JPS61197570A - ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 - Google Patents
２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法Info
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- JPS61197570A JPS61197570A JP60038217A JP3821785A JPS61197570A JP S61197570 A JPS61197570 A JP S61197570A JP 60038217 A JP60038217 A JP 60038217A JP 3821785 A JP3821785 A JP 3821785A JP S61197570 A JPS61197570 A JP S61197570A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は紫外線吸収剤として有用な、下記一般式ｎで示
される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法に関
する。
される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法に関
する。
一般式Ｂ
（但しＲ１は水系又は塩素原子、炭素数１〜４の低級ア
ルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボ
キシル基又はスルホン酸基を表わし、Ｒ１は水系又は塩
素原子、炭素数１〜４のｔＭＬアルキル基又は炭素数１
〜４の低級アルコキシル基を表わし、Ｒ１は水系又は塩
素原子、炭素数ｌ〜１２のアルキル基、炭素数１〜４の
低級アルコキシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアル
キル基で置換された７エ二ル基、フェノキシ基又はアル
キル部分の炭素数が１〜４の７エ二ルアルキル基を表わ
し、Ｒ６は水素又は塩Ｘ原子、ヒドロキシル基又は炭素
数１〜４のアルコキシル基を表わし、Ｒ１は水素原子、
炭素数１〜１２のアルキル部分ニ アルキル基を衣わ丁、） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類はプラス
チック、翅料、油等に添加される紫外線吸収剤として知
られている。
ルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボ
キシル基又はスルホン酸基を表わし、Ｒ１は水系又は塩
素原子、炭素数１〜４のｔＭＬアルキル基又は炭素数１
〜４の低級アルコキシル基を表わし、Ｒ１は水系又は塩
素原子、炭素数ｌ〜１２のアルキル基、炭素数１〜４の
低級アルコキシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアル
キル基で置換された７エ二ル基、フェノキシ基又はアル
キル部分の炭素数が１〜４の７エ二ルアルキル基を表わ
し、Ｒ６は水素又は塩Ｘ原子、ヒドロキシル基又は炭素
数１〜４のアルコキシル基を表わし、Ｒ１は水素原子、
炭素数１〜１２のアルキル部分ニ アルキル基を衣わ丁、） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類はプラス
チック、翅料、油等に添加される紫外線吸収剤として知
られている。
従来、これらの２−フェニルベンゾトリアゾール類は一
般式Ｉ （但しａ、 Ｉ Ｒ１ｔ Ｒ３ｅ ａ、 ｔ ａ、は一
般式］に同じ）で示される０−ニトロアゾベンゼン誘褥
体を化学的又は電解的に還元して製造されている。しか
し従来法は夫々一長一短があって光分満足し得る方法で
はない。
般式Ｉ （但しａ、 Ｉ Ｒ１ｔ Ｒ３ｅ ａ、 ｔ ａ、は一
般式］に同じ）で示される０−ニトロアゾベンゼン誘褥
体を化学的又は電解的に還元して製造されている。しか
し従来法は夫々一長一短があって光分満足し得る方法で
はない。
例えは特公昭３７−５９３４号公報及び米国特許第３，
７７３，７５１号明細薔では０−ニトロアゾペノゼン窮
尋体をアルコール注水酸化ナトリウム浴敵中、亜鉛末で
化学的に還元して相当する２−フェニルベンゾトリアゾ
ール類を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウ
ム−亜鉛末は亜鉛スラッジを生じる点で排水汚染の問題
を含んでいる。
７７３，７５１号明細薔では０−ニトロアゾペノゼン窮
尋体をアルコール注水酸化ナトリウム浴敵中、亜鉛末で
化学的に還元して相当する２−フェニルベンゾトリアゾ
ール類を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウ
ム−亜鉛末は亜鉛スラッジを生じる点で排水汚染の問題
を含んでいる。
硫化アンモニウム、アルカリスルフィト−亜鉛−アンモ
ニア系゛、硫化水素−ナトリウム系及び亜鉛一層成系も
米国特許第２，３６２，９８８号明細書に開示されるよ
うに前記還元反応の化学的還元剤として使用されている
が、この方法は多電の亜硫酸塩又は血鉛堰を生成するた
め、排水汚染のＩＳ題を先じるし、更に亜硫酸塩からは
亜硫酸ガスが、また便用した盪化糸還元剤からは封毒な
１訛化水素が発生するため、大気汚染の問題にもつなが
る。
ニア系゛、硫化水素−ナトリウム系及び亜鉛一層成系も
米国特許第２，３６２，９８８号明細書に開示されるよ
うに前記還元反応の化学的還元剤として使用されている
が、この方法は多電の亜硫酸塩又は血鉛堰を生成するた
め、排水汚染のＩＳ題を先じるし、更に亜硫酸塩からは
亜硫酸ガスが、また便用した盪化糸還元剤からは封毒な
１訛化水素が発生するため、大気汚染の問題にもつなが
る。
特開昭５１−１３８６７９号公報及び同５１−１３８６
８０号公権には加圧水系の添加による還元法か、また特
開昭５０−８８０７２号公報にはヒドラジンによる諷元
法か記載されているが、これらの方法は収率及び経隣の
面で不藺足であり、しかも反応中、晶１ｊ反応か起こる
等の埋出で目的物を高純度で得ることは不可能であり、
特にこの傾向は壕累加子を含む目的物を得る庵合（この
場合は脱環系反応等の副反応か起こる）に強い。
８０号公権には加圧水系の添加による還元法か、また特
開昭５０−８８０７２号公報にはヒドラジンによる諷元
法か記載されているが、これらの方法は収率及び経隣の
面で不藺足であり、しかも反応中、晶１ｊ反応か起こる
等の埋出で目的物を高純度で得ることは不可能であり、
特にこの傾向は壕累加子を含む目的物を得る庵合（この
場合は脱環系反応等の副反応か起こる）に強い。
本発明の百円は以上の従来技術が内包していた問題を全
て解消し得る２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法金提供することである。
て解消し得る２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法金提供することである。
本発明者は従来の２−フェニルベンゾトリアゾール類の
製造法におけるＡｉｌ述のような問題を解消するため、
−々検討した結果、１）一般式■の０−ニトロアゾベン
ゼン＃尋体を水素移動触媒及び塩基の存在下に糖類で還
元するか、或（・は２）一般式ｌ （但しＲ１＊ ａ、 ｔ Ｒａ ＊ Ｒ４＋ Ｒｓは前
述の通り）で示される２−フェニルベンゾトリアゾール
−Ｎ−オキシド類を同様に水素移動触媒及び塩基の存在
下に糖類で還元すれば、一般式］の目的物か技術的にも
経済的にも有利に、また公害的にも問題なく得られるこ
とを見出した。
製造法におけるＡｉｌ述のような問題を解消するため、
−々検討した結果、１）一般式■の０−ニトロアゾベン
ゼン＃尋体を水素移動触媒及び塩基の存在下に糖類で還
元するか、或（・は２）一般式ｌ （但しＲ１＊ ａ、 ｔ Ｒａ ＊ Ｒ４＋ Ｒｓは前
述の通り）で示される２−フェニルベンゾトリアゾール
−Ｎ−オキシド類を同様に水素移動触媒及び塩基の存在
下に糖類で還元すれば、一般式］の目的物か技術的にも
経済的にも有利に、また公害的にも問題なく得られるこ
とを見出した。
本発明のりの方法は温度＊件及び糖類の使用量によって
下記１つ又は２つの工程’ｔＭて行なわれる。
下記１つ又は２つの工程’ｔＭて行なわれる。
ｌ工程（下記工程畠）の場合：
この場合の＠展条件は約６０〜８０℃がｉＭ百で（以下
余日） Ｈ ２工程（下記工程す及びＣ）の場合： この場合の温度条件は最初約２０〜ＳＯ℃、ついで約６
０〜１００ ”にか過当である。この方法は工程が２つ
Ｋなるが、ｌ工程の方法よりも品質及び収率の面で有利
になることかある。糖類の使用量は工＆ｂでは式Ｉの化
合物１％ル分十当り０．５〜０．８モル分子、また工程
Ｃでは弐１の化合物１モル分子当り０．５〜０．８モル
分子が過当で−（なお最初の工程すは触媒の種類にもよ
るが。
余日） Ｈ ２工程（下記工程す及びＣ）の場合： この場合の温度条件は最初約２０〜ＳＯ℃、ついで約６
０〜１００ ”にか過当である。この方法は工程が２つ
Ｋなるが、ｌ工程の方法よりも品質及び収率の面で有利
になることかある。糖類の使用量は工＆ｂでは式Ｉの化
合物１％ル分十当り０．５〜０．８モル分子、また工程
Ｃでは弐１の化合物１モル分子当り０．５〜０．８モル
分子が過当で−（なお最初の工程すは触媒の種類にもよ
るが。
急速、且つ発熱的に進行する。）
本発明方法は”Ｌ２）いずれの場合も反応を円滑にする
ため、通常、水浴液又はアルコール類、トルエン、アセ
トン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルのような
不活性溶媒、或いは前記不活性溶媒と水との混合物中で
行なわれる。
ため、通常、水浴液又はアルコール類、トルエン、アセ
トン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルのような
不活性溶媒、或いは前記不活性溶媒と水との混合物中で
行なわれる。
また必要に応じＣ＊、に界面活性剤、相聞移動触媒等を
添加してもよい。
添加してもよい。
本発明のりの方法で原料として用いられる一般式Ｉの化
合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
２−ニトロ−４−クロル−！−ヒドロキシー３′−ｔ−
フチルー５′−メチルアソヘンゼン２−ニトロ−２′−
ヒドロキシ−５７−メチルア／ベンゼ／ ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン ２−ニトロ−２１−ヒドロキシ−５′−ｔ−ツテルアゾ
ベンゼン アミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３／ 、 ｓ／〜ジー
ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２７−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５
′−メチルアゾベンゼン ２−ニドｏ−ｚ’、４’−シヒトロキシアゾベ／セン２
−ニトロ−４−クロル−２／ 、 ４／−ジヒドロＡジ
アゾベンゼン ２−ニトロ−７−ヒドロキシ−４７−メチルアゾベンゼ
ン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′。
フチルー５′−メチルアソヘンゼン２−ニトロ−２′−
ヒドロキシ−５７−メチルア／ベンゼ／ ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルア
ゾベンゼン ２−ニトロ−２１−ヒドロキシ−５′−ｔ−ツテルアゾ
ベンゼン アミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−３／ 、 ｓ／〜ジー
ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−２７−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５
′−メチルアゾベンゼン ２−ニドｏ−ｚ’、４’−シヒトロキシアゾベ／セン２
−ニトロ−４−クロル−２／ 、 ４／−ジヒドロＡジ
アゾベンゼン ２−ニトロ−７−ヒドロキシ−４７−メチルアゾベンゼ
ン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′。
５′−ジ−ｔ−アミルアゾベンゼン
２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−アミルアゾ
ベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−７ミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２７−ヒドロキシ−３／ 、 ５／−ジ（
α。
ベンゼン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−７ミルアゾベンゼン ２−ニトロ−２７−ヒドロキシ−３／ 、 ５／−ジ（
α。
α−ジメチルベンジル）アゾベンゼン
２−ニトロ−４−クロル−７−ヒドロキシ−３′。
５１−シー（α、α−ジメチルベンジル）アゾベンセン
２−二トロー２７−ヒドロキシ−３′−α−メナルベ；
／ シル−５’ −）ｔチルアゾベンゼン２−ニトロ−
４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５７−メテルアゾベンゼン２−ニトロ−７−ヒド
ロキシ−５７−ｎ−ドデシルアゾペンセン ２−ニトロ−４−クロル−７−ヒトロキシーダーｎ−ド
デシルアゾベ／ゼン ２−ニトロ−７−ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４〜クロル−２′−ヒドロキシ−３１５’
−シーｔ−オクチルアゾベンセン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オフナルアゾペンセン ２−二トロー４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン ２−二トロー４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ｆチル−５−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−７−ヒドロキシ−３／
、 ５／−ジーｔ−ノテルアゾベンゼン２−ニトロ−４
−ｎ−ブチル−！−ヒドロキシー３’ −５ｅｃ−ブチ
ル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン２−ニトロ−４−ｔ
−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′一式一ブチルー５′
−ｔ−プチルアソベンゼン２−ニトロ−４，６−ジクロ
ル−２′−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４，６−ジクロル−７−ヒトロキシーイ、
５′−ジ−ｔ−ブチルアゾペン ２−ニトロ−４−カルゼキシー２′−ヒドロキシ−５−
メチルアゾベンゼン 本発明の２）の方法で用いられる一般弐Ｉの化合物はた
とえはｍＪ記一般式１の化合物をＮ−オキシドまで還元
することにより得られるが、その具体例としては次のも
のが挙げられる。
／ シル−５’ −）ｔチルアゾベンゼン２−ニトロ−
４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−α−メチルベン
ジル−５７−メテルアゾベンゼン２−ニトロ−７−ヒド
ロキシ−５７−ｎ−ドデシルアゾペンセン ２−ニトロ−４−クロル−７−ヒトロキシーダーｎ−ド
デシルアゾベ／ゼン ２−ニトロ−７−ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ｔ−オ
クチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４〜クロル−２′−ヒドロキシ−３１５’
−シーｔ−オクチルアゾベンセン ２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ
−オフナルアゾペンセン ２−二トロー４−メチル−２′−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼン ２−二トロー４−メチル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ｆチル−５−メチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４−ｎ−ブチル−７−ヒドロキシ−３／
、 ５／−ジーｔ−ノテルアゾベンゼン２−ニトロ−４
−ｎ−ブチル−！−ヒドロキシー３’ −５ｅｃ−ブチ
ル−５′−ｔ−ブチルアゾベンゼン２−ニトロ−４−ｔ
−ブチル−２′−ヒドロキシ−３′一式一ブチルー５′
−ｔ−プチルアソベンゼン２−ニトロ−４，６−ジクロ
ル−２′−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルアゾベンゼン ２−ニトロ−４，６−ジクロル−７−ヒトロキシーイ、
５′−ジ−ｔ−ブチルアゾペン ２−ニトロ−４−カルゼキシー２′−ヒドロキシ−５−
メチルアゾベンゼン 本発明の２）の方法で用いられる一般弐Ｉの化合物はた
とえはｍＪ記一般式１の化合物をＮ−オキシドまで還元
することにより得られるが、その具体例としては次のも
のが挙げられる。
２−（２−ヒドロキシ−３−ｉ−ブチ／ｌ／ −５−メ
チルフェニル）−ｓ−ｐロルペンゾトリアゾールーＮ−
オキシド２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル７Ｚニル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−アミルフェニ
ル）ベンゾトリアシー７ｔ、＝ −Ｎ−オキシド２−（
２−１？）”ｏキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニｋ ）
ヘｙ ７”トリアゾール−Ｎ−オキシド２−（２−ヒ
ドロキシル３，５−ジーｔ−ブチルフｚニル）ヘンシト
リアン′−ルーＮ−オキシド２−（２−ヒドロキシ−３
−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル−Ｎ −ｙｒキシド２−（２，４−ジヒドロキシフェ
ニル）ヘンシトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２，４−ジヒドロヤシフェニル）−５−クロルベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド２−（２−ヒドロキン
−４−メトキシフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ジ（α、α−ジメチル
ペンシル）フェニル〕ぺ／シトリアゾールーＮ−オキシ
ド ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベンジル−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ７ド なおこれら−飯式盪のＮ−オキシド類は一般式ｌ００−
ニトロアゾベンセン誘導体を原料として前８ｄりの工程
すの方法で作ることか好ましいか、他の公知の方法で作
ることも可能である。
チルフェニル）−ｓ−ｐロルペンゾトリアゾールーＮ−
オキシド２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル７Ｚニル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−アミルフェニ
ル）ベンゾトリアシー７ｔ、＝ −Ｎ−オキシド２−（
２−１？）”ｏキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール−Ｎ−オキシド ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニｋ ）
ヘｙ ７”トリアゾール−Ｎ−オキシド２−（２−ヒ
ドロキシル３，５−ジーｔ−ブチルフｚニル）ヘンシト
リアン′−ルーＮ−オキシド２−（２−ヒドロキシ−３
−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル−Ｎ −ｙｒキシド２−（２，４−ジヒドロキシフェ
ニル）ヘンシトリアゾール−Ｎ−オキシド ２−（２，４−ジヒドロヤシフェニル）−５−クロルベ
ンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド２−（２−ヒドロキン
−４−メトキシフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシド ２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ジ（α、α−ジメチル
ペンシル）フェニル〕ぺ／シトリアゾールーＮ−オキシ
ド ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベンジル−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ７ド なおこれら−飯式盪のＮ−オキシド類は一般式ｌ００−
ニトロアゾベンセン誘導体を原料として前８ｄりの工程
すの方法で作ることか好ましいか、他の公知の方法で作
ることも可能である。
本発明の還元剤、即ち水素原子供与体である楯端の具体
例としてはブドウ糖、果糖、庶据、乳糖、麦芽糖等が挙
げられるか、中でもブドウ糖が好ましい。これら糖類の
使用ｉは重連のように１）の方法では式■の０−ニトロ
アゾベンゼン彷導体１モル分子当つ１〜２モル分子が適
当である。２）の方法では武門のＮ−オキシド類１モル
分子当り０．５〜０．８モル分子が適当である。
例としてはブドウ糖、果糖、庶据、乳糖、麦芽糖等が挙
げられるか、中でもブドウ糖が好ましい。これら糖類の
使用ｉは重連のように１）の方法では式■の０−ニトロ
アゾベンゼン彷導体１モル分子当つ１〜２モル分子が適
当である。２）の方法では武門のＮ−オキシド類１モル
分子当り０．５〜０．８モル分子が適当である。
水素移動触媒は還７ｃ剤の水系を受は入れて更に仏還フ
Ｃ物買に水素を与えるか、或いは扱還元物質に水素を与
え、次に逆元剤により水素を受は取って触媒的に作用す
る物負である。その具体例としては２，３−ジクロル−
１，４−す７トキノン；ｌ、４−ナフトキノン；１．２
−ナフトキノン；２，６−ナフドキノン；核にアルキル
基又はアルコキシル基を持つナフトキノン；ｌ、４−ベ
ンゾキノン；２−クロル−１，４−ペンゾキノン； ｚ
、 ３−シｙｏルー ５ 、６″″ジンアノベンゾキ
ノン；クロルアニル；テトラクロル−１，２−ベンゾキ
ノン； ４ 、４’−ジフェノキノン；３，３’、５．
５’−テトラクロル−４゜４′−ジフェノキノ／；７エ
ナントレンキノン；アントラキ／；アルキル基、アルコ
キシル基。
Ｃ物買に水素を与えるか、或いは扱還元物質に水素を与
え、次に逆元剤により水素を受は取って触媒的に作用す
る物負である。その具体例としては２，３−ジクロル−
１，４−す７トキノン；ｌ、４−ナフトキノン；１．２
−ナフトキノン；２，６−ナフドキノン；核にアルキル
基又はアルコキシル基を持つナフトキノン；ｌ、４−ベ
ンゾキノン；２−クロル−１，４−ペンゾキノン； ｚ
、 ３−シｙｏルー ５ 、６″″ジンアノベンゾキ
ノン；クロルアニル；テトラクロル−１，２−ベンゾキ
ノン； ４ 、４’−ジフェノキノン；３，３’、５．
５’−テトラクロル−４゜４′−ジフェノキノ／；７エ
ナントレンキノン；アントラキ／；アルキル基、アルコ
キシル基。
ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基又はスルホン
酸基で置換されたア／トラキノン；ベンゾフェノン；ア
ルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子又は水酸基で
置換されたベンゾフェノン；ベンズアントロン；アント
ロン；９−２ルオレノン；９−キサンテノン、史には上
記キノンに対応するハイドロキノン（νりえば２゜３−
ジクロル−１，４−ナフトキノンの場合は２．３−ジク
ロル−１，４−ジオキシナフタレン）等が挙げられるが
、中そも２，３−ジクロル−１，４−ナフトキノン、ベ
ンゾキノン、アントラキノン、９−フルオレノン、ベン
ズアントロ／、ハイドロキノ７．１．４−ジヒトｅｒキ
シナフタレンが好ましい。以上の水系移動触媒は２種以
上混合して使用してもよく、むしろ好ましい場合かある
。
酸基で置換されたア／トラキノン；ベンゾフェノン；ア
ルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子又は水酸基で
置換されたベンゾフェノン；ベンズアントロン；アント
ロン；９−２ルオレノン；９−キサンテノン、史には上
記キノンに対応するハイドロキノン（νりえば２゜３−
ジクロル−１，４−ナフトキノンの場合は２．３−ジク
ロル−１，４−ジオキシナフタレン）等が挙げられるが
、中そも２，３−ジクロル−１，４−ナフトキノン、ベ
ンゾキノン、アントラキノン、９−フルオレノン、ベン
ズアントロ／、ハイドロキノ７．１．４−ジヒトｅｒキ
シナフタレンが好ましい。以上の水系移動触媒は２種以
上混合して使用してもよく、むしろ好ましい場合かある
。
以上のような１）及び２）の方法において水素移動触媒
の使用型は一般式Ｉの０−ニトロアゾベンゼン篩専体の
皿量に対し０，２〜３０％が適当であり、好ましくは２
〜２０％である。また出発原料として一般式１ＯＮ−オ
キシド類を使用する場合もＮ−オキシド類の止置に対し
０．２〜３０％、好ましくは２〜２０％である。
の使用型は一般式Ｉの０−ニトロアゾベンゼン篩専体の
皿量に対し０，２〜３０％が適当であり、好ましくは２
〜２０％である。また出発原料として一般式１ＯＮ−オ
キシド類を使用する場合もＮ−オキシド類の止置に対し
０．２〜３０％、好ましくは２〜２０％である。
塩基としては水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムか好
ましく・。その便用貨は一般式Ｉの〇−ニトロアゾベン
セン誘尋体又は一般弐農のＮ−オキシド期１モル分子に
対し、各々１〜１２モル分子か適当であり、好ましくは
２〜８モル分子である。
ましく・。その便用貨は一般式Ｉの〇−ニトロアゾベン
セン誘尋体又は一般弐農のＮ−オキシド期１モル分子に
対し、各々１〜１２モル分子か適当であり、好ましくは
２〜８モル分子である。
以下に本発明′ｔ−実施例によって説明する。
実施例１
メタノール１００Ｍに９７％苛性ソーダ９．６ｙを加え
、６５℃で３０分間撹拌後、５０”（：に冷却し、２−
ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−メチルアゾベンゼン１１．６．９ｔ−３０
分間に亘って加えた佐、２゜３−ジクロル−１，４−ナ
フトキノ７０．７９及びついで４０〜４５℃の温度でブ
ドウ楯８．９’ｊｚ１時間に亘って加え、更に４０〜４
５℃で１時間攪拌すると、アゾベンゼンの殆んどが消失
して２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチ
ルフェニル）−５−クロルベンゾトリアソール−Ｎ−オ
キシドが生成し、工程すの反応が）鱒了した。
、６５℃で３０分間撹拌後、５０”（：に冷却し、２−
ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−メチルアゾベンゼン１１．６．９ｔ−３０
分間に亘って加えた佐、２゜３−ジクロル−１，４−ナ
フトキノ７０．７９及びついで４０〜４５℃の温度でブ
ドウ楯８．９’ｊｚ１時間に亘って加え、更に４０〜４
５℃で１時間攪拌すると、アゾベンゼンの殆んどが消失
して２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチ
ルフェニル）−５−クロルベンゾトリアソール−Ｎ−オ
キシドが生成し、工程すの反応が）鱒了した。
次に工ａＣの反応を行なうため、ＪＩ＋温して６４〜６
７℃で２時間攪拌すると、Ｎ−オキシドか消失し、工程
ｃの反応か長子した。その麦、反応５１ｃ水５０ｍｔｉ
加え、６２％ｍｔＭ ｌ １９で中和し、析出した結晶
を１過により分離し、６０〜７０℃の温水で光分、洗浄
後、更に少量のメタノールで洗浄して乾燥すると、９．
４１の収量で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−
５−メチルフェニル）−５−クロルペンツトリアゾール
金得た。収率８９．５慢、融点１３８〜１４０℃。
７℃で２時間攪拌すると、Ｎ−オキシドか消失し、工程
ｃの反応か長子した。その麦、反応５１ｃ水５０ｍｔｉ
加え、６２％ｍｔＭ ｌ １９で中和し、析出した結晶
を１過により分離し、６０〜７０℃の温水で光分、洗浄
後、更に少量のメタノールで洗浄して乾燥すると、９．
４１の収量で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−
５−メチルフェニル）−５−クロルペンツトリアゾール
金得た。収率８９．５慢、融点１３８〜１４０℃。
実施例２
２−ニトロ−４−クロル−２７−ヒドロキシ−３′−ｔ
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン１１．６１の代り
にイ）２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３
７、５／−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン１３０Ｉ及び口
）２−ニトロ−２７−ヒドロキシ−３’ 、 ５’−ジ
ーｔ−アミルアゾベンゼン１Ｚ８Ｉを夫々使用した他は
実施例１と同じ方法を繰返し、大々下記結果を得た。
−ブチル−５′−メチルアゾベンゼン１１．６１の代り
にイ）２−ニトロ−４−クロル−２′−ヒドロキシ−３
７、５／−ジ−ｔ−ブチルアゾベンゼン１３０Ｉ及び口
）２−ニトロ−２７−ヒドロキシ−３’ 、 ５’−ジ
ーｔ−アミルアゾベンゼン１Ｚ８Ｉを夫々使用した他は
実施例１と同じ方法を繰返し、大々下記結果を得た。
イ）２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーを一ブチルフ
ェニル）−Ｓ−クロルペンツトリアゾール：収量１０．
５ 、ｉｉＦ、収率８８，０％、融点１５４〜１５５．
５℃。
ェニル）−Ｓ−クロルペンツトリアゾール：収量１０．
５ 、ｉｉＦ、収率８８，０％、融点１５４〜１５５．
５℃。
実施例３
メタノール６０１及び水２０成の混合物に９７％苛性ソ
ーダ８．２ｇを加えて洛解佐、５０〜６０℃で２−二ト
ロー４−クロル−７−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン１１．６ Ｆを撹拌下に３０
分間に亘って茄え。
ーダ８．２ｇを加えて洛解佐、５０〜６０℃で２−二ト
ロー４−クロル−７−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−
５′−メチルアゾベンゼン１１．６ Ｆを撹拌下に３０
分間に亘って茄え。
更に２，３−ジクロル−１，４−ナフトキノン０、３
Ｎ及び９−フルオレノン０．４ 、ｐを加えた後、４０
〜５０℃の１度でブドウａＢＩを２時間に亘って加え、
同温度で１時間撹拌すると、アゾベンゼンの殆んどが消
失して２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メ
チルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシドが生成し、工程すの反応が終了した。
Ｎ及び９−フルオレノン０．４ 、ｐを加えた後、４０
〜５０℃の１度でブドウａＢＩを２時間に亘って加え、
同温度で１時間撹拌すると、アゾベンゼンの殆んどが消
失して２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メ
チルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−
オキシドが生成し、工程すの反応が終了した。
次に工程Ｃの反応を行なうため昇温して６６〜６８ ’
Ｃ（沸点）で５時間撹拌すると、Ｎ−オキシドか殆んど
消失して工程Ｃの反応か梃子した。反応液に水５０ｉ１
Ｊを加え、６２％憾酵１０ｙで中和し、析出した結晶を
ｔ過により分離し、６０〜７０℃の温水で充分洗浄後、
史に少雪のメタノールで洗浄し、乾燥すると、８．７Ｉ
の収量で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールを得
た。収率８１９チ、融点１３８〜１４０゛Ｃ０ 実施例４ 水７０ ｍｌ、９７％苛性ソーダ５．２Ｉ１．２−二ト
ロー２１−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベンゼン１′
２．．９．９及びトルエン１ ｇ ｎｖ、を混合して６
０”Ｃに昇温、撹件後、ハイドロキノン０．６ 、！９
を加えてから、４０〜４５℃の温度でブドウＴｈ ５．
０ Ｎｉ１時間で加え、更に２時間撹拌すると、アゾベ
ンゼンが消失し、工程すの反応が終了した。
Ｃ（沸点）で５時間撹拌すると、Ｎ−オキシドか殆んど
消失して工程Ｃの反応か梃子した。反応液に水５０ｉ１
Ｊを加え、６２％憾酵１０ｙで中和し、析出した結晶を
ｔ過により分離し、６０〜７０℃の温水で充分洗浄後、
史に少雪のメタノールで洗浄し、乾燥すると、８．７Ｉ
の収量で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールを得
た。収率８１９チ、融点１３８〜１４０゛Ｃ０ 実施例４ 水７０ ｍｌ、９７％苛性ソーダ５．２Ｉ１．２−二ト
ロー２１−ヒドロキシ−５′−メチルアゾベンゼン１′
２．．９．９及びトルエン１ ｇ ｎｖ、を混合して６
０”Ｃに昇温、撹件後、ハイドロキノン０．６ 、！９
を加えてから、４０〜４５℃の温度でブドウＴｈ ５．
０ Ｎｉ１時間で加え、更に２時間撹拌すると、アゾベ
ンゼンが消失し、工程すの反応が終了した。
反応液６２％硫酸５．８ｇで中和し、２０℃に冷却し析
出した結晶−ｔｆ過により分離し、２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシドの湿潤品１２ｇ（乾燥品でｌｏ、ｓｙ、収率９０
．０％、融点１３８〜１４０℃）を得た。
出した結晶−ｔｆ過により分離し、２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オ
キシドの湿潤品１２ｇ（乾燥品でｌｏ、ｓｙ、収率９０
．０％、融点１３８〜１４０℃）を得た。
次にこのＩＭ、＠品ｉｚｙにメタノール６ｏａｇ、水３
０ｔ４．９７％苛性ソーダ１３．０．ｐ及び９−フルオ
ｖ）：ｙｏ、５１／を加え、更に５０〜５５℃で攪拌下
にブドウ糖５．５ｇを１時間に亘って加えた後、７５℃
（沸点）で５時間攪拌して反応させると、Ｎ−オキシド
が消失し、工程Ｃの反応が終了した。反応液を６２チ硫
酸１９．８７７で中和（ｐＨ８）し、析出した結晶′ｔ
−濾過により分離し、充分水洗後、更にメタノールで洗
浄乾課すると、９．４１の収量で２−（２−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）ペンツトリアゾールヲ得た。収
率９１８％、融点１２８〜１３０℃。
０ｔ４．９７％苛性ソーダ１３．０．ｐ及び９−フルオ
ｖ）：ｙｏ、５１／を加え、更に５０〜５５℃で攪拌下
にブドウ糖５．５ｇを１時間に亘って加えた後、７５℃
（沸点）で５時間攪拌して反応させると、Ｎ−オキシド
が消失し、工程Ｃの反応が終了した。反応液を６２チ硫
酸１９．８７７で中和（ｐＨ８）し、析出した結晶′ｔ
−濾過により分離し、充分水洗後、更にメタノールで洗
浄乾課すると、９．４１の収量で２−（２−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）ペンツトリアゾールヲ得た。収
率９１８％、融点１２８〜１３０℃。
実施例５
９−フルオレノン０゜５ＩＩＯ代りにイ）ベンズアント
ロン１．０．Ｐ、口）ベンゾフェノン１．５Ｎ及びハ）
アントロン１． ＯＪｉｌを夫々用いた他は実施例４と
同じ方法を繰返し、夫々下記収量で２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ペンツトリアゾールを得た。
ロン１．０．Ｐ、口）ベンゾフェノン１．５Ｎ及びハ）
アントロン１． ＯＪｉｌを夫々用いた他は実施例４と
同じ方法を繰返し、夫々下記収量で２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ペンツトリアゾールを得た。
イ）９．０，９．収率８８．８％、融点１２８〜１３０
℃。
℃。
ｏ）＆ＯＬ収率７＆９％、融点１２７．５〜１３ｏ℃。
ハ） ８．２．ｐ、収率８０．９％、融点１２８〜１
３０℃。
３０℃。
実施ｆＩＪ ６
メタノール７２ａ及び水３６ｍ１の混合物に９７％苛性
ソーダ１４．４ ｐ加えた後、２−ニトロ−２′−ヒド
ロキシ−ｓ’−ｔ−ブチルアゾベンゼンｌ ５． Ｏ、
ｌｉ＋を加え、４５〜ｓ ｏ ’ｃに昇温し、ノ・イド
ロキノン０，４Ｉ及びついでブドウ［５，Ｏ、Ｆを攪拌
下に３０分間に亘って加え、更に１時間攪拌すると、ア
ゾベンゼンが消失して２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−
ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドが
生成し、工程ｂ／の反応が終了した。
ソーダ１４．４ ｐ加えた後、２−ニトロ−２′−ヒド
ロキシ−ｓ’−ｔ−ブチルアゾベンゼンｌ ５． Ｏ、
ｌｉ＋を加え、４５〜ｓ ｏ ’ｃに昇温し、ノ・イド
ロキノン０，４Ｉ及びついでブドウ［５，Ｏ、Ｆを攪拌
下に３０分間に亘って加え、更に１時間攪拌すると、ア
ゾベンゼンが消失して２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−
ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドが
生成し、工程ｂ／の反応が終了した。
次に反応液に９−フルオレノン０．７．９’を加え、５
５〜６０℃に昇温した後、ブドウ糖６．０ｇを３０分間
に亘って加え、７５℃（沸点）で６時間反応させると、
Ｎ−オキシドが消失して工程Ｃの反応が終了した。次に
６２％（ｌ）ｆＣ敵１９． Ｏｉで反応液のｐＨを８と
し、析出しｔこ結晶を濾過により分離し、水洗後、メタ
ノールで光分、洗浄し、乾沫てると、２−（２−ヒドロ
キシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールか
１１、６ 、＠の収量で得られた。
５〜６０℃に昇温した後、ブドウ糖６．０ｇを３０分間
に亘って加え、７５℃（沸点）で６時間反応させると、
Ｎ−オキシドが消失して工程Ｃの反応が終了した。次に
６２％（ｌ）ｆＣ敵１９． Ｏｉで反応液のｐＨを８と
し、析出しｔこ結晶を濾過により分離し、水洗後、メタ
ノールで光分、洗浄し、乾沫てると、２−（２−ヒドロ
キシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールか
１１、６ 、＠の収量で得られた。
実施例７
２−ニトロ−２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルアゾ
ベンゼン１５．０９の代りに２−ニトロ−２′−ヒドロ
キシ−５′−ｔ−オクテルアソベンゼン１７．７ Ｆを
用いた他は実施例６と同じ方法を繰返し、２−（２−ヒ
ドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ールか１３７ｇの収量で得られた。収率８５．０％、融
点１０３〜１０５ ℃。
ベンゼン１５．０９の代りに２−ニトロ−２′−ヒドロ
キシ−５′−ｔ−オクテルアソベンゼン１７．７ Ｆを
用いた他は実施例６と同じ方法を繰返し、２−（２−ヒ
ドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ールか１３７ｇの収量で得られた。収率８５．０％、融
点１０３〜１０５ ℃。
実施例８
メタノール６０成、水３０ｒｒＬ＆、９７％苛社ソーダ
ｔｚ４１１及び２−ニトロ＝７−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼンｌＺ９ｇの混合物を４５〜５０℃に昇
＠撹拌し、９−フルオレノン１、０．９を麿え、引続ぎ
ブドウ糖５．５１を３０分間に亘って加え、更に７５℃
（沸点）で７時間攪拌反応させると、アゾベンゼンか消
失し、工程すの反応が終了した。
ｔｚ４１１及び２−ニトロ＝７−ヒドロキシ−５′−メ
チルアゾベンゼンｌＺ９ｇの混合物を４５〜５０℃に昇
＠撹拌し、９−フルオレノン１、０．９を麿え、引続ぎ
ブドウ糖５．５１を３０分間に亘って加え、更に７５℃
（沸点）で７時間攪拌反応させると、アゾベンゼンか消
失し、工程すの反応が終了した。
次に反応液にブドウ糖６りを３０分間で加え、更に６時
間７５°Ｃ（詐点）で反応させると、Ｎ−オキシドが消
失し、工程Ｃの反応が終了した。
間７５°Ｃ（詐点）で反応させると、Ｎ−オキシドが消
失し、工程Ｃの反応が終了した。
反応液に水５０成を加え、６２％硫［１５ｇで中和し、
析出した結晶に濾過により分離し、光分水洗した後、メ
タノールで洗浄し乾燥すると、ｚ −（２’−ヒドロキ
シ−５′−メチルフェニル）べ／シトリアゾールが９．
６ｇの収量で得られた。
析出した結晶に濾過により分離し、光分水洗した後、メ
タノールで洗浄し乾燥すると、ｚ −（２’−ヒドロキ
シ−５′−メチルフェニル）べ／シトリアゾールが９．
６ｇの収量で得られた。
収率８５．０％、融点１２８〜１３０℃。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＿１は水素又は塩素原子、炭素数１〜４の低級
アルキル基、炭素数１〜４の低級ア ルコキシル基、カルボキシル基又はスルホ ン酸基を表わし、Ｒ＿２は水系又は塩素原子、炭素数１
〜４の低級アルキル基又は炭素数 １〜４の低級アルコキシル基を表わし、Ｒ＿３は水素又
は塩素原子、炭素数１〜１２のア ルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシ ル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキ ル基で置換されたフェニル基、フェノキシ 基又はアルキル部分の炭素数が１〜４のフ ェニルアルキル基を表わし、Ｒ＿４は水素又は塩素原子
、ヒドロキシル基又は炭素数１〜 ４のアルコキシル基を表わし、Ｒ＿５は水素原子、炭素
数１〜１２のアルキル基又はアル キル部分の炭素数が１〜４のフェニルアル キル基を表わす。） で示されるｏ−ニトロアゾベンゼン誘導体を水素移動触
媒及び塩基の存在下、糖類で還元することを特徴とする
一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は一般
式 I に同じ）で示される２−フェニルベンゾトリアゾ
ール類の製造法。 ２、一般式III ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＿１は水素又は塩素原子、炭素数１〜４の低級
アルキル基、炭素数１〜４の低級ア ルコキシル基、カルボキシル基又はスルホ ン酸基を表わし、Ｒ＿２は水素又は塩素原子、炭素数１
〜４の低級アルキル基又は炭素数 １〜４の低級アルコキシル基を表わし、Ｒ＿３は水素又
は塩素原子、炭素数１〜１２のア ルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシ ル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキ ル基で置換されたフェニル基、フェノキシ 基又はアルキル部分の炭素数が１〜４のフ ェニルアルキル基を表わし、Ｒ＿４は水素又は塩素原子
、ヒドロキシル基又は炭素数１〜 ４のアルコキシル基を表わし、Ｒ＿５は水素原子、炭素
数１〜１２のアルキル基又はアル キル部分の炭素数が１〜４のフェニルアル キル基を表わす。） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキ
シド類を水素移動触媒及び塩基の存在下、糖類で還元す
ることを特徴とする一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は一般
式 I に同じ）で示される２−フェニルベンゾトリアゾ
ール類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60038217A JPS61197570A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60038217A JPS61197570A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| EP86306514A EP0257151B1 (en) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-n-oxides |
| EP19860307057 EP0259530B1 (en) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-n-oxides |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61197570A true JPS61197570A (ja) | 1986-09-01 |
| JPH0524907B2 JPH0524907B2 (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=27229314
Family Applications (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60038218A Granted JPS61197571A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
| JP60038217A Granted JPS61197570A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055116A Granted JPS61215379A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055115A Pending JPS61215378A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055117A Granted JPS61215380A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60038218A Granted JPS61197571A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
Family Applications After (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60055116A Granted JPS61215379A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055115A Pending JPS61215378A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055117A Granted JPS61215380A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
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|---|---|
| JP (5) | JPS61197571A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6372683A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-02 | Kemipuro Kasei Kk | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JPS6372682A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-02 | Kemipuro Kasei Kk | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
| US4835284A (en) * | 1986-08-22 | 1989-05-30 | Chemipro Kasei Kaisha, Ltd. | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-N-oxides |
| JP2007084499A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Kobe Univ | アルコール類の酸化方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BR0214673A (pt) | 2001-12-05 | 2004-10-19 | Ciba Specialty Chemicals Hodin | Processo livre de solvente orgânico para a preparação de fenóis de 2-(2-nitrofenilazo) |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS59170172A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-26 | Shuichi Seino | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59172481A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-29 | Shuichi Seino | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-27 JP JP60038218A patent/JPS61197571A/ja active Granted
- 1985-02-27 JP JP60038217A patent/JPS61197570A/ja active Granted
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