JP3067791B2 - ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 - Google Patents
２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法Info
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- JP3067791B2 JP3067791B2 JP2283796A JP28379690A JP3067791B2 JP 3067791 B2 JP3067791 B2 JP 3067791B2 JP 2283796 A JP2283796 A JP 2283796A JP 28379690 A JP28379690 A JP 28379690A JP 3067791 B2 JP3067791 B2 JP 3067791B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は紫外線吸収剤として有用な２−フェニルベン
ゾトリアゾール類の中間体である下記一般式（II）で示
される２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
類の製造法に関する。
ゾトリアゾール類の中間体である下記一般式（II）で示
される２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
類の製造法に関する。
従来、これらの２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ
−オキシド類はｏ−ニトロアゾベンゼン類を化学的又
は、電解的に還元して製造されている。しかし、従来法
は夫々一長一短があって十分満足し得る方法ではない。
−オキシド類はｏ−ニトロアゾベンゼン類を化学的又
は、電解的に還元して製造されている。しかし、従来法
は夫々一長一短があって十分満足し得る方法ではない。
例えば、特公昭37−5934号公報及び米国特許第3,773,
751号では、ｏ−ニトロアゾベンゼン類をアルコール性
水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に還元して相
当する２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
類を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウム−
亜鉛系は、亜鉛スラッジを生じる点で排水問題を含んで
いる。
751号では、ｏ−ニトロアゾベンゼン類をアルコール性
水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に還元して相
当する２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド
類を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウム−
亜鉛系は、亜鉛スラッジを生じる点で排水問題を含んで
いる。
米国特許第2,362,988号明細書に開示されるように硫
化アンモニウム、アルカリスルフィド、亜鉛−塩酸系、
亜鉛−アンモニア系、硫化水素−ナトリウム系などは前
記還元反応の化学的還元剤として使用されているが、こ
の方法は多量の亜硫酸塩又は亜鉛塩を生成するため、排
水汚染の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガ
スが、又使用した硫化水素還元剤からは、有毒な硫化水
素が発生するため、大気汚染の問題にもつながる。
化アンモニウム、アルカリスルフィド、亜鉛−塩酸系、
亜鉛−アンモニア系、硫化水素−ナトリウム系などは前
記還元反応の化学的還元剤として使用されているが、こ
の方法は多量の亜硫酸塩又は亜鉛塩を生成するため、排
水汚染の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガ
スが、又使用した硫化水素還元剤からは、有毒な硫化水
素が発生するため、大気汚染の問題にもつながる。
本出願人による二酸化チオ尿素や、ホルマリン等によ
るアルデヒド、更に水素移動触媒及び塩基の存在下に糖
類で還元する方法など、すでに公知であるが、例えばIP
Aなど高価なアルコールを使ったり、苛性ソーダ等の塩
基の使用が多く、そのため、あとの中和硫酸量が増える
など、経済性の面でなお、難点を有するばかりか、無機
塩濃度の高い排水が出るため、排水処理の難易さ等も加
味して考慮すると、十分に満足できる方法とはいい難
い。
るアルデヒド、更に水素移動触媒及び塩基の存在下に糖
類で還元する方法など、すでに公知であるが、例えばIP
Aなど高価なアルコールを使ったり、苛性ソーダ等の塩
基の使用が多く、そのため、あとの中和硫酸量が増える
など、経済性の面でなお、難点を有するばかりか、無機
塩濃度の高い排水が出るため、排水処理の難易さ等も加
味して考慮すると、十分に満足できる方法とはいい難
い。
本発明の目的は、２−フェニルベンゾトリアゾール−
Ｎ−オキシド類の全く新規な製造法を提供することにあ
る。
Ｎ−オキシド類の全く新規な製造法を提供することにあ
る。
さらに本発明のもう１つの目的は、従来技術の項で述
べた無機塩濃度の高い排水を出さない新規な２−フェニ
ルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類の製造法を提供
することにある。
べた無機塩濃度の高い排水を出さない新規な２−フェニ
ルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類の製造法を提供
することにある。
本発明者は、従来の２−フェニルベンゾトリアゾール
−Ｎ−オキシド類の製造法における問題点を解消するた
めに、種々検討した結果ｏ−ニトロアゾベンゼン類を水
素化触媒及び塩基の存在下で、かつ実質的に水を含まな
い条件下において、水素で還元閉環すれば対応する２−
フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類が良い率
でしかも生産性良く得られることを見出した。
−Ｎ−オキシド類の製造法における問題点を解消するた
めに、種々検討した結果ｏ−ニトロアゾベンゼン類を水
素化触媒及び塩基の存在下で、かつ実質的に水を含まな
い条件下において、水素で還元閉環すれば対応する２−
フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド類が良い率
でしかも生産性良く得られることを見出した。
更に、反応溶媒が例えば安価で回収が簡単に行えるメ
タノール等を用いることができ、またすべて溶剤回収を
してリサイクルできるので、公害的に何ら問題がなく、
極めて経済的に製造できることを見出した。
タノール等を用いることができ、またすべて溶剤回収を
してリサイクルできるので、公害的に何ら問題がなく、
極めて経済的に製造できることを見出した。
本発明の方法において原料として用いられる一般式
（Ｉ）の化合物の具体例としては下記のものが挙げられ
る。
（Ｉ）の化合物の具体例としては下記のものが挙げられ
る。
２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベン
ゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ジヒドロキシ−３′−α−メチルベ
ンジル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ
−ドデシルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−４′−メトキシアゾベ
ンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−（α，
αジメチルベンジル）アゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−（α，αジメチルベンジル）アゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ド
デシルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オク
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−メチルアゾベンゼン、 尚、これらの一般式（Ｉ）のｏ−ニトロアゾベンゼン
類は公知のジアゾ化反応、カップリング反応によって製
造することができる。
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベン
ゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ジヒドロキシ−３′−α−メチルベ
ンジル−５′−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ
−ドデシルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−４′−メトキシアゾベ
ンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルアゾ
ベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−アミルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−（α，
αジメチルベンジル）アゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−（α，αジメチルベンジル）アゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α
−メチルベンジル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルア
ゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ド
デシルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−２−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オク
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′,5′
−ジ−ｔ−オクチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−４−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′
−sec−ブチル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン、 ２−ニトロ−4,6−ジ−クロル−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−メチルアゾベンゼン、 尚、これらの一般式（Ｉ）のｏ−ニトロアゾベンゼン
類は公知のジアゾ化反応、カップリング反応によって製
造することができる。
本発明の水素化触媒としては、白金炭素、パラジュム
炭素、ロジウム炭素、酸化白金、ラネーNi等が使用で
き、使用量は基質のmol当り0.5〜10g、好ましくは0.5〜
2gが適当である。なお、触媒の活性が強すぎて核のClが
はずれてしまう場合には、その触媒を被毒させて活性を
弱めて使用することができる。
炭素、ロジウム炭素、酸化白金、ラネーNi等が使用で
き、使用量は基質のmol当り0.5〜10g、好ましくは0.5〜
2gが適当である。なお、触媒の活性が強すぎて核のClが
はずれてしまう場合には、その触媒を被毒させて活性を
弱めて使用することができる。
塩基性物質としては、アルカリ金属の水酸化物又は、
炭酸塩及びアルカリ土類金属の水酸化物などが使用でき
るが水酸化ナトリウム又は、水酸化カルシウムが好まし
い。その使用量は、一般式（Ｉ）の化合物１モル分子に
対し、1.0〜3.0モル分子が適当であり、好ましくは1.0
〜1.5モル分子である。
炭酸塩及びアルカリ土類金属の水酸化物などが使用でき
るが水酸化ナトリウム又は、水酸化カルシウムが好まし
い。その使用量は、一般式（Ｉ）の化合物１モル分子に
対し、1.0〜3.0モル分子が適当であり、好ましくは1.0
〜1.5モル分子である。
水素の使用量は、反応に必要な理論量に近い量を用い
ることができる。通常1.0〜2.0当量、好ましくは1.0〜
1.2当量程度である。
ることができる。通常1.0〜2.0当量、好ましくは1.0〜
1.2当量程度である。
反応を円滑にするため溶媒を使用するが、溶媒は、実
質的に水を含まない溶媒中で行う。溶媒は、安価なアル
コール類が良いが、特に回収が容易なメタノールを用い
るのが好ましい。
質的に水を含まない溶媒中で行う。溶媒は、安価なアル
コール類が良いが、特に回収が容易なメタノールを用い
るのが好ましい。
還元反応の温度は通常常温ないしは沸点で実施する。
好ましくは常温から50℃が適当である。
好ましくは常温から50℃が適当である。
本発明によって得られるベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド類は、一般式（II）で示される化合物であり、例
えば ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５−メチ
ルフェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）−５−クロ
ル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−４′−メトキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］−５−クロル−ベンゾトリア
ゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−５′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−６′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｔ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−カルボキシベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド 等である。
キシド類は、一般式（II）で示される化合物であり、例
えば ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５−メチ
ルフェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′,4′−ジ−ヒドロキシフェニル）−５−クロ
ル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−４′−メトキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルフェニル）
−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−［２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］−５−クロル−ベンゾトリア
ゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベンジルフ
ェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｎ−ドデシルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−オクチル
フェニル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニ
ル）−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−メチルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−５′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′−sec−ブチル−６′−
ｔ−ブチルフェニル）−５−ｔ−ブチルベンゾトリアゾ
ール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシド ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５
−カルボキシベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド 等である。
以下に本発明を実施例により説明する。
実施例１ メタノール20mlに、撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ
0.2gと２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルア
ゾベンゼン1.29g、さらに５％パラジュームカーボン0.0
1gを加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつ
つ１時間20分、水浴上で反応させた。反応終了後、62％
硫酸を加え、pHが９になるまで中和した。
0.2gと２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルア
ゾベンゼン1.29g、さらに５％パラジュームカーボン0.0
1gを加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつ
つ１時間20分、水浴上で反応させた。反応終了後、62％
硫酸を加え、pHが９になるまで中和した。
析出結晶を濾別し、メタノール30mlで洗浄後、更に水
30mlで洗浄し、乾燥すると1.14gの収量で、２−（２′
−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリア
ゾール−Ｎ−オキシドが得られた。
30mlで洗浄し、乾燥すると1.14gの収量で、２−（２′
−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリア
ゾール−Ｎ−オキシドが得られた。
収率 95％、m.p 135℃〜138.5℃ 実施例２ 40mlメタノールに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−２′
−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン
1.78g、更にPb被毒した５％パラジュームカーボン0.01g
を加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ
２時間20分水浴上で反応させた。
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−２′
−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン
1.78g、更にPb被毒した５％パラジュームカーボン0.01g
を加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ
２時間20分水浴上で反応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−
クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.78gを得
た。
ドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−
クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.78gを得
た。
収率 96％、m.p 178.5℃〜180℃ 実施例３ メタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−３′,5′−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン1.92g、更に
５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２
回行い、水素を封入し撹拌しつつ２時間20分水浴上で反
応させた。
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−３′,5′−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン1.92g、更に
５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２
回行い、水素を封入し撹拌しつつ２時間20分水浴上で反
応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.70gを得た。
ドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.70gを得た。
収率 93％、m.p 108℃〜110℃ 実施例４ メタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン1.95g、更にP
b被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水素
置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ8.5時間水浴
上で反応させた。冷却後、実施例１と同様に処理を行い
２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.83gを
得た。
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン1.95g、更にP
b被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水素
置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ8.5時間水浴
上で反応させた。冷却後、実施例１と同様に処理を行い
２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.83gを
得た。
収率 98％、m.p 170℃〜171℃ 実施例５ １−ブタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソー
ダ0.2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′,4′−ジ
−ヒドロキシアゾベンゼン1.295g、更に５％パラジュー
ムカーボン0.01gを加え、水素置換を２回行い、水素を
封入し撹拌しつつ４時間水浴上で反応させた。
ダ0.2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′,4′−ジ
−ヒドロキシアゾベンゼン1.295g、更に５％パラジュー
ムカーボン0.01gを加え、水素置換を２回行い、水素を
封入し撹拌しつつ４時間水浴上で反応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′,4′
−ジ−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール−Ｎ
−オキシド1.191gを得た。
−ジ−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール−Ｎ
−オキシド1.191gを得た。
収率 98％、m.p 232℃〜233℃（分解） 実施例６ メタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−
２′,4′−ジ−ヒドロキシ−アゾベンゼン1.468g、更に
Pb被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水
素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ７時間水浴
上で反応させた。
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−
２′,4′−ジ−ヒドロキシ−アゾベンゼン1.468g、更に
Pb被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水
素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ７時間水浴
上で反応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′,4′
−ジ−ヒドロキシフェニル）−５−クロル−ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド1.337gを得た。
−ジ−ヒドロキシフェニル）−５−クロル−ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド1.337gを得た。
収率 96％、m.p 236℃〜237℃（分解） 実施例７ １−ブタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソー
ダ0.2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−
２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシアゾベンゼン1.85
5g、更にPb被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを
加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ3.
5時間水浴上で反応させた。
ダ0.2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−
２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシアゾベンゼン1.85
5g、更にPb被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを
加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ3.
5時間水浴上で反応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′−ヒ
ドロキシ−４′−オクトキシフェニル）５−クロル−ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.877gを得た。
ドロキシ−４′−オクトキシフェニル）５−クロル−ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.877gを得た。
収率 97％、液体 実施例８ メタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−２′
−ヒドロキシ−４′−オクトキシアゾベンゼン2.028g、
更にPb被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを加
え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ６時
間水浴上で反応させた。
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−２′
−ヒドロキシ−４′−オクトキシアゾベンゼン2.028g、
更にPb被毒した５％パラジュームカーボン0.01gを加
え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹拌しつつ６時
間水浴上で反応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′−ヒ
ドロキシ−４′−オクトキシフェニル）−５−クロル−
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド2.023gを得た。
ドロキシ−４′−オクトキシフェニル）−５−クロル−
ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド2.023gを得た。
収率 96％、液体 実施例９ メタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−２′
−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルアゾベ
ンゼン1.74g、更にPb被毒した５％パラジュームカーボ
ン0.01gを加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹
拌しつつ8.5時間水浴上で反応させた。
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−４−クロル−２′
−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルアゾベ
ンゼン1.74g、更にPb被毒した５％パラジュームカーボ
ン0.01gを加え、水素置換を２回行い、水素を封入し撹
拌しつつ8.5時間水浴上で反応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）
−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.59
gを得た。
ドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）
−５−クロル−ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.59
gを得た。
収率 96％、m.p 160℃〜162℃ 実施例10 メタノール40mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−５′−ｔ−オクチルアゾベンゼン1.78g、更に５％パ
ラジュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２回行
い、水素を封入し撹拌しつつ５時間水浴上で反応させ
た。
2gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−５′−ｔ−オクチルアゾベンゼン1.78g、更に５％パ
ラジュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２回行
い、水素を封入し撹拌しつつ５時間水浴上で反応させ
た。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′−ヒ
ドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド1.66gを得た。
ドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド1.66gを得た。
収率 97％、m.p 108℃〜110℃ 実施例11 １−ブタノール40mlに撹拌下、98％苛性ソーダ0.2gを
加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン1.50g、更に５％パラジ
ュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２回行い、水
素を封入し撹拌しつつ２時間水浴上で反応させた。
加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−
５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン1.50g、更に５％パラジ
ュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２回行い、水
素を封入し撹拌しつつ２時間水浴上で反応させた。
反応終了後、冷却し実施例１と同様に処理を行い２−
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.36gを得た。
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−ベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.36gを得た。
収率 95％、m.p 75℃〜78℃ 実施例12 メタノール5mlに撹拌下、98％フレーク苛性ソーダ0.2
gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−３′,5′−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン1.92g、更に
５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２
回行い、水素を封入し撹拌しつつ３時間30分、40℃で反
応させた。
gを加えて溶解し、更に２−ニトロ−２′−ヒドロキシ
−３′,5′−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン1.92g、更に
５％パラジュームカーボン0.01gを加え、水素置換を２
回行い、水素を封入し撹拌しつつ３時間30分、40℃で反
応させた。
冷却後、実施例１と同様に処理を行い２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.76gを得た。
ドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド1.76gを得た。
収率 96％、m.p 108℃〜110℃ なお、実施例１〜11においても、実施例12のように少
し加温することにより、溶剤の使用量を非常に少なくす
ることができる。
し加温することにより、溶剤の使用量を非常に少なくす
ることができる。
本発明は、新規な反応系を提供するものであり、これ
により従来法に比較し、排水処理等、公害面の問題がな
く、高収率、高生産性で極めて経済的に目的物を得るこ
とができる。
により従来法に比較し、排水処理等、公害面の問題がな
く、高収率、高生産性で極めて経済的に目的物を得るこ
とができる。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 249/20 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式Ｉ （但しR1は水素、ハロゲン、炭素数１〜４の低級アルキ
ル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボキシ
ル基又はスルホン酸基を表わし、R2は水素、ハロゲン、
炭素数１〜４の低級アルキル基又は炭素数１〜４の低級
アルコキシル基を表わし、R3は水素、ハロゲン、炭素数
１〜12のアルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル
基、シクロアルキル基、フェニル基、炭素数１〜８のア
ルキル基で置換されたフェニル基、フェノキシ基又はア
ルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表
わし、R4は水素、ハロゲン、ヒドロキシル基又は炭素数
１〜10のアルコキシル基を表わし、R5は水素、炭素数１
〜12のアルキル基又はアルキル部分の炭素数が１〜４の
フェニルアルキル基を表わす。） で示されるｏ−ニトロアゾベンゼン類を、水素化触媒お
よび塩基の存在下で、かつ実質的に水を含まない条件下
において、水素で還元閉環することを特徴とする一般式
II 〔但しR1,R2,R3,R4,R5は一般式（Ｉ）に同じ〕 で示される２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2283796A JP3067791B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2283796A JP3067791B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04159267A JPH04159267A (ja) | 1992-06-02 |
| JP3067791B2 true JP3067791B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=17670253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2283796A Expired - Lifetime JP3067791B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | ２―フェニルベンゾトリアゾール―ｎ―オキシド類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3067791B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112645892B (zh) * | 2020-12-15 | 2022-12-13 | 利安隆科润(浙江)新材料有限公司 | 苯并三氮唑紫外线吸收剂的制备方法 |
-
1990
- 1990-10-22 JP JP2283796A patent/JP3067791B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04159267A (ja) | 1992-06-02 |
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