JP2643155B2 - 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法Info
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性組成物及びそれを用いたパターン形
成方法に係り、特にカラー受像管けい光面を作成する際
に使用するのに適した感光性組成物及びそれを用いたパ
ターン形成方法に関する。
成方法に係り、特にカラー受像管けい光面を作成する際
に使用するのに適した感光性組成物及びそれを用いたパ
ターン形成方法に関する。
〔従来の技術〕 いわゆるブラックマトリクスカラー受像管は、フェー
スプレート上の各けい光体ドットの大きさが、走査する
電子ビームの照射面積より小さく、かつ各けい光体ドッ
ト間の空隙にカーボンのような非発光性光吸収物質が充
填されたものである。これは、けい光体がストライプで
あるいわゆるブラックストライプにおいても、横方向の
長さの大小関係は、上記と同じような関係にある。
スプレート上の各けい光体ドットの大きさが、走査する
電子ビームの照射面積より小さく、かつ各けい光体ドッ
ト間の空隙にカーボンのような非発光性光吸収物質が充
填されたものである。これは、けい光体がストライプで
あるいわゆるブラックストライプにおいても、横方向の
長さの大小関係は、上記と同じような関係にある。
従来、このようなカラー受像管の製造方法として、次
のようなプロセスが用いられている。すなわち、シャド
ウマスクをマスクとして、けい光面のけい光体が配置さ
れるべき位置に感光性組成物のドットを形成し、各ドッ
ト間の空隙をカーボンのような非発光性光吸収物質で埋
め、つぎに上記ドットを剥離除去し、そのあとに三色の
発光色のけい光体を順次充填しけい光面を形成する。こ
のとき、シャドウマスクの孔径をある程度以上大きくす
ると、２つのドットの間の部分が重複して照射されるた
め、光照射量が感光性組成物の最低架橋度に達し、２つ
のドットがつながり、いわゆるドッキングという問題が
生じやすい。ブラックストライプも横方向に関し同様の
問題がある。そのため本件発明者らの一部の者は、すで
に特公昭52−20225として、上記けい光面の形成に適し
たパターン形成方法を開示した。この方法は、相反則不
軌特性を有する感光性組成物、例えばアクリルアミド・
ジアセトンアクリルアミド共重合体（以下AA・DAA共重
合体と略す）と水溶性ビスアジド化合物を含む感光性組
成物を用い、光照射区域より実質的に小面積のパターン
のドット又はストライプを形成するものである。この方
法によれば、孔径の大きなシャドウマスクを用いて、ド
ッキングのないけい光面を形成することができる。
のようなプロセスが用いられている。すなわち、シャド
ウマスクをマスクとして、けい光面のけい光体が配置さ
れるべき位置に感光性組成物のドットを形成し、各ドッ
ト間の空隙をカーボンのような非発光性光吸収物質で埋
め、つぎに上記ドットを剥離除去し、そのあとに三色の
発光色のけい光体を順次充填しけい光面を形成する。こ
のとき、シャドウマスクの孔径をある程度以上大きくす
ると、２つのドットの間の部分が重複して照射されるた
め、光照射量が感光性組成物の最低架橋度に達し、２つ
のドットがつながり、いわゆるドッキングという問題が
生じやすい。ブラックストライプも横方向に関し同様の
問題がある。そのため本件発明者らの一部の者は、すで
に特公昭52−20225として、上記けい光面の形成に適し
たパターン形成方法を開示した。この方法は、相反則不
軌特性を有する感光性組成物、例えばアクリルアミド・
ジアセトンアクリルアミド共重合体（以下AA・DAA共重
合体と略す）と水溶性ビスアジド化合物を含む感光性組
成物を用い、光照射区域より実質的に小面積のパターン
のドット又はストライプを形成するものである。この方
法によれば、孔径の大きなシャドウマスクを用いて、ド
ッキングのないけい光面を形成することができる。
相反則不軌特性とは次のような特性をいう。すなわち
感光性組成物に照射される光の強さをi,露光時間をｔ、
それによって生じる架橋度をＢとすると、 Ｂ＝ｆ（ｉ・tp） なる関係を有するものをいう。ここにｐはシュバルツシ
ルト定数であり、０＜ｐ＜１の範囲である。なお、ｐ＝
１の場合は、通常の感光性組成物の場合である。
感光性組成物に照射される光の強さをi,露光時間をｔ、
それによって生じる架橋度をＢとすると、 Ｂ＝ｆ（ｉ・tp） なる関係を有するものをいう。ここにｐはシュバルツシ
ルト定数であり、０＜ｐ＜１の範囲である。なお、ｐ＝
１の場合は、通常の感光性組成物の場合である。
実用的には、ｐは１に比べて小さければ小さい程、ド
ッキング現像なしい所望の大きさのドットを形成し得
る。好ましいｐの範囲は、０＜ｐ＜0.76であり、この条
件下で光照射を行なうのが良い。
ッキング現像なしい所望の大きさのドットを形成し得
る。好ましいｐの範囲は、０＜ｐ＜0.76であり、この条
件下で光照射を行なうのが良い。
この方法は、優れたけい光面形成方法であり、また、
上記感光性組成物は高感度であり、上記の方法に用いる
のに適している。
上記感光性組成物は高感度であり、上記の方法に用いる
のに適している。
しかしながら、この感光性組成物を用いるとき、現像
時間がやや長いという問題が生じる。他の特性を低下さ
せることなく、現像時間を短縮できる組成物が得られれ
ば、単に作業時間を短縮し得るのみならず、現像用温水
の節約につながるものである。
時間がやや長いという問題が生じる。他の特性を低下さ
せることなく、現像時間を短縮できる組成物が得られれ
ば、単に作業時間を短縮し得るのみならず、現像用温水
の節約につながるものである。
本発明の目的は、相反則不軌特性を有し、優れた感光
特性を有し、かつ現像特性に優れた感光性組成物及びこ
れを用いたパターン形成方法を提供することにある。
特性を有し、かつ現像特性に優れた感光性組成物及びこ
れを用いたパターン形成方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の感光性組成物
は、アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合
体であって、アクリルアミド組成比が55〜67モル％の範
囲の第１の共重合体と、アクリルアミド−ジアセトンア
クリルアミド共重合体であって、アクリルアミド組成比
が67モル％を越え、かつ、上記第１の共重合体のアクリ
ルアミド組成比との差が８モル％以上である第２の共重
合体と、水溶性ビスアジド化合物とから構成するように
したものである。
は、アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合
体であって、アクリルアミド組成比が55〜67モル％の範
囲の第１の共重合体と、アクリルアミド−ジアセトンア
クリルアミド共重合体であって、アクリルアミド組成比
が67モル％を越え、かつ、上記第１の共重合体のアクリ
ルアミド組成比との差が８モル％以上である第２の共重
合体と、水溶性ビスアジド化合物とから構成するように
したものである。
また、上記目的を達成するために、本発明のパターン
形成方法は、基板上に、上記感光組成物の塗膜を形成
し、この塗膜にはシュバルツシルト定数ｐが０＜ｐ＜0.
76の条件で所定のパターンの露光を行ない、露光された
塗膜を現像するようにしたものである。
形成方法は、基板上に、上記感光組成物の塗膜を形成
し、この塗膜にはシュバルツシルト定数ｐが０＜ｐ＜0.
76の条件で所定のパターンの露光を行ない、露光された
塗膜を現像するようにしたものである。
本発明に用いる共重合体は、アクリルアミド（以下AA
と略す）とジアセトンアクリルアミド（以下DAAと略
す）とのモノマー組成比を変えることによりその特性が
変化する。AAのモノマー組成比が55〜67％（モル比、以
下同じ）の共重合体を用いた場合、組成物の相反則不軌
特性が大となり、AAのモノマー組成比が67％を越える共
重合体（上記組成比100％、すなわちAAのホモポリマー
も含む）を用いた場合、組成物の相反則不軌特性は小で
あるが現像特性に優れる。よって上記のように組成比の
異なる少なくとも二種の共重合体をそれぞれ水溶性ビス
アジド化合物に組合せた少なくとも二種の感光性組成物
をつくり、これを混合して用いればよい。この場合、水
溶性ビスアジド化合物は同一の化合物を用いてもよいの
で、少なくとも二種の共重合体と水溶性ビスアジド化合
物からなる組成物であればよいことになる。
と略す）とジアセトンアクリルアミド（以下DAAと略
す）とのモノマー組成比を変えることによりその特性が
変化する。AAのモノマー組成比が55〜67％（モル比、以
下同じ）の共重合体を用いた場合、組成物の相反則不軌
特性が大となり、AAのモノマー組成比が67％を越える共
重合体（上記組成比100％、すなわちAAのホモポリマー
も含む）を用いた場合、組成物の相反則不軌特性は小で
あるが現像特性に優れる。よって上記のように組成比の
異なる少なくとも二種の共重合体をそれぞれ水溶性ビス
アジド化合物に組合せた少なくとも二種の感光性組成物
をつくり、これを混合して用いればよい。この場合、水
溶性ビスアジド化合物は同一の化合物を用いてもよいの
で、少なくとも二種の共重合体と水溶性ビスアジド化合
物からなる組成物であればよいことになる。
二種の共重合体のAAのモノマー組成比は８％以上異な
っていることが好ましく、10％以上異なっていることが
より好ましい。
っていることが好ましく、10％以上異なっていることが
より好ましい。
両者の混合比は、AAのモノマー組成比67％を越え100
％までの共重合体が全共重合体の30〜70重量％であるの
が好ましく、40〜60重量％であるのがより好ましい。ビ
スアジド化合物は全共重合体に対し、１〜50重量％であ
るのが好ましい。
％までの共重合体が全共重合体の30〜70重量％であるの
が好ましく、40〜60重量％であるのがより好ましい。ビ
スアジド化合物は全共重合体に対し、１〜50重量％であ
るのが好ましい。
上記共重合体は、AAとDAAの水溶液から、2,2′−アゾ
ビス（２−アミジノプロパン）塩酸塩などの水溶性アゾ
化合物、又は、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムな
どの過硫酸塩、並びにこれらを用いたレドックス触媒を
開始剤として共重合させて合成し得る。
ビス（２−アミジノプロパン）塩酸塩などの水溶性アゾ
化合物、又は、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムな
どの過硫酸塩、並びにこれらを用いたレドックス触媒を
開始剤として共重合させて合成し得る。
上記AA・DAA共重合体において、AAの比率が低いほど
相反則不軌特性が強くなるが、逆に現像特性は悪くな
り、現像するため長い時間と大量の現像水を必要とす
る。AAの比率が67％を越えると現像性は良くなるが、相
反則不軌特性と感度が悪くなる。相反則不軌特性と現像
性への要求を一つの組成の共重合体で満足することは困
難である。
相反則不軌特性が強くなるが、逆に現像特性は悪くな
り、現像するため長い時間と大量の現像水を必要とす
る。AAの比率が67％を越えると現像性は良くなるが、相
反則不軌特性と感度が悪くなる。相反則不軌特性と現像
性への要求を一つの組成の共重合体で満足することは困
難である。
AAの組成比が55〜67％の共重合体とAAの組成比が67％
を越えると共重合体で両者のAAの組成比の差が８％以上
ある場合には、塗膜にした場合相分離が起こる。相分離
した状態の膜を現像すると、現像性の良い組成の共重合
体部分が先に現像されてしまうため、現像性の悪い組成
の共重合体部分の表面積が大きくなり、この部分の現像
性も向上するため全体の現像性が改善されると思われ
る。従来、ホトレジスト膜が相分離すると、解像性が悪
くなると言われているが、本発明の共重合体の場合に
は、相分離によって生成する島状の固まりの大きさがブ
ラックマトリクスのホール径に比べて十分小さいので、
解像度への影響はほとんどない。
を越えると共重合体で両者のAAの組成比の差が８％以上
ある場合には、塗膜にした場合相分離が起こる。相分離
した状態の膜を現像すると、現像性の良い組成の共重合
体部分が先に現像されてしまうため、現像性の悪い組成
の共重合体部分の表面積が大きくなり、この部分の現像
性も向上するため全体の現像性が改善されると思われ
る。従来、ホトレジスト膜が相分離すると、解像性が悪
くなると言われているが、本発明の共重合体の場合に
は、相分離によって生成する島状の固まりの大きさがブ
ラックマトリクスのホール径に比べて十分小さいので、
解像度への影響はほとんどない。
さらに塗膜が相分離した場合つぎのような利点がある
ことが明らかになった。すなわち、このような塗膜を硬
化、現像すると、硬化した部分の塗膜の表面には凹凸が
形成されている。この塗膜上に光吸収性物質を塗布した
とき、上記塗膜表面の凸部は光吸収性物質層の上に突出
するか、あるいは光吸収性物質層の表面から極めて浅い
所に存在しているものと思われる。その結果剥離液を作
用させると、塗膜が従来より速やかに剥離するという効
果がある。
ことが明らかになった。すなわち、このような塗膜を硬
化、現像すると、硬化した部分の塗膜の表面には凹凸が
形成されている。この塗膜上に光吸収性物質を塗布した
とき、上記塗膜表面の凸部は光吸収性物質層の上に突出
するか、あるいは光吸収性物質層の表面から極めて浅い
所に存在しているものと思われる。その結果剥離液を作
用させると、塗膜が従来より速やかに剥離するという効
果がある。
AAのモノマー組成比が10％以上差がある場合、通常の
方法で塗膜を形成すれば塗膜は相分離し易い。しかし上
記の差が８％程度のとき、二種の共重合体の分子量の差
によって、あるいは他の原因で塗膜が相分離し難い場合
もある。このようなときは塗膜の乾燥を長時間かけて行
なうなどの方法で、相分離し易い状態を選ぶことが好ま
しい。なお、AAのモノマー組成比が55％未満の共重合体
は溶解性が悪い。
方法で塗膜を形成すれば塗膜は相分離し易い。しかし上
記の差が８％程度のとき、二種の共重合体の分子量の差
によって、あるいは他の原因で塗膜が相分離し難い場合
もある。このようなときは塗膜の乾燥を長時間かけて行
なうなどの方法で、相分離し易い状態を選ぶことが好ま
しい。なお、AAのモノマー組成比が55％未満の共重合体
は溶解性が悪い。
本発明の感光性組成物に用いられる水溶性ビスアジド
化合物としては、芳香族化合物、例えば4,4′−ジアジ
ドベンザルアセトフェノン−２−スルホン酸及びその塩
（二ナトリウム塩など）、4,4′−ジアジドスチルベン
−2,2′−ジスルホン酸及びその塩、4,4′−ジアジドス
チルベン−γ−カルボン酸及びその塩、並びに一般式 （ここにR1,R2は、水素あるいはアルキル基であり、R1
とR2は連結して環状構造を形成する場合もあり、Ｍおよ
びＭ′は、水素、アルカリ金属、アンモニウムなどの水
溶液中において陽イオンとなり得る原子又は原子団であ
り、ｎは０又は１である）で表わされる化合物、例え
ば、4,4′−ジアジドベンザルアセトン−2,2′−ジスル
ホン酸二ナトリウム塩、1,3−ビス（４′−アジド−
２′−スルホベンジリデン）ブタノン二ナトリウム塩、
2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホベンジリデ
ン）シクロヘキサノン二ナトリウム塩、2,6−ビス
（４′−アジド−２′−スルホベンジリデン）−４−メ
チルシクロヘキサノン二ナトリウム塩、2,5−ビス
（４′−アジド−２′−スルホベンジリデン）シクロペ
ンタノンニナトリウム塩（以上ｎ＝０の例）、4,4′−
ジアジドシンナミリデンアセトン−2,2′−ジスルホン
酸二ナトリウム塩、2,6−ビス（４′−アジド−２′−
スルホシンナミリデン）シクロヘキサノン二ナトリウム
塩、2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホシンナミ
リデン）−４−メチルシクロヘキサノン二ナトリウム
塩、2,5−ビス（４′−アジド−２′−スルホシンナミ
リデン）シクロペンタノン二ナトリウム塩（以上ｎ＝１
の例）などである。これらを２種以上混合して用いるこ
とができる。
化合物としては、芳香族化合物、例えば4,4′−ジアジ
ドベンザルアセトフェノン−２−スルホン酸及びその塩
（二ナトリウム塩など）、4,4′−ジアジドスチルベン
−2,2′−ジスルホン酸及びその塩、4,4′−ジアジドス
チルベン−γ−カルボン酸及びその塩、並びに一般式 （ここにR1,R2は、水素あるいはアルキル基であり、R1
とR2は連結して環状構造を形成する場合もあり、Ｍおよ
びＭ′は、水素、アルカリ金属、アンモニウムなどの水
溶液中において陽イオンとなり得る原子又は原子団であ
り、ｎは０又は１である）で表わされる化合物、例え
ば、4,4′−ジアジドベンザルアセトン−2,2′−ジスル
ホン酸二ナトリウム塩、1,3−ビス（４′−アジド−
２′−スルホベンジリデン）ブタノン二ナトリウム塩、
2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホベンジリデ
ン）シクロヘキサノン二ナトリウム塩、2,6−ビス
（４′−アジド−２′−スルホベンジリデン）−４−メ
チルシクロヘキサノン二ナトリウム塩、2,5−ビス
（４′−アジド−２′−スルホベンジリデン）シクロペ
ンタノンニナトリウム塩（以上ｎ＝０の例）、4,4′−
ジアジドシンナミリデンアセトン−2,2′−ジスルホン
酸二ナトリウム塩、2,6−ビス（４′−アジド−２′−
スルホシンナミリデン）シクロヘキサノン二ナトリウム
塩、2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホシンナミ
リデン）−４−メチルシクロヘキサノン二ナトリウム
塩、2,5−ビス（４′−アジド−２′−スルホシンナミ
リデン）シクロペンタノン二ナトリウム塩（以上ｎ＝１
の例）などである。これらを２種以上混合して用いるこ
とができる。
これらのビスアジド化合物は、共重合体に対して１〜
50重量％の範囲で用いるのが好ましい。ビスアジド化合
物が１％未満では感度が十分でなく、また50％を越える
と塗膜したときの膜の性質が好ましくない。
50重量％の範囲で用いるのが好ましい。ビスアジド化合
物が１％未満では感度が十分でなく、また50％を越える
と塗膜したときの膜の性質が好ましくない。
さらに本発明の感光性組成物は、塗料特性、塗膜特性
の改良のため、エチレングリコール、ソルビトールある
いは界面活性剤などを加えることができる。一般に上記
特性改良のためこれらの物質が加えられることは公知で
あり、前記特公昭52−20225にも一部のことは開示され
ている。本発明は、このような改良も含むものである。
このような界面活性剤としては、例えばポリオキシエチ
レンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェノールエーテル系としてポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオ
キシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノ
ールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエ
ーテルなどが用いられ、また、ソルビタン脂肪酸エステ
ル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
系、ポリオキシエチレンアシルエステル系、脂肪酸モノ
グリセライド系化合物が用いられる。
の改良のため、エチレングリコール、ソルビトールある
いは界面活性剤などを加えることができる。一般に上記
特性改良のためこれらの物質が加えられることは公知で
あり、前記特公昭52−20225にも一部のことは開示され
ている。本発明は、このような改良も含むものである。
このような界面活性剤としては、例えばポリオキシエチ
レンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェノールエーテル系としてポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオ
キシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノ
ールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエ
ーテルなどが用いられ、また、ソルビタン脂肪酸エステ
ル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
系、ポリオキシエチレンアシルエステル系、脂肪酸モノ
グリセライド系化合物が用いられる。
本発明の感光性組成物は、塗膜とガラスとの接着性改
良のため、少量の接着促進剤を加えることができる。こ
れらのことも前記特公昭52−20225に開示されている。
これらの接着促進剤としては、例えばビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−β（アミノエチル）
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（ア
ミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
などの水溶性の官能性アルコキシシランが用いられる。
良のため、少量の接着促進剤を加えることができる。こ
れらのことも前記特公昭52−20225に開示されている。
これらの接着促進剤としては、例えばビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−β（アミノエチル）
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（ア
ミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
などの水溶性の官能性アルコキシシランが用いられる。
上記組成物を用いてパターンを形成するには、前記シ
ュバルツシルト定数ｐが０＜ｐ＜0.76の範囲となるよう
な条件で光照射すればよい。このような条件については
特公昭52−20225に説明してある。
ュバルツシルト定数ｐが０＜ｐ＜0.76の範囲となるよう
な条件で光照射すればよい。このような条件については
特公昭52−20225に説明してある。
以下、本発明を実施例に用いて説明する。
実施例 １ 次に示すような組成の感光性組成物を調合した。アク
リルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体１（組
成比AA62％,DAA38％） ……0.75g AA−DAA共重合体２（組成比AA71％,DAA29％）……0.75g 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナ
トリウム塩 ……0.15g エチレングリコール ……1.2g イオン純水 ……98g 上記組成物を14イオン用ブラウン管のフェースプレー
ト内面に125rpmの回転数で回転塗布し、赤外線ヒータで
加熱乾燥した。シャドウマスクをマスクとして、R,G,B3
色のけい光体ドットが形成される位置に赤外線露光を行
なった。露光後、シャドウマスクをはずし、40℃の温水
を2.5kg/cm2の圧力で吹きつけることにより現像を行な
った。40秒間の現像で、未露光部の膜は完全に除去され
た。なお、この膜の上にカーボン県濁液を塗布、乾燥し
て後、通常の剥離液で塗膜パターンを剥離した所、塗膜
は速やかに剥離した。
リルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体１（組
成比AA62％,DAA38％） ……0.75g AA−DAA共重合体２（組成比AA71％,DAA29％）……0.75g 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナ
トリウム塩 ……0.15g エチレングリコール ……1.2g イオン純水 ……98g 上記組成物を14イオン用ブラウン管のフェースプレー
ト内面に125rpmの回転数で回転塗布し、赤外線ヒータで
加熱乾燥した。シャドウマスクをマスクとして、R,G,B3
色のけい光体ドットが形成される位置に赤外線露光を行
なった。露光後、シャドウマスクをはずし、40℃の温水
を2.5kg/cm2の圧力で吹きつけることにより現像を行な
った。40秒間の現像で、未露光部の膜は完全に除去され
た。なお、この膜の上にカーボン県濁液を塗布、乾燥し
て後、通常の剥離液で塗膜パターンを剥離した所、塗膜
は速やかに剥離した。
比較例 １ 次に示すような組成の感光液を調合した。
AA・DAA共重合体 （組成比AA62％,DAA38％） ……1.50g 4,4′−ジアジドスチレベン−2,2′−ジスルホン酸二ナ
トリウム塩 ……0.15g エチレングリコール ……1.2g イオン純水 ……98g 上記組成物を、14インチのフェースプレートに塗布
し、実施例１と同様に紫外線露光を行ない、ついで、40
℃の温水により現像を行なった。未露光部の膜が完全に
除去されるまでに、約70秒の時間を要した。
トリウム塩 ……0.15g エチレングリコール ……1.2g イオン純水 ……98g 上記組成物を、14インチのフェースプレートに塗布
し、実施例１と同様に紫外線露光を行ない、ついで、40
℃の温水により現像を行なった。未露光部の膜が完全に
除去されるまでに、約70秒の時間を要した。
比較例 ２ 比較例１のAA・DAA共重合体の代わりに、組成比がAA7
1％,DAA29％のAA・DAA共重合体を用いると、現像時間は
40秒で未露光部の膜は除去することができたが、相反則
不軌性が不足し、実施例１と同様の露光条件では、露光
部分の変形が認められた。
1％,DAA29％のAA・DAA共重合体を用いると、現像時間は
40秒で未露光部の膜は除去することができたが、相反則
不軌性が不足し、実施例１と同様の露光条件では、露光
部分の変形が認められた。
実施例 ２ 次に示すような組成の感光液を調合した。
AA・DAA共重合体 （組成比AA60％,DAA40％） ……0.75g AA・DAA共重合体 （組成比AA71％,DAA29％） ……0.75g 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナ
トリウム塩 ……0.30g エチレングリコール ……1.50g イオン純水 ……97g 実施例１と同様に、フェースプレートに塗布し、露光
を行なった。未露光部の膜を完全に除去するためには、
約50秒の現像時間が必要であった。
トリウム塩 ……0.30g エチレングリコール ……1.50g イオン純水 ……97g 実施例１と同様に、フェースプレートに塗布し、露光
を行なった。未露光部の膜を完全に除去するためには、
約50秒の現像時間が必要であった。
この場合には、露光部分の変形は全く認められなかっ
た。
た。
実施例 ３ 次に示すような組成の感光液を調合した。
AA・DAA共重合体 （組成比AA66％,DAA34％） ……0.75g AA・DAA共重合体 （組成比AA75％,DAA25％） ……0.75g 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナ
トリウム塩 ……0.45g エチレングリコール ……0.45g イオン純水 ……98g 実施例１と同様にフェースプレートに塗布し露光をし
た。未露光部の膜を完全に除去するためには、約30秒の
現像時間が必要であった。この場合には若干の露光部の
変形が認められた。
トリウム塩 ……0.45g エチレングリコール ……0.45g イオン純水 ……98g 実施例１と同様にフェースプレートに塗布し露光をし
た。未露光部の膜を完全に除去するためには、約30秒の
現像時間が必要であった。この場合には若干の露光部の
変形が認められた。
本発明によれば、相反則不軌特性を変化させることな
く、現像性を改良できるという効果がある。
く、現像性を改良できるという効果がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 清司 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日 立製作所茂原工場内 (72)発明者 小高 芳之 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日 立製作所茂原工場内 (56)参考文献 特開 昭50−33764（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−60431（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−168248（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−75633（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−68801（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミ
ド共重合体であって、アクリルアミド組成比が55〜67モ
ル％の範囲の第１の共重合体と、 アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体で
あって、アクリルアミド組成比が67モル％を越え、か
つ、上記第１の共重合体のアクリルアミド組成比との差
が８モル％以上である第２の共重合体と、 水溶性ビスアジド化合物とからなることを特徴とする感
光性組成物。 - 【請求項２】基板上に、アクリルアミド−ジアセトンア
クリルアミド共重合体であって、アクリルアミド組成比
が55〜67モル％の範囲の第１の共重合体と、 アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体で
あって、アクリルアミド組成比が67モル％を越え、か
つ、上記第１の共重合体のアクリルアミド組成比との差
が８モル％以上である第２の共重合体と、 水溶性ビスアジド化合物とからなる感光性組成物の塗膜
を形成する工程、 該塗膜にシュバルツシルト定数ｐが０＜ｐ＜0.76の条件
で所定のパターンの露光を行なう工程及び 該露光された塗膜を現像する工程よりなることを特徴と
するパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62168571A JP2643155B2 (ja) | 1987-07-08 | 1987-07-08 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62168571A JP2643155B2 (ja) | 1987-07-08 | 1987-07-08 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6413540A JPS6413540A (en) | 1989-01-18 |
| JP2643155B2 true JP2643155B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=15870510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62168571A Expired - Fee Related JP2643155B2 (ja) | 1987-07-08 | 1987-07-08 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2643155B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06258823A (ja) * | 1993-03-05 | 1994-09-16 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂 |
| KR100312679B1 (ko) * | 1994-12-09 | 2001-12-28 | 김순택 | 폴리아크릴아마이드-디아세톤아크릴아마이드공중합체의제조방법 |
| KR100366075B1 (ko) * | 1995-11-17 | 2004-05-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성조성물에사용되는고분자및그제조방법 |
| JPH10301272A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-13 | Toyo Gosei Kogyo Kk | 感光性組成物及びパターン形成方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5220225B2 (ja) * | 1973-07-25 | 1977-06-02 | ||
| JPS5660431A (en) * | 1979-10-24 | 1981-05-25 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition and pattern forming method |
| JPS57168248A (en) * | 1981-04-09 | 1982-10-16 | Kimoto & Co Ltd | Formation of image with nonsilver photoresist composition |
| JPS6275633A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
-
1987
- 1987-07-08 JP JP62168571A patent/JP2643155B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6413540A (en) | 1989-01-18 |
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|---|---|---|---|
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