JPH04235956A - アントラニル酸の製造法 - Google Patents

アントラニル酸の製造法

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JPH04235956A
JPH04235956A JP3131541A JP13154191A JPH04235956A JP H04235956 A JPH04235956 A JP H04235956A JP 3131541 A JP3131541 A JP 3131541A JP 13154191 A JP13154191 A JP 13154191A JP H04235956 A JPH04235956 A JP H04235956A
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JP
Japan
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acid
nitrotoluene
formula
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anthranilic acid
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JP3131541A
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Manfred Patsch
マンフレート パッチュ
Klaus Pandl
クラウス パンドル
Jacques Dupuis
デュピュイ ジャック
Helmut Dr Hagen
ヘルムート ハーゲン
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BASF SE
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BASF SE
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/01Sulfonic acids
    • C07C309/28Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C309/45Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton
    • C07C309/46Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton having the sulfo groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/01Sulfonic acids
    • C07C309/28Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C309/45Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton
    • C07C309/48Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by halogen atoms

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、オルト−ニトロトルエ
ンをクロルスルホン酸またはオレウムを用いてスルホン
化し、引続きメチル基を酸化し、かつ最後にニトロ基を
還元することによって、環の第4位でスルホン化されて
いるアントラニル酸を製造する新規の方法に関する。
【0002】
【従来の技術】酸化銅、酸化マンガンおよび酸化鉄の存
在下に苛性ソーダ液を用いて処理することによって、4
−メチル−3−ニトロベンゾールスルホン酸を4−ヒド
ロキシスルホニルアントラニル酸へ変換することは、公
知である(Chem.Abstr.,第81巻,651
71g,1974参照)。
【0003】更に、チェコスロバキア国特許第1466
03号明細書の記載により、4−メチル−3−ニトロベ
ンゾールスルホン酸をまず熱時で、同時にUV光の照射
下に、苛性ソーダ−または苛性カリ溶液を用いて処理す
ることは、公知である。更に、この場合に生じるニトロ
ベンゾールスルホン酸は、亜鉛を用いて相応するアミノ
化合物へと還元される。
【0004】しかし、前記方法の場合には、目的生成物
はもっぱら不十分な収量で、および多数の副生成物を付
随して得られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、前記の欠点をもはや有しない、スルホン化されたア
ントラニル酸を製造する新規の方法を提供することであ
った。その上、新規の方法では、直接に相応するオルト
−ニトロトルエンから出発されるはずである。それとい
うのも、公知方法の場合には、常にニトロトルエンスル
ホン酸が出発物質として使用され、これは別個に製造さ
れなければならないからである。
【0006】
【課題を解決するための手段】従って、式I:
【000
7】
【化5】
【0008】[式中、X1およびX2は同一かまたは異
っており、それぞれ互いに独立に水素、ハロゲンまたは
アミノを表わす]のアントラニル酸の製造は、a)第1
工程で、式II:
【0009】
【化6】
【0010】[式中、Y1およびY2は同一かまたは異
っており、それぞれ互いに独立に水素、ハロゲンまたは
ニトロを表わす]のニトロトルエンを40〜150℃の
温度でクロルスルホン酸を用いて、または10〜75重
量%のオレウムを用いて処理し、式III:
【0011
【化7】
【0012】[式中、Y1およびY2はそれぞれ前記の
意味を表わす]のニトロトルエンスルホン酸を有する反
応混合物を、 b)第2工程で、直接水で希釈し、130〜170℃の
温度で、バナジン(V)−化合物の存在下に、硝酸を用
いて処理し、かつ生じる、式IV:
【0013】
【化8】
【0014】[式中、Y1およびY2はそれぞれ前記の
意味を表わす]のニトロベンゾエ酸を c)第3段階で還元することにより有利に成功すること
が見い出された。
【0015】本発明による方法は、有利に、式IIのニ
トロトルエンを予め装入し、かつ撹拌下に40〜150
℃の温度でスルホン化試薬、即ちクロルスルホン酸また
は10〜75重量%のオレウムを緩徐に添加して行なわ
れる。次に、40〜150℃の温度で、クロルスルホン
酸を使用する場合には有利に100〜150℃で、およ
び10〜75重量%のオレウムを使用する場合には有利
に40〜100℃で、約0.5〜5時間さらに撹拌され
る。
【0016】この場合には、一般にニトロトルエンII
  1モル当たり、スルホン化試薬1〜1.3モルが使
用される。この場合、10〜75重量%のオレウム、殊
に20〜30重量%のオレウムを用いたニトロトルエン
IIの処理が好ましい。
【0017】スルホン化の終了後に、ニトロトルエンス
ルホン酸IIIを有する生じた反応混合物が直接水で希
釈され、即ちニトロトルエンスルホン酸の中間単離は起
こらないこの場合には、反応混合物中に60〜85重量
%の硫酸水溶液が存在する程度の量の水を添加する処理
方法が有利である。
【0018】引続き、この反応混合物にバナジウム(V
)−化合物が添加される。この場合に、反応条件下でさ
らに硫酸バナジウム(V)に変換される、五酸化バナジ
ウムを添加するのが有利である。
【0019】引続き硝酸の添加が行なわれ、この場合に
は通常、30〜100重量%の硝酸が使用される。硝酸
を用いた処理は、130〜170℃の温度、有利に14
5〜160℃、特に150〜160℃で行なわれる。処
理の間、同時に希釈された硝酸(約30重量%)が反応
混合物から留去されることができる。
【0020】一般に、ニトロトルエンII  1モル当
たり、バナジウム(V)−化合物0.01〜0.1モル
当量、有利に0.03〜0.06モル当量および硝酸1
.2〜6モルが使用される。
【0021】一般に6〜10時間かかる変換の終了後に
、ニトロベンゾエ酸IVの単離が行なわれる。更に反応
混合物は冷却され、通常、反応混合物に対して100〜
200重量%の水、および引続きアルカリヒドロオキシ
ド水溶液、例えば苛性ソーダ液または苛性カリ液が、p
H値約0〜1に達するまで、添加される。
【0022】約0℃に冷却後に、ニトロベンゾエ酸IV
は、沈殿物として生じ、これは分離され、かつ一般に後
精製なしに水素化反応される。
【0023】また、ニトロベンゾエ酸IVの単離は断念
することもできる。この場合には、酸化の際に生じるよ
うに、ニトロベンゾエ酸IVの還元は直接に反応混合物
中で行なわれる。
【0024】ニトロベンゾエ酸IVの還元は、自体公知
の方法、例えばHouben−Weylの“Metho
den  der  Organischen  Ch
emie”,第11/1巻、360頁以後に記載されて
いる方法により行なわれる。
【0025】有利に、接触的還元は、水素を用いて行な
われ、この場合にパラジウムまたは特にラネ−ニッケル
が触媒として使用される。この場合には、パラジウムは
一般に担持触媒の形で使用され、その際に担体としては
特にカーボンが挙げられる。
【0026】接触的還元は、一般に水性媒体中、20〜
60℃の温度および1.0〜6.0バールの水素圧で行
なわれる。pH値は、通常4〜11である。水素吸収の
終了後に、一般に触媒は濾別され、濾液は酸性化される
(pH値−0.5〜+3.0、有利に0〜1)。次に、
沈殿物として生じるアントラニル酸Iは分離される単離
の他の方法は、水素化触媒から濾別された還元溶液を直
接噴霧乾燥することにあり、この場合に、溶液のpH値
に応じて目的生成物は遊離酸の形かまたは塩の形(例え
ば、アルカリ金属塩として)得られる。
【0027】触媒としてのラネ−ニッケルを使用した接
触的水素化の場合には、炭素原子2〜10個を有する脂
肪族モノ−またはジカルボン酸、例えば酢酸、プロピオ
ン酸またはアジピン酸を反応混合物に添加することによ
って、反応速度が上昇されうることが判明した。この場
合には、一般にニトロトルエンII  1モルに対して
カルボン酸5〜50gが使用される。
【0028】本発明による方法は、連続的作業法ならび
に非連続的作業法で行なわれることができる。目的生成
物は良好な収量および高い純度で供給される。更に、こ
の新規の方法の利点は、既に冒頭で記したように、式I
Iのニトロトルエンから直接出発できること、およびこ
の化合物から得られるスルホン酸を中間単離しなくてよ
いことにある。
【0029】本発明の方法により得られるスルホン化さ
れたアントラニル酸Iは、欧州特許出願公開第3150
46号明細書の記載のように、染料、例えば銅ホルマザ
ンの製造のために、重要な中間物質である。
【0030】次の実施例につき発明を詳説する。
【0031】
【実施例】例  1 2−ニトロ−4−ヒドロキシスルホニルベンゾエ酸の製
造 オルト−ニトロトルエン548g(4モル)を装入した
。これに約70℃の温度で、24重量%のオレウム13
50gを2時間で滴加した。次に、この温度で30分間
さらに撹拌した後に、水420mlおよび五酸化バナジ
ウム40gを反応混合物に添加した。次に反応混合物を
155℃に加熱し、8.5時間で65重量%の硝酸25
50mlを添加した。その際、同時に30重量%の硝酸
2.5lを反応混合物から留去した。
【0032】次に、反応混合物に水3205mlおよび
50重量%の苛性ソーダ液801gを添加し(反応混合
物のpH約0)かつ5時間で0℃に冷却した。沈殿物と
して生ずる2−ニトロ−4−ヒドロキシスルホニルベン
ゾエ酸を吸引濾過し、洗浄しおよび乾燥させた。収率7
6%。
【0033】例  2 4−ヒドロキシスルホニルアントラニル酸の製造2−ニ
トロ−4−ヒドロキシスルホニルベンゾエ酸494gを
水3.5l中で6.0のpH値で溶解し、かつパラジウ
ム触媒4g(カーボン上のパラジウム10重量%)と一
緒に、水素(圧力:3バール)を用いて40℃の温度で
水素化した。水素吸収の終了後に触媒を濾別した。
【0034】濾液を塩酸を用いてpH値0に調節し、形
成された沈殿物を濾過することによって単離した。4−
ヒドロキシスルホニルアントラニル酸410gが得られ
た。
【0035】例  3 4−ヒドロキシスルホニルアントラニル酸の製造例2と
同様に処理するが、濾液を噴霧乾燥させた。4−ヒドロ
キシスルホニルアントラニル酸440gが得られた。
【0036】例  4 4−ヒドロキシスルホニルアントラニル酸の製造2−ニ
トロ−4−ヒドロキシスルホニルベンゾエ酸494gを
、水2.5l中でプロピオン酸50gの添加下にpH値
4.0で溶解し、かつ触媒としてのラネ−ニッケル10
gと一緒に、水素(圧力:3バール)を用いて40℃の
温度で水素化した。水素吸収の終了後に触媒を濾別した
【0037】濾液を、塩酸を用いてpH値0に調節し、
形成された沈殿物を濾過することによって単離した。4
−ヒドロキシスルホニルアントラニル酸400gが得ら
れた。
【0038】例  5 4−ヒドロキシスルホニルアントラニル酸の製造例4と
同様に処理したが、濾液を噴霧乾燥させた。4−ヒドロ
キシスルホニルアントラニル酸440gが得られた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式1: 【化1】 [式中、X1およびX2は同一かまたは異っており、そ
    れぞれ互いに独立に水素、ハロゲンまたはアミノを表わ
    す]のアントラニル酸を製造する方法において、a)第
    1工程で、式II: 【化2】 [式中、Y1およびY2は同一かまたは異っており、そ
    れぞれ互いに独立に水素、ハロゲンまたはニトロを表わ
    す]のニトロトルエンを40〜150℃の温度でクロル
    スルホン酸を用いて、または10〜75重量%のオレウ
    ムを用いて処理し、式III: 【化3】 [式中、Y1およびY2はそれぞれ前記の意味を表わす
    ]のニトロトルエンスルホン酸を有する反応混合物を、
    b)第2工程で、直接水で希釈し、130〜170℃の
    温度で、バナジウム(V)−化合物の存在下に硝酸を用
    いて処理し、生じる、式IV: 【化4】 [式中、Y1およびY2はそれぞれ前記の意味を表わす
    ]のニトロベンゾエ酸をc)第3段階で還元する、こと
    を特徴とする、アントラニル酸の製造法。
JP3131541A 1990-06-07 1991-06-04 アントラニル酸の製造法 Withdrawn JPH04235956A (ja)

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DE4018245A DE4018245A1 (de) 1990-06-07 1990-06-07 Verfahren zur herstellung von sulfonierten anthranilsaeuren
DE4018245.2 1990-06-07

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EP (1) EP0460544B1 (ja)
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003516397A (ja) * 1999-12-09 2003-05-13 バイエル クロップサイエンス ゲーエムベーハー ニトロスルホベンズアミド類

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EP0460544B1 (de) 1995-08-09
DE4018245A1 (de) 1991-12-12
EP0460544A2 (de) 1991-12-11
DE59106188D1 (de) 1995-09-14

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