JPH05213908A - ビス−［２−ヒドロキシフエニル−３（２ｈ）−ベンズトリアゾール−メタンの誘導体類の製造方法 - Google Patents
ビス−［２−ヒドロキシフエニル−３（２ｈ）−ベンズトリアゾール−メタンの誘導体類の製造方法Info
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- JPH05213908A JPH05213908A JP16532592A JP16532592A JPH05213908A JP H05213908 A JPH05213908 A JP H05213908A JP 16532592 A JP16532592 A JP 16532592A JP 16532592 A JP16532592 A JP 16532592A JP H05213908 A JPH05213908 A JP H05213908A
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- benztriazole
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D249/18—Benzotriazoles
- C07D249/20—Benzotriazoles with aryl radicals directly attached in position 2
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンズトリ
アゾールをパラホルムアルデヒドまたは１,３,５−トリ
オキサンと濃硫酸中で均質溶液中で２.０：１.０−２.
０：１.５のベンズトリアゾール対アルデヒド供与体の
モル比で０−６０℃の温度において反応させることを特
徴とする、式 【化１】 に相当するビス−〔２−ヒドロキシフェニル−３（２
Ｈ）−ベンズトリアゾール〕−メタンの誘導体の製造方
法： 【目的】 紫外線吸収剤として有用なビス−〔２−ヒド
ロキシフエニル−３（２Ｈ）−ベンズトリアゾール〕−
メタンの新規な製法の提供。
アゾールをパラホルムアルデヒドまたは１,３,５−トリ
オキサンと濃硫酸中で均質溶液中で２.０：１.０−２.
０：１.５のベンズトリアゾール対アルデヒド供与体の
モル比で０−６０℃の温度において反応させることを特
徴とする、式 【化１】 に相当するビス−〔２−ヒドロキシフェニル−３（２
Ｈ）−ベンズトリアゾール〕−メタンの誘導体の製造方
法： 【目的】 紫外線吸収剤として有用なビス−〔２−ヒド
ロキシフエニル−３（２Ｈ）−ベンズトリアゾール〕−
メタンの新規な製法の提供。
Description
【０００１】本発明は、２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ
−ベンズトリアゾール類（Ｉ）をパラホルムアルデヒド
または１,３,５−トリオキサンと濃硫酸中で均質溶液中
で２.０：１.０−２.０：１.５のベンズトリアゾール
（Ｉ）対アルデヒド供与体のモル比で０−６０℃の温度
において反応させることを特徴とする式（II）に相当す
るビス−〔２−ヒドロキシフェニル−３(２Ｈ)−ベンズ
トリアゾール〕−メタンの誘導体類の製造方法に関する
ものである：
−ベンズトリアゾール類（Ｉ）をパラホルムアルデヒド
または１,３,５−トリオキサンと濃硫酸中で均質溶液中
で２.０：１.０−２.０：１.５のベンズトリアゾール
（Ｉ）対アルデヒド供与体のモル比で０−６０℃の温度
において反応させることを特徴とする式（II）に相当す
るビス−〔２−ヒドロキシフェニル−３(２Ｈ)−ベンズ
トリアゾール〕−メタンの誘導体類の製造方法に関する
ものである：
【０００２】
【化２】
【０００３】ここで式（Ｉ）および（II）中の置換基Ｒ
1およびＲ2は下記の意味を有する：Ｒ1＝Ｃ1-6アルキル
またはＣ6-10アリール、例えばフェニル、であり、Ｒ2
＝水素またはハロゲン、例えばＣｌもしくはＢｒ、であ
る。
1およびＲ2は下記の意味を有する：Ｒ1＝Ｃ1-6アルキル
またはＣ6-10アリール、例えばフェニル、であり、Ｒ2
＝水素またはハロゲン、例えばＣｌもしくはＢｒ、であ
る。
【０００４】本発明に従う方法は、易溶性でありそして
劣った結晶性のメチレン−結合された二量体状ヒドロキ
シフェニルベンズトリアゾール類の製造用に特に適して
いる。このような化合物は構造式（II）により特徴づけ
られており、ここでＲ1およびＲ2は上記で定義されてい
る如くである。
劣った結晶性のメチレン−結合された二量体状ヒドロキ
シフェニルベンズトリアゾール類の製造用に特に適して
いる。このような化合物は構造式（II）により特徴づけ
られており、ここでＲ1およびＲ2は上記で定義されてい
る如くである。
【０００５】ビス−〔２−ヒドロキシフェニル−３(２
Ｈ)−ベンズトリアゾール〕−メタンの誘導体類は、プ
ラスチックスおよび写真層用の公知の紫外線吸収剤であ
る。それらおよびそれらの製造方法は、ドイツ公開明細
書１ ６７０ ９５１、チェコスロバキア特許１４１ ２
０６、米国特許３,９３６,３０５およびヨーロッパ特許
１８０ ９９３中に記載されている。
Ｈ)−ベンズトリアゾール〕−メタンの誘導体類は、プ
ラスチックスおよび写真層用の公知の紫外線吸収剤であ
る。それらおよびそれらの製造方法は、ドイツ公開明細
書１ ６７０ ９５１、チェコスロバキア特許１４１ ２
０６、米国特許３,９３６,３０５およびヨーロッパ特許
１８０ ９９３中に記載されている。
【０００６】米国特許３,９３６,３０５は特に式（II
I）の製造を記載している。化合物（III）
I）の製造を記載している。化合物（III）
【０００７】
【化３】
【０００８】は本発明に従う化合物（II）とはアルキル
置換基Ｒ3において異なっている。それらは劣った結晶
性の蒸留不能な中間生成物を介して製造される。同一分
子に対してアゾカップリングおよび還元を２回行わなけ
ればならないため、収率は低下しそして工程は全体とし
て労力がかかり且つ困難なものであると記載することが
できる。米国特許３,９３６,３０５は反応収率を列記し
ていない。
置換基Ｒ3において異なっている。それらは劣った結晶
性の蒸留不能な中間生成物を介して製造される。同一分
子に対してアゾカップリングおよび還元を２回行わなけ
ればならないため、収率は低下しそして工程は全体とし
て労力がかかり且つ困難なものであると記載することが
できる。米国特許３,９３６,３０５は反応収率を列記し
ていない。
【０００９】ヨーロッパ特許公開明細書１８０ ９９３
は、下記の反応式に従う式（VI）に相当するビス−〔２
−ヒドロキシフェニル−３(２Ｈ)−ベンズトリアゾール
フェニル〕−メタン類の製造を記載している：
は、下記の反応式に従う式（VI）に相当するビス−〔２
−ヒドロキシフェニル−３(２Ｈ)−ベンズトリアゾール
フェニル〕−メタン類の製造を記載している：
【００１０】
【化４】
【００１１】〔式中、ＲはＣ1-12アルキル、Ｃ7-14アラ
ルキルまたはＣ3-13シクロアルキル基であり、そしてＸ
は水素、ハロゲン、Ｃ1-12アルキル、Ｃ6-10アリール、
Ｃ7-16アラルキル、Ｃ1-12アルコキシ、Ｃ6-10アラルオ
キシまたはＣ7-16アラルコキシ基である〕。
ルキルまたはＣ3-13シクロアルキル基であり、そしてＸ
は水素、ハロゲン、Ｃ1-12アルキル、Ｃ6-10アリール、
Ｃ7-16アラルキル、Ｃ1-12アルコキシ、Ｃ6-10アラルオ
キシまたはＣ7-16アラルコキシ基である〕。
【００１２】本発明に従う方法とは対照的に、この方法
は二反応段階を必要としており、それにはさらに労力が
いる。さらに、ヨーロッパ特許１８０ ９９３に従う製
造方法には化合物（VI）が少量のアミンまたはマニッヒ
塩基（Ｖ）で汚染されたままであるという危険性が含ま
れており、従って例えばポリカーボネート用の紫外線吸
収剤としての重要用途には不適切である。アミン類はポ
リカーボネート類の加水分解を激しく促進させ、そして
ｐｐｍ量でも非常に劣悪な気候性能をもたらす。
は二反応段階を必要としており、それにはさらに労力が
いる。さらに、ヨーロッパ特許１８０ ９９３に従う製
造方法には化合物（VI）が少量のアミンまたはマニッヒ
塩基（Ｖ）で汚染されたままであるという危険性が含ま
れており、従って例えばポリカーボネート用の紫外線吸
収剤としての重要用途には不適切である。アミン類はポ
リカーボネート類の加水分解を激しく促進させ、そして
ｐｐｍ量でも非常に劣悪な気候性能をもたらす。
【００１３】ドイツ公開明細書１ ６７０ ９５１は、式
（VII）
（VII）
【００１４】
【化５】
【００１５】〔式中、Ｒ1およびＲ2は同一もしくは異な
っていてもよく、そして水素、炭素数が多くとも１０の
アルキル、シクロアルキルもしくはアラルキル基、また
は任意にさらに置換されていてもよいアリール基、ヒド
ロキシ、アルコキシ、カルボキシ、カルバルコキシ、カ
ルボンアミド、スルホンアミド、アルキルスルホン、ア
リールスルホンもしくはアシルアミノ基、またはハロゲ
ン原子を表し、Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なってい
てもよく、そして水素、Ｃ1-4アルキル基、Ｃ5-6シクロ
アルキル基、または芳香族環中で任意に置換されていて
もよいベンジルもしくはアリール基を表し、ｎは１−４
の整数であり、そしてｍは１−３の整数である〕に相当
する化合物の製造を記載している。
っていてもよく、そして水素、炭素数が多くとも１０の
アルキル、シクロアルキルもしくはアラルキル基、また
は任意にさらに置換されていてもよいアリール基、ヒド
ロキシ、アルコキシ、カルボキシ、カルバルコキシ、カ
ルボンアミド、スルホンアミド、アルキルスルホン、ア
リールスルホンもしくはアシルアミノ基、またはハロゲ
ン原子を表し、Ｒ3およびＲ4は同一もしくは異なってい
てもよく、そして水素、Ｃ1-4アルキル基、Ｃ5-6シクロ
アルキル基、または芳香族環中で任意に置換されていて
もよいベンジルもしくはアリール基を表し、ｎは１−４
の整数であり、そしてｍは１−３の整数である〕に相当
する化合物の製造を記載している。
【００１６】Ｒ3＝Ｒ4＝Ｈである場合には、氷酢酸中で
硫酸の存在下で１００−１２０℃においてパラホルムア
ルデヒドとの反応により化合物は製造される。該方法
は、易結晶性化合物（VII）、特にＲ2＝ＣＨ3であるも
の、の製造用に適している。しかしながら、該方法は劣
った結晶性の化合物（VII）、すなわち特にＲ2が炭素数
が３より大きいアルキルまたはアラルキル置換基を含有
している化合物、用には事実上不適切であり、その理由
は濃色生成物が低収率で集積しそして簡単な方法により
精製することができないためである。さらに、該方法は
その後の使用のために精製しなけらばならない不経済な
大量の溶媒（ＨＯＡｃ／Ｈ2ＳＯ4混合物）を必要として
いる。
硫酸の存在下で１００−１２０℃においてパラホルムア
ルデヒドとの反応により化合物は製造される。該方法
は、易結晶性化合物（VII）、特にＲ2＝ＣＨ3であるも
の、の製造用に適している。しかしながら、該方法は劣
った結晶性の化合物（VII）、すなわち特にＲ2が炭素数
が３より大きいアルキルまたはアラルキル置換基を含有
している化合物、用には事実上不適切であり、その理由
は濃色生成物が低収率で集積しそして簡単な方法により
精製することができないためである。さらに、該方法は
その後の使用のために精製しなけらばならない不経済な
大量の溶媒（ＨＯＡｃ／Ｈ2ＳＯ4混合物）を必要として
いる。
【００１７】チェコスロバキア特許１４１ ２０６は、
硫酸中での対応する３−ヒドロキシフェニルベンズトリ
アゾール類と水性ホルマリンとの縮合による式（VIII）
硫酸中での対応する３−ヒドロキシフェニルベンズトリ
アゾール類と水性ホルマリンとの縮合による式（VIII）
【００１８】
【化６】
【００１９】〔式中、Ｒ1はＣ1-12アルキルであり、そ
してＲ2はメチルまたはハロゲンである〕に相当する化
合物の製造方法を記載している。ホルマリンの高い水含
有量のために該方法は本発明に従う方法とは対照的に均
質溶液中で実施されず、その代わりに出発生成物の一部
がホルマリンの添加後に沈澱する。この方法は、ドイツ
公開明細書１ ６７０ ９５１に従う方法と同様に、易結
晶性化合物（VIII）用には適しているが、それは劣った
結晶性化合物（Ｒ1＝アルキル、アラルキル、炭素数≧
３）の場合には欠点を有している。水性ホルマリンの使
用のために、チェコスロバキア特許１４１ ２０６に従
う方法は４８時間という不経済な反応時間を必要とし、
そして反応媒体（硫酸）との長い接触時間により比較的
大量の脱アルキル化生成物を与える。その結果、収率は
激しく低下し、そして反応生成物の色は本発明に従う方
法により製造される生成物のものより著しく劣ってい
る。
してＲ2はメチルまたはハロゲンである〕に相当する化
合物の製造方法を記載している。ホルマリンの高い水含
有量のために該方法は本発明に従う方法とは対照的に均
質溶液中で実施されず、その代わりに出発生成物の一部
がホルマリンの添加後に沈澱する。この方法は、ドイツ
公開明細書１ ６７０ ９５１に従う方法と同様に、易結
晶性化合物（VIII）用には適しているが、それは劣った
結晶性化合物（Ｒ1＝アルキル、アラルキル、炭素数≧
３）の場合には欠点を有している。水性ホルマリンの使
用のために、チェコスロバキア特許１４１ ２０６に従
う方法は４８時間という不経済な反応時間を必要とし、
そして反応媒体（硫酸）との長い接触時間により比較的
大量の脱アルキル化生成物を与える。その結果、収率は
激しく低下し、そして反応生成物の色は本発明に従う方
法により製造される生成物のものより著しく劣ってい
る。
【００２０】従って、本発明は特に式（Ｉ）に相当する
化合物とパラホルムアルデヒドまたは１,３,５−トリオ
キサンとの２.０：１.０−２.０：１.５のモル比および
０−６０℃、好適には５−４０℃、そしてより好適には
１０−３５℃、の温度における縮合による式（II）に相
当する化合物の製造方法に関するものであり、ここでＨ
2ＳＯ4の濃度は９０重量％−１００重量％の間、好適に
は９６重量％−９８重量％の間、でありそして反応時間
は２時間−８時間の間である。
化合物とパラホルムアルデヒドまたは１,３,５−トリオ
キサンとの２.０：１.０−２.０：１.５のモル比および
０−６０℃、好適には５−４０℃、そしてより好適には
１０−３５℃、の温度における縮合による式（II）に相
当する化合物の製造方法に関するものであり、ここでＨ
2ＳＯ4の濃度は９０重量％−１００重量％の間、好適に
は９６重量％−９８重量％の間、でありそして反応時間
は２時間−８時間の間である。
【００２１】Ｈ2ＳＯ4の使用量はできるだけ少なく保た
れており、１０：１−２：１のそして好適には５：１−
２：１のＨ2ＳＯ4対化合物（Ｉ）の重量比が使用され
る。
れており、１０：１−２：１のそして好適には５：１−
２：１のＨ2ＳＯ4対化合物（Ｉ）の重量比が使用され
る。
【００２２】本発明に従う反応は発熱性でありそしてそ
れ以上の加熱を必要としない。
れ以上の加熱を必要としない。
【００２３】本発明に従う方法を実施するためには、化
合物（Ｉ）を冷却しながら濃硫酸中に１.０：２.０−１
０.０の重量比で溶解させ、その後、（１モルのベンゾ
トリアゾールを基にして）０.５−０.７５モル量のパラ
ホルムアルデヒドまたはトリオキサンを加え、そして温
度を冷却により０−６０℃の間に、好適には５−４０℃
の間に、より好適には１０℃−３５℃の間に、保つ。発
熱反応が弱まった後に、反応生成物を一般的方法で、す
なわち水を用いる沈殿、洗浄および乾燥により、処理す
ることができる。好適な処理方法は、反応媒体と反応し
ない有機溶媒（クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ク
ロロホルム、塩化メチレン、脂肪族炭化水素類など）を
加えることを含んでいる。次に水の添加により反応生成
物を硫酸から有機溶媒に移す。相分離および洗浄後に、
それを直ちに有機溶媒から再結晶化させることができ
る。
合物（Ｉ）を冷却しながら濃硫酸中に１.０：２.０−１
０.０の重量比で溶解させ、その後、（１モルのベンゾ
トリアゾールを基にして）０.５−０.７５モル量のパラ
ホルムアルデヒドまたはトリオキサンを加え、そして温
度を冷却により０−６０℃の間に、好適には５−４０℃
の間に、より好適には１０℃−３５℃の間に、保つ。発
熱反応が弱まった後に、反応生成物を一般的方法で、す
なわち水を用いる沈殿、洗浄および乾燥により、処理す
ることができる。好適な処理方法は、反応媒体と反応し
ない有機溶媒（クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ク
ロロホルム、塩化メチレン、脂肪族炭化水素類など）を
加えることを含んでいる。次に水の添加により反応生成
物を硫酸から有機溶媒に移す。相分離および洗浄後に、
それを直ちに有機溶媒から再結晶化させることができ
る。
【００２４】
実施例１
【００２５】
【化７】
【００２６】の製造：９６９ｇの２−ヒドロキシ−５−
ジ−ターシャリー−オクチルフェニル−２Ｈ−ベンズト
リアゾールを２５−３０℃に冷却しながら１,８５０ｇ
の９６％硫酸中に溶解させた。次に４５ｇのパラホルム
アルデヒドを１時間にわたり加え、そして反応混合物の
温度を冷却により３０℃に保った。次に反応混合物を同
じ温度で５時間撹拌し、その後に１リットルのクロロベ
ンゼンを加えた。次に３リットルの水を冷却しながら自
然に流入させた。水を用いて９０℃で繰り返し洗浄した
後に、生成物を約１０℃で結晶化させた。メタノールか
らの再結晶化により、９２７ｇのビス−〔２−ヒドロキ
シ−３(２Ｈ)−ベンズトリアゾール−５−ジ−ターシャ
リー−オクチルフェニル〕−メタン（Ｖ）が１９５−１
９８℃で融解する白色粉末の形状で得られた。
ジ−ターシャリー−オクチルフェニル−２Ｈ−ベンズト
リアゾールを２５−３０℃に冷却しながら１,８５０ｇ
の９６％硫酸中に溶解させた。次に４５ｇのパラホルム
アルデヒドを１時間にわたり加え、そして反応混合物の
温度を冷却により３０℃に保った。次に反応混合物を同
じ温度で５時間撹拌し、その後に１リットルのクロロベ
ンゼンを加えた。次に３リットルの水を冷却しながら自
然に流入させた。水を用いて９０℃で繰り返し洗浄した
後に、生成物を約１０℃で結晶化させた。メタノールか
らの再結晶化により、９２７ｇのビス−〔２−ヒドロキ
シ−３(２Ｈ)−ベンズトリアゾール−５−ジ−ターシャ
リー−オクチルフェニル〕−メタン（Ｖ）が１９５−１
９８℃で融解する白色粉末の形状で得られた。
【００２７】実施例２
【００２８】
【化８】
【００２９】２８１ｇの２−ヒドロキシ−５−(１,１−
ジメチルプロピル)−２Ｈ−ベンズトリアゾールを５０
０ｇの９６％硫酸中に溶解させ、そして生成した溶液を
実施例１中と同じ方法で１５ｇのパラホルムアルデヒド
と反応させた。３０℃における６時間の反応時間後に、
最初に３００ｍｌのクロロベンゼンをそして次に６００
ｍｌのＨ2Ｏを加えた。９０℃において繰り返し洗浄し
た後に、生成物を放置して結晶化させた。２６６ｇのビ
ス−〔２−ヒドロキシ−３(２Ｈ)−ベンズトリアゾール
−５−ジ−ターシャリー−ペンチルフェニル〕−メタン
（VI）が２０１−２１４℃で融解する無色粉末の形状で
得られた。
ジメチルプロピル)−２Ｈ−ベンズトリアゾールを５０
０ｇの９６％硫酸中に溶解させ、そして生成した溶液を
実施例１中と同じ方法で１５ｇのパラホルムアルデヒド
と反応させた。３０℃における６時間の反応時間後に、
最初に３００ｍｌのクロロベンゼンをそして次に６００
ｍｌのＨ2Ｏを加えた。９０℃において繰り返し洗浄し
た後に、生成物を放置して結晶化させた。２６６ｇのビ
ス−〔２−ヒドロキシ−３(２Ｈ)−ベンズトリアゾール
−５−ジ−ターシャリー−ペンチルフェニル〕−メタン
（VI）が２０１−２１４℃で融解する無色粉末の形状で
得られた。
【００３０】実施例３
【００３１】
【化９】
【００３２】３２８ｇの２−ヒドロキシ−５−クミル−
２Ｈ−ベンズトリアゾールを６００ｇの９６％硫酸中に
実施例１中と同じ方法で溶解させそして１５ｇのパラホ
ルムアルデヒドと反応させた。３０℃における６時間の
反応時間後に、最初に３００ｍｌのクロロベンゼンをそ
して次に６００ｍｌのＨ2Ｏを加えた。９０℃において
繰り返し洗浄した後に、生成物を放置して結晶化させ
た。３２５ｇのビス−〔２−ヒドロキシ−３(２Ｈ)−ベ
ンズトリアゾール−５−クミルフェニル〕−メタン（VI
I）が２５５−２６０℃で融解する無色粉末の形状で得
られた。
２Ｈ−ベンズトリアゾールを６００ｇの９６％硫酸中に
実施例１中と同じ方法で溶解させそして１５ｇのパラホ
ルムアルデヒドと反応させた。３０℃における６時間の
反応時間後に、最初に３００ｍｌのクロロベンゼンをそ
して次に６００ｍｌのＨ2Ｏを加えた。９０℃において
繰り返し洗浄した後に、生成物を放置して結晶化させ
た。３２５ｇのビス−〔２−ヒドロキシ−３(２Ｈ)−ベ
ンズトリアゾール−５−クミルフェニル〕−メタン（VI
I）が２５５−２６０℃で融解する無色粉末の形状で得
られた。
Claims (3)
- 【請求項１】 ２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンズ
トリアゾール類（Ｉ）をパラホルムアルデヒドまたは
１,３,５−トリオキサンと濃硫酸中で均質溶液中で２.
０：１.０−２.０：１.５のベンズトリアゾール（Ｉ）
対アルデヒド供与体のモル比で０−６０℃の温度におい
て反応させることを特徴とする、式（II）に相当するビ
ス−〔２−ヒドロキシフェニル−３(２Ｈ)−ベンズトリ
アゾール〕−メタンの誘導体類の製造方法： 【化１】 〔式（Ｉ）および（II）中の置換基Ｒ1およびＲ2は下記
の意味を有する：Ｒ1＝Ｃ1-6アルキルまたはＣ6-10アリ
ールであり、 Ｒ2＝水素またはハロゲンである〕。 - 【請求項２】 反応が５−４０℃の温度において行なわ
れることを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 反応が１０−３５℃の温度において行な
われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4118545.5 | 1991-06-06 | ||
| DE19914118545 DE4118545C2 (de) | 1991-06-06 | 1991-06-06 | Verfahren zur Herstellung von Derivaten des Bis-[2-hydroxy-phenyl-3(2H)-benztriazol]methans |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05213908A true JPH05213908A (ja) | 1993-08-24 |
| JP2703459B2 JP2703459B2 (ja) | 1998-01-26 |
Family
ID=6433291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4165325A Expired - Fee Related JP2703459B2 (ja) | 1991-06-06 | 1992-06-01 | ビス−［２−ヒドロキシフエニル−３（２ｈ）−ベンズトリアゾール］−メタンの誘導体類の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2703459B2 (ja) |
| CH (1) | CH683523A5 (ja) |
| DE (1) | DE4118545C2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0822188A1 (en) * | 1996-07-31 | 1998-02-04 | Johoku Chemical Co., Ltd. | Process for preparing bis (2-hydroxyphenyl-3-benzotriazole) methanes |
| JP2009188105A (ja) * | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 太陽電池裏面保護膜用フィルム |
| JP2011006370A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Toei Corp | メチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61115073A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | Adeka Argus Chem Co Ltd | ２，２’−メチレンビス（４−置換−６−ベンゾトリアゾリルフェノ−ル）の製造方法 |
-
1991
- 1991-06-06 DE DE19914118545 patent/DE4118545C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-05-19 CH CH159392A patent/CH683523A5/de not_active IP Right Cessation
- 1992-06-01 JP JP4165325A patent/JP2703459B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4118545C2 (de) | 1994-12-08 |
| CH683523A5 (de) | 1994-03-31 |
| DE4118545A1 (de) | 1992-12-10 |
| JP2703459B2 (ja) | 1998-01-26 |
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