JPS58137834A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPS58137834A JPS58137834A JP2003682A JP2003682A JPS58137834A JP S58137834 A JPS58137834 A JP S58137834A JP 2003682 A JP2003682 A JP 2003682A JP 2003682 A JP2003682 A JP 2003682A JP S58137834 A JPS58137834 A JP S58137834A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyvinyl alcohol
- photosensitive
- modified polyvinyl
- copolymer
- photosensitive composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
- G03F7/0215—Natural gums; Proteins, e.g. gelatins; Macromolecular carbohydrates, e.g. cellulose; Polyvinyl alcohol and derivatives thereof, e.g. polyvinylacetals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は写真製版および電子部品加工等に使用される感
光性組成物に関する。
光性組成物に関する。
写真製版および電子部品加工等に用いられ感光性組成物
としてはポリビニルアルコールに感光剤として重クロム
酸塩をＳ酋したいわゆるクロム塩−ポリビニルアルコー
ル系感光性組成物が知られていｈ（３皺組成物り安価で
ありかつ得られる感光皮膜の性質が良好なこと、未感光
部の洗浄除去すなわち現像の九めの溶剤が水でよいため
取扱いが簡便で安全であること轡から広く使用されてい
る。
としてはポリビニルアルコールに感光剤として重クロム
酸塩をＳ酋したいわゆるクロム塩−ポリビニルアルコー
ル系感光性組成物が知られていｈ（３皺組成物り安価で
ありかつ得られる感光皮膜の性質が良好なこと、未感光
部の洗浄除去すなわち現像の九めの溶剤が水でよいため
取扱いが簡便で安全であること轡から広く使用されてい
る。
しかしながら鉄組成物は有害物質の六価クロムを含有す
るので、この有害物質を含まない、水現場できる感光性
組成物が望まれている。そのような観点から有害性のな
い感光剤としてジアゾニウム塩および水溶性アジド勢の
有機感光剤を通常のポリビニルアルコールに加えた感光
性組成物が見出されている。有機感光剤−ポリビニルア
ルコール系感光性組成物は通常感光剤とポリビニルアル
コるいはブラウン管のガラスパネル等に塗布乾燥して調
製される。そして形成された感光性膜に光を照射し、露
光部を水に対し不溶化させ、しかあ後に水による現像を
行ない未露光部を溶解除去して必要な儂を得る。
るので、この有害物質を含まない、水現場できる感光性
組成物が望まれている。そのような観点から有害性のな
い感光剤としてジアゾニウム塩および水溶性アジド勢の
有機感光剤を通常のポリビニルアルコールに加えた感光
性組成物が見出されている。有機感光剤−ポリビニルア
ルコール系感光性組成物は通常感光剤とポリビニルアル
コるいはブラウン管のガラスパネル等に塗布乾燥して調
製される。そして形成された感光性膜に光を照射し、露
光部を水に対し不溶化させ、しかあ後に水による現像を
行ない未露光部を溶解除去して必要な儂を得る。
従って感光性組成物としては感光性が高い仁と、現場性
が良く、かつ露光部の不溶化膜の基材への密着性が良く
、現像時にはがれることがないこと等が要求される。
が良く、かつ露光部の不溶化膜の基材への密着性が良く
、現像時にはがれることがないこと等が要求される。
ところで従来使用されてきたポリビニルアルコールは感
光性が低い次めクロム塩よりも感光性の低い有機感光剤
では多量に用いる必要がある。有機感光剤は高価であり
その使用量は少ないことが望ましく、また長時間露光し
て必要な像をえようとすると作業能率が低下することの
他、鮮明な儂がえられ難い等の問題点が生じるなど、従
来のポリビニルアルコールと有機感光剤系の感光性組成
物は満足すべきものでない。
光性が低い次めクロム塩よりも感光性の低い有機感光剤
では多量に用いる必要がある。有機感光剤は高価であり
その使用量は少ないことが望ましく、また長時間露光し
て必要な像をえようとすると作業能率が低下することの
他、鮮明な儂がえられ難い等の問題点が生じるなど、従
来のポリビニルアルコールと有機感光剤系の感光性組成
物は満足すべきものでない。
本発明者らは従来のポリビニルアルコールの前述の欠点
を克服するため鋭意研究した結果、分子内に下記一般式
（１） （ここで、Ｒ１は水素原子または低級アルキル基、Ｒ２
はアルキル基を各々表わす。） で表わされる架橋性基を有する共重酋単位を含有する変
性ポリビニルアルコールが前述のｈ−Ｊにかなうもので
あることをつきとめ、本発明を完成するに至ったもので
ある。
を克服するため鋭意研究した結果、分子内に下記一般式
（１） （ここで、Ｒ１は水素原子または低級アルキル基、Ｒ２
はアルキル基を各々表わす。） で表わされる架橋性基を有する共重酋単位を含有する変
性ポリビニルアルコールが前述のｈ−Ｊにかなうもので
あることをつきとめ、本発明を完成するに至ったもので
ある。
すなわち本発明の変性ポリビニルアルコール（ポリビニ
ルアルコールｔ−ＰＶＡと略記することがある。）と有
機感光剤を含む水溶液から形成さｔシた感光液を用いる
ことにより、光照射によって現像水に対して不溶化させ
るに必要な露光量を従来の未変性のポリビニルアルコー
ルを用いる感光液１こ比し減少できる。さらに罵くべき
ことｔこは従来のＰＶＡｔ−用いるのにくらべ、不溶化
感光膜の基材への密着性が良好で、水現像時の不溶化部
の剥離あるいは脱落か非常に少なくなりｈ明な１１Ｉが
えられる。この効果は本発明の変性ポリビニルアルコー
ルの不溶化膜の基材への密着性、接着性が従来のポリビ
ニルアルコールのそれよりすぐれている次めと考えられ
、架橋性基による効果と考えられる０ 本発明において使用される架橋性基を有する変性ＰＶＡ
Ｕ、ビニルエステル、とりわケ酢散ヒニルと式庸＝ＣＲ
１−Ｃ０ＮＨＣＨ＊０−ノ（Ｒ１は水素原子または低級
アルキル基、Ｐはアルキル基）で表わされる単量体、と
りわけＲ１が水素またはメチル基、ｔが炭素数１〜４の
アルキル基であるＮ−アルコキシメチル（メタ）アクリ
ルアミド、特に好ましくはＮ−メトキシメチルアクリル
アミドまたはＮ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミドと
をラジカル重合開始剤を用いて共重合させ、しかる後に
この共重合体のアルコール溶液にアルカリ触媒を作用さ
せて共重合体中のビニルエステル単位を部分的にあるい
は高度にケン化せしめ、ビニルアルコール単位とするこ
とにより製造される。
ルアルコールｔ−ＰＶＡと略記することがある。）と有
機感光剤を含む水溶液から形成さｔシた感光液を用いる
ことにより、光照射によって現像水に対して不溶化させ
るに必要な露光量を従来の未変性のポリビニルアルコー
ルを用いる感光液１こ比し減少できる。さらに罵くべき
ことｔこは従来のＰＶＡｔ−用いるのにくらべ、不溶化
感光膜の基材への密着性が良好で、水現像時の不溶化部
の剥離あるいは脱落か非常に少なくなりｈ明な１１Ｉが
えられる。この効果は本発明の変性ポリビニルアルコー
ルの不溶化膜の基材への密着性、接着性が従来のポリビ
ニルアルコールのそれよりすぐれている次めと考えられ
、架橋性基による効果と考えられる０ 本発明において使用される架橋性基を有する変性ＰＶＡ
Ｕ、ビニルエステル、とりわケ酢散ヒニルと式庸＝ＣＲ
１−Ｃ０ＮＨＣＨ＊０−ノ（Ｒ１は水素原子または低級
アルキル基、Ｐはアルキル基）で表わされる単量体、と
りわけＲ１が水素またはメチル基、ｔが炭素数１〜４の
アルキル基であるＮ−アルコキシメチル（メタ）アクリ
ルアミド、特に好ましくはＮ−メトキシメチルアクリル
アミドまたはＮ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミドと
をラジカル重合開始剤を用いて共重合させ、しかる後に
この共重合体のアルコール溶液にアルカリ触媒を作用さ
せて共重合体中のビニルエステル単位を部分的にあるい
は高度にケン化せしめ、ビニルアルコール単位とするこ
とにより製造される。
本発明に用いられる変性ＰＶＡを製造する際に使用し得
るビニルエステルは共重合後ケン化をすればビニルアル
コールとなることから任意のビニルエステルで本質的に
は同一の効果を有うるが経済的にみて酢酸ビニルか好ま
しい０ また、もう一方の共重合成分であるＣＨＩ ＝ ＣＲ１
−Ｃ０ＮＨＣＨｓＯ−Ｒ” （Ｒ１ハ水素ｊｌ子１ｆｔ
、ｎ低級フル＊ｈ基、 Ｒ２ｔｉアルキル基）で表わさ
れる単量体の具体的な例はＮ−メトキシメチルアクリル
アミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
トキシメチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシメチルメタ
クリルアミド、Ｎ−ｎ−ノロホキジメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ｎ−プロポキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−
イングロボキシメ１ルアクリルアイド、Ｎ−インプロポ
キシメチルメタクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチル
アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルメタク）ノル
アミド、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−
インブトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ −ｔｅｒｔ
〜ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ −ｔａｒｔ−ブ
トキシメチルメタクリルアミドが挙げられ、このりらＮ
〜メトキシメチルアクリルアミドあるいはＮ −ｎ −
ブトキシメチルアクリルアミドが効果と経済性の点で特
に好ましい。これらの単量体は従来からもよく知られて
おり、例えば英国特許９５５，４２０号においては酢酸
ビニルおよびアクリル酸エステルとの共重合体について
示されてい条。しかしながらＮ−アルコキシメチル（メ
タ）アクリルアミドとビニルエステルとの共重合体をケ
ン化することによ妙生成し九井重合体ケン化物について
は知られておらず、本発明に示されているような工業的
に重要な優れた性能を有する変性ＰＶＡが得られること
は全く知られていない。
るビニルエステルは共重合後ケン化をすればビニルアル
コールとなることから任意のビニルエステルで本質的に
は同一の効果を有うるが経済的にみて酢酸ビニルか好ま
しい０ また、もう一方の共重合成分であるＣＨＩ ＝ ＣＲ１
−Ｃ０ＮＨＣＨｓＯ−Ｒ” （Ｒ１ハ水素ｊｌ子１ｆｔ
、ｎ低級フル＊ｈ基、 Ｒ２ｔｉアルキル基）で表わさ
れる単量体の具体的な例はＮ−メトキシメチルアクリル
アミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
トキシメチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシメチルメタ
クリルアミド、Ｎ−ｎ−ノロホキジメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ｎ−プロポキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−
イングロボキシメ１ルアクリルアイド、Ｎ−インプロポ
キシメチルメタクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチル
アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルメタク）ノル
アミド、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−
インブトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ −ｔｅｒｔ
〜ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ −ｔａｒｔ−ブ
トキシメチルメタクリルアミドが挙げられ、このりらＮ
〜メトキシメチルアクリルアミドあるいはＮ −ｎ −
ブトキシメチルアクリルアミドが効果と経済性の点で特
に好ましい。これらの単量体は従来からもよく知られて
おり、例えば英国特許９５５，４２０号においては酢酸
ビニルおよびアクリル酸エステルとの共重合体について
示されてい条。しかしながらＮ−アルコキシメチル（メ
タ）アクリルアミドとビニルエステルとの共重合体をケ
ン化することによ妙生成し九井重合体ケン化物について
は知られておらず、本発明に示されているような工業的
に重要な優れた性能を有する変性ＰＶＡが得られること
は全く知られていない。
前述したＮ−アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド
類とビニルエステルとの共重合体のケン化物及びそ゛の
具体的製造法について本発明者等にヨッテ開発すレ、す
でに特許Ｗｓ５６−１７６０２４、同５６−１７８５９
４として特許出願されているが、かかる変性ＰＶＡの製
造においては使用す−るＮ−アルコキシメチル（メタ）
アクリルアミドのアルキル基の鎖長が長くなるにつれて
変性度が高い場合および／ｌｆｔ、は酢酸ビニル単位の
含量が高い場合に生成し良度性ＰＶＡの水溶液が低下す
る場合があり、水溶性の変性ＰＶＡを目的とする場合は
、Ｎ−アルコキクメチル（メタ）アクリルアミドの種類
と含量、酢酸ビニル単位の含量を調節する必要がある。
類とビニルエステルとの共重合体のケン化物及びそ゛の
具体的製造法について本発明者等にヨッテ開発すレ、す
でに特許Ｗｓ５６−１７６０２４、同５６−１７８５９
４として特許出願されているが、かかる変性ＰＶＡの製
造においては使用す−るＮ−アルコキシメチル（メタ）
アクリルアミドのアルキル基の鎖長が長くなるにつれて
変性度が高い場合および／ｌｆｔ、は酢酸ビニル単位の
含量が高い場合に生成し良度性ＰＶＡの水溶液が低下す
る場合があり、水溶性の変性ＰＶＡを目的とする場合は
、Ｎ−アルコキクメチル（メタ）アクリルアミドの種類
と含量、酢酸ビニル単位の含量を調節する必要がある。
ケン化反応の進行により通常のＰＶＡの場合と同様に白
色のゲルあるいは沈殿物が生成させる方法をとることが
工業上好ましく、これを必要に応じて粉砕・洗浄・乾燥
することによって変性ＰＶＡ共重合体粉末を得ることか
できる。
色のゲルあるいは沈殿物が生成させる方法をとることが
工業上好ましく、これを必要に応じて粉砕・洗浄・乾燥
することによって変性ＰＶＡ共重合体粉末を得ることか
できる。
本発明の目的に対しては前述の架橋性基の含有量は０．
０１〜２０モル囁、好ましくは０．１〜１０モルチ、ケ
ン化度は６０〜１００モルチ、重合度は１００〜６，０
００の範囲が好ましい。さらには架橋性基の含有量が０
．１〜５モルチ、ケン化度は７０〜９８モル−１重合度
２００〜５，０００が感光性も高く現像性もよく、シか
も感光膜の基材への密着性がよりすぐれ１ｉｔｔ、い。
０１〜２０モル囁、好ましくは０．１〜１０モルチ、ケ
ン化度は６０〜１００モルチ、重合度は１００〜６，０
００の範囲が好ましい。さらには架橋性基の含有量が０
．１〜５モルチ、ケン化度は７０〜９８モル−１重合度
２００〜５，０００が感光性も高く現像性もよく、シか
も感光膜の基材への密着性がよりすぐれ１ｉｔｔ、い。
本発明の架橋性基を有する変性ＰＶＡに加えて他の感光
性高分子物質例えば通常のＰＶＡ、あるいはアクリルア
ミド共重合変性ＰＶＡ、カルボキシル基変性ＰＶＡ、ス
ルホン基変性ｐ Ｖ Ａ ｓ疎水基変性ＰＶＡ、カチオ
ン基含有変性ＰＶＡなとの変性ＰＶＡを併用してもよく
、ｔたゼラチン、ニカワ等を併用することができる０ また本発明に用いる有機感光剤は上述、した架橋性基変
性ＰＶＡと組合せ使用した場合光照射により該感光性組
成物を水に対し不溶化することのできる化合物を包含す
る。
性高分子物質例えば通常のＰＶＡ、あるいはアクリルア
ミド共重合変性ＰＶＡ、カルボキシル基変性ＰＶＡ、ス
ルホン基変性ｐ Ｖ Ａ ｓ疎水基変性ＰＶＡ、カチオ
ン基含有変性ＰＶＡなとの変性ＰＶＡを併用してもよく
、ｔたゼラチン、ニカワ等を併用することができる０ また本発明に用いる有機感光剤は上述、した架橋性基変
性ＰＶＡと組合せ使用した場合光照射により該感光性組
成物を水に対し不溶化することのできる化合物を包含す
る。
例えばテトラゾニウム塩、ジアジド化合物、ジアゾ樹脂
等の単独あるい線混合物、′１次光重合開始剤例えばベ
ンゾインのアルキルエーテル、ω−ブロムアセトフェノ
ン、ｄ−ブロムイソブチロフェノン等と光重合開始剤の
存在下で光重合し、為重合体を形成することのできるモ
ノマー例えば１〜２ヶ以上の水酸基を有する低級アルカ
ノールのアクリル酸を九はメタクリル酸のエステルある
いは一方の側がエーテル化またはエステル化され九ポリ
エチレングリコールのアクリル酸ｔａｈメタクリル酸の
エステル等との混合物が挙げられる。
等の単独あるい線混合物、′１次光重合開始剤例えばベ
ンゾインのアルキルエーテル、ω−ブロムアセトフェノ
ン、ｄ−ブロムイソブチロフェノン等と光重合開始剤の
存在下で光重合し、為重合体を形成することのできるモ
ノマー例えば１〜２ヶ以上の水酸基を有する低級アルカ
ノールのアクリル酸を九はメタクリル酸のエステルある
いは一方の側がエーテル化またはエステル化され九ポリ
エチレングリコールのアクリル酸ｔａｈメタクリル酸の
エステル等との混合物が挙げられる。
これらの有機感光剤は水溶性の化合物が好ましく、架橋
基変性ＰＶＡ水溶液と相溶性のあるものが望ましい。
基変性ＰＶＡ水溶液と相溶性のあるものが望ましい。
好ましい有機感光剤としてはジフェニルアミン−４−ジ
アゾニウムクロリド・ホルマリン縮合樹脂、ジメチルア
ニリン−４−ジアゾニウムクロリド・ホルマリン縮合樹
脂、２．５−ジメトキシフェニルモルホリン−４−ジア
ゾニウム塩化亜鉛複塩・ホルマリン縮合樹脂などのジア
ゾ樹脂、３．３’−ジメトキシジフェニル−４，４′−
ビスジアゾニウムクロリド塩化亜鉛複塩％ ３．了−ジ
エチルジフェニル−４，４′−ビスジアゾニウムクロリ
ド塩化亜鉛複塩、ジフェニル−４，イービスジアゾニウ
ムクロリド塩化亜鉛複塩、Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルア
ニリン−４−ジアゾニウムクロリド塩化亜鉛複塩、Ｎ−
ジメチルアニリン−４−ジアゾニウムクロリド、３．了
−ジメトキシジフェニル−４，ｌ−ビスジアゾニウムク
ロリド、３．コージメトキシジフェニル−４，４′−ビ
スジアゾニウムサルフェート等のテトラゾニウム塩、ジ
アゾニウム塩、６−アジドー２−（４’−アジドスチリ
ル）ベンズイミダゾール、４．４’−ジアジドスチルベ
ン−２，τ−ジスルホンアミド等のジアジド化合物ま九
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、α−メチルベンゾイン、ビバロイン、ア
ントラキノン、１−クロルアントラキノ／、２−メチル
アントラキノン、ω−プａムアセトフエノ／、α−ブロ
ムイソブチロフェノン、１．４−ナフトキノン等の光重
合開始剤とＰＶＡと混合性を有する光重合性の単量体例
えばエチレングリコールアクリレート、エチレングリコ
ールメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールメタクリレート、ポリエ
チレングリコールジメタクリレート、β−オキシプロピ
ルメタクリレート等との混合系が挙げられる。
アゾニウムクロリド・ホルマリン縮合樹脂、ジメチルア
ニリン−４−ジアゾニウムクロリド・ホルマリン縮合樹
脂、２．５−ジメトキシフェニルモルホリン−４−ジア
ゾニウム塩化亜鉛複塩・ホルマリン縮合樹脂などのジア
ゾ樹脂、３．３’−ジメトキシジフェニル−４，４′−
ビスジアゾニウムクロリド塩化亜鉛複塩％ ３．了−ジ
エチルジフェニル−４，４′−ビスジアゾニウムクロリ
ド塩化亜鉛複塩、ジフェニル−４，イービスジアゾニウ
ムクロリド塩化亜鉛複塩、Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルア
ニリン−４−ジアゾニウムクロリド塩化亜鉛複塩、Ｎ−
ジメチルアニリン−４−ジアゾニウムクロリド、３．了
−ジメトキシジフェニル−４，ｌ−ビスジアゾニウムク
ロリド、３．コージメトキシジフェニル−４，４′−ビ
スジアゾニウムサルフェート等のテトラゾニウム塩、ジ
アゾニウム塩、６−アジドー２−（４’−アジドスチリ
ル）ベンズイミダゾール、４．４’−ジアジドスチルベ
ン−２，τ−ジスルホンアミド等のジアジド化合物ま九
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、α−メチルベンゾイン、ビバロイン、ア
ントラキノン、１−クロルアントラキノ／、２−メチル
アントラキノン、ω−プａムアセトフエノ／、α−ブロ
ムイソブチロフェノン、１．４−ナフトキノン等の光重
合開始剤とＰＶＡと混合性を有する光重合性の単量体例
えばエチレングリコールアクリレート、エチレングリコ
ールメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールメタクリレート、ポリエ
チレングリコールジメタクリレート、β−オキシプロピ
ルメタクリレート等との混合系が挙げられる。
これらの有機感光剤の他に公知の増感剤例えば酢酸ウラ
ニル化合物などを適宜併用することができる。また必要
に応じ可塑剤、分散剤、消泡剤等の株加剤あるいはテレ
ビブラウン管の螢光面作製の場合には螢光体粒子、光硬
化性塗料の場合の顔料等が添加される。
ニル化合物などを適宜併用することができる。また必要
に応じ可塑剤、分散剤、消泡剤等の株加剤あるいはテレ
ビブラウン管の螢光面作製の場合には螢光体粒子、光硬
化性塗料の場合の顔料等が添加される。
以下本発明の感光性組成物について紫外線による光不溶
化の感光性及びその膜の特性に関する実施例について説
明するがこれに限足されるものではない。なお部および
俤は特に指戻しないかぎり重量部、重量％を意味する。
化の感光性及びその膜の特性に関する実施例について説
明するがこれに限足されるものではない。なお部および
俤は特に指戻しないかぎり重量部、重量％を意味する。
実施例Ｉ
Ｎ−メトキシメチルアクリルアミドを共重合単位として
２モル優含有し、ケン化度が８９モルチ、平均重合度が
２０２０の変性Ｐ Ｖ Ａ’の１０チ水溶液１００部に
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウムクロリド・ホルマ
リン縮合樹脂１部を加え混合して＃ｌ製し次感光液を亜
鉛板に回転塗布器を用いて均一に塗布乾燥した後、線画
を真空焼枠中で密着させて２００６ルツクスのケミカル
ランプを光源として３分間露光し、そして水洗現像する
。見られる画僚板を５チクロム酸水溶液中に３０分間浸
漬し、硬膜処理をおこなった後、１２０℃で１０分間バ
ーニングすることにより耐酸ｉｊｉ像レジストができる
。これを常法に従い１０％硫酸でこすって肌出し友後、
ダウ腐蝕することにより凸版用印刷画像をえた。えられ
た感光性組成物の性能を表１に示した。
２モル優含有し、ケン化度が８９モルチ、平均重合度が
２０２０の変性Ｐ Ｖ Ａ’の１０チ水溶液１００部に
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウムクロリド・ホルマ
リン縮合樹脂１部を加え混合して＃ｌ製し次感光液を亜
鉛板に回転塗布器を用いて均一に塗布乾燥した後、線画
を真空焼枠中で密着させて２００６ルツクスのケミカル
ランプを光源として３分間露光し、そして水洗現像する
。見られる画僚板を５チクロム酸水溶液中に３０分間浸
漬し、硬膜処理をおこなった後、１２０℃で１０分間バ
ーニングすることにより耐酸ｉｊｉ像レジストができる
。これを常法に従い１０％硫酸でこすって肌出し友後、
ダウ腐蝕することにより凸版用印刷画像をえた。えられ
た感光性組成物の性能を表１に示した。
また比較のために上述の変性ＰＶＡの代りに未変性ＰＶ
Ａ（ケン化［８９％、平均重合度が２０１０）ｆ：用い
る以外は上述の実施例と同様にして感光液を詞製し凸版
用印刷画像をつくり性能を評価し、表１に比較例１とし
て示した。表の実施例と比較例の性能比較から本発明の
変性ＰＶＡを含む感光性組成物は感光性にすぐｎより鮮
明な画像が見られることがわかる。
Ａ（ケン化［８９％、平均重合度が２０１０）ｆ：用い
る以外は上述の実施例と同様にして感光液を詞製し凸版
用印刷画像をつくり性能を評価し、表１に比較例１とし
て示した。表の実施例と比較例の性能比較から本発明の
変性ＰＶＡを含む感光性組成物は感光性にすぐｎより鮮
明な画像が見られることがわかる。
表−１ｓ元板の比較試験結果
帯露光後見られるポジ画像の印刷可能な線画数実施例２
〜５ 実施例１の架橋基変性ＰＶＡに代えて表−２に示す種々
の架橋基変性ＰＶＡを用いる以外は実施例１と同一条件
で感光液全調製し、凸版用印刷画像をつくり性能を評価
した。その結果表−３に示すごとくすぐれた感光性を示
し鮮明な画像がえられた。
〜５ 実施例１の架橋基変性ＰＶＡに代えて表−２に示す種々
の架橋基変性ＰＶＡを用いる以外は実施例１と同一条件
で感光液全調製し、凸版用印刷画像をつくり性能を評価
した。その結果表−３に示すごとくすぐれた感光性を示
し鮮明な画像がえられた。
表−２
表−３
実施例１１
Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミドを共重合単位と
して０．８モルチ含有し、ケン化度が８７モルチ、平均
重合度が１８００の変性ＰＶＡを５−１３、 ｆｆ−ジ
メトキシジフェニル−４，ｌ−ビスジアゾニウムクロリ
ド塩化亜鉛複塩を骸変性ＰＶＡＫ対し１５％となるよう
に調製し良木溶液をガラス板上に厚さ１２μの皮膜状に
塗布後乾燥した。その後イーストマン、コダック社製の
ニュートラルデンシティ−フィルターを密着させ、２５
３の距離に保った２ＫＷメタルハライドランプを用いて
３０秒間紫外線照射し、その後一定水量で１分間洗浄し
た。この時の感光度を残存した感光硬膜に対応する露光
量の相対値で表−４に示した。
して０．８モルチ含有し、ケン化度が８７モルチ、平均
重合度が１８００の変性ＰＶＡを５−１３、 ｆｆ−ジ
メトキシジフェニル−４，ｌ−ビスジアゾニウムクロリ
ド塩化亜鉛複塩を骸変性ＰＶＡＫ対し１５％となるよう
に調製し良木溶液をガラス板上に厚さ１２μの皮膜状に
塗布後乾燥した。その後イーストマン、コダック社製の
ニュートラルデンシティ−フィルターを密着させ、２５
３の距離に保った２ＫＷメタルハライドランプを用いて
３０秒間紫外線照射し、その後一定水量で１分間洗浄し
た。この時の感光度を残存した感光硬膜に対応する露光
量の相対値で表−４に示した。
なお比較の次めに従来の未変性ＰＶＡ（平均重合度２，
０００、ケン、化度８８モルチ）を用いて実施例と同様
に感光度を測定し比較例−２として示し九〇 表−４ すなわち従来のＰＶＡからなる感光性組成物に比し感光
度は２倍高いことがわかる。
０００、ケン、化度８８モルチ）を用いて実施例と同様
に感光度を測定し比較例−２として示し九〇 表−４ すなわち従来のＰＶＡからなる感光性組成物に比し感光
度は２倍高いことがわかる。
また感光膜の基材に対する密着性を次の方法で評価した
。実施例１１の変性ＰＶＡと比較例２の従＊ＰＶＡの感
光液を各々ガラス板上に厚さ１５μの皮膜状に塗布し５
０℃で５分間乾燥した。内径１−の円形の穴が１１００
ｊす６２５個あいた黒色のプレートを密着させ２５個の
距離に保った２ＫＷメタルハライドランプを用いて３０
秒間紫外線照射し、その後一定水量で３分間洗浄した。
。実施例１１の変性ＰＶＡと比較例２の従＊ＰＶＡの感
光液を各々ガラス板上に厚さ１５μの皮膜状に塗布し５
０℃で５分間乾燥した。内径１−の円形の穴が１１００
ｊす６２５個あいた黒色のプレートを密着させ２５個の
距離に保った２ＫＷメタルハライドランプを用いて３０
秒間紫外線照射し、その後一定水量で３分間洗浄した。
この時に残存した円形の感光膜ドツトについて観察し、
欠落しているドツト数をもとめたところ表−５のように
なつ次。
欠落しているドツト数をもとめたところ表−５のように
なつ次。
表−５
本発明のカチオン基変性ＰＶＡによる感光膜が従来のＰ
ＶＡによるものよりも基材に対する密着性が喪好である
ことがわかる。ｔた実施例の感光膜ドツトの円はきれい
な形状であるのに対し、比較例のそれは端が欠けている
ものが目立ち、不鮮明で本発明の組成物は鮮明な感光像
が見られることが認められた。
ＶＡによるものよりも基材に対する密着性が喪好である
ことがわかる。ｔた実施例の感光膜ドツトの円はきれい
な形状であるのに対し、比較例のそれは端が欠けている
ものが目立ち、不鮮明で本発明の組成物は鮮明な感光像
が見られることが認められた。
実施例１２
Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアはドを共重合単位と
して０．８モルチ、ケン化度８１モルチ、平均重合度が
２２００の架橋基変性ＰＶＡの３０％水溶液１、ＯＯＵ
部に、有機感光剤として光重合開始剤のω−ブロムアセ
トフェノン２８部と重付性率量体のβ−オキシエチルメ
タクリレート６１５部の混合溶液を滴下混合し脱泡して
感光性組成物溶液を調製した。この感光液を支持体のア
ルミ板上に注形し次後、乾燥器中６０℃で乾燥し、感光
層の厚みがＩＩＩＩＩの感光刷版材をつくつｆｃ。
して０．８モルチ、ケン化度８１モルチ、平均重合度が
２２００の架橋基変性ＰＶＡの３０％水溶液１、ＯＯＵ
部に、有機感光剤として光重合開始剤のω−ブロムアセ
トフェノン２８部と重付性率量体のβ−オキシエチルメ
タクリレート６１５部の混合溶液を滴下混合し脱泡して
感光性組成物溶液を調製した。この感光液を支持体のア
ルミ板上に注形し次後、乾燥器中６０℃で乾燥し、感光
層の厚みがＩＩＩＩＩの感光刷版材をつくつｆｃ。
この版材を炭酸ガス気流中に２〜３時間放置したのち真
空枠中で網点ネガチプｔ＝ｆｆｉ着させて３分間露光し
次。光源としては照度２，０００ルツクスのカーボンア
ーク灯を使用し念。篇九後水遍水ｒｆ用して現像し、さ
らに乾燥器中１００℃で２分間乾燥した。乾燥後さらに
２分間カーボンアーク灯で再崖光し非籐光部を硬化させ
る。えしれた６１指凸版の性質を表−６に示した。
空枠中で網点ネガチプｔ＝ｆｆｉ着させて３分間露光し
次。光源としては照度２，０００ルツクスのカーボンア
ーク灯を使用し念。篇九後水遍水ｒｆ用して現像し、さ
らに乾燥器中１００℃で２分間乾燥した。乾燥後さらに
２分間カーボンアーク灯で再崖光し非籐光部を硬化させ
る。えしれた６１指凸版の性質を表−６に示した。
なお比較のために未変性のＰＶＡ（ケン化度：８１モル
チ、平均重合度２２００ ）を変性ＰＶＡ０代りに用い
る以外は実施例１２と同様にして感光性組成物およびそ
の版材をつくった。そしてその性能を表−６に比較例３
として示した。
チ、平均重合度２２００ ）を変性ＰＶＡ０代りに用い
る以外は実施例１２と同様にして感光性組成物およびそ
の版材をつくった。そしてその性能を表−６に比較例３
として示した。
表−６
１）埃像によって腐食された非露光部の深さ、深さＯと
は嶌光部が流失した状態 ２）再籐光後健全である画線幅μ 表より明らかなごとく本発明における架橋基変性ＰＶＡ
を含む感光性組成物からすぐれた版材ができることがわ
かる０ 特許出願人 株式会社 り ラ し 代 理 人 弁理士 本 多 竪
は嶌光部が流失した状態 ２）再籐光後健全である画線幅μ 表より明らかなごとく本発明における架橋基変性ＰＶＡ
を含む感光性組成物からすぐれた版材ができることがわ
かる０ 特許出願人 株式会社 り ラ し 代 理 人 弁理士 本 多 竪
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）分子内に一般式（１）で示される共重合単位を含
有する変性ポリビニルアルコールと有機感光剤を含む感
光性組成物。 １ （ここで １１は水素原子または低級アルキル基、Ｒ２
はアルキル基、を各々意味している。）（２）変性ポリ
ビニルアルコールが、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミ
ドと酢酸ビニルとの共重合体のケン化物である特許請求
の範囲第１項に記載の組成物。 （８）変性ポリビニルアルコールが、Ｎ−ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミドと酢酸ビニルとの共重合体のケン
化物である特許請求の範囲第１
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003682A JPS58137834A (ja) | 1982-02-09 | 1982-02-09 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003682A JPS58137834A (ja) | 1982-02-09 | 1982-02-09 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58137834A true JPS58137834A (ja) | 1983-08-16 |
| JPH0160133B2 JPH0160133B2 (ja) | 1989-12-21 |
Family
ID=12015833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003682A Granted JPS58137834A (ja) | 1982-02-09 | 1982-02-09 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58137834A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0184044A2 (de) * | 1984-11-23 | 1986-06-11 | Hoechst Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen |
| EP0191400A2 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| JPH03100602A (ja) * | 1989-09-14 | 1991-04-25 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH03200967A (ja) * | 1989-09-14 | 1991-09-02 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JPH03257402A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-15 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH04116558A (ja) * | 1990-09-07 | 1992-04-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 螢光体パターンを形成する方法 |
| EP0838478A1 (de) * | 1996-10-25 | 1998-04-29 | Sun Chemical Corporation | Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
| JP2013210607A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機ｅｌ表示装置および液晶表示装置 |
-
1982
- 1982-02-09 JP JP2003682A patent/JPS58137834A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0184044A2 (de) * | 1984-11-23 | 1986-06-11 | Hoechst Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen |
| EP0191400A2 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| JPH03100602A (ja) * | 1989-09-14 | 1991-04-25 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH03200967A (ja) * | 1989-09-14 | 1991-09-02 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JPH03257402A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-15 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH04116558A (ja) * | 1990-09-07 | 1992-04-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 螢光体パターンを形成する方法 |
| EP0838478A1 (de) * | 1996-10-25 | 1998-04-29 | Sun Chemical Corporation | Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
| JP2013210607A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機ｅｌ表示装置および液晶表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0160133B2 (ja) | 1989-12-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2953562B2 (ja) | リソグラフィー用下地材及びそれを用いた多層レジスト材料 | |
| CN1075638C (zh) | 正性光刻胶 | |
| WO1998014831A1 (fr) | Composition photosensible et son utilisation | |
| JP3561061B2 (ja) | ポリビニルアルコール系感光性樹脂および感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法 | |
| WO2019150966A1 (ja) | レジスト組成物およびレジスト膜 | |
| JPH0128366B2 (ja) | ||
| JPS58137834A (ja) | 感光性組成物 | |
| JP2003507758A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH06148896A (ja) | レジスト用塗布液及びそれを用いたレジスト材料 | |
| KR100244819B1 (ko) | 포토리소그래피에 의한 패턴형성용의 언더코팅조성물 | |
| JPH1184640A (ja) | 反射防止膜形成用塗布液 | |
| US4229514A (en) | Photosensitive composition | |
| US4097283A (en) | Water-soluble composition admixture of copolymer having ethylenic unsaturation in side chain and anthraquinone photosensitizer | |
| CN1166985C (zh) | 光敏树脂及其组合物和用该组合物构成图案的方法 | |
| JP2003228166A (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物 | |
| GB1580959A (en) | Substituted acrylamide and polymers | |
| JPH06256292A (ja) | 光化学的に酸を発生するフォトレジスト用化合物 | |
| JPH0416105B2 (ja) | ||
| JP3315757B2 (ja) | 感光性多官能芳香族ジアゾ化合物およびそれを用いた感光性組成物 | |
| JPH0153449B2 (ja) | ||
| JPS58137833A (ja) | 感光性の組成物 | |
| EP4229482B1 (en) | Polyvinyl acetate based photopolymer | |
| JP2540577B2 (ja) | 感光性樹脂板の製法 | |
| JPH103167A (ja) | 水溶性感光性組成物 | |
| JPS59136731A (ja) | 感光性樹脂組成物 |