35gを加え、20分間還流反応させた。冷却後62％硫酸
でpH9まで中和し室温で析出結晶を濾別後、メタノール3
0ml、さらに水30mlで結晶を洗浄し、乾燥すると２−
（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチル
フェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド16.57gが得られた。
収率 100％、 m.p. 162℃〜163℃ 実施例３ 80mlメタノールに攪拌下、98％フレーク苛性ソーダー
2.45gを加えて溶解し、さらに２−ニトロ−４−クロル
−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベ
ンゼン19.49g、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン5.35g
を加え、20分間還流反応させた。
2.45gを加えて溶解し、さらに２−ニトロ−４−クロル
−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベ
ンゼン19.49g、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン5.35g
を加え、20分間還流反応させた。
冷却後、実施例１、実施例２と同様に処理を行い２−
（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
18.69gを得た。
（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
18.69gを得た。
収率 100％、 m.p. 178.5〜180℃ 実施例４ メタノール70mlに攪拌下、98％フレーク苛性ソーダー
2.45gを加えて溶解し、さらに２−ニトロ−２′−ヒド
ロキシ−５′−ｔ−オクチルアゾベンゼン17.77g、N,N
−ジエチルヒドロキシルアミン5.35gを加え、20分間還
流反応させた。
2.45gを加えて溶解し、さらに２−ニトロ−２′−ヒド
ロキシ−５′−ｔ−オクチルアゾベンゼン17.77g、N,N
−ジエチルヒドロキシルアミン5.35gを加え、20分間還
流反応させた。
冷却後、実施例１、実施例２と同様に処理を行い２−
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド16.80gを得た。収率
99％、 m.p. 108〜110℃ 実施例５ 90％含水メタノール65mlをつかった以外は、すべて実
施例１と同様に行い２−（２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール11.82gを得た。
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド16.80gを得た。収率
99％、 m.p. 108〜110℃ 実施例５ 90％含水メタノール65mlをつかった以外は、すべて実
施例１と同様に行い２−（２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール11.82gを得た。
収率 98％、 m.p. 134〜138℃ 実施例６ メタノール70mlのかわりに、90％含水イソプロピルア
ルコール70mlをつかった以外はすべて実施例２と同様に
行い２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′
−メチルフェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール
−Ｎ−オキシド16.07gを得た。
ルコール70mlをつかった以外はすべて実施例２と同様に
行い２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′
−メチルフェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール
−Ｎ−オキシド16.07gを得た。
収率 97.0％、 m.p. 162.2〜163.2℃ 〔効果〕 本発明は、新規な触媒系を提供するものであり、これ
により従来法に比較し、排水処理等、公害面の問題がな
く、高収率、高生産性で極めて経済的に目的物を得るこ
とが出来る。
により従来法に比較し、排水処理等、公害面の問題がな
く、高収率、高生産性で極めて経済的に目的物を得るこ
とが出来る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−117871（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−170172（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−44672（ＪＰ，Ａ) Ａｕｓｔｒａｌｉｎａｎ Ｊｏｕｒｎ ａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏ ｌ．41（Ｎｏ．４）ｐ617−622（1988) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 249/20 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式Ｉ （式中R1は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級
アルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カル
ボキシル基又は、スルホン酸基を表わし、 R2は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級アルキ
ル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基を表わし、 R3は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜12のアルキル
基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、フェニル基、
炭素数１〜８のアルキル基で置換されたフェニル基、フ
ェノキシ基又はアルキル部分の炭素数１〜４のフェニル
アルキル基を表わし、 R4は、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基又は炭素数
１〜４のアルコキシル基を表わし、 R5は水素原子、炭素数１〜12のアルキル基又はアルキル
部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わ
す。） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド類を製造するに際して、 一般式II （式中R1，R2，R3，R4，R5は一般式Ｉに同じ。） で示されるＯ−ニトロアゾベンゼン類を塩基の存在下に
ジエチルヒドロキシルアミン等のジ低級アルキルヒドロ
キシルアミンで還元することを特徴とする前記一般式Ｉ
で示される２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02286852A JP3027403B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02286852A JP3027403B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04159268A JPH04159268A (ja) | 1992-06-02 |
| JP3027403B2 true JP3027403B2 (ja) | 2000-04-04 |
Family
ID=17709865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02286852A Expired - Lifetime JP3027403B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3027403B2 (ja) |
-
1990
- 1990-10-24 JP JP02286852A patent/JP3027403B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ａｕｓｔｒａｌｉｎａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．４１（Ｎｏ．４）ｐ６１７−６２２（１９８８） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04159268A (ja) | 1992-06-02 |
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