JPH01117873A - 2‐フェニルベンゾトリアゾール‐n‐オキシド類の製造法 - Google Patents

2‐フェニルベンゾトリアゾール‐n‐オキシド類の製造法

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JPH01117873A
JPH01117873A JP62273326A JP27332687A JPH01117873A JP H01117873 A JPH01117873 A JP H01117873A JP 62273326 A JP62273326 A JP 62273326A JP 27332687 A JP27332687 A JP 27332687A JP H01117873 A JPH01117873 A JP H01117873A
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JP
Japan
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hydroxy
carbon atoms
group
oxide
nitro
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JP62273326A
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Kazunobu Kubota
和伸 久保田
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KEMIPURO KASEI KK
Chemipro Kasei Kaisha Ltd
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KEMIPURO KASEI KK
Chemipro Kasei Kaisha Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は紫外線吸収剤として有用な下記一般(式中R工
は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4の低級アルキ
ル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、カルボキシ
ル基又は、スルホン酸基を表わし、 R2は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4の低級ア
ルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基を表わし
、 R3は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、フェニル
基、炭素数1〜8のアルキル基で置換されたフェニル基
、フェノキシ基又はアルキル部分の炭素数1〜4のフェ
ニルアルキル基を表わし、 R4は、水素原子又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭
素数1〜4のアルコキシル基を表わし、 R9は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又はアル
キル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を表わ
す。) で示される2−フェニルベンゾトリアゾール類の中間体
である2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オキシド
類の製造法に関する。
〔従来技術〕
従来、これらの2−フェニルベンゾトリアゾール−N−
オキシド類は0−ニトロアゾベンゼン類を化学的又は、
電解的に還元して製造されている。しかし、従来法は夫
々一長一短があって充分満足し得る方法ではない。
例えば特公昭37−5934号公報及び米国特許第3゜
773.751号明細書では、0′−ニトロアゾベンゼ
ン類をアルコール性水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で
化学的に還元して相当する2−フェニルベンゾトリアゾ
ール−N−オキシド類を良好な収率で得ているが、この
水酸化ナトリウム−亜鉛系は亜鉛スラッジを生じる点で
排水問題を含んでいる。
米国特許第2,362,988号明細書に開示されるよ
うに硫化アンモニウム、アルカリスルフィド、亜鉛−塩
酸系、亜鉛−アンモニア系、硫化水素−ナトリウム系な
どは前記還元反応の化学的還元剤として使用されている
が、この方法は多量の亜硫酸塩又は、亜鉛塩を生成する
ため、排水汚染の問題を生じるし、更に亜硫酸塩からは
、亜硫酸ガスが、又使用した硫化水素還元剤からは、有
毒な硫化水素が発生するため、大気汚染の問題にもつな
がる。
〔目   的〕
本発明の目的は以上の従来技術が内包していた問題を全
て解消し得る2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オ
キシド類の製造法を提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者は、従来の2−フェニルベンゾトリアゾール−
N−オキシド類の製造法における問題点を″解消するた
めに1種々検討した結果〇−二トロアゾベンゼン類を水
素移動触媒及び塩基の存在下、ホルムアルデヒド又はパ
ラホルムアルデヒドで還元すれば対応する2−フェニル
ベンゾトリアゾール−N−オキシド類が経済的に、又公
害的にも問題なく製造できることを見いだした。
本発明の方法において、原料として用いられる一般式■
の化合物の具体例としては、下記のものが挙げられる。
2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t
−ブチル−5′−メチルアゾベンセン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾベン
ゼン2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチ
ルアゾベンゼン2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5’−
t−ブチルアゾベンゼン2−ニトロ−4−クロル−2′
−ヒドロキシ−3’、5’−ジーt−ブチルアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−21−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−
アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−
ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5
′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2’、4’−ジヒドロキシアゾベンゼン2
−ニトロ−4−クロル−2’、4’−ジヒドロキシアゾ
ベンゼン2−ニトロ−21−ヒドロキシ−41−メトキ
シアゾベンゼン2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロ
キシ−3’、5’−ジ−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−21−ヒドロキシ−5′−t−アミルアゾ
ベンゼン2−二トロー4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−21−ヒドロキシ−3’、5’−ジー(α
、α−ジメチルベンジル)アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3’、5
’−ジー(α、α−ジメチルベンジル)アゾベンゼン 2−ニトロ−21−ヒドロキシ−3′−α−メチルベン
ジル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−21−ヒドロキシ−3′−α
−メチルベンジル−51−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−n−ドデシルア
ゾベンゼン2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ
−5′−n−ドデシルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−
オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3’、5
’−ジ−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−21−ヒドロキシ−5′−t
−オクチルアゾベンゼン 2−二トロー4−メチル−2′−ヒドロキシ−5′−メ
チルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−3′−七
−ブチル−5−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ−3’
、5’−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ−3’
−5ee−ブチル−5’ −t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−t−ブチル−2′−ヒドロキシ−3’
−5ee−ブチル−5’−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジ−クロル−2′−ヒドロキシ−
3’、5’−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジ−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−カルボキシ−2′−ヒドロキシ−5′
−メチルアゾベンゼン なおこれらの一般式■の0−ニトロアゾベンゼン類は公
知のジアゾ化反応、カップリング反応によって製造する
ことができる。
本発明の還元剤であるホルムアルデヒド又はパラホルム
アルデヒドの使用量は一般式■の化合物1モル分子当り
1.5〜3.0モル分子好ましくは1.3〜1.6モル
分子が適当である。
水素移動触媒としては2,3−ジクロル−1,4−ナフ
トキノン、1,4−ナフトキノン、1,2−ナフトキン
、2,6−ナフトキノン、アルキル基又はアルコキシ基
を有するナフトキン、1,4−ベンゾキノン、2−クロ
ル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジクロル−5゜6
−ジシアツベンゾキノン、クロルアニル、テトラクロル
−1,2−ベンゾキノン、 4.4’−ジェノキノン、
3.3’ 、 5.5’−テトラクロル−4,4′−ジ
フェノキノン、フェナントレンキノン、アントラキノン
、アルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子、アミノ
基、カルボキシル基又はスルホン基で置換されたアント
ラキノン、ベンゾフェノン、アルキル基、アルコキシル
基、ハロゲン原子又は水酸基で置換されたベンゾフェノ
ン、ベンズアントロン、アントロン、9−フルオレノン
、9−キサテノン、更には上記キノンに対応するハイド
ロキノン等を使用することができる。
とりわけ2.3−ジクロル−1,4−ナフトキノン、ハ
イドロキノン等が好適である。
水素移動触媒の使用量は、一般式■の化合物の重量に対
して0.01〜30%とくに0.07〜0.15%が適
当である。
塩基性物質としては、アルカリ金属の水酸化物又は炭酸
塩およびアルカリ土類金属の水酸化物などが使用できる
が水酸化ナトリウム又は。
水酸化カリウムが好ましい。その使用量は、−般式■の
化合物1モル分子に対し、2.0〜6.0モル分子が適
当であり、好ましくは、3.0〜4.0モル分子である
反応を円滑にするための溶媒は、水溶液又はアルコール
類、トルエン、ケトン類、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリルのような不活性溶媒或いは水との混合溶媒が
使用される。
また必要に応じ更に界面活性剤を添加しても良い。
還元反応の温度は通常常温ないしは150℃で実施する
本発明によって得られるベンゾトリアゾール−N−オキ
シド類は、一般式Iで示される化合物であり、たとえば 2−(2’−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メ
チルフェニル)−5−クロル−ベンゾトリアゾール−N
−オキシド2−(2’−ヒドロキシ−51−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル
)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−ブチル
フェニル)−5−クロル−ベンゾトリアゾール−N−オ
キシド2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−
アミルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−ブチル
フェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’ 、4’−ジ−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール−N−オキシド 2−(2’ 、4’−ジ−ヒドロキシフェニル)−5−
クロル−ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−4′−メトキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−アミル
フェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキ
シド2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−アミルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−7ミルフエニル)
−5−クロル−ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジー(α、α−
ジメチルベンジル)フェニル〕ベンゾトリアゾール−N
−オキシド2−[2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジー
(α、αジメチルベンジル)フェニル〕−5−クロル−
ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3′−α−メチルベンジルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3′−α−メチルベンジルフ
ェニル)−5−クロルベンゾトリアシーツL/−N−オ
キシド2−(2’−ヒドロキシ−5′−n−ドデシルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−5′−n−ドデシルフェニル
)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−オクチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−オクチ
ルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オ
キシド2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフ
ェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシ
ド 2−(2’−ヒドロキシ−51−メチルフェニル)−5
−メチルベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メ
チルフェニル)=5−メチルベンゾトリアゾール−N−
オキシド2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t
−ブチルフェニル)−5−n−プチルベンゾトリアゾー
ルーN−オキシド2−(2’−ヒドロキシ−3’−5e
c−ブチル−5′−t−ブチルフェニル)=5−n−ブ
チルベンゾトリアゾール−N−オキシド2−(2’−ヒ
ドロキシ−3’−5ee−ブチル−5′−t−ブチルフ
ェニル)−5−t−ブチルベンゾトリアゾール−N−オ
キシド2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェ
ニル)−5,7−ジ−クロルベンゾトリアゾール−N−
オキシド2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t
−ブチルフェニル)−5,7−クロルベンゾトリアゾー
ル−N−オキシド2−(2’−ヒドロキーシー5′−メ
チルフェニル)−5−カルボキシベンゾトリアゾール−
N−オキシド 等である。
〔効  果〕
本発明によれば、従来法のような公害を心配しなければ
ならないような問題点がなく、高い収率で目的物を得る
ことができる。
以下に本発明を実施例によって説明する。
〔実施例〕
実施例−1 500膳Q四つロコルベンに2−二トロー2′−ヒドロ
キシ−51−メチルアゾベンゼン25.7g(0,1m
oQ)、水80mM、水酸化ナトリウム12g(0,3
mon)を仕込み60〜65℃で30分間攪拌後50℃
に冷却し、ハイドロキノン0.2gを加えた後、同温度
でホルマリン(35%)18g(ホルムアルデヒド0.
211+*o12)を30分間で滴下する。
更に同温度で1時間攪拌するとO−ニトロアゾベンゼン
゛のほとんどが消失して2−(2’−ヒドロキシ−5′
−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド
が生成する。
反応終了後62%硫酸23gで中和し、析出した結晶を
決別し1次に温水で十分に洗浄後、更に少量のメタノー
ルで洗浄して乾燥すると22.2gの収量で2−(2’
−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾ
ール−N−オキシドが得られた。
収率92%、融点130〜140℃。
実施例−2 500IIQ四つロコルベンに2−ニトロ−2′−ヒド
ロキシ−3’、5’−ジ−t−アミルアゾベンゼン38
.3g(0,1mon)、イソプロピルアルコール90
11flを仕込み攪拌しながら水酸化ナトリウム16g
(0,4moff)を添加し、次に加熱し60〜65℃
で30分間攪拌した後、50℃に冷却し、9−フルオレ
ノン0.3gを加えた後、同温度で35%ホルマリン(
ホルムアルデヒド0.211moQ)を30分間要して
滴下する。
更に同温度で1時間攪拌するとO−ニトロアゾベンゼン
がほとんどが消失して2− (2’−ヒドロキシ−3’
、5’−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール
−N−オキシドが生成する。
反応終了後62%硫酸31.6gで中和すると黄色結晶
が析出するので、結晶を決別し次に温水で充分に洗浄し
て、乾燥すると34.5gの収量で2=(2′−ヒドロ
キシ−3’、5’−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾト
リアゾール−N−オキシドが得られた。
収°率94%、融点111〜113℃。
実施例−3 500mu四つロコルベンに2−ニトロ−4−クロル−
2′−ヒドロキシ−3’ 、5’−t−ブチルアゾベン
ゼン38.9g(0,1ito幻、メタノール100m
g、水20mflを仕込み攪拌しながら水酸化ナトリウ
ム12g(0,3moりを添加し欣に加熱し60〜65
℃で30分間攪拌した後50℃に冷却し、2,3−ジク
ロル−1,4−ナフトキノン0.3gを加えた後、同温
度で92%バラホルムアルデヒド5.2g(0,16腸
o(1)を30分間で添加する。
更に同温度で1時間攪拌するとO−ニトロアゾベンゼン
の、はとんどが消失して2−(2’−ヒドロキシ−3’
、5’−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾ
トリアゾール−N−オキシドが生成する。
反応終了後62%硫酸23gで中和し、析出した黄色結
晶を炉別し1次に温水で充分に洗浄して乾燥すると36
.9gの収量で2− (2’−ヒドロキシ−3′。
5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾト
リアゾール−N−オキシドが得られた。収率95%。
融点178〜180℃。
実施例−4 500mfl四つロコルベンに2−二トロー4−クロル
−21−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5′−メチル
アゾベンゼン34.7g(0,1mon)、インプロパ
ツール60mQ、水40aQを仕込み攪拌しながら水酸
化ナトリウム12g(0,3moQ)を添加し、次に加
熱し60〜65℃で30分間攪拌した後、50℃に冷却
し、ベンゾキノン0.3gを加える。同温度で92%パ
ラホルムアルデヒド6.2g(0,20moQ)を1時
間で添加する。
更に同温度で1時間攪拌すると0−ニトロアゾベンゼン
のほとんどが消失して2−(2’−ヒドロキシ−3′−
t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロル−ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドが生成する。
反応終了後62%硫酸23gで中和し析出した黄色結晶
を炉別し1次に温水で充分に洗浄して。
乾燥すると31.2gの収量で目的物が得られた。
収率94%、融点161−163℃。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4
    の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基
    、カルボキシル基又は、スルホン酸基を表わし、 R_2は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4の低級
    アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基を表わ
    し、 R_3は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜12のア
    ルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、フェニ
    ル基、炭素数1〜8のアルキル基で置換されたフェニル
    基、フェノキシ基又はアルキル部分の炭素数1〜4のフ
    ェニルアルキル基を表わし、 R_4は、水素原子又は塩素原子、ヒドロキシル基又は
    炭素数1〜4のアルコキシル基を表わし、 R_5は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又はア
    ルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を表
    わす。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール−N−オキ
    シド類を製造するに際して、 一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は一般
    式 I に同じ。) で示されるO−ニトロアゾベンセン類を水素移動触媒及
    び塩基の存在下、ホルムアルデヒド又はパラホルムアル
    デヒドで還元することを特徴とする前記一般式 I で示
    される2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オキシド
    類の製造方法。
JP62273326A 1987-10-30 1987-10-30 2‐フェニルベンゾトリアゾール‐n‐オキシド類の製造法 Pending JPH01117873A (ja)

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