DE4407292A1 - Lichtempfindliches Harz - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein lichtempfindliches
Harz.
Als lichtempfindliche Harze mit hoher Empfindlichkeit wurden
lichtempfindliche Harze mit einer Azidgruppe als licht
empfindliche funktionelle Gruppe verwendet. Derartige licht
empfindliche Harze umfassen ein Gemisch aus einem lichtun
empfindlichen Polymer und ein Lichtvernetzungsmittel vom
Bisazidtyp, das in der veröffentlichten, ungeprüften japani
schen Patentanmeldung Nr. Sho 64-13540 beschrieben ist, und
ein lichtempfindliches Polymer mit mindestens zwei Azidgrup
pen im Molekül, das in der veröffentlichten, ungeprüften ja
panischen Patentanmeldung Nr. Hei 4-50205 beschrieben ist.
Da jedoch das erstgenannte, lichtempfindliche Harz nur zwei
lichtempfindliche funktionelle Gruppen im Molekül des Licht
vernetzungsmittels vom Bisazidtyp umfaßt, weist das Harz
eine geringe Lichtvernetzbarkeit und eine geringe Empfind
lichkeit gegenüber Licht auf.
Das letztgenannte, lichtempfindliche Harz besitzt eine Azid
gruppe, eine direkt an den aromatischen Ring gebundene Sul
fonatgruppe und auch eine Gruppe mit einer Kohlenstoff-Koh
lenstoff-Doppelbindung, die mit dem aromatischen Ring konju
giert ist. Daher sind die Sulfonatgruppen in einem Beschich
tungsfilm, der aus dem lichtempfindlichen Harz gebildet
wird, miteinander assoziiert. Im Ergebnis werden viele Pro
dukte von Kupplungsreaktionen (konjugierte Verbindungen vom
Azotyp) wegen der Kupplungsreaktionen zwischen den Azidgrup
pen in der Nähe der Sulfonatgruppen erzeugt. Auf diese Weise
absorbieren sie das für die Umsetzung nötige Licht und ver
hindern das Härten im Inneren des Beschichtungsfilms. Mit
anderen Worten ist die Festigkeit des Beschichtungsfilms
nicht ausreichend für praktische Anwendungen.
Demgemäß ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein licht
empfindliches Harz mit hoher Empfindlichkeit bereitzustel
len, das leicht hergestellt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein licht
empfindliches Harz mit mindestens einer Gruppe der folgenden
Formel (1) im Molekül,
in der n eine ganze Zahl von 1 bis 10 bedeutet.
Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Harz weist min
destens eine Gruppe der vorstehend genannten Formel (1) im
Molekül auf. Gewöhnlich ist das lichtempfindliche Harz durch
Umsetzung einer Verbindung (A) der Formel (2) und einem Po
lymer (B) mit mindestens einer gegenüber einem Epoxid reak
tiven Gruppe erhältlich. Die Verbindung (A) wird durch die
folgende Formel (2) dargestellt,
in der n eine ganze Zahl von 1 bis 10 bedeutet.
Die vorstehend genannte Verbindung (A) besitzt eine Azid
gruppe, eine Epoxidgruppe und eine wiederkehrende Einheit
mit einer zu einem aromatischen Ring konjugierten Kohlen
stoff-Kohlenstoff-Doppelbindung im Molekül.
Durch Anregung mit elektromagnetischer Strahlung, wie ultra
violetter oder sichtbarer Strahlung, und Teilchenstrahlung,
wie Elektronenstrahlung oder ähnlichem, wird aus der Azid
gruppe der Verbindung (A) ein Nitren als aktiver Ausgangs
stoff erzeugt. Anschließend werden durch das Nitren Dimeri
sierungsreaktionen zwischen Nitren, Additionsreaktionen an
Doppelbindungen, Wasserstoffabstraktionsreaktionen und ähn
liches bewirkt, wodurch die Vernetzung der Polymermoleküle
erreicht wird und ein positives Bild erzeugt werden kann. Da
die in Verbindung (A) enthaltene Azidgruppe an einer zu
einer Chalkongruppe konjugierten Position angeordnet ist,
liegt ihr UV-Absorptionsbereich oberhalb 300 nm. Das aus
Verbindung (A) erhältliche erfindungsgemäße, lichtempfindli
che Harz weist daher eine hohe Empfindlichkeit auf.
Die Epoxygruppe wird zum Umsetzungspunkt für die im Polymer
(B) enthaltene aktive Gruppe.
In der vorstehend genannten Formel (1) bedeutet n eine ganze
Zahl von 1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 3. Der Absorptionsbe
reich wird gewöhnlich mit wachsendem n zu längeren Wellen
längen verschoben. Jedoch besteht geringe Aussicht auf Ver
besserungen bezüglich der Wirkung des lichtempfindlichen
Harzes, wenn n zu groß wird.
Die Verbindung (A) wird durch folgende Schritte hergestellt
durch
Lösen einer Verbindung der folgenden Formel (3),
in der n eine ganze Zahl von 1 bis 10 bedeutet,
von Epichlorhydrin und Benzyltrimethylammoniumchlorid in einem aprotischen, polaren Lösungsmittel,
Zugabe von Natriumhydroxidplätzchen bei einer Temperatur unter 40°C und
Rühren bei einer Temperatur unter 40°C.
von Epichlorhydrin und Benzyltrimethylammoniumchlorid in einem aprotischen, polaren Lösungsmittel,
Zugabe von Natriumhydroxidplätzchen bei einer Temperatur unter 40°C und
Rühren bei einer Temperatur unter 40°C.
Diese Schritte werden in dem folgenden Reaktionsschema dar
gestellt:
in dem n eine ganze Zahl von 1 bis 10 bedeutet.
Die in Polymer (B) enthaltene aktive Gruppe, die reaktiv ge
genüber Epoxid ist, ist beispielsweise eine Carboxyl-,
Amino-, Imino-, phenolische Hydroxyl-, alkoholische Hydro
xyl- oder Mercaptogruppe. Unter diesen sind eine Carboxyl-,
Amino- oder phenolische Hydroxylgruppe bevorzugt.
Erfindungsgemäße Polymere (B) sind beispielsweise Vinylpoly
mere, wie Homo- oder Copolymere von Methacrylsäure, Malein
säure, Maleinsäuremonoester, Allylamin oder Parahydroxysty
rol, Harze auf Kondensationspolymerisationsbasis, wie Phe
nolharze, Aminosäureharze, Polyamidharze, Polyesterharze,
Epoxyharze oder Melaminharze, und Gemische von zweien oder
mehreren dieser Polymere. Erfindungsgemäß verwendet, bezieht
sich "(Meth)acryl" auf "Acryl" und/oder "Methacryl".
Bevorzugte Polymere sind Vinylpolymere oder Phenolharze. Die
Homo- oder Copolymere von Methacrylsäure und die Homo- oder
Copolymere von Maleinsäure oder Maleinsäuremonoester sind am
stärksten bevorzugt.
In den vorstehend genannten Polymeren (B) beträgt das Mole
kulargewicht des Vinylpolymers gewöhnlich 2000 bis 50 000,
bevorzugt 3000 bis 30 000. Das Molekulargewicht des Harzes
auf Kondensationspolymerbasis beträgt gewöhnlich 500
bis 50 000, bevorzugt 1000 bis 10 000. Der Polymerisations
grad des Vinylpolymers beträgt gewöhnlich 20 bis 500, bevor
zugt 30 bis 300. Der Polymerisationsgrad des Harzes auf Kon
densationspolymerbasis, beträgt normalerweise 5 bis
350, bevorzugt 10 bis 100. Die Molekulargewichtsverteilung
des Vinylpolymers ist gewöhnlich kleiner als 5, bevorzugt
kleiner als 3. Die Molekulargewichtsverteilung des Harzes
auf Kondensationspolymerbasis, ist normalerweise
kleiner als 10, bevorzugt kleiner als 5.
Der copolymerisierbare Monomerbestandteil im Vinylpolymer
ist beispielsweise 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat, Acrylamid,
N,N-Dimethylacrylamid, Acrylnitril, Diacetonacrylamid, N-Vi
nyl-2-pyrrolidon, Vinylacetat, Methyl(meth)acrylat, Allylal
kohol, Methylvinylether, Ethylvinylether, Propylvinylether,
Butylvinylether und Gemische von zweien oder mehreren dieser
Monomere. Beispielsweise werden 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat
oder Diacetonacrylamid als Comonomerbestandteil bevorzugt
verwendet, wenn der hauptsächliche Monomerbestandteil
(Meth)acrylsäure ist. Auch Methylvinylether wird im Fall von
Maleinsäure oder Maleinsäuremonoester bevorzugt als Comono
merbestandteil verwendet. Ferner ist es bevorzugt, Allylal
kohol im Fall von Allylamin als Comonomerbestandteil zu ver
wenden. 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat wird vorzugsweise als
Comonomerbestandteil im Fall von Parahydroxystyrol verwen
det.
Das Copolymerisationsverhältnis von Copolymermonomer ist
kleiner als 70 Mol-%, bevorzugt 10 bis 50 Mol-%. Besondere
Beispiele des erfindungsgemäßen Polymers (B) sind ein Copo
lymer von (Meth)acrylsäure mit 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat,
ein Copolymer von Maleinsäuremonobutylester mit Methylvi
nylether, ein Homopolymer von Allylamin und ein Phenolnovo
lakharz. Stärker bevorzugt sind ein Copolymer von
(Meth)acrylsäure mit 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat oder ein
Copolymer von Maleinsäuremonobutylester mit Methylvi
nylether.
Es ist bevorzugt, daß das Polymer (B) im wesentlichen frei
von Sulfonatgruppen ist.
Die Empfindlichkeit wird mit wachsender Anzahl von aktiven
Gruppen im Molekül, die gegenüber Epoxid reaktiv sind, ver
stärkt. Ist die Anzahl jedoch zu groß, ist es wahrschein
lich, daß das lichtempfindliche Harz während der Lagerung
des Harzes zu viskos wird.
Um die Umweltverschmutzung möglichst gering zu halten und
die Arbeitssicherheit zu erhöhen, ist das lichtempfindliche
Harz bevorzugt wasserlöslich. Verfahren, das lichtempfindli
che Harz wasserlöslich zu machen sind:
- (1) Herstellung eines wasserlöslichen Polymers (B) durch Verwendung eines Homo- oder Copolymers, umfassend einen wasserlöslichen Monomerbestandteil, und
- (2) Neutralisation von gegenüber Epoxid reaktiven Gruppen, die nach der Umsetzung von Verbindung (A) und Polymer (B) übrig bleiben, mit Alkali oder Säure, die mit den aktiven Gruppen ein Salz bilden können.
Ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen licht
empfindlichen Harzes umfaßt folgende Schritte:
Lösen einer Verbindung (A), des Polymers (B) und, falls nö tig, eines Katalysators, wie beispielsweise eines quartären Ammoniumsalzes oder Triphenylphosphins, in einem Lösungsmit tel, wie Methylcellosolve, und
Umsetzung bei 60-100°C für 5 bis 30 Stunden.
Lösen einer Verbindung (A), des Polymers (B) und, falls nö tig, eines Katalysators, wie beispielsweise eines quartären Ammoniumsalzes oder Triphenylphosphins, in einem Lösungsmit tel, wie Methylcellosolve, und
Umsetzung bei 60-100°C für 5 bis 30 Stunden.
Das Molverhältnis von Verbindung (A), bezogen auf die gegen
über dem Epoxid aktiven Gruppen im Polymer (B), beträgt ge
wöhnlich weniger als 50%, bevorzugt 10 bis 30%. Nimmt die
ses Verhältnis zu, so erhöht sich die Empfindlichkeit des
lichtempfindlichen Harzes. Ist das Verhältnis jedoch zu
groß, wird das Harz während der Lagerung des Harzes zu vis
kos. Falls nötig, können nicht umgesetzte Carboxylgruppen,
die reaktiv gegenüber Epoxid sind, mit Alkali neutralisiert
werden, um dem lichtempfindlichen Harz hydrophile Eigen
schaften zu verleihen.
Falls nötig, können andere Polymere zu dem erfindungsge
mäßen, lichtempfindlichen Harz zugefügt werden. Durch das
Hinzufügen eines Polymers zu dem lichtempfindlichen Harz
können die Filmbildungseigenschaften und die Reaktivität ge
genüber Licht verbessert werden. Jedes Polymer, das im er
findungsgemäßen, lichtempfindlichen Harz löslich ist, kann
verwendet werden. Geeignete synthetische Polymere sind bei
spielsweise Homo- und Copolymere von Vinylmonomeren, wie Po
lyvinylpyrrolidon, Polyvinylalkohol, oder Polyacrylamid,
Phenolharze, Polyamidharze, Polyesterharze und Polyimid
harze. Beispiele von natürlichen Polymeren sind Stärke, Cel
lulose, Gelatine, Casein, Leim oder natürlicher Kautschuk.
Die zum erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Harz hinzuge
fügte Polymermenge beträgt gewöhnlich weniger als 1000 Gew.-%,
bevorzugt 50-600 Gew.-%, bezogen auf lichtempfindliches
Harz. Zwei oder mehrere dieser Polymere können anstatt einem
zu dem lichtempfindlichen Harz hinzugefügt werden.
Falls notwendig, können Lichtvernetzungsmittel zu dem licht
empfindlichen, erfindungsgemäßen Harz hinzugefügt werden, um
seine Empfindlichkeit zu verbessern. Beispiele solcher
Lichtvernetzungsmittel sind Monomere auf Acrylsäureesterba
sis, Acrylsäureesteroligomere, wie Ethylenglykoldiacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat oder Epoxyacrylat, Diazoverbin
dungen, wie Kondensationsprodukte von p-Diazodiphenylamin
und Paraformaldehyd, Azidverbindungen, wie 4,4′-Diazidstil
ben-2,2′-disulfonsäurenatriumsalz oder 2,6-Di(4′-azido
benzal)cyclohexan, Verbindungen auf Dichromatbasis, wie Am
moniumdichromat oder Natriumdichromat, oder Verbindungen auf
Zimtsäureesterbasis. Die zu dem erfindungsgemäßen, licht
empfindlichen Harz zugegebene Menge an Lichtvernetzungsmit
tel beträgt gewöhnlich weniger als 500 Gew.-%, vorzugsweise
10 bis 200 Gew.-%, bezogen auf das Harz. Es können zwei oder
mehrere dieser vernetzenden Mittel zu dem lichtempfindlichen
Harz zugegeben werden.
Nötigenfalls kann ebenfalls ein oberflächenaktives Mittel zu
dem erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Harz zugegeben
werden, wodurch die Benetzbarkeit des das lichtempfindliche
Harz umfassenden Beschichtungsfilms erhöht wird. Solange das
oberflächenaktive Mittel im lichtempfindlichen Harz löslich
ist, gibt es keine Beschränkungen auf bestimmte Arten von
oberflächenaktiven Mitteln. Beispiele derartiger oberflä
chenaktiver Mittel sind anionische, nicht-ionische und
kationische oberflächenaktive Mittel. Unter diesen oberflä
chenaktiven Mitteln sind nicht-ionische oberflächenaktive
Mittel, wie Alkylphenolethylenoxidaddukte, wie Nonyl
phenolethylenoxid (10 Mol-Addukt), bevorzugt. Die zu dem er
findungsgemäßen, lichtempfindlichen Harz zugegebene Menge an
oberflächenaktiven Mitteln beträgt gewöhnlich weniger als 10
Gew.-%, bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Harz.
Nötigenfalls kann ein Haftvermittler zu dem erfindungsge
mäßen, lichtempfindlichen Harz hinzugefügt werden. Beispiele
eines derartigen Haftvermittlers sind silanartige Kupplungs
mittel, wie ein eine Aminogruppe aufweisendes Trimethoxysi
lan, oder titanartige Kupplungsmittel. Die Menge an Haftver
mittler, die zu dem erfindungsgemäßen lichtempfindlichen
Harz zugegeben wird, beträgt gewöhnlich weniger als 10 Gew.-%,
vorzugsweise 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Harz.
Nötigenfalls kann ein Lösungsmittel zu dem erfindungsge
mäßen, lichtempfindlichen Harz zugegeben werden, um die Ver
arbeitbarkeit, wie Viskositätsverhalten während dem Be
schichtungsschritt und die Lagerstabilität, zu verbessern.
Solange die Bestandteile des lichtempfindlichen Harzes im
Lösungsmittel löslich sind, ist das Lösungsmittel nicht auf
eine bestimmte Art beschränkt. Beispiele des Lösungsmittels
sind Wasser, alkoholische Lösungsmittel, wie Methanol,
Ethylalkohol oder Isopropylalkohol, cellosolvartige Lösungs
mittel, wie Methylcellosolve, Ethylcellosolve oder Butylcel
losolve, Diethylenglykolmonoether-artige Lösungsmittel, wie
Diethylenglykolmonomethylether oder Diethylenglykolmono
ethylether, amidartige Lösungsmittel, wie N-Methyl-2-pyrro
lidon, Dimethylformamid oder N,N-Dimethylacetamid. Das Lö
sungsmittel kann entweder alleine oder im Gemisch verwendet
werden. Die Menge an Lösungsmittel, die zu dem erfindungsge
mäßen, lichtempfindlichen Harz zugegeben wird, beträgt ge
wöhnlich 5000 Gew.-%, bevorzugt 500 bis 4000 Gew.-%, bezogen
auf das Harz.
Außerdem können nötigenfalls Füllstoffe zu dem erfindungsge
mäßen, lichtempfindlichen Harz gegeben werden, um z. B. die
Hitzebeständigkeit oder die elektrischen Eigenschaften des
lichtempfindlichen Harzes zu verbessern. Beispiele sind Cal
ciumcarbonat, Glimmer, Kaolin, Talk, Aluminiumsilikat, Ba
riumsulfat, Siliziumdioxidpulver oder Ton. Die Menge an
Füllstoff, die zu dem erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen
Harz zugegeben wird, beträgt gewöhnlich weniger als 500
Gew.-%, bevorzugt 50 bis 200 Gew.-%, bezogen auf das licht
empfindliche Harz. Zwei oder mehrere dieser Füllstoffe kön
nen zu dem lichtempfindlichen Harz zugegeben werden.
Nötigenfalls kann das erfindungsgemäße, lichtempfindliche
Harz durch Zugabe eines Farbpigments oder eines Farbstoffs
zu dem Harz gefärbt werden. Beispiele des Farbpigments sind
phthalocyaninartige Pigmente, Titanoxide oder Ruße. Bei
spiele von Farbstoffen sind Azofarbstoffe, Anthrachinonfarb
stoffe, indigoide Farbstoffe, Schwefelfarbstoffe, Triphenyl
methanfarbstoffe, Pyrazolonfarbstoffe, Stilbenfarbstoffe,
Diphenylmethanfarbstoffe, Xanthenfarbstoffe, Alizarinfarb
stoffe, Acridinfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Thiazol
farbstoffe, Methinfarbstoffe, Nitrofarbstoffe oder Nitroso
farbstoffe. Die Menge an Farbpigment oder Farbstoff, die zu
dem erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Harz zugegeben
wird, beträgt gewöhnlich weniger als 50 Gew.-%, bevorzugt
0,5-10 Gew.-%, bezogen auf das Harz. Zwei oder mehrere der
Farbpigmente oder Farbstoffe können zu dem Harz hin zugegeben
werden.
Träger, die verwendet werden, um das erfindungsgemäße,
lichtempfindliche Harz auf ihrer Oberfläche aufzubringen,
sind anorganische Stoffe, d. h. beispielsweise Metalle, wie
Eisen, Aluminium, Silizium, Kupfer, Legierungen dieser Me
talle, Zinn, oder galvanisiertes Stahlblech, keramische Pro
dukte, wie Dachziegel, Schieferplatten, Ziegel, Emaille, Ze
ment, Ziegelsteine oder Glas, und organische Stoffe, wie
synthetische Harze, Papiere, Faserstoffe, Holz oder Leder.
Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Harz wird auf die
Oberfläche des Trägers durch Verfahren, wie Rotationsbe
schichtungsverfahren, Luft-Abstreichmesserverfahren, Glätt
schaberstreichverfahren, Rakelstreichverfahren, Stangen
streichverfahren, Walzenbeschichtungsverfahren, Umkehrwal
zenbeschichtungsverfahren, Gravurstreichverfahren, Rota
tionsbeschichtungsverfahren, Schleifauftragsverfahren,
Wulststreichverfahren, Tauchbeschichtungsverfahren, Schlitz
öffnungsstreichverfahren, Spritzüberzugsverfahren, Gieß
streichverfahren, Pulverbeschichtungsverfahren, elektroche
misches Abscheideverfahren, Vakuumbeschichtungsverfahren,
Extrusionsbeschichtungsverfahren, Langumir-Blogett-(LB)-
Technik, Bürstenstreichverfahren oder Spachtelstreichverfah
ren, auf den Träger aufgebracht.
Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Harz wird durch Be
strahlung mit Licht gehärtet. Die Lichtdosis beträgt gewöhn
lich weniger als 50 mJ/cm2 (umgerechnet auf Licht der Wel
lenlänge 365 nm). Die Temperatur während der Bestrahlung
liegt im Bereich von Raumtemperatur bis 50°C, vorzugsweise
bei Raumtemperatur bis 30°C. Beispiele von Strahlungsquellen
sind Niederdruckquecksilberdampflampen, Mitteldruckquecksil
berdampflampen, Hochdruckquecksilberdampflampen, Extrahoch
druckquecksilberdampflampen, Xenonlampen, Metallhalogenlam
pen, Geräte zur Bestrahlung mit Elektronen- oder Röntgen
strahlen, Laser, wie ein Argonlaser, Farbstofflaser, Stick
stofflaser, Heliumcadmiumlaser oder YAG-Laser.
Entwicklungsverfahren sind beispielsweise das Sprühverfahren
oder Tauchverfahren. Jede Entwicklungslösung, die das licht
empfindliche Harz lösen kann, kann erfindungsgemäß verwendet
werden. Derartige Lösungen beinhalten beispielsweise organi
sche Lösungsmittel, alkalische, neutrale oder saure, wäßrige
Lösungen, oberflächenaktive Mittel enthaltende wäßrige Lö
sungen und Gemische zweier oder mehrerer dieser Lösungsmit
tel oder Lösungen.
Die Erfindung wird nun in den folgenden Beispielen näher er
läutert.
Eine wasserlösliche lichtempfindliche Harzlösung (a) wurde
gemäß den folgenden Schritten hergestellt:
2,2 g eines Copolymers von Acrylsäure und 2-Hydroxyethyl
acrylat (Molverhältnis = Acrylsäure : 2-Hydroxyethylacrylat
= 6 : 4; Molekulargewicht = 4400), 2,0 g 4-Azido-4′-glyci
doxychalcon und 0,3 g Benzyltrimethylammoniumchlorid wurden
in 25 g Methylcellosolve gelöst.
Die gelösten Materialien wurden bei 60°C 20 Stunden umge
setzt, wodurch eine lichtempfindliche Harzlösung hergestellt
wurde.
Die Lösung wurde mit 15 Gew.-% Tetramethylammoniumhydroxid
neutralisiert, wodurch die Lösung wasserlöslich gemacht
wurde.
Eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung wurde durch Mi
schen und Lösen der nachstehenden Materialien im angegebenen
Verhältnis hergestellt:
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (a) 10 Teile
Polyvinylpyrrolidon ("PVP K-90" hergestellt von International Specialty Products Inc. (ISP Inc.)) 7 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,03 Teile
N-β-(Aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilan 0,07 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
Die erhaltene Zusammensetzung wurde durch Rotationsbeschich tung auf eine Glasplatte aufgebracht, wobei ein Beschich tungsfilm mit 1,2 µm Dicke erzeugt wurde. Der Film wurde an schließend fest mit einer Photomaske mit 20 µm Leiterbahnen abstand in Kontakt gebracht, mit einer Extrahochdruckqueck silberdampflampe von 250 W bestrahlt, und bei 25°C 30 Sekun den in ionenausgetauschtes Wasser eingetaucht und schließ lich entwickelt. Das Verhältnis übriggebliebener Film zu ur sprünglichem Film wurde durch das Verhältnis von Filmdicke vor und nach der Entwicklung bestimmt. Die für die Bereit stellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ur sprünglichem Film von 50% erforderliche Belichtungsenergie betrug 3,4 mJ/cm2.
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (a) 10 Teile
Polyvinylpyrrolidon ("PVP K-90" hergestellt von International Specialty Products Inc. (ISP Inc.)) 7 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,03 Teile
N-β-(Aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilan 0,07 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
Die erhaltene Zusammensetzung wurde durch Rotationsbeschich tung auf eine Glasplatte aufgebracht, wobei ein Beschich tungsfilm mit 1,2 µm Dicke erzeugt wurde. Der Film wurde an schließend fest mit einer Photomaske mit 20 µm Leiterbahnen abstand in Kontakt gebracht, mit einer Extrahochdruckqueck silberdampflampe von 250 W bestrahlt, und bei 25°C 30 Sekun den in ionenausgetauschtes Wasser eingetaucht und schließ lich entwickelt. Das Verhältnis übriggebliebener Film zu ur sprünglichem Film wurde durch das Verhältnis von Filmdicke vor und nach der Entwicklung bestimmt. Die für die Bereit stellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ur sprünglichem Film von 50% erforderliche Belichtungsenergie betrug 3,4 mJ/cm2.
Eine in der ungeprüften, veröffentlichten japanischen Pa
tentanmeldung Nr. Sho 64-13540 offenbarte lichtempfindliche
Harzzusammensetzung wurde durch Mischen und Lösen der fol
genden Materialien hergestellt:
Acrylamiddiacetonacrylamid-Copolymer (Molverhältnis = 60 : 40) 5 Teile
Acrylamiddiacetonacrylamid-Copolymer (Molverhältnis = 72 : 28) 5 Teile
4,4′-Diazidstilben-2,2′-natriumdisulfonat 2 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL 100", hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,05 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 90 Teile
Die zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belich tungsenergie des aus der Zusammensetzung des Vergleichsbei spiels 1 erzeugten Beschichtungsfilms betrug 9,2 mJ/cm2, d. h. die Empfindlichkeit des durch das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Harz erzeugten Beschichtungsfilms ist 2,7- mal höher als die des Beschichtungsfilms des Vergleichsbei spiels 1.
Acrylamiddiacetonacrylamid-Copolymer (Molverhältnis = 72 : 28) 5 Teile
4,4′-Diazidstilben-2,2′-natriumdisulfonat 2 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL 100", hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,05 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 90 Teile
Die zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belich tungsenergie des aus der Zusammensetzung des Vergleichsbei spiels 1 erzeugten Beschichtungsfilms betrug 9,2 mJ/cm2, d. h. die Empfindlichkeit des durch das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Harz erzeugten Beschichtungsfilms ist 2,7- mal höher als die des Beschichtungsfilms des Vergleichsbei spiels 1.
Eine in der ungeprüften, veröffentlichten japanischen Pa
tentanmeldung Nr. Hei 4-50205 offenbarte lichtempfindliche
Harzzusammensetzung wurde durch Mischen und Lösen der fol
genden Materialien hergestellt:
Natriummaleat-Vinylmonoazid-cinnamoylketon-natriumsulfonat-Copolymer- 3 Teile
Acrylamid-diacetonacrylamid-Copolymer 17 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 500 Teile
Die zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belich tungsenergie des aus der Zusammensetzung von Vergleichsbei spiel 2 erzeugten Beschichtungsfilms betrug 4,0 mJ/cm2. Im Vergleich mit dem aus dem erfindungsgemäßen lichtempfindli chen Harz erzeugten Beschichtungsfilm wies der Beschich tungsfilm des Vergleichsbeispiels 2 eine äußerst dunkle, rotbraune Färbung auf. Außerdem quoll dieser Film während der Entwicklung und ein verwendbares Entwicklungsmuster wurde nicht bereitgestellt. Das heißt, da viele azoartige, konjugierte Verbindungen mit hohem Absorptionsvermögen in diesem Beschichtungsfilm erzeugt wurden, wurde die Durch dringung mit Licht verhindert. Daher war die Innenseite des Films von Vergleichsbeispiel 2 nicht vollständig gehärtet, wodurch Mängel bezüglich Haftvermögen und Quellen erzeugt wurden.
Natriummaleat-Vinylmonoazid-cinnamoylketon-natriumsulfonat-Copolymer- 3 Teile
Acrylamid-diacetonacrylamid-Copolymer 17 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 500 Teile
Die zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belich tungsenergie des aus der Zusammensetzung von Vergleichsbei spiel 2 erzeugten Beschichtungsfilms betrug 4,0 mJ/cm2. Im Vergleich mit dem aus dem erfindungsgemäßen lichtempfindli chen Harz erzeugten Beschichtungsfilm wies der Beschich tungsfilm des Vergleichsbeispiels 2 eine äußerst dunkle, rotbraune Färbung auf. Außerdem quoll dieser Film während der Entwicklung und ein verwendbares Entwicklungsmuster wurde nicht bereitgestellt. Das heißt, da viele azoartige, konjugierte Verbindungen mit hohem Absorptionsvermögen in diesem Beschichtungsfilm erzeugt wurden, wurde die Durch dringung mit Licht verhindert. Daher war die Innenseite des Films von Vergleichsbeispiel 2 nicht vollständig gehärtet, wodurch Mängel bezüglich Haftvermögen und Quellen erzeugt wurden.
Eine wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (b) wurde
gemäß den folgenden Schritten hergestellt:
3,0 g Phenolnovolakharz (Molekulargewicht = 1200), 2,3 g 4- Azid-4′-glycidoxychalcon und 0,3 g Benzyltrimethylammonium bromid wurden in 30 g Methylcellosolve gelöst.
3,0 g Phenolnovolakharz (Molekulargewicht = 1200), 2,3 g 4- Azid-4′-glycidoxychalcon und 0,3 g Benzyltrimethylammonium bromid wurden in 30 g Methylcellosolve gelöst.
Die gelösten Materialien wurden bei 80°C 20 Stunden umge
setzt, wobei eine lichtempfindliche Harzlösung hergestellt
wurde.
Die Lösung wurde mit Natriumhydroxid neutralisiert, wobei
eine wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung bereitge
stellt wurde.
Eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung wurde durch Mi
schen und Lösen der nachstehenden Materialien im angegebenen
Verhältnis hergestellt:
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (b) 12 Teile
Polyvinylpyrrolidon ("PVP K-90" hergestellt von ISP Inc.) 9 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,02 Teile
N-β-(Aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilan 0,02 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
In diesem Beispiel betrug die zur Bereitstellung eines Ver hältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belichtungsenergie 3,8 mJ/cm2. Das heißt, die Empfindlichkeit des aus der Zusammensetzung von Beispiel 2 erzeugten Beschichtungsfilmes war 2,4-mal höher als die des Beschichtungsfilmes von Vergleichsbeispiel 1. Der aus dem lichtempfindlichen Harz von Beispiel 2 erzeugte Film quoll nicht während der Entwicklung.
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (b) 12 Teile
Polyvinylpyrrolidon ("PVP K-90" hergestellt von ISP Inc.) 9 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,02 Teile
N-β-(Aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilan 0,02 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
In diesem Beispiel betrug die zur Bereitstellung eines Ver hältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belichtungsenergie 3,8 mJ/cm2. Das heißt, die Empfindlichkeit des aus der Zusammensetzung von Beispiel 2 erzeugten Beschichtungsfilmes war 2,4-mal höher als die des Beschichtungsfilmes von Vergleichsbeispiel 1. Der aus dem lichtempfindlichen Harz von Beispiel 2 erzeugte Film quoll nicht während der Entwicklung.
Eine wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (c) wurde
gemäß den folgenden Schritten hergestellt:
1,8 g Polyallylamin (Molekulargewicht = 6,200), 2,0 g 4- Azid-4′-glycidoxychalcon und 0,2 g Benzyltrimethylammonium bromid wurden in 20 g Methylcellosolve gelöst.
1,8 g Polyallylamin (Molekulargewicht = 6,200), 2,0 g 4- Azid-4′-glycidoxychalcon und 0,2 g Benzyltrimethylammonium bromid wurden in 20 g Methylcellosolve gelöst.
Die gelösten Materialien wurden bei 60°C 15 Stunden umge
setzt, wobei eine lichtempfindliche Harzlösung hergestellt
wurde. Die Lösung wurde mit Chlorwasserstoffsäure neutrali
siert, wobei eine wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlö
sung bereitgestellt wurde.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung wurde durch Mischen
und Lösen der nachstehenden Materialien im angegebenen Ver
hältnis hergestellt:
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (c) 10 Teile
Polyvinylalkohol (98% Verseifung) 9 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL 100" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,03 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
Die im Beispiel 3 zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforder liche Belichtungsenergie betrug 3,5 mJ/cm2. Das heißt, die Empfindlichkeit des aus der Harzzusammensetzung von Beispiel 3 erzeugten Beschichtungsfilms war 2,6-mal höher als die Empfindlichkeit des Beschichtungsfilmes von Vergleichsbei spiel 1. Der aus dem lichtempfindlichen Harz von Beispiel 3 erzeugte Film quoll nicht während der Entwicklung.
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (c) 10 Teile
Polyvinylalkohol (98% Verseifung) 9 Teile
Nonylphenolethylenoxid (10 Mol-Addukt, "NONIPOL 100" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,03 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
Die im Beispiel 3 zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforder liche Belichtungsenergie betrug 3,5 mJ/cm2. Das heißt, die Empfindlichkeit des aus der Harzzusammensetzung von Beispiel 3 erzeugten Beschichtungsfilms war 2,6-mal höher als die Empfindlichkeit des Beschichtungsfilmes von Vergleichsbei spiel 1. Der aus dem lichtempfindlichen Harz von Beispiel 3 erzeugte Film quoll nicht während der Entwicklung.
Eine wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (d) wurde
gemäß den folgenden Schritten hergestellt:
2,3 g Copolymer von Maleinsäuremonobutylester und Methylvi nylether (Molverhältnis von Maleinsäuremonobutylester : Me thylvinylether = 1 : 1, Molekulargewicht = 11 000), 0,73 g 4- Azid-4′-glycidoxychalcon und 0,35 g Benzyltrimethylammonium chlorid wurden in 30 g Diethylenglykolmonomethylether ge löst.
2,3 g Copolymer von Maleinsäuremonobutylester und Methylvi nylether (Molverhältnis von Maleinsäuremonobutylester : Me thylvinylether = 1 : 1, Molekulargewicht = 11 000), 0,73 g 4- Azid-4′-glycidoxychalcon und 0,35 g Benzyltrimethylammonium chlorid wurden in 30 g Diethylenglykolmonomethylether ge löst.
Die gelösten Materialien wurden bei 60°C 22 Stunden umge
setzt, wobei eine lichtempfindliche Harzlösung hergestellt
wurde. Die Lösung wurde mit 2-Amino-2-methyl-1-propanol neu
tralisiert, wodurch die Lösung wasserlöslich gemacht wurde.
Eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung wurde durch Mi
schen und Lösen der nachstehenden Materialien im angegebenen
Verhältnis hergestellt:
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (d) 12 Teile
Polyacrylamid 6 Teile
Nonylphenolethylenoxid (9 Mol-Addukt, "NONIPOL 90" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,01 Teile
N-β- (Aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilan 0,02 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
Die zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belich tungsenergie betrug in Beispiel 4 3,9 mJ/cm2. Das heißt, die Empfindlichkeit des aus der lichtempfindlichen Harzzusammen setzung von Beispiel 4 erzeugten Beschichtungsfilms war 2,4- mal höher als die des Beschichtungsfilms von Vergleichsbei spiel 1. Der aus der Zusammensetzung von Beispiel 4 erzeugte Beschichtungsfilm quoll nicht während der Entwicklung.
Wasserlösliche, lichtempfindliche Harzlösung (d) 12 Teile
Polyacrylamid 6 Teile
Nonylphenolethylenoxid (9 Mol-Addukt, "NONIPOL 90" hergestellt von Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0,01 Teile
N-β- (Aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilan 0,02 Teile
Ionenausgetauschtes Wasser 50 Teile
Die zur Bereitstellung eines Verhältnisses von verbliebenem Film zu ursprünglichem Film von 50% erforderliche Belich tungsenergie betrug in Beispiel 4 3,9 mJ/cm2. Das heißt, die Empfindlichkeit des aus der lichtempfindlichen Harzzusammen setzung von Beispiel 4 erzeugten Beschichtungsfilms war 2,4- mal höher als die des Beschichtungsfilms von Vergleichsbei spiel 1. Der aus der Zusammensetzung von Beispiel 4 erzeugte Beschichtungsfilm quoll nicht während der Entwicklung.
Da das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Harz mindestens
eine Azidgruppe im Molekül mit einem Absorptionsbereich über
300 nm aufweist, ist das Harz hochempfindlich. Außerdem sind
die Azidgruppen nicht miteinander verbunden, so daß keine
azoartige, konjugierte Verbindung mit hoher Lichtabsorption
erzeugt wird. Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Harz
besitzt daher eine hervorragende Qualität, da im Inneren des
Filmes die Härtung vollständig erfolgt. Das erfindungsge
mäße, lichtempfindliche Harz ist daher nützlich als Photo
resist für LSI, Ätzphotoresist für gedruckte Schaltplatten,
Photolötresist für gedruckte Schaltplatten, elektrochemisch
abgeschiedener Resist für gedruckte Schaltplatten, Photo
resist zur Herstellung von Druckplatten, wie Flachdruckplat
ten, Tiefdruckplatten, Hochdruckplatten, Gravurdruckplatten
oder Flexodruckplatten, Reliefmaske zum Sandstrahlen, Photo
resist zur Erzeugung dekorativer Muster, Photoresist zur
Herstellung von Siebdruckplatten, Photoresist zur Herstel
lung von Namensschildern, Photoresist zur Herstellung von
Kathodenstrahlröhren mit schwarzen Matrizen (Black
Matrices), Photoresist zur Herstellung von Kathodenstrahl
röhren mit Leuchtbildschirmen, Photoresist zum Ätzen von Me
tallen, Photoresist zur Herstellung von Indiumzinnoxid-
(ITO) -mustern für Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen, Pho
toresist zur Herstellung von Farbfiltern für Flüssigkri
stallanzeigen, Photoadhäsive, UV-härtende Tinte, UV-härtende
Farben, Ionenaustauscherharze (Membranen), permselektive
Membranen und immobilisierte Enzymmembranen.
Wie vorstehend erwähnt, weist das erfindungsgemäße, licht
empfindliche Harz eine Azidgruppe im Molekül mit einem Ad
sorptionsbereich über 300 nm auf und ist hochempfindlich.
Eine emulsionsbeschichtete Photomaske oder eine Natriumglas
photomaske, die Lichtdurchdringung innerhalb des Absorp
tionsbereichs der Azidgruppe gestatten und preiswert indu
striell verfügbar sind, können als Photomaske für das erfin
dungsgemäße, lichtempfindliche Harz verwendet werden. Das
lichtempfindliche Harz ist daher besonders nützlich als Pho
toresist.
Claims (9)
1. Lichtempfindliches Harz mit mindestens einer Gruppe der
folgenden Formel (1) im Molekül:
in der n eine ganze Zahl von 1 bis 10 bedeutet.
2. Lichtempfindliches Harz nach Anspruch 1, erhältlich
durch Umsetzung einer Verbindung (A) der folgenden For
mel (2),
in der n eine ganze Zahl von 1 bis 10 bedeutet, und
einem Polymer (B) mit mindestens einer gegenüber einem
Epoxid reaktiven Gruppe im Molekül.
3. Lichtempfindliches Harz nach Anspruch 2, in dem die re
aktive Gruppe, die in Polymer (B) enthalten ist, min
destens eine Gruppe ist, die aus einer Carboxyl-, Amino-
oder phenolischen Hydroxylgruppe ausgewählt ist.
4. Lichtempfindliches Harz nach einem der Ansprüche 2 oder
3, in dem das Polymer (B) ein Vinylpolymer mit einer
Carboxylgruppe im Molekül ist.
5. Lichtempfindliches Harz nach einem der Ansprüche 2 oder
3, in dem das Polymer (B) ein Homo- oder Copolymer von
(Meth)acrylsäure ist.
6. Lichtempfindliches Harz nach einem der Ansprüche 2 oder
3, in dem das Polymer (B) ein Homo- oder Copolymer von
Maleinsäure oder einem Maleinsäuremonoester ist.
7. Lichtempfindliches Harz nach einem der Ansprüche 2 oder
3, in dem das Polymer (B) ein Vinylpolymer mit einer
Aminogruppe ist.
8. Lichtempfindliches Harz nach einem der Ansprüche 2 oder
3, in dem das Polymer (B) ein Phenolharz ist.
9. Lichtempfindliches Harz nach einem der Ansprüche 1 bis
8, in dem das lichtempfindliche Harz ein wasserlösliches
lichtempfindliches Harz ist.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5071091A JPH06258823A (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 感光性樹脂 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4407292A1 true DE4407292A1 (de) | 1994-09-08 |
Family
ID=13450526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JP (1) | JPH06258823A (de) |
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CN (1) | CN1102260A (de) |
DE (1) | DE4407292A1 (de) |
TW (1) | TW260759B (de) |
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JPH09157652A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-17 | Nitto Denko Corp | 架橋型液晶ポリマー及びその配向フィルム |
JPH112716A (ja) | 1997-06-13 | 1999-01-06 | Canon Inc | カラーフィルタ、これを用いた液晶素子及びこれらの製造方法、並びに該製造方法に用いられるインクジェット用インク |
JP2917989B1 (ja) * | 1998-03-16 | 1999-07-12 | 日本電気株式会社 | 多孔状感光体及びその作製法 |
US6348299B1 (en) * | 1999-07-12 | 2002-02-19 | International Business Machines Corporation | RIE etch resistant nonchemically amplified resist composition and use thereof |
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US4229514A (en) * | 1978-12-29 | 1980-10-21 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Photosensitive composition |
JPS6045239A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 微細パタ−ンの製造法 |
JP2643155B2 (ja) * | 1987-07-08 | 1997-08-20 | 株式会社日立製作所 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
US5254431A (en) * | 1988-02-03 | 1993-10-19 | Vickers Plc | Radiation-sensitive polymers having sulfonyl urthane side chains and azide containing side chains in a mixture with diazo compounds containing |
JP2628692B2 (ja) * | 1988-05-31 | 1997-07-09 | 株式会社日立製作所 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
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-
1994
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- 1994-02-03 US US08/191,218 patent/US5424368A/en not_active Expired - Fee Related
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- 1994-03-04 DE DE19944407292 patent/DE4407292A1/de not_active Withdrawn
- 1994-03-05 CN CN94102642A patent/CN1102260A/zh active Pending
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