JPH09185163A - 水溶性感光性樹脂組成物およびこれを用いたブラックマトリックスパターンの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特にカラーブラウン管などのブラックマトリ
ックスの製造に用いられるホトレジストとして、高感度
で、短い露光時間、少ない露光量で効率よく光硬化パタ
ーンを形成することができるとともに、ガラス基板との
密着性に優れ、薄膜でもパターン形成が可能であり、容
易に剥離可能な水溶性感光性樹脂組成物、およびこれを
用いたブラックマトリックスパターンの形成方法を提供
する。 【解決手段】 特定の構成単位を有する高分子化合物
と、直鎖に１，２−グリコール結合を有する水溶性ポリ
マーとを含有させて、水溶性感光性樹脂組成物とする。
そして、この水溶性感光性樹脂組成物を用いて光硬化パ
ターンを形成した後、光吸収性物質を全面に塗布、乾燥
後、前記光硬化パターンとその上の光吸収性物質を剥離
除去することによりブラックマトリックスパターンを形
成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特にカラーディス
プレイ管、カラーブラウン管、その他種々のＣＲＴの蛍
光面などに用いられるブラックマトリックスの製造に有
用な水溶性感光性樹脂組成物およびこれを用いたブラッ
クマトリックスパターンの形成方法に係り、さらに詳し
くは、高感度で、かつガラス基板との密着性に優れ、薄
膜でのパターン形成が可能であるとともに、容易に剥離
可能な水溶性感光性樹脂組成物、およびこれを用いたブ
ラックマトリックスパターンの形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラーディスプレイ管またはカラーテレ
ビ等のカラーブラウン管の蛍光面に用いられるブラック
マトリックスは、通常、ガラスパネル内面に光吸収性物
質（例えば黒鉛など）からなるブラックマトリックスが
所定パターンにて形成され、このパターン部以外の部分
は多数の小さなホール（ブラックマトリックスホール）
あるいはストライプ（ブラックストライプ）をなす。そ
してこのブラックマトリックスホールあるいはストライ
プ内に通常、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３
原色蛍光体を充填して３原色蛍光体ドット（パターン）
を形成し、画像形成時には、電子銃から電子ビームを発
射し、このビームをシャドウマスクに形成された多数の
透孔を通過させ、上記蛍光体ドットを選択的に刺激する
ことにより発光させ、パネル上にカラー画像を形成する
ようになっている。

【０００３】このようなシャドウマスク型カラーブラウ
ン管においては、ガラスパネル内面に形成された各蛍光
体ドットとシャドウマスクの透孔（電子ビーム通過孔）
の位置対応関係がずれると、電子ビームが目的とする蛍
光体に射突しなかったり、あるいは他の蛍光体に射突し
たりして、色再現性が低下してしまう。したがって、ブ
ラックマトリックスのパターン形成においては、上記シ
ャドウマスクの透孔と正確に対応する位置関係を保って
ブラックマトリックスホールあるいはストライプ部分が
ガラスパネル内面に形成される必要がある。そのため、
一般に、ブラックマトリックスパターンを形成する際に
用いる露光用マスクは、カラーブラウン管に用いられる
シャドウマスクそのものが用いられる。通常、このよう
なブラックマトリックスパターン形成においては、ま
ず、パネル内面に水溶性感光性樹脂組成物を塗布してホ
トレジスト層を形成し、シャドウマスクを介して上記ホ
トレジスト層の露光部分を光硬化させ、現像して非露光
部分を除去して光硬化パターンを形成した後、該光硬化
パターン上および露出基板上に全面に亘って光吸収性物
質を塗布、乾燥して黒色膜を形成する。次いで上記光硬
化パターンを剥離除去するとともに、該光硬化パターン
上の黒色膜も剥離除去して、シャドウマスクの透孔に対
応する位置にマトリックスホールあるいはストライプの
形成されたブラックマトリックスパターンを形成する。
そして、該マトリックスホールあるいはストライプ内
に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３原色蛍光
体のいずれかをそれぞれ充填して３原色蛍光体パターン
を形成することによって、蛍光面を作製している。

【０００４】かかるブラックマトリックスパターン形成
に用いられる水溶性感光性樹脂組成物としては、従来よ
り、ポリビニルアルコール−重クロム酸塩系のもの、あ
るいは水溶性ポリマー−水溶性ビスアジド化合物系のも
のなどが使用されている。

【０００５】しかしながら、ポリビニルアルコール−重
クロム酸塩系のものでは、感度変化が経時的に増大し、
また解像性が悪く、さらに、露光停止後に暗反応による
架橋領域の増大を引き起こすという問題点がある。その
ため、３原色蛍光体パターンを順次形成するために３回
露光、現像、充填を行うと、ホトレジスト層に照射され
る光にパターン間どうしでの重複が生じ、本来ならば分
離されなければならないはずの隣接する他の色の蛍光体
パターンが連なってしまう、いわゆるドッキングと呼ば
れる現象が生じやすいという不具合がある。このような
不具合は、特に、マスクをホトレジスト層に接触させず
離隔させて露光を行うギャップ露光において大きな問題
となっていた。

【０００６】このドッキング現象を回避するために、例
えば特開昭４８−７９９７０号公報では、水溶性ポリマ
ー−水溶性ビスアジド化合物系水溶性感光性樹脂組成物
の水溶性ポリマーとしてポリビニルピロリドンを用いた
方法が開示されている。すなわち、ポリビニルピロリド
ンを用いた場合、光照射積算値がある一定値以下のと
き、それによって生じる架橋がほとんど進行しないとい
う特性（「相反則不軌特性」）をもつため、ホトレジス
ト層の架橋度のプロフィルは、ビーム通過孔の中心に比
較的近い場所では傾斜が急であって、中心から離れるに
したがって架橋度が著しく低下する。そのためビーム通
過孔の外縁部付近における架橋度は、ドットを形成する
に必要な最低架橋度に達せず、生ずるドットの直径はビ
ーム通過孔の直径より小さくなり、ドッキングが生じな
い、というものである。しかしながらこの特開昭４８−
７９９７０号公報に開示されているような水溶性ポリマ
ー−水溶性ビスアジド化合物系のものは、解像性は優れ
るものの感度が低く、さらにガラス基板との密着性が悪
いため、水溶性のシランカップリング剤などの密着性向
上剤をある一定量以上添加しなければならず、また、ホ
トレジスト層をある膜厚以上に形成しないと現像時にパ
ターン流出が起こってしまうためホトレジスト層を薄膜
化することができないという製造効率および製造コスト
面での問題がある。さらに剥離時にホトレジスト層が完
全に除去されずに剥離残りが生じ、そのため次工程の蛍
光体形成において、蛍光体がこの剥離残りに付着し、混
色の原因となる等の問題がある。

【０００７】このほかに、パターン形状および解像性に
優れたものとして、水溶性ポリマーに感光基を導入した
系のものも提案されているが、これは感度および安定性
において問題があり、実用化に至っていない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる事情に
鑑みてなされたものであり、その課題は、特にカラーブ
ラウン管などのブラックマトリックスの製造に用いられ
るホトレジストとして、高感度で、短い露光時間、少な
い露光量で効率よく光硬化パターンを形成することがで
きるとともに、ガラス基板との密着性に優れ、薄膜でも
パターン形成が可能であり、容易に剥離可能な水溶性感
光性樹脂組成物、およびこれを用いたブラックマトリッ
クスパターンの形成方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために鋭意研究を重ねた結果、水溶性ポリマーと
して直鎖に１，２−グリコール結合を有するものを用
い、かつ感光性成分として特定の構成単位を有する高分
子化合物を用いて水溶性感光性樹脂組成物とすることに
より上記課題を解決することができるという知見を得、
これに基づいて本発明を完成させるに至った。

【００１０】すなわち本発明は、下記の一般式（Ｉ）お
よび（ＩＩ）

【００１１】

【化４】 （式中、ＲはＨまたはＣＨ₃ を表す）

【００１２】

【化５】 （式中、ＸはＮａ、ＫまたはＮＨ₄ を表す）で表される
構成単位を有する高分子化合物と、直鎖に１，２−グリ
コール結合を有する水溶性ポリマーとを含有してなる水
溶性感光性樹脂組成物を提供するものである。

【００１３】また本発明は、基板上に上記水溶性感光性
樹脂組成物を用いて光硬化パターンを形成した後、光吸
収性物質を全面に塗布、乾燥後、前記光硬化パターンと
その上の光吸収性物質を剥離除去することによりブラッ
クマトリックスパターンを形成するブラックマトリック
スパターンの形成方法を提供するものである。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳述する。

【００１５】（Ａ）成分としての高分子化合物（ホトポ
リマー）は、上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）（式中、Ｒ、
Ｘは上記で定義したとおり）で表される構成単位を有
し、例えば、ジアセトンアクリルアミドとモルホリノ基
を有するビニル単量体、好ましくは（メタ）アクリロイ
ルモルホリンとを公知の方法で共重合させて得られる水
溶性ポリマー（ベースポリマー）に、アジド化合物、好
ましくは４−アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸
およびその塩類から選ばれる少なくとも１種をアルドー
ル縮合反応により導入することによって得ることができ
る。

【００１６】上記水溶性ポリマーは、ジアセトンアクリ
ルアミドと（メタ）アクリロイルモルホリンのみからな
るコポリマーが最も好ましいが、必要に応じて他のモノ
マーを含有することを妨げない。他のモノマーとして
は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ジメチルアクリ
ルアミド、ジエチルアクリルアミド、ビニルイミダゾー
ル、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、Ｎ−ビニル
−２−ピロリドン等を挙げることができる。また、共重
合した後、加水分解反応させることによってアルコール
性水酸基を生じる酢酸ビニルも、上記他のモノマーに包
含される。これらは単独で用いてもよく、あるいは２種
以上を組み合わせて用いてもよい。また、これら他のモ
ノマーを含有させる場合、本願発明の効果を損なわない
範囲で用いることが必要であり、これら他のモノマーの
占める割合は高分子化合物（ホトポリマー）に対し１０
モル％未満であることが望ましい。

【００１７】上記ジアセトンアクリルアミドと（メタ）
アクリロイルモルホリンとの共重合反応割合は、ジアセ
トンアクリルアミド１モルに対し、（メタ）アクリロイ
ルモルホリン２〜６モルが好ましく、より好ましくは３
〜５モルである。（メタ）アクリロイルモルホリンの割
合が６モルを超えると感光性が低下するおそれがあり、
一方、２モル未満では溶解性および相反則不軌特性が悪
くなるおそれがあり、好ましくないからである。

【００１８】このようにして得られる水溶性ポリマー
は、重量平均分子量が１０×１０⁴ 〜５０×１０⁴ であ
るのが好ましく、より好ましくは１５×１０⁴ 〜４０×
１０⁴である。

【００１９】この水溶性ポリマーに、４−アジドベンズ
アルデヒド−２−スルホン酸またはその水溶性塩類の少
なくとも１種をアルドール縮合反応により導入するが、
その導入量は、感光特性の点からジアセトンアクリルア
ミド１００モル％に対し５０〜１００モル％が好まし
く、特に好ましくは８０〜１００モル％である。これは
ジアセトンアクリルアミドと（メタ）アクリロイルモル
ホリンとの共重合体に対するアジド基の付加割合（アジ
ド付加率）を示し、例えばアジド付加率が１００％の場
合、高分子化合物（Ａ）中には上記一般式（Ｉ）および
（ＩＩ）で表される構成単位が含有され、アジド付加率
が１００％に満たない場合は、その分さらに式（ＩＩ
Ｉ）

【００２０】

【化６】 で表される構成単位が含有されることとなる。

【００２１】このようにして上記一般式（Ｉ）および
（ＩＩ）で表される構成単位、場合によりさらに式（Ｉ
ＩＩ）で表される構成単位を有する高分子化合物（ホト
ポリマー）を得ることができる。

【００２２】なお、上述の他のモノマーとして酢酸ビニ
ルを用いた場合、ジアセトンアクリルアミド、（メタ）
アクリロイルモルホリン、および酢酸ビニルを共重合
し、アルカリにて酢酸基を加水分解することによって水
酸基含有水溶性ポリマーを合成することができる。この
水酸基含有水溶性ポリマーは、酸性水溶液中でアルデヒ
ド類をアセタール化反応により導入することによって、
耐水性に極めて優れたパターン形成が可能な水溶性ポリ
マーとなることから、好適に用いられる。

【００２３】このようなアルデヒド類としては、例えば
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアル
デヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、クロトンアルデヒド等
の脂肪族系アルデヒド類；ベンズアルデヒド、ジアルキ
ルベンズアルデヒド、アルキルベンズアルデヒド、シン
ナミックアルデヒド等の芳香族系アルデヒド類；ピリジ
ンアルデヒド等の複素環系アルデヒド類等が挙げられ
る。これらアルデヒド類には、４−アジドベンズアルデ
ヒド−２−スルホン酸およびその塩類や、ホルミルスチ
リルピリジンおよびその４級化塩等も含まれる。これら
アルデヒド類は、単独で用いてもよく、また２種以上を
組み合わせて用いてもよい。実用上好ましく用いられる
ものはプロピオンアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、
クロトンアルデヒド等であり、中でもｎ−ブチルアルデ
ヒドが最も好適に用いられる。

【００２４】このアルデヒド類によるアセタール化反応
は、水溶性ポリマーの全水酸基の１５モル％以下をアセ
タール化することが好ましい。１５モル％を超えると安
定性に優れた水溶性ポリマーを得るのが難しいからであ
る。

【００２５】上記一般式（Ｉ）および（ＩＩ）、場合に
よりさらに式（ＩＩＩ）で表される構成単位を有する高
分子化合物（ホトポリマー）は高感度であり、１０ｍＪ
／ｃｍ² の光量で露光した場合、グレースケール法（Ｋ
ｏｄａｋ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｓｔｅｐ Ｔａ
ｂｌｅｔ Ｎｏ．２を使用）で１３〜２０ステップを感
光することができる。なお、ホトポリマー中の水溶性モ
ノマー単位の割合、アジド化合物の導入量を適宜選択す
ることにより２０ステップ以上の高感度化も可能である
が、一般に２０ステップを超えると感度が高すぎるため
感光性組成物の保存安定性が悪くなり、取扱いが難しい
という問題が生じ、好ましくない。

【００２６】（Ｂ）成分としての水溶性ポリマーは、直
鎖に１，２−グリコール結合を有するが、これらと相容
性をもち得る水溶性高分子物質の少なくとも１種をさら
に配合した混合物等も含み得る。

【００２７】直鎖に１，２−グリコール結合を有する水
溶性ポリマーとしては、少なくともポリマー直鎖に１〜
８モル％の１，２−グリコール結合を有する構成単位を
含有していることが好ましい。これは、１モル％未満で
は本願で用いる剥離剤に対する溶解剥離性が十分に得ら
れない傾向があり、また、８モル％程度の含有量であれ
ば良好な剥離性を示すため、それより過剰に含有させる
必要は特にないためである。ここで「１，２−グリコー
ル結合を有する構成単位」とは、具体的には下記の化７

【００２８】

【化７】 で表される構成単位をいう。

【００２９】直鎖に１，２−グリコール結合を有する水
溶性ポリマーとして例えば、ポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）を挙げることができる。この場合、ＰＶＡは水溶
性を示せばよく、部分ケン化物でも完全ケン化物でも用
いることができる。また、ジアセトンアクリルアミド、
アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン
などにより変性させたものや側鎖にシリコン含有基を付
加させたものなど各種の変性ＰＶＡをも挙げることがで
き、これらは単独でも２種以上を組み合せて使用しても
よい。

【００３０】中でも、重合度が３００〜３０００、特に
は５００〜２５００、ケン化度が７０〜９５モル％、特
には７５〜８８モル％のＰＶＡが好ましい。これは、重
合度が３００未満では感度が著しく低下する傾向にあ
り、一方、重合度が３０００を超えると塗布液の粘性が
高くなり、ホトレジスト膜厚のコントロールが難しくな
る傾向にあるためである。また、ケン化度が９５モル％
を超えると解像力が悪くなる傾向にあり、一方、７０モ
ル％未満では塗布性が悪化し、ホトレジスト膜を均一に
形成するのが困難になる。

【００３１】また、上記の相容性をもち得る水溶性高分
子物質としては、例えばカルボキシメチルセルロース、
ヒドロキシメチルセルロース、ポリ−Ｌ−グルタミン酸
のナトリウム塩、ゼラチン、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルメチルエーテル、ポリビニルアセタール、ポリエ
チレンオキシド等の単独重合体、あるいはアクリルアミ
ド−ジアセトンアクリルアミド共重合体、アクリルアミ
ド−ビニルアルコール共重合体、マレイン酸−ビニルメ
チルエーテル共重合体等の共重合体を用いることができ
る。

【００３２】本発明においては、上記必須構成成分の他
に、必要に応じて相容性のある各種添加剤、例えば着色
剤、可塑剤、界面活性剤、基板との密着性をさらに高め
るためのカップリング剤等を適宜、添加、配合させるこ
とができる。

【００３３】本発明の水溶性感光性樹脂組成物におい
て、（Ｂ）水溶性ポリマーに対する（Ａ）高分子化合物
（ホトポリマー）の配合割合は０．０１〜０．５０（重
量比）が好ましく、特には０．０５〜０．２５が好まし
い。この配合割合が０．５０を超えると感度が高過ぎる
ことにより露光のコントロールが困難となり、一方、
０．０１未満では感度不足で実用性がなくなる。

【００３４】次に、本発明に係るブラックマトリックス
パターンの形成方法について説明する。

【００３５】本発明のパターン形成方法によれば、上記
水溶性感光性樹脂組成物を用いて光硬化パターンを形成
した後、光吸収性物質を全面に塗布、乾燥後、前記光硬
化パターンとその上の光吸収性物質を剥離除去すること
によって、ブラックマトリックスパターンが形成され
る。

【００３６】まず、上記水溶性感光性樹脂組成物を、例
えば１〜１２重量％程度となるよう水に溶かしたものを
塗布液として用い、これをガラス基板上に塗布する。本
発明の水溶性感光性樹脂組成物は光架橋効率が高いた
め、ホトレジスト層膜厚が０．１〜０．５μｍ程度の薄
膜となるよう塗布量を少なくしても、露光後、現像時に
パターンくずれやパターン流れを起こすことなく光硬化
パターンの形成が可能となる。したがって製造コストの
低減化を図ることができる。なお、膜厚の制御は、例え
ばスピンナー塗布法を利用した場合、回転数を種々変え
ることにより行い得る。

【００３７】次いで、この水溶性感光性樹脂組成物を塗
布、乾燥して得られたホトレジスト層にシャドウマスク
を介して露光する。露光は、紫外線、特に波長３００〜
４００ｎｍ付近の光を出力するＵＶランプが好適に用い
られ、その露光量は水溶性感光性樹脂組成物の組成に応
じて若干異なるが、１〜１０ｍＪ／ｃｍ² 程度が好まし
い。本発明の上記水溶性感光性樹脂組成物を用いること
により、ギャップ露光において、相反則不軌特性を示す
良好な光硬化パターンを得ることができる。その理由は
明確ではないものの、おおよそ以下のようであろうと考
えられている。

【００３８】すなわち、ホトレジスト層の光硬化反応
は、該ホトレジスト層中に含まれるアジド基が露光によ
って励起してナイトレンを発生し、このナイトレンどう
し、あるいはナイトレンとポリマーが反応して架橋し、
光硬化を起こすとされている。しかしながらこのナイト
レンは、酸素や水の存在下においては、上記架橋反応と
酸素や水との非架橋反応とが共存し、その結果、架橋反
応が抑制される。モルホリノ基を含有してなるポリマー
は酸素透過性に優れるので、ギャップ露光においては、
空気中の酸素が効率よくホトレジスト層中に取り込ま
れ、ホトレジスト層中のナイトレンと反応して上記架橋
反応を抑制するため、高照度のビーム通過孔中心部分対
応箇所に対しては光硬化反応を起こす一方、低照度のビ
ーム通過孔周縁部分対応箇所では光硬化反応が抑制さ
れ、その結果、シャドウマスクの透孔（ビーム通過孔）
よりも小さいドットの光硬化パターンが得られる。その
ため、従来例のようなドッキング現象が生じることがな
い。しかし、その分、ホトレジスト層全体の感度も低下
するため、所望のドット径を得るためには照度を高くす
る必要があるが、本発明の上記一般式（Ｉ）および（Ｉ
Ｉ）で表される構成単位を有する高分子物質は、高感度
であるため、低照度条件下においても効率よく架橋反応
が進行する。また、従来は相反則不軌特性を示す水溶性
ポリマーと感光性化合物（アジド化合物）または感光性
ポリマー（アジドペンダントポリマー）とを混合してな
る感光性樹脂組成物が提案されていたが（特開平６−５
１５０９号公報、特開平７−７２６２０号公報）、これ
らはホトレジスト層表面が十分に光硬化しない傾向にあ
り、現像時に膜減りを生じるといった問題があり、また
剥離性が劣る傾向にあった。これに対し、本願発明の感
光性樹脂組成物は非常に高感度であり、特に膜減りの抑
制、剥離性に大変優れる。なお、本発明の水溶性感光性
樹脂組成物をコンタクト露光（マスクをホトレジスト層
に接触させて行う露光）に用いた場合に、マスクパター
ンに忠実な光硬化パターンを形成できることはいうまで
もない。

【００３９】次いで現像を行い、未露光部分を除去し、
ガラス基板上に光硬化パターンを形成する。現像は公知
の方法により行い得る。本発明では、薄膜でのホトレジ
スト層形成であっても、現像時のパターンくずれやパタ
ーン流れ等が起こらず、良好な光硬化パターンが得られ
る。

【００４０】次いでこれを乾燥し、光吸収性物質含有液
を光硬化パターン上並びに露出基板上の全面に亘って塗
布して再び乾燥した後、前記光硬化パターンを剥離除去
するとともに、該光硬化パターン上に被着された光吸収
性物質も剥離除去することにより、ブラックマトリック
スパターンを形成する。光吸収性物質としては、特に限
定はなく、一般に使用される黒鉛が好適に用いられる。
上述の剥離除去は通常の剥離剤等を用いて行うことがで
きる。剥離剤としては、例えば次亜塩素酸、次亜塩素酸
ナトリウム等の次亜塩素酸塩、過酸化水素、ペルオキソ
硫酸、ペルオキソ硫酸カリウム等のペルオキソ硫酸塩、
過ヨウ素酸、過ヨウ素酸カリウム等の過ヨウ素酸塩のほ
か、過マンガン酸系、過塩素酸系等の酸性水溶液が用い
られる。本発明の水溶性感光性樹脂組成物はこれら一般
的に知られている剥離剤を用いて容易に剥離を行うこと
ができるが、特に過ヨウ素酸およびその水溶性塩類を含
む水溶液が溶解剥離性に優れるとともに、取り扱い性、
長期保存性にも優れ、好ましい。なお、上記水溶性塩類
としては、具体的には、ナトリウム塩、カリウム塩、ア
ンモニウム塩等が挙げられる。

【００４１】このようにして得られたブラックマトリッ
クスをカラーブラウン管に用いるときには、所要のブラ
ックマトリックスホールあるいはストライプ部分に赤、
青、緑の３原色蛍光体を充填し、このパネルを電子銃か
らの電子ビームをシャドウマスクの透孔を通過させて所
望の蛍光体に照射し、カラー画像を得る。本発明の水溶
性感光性樹脂組成物およびブラックマトリックスパター
ンの形成方法の適用により、高コントラストで高鮮明な
カラー画像を得ることができる。

【００４２】

【実施例】以下に本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれによってなんら限定されるものではない。

【００４３】Ｉ．水溶性感光性樹脂組成物の製造 ［製造実施例１］１−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ａ溶液の合
成 アクリロイルモルホリン２８９ｇ、ジアセトンアクリル
アミド１３１ｇ、純水６．５ｋｇをフラスコに仕込み、
窒素ガスでバブリングしながら加熱した。

【００４４】温度が７０℃になったところで窒素ガスの
流加を止め、重合開始剤として２，２’−アゾビス［２
−（２’−イミダゾリン−２−イル）プロパン］二塩基
酸（「ＶＡ−０４４」；和光純薬（株）製）２０ｇを添
加したところ、反応溶液は８０℃まで昇温し、この温度
を維持しながら３時間反応を行った。その後室温（２５
℃）まで冷却し、次いで８０℃まで加熱して、ポリマー
を析出させた。このポリマーをデカンテーションにより
分離し、ここへ純水を加えて希釈し、固形分５重量％の
水溶性ポリマー（ベースポリマー）ａ溶液７．５ｋｇを
得た。分析の結果、この水溶性ポリマーａ溶液中のポリ
マーの平均分子量は２７×１０⁴ （ＤＭＦ法、ポリスチ
レン基準）であり、ジアセトンアクリルアミドの含有量
は２５モル％であった。

【００４５】１−２．ホトポリマーａ’溶液の合成 上記ベースポリマーａ溶液１００ｇに４−アジドベンズ
アルデヒド−２−スルホン酸ナトリウム２．２ｇを溶解
添加し、次いで１２％水酸化ナトリウム水溶液２ｍｌを
添加し、室温（２５℃）にて６時間反応を行った。その
後、希塩酸にて中和し、さらに純水で希釈し、固形分７
重量％のホトポリマーａ’溶液を得た。

【００４６】このホトポリマーａ’溶液を、砂目立てし
たアルミニウム板上に回転塗布、乾燥し、膜厚０．５μ
ｍの乾燥被膜を形成した。これをグレースケール法にて
感度を測定した。すなわち、上記被膜上にグレースケー
ル（Ｋｏｄａｋ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｓｔｅｐ
Ｔａｂｌｅｔ Ｎｏ．２）を密着させ、超高圧水銀灯
にて１０ｍＪ／ｃｍ² の紫外線量で露光し、次いで純水
のかけ流しによる現像を行った。メチルバイオレット水
溶液で染色後、水洗、乾燥したところ、１６ステップま
でが光硬化し、良好な感度のホトポリマーであることが
わかった。

【００４７】１−３．試料Ａの調製 ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）粉末（重合度２４０
０、ケン化度８８モル％、１，２−グリコール結合の含
有量３モル％）７ｇを純水１００ｇに溶解した。これに
上記ホトポリマーａ’溶液１０ｇを添加溶解し、ホトポ
リマーａ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ａを調
製した。

【００４８】［製造実施例２］２−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｂ溶液の合
成 アクリロイルモルホリンとジアセトンアクリルアミドの
仕込量を代えた以外は、製造実施例１−１と同様にし
て、平均分子量２４×１０⁴ 、ジアセトンアクリルアミ
ドの含有量１６．７モル％の水溶性ポリマーｂ溶液を得
た。

【００４９】２−２．ホトポリマーｂ’溶液の合成 ベースポリマーａ溶液の代わりにベースポリマーｂ溶液
を用いた以外は、製造実施例１−２と同様にして、４−
アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウムの
付加率が９０％、固形分７重量％のホトポリマーｂ’溶
液を得た。

【００５０】２−３．試料Ｂの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｂ’溶液
を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホト
ポリマーｂ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ｂを
調製した。

【００５１】［製造実施例３］３−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｃ溶液の合
成 アクリロイルモルホリンとジアセトンアクリルアミドの
仕込量を代えた以外は、製造実施例１−１と同様にし
て、平均分子量１８×１０⁴ 、ジアセトンアクリルアミ
ドの含有量３３．３モル％の水溶性ポリマーｃ溶液を得
た。

【００５２】３−２．ホトポリマーｃ’溶液の合成 ベースポリマーａ溶液の代わりにベースポリマーｃ溶液
を用いた以外は、製造実施例１−２と同様にして、４−
アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウムの
付加率が９０％、固形分７重量％のホトポリマーｃ’溶
液を得た。

【００５３】３−３．試料Ｃの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｃ’溶液
を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホト
ポリマーｃ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ｃを
調製した。

【００５４】［製造実施例４］４−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｄ溶液の合
成 アクリロイルモルホリンとジアセトンアクリルアミドの
仕込量を代えた以外は、製造実施例１−１と同様にし
て、平均分子量３６×１０⁴ 、ジアセトンアクリルアミ
ドの含有量１４．３モル％の水溶性ポリマーｄ溶液を得
た。

【００５５】４−２．ホトポリマーｄ’溶液の合成 ベースポリマーａ溶液の代わりにベースポリマーｄ溶液
を用いた以外は、製造実施例１−２と同様にして、４−
アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウムの
付加率が９０％、固形分７重量％のホトポリマーｄ’溶
液を得た。

【００５６】４−３．試料Ｄの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｄ’溶液
を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホト
ポリマーｄ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ｄを
調製した。

【００５７】［製造比較例１］比較試料Ｖの調製 ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）粉末（Ｋ値＝９０）７
ｇを純水１００ｇに溶解した。これに４，４’−ジアジ
ドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸二ナトリウムを
０．７ｇ添加溶解し、４，４’−ジアジドスチルベン−
２，２’−ジスルホン酸二ナトリウム／ＰＶＰ＝０．１
０（重量比）の比較試料Ｖを調製した。

【００５８】［製造実施例５］ＰＶＡ粉末（重合度２４
００、ケン化度８８モル％、１，２−グリコール結合の
含有量３モル％）７ｇを純水１００ｇに溶解した。これ
に上記製造実施例１−２で得られたホトポリマーａ’溶
液３ｇを添加溶解し、ホトポリマーａ’／ＰＶＡ＝０．
０３（重量比）の試料Ｅを調製した。

【００５９】［製造実施例６］ＰＶＡ粉末（重合度２４
００、ケン化度８８モル％、１，２−グリコール結合の
含有量３モル％）７ｇを純水１００ｇに溶解した。これ
に上記製造実施例１−２で得られたホトポリマーａ’溶
液２０ｇを添加溶解し、ホトポリマーａ’／ＰＶＡ＝
０．２０（重量比）の試料Ｆを調製した。

【００６０】［製造実施例７］ＰＶＡ粉末（重合度２４
００、ケン化度８８モル％、１，２−グリコール結合の
含有量３モル％）７ｇを純水１００ｇに溶解した。これ
に上記製造実施例１−２で得られたホトポリマーａ’溶
液４０ｇを添加溶解し、ホトポリマーａ’／ＰＶＡ＝
０．４０（重量比）の試料Ｇを調製した。

【００６１】［製造実施例８］変性ＰＶＡ（「Ｒ−１１
３０」；クラレ（株）製）７ｇを純水１００ｇに溶解し
た。これに上記製造実施例１−２で得られたホトポリマ
ーａ’溶液１０ｇを添加溶解し、ホトポリマーａ’／Ｐ
ＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ｈを調製した。

【００６２】［製造実施例９］９−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｅ溶液の合
成 アクリロイルモルホリンとジアセトンアクリルアミドの
仕込量を代えた以外は、製造実施例１−１と同様にし
て、水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｅ溶液を得た。
分析の結果、この水溶性ポリマーｅ溶液中のポリマーの
平均分子量は１５×１０⁴ （ＤＭＦ法、ポリスチレン基
準）であり、ジアセトンアクリルアミドの含有量は５０
モル％であった。

【００６３】９−２．ホトポリマーｅ’溶液の合成 ベースポリマーａ溶液の代わりにベースポリマーｅ溶液
を用いた以外は、製造実施例１−２と同様にして、４−
アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウムの
付加率が９０％、固形分７重量％のホトポリマーｅ’溶
液を得た。

【００６４】９−３．試料Ｉの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｅ’溶液
を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホト
ポリマーｅ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ｉを
調製した。

【００６５】［製造実施例１０］１０−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｆ溶液の
合成 アクリロイルモルホリンとジアセトンアクリルアミドの
仕込量を代えた以外は、製造実施例１−１と同様にし
て、水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｆ溶液を得た。
分析の結果、この水溶性ポリマーｆ溶液中の平均分子量
は３７×１０⁴ （ＤＭＦ法、ポリスチレン基準）であ
り、ジアセトンアクリルアミドの含有量は１０モル％で
あった。

【００６６】１０−２．ホトポリマーｆ’溶液の合成 ベースポリマーａ溶液の代わりにベースポリマーｆ溶液
を用いた以外は、製造実施例１−２と同様にして、４−
アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウムの
付加率が９０％、固形分７重量％のホトポリマーｆ’溶
液を得た。

【００６７】１０−３．試料Ｊの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｆ’を用
いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホトポリ
マーｆ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）試料Ｊを調製し
た。

【００６８】［製造実施例１１］１１−１．ホトポリマーｇ’溶液の合成 ４−アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウ
ムの添加量を代えた以外は、製造実施例１−２と同様に
して、４−アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナ
トリウムの付加率が３０％、固形分７重量％のホトポリ
マーｇ’溶液を得た。

【００６９】１１−２．試料Ｋの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｇ’溶液
を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホト
ポリマーｇ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ｋを
調製した。

【００７０】［製造実施例１２］１２−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｈ溶液の
合成 アクリロイルモルホリン２８４ｇ、ジアセトンアクリル
アミド１２８ｇ、ビニルイミダゾール７ｇをフラスコに
仕込み、窒素ガスでバブリングしながら加熱した。

【００７１】温度が６５℃になったところで窒素ガスの
流加を止め、重合開始剤として２，２’−アゾビス〔２
−（２’−イミダゾリン−２−イル）プロパン〕二塩基
酸（「ＶＡ−０４４」；和光純薬（株）製）２０ｇを添
加したところ、反応溶液は７５℃まで昇温し、この温度
を維持しながら３時間反応を行った。その後室温（２５
℃）まで冷却し、次いで８０℃まで加熱して、ポリマー
を析出させた。このポリマーをデカンテーションにより
分離し、ここへ純水を加えて希釈し、固形分５重量％の
水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｈ溶液７．５ｋｇを
得た。分析の結果、この水溶性ポリマーｈ溶液中のポリ
マーの平均分子量は３２×１０⁴ （ＤＭＦ法、ポリスチ
レン基準）であり、ジアセトンアクリルアミドの含有量
は２４モル％、アクリロイルモルホリンの含有量は７３
モル％であった。

【００７２】１２−２．ホトポリマーｈ’溶液の合成 ベースポリマーａ溶液の代わりにベースポリマーｈ溶液
を用いた以外は、製造実施例１−２と同様にして、４−
アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウムの
付加率が９０％、固形分７重量％のホトポリマーｈ’溶
液を得た。

【００７３】１２−３．試料Ｌの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｈ’溶液
を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホト
ポリマーｈ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の試料Ｌを
調製した。

【００７４】［製造実施例１３］ＰＶＡ粉末（重合度２
５０、ケン化度８８モル％、１，２−グリコール結合の
含有量２モル％）を用いた以外は、製造実施例１−３と
同様にして、ホトポリマーａ’／ＰＶＡ＝０．１０（重
量比）の試料Ｍを調製した。

【００７５】［製造比較例２］ＰＶＰ粉末（Ｋ値＝９
０）を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、
ホトポリマーａ’／ＰＶＰ＝０．１０（重量比）の試料
Ｗを調製した。

【００７６】［製造比較例３］３−１．水溶性ポリマー（ベースポリマー）ｉ溶液の合
成 アクリルアミド２３４ｇ、ジアセトンアクリルアミド１
８６ｇをフラスコに仕込み、窒素ガスでバブリングしな
がら加熱した。

【００７７】温度が５０℃になったところで窒素ガスの
流加を止め、重合開始剤として２，２’−アゾビス〔２
−（２’−イミダゾリン−２−イル）プロパン〕二塩基
酸（「ＶＡ−０４４」；和光純薬（株）製）４０ｇを添
加したところ、反応溶液は６５℃まで昇温し、この温度
を維持しながら４時間反応を行った。その後室温（２５
℃）まで冷却し、固形分７重量％の水溶性ポリマー（ベ
ースポリマー）ｉ溶液７ｋｇを得た。分析の結果、この
水溶性ポリマーｉ溶液中のポリマーの平均分子量は４０
×１０⁴ （ＤＭＦ法、ポリスチレン基準）であり、ジア
セトンアクリルアミドの含有量は２５モル％であった。

【００７８】３−２．ホトポリマーｉ’溶液の合成 ベースポリマーａ溶液の代わりにベースポリマーｉ溶液
を用いた以外は、製造実施例１−２と同様にして、４−
アジドベンズアルデヒド−２−スルホン酸ナトリウムの
付加率が９０％、固形分７重量％のホトポリマーｉ’溶
液を得た。

【００７９】３−３．比較試料Ｘの調製 ホトポリマーａ’溶液の代わりにホトポリマーｉ’溶液
を用いた以外は、製造実施例１−３と同様にして、ホト
ポリマーｉ’／ＰＶＡ＝０．１０（重量比）の比較試料
Ｘを調製した。

【００８０】［製造比較例４］４−１．水溶性ポリマーｊ溶液の合成 アクリロイルモルホリン２１．８ｇ、ジアセトンアクリ
ルアミド２６．２ｇ、アクリルアミド２５．９ｇおよび
イオン交換水９３０ｇをフラスコに仕込み、窒素ガスで
バブリングしながら加熱した。

【００８１】温度が５８℃になったところで窒素ガスの
流加を止め、重合開始剤として１０％２，２’−アゾビ
ス（２−アミジノプロパン）塩酸塩水溶液１０ｍｌを添
加した。その後、反応溶液を６８℃まで昇温し、この温
度を維持しながら６時間反応を行った。その後、ポリマ
ーをデカンテーションにより分離し、ここへ純水を加え
て希釈し、固形分７重量％の水溶性ポリマーｊ溶液を得
た。分析の結果、この水溶性ポリマーｊ溶液中のポリマ
ーの平均分子量は１００×１０⁵ （ＤＭＦ法、ポリスチ
レン基準）であり、ジアセトンアクリルアミドの含有量
は２３モル％、アクリロイルモルホリンの含有量は２３
モル％であった。

【００８２】４−２．比較試料Ｙの調製 上記水溶性ポリマーｊ溶液１００ｇに４，４’−ジアジ
ドスチルベン−２，２’−スルホン酸二ナトリウム塩
０．７ｇを添加溶解し、４，４’−ジアジドスチルベン
−２，２’−スルホン酸二ナトリウム塩／水溶性ポリマ
ー＝０．１０（重量比）の比較試料Ｙを得た。

【００８３】［製造比較例５］５−１．比較試料Ｚの調製 ＰＶＡ粉末（重合度２４００、ケン化度８８モル％、
１，２−グリコール結合の含有量３モル％）７ｇを純水
１００ｇに溶解した。これに４，４’−ジアジドスチル
ベン−２，２’−スルホン酸二ナトリウム塩０．７ｇを
添加溶解し、４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’
−スルホン酸二ナトリウム塩／ＰＶＡ＝０．１０（重量
比）の比較試料Ｚを調製した。

【００８４】ＩＩ．ブラックマトリックスパターンの形
成 ［実施例１］上記製造実施例１で得られた試料Ａ５０
ｇ、純水５０ｇ、シランカップリング剤（「ＫＢＭ６０
３」：信越シリコン（株）製）の１０％エタノール溶液
１ｍｌ、ノニオン系界面活性剤（「ＬＴ−２２１」；日
本油脂（株）製）の１０％水溶液１ｍｌを混合して、塗
布液を調製した。

【００８５】洗浄したガラス板（１２５φｍｍ）を基板
として用い、この基板上に上記組成からなる塗布液を回
転塗布し、５０℃にて１５分間乾燥を行い、ホトレジス
ト層（膜厚１．０μｍおよび０．２μｍ）を形成した。

【００８６】このホトレジスト層上に、ギャップ１０ｍ
ｍにて、所定のドットパターンの透孔を有するシャドウ
マスクを介して、波長３５０ｎｍ付近の光を出力する超
高圧水銀灯にて照度０．１０ｍＷ／ｃｍ² の光量で２５
秒間点光源露光を行った。

【００８７】露光後、水現象して未露光部分を除去した
後、５０℃にて１０分間熱風乾燥して光硬化パターンを
得た。

【００８８】この光硬化パターンが形成されたガラス基
板上に、該光硬化パターン上並びに露出基板上の全面に
亘って黒鉛スラリー（「ヒタゾルＧＡ−６６Ｍ」；日立
粉末冶金（株）製）の２倍希釈液（水で希釈したもの）
を１５０ｒｐｍにて回転塗布し、５０℃にて１５分間乾
燥を行った。

【００８９】次いでこれを２５℃の１％過ヨウ素酸ナト
リウム水溶液中に１分間浸漬した後、５ｋｇ／ｃｍ² 圧
の水で洗い流したところ、フリンジがなく、シャドウマ
スクの透孔と対応する位置にホールが形成されたブラッ
クマトリックスパターンを得た。このブラックマトリッ
クスホールの寸法を計測した結果（感度の評価）、ホト
レジストの剥離性の評価およびフリンジ形状の評価を表
１に示す。

【００９０】なお、表１において、感度の評価は、上記
製造比較例１で得られた比較試料Ｖを用いて２５秒間露
光後、水現像を行ったときのブラックマトリックスホー
ル寸法径（直径）を基準（１．００）とし、その相対値
で示している。

【００９１】また、剥離性およびフリンジ形状の評価は
以下のようにして行った。

【００９２】［剥離性］蛍光体スラリーを塗布し、未乾
燥のまま洗浄、除去し、乾燥した後、蛍光体発光波長域
の紫外線を放射するブラックライトでホール内の残留蛍
光体による発光の有無、および目視によるホトレジスト
層の剥離残りを調べた。 （評価） ◎： 剥離残りなし ○： ごく薄く剥離残りあり。蛍光体の付着なし △： やや濃く剥離残りあり。一部に蛍光体の付着あり ×： 完全に剥離残りあり。全体に蛍光体の付着あり。

【００９３】［フリンジ形状］マトリックスホールのザ
ラつきの程度を示す。ザラつきがなく滑らかである方が
よい。 （評価） ◎： ザラつきなし ○： 細かいザラつきがパターンの一部にみられる ×： 大きいザラつきがパターンのほぼ全体にみられ
る。

【００９４】［実施例２〜１３、比較例１〜５］試料Ａ
の代わりにそれぞれ試料Ｂ〜Ｍ、比較試料Ｖ〜Ｚを用い
た以外は、実施例１と同様にして塗布液を調製した。

【００９５】この塗布液を用いて、上記実施例１と同様
にしてブラックマトリックスのパターンを形成した。こ
のブラックマトリックスホールの寸法を計測した結果、
およびホトレジストの剥離性の評価およびフリンジの評
価を表１に示す。

【００９６】

【表１】

【００９７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の水溶性感
光性樹脂組成物は、膜減りがほとんど生じず、膜厚０．
２μｍの薄膜でも効率よく光硬化パターンを形成するこ
とができるので、材料コストの削減が期待できる。また
高感度であるため、短時間、少ない露光量でパターンを
形成することができスループットが向上する。さらに、
安価で、保存安定性、取扱い性に優れた剥離剤による剥
離性が良好で、ほとんど剥離残りを生じないため蛍光体
の付着による混色を防ぐことができる。したがって製造
コストの低減化、製造効率の向上を図ることができると
ともに、高品質な製品製造が可能となる。また、ギャッ
プ露光の場合でもドッキング現象が生ぜず、コンタクト
露光、ギャップ露光のいずれにおいても良好な光硬化パ
ターンを得ることができ、広範囲な適用が可能である。
したがって本発明の水溶性感光性樹脂組成物を用いてブ
ラックマトリックスを製造することにより、高感度で解
像度の高い、鮮明なカラー画像を得ることが可能とな
る。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/038 Ｇ０３Ｆ 7/038 7/42 7/42 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｃ Ｄ

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の一般式（Ｉ）および（ＩＩ） 【化１】 （式中、ＲはＨまたはＣＨ₃ を表す） 【化２】 （式中、ＸはＮａ、ＫまたはＮＨ₄ を表す）で表される
   構成単位を有する高分子化合物（Ａ）と、直鎖に１，２
   −グリコール結合を有する水溶性ポリマー（Ｂ）とを含
   有してなる、水溶性感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 水溶性ポリマー（Ｂ）における１，２−
   グリコール結合を有する構成単位の含有量が１〜８モル
   ％である、請求項１記載の水溶性感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 水溶性ポリマー（Ｂ）がポリビニルアル
   コールである、請求項１または２記載の水溶性感光性樹
   脂組成物。
4. 【請求項４】 ポリビニルアルコールの重合度が３００
   〜３０００である、請求項３記載の水溶性感光性樹脂組
   成物。
5. 【請求項５】 ポリビニルアルコールの重合度が５００
   〜２５００である、請求項３記載の水溶性感光性樹脂組
   成物。
6. 【請求項６】高分子化合物（Ａ）がさらに下記の式（Ｉ
   ＩＩ） 【化３】 で表される構成単位を含有してなる、請求項１〜５のい
   ずれかに記載の水溶性感光性樹脂組成物。
7. 【請求項７】 高分子化合物（Ａ）中、一般式（ＩＩ）
   で表される構成単位と式（ＩＩＩ）で表される構成単位
   との配合割合が１０：０〜５：５（モル比）である、請
   求項６記載の水溶性感光性樹脂組成物。
8. 【請求項８】 高分子化合物（Ａ）中、一般式（ＩＩ）
   で表される構成単位と式（ＩＩＩ）で表される構成単位
   との配合割合が１０：０〜８：２（モル比）である、請
   求項６記載の水溶性感光性樹脂組成物。
9. 【請求項９】 高分子化合物（Ａ）中、一般式（Ｉ
   Ｉ）、式（ＩＩＩ）で表される構成単位の総和と一般式
   （Ｉ）で表される構成単位との配合割合が１：２〜１：
   ６（モル比）である、請求項６〜８のいずれかに記載の
   水溶性感光性樹脂組成物。
10. 【請求項１０】 高分子化合物（Ａ）中、一般式（Ｉ
    Ｉ）、式（ＩＩＩ）で表される構成単位の総和と一般式
    （Ｉ）で表される構成単位との配合割合が１：３〜１：
    ５（モル比）である、請求項６〜８のいずれかに記載の
    水溶性感光性樹脂組成物。
11. 【請求項１１】 水溶性ポリマー（Ｂ）に対する高分子
    化合物（Ａ）の重量比が０．０１〜０．５０である、請
    求項１〜１０のいずれかに記載の水溶性感光性樹脂組成
    物。
12. 【請求項１２】 水溶性ポリマー（Ｂ）に対する高分子
    化合物（Ａ）の重量比が０．０５〜０．２５である、請
    求項１〜１０のいずれかに記載の水溶性感光性樹脂組成
    物。
13. 【請求項１３】 基板上に請求項１〜１２のいずれかに
    記載の水溶性感光性樹脂組成物を用いて光硬化パターン
    を形成した後、光吸収性物質を全面に塗布、乾燥後、前
    記光硬化パターンとその上の光吸収性物質を剥離除去す
    ることによりブラックマトリックスパターンを形成す
    る、ブラックマトリックスパターンの形成方法。
14. 【請求項１４】剥離剤が過ヨウ素酸またはその水溶性塩
    類の少なくとも１種を含有する水溶液である、請求項１
    ３記載のブラックマトリックスパターンの形成方法。