JPH08318590A - バリヤー皮膜を有するプラスチック容器及びその製造方法 - Google Patents
バリヤー皮膜を有するプラスチック容器及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れたバリヤー効果及び機械的安定性、柔軟
性を有するバリヤー皮膜を備え、オートクレーブ処理を
施すことができる容器を提供する。 【解決手段】 プラスチック製の容器３１は、重合体材
料から成る有機バリヤー層３２及び無機酸化物、窒化
物、酸窒化物、又はそれらの混合物から成る無機バリヤ
ー層３３が交互に順次配されてなるバリヤー皮膜を備え
ている。好適には、少なくとも２つの無機バリヤー層を
備え、各無機層の厚さは２〜３００ｎｍ、各有機層の厚
さは２〜１０００ｎｍであり、バリヤー皮膜の全厚は
０．１ｍｍを超えるべきでない。
性を有するバリヤー皮膜を備え、オートクレーブ処理を
施すことができる容器を提供する。 【解決手段】 プラスチック製の容器３１は、重合体材
料から成る有機バリヤー層３２及び無機酸化物、窒化
物、酸窒化物、又はそれらの混合物から成る無機バリヤ
ー層３３が交互に順次配されてなるバリヤー皮膜を備え
ている。好適には、少なくとも２つの無機バリヤー層を
備え、各無機層の厚さは２〜３００ｎｍ、各有機層の厚
さは２〜１０００ｎｍであり、バリヤー皮膜の全厚は
０．１ｍｍを超えるべきでない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも２つの
順次配された異なる組成のバリヤー層を有する層束（も
しくは複層構造膜）を含むバリヤー皮膜を有するプラス
チック製の容器に関する。本発明はまた、該容器の製造
方法にも関する。
順次配された異なる組成のバリヤー層を有する層束（も
しくは複層構造膜）を含むバリヤー皮膜を有するプラス
チック製の容器に関する。本発明はまた、該容器の製造
方法にも関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック製の容器（例えば、ボトル
やキャニスター）は、ガラスや金属板から作られた公知
の容器と比べて次の利点がある。すなわち、容器が破裂
する際の有利な性能と併せて、軽量で、耐破損性が高
く、また腐蝕しにくいということである。しかしなが
ら、プラスチック容器は、使われているプラスチック材
料の拡散バリヤー効果が不充分という欠点がある。使用
する材料次第で多かれ少なかれ、プラスチック類は多量
の酸素、二酸化炭素、水蒸気、溶剤（アルコール、芳香
物質）等を拡散させてしまう。それゆえ、プラスチック
容器については、拡散に対するバリヤー効果を改善する
実験が行われてきた。異なるプラスチックからつくられ
た１つ又は２つ以上の多層積層体からなるプラスチック
容器は、容器の原料が一部高価となり、また容器が複雑
で従って製造がコスト高となるため実用化されていなか
った。さらに、これらの積層体容器においてさえ拡散は
依然として大き過ぎ、例えば１年以上に及ぶ本当に長期
間の安定性は得られない。
やキャニスター）は、ガラスや金属板から作られた公知
の容器と比べて次の利点がある。すなわち、容器が破裂
する際の有利な性能と併せて、軽量で、耐破損性が高
く、また腐蝕しにくいということである。しかしなが
ら、プラスチック容器は、使われているプラスチック材
料の拡散バリヤー効果が不充分という欠点がある。使用
する材料次第で多かれ少なかれ、プラスチック類は多量
の酸素、二酸化炭素、水蒸気、溶剤（アルコール、芳香
物質）等を拡散させてしまう。それゆえ、プラスチック
容器については、拡散に対するバリヤー効果を改善する
実験が行われてきた。異なるプラスチックからつくられ
た１つ又は２つ以上の多層積層体からなるプラスチック
容器は、容器の原料が一部高価となり、また容器が複雑
で従って製造がコスト高となるため実用化されていなか
った。さらに、これらの積層体容器においてさえ拡散は
依然として大き過ぎ、例えば１年以上に及ぶ本当に長期
間の安定性は得られない。
【０００３】別の解決策として、いわゆるバリヤー層を
プラスチック容器の表面に被着するものがある。このバ
リヤー層は気体の拡散を防ぐためのものであり、また必
要に応じて、容器中に貯蔵された材料によるプラスチッ
クへの侵蝕を防ぐためのものである。米国特許第４，５
５２，７９１号には、無機酸化物のバリヤー皮膜を具備
した外面を持った容器が開示されている。バリヤー皮膜
の作用としては、無機酸化物の一部が高分子中に浸透
し、ポリマー鎖間の隙間や気孔を塞ぐと記述されてい
る。殆どの無機又は金属酸化物がこの目的に適してい
る。ケイ素、アルミニウム、チタン及びタンタルの各酸
化物が好ましい。酸化物層の厚さは５０ｎｍ未満から５
００ｎｍ以上に及んでいる。皮膜は、電界中で層材料を
蒸発させながら層材料をガス放電によりイオン化させる
ＰＶＤ（物理的蒸着）法によりコーティングされる。拡
散バリヤー効果は、このバリヤー皮膜により３倍改善さ
れるが、それでもなおその結果の改善が必要である。層
厚が薄い場合、拡散に対するバリヤー効果は充分でな
く、層厚が大きい場合、特にその容器をオートクレーブ
中で殺菌する際、層が剥離するという問題が生じてく
る。
プラスチック容器の表面に被着するものがある。このバ
リヤー層は気体の拡散を防ぐためのものであり、また必
要に応じて、容器中に貯蔵された材料によるプラスチッ
クへの侵蝕を防ぐためのものである。米国特許第４，５
５２，７９１号には、無機酸化物のバリヤー皮膜を具備
した外面を持った容器が開示されている。バリヤー皮膜
の作用としては、無機酸化物の一部が高分子中に浸透
し、ポリマー鎖間の隙間や気孔を塞ぐと記述されてい
る。殆どの無機又は金属酸化物がこの目的に適してい
る。ケイ素、アルミニウム、チタン及びタンタルの各酸
化物が好ましい。酸化物層の厚さは５０ｎｍ未満から５
００ｎｍ以上に及んでいる。皮膜は、電界中で層材料を
蒸発させながら層材料をガス放電によりイオン化させる
ＰＶＤ（物理的蒸着）法によりコーティングされる。拡
散バリヤー効果は、このバリヤー皮膜により３倍改善さ
れるが、それでもなおその結果の改善が必要である。層
厚が薄い場合、拡散に対するバリヤー効果は充分でな
く、層厚が大きい場合、特にその容器をオートクレーブ
中で殺菌する際、層が剥離するという問題が生じてく
る。
【０００４】欧州特許公開公報第０，４６０，７９６号
（対応する１９９０年４月２０日出願の米国特許出願０
７／５１３，３５３号及び同日出願の０７／５１３，３
０２号）には、改善されたバリヤー効果を有する容器が
開示されている。この容器は、異なる組成、すなわちＳ
ｉＯ及びＳｉＯ2 の２種の無機バリヤー層を順次配した
層束からなる拡散バリヤー皮膜を有している。ＳｉＯ層
とＳｉＯ2 層は互い違いになっている。ＳｉＯ層は１０
〜７５ｎｍの厚さを有し、ＳｉＯ2 層は少なくとも２０
ｎｍの厚さを有する。異なる組成の２つの層を積層した
ことにより、拡散に対するバリヤー効果をかなり改善し
ているが、良好なバリヤー効果をもたらすためには、相
対的に厚い皮膜が要求されるという欠点が提示されてい
る。厚い皮膜の場合、その脆さのために亀裂を形成し易
く、また、曲げ性及び内部応力に対する耐性は厚さの増
加に伴って減少するため剥離し易い。
（対応する１９９０年４月２０日出願の米国特許出願０
７／５１３，３５３号及び同日出願の０７／５１３，３
０２号）には、改善されたバリヤー効果を有する容器が
開示されている。この容器は、異なる組成、すなわちＳ
ｉＯ及びＳｉＯ2 の２種の無機バリヤー層を順次配した
層束からなる拡散バリヤー皮膜を有している。ＳｉＯ層
とＳｉＯ2 層は互い違いになっている。ＳｉＯ層は１０
〜７５ｎｍの厚さを有し、ＳｉＯ2 層は少なくとも２０
ｎｍの厚さを有する。異なる組成の２つの層を積層した
ことにより、拡散に対するバリヤー効果をかなり改善し
ているが、良好なバリヤー効果をもたらすためには、相
対的に厚い皮膜が要求されるという欠点が提示されてい
る。厚い皮膜の場合、その脆さのために亀裂を形成し易
く、また、曲げ性及び内部応力に対する耐性は厚さの増
加に伴って減少するため剥離し易い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、バリ
ヤー効果が大きく、しかもより大きな柔軟性及びより高
い機械的安定性を有するバリヤー皮膜を備えた前記した
種類の容器を提供することにある。さらに本発明の目的
は、このようなバリヤー皮膜を備えた容器をオートクレ
ーブ中で容易に殺菌できるようにすることにある。
ヤー効果が大きく、しかもより大きな柔軟性及びより高
い機械的安定性を有するバリヤー皮膜を備えた前記した
種類の容器を提供することにある。さらに本発明の目的
は、このようなバリヤー皮膜を備えた容器をオートクレ
ーブ中で容易に殺菌できるようにすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明によれば、プラスチックからなる容器本体
と、該容器本体に適用され、組成が異なる少なくとも２
つの順次配されたバリヤー層を含む層束の形態のバリヤ
ー皮膜とからなり、該バリヤー層のうち第１の層が酸化
物、窒化物、酸窒化物、及びそれらの混合物のうちの少
なくとも１種から成る無機バリヤー層であり、バリヤー
層の第２の層が重合体材料から成る有機バリヤー層であ
ることを特徴とする容器が提供される。さらに本発明に
よれば、このような容器を製造する方法も提供され、こ
の方法は、容器の壁面に、前記した無機バリヤー層と有
機バリヤー層を順次形成（順序は問わない）して前記バ
リヤー皮膜を規定する層束（複層構造膜）を設けること
からなり、少なくとも１つの無機バリヤー層を形成し、
かつ少なくとも１つの有機バリヤー層を形成したとき
に、前記バリヤー層の形成が終了する。
め、本発明によれば、プラスチックからなる容器本体
と、該容器本体に適用され、組成が異なる少なくとも２
つの順次配されたバリヤー層を含む層束の形態のバリヤ
ー皮膜とからなり、該バリヤー層のうち第１の層が酸化
物、窒化物、酸窒化物、及びそれらの混合物のうちの少
なくとも１種から成る無機バリヤー層であり、バリヤー
層の第２の層が重合体材料から成る有機バリヤー層であ
ることを特徴とする容器が提供される。さらに本発明に
よれば、このような容器を製造する方法も提供され、こ
の方法は、容器の壁面に、前記した無機バリヤー層と有
機バリヤー層を順次形成（順序は問わない）して前記バ
リヤー皮膜を規定する層束（複層構造膜）を設けること
からなり、少なくとも１つの無機バリヤー層を形成し、
かつ少なくとも１つの有機バリヤー層を形成したとき
に、前記バリヤー層の形成が終了する。
【０００７】
【発明の実施の形態】バリヤー皮膜は、少なくとも２つ
の順次配された（積層された）バリヤー層からなり、バ
リヤー層のうちの１つの層は、無機酸化物、窒化物、も
しくは酸窒化物又はそれらの混合物を１種以上含んでお
り（無機層）、他の層は、有機重合体材料を含んでいる
（有機層）。このバリヤー皮膜を適用することにより、
皮膜のバリヤー効果及び機械的安定性が著しく向上する
ことが分かった。
の順次配された（積層された）バリヤー層からなり、バ
リヤー層のうちの１つの層は、無機酸化物、窒化物、も
しくは酸窒化物又はそれらの混合物を１種以上含んでお
り（無機層）、他の層は、有機重合体材料を含んでいる
（有機層）。このバリヤー皮膜を適用することにより、
皮膜のバリヤー効果及び機械的安定性が著しく向上する
ことが分かった。
【０００８】米国特許第４，５５２，７９１号に開示さ
れているような殆どの金属酸化物が無機酸化物として適
している。本明細書中においては、メタロイドもまた金
属に含めて理解されるべきである。珪素、アルミニウ
ム、チタン、スズ、又はタンタルの酸化物が特に適して
いる。無機層用の材料として、窒化物及び酸窒化物は、
容器中に収容された物質及び大気に対する化学的安定性
を示す限りにおいて適している。このことは、酸化物に
も当てはまる。好適な窒化物は、例えば窒化ホウ素や、
アルミニウム、ケイ素、並びにチタンの各窒化物であ
る。シアル型の公知の化合物は、酸窒化物として適して
いるが、酸窒化ケイ素も使用に適している。しかしなが
ら、酸化物又は窒化物バリヤー層を用いる方が製造し易
いことから好ましい。それぞれの無機バリヤー層の厚さ
は２〜３００ｎｍの範囲内にすべきであり、好ましくは
５〜２００ｎｍである。
れているような殆どの金属酸化物が無機酸化物として適
している。本明細書中においては、メタロイドもまた金
属に含めて理解されるべきである。珪素、アルミニウ
ム、チタン、スズ、又はタンタルの酸化物が特に適して
いる。無機層用の材料として、窒化物及び酸窒化物は、
容器中に収容された物質及び大気に対する化学的安定性
を示す限りにおいて適している。このことは、酸化物に
も当てはまる。好適な窒化物は、例えば窒化ホウ素や、
アルミニウム、ケイ素、並びにチタンの各窒化物であ
る。シアル型の公知の化合物は、酸窒化物として適して
いるが、酸窒化ケイ素も使用に適している。しかしなが
ら、酸化物又は窒化物バリヤー層を用いる方が製造し易
いことから好ましい。それぞれの無機バリヤー層の厚さ
は２〜３００ｎｍの範囲内にすべきであり、好ましくは
５〜２００ｎｍである。
【０００９】有機バリヤー層用の材料としては、容器中
に収容される物質に対して不活性であって、容器の壁上
に層状に析出できるあらゆる重合体材料が適している。
有機バリヤー層はモノマーを重合、例えば、プラズマ重
合、ＵＶ重合又は電子ビーム重合させて生成することが
できる。有機バリヤー層が形成される条件に応じて、重
合体有機材料はそれ自体公知のように酸素又は窒素原子
を含むこともできる。プラズマ重合により有機バリヤー
層を形成することが好ましい。有機バリヤー層として特
に適した材料は、例えばポリエチレン、パリレン、ポリ
ブテン、フタロシアニン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、又はプラズマ重合によりヘキサメチルジシロキサン
から析出したポリマーである。有機バリヤー層は、２〜
１０００ｎｍ、好ましくは５〜５００ｎｍ、特に好まし
くは１０〜２００ｎｍの厚さにすべきである。層厚が２
ｎｍ未満の場合、途切れていない連続した膜を生成する
のは困難である。有機バリヤー層に１０００ｎｍを超え
る層厚のものを用いた場合、幾つかの有機層を含む層束
の厚さが容易に厚くなり過ぎてしまう。
に収容される物質に対して不活性であって、容器の壁上
に層状に析出できるあらゆる重合体材料が適している。
有機バリヤー層はモノマーを重合、例えば、プラズマ重
合、ＵＶ重合又は電子ビーム重合させて生成することが
できる。有機バリヤー層が形成される条件に応じて、重
合体有機材料はそれ自体公知のように酸素又は窒素原子
を含むこともできる。プラズマ重合により有機バリヤー
層を形成することが好ましい。有機バリヤー層として特
に適した材料は、例えばポリエチレン、パリレン、ポリ
ブテン、フタロシアニン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、又はプラズマ重合によりヘキサメチルジシロキサン
から析出したポリマーである。有機バリヤー層は、２〜
１０００ｎｍ、好ましくは５〜５００ｎｍ、特に好まし
くは１０〜２００ｎｍの厚さにすべきである。層厚が２
ｎｍ未満の場合、途切れていない連続した膜を生成する
のは困難である。有機バリヤー層に１０００ｎｍを超え
る層厚のものを用いた場合、幾つかの有機層を含む層束
の厚さが容易に厚くなり過ぎてしまう。
【００１０】上記バリヤー皮膜材料からの薄膜の製造は
古くから知られている。有機重合体膜を製造する種々の
方法が、例えば、ローザンヌ、エルセビア社発行「固体
薄膜（Thin Solid Films）」第３巻（１９６９年）、第
２０１〜２２８頁に公表されているエィ・エム・ミャー
ンズ（A.M.Mearns）の「グロー放電及び放射線技術によ
り形成される絶縁体薄膜（Insulator thin films form
ed by glow dischargeand radiation techniques ）」
の論文に開示されている。酸化物、窒化物又は酸窒化物
は、例えば、米国特許第５，１５４，９４３号や、アプ
ライド・オプティクス（Applied Optics）Ｖｏｌ．２
５、Ｎｏ．２１、第３８０８〜３８０９頁（１９８６
年）に記載のアール・ピー・ネッターフィールドら（R.
P.Netterfield et al ）の「イオン援助蒸着による窒化
ケイ素及び酸化ケイ素膜の合成（Synthesis of silicon
nitride and silicon oxide films by ion-assisted d
eposition ）」の論文、或いはジャパニーズ・ジャーナ
ル・オブ・アプライド・フィジックス（Japanese Journ
al of Applied Physics ）Ｖｏｌ．２７、Ｎｏ．１、１
９８８年１月発行、第Ｌ２１〜Ｌ２３頁に公表されたテ
ィ・ゲラロら（T.Geraroet al）の「ＥＣＲプラズマＣ
ＶＤ法により作製された酸窒化ケイ素膜の性質（Proper
ties of silicon oxynitride films prepared by ECR p
lasma CVD method）」の論文に記述されている方法に従
って製造できる。
古くから知られている。有機重合体膜を製造する種々の
方法が、例えば、ローザンヌ、エルセビア社発行「固体
薄膜（Thin Solid Films）」第３巻（１９６９年）、第
２０１〜２２８頁に公表されているエィ・エム・ミャー
ンズ（A.M.Mearns）の「グロー放電及び放射線技術によ
り形成される絶縁体薄膜（Insulator thin films form
ed by glow dischargeand radiation techniques ）」
の論文に開示されている。酸化物、窒化物又は酸窒化物
は、例えば、米国特許第５，１５４，９４３号や、アプ
ライド・オプティクス（Applied Optics）Ｖｏｌ．２
５、Ｎｏ．２１、第３８０８〜３８０９頁（１９８６
年）に記載のアール・ピー・ネッターフィールドら（R.
P.Netterfield et al ）の「イオン援助蒸着による窒化
ケイ素及び酸化ケイ素膜の合成（Synthesis of silicon
nitride and silicon oxide films by ion-assisted d
eposition ）」の論文、或いはジャパニーズ・ジャーナ
ル・オブ・アプライド・フィジックス（Japanese Journ
al of Applied Physics ）Ｖｏｌ．２７、Ｎｏ．１、１
９８８年１月発行、第Ｌ２１〜Ｌ２３頁に公表されたテ
ィ・ゲラロら（T.Geraroet al）の「ＥＣＲプラズマＣ
ＶＤ法により作製された酸窒化ケイ素膜の性質（Proper
ties of silicon oxynitride films prepared by ECR p
lasma CVD method）」の論文に記述されている方法に従
って製造できる。
【００１１】最も簡単な場合では、バリヤー皮膜は１つ
の無機バリヤー層と１つの有機バリヤー層から成る。し
かしながら、少なくとも２つの無機バリヤー層がバリヤ
ー皮膜中に存在するときが好ましい。バリヤー皮膜は、
容器の表面から見て、まず無機バリヤー層が設けられ、
次に有機バリヤー層が続き、その後別の無機バリヤー層
が形成されるような構造とすることができる。さらに有
機バリヤー層を無機バリヤー層の上に設けることができ
るが、必ずしも必要というわけではない。しかしなが
ら、容器の表面から見て、バリヤー皮膜を有機バリヤー
層の形成から始めることもでき、この場合、２つの無機
バリヤー層の皮膜と共に、次の層構成が付与されるだろ
う。すなわち、有機層／無機層／有機層／無機層、そし
て必要に応じてさらに有機層をもう一層設けることもで
きる。８〜５０ｎｍ又は１０〜１００ｎｍの厚さの約１
０〜２０の無機及び有機層を有する層束で優れた結果が
得られた。しかしながら、全体の層束の層厚は、製造コ
ストの面から、０．１ｍｍ、好ましくは０．０１ｍｍを
超えるべきでない。
の無機バリヤー層と１つの有機バリヤー層から成る。し
かしながら、少なくとも２つの無機バリヤー層がバリヤ
ー皮膜中に存在するときが好ましい。バリヤー皮膜は、
容器の表面から見て、まず無機バリヤー層が設けられ、
次に有機バリヤー層が続き、その後別の無機バリヤー層
が形成されるような構造とすることができる。さらに有
機バリヤー層を無機バリヤー層の上に設けることができ
るが、必ずしも必要というわけではない。しかしなが
ら、容器の表面から見て、バリヤー皮膜を有機バリヤー
層の形成から始めることもでき、この場合、２つの無機
バリヤー層の皮膜と共に、次の層構成が付与されるだろ
う。すなわち、有機層／無機層／有機層／無機層、そし
て必要に応じてさらに有機層をもう一層設けることもで
きる。８〜５０ｎｍ又は１０〜１００ｎｍの厚さの約１
０〜２０の無機及び有機層を有する層束で優れた結果が
得られた。しかしながら、全体の層束の層厚は、製造コ
ストの面から、０．１ｍｍ、好ましくは０．０１ｍｍを
超えるべきでない。
【００１２】プラスチック容器の方から見て最初の層
を、無機バリヤー層とすることができる。この場合、無
機層と容器の壁との間に接着性を向上させるための接着
促進層もしくはプライマー層を配すると有利である。こ
の種の接着促進層は公知であり、例えば、炭化水素を含
む酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン層から構
成される。さらに、プラスチック容器の表面に接着を促
進する活性中心を確立することもできる。これは、例え
ば、イオンエッチングやフルオレン処理によって達成す
ることができる。もし、最初のバリヤー層が有機バリヤ
ー層であれば、一般に接着促進層は必要ない。しかしな
がら、有機バリヤー層を最初の層として設ける場合にそ
の有機バリヤー層が容器材料に対して良好な接着性を示
さないならば、上記のような接着促進層を設けることが
有利となる。
を、無機バリヤー層とすることができる。この場合、無
機層と容器の壁との間に接着性を向上させるための接着
促進層もしくはプライマー層を配すると有利である。こ
の種の接着促進層は公知であり、例えば、炭化水素を含
む酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン層から構
成される。さらに、プラスチック容器の表面に接着を促
進する活性中心を確立することもできる。これは、例え
ば、イオンエッチングやフルオレン処理によって達成す
ることができる。もし、最初のバリヤー層が有機バリヤ
ー層であれば、一般に接着促進層は必要ない。しかしな
がら、有機バリヤー層を最初の層として設ける場合にそ
の有機バリヤー層が容器材料に対して良好な接着性を示
さないならば、上記のような接着促進層を設けることが
有利となる。
【００１３】無機及び有機バリヤー層は、互いに明確に
区分される必要はなく、代わりにこれらの層の間に２つ
の層が混ざっている帯域が延在してよい。さらに、有機
バリヤー層は、炭素原子１個につき１０個以下の金属原
子を含有でき、好ましくは炭素原子１個につき０．１〜
５個の金属原子を含有できる。金属原子を含むそのよう
な有機層は、例えば、ＰＣＶＤ（プラズマ化学的気相成
長）法により適当な有機前駆化合物や金属有機（もしく
は有機金属）前駆化合物から製造できる。金属有機前駆
体の有機層は、無機層が特に良くそれに接着するのでと
りわけ有利である。化学親和力のため、酸化物層中のも
のと同じ金属原子を有機層中にも用いることが有利であ
る。従って、有機層が酸化物層中にも存在するような金
属原子を含む場合が好ましい。有機バリヤー層中の金属
原子の濃度が、層厚全体にわたって一様でない場合が特
に有利であり、代わりに無機層に面する有機バリヤー層
の境界面における濃度よりも中心における濃度を少なく
することが好ましい。このようにして、無機バリヤー層
の特に良好な接着効果が境界面で得られると共に、層の
有機特性は有機バリヤー層の中心にまで充分に及ぶ。
区分される必要はなく、代わりにこれらの層の間に２つ
の層が混ざっている帯域が延在してよい。さらに、有機
バリヤー層は、炭素原子１個につき１０個以下の金属原
子を含有でき、好ましくは炭素原子１個につき０．１〜
５個の金属原子を含有できる。金属原子を含むそのよう
な有機層は、例えば、ＰＣＶＤ（プラズマ化学的気相成
長）法により適当な有機前駆化合物や金属有機（もしく
は有機金属）前駆化合物から製造できる。金属有機前駆
体の有機層は、無機層が特に良くそれに接着するのでと
りわけ有利である。化学親和力のため、酸化物層中のも
のと同じ金属原子を有機層中にも用いることが有利であ
る。従って、有機層が酸化物層中にも存在するような金
属原子を含む場合が好ましい。有機バリヤー層中の金属
原子の濃度が、層厚全体にわたって一様でない場合が特
に有利であり、代わりに無機層に面する有機バリヤー層
の境界面における濃度よりも中心における濃度を少なく
することが好ましい。このようにして、無機バリヤー層
の特に良好な接着効果が境界面で得られると共に、層の
有機特性は有機バリヤー層の中心にまで充分に及ぶ。
【００１４】製造方法に応じて、無機層もまた内部に炭
素原子を有することができる。これが特に起こり得るの
は、金属有機化合物を分解して無機層を作製する場合で
ある。分解条件次第で、形成される無機層中に残る炭素
原子が多くなったり少なくなったりする。これらの層
は、１金属原子につき０．１以下の炭素原子、多くても
１金属原子につき０．５以下の炭素原子の含有とすべき
である。純粋な無機層に比べ、これらの層は有機層との
より良い接着性を有するという利点がある。しかしなが
ら、炭素を含まない層や、炭素含有量が非常に少ない層
が、拡散に対してより良好なバリヤー効果があるので一
般的に好ましい。
素原子を有することができる。これが特に起こり得るの
は、金属有機化合物を分解して無機層を作製する場合で
ある。分解条件次第で、形成される無機層中に残る炭素
原子が多くなったり少なくなったりする。これらの層
は、１金属原子につき０．１以下の炭素原子、多くても
１金属原子につき０．５以下の炭素原子の含有とすべき
である。純粋な無機層に比べ、これらの層は有機層との
より良い接着性を有するという利点がある。しかしなが
ら、炭素を含まない層や、炭素含有量が非常に少ない層
が、拡散に対してより良好なバリヤー効果があるので一
般的に好ましい。
【００１５】バリヤー皮膜は全ゆる所望の方法で製造で
きる。しかしながら、特にＰＶＤ（物理的蒸着）法及び
ＰＣＶＤ（プラズマ化学気相成長）法、とりわけＰＩＣ
ＶＤ（プラズマインパルス化学気相成長）法が好まし
い。ＰＩＣＶＤ法によりバリヤー皮膜全体の製造が特に
容易になる。なぜなら、それぞれ特性の異なる必要な各
層を同じ工程で形成できるためである。しかしながら、
実際の無機バリヤー層だけは高真空蒸着及びカソード噴
霧で製造しなければならない。これに対し、有機層はま
た、液体モノマーをスプレーしたり、或いは気体モノマ
ーを導入して重合させるなどの他の方法により形成する
ことができる。両方法とも基板に強烈な温度負荷をかけ
なくても緻密なバリヤー皮膜を堆積することができる。
有機及び無機バリヤー層が関連する場合（例えば、それ
らが共通の金属原子を含む場合）、共通の層形成ガスを
用いることができるのでＰＩＣＶＤ法によるコーティン
グ工程が容易になる。
きる。しかしながら、特にＰＶＤ（物理的蒸着）法及び
ＰＣＶＤ（プラズマ化学気相成長）法、とりわけＰＩＣ
ＶＤ（プラズマインパルス化学気相成長）法が好まし
い。ＰＩＣＶＤ法によりバリヤー皮膜全体の製造が特に
容易になる。なぜなら、それぞれ特性の異なる必要な各
層を同じ工程で形成できるためである。しかしながら、
実際の無機バリヤー層だけは高真空蒸着及びカソード噴
霧で製造しなければならない。これに対し、有機層はま
た、液体モノマーをスプレーしたり、或いは気体モノマ
ーを導入して重合させるなどの他の方法により形成する
ことができる。両方法とも基板に強烈な温度負荷をかけ
なくても緻密なバリヤー皮膜を堆積することができる。
有機及び無機バリヤー層が関連する場合（例えば、それ
らが共通の金属原子を含む場合）、共通の層形成ガスを
用いることができるのでＰＩＣＶＤ法によるコーティン
グ工程が容易になる。
【００１６】金属有機化合物（もしくは有機金属化合
物）の反応ガス混合物をＰＣＶＤ又はＰＩＣＶＤ法で使
用できる。金属有機化合物は、例えばＨＭＤＳＯ（ヘキ
サメチルジシロキサン）、ＴＩＰＴ（テトライソプロピ
ルオルトチタン酸塩）又はトリメチルアルミニウム及び
酸素を含む。もしこのような反応ガス混合物を例えばＰ
ＣＶＤ又はＰＩＣＶＤ法で使用すると、酸素含有量に応
じて純粋な酸化物層又は相当する金属原子の含有量を有
する有機重合体層を製造できる。例えば、もし有機ケイ
素化合物ヘキサメチルジシロキサンを使用すれば、反応
ガス中の酸素含有量次第で、また必要ならばプラズマ工
程の出力パラメーターを変えることにより、純粋なＳｉ
Ｏ2 層からケイ素樹脂層に及ぶ層を製造できる。しかし
ながら、異なる出発ガスから有機層及び無機層を製造す
ることもできる。例えば、反応ガス混合物中の酸素量が
低いヘキサメチルジシロキサンから有機層を製造でき、
ＴｉＣｌ4 からＴｉＯ2 層として無機層を製造できる。
ケイ素、チタン、アルミニウム、スズ及びタンタルの各
酸化物が無機バリヤー層用の材料として確実に使用でき
ることが判った。
物）の反応ガス混合物をＰＣＶＤ又はＰＩＣＶＤ法で使
用できる。金属有機化合物は、例えばＨＭＤＳＯ（ヘキ
サメチルジシロキサン）、ＴＩＰＴ（テトライソプロピ
ルオルトチタン酸塩）又はトリメチルアルミニウム及び
酸素を含む。もしこのような反応ガス混合物を例えばＰ
ＣＶＤ又はＰＩＣＶＤ法で使用すると、酸素含有量に応
じて純粋な酸化物層又は相当する金属原子の含有量を有
する有機重合体層を製造できる。例えば、もし有機ケイ
素化合物ヘキサメチルジシロキサンを使用すれば、反応
ガス中の酸素含有量次第で、また必要ならばプラズマ工
程の出力パラメーターを変えることにより、純粋なＳｉ
Ｏ2 層からケイ素樹脂層に及ぶ層を製造できる。しかし
ながら、異なる出発ガスから有機層及び無機層を製造す
ることもできる。例えば、反応ガス混合物中の酸素量が
低いヘキサメチルジシロキサンから有機層を製造でき、
ＴｉＣｌ4 からＴｉＯ2 層として無機層を製造できる。
ケイ素、チタン、アルミニウム、スズ及びタンタルの各
酸化物が無機バリヤー層用の材料として確実に使用でき
ることが判った。
【００１７】無機バリヤー層用の酸素化合物の代わり
に、相当する窒化化合物及び酸窒化化合物を、それらが
充分に化学的に不活性である限りにおいて使用できる。
欧州特許公開公報第０，４６０，７９６号に記載されて
いるように、無機バリヤー層をＺｒ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｐ
ｂ，Ｗ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ｓｂ，Ｃｏ，Ｂａ，
Ｍｇでドーピングすることで、同様に本発明の無機バリ
ヤー層に好影響を及ぼす。上記化合物の混合物も同様に
適していることが判った。
に、相当する窒化化合物及び酸窒化化合物を、それらが
充分に化学的に不活性である限りにおいて使用できる。
欧州特許公開公報第０，４６０，７９６号に記載されて
いるように、無機バリヤー層をＺｒ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｐ
ｂ，Ｗ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ｓｂ，Ｃｏ，Ｂａ，
Ｍｇでドーピングすることで、同様に本発明の無機バリ
ヤー層に好影響を及ぼす。上記化合物の混合物も同様に
適していることが判った。
【００１８】容器の材料としては、コーティング条件、
すなわち特にコーティング中に生じる熱負荷、を満たす
限りにおいて、この目的に使用され、かつ公知のあらゆ
るプラスチックが適している。そのような容器は、しば
しば、射出成形、射出吹込成形あるいはインフレーショ
ン法により製造される。オートクレーブ中で加熱殺菌で
きる容器を製造しようとする場合、容器の材料としてあ
らゆるプラスチックが適するわけではない。オートクレ
ーブ処理できるプラスチックとしては、例えばポリカー
ボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、環状オレフ
ィンポリマー、ポリブテン、ポリメチルペンテン等が挙
げられる。
すなわち特にコーティング中に生じる熱負荷、を満たす
限りにおいて、この目的に使用され、かつ公知のあらゆ
るプラスチックが適している。そのような容器は、しば
しば、射出成形、射出吹込成形あるいはインフレーショ
ン法により製造される。オートクレーブ中で加熱殺菌で
きる容器を製造しようとする場合、容器の材料としてあ
らゆるプラスチックが適するわけではない。オートクレ
ーブ処理できるプラスチックとしては、例えばポリカー
ボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、環状オレフ
ィンポリマー、ポリブテン、ポリメチルペンテン等が挙
げられる。
【００１９】バリヤー皮膜は、容器の外側又は内側、或
いはその両側に適用できる。一般的には、容器の一方の
側がコーティングされれば充分である。鋭敏な含有物質
に対しては、容器材料と容器中の含有物との接触を防ぐ
ために容器の内側に皮膜をコーティングすることが勧め
られる。もし、容器の内側と外側両方をコーティングす
れば、その容器がたとえ高温の水蒸気に対する安定性が
充分でない材料からできていても、その容器をオートク
レーブ中で殺菌処理を施すことができる。特殊な製薬学
的用途に関しては、特別の放電性能を得るためにプラス
チック容器の内側にケイ素層又は疎水性の有機層がしば
しば設けられる。さらにスライド層（滑り層）などをバ
リヤー皮膜に容易に被着できる。このようにコーティン
グされた容器は、例えば、注射器に形成され、そのスラ
イド皮膜により滑らかなピストン移動が確実に行なえ
る。スライド皮膜に関する一つの公知の製造方法は、シ
リコーン油（シリコーンエマルジョン）の吹付けからな
る。さらに高価な内容物に関しては、通例、その内容物
をうまく放出できるようにする層を容器の内壁に設け
る。この目的に適する層は、ケイ素層やフルオレンを含
む層である。これらの層も、スプレー法やＣＶＤ法によ
り容易にバリヤー皮膜上に形成することができる。有機
及び無機バリヤー層を有する層束としてバリヤー皮膜を
積層することにより、優れたバリヤー効果が得られると
共に、バリヤー皮膜は優れた柔軟性を示す。
いはその両側に適用できる。一般的には、容器の一方の
側がコーティングされれば充分である。鋭敏な含有物質
に対しては、容器材料と容器中の含有物との接触を防ぐ
ために容器の内側に皮膜をコーティングすることが勧め
られる。もし、容器の内側と外側両方をコーティングす
れば、その容器がたとえ高温の水蒸気に対する安定性が
充分でない材料からできていても、その容器をオートク
レーブ中で殺菌処理を施すことができる。特殊な製薬学
的用途に関しては、特別の放電性能を得るためにプラス
チック容器の内側にケイ素層又は疎水性の有機層がしば
しば設けられる。さらにスライド層（滑り層）などをバ
リヤー皮膜に容易に被着できる。このようにコーティン
グされた容器は、例えば、注射器に形成され、そのスラ
イド皮膜により滑らかなピストン移動が確実に行なえ
る。スライド皮膜に関する一つの公知の製造方法は、シ
リコーン油（シリコーンエマルジョン）の吹付けからな
る。さらに高価な内容物に関しては、通例、その内容物
をうまく放出できるようにする層を容器の内壁に設け
る。この目的に適する層は、ケイ素層やフルオレンを含
む層である。これらの層も、スプレー法やＣＶＤ法によ
り容易にバリヤー皮膜上に形成することができる。有機
及び無機バリヤー層を有する層束としてバリヤー皮膜を
積層することにより、優れたバリヤー効果が得られると
共に、バリヤー皮膜は優れた柔軟性を示す。
【００２０】
【実施例】以下、実施例を示して本発明について具体的
に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるもので
ないことはもとよりである。尚、以下の全ての実施例に
おいて、使用した容器はドイツ連邦共和国、レバークッ
セン所在のバイエル社（Ｂａｙｅｒ ＡＧ）のマクロロ
ン（Ｍａｋｒｏｌｏｎ）２４５８から製造したポリカー
ボネート（ＰＣ）製のものである。容器は小さな瓶又は
フラスコの形をしており、円筒部の外径２４ｍｍ、高さ
５８ｍｍ、円筒部の壁厚１ｍｍ、有効容積１８ｍｌであ
った。未コーティングの容器の１ｍ2表面当りの拡散値
は、ＣＯ2 ：６８７ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バール，Ｏ2 ：
１３８ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バール，水：２．５ｇ／ｍ2
／ｄであった。
に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるもので
ないことはもとよりである。尚、以下の全ての実施例に
おいて、使用した容器はドイツ連邦共和国、レバークッ
セン所在のバイエル社（Ｂａｙｅｒ ＡＧ）のマクロロ
ン（Ｍａｋｒｏｌｏｎ）２４５８から製造したポリカー
ボネート（ＰＣ）製のものである。容器は小さな瓶又は
フラスコの形をしており、円筒部の外径２４ｍｍ、高さ
５８ｍｍ、円筒部の壁厚１ｍｍ、有効容積１８ｍｌであ
った。未コーティングの容器の１ｍ2表面当りの拡散値
は、ＣＯ2 ：６８７ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バール，Ｏ2 ：
１３８ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バール，水：２．５ｇ／ｍ2
／ｄであった。
【００２１】実施例１ それぞれ２０ｎｍの厚さを有するＴｉＯ2 からなる５つ
の無機バリヤー層と、それぞれ５０ｎｍの厚さを有する
６つの有機バリヤー層からなる内部皮膜でＰＣ容器をコ
ーティングした。有機層を最初の層として容器壁に形成
してある。５番目のＴｉＯ2 層は有機バリヤー層で覆わ
れている。図１に概略的に示す装置でＰＩＣＶＤ法によ
り層形成を行った。この装置は、金属製マイクロ波シー
ルド２を支える金属基板８を備えている。基板８には真
空管路６用の開口部が設けられている。コーティングさ
れる容器４は上記開口部に配座され、環状シール７によ
ってシールされている。容器は管路６を介して０．３ミ
リバールの圧力まで排気される。マイクロ波放射線１
は、パルス状に、マイクロ波アンテナ３を経てシールド
２及び基板８により共同して規定されるスペースの方に
向けられる。マイクロ波放射線は、容器４内においてマ
イクロ波プラズマを形成し、容器４の内部が反応室とな
る。層形成に必要な反応ガスは、ガス給送路５を通して
導入される。パルス期間は、有機バリヤー層の形成には
０．５ｍｓ、また無機バリヤー層の形成には１ｍｓとし
た。消費された反応ガスを反応室から除去して新鮮な反
応ガスに置換する各パルス休止時間は１００ｍｓとし
た。所望の厚さの１つのバリヤー層が容器壁上に生成す
るとすぐに、反応ガスを次のバリヤー層を生成させるの
に必要な反応ガスに置換した。有機バリヤー層と無機バ
リヤー層との間の不明瞭な遷移部を生成させるのに、両
方の反応ガスの混合物を導入することができる。第１の
反応ガスの割合を連続的に減らし、同時に第２の反応ガ
スの割合を連続的に（表示値に及ぶまで）増やして均一
な遷移部を設けることができる。
の無機バリヤー層と、それぞれ５０ｎｍの厚さを有する
６つの有機バリヤー層からなる内部皮膜でＰＣ容器をコ
ーティングした。有機層を最初の層として容器壁に形成
してある。５番目のＴｉＯ2 層は有機バリヤー層で覆わ
れている。図１に概略的に示す装置でＰＩＣＶＤ法によ
り層形成を行った。この装置は、金属製マイクロ波シー
ルド２を支える金属基板８を備えている。基板８には真
空管路６用の開口部が設けられている。コーティングさ
れる容器４は上記開口部に配座され、環状シール７によ
ってシールされている。容器は管路６を介して０．３ミ
リバールの圧力まで排気される。マイクロ波放射線１
は、パルス状に、マイクロ波アンテナ３を経てシールド
２及び基板８により共同して規定されるスペースの方に
向けられる。マイクロ波放射線は、容器４内においてマ
イクロ波プラズマを形成し、容器４の内部が反応室とな
る。層形成に必要な反応ガスは、ガス給送路５を通して
導入される。パルス期間は、有機バリヤー層の形成には
０．５ｍｓ、また無機バリヤー層の形成には１ｍｓとし
た。消費された反応ガスを反応室から除去して新鮮な反
応ガスに置換する各パルス休止時間は１００ｍｓとし
た。所望の厚さの１つのバリヤー層が容器壁上に生成す
るとすぐに、反応ガスを次のバリヤー層を生成させるの
に必要な反応ガスに置換した。有機バリヤー層と無機バ
リヤー層との間の不明瞭な遷移部を生成させるのに、両
方の反応ガスの混合物を導入することができる。第１の
反応ガスの割合を連続的に減らし、同時に第２の反応ガ
スの割合を連続的に（表示値に及ぶまで）増やして均一
な遷移部を設けることができる。
【００２２】ＰＩＣＶＤ法は、かなり以前からよく知ら
れており、例えばドイツ特許第４，００８，４０５号並
びに米国特許第５，１５４，９４３号に記載されてい
る。無機バリヤー層はＴｉＣｌ4 から生成し、有機バリ
ヤー層はヘキサメチルジシロキサンから生成する。有機
バリヤー層は１つの炭素原子につき２つのケイ素原子を
含有する。図３は容器の壁の断面を寸法比例させること
なく概略的に示している。容器３１の内側には、有機バ
リヤー層３２と無機バリヤー層３３が交互に形成されて
いる。コーティングした容器の拡散値は以下の通りであ
った。 ＣＯ2 ：７．５ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールで未コーティ
ングの容器と比べて９２倍の改善に等しい。 Ｏ2 ：０．３７５ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールで３７０倍
の改善に等しい。 水：０．２３ｇ／ｍ2 ／ｄで１１倍の改善に等しい。
れており、例えばドイツ特許第４，００８，４０５号並
びに米国特許第５，１５４，９４３号に記載されてい
る。無機バリヤー層はＴｉＣｌ4 から生成し、有機バリ
ヤー層はヘキサメチルジシロキサンから生成する。有機
バリヤー層は１つの炭素原子につき２つのケイ素原子を
含有する。図３は容器の壁の断面を寸法比例させること
なく概略的に示している。容器３１の内側には、有機バ
リヤー層３２と無機バリヤー層３３が交互に形成されて
いる。コーティングした容器の拡散値は以下の通りであ
った。 ＣＯ2 ：７．５ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールで未コーティ
ングの容器と比べて９２倍の改善に等しい。 Ｏ2 ：０．３７５ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールで３７０倍
の改善に等しい。 水：０．２３ｇ／ｍ2 ／ｄで１１倍の改善に等しい。
【００２３】コーティングされた容器の殺菌処理に対す
る耐性をオートクレーブ中でテストした。コーティング
容器を３０分間、１２１℃でオートクレーブ処理した。
生じる可能性のある亀裂が見えるようにするため、容器
をアセトンで満たした。もし亀裂が生じていれば、アセ
トンがポリカーボネートの溶媒として働くので亀裂が白
線として見える。亀裂は全く確認されなかった。機械的
負荷による亀裂の形成に対するバリヤー皮膜の安定性
は、容器５の円形の横断面を本来の直径の７５％の楕円
にする負荷を５回かけて測定した。容器にアセトンを満
たした後、亀裂は見られなかった。比較試験としては、
ほんの１００ｎｍの厚さを持つＴｉＯ2 層を容器の壁に
形成した。この比較試験では、多数の毛髪状亀裂が同じ
負荷条件下で現れた。
る耐性をオートクレーブ中でテストした。コーティング
容器を３０分間、１２１℃でオートクレーブ処理した。
生じる可能性のある亀裂が見えるようにするため、容器
をアセトンで満たした。もし亀裂が生じていれば、アセ
トンがポリカーボネートの溶媒として働くので亀裂が白
線として見える。亀裂は全く確認されなかった。機械的
負荷による亀裂の形成に対するバリヤー皮膜の安定性
は、容器５の円形の横断面を本来の直径の７５％の楕円
にする負荷を５回かけて測定した。容器にアセトンを満
たした後、亀裂は見られなかった。比較試験としては、
ほんの１００ｎｍの厚さを持つＴｉＯ2 層を容器の壁に
形成した。この比較試験では、多数の毛髪状亀裂が同じ
負荷条件下で現れた。
【００２４】実施例２〜１３及び比較例１、２ 実施例１と同様にして、ポリカーボネート容器にバリヤ
ー皮膜を設けた。容器壁上にある最初の層並びに最後の
層をそれぞれ有機バリヤー層とした。すなわち、有機バ
リヤー層の数は、無機バリヤー層の数より１つ多かっ
た。有機バリヤー層は、実施例１と同じ方法で形成さ
れ、前記実施例１で得られた組成を有し、また各層の厚
さは７０±１０ｎｍであった。表１に示すような異なる
材料から作製された異なる厚さの種々の数の無機層を有
する容器を製造した。これらの容器について酸素拡散を
測定した。さらに、実施例１のようにオートクレーブ処
理を施し、その結果生じる亀裂に関して実施例１に従っ
てアセトン試験を利用して調査した。無機層だけ別々に
記録して、その結果を表１にまとめて示す。
ー皮膜を設けた。容器壁上にある最初の層並びに最後の
層をそれぞれ有機バリヤー層とした。すなわち、有機バ
リヤー層の数は、無機バリヤー層の数より１つ多かっ
た。有機バリヤー層は、実施例１と同じ方法で形成さ
れ、前記実施例１で得られた組成を有し、また各層の厚
さは７０±１０ｎｍであった。表１に示すような異なる
材料から作製された異なる厚さの種々の数の無機層を有
する容器を製造した。これらの容器について酸素拡散を
測定した。さらに、実施例１のようにオートクレーブ処
理を施し、その結果生じる亀裂に関して実施例１に従っ
てアセトン試験を利用して調査した。無機層だけ別々に
記録して、その結果を表１にまとめて示す。
【表１】
【００２５】実施例１４ 図２は、リヒテンシュタイン所在のバルゼルス社（Ｂａ
ｌｚｅｒｓ ＡＧ）製の型式ＢＡ５１０として市販され
ている高真空蒸着装置を示している。図２の装置には２
つの異なるコーティングステーションが備えられてい
る。層束は、それぞれ３０ｎｍの厚さを有する３つのＳ
ｉＯ2 層と、ヘキサメチルジシロキサンから製造され、
それぞれ１０ｎｍの厚さを有し、１個のＣ原子につき
２．５個のＳｉ原子を含有している４つの有機バリヤー
層から成っている。装置は、真空接続管２１２を備えた
基板２１５を有する。釣鐘状の真空容器２１４は、シー
ル２１３によってこの基板２１５に真空気密されてい
る。コーティングステーションの１つは、螺旋状に巻か
れたフィラメント２２から成っており、その中に無機バ
リヤー層を生成する材料の供給源であるＳｉＯペレット
２１１が取り付けられている。エネルギーはライン２１
０を経て螺旋状に巻かれたフィラメントに供給される。
別のコーティングステーション２１は、ＰＣＶＤガス放
電法に従って作動し、電極２３及び高電圧供給装置２９
から成る。電極２３は、保持手段２５を介してスピンド
ル２６に取り付けられているコーティングされる容器２
４内にその一部が突き出ている。スピンドル２６はハン
ドル２７を使って上下動可能であり、また回転もできる
ので、容器２４をＳｉＯをコーティングするためのフィ
ラメント２２の上部に、また、有機バリヤー層をコーテ
ィングする目的のための電極２３の上部に配置可能であ
る。電極２３は中空であり、それにより、ヘキサメチル
ジシロキサンを管２８を経由して容器２４中に導いて、
高電圧プラズマにより有機層として容器の内壁面上に析
出させることができる。
ｌｚｅｒｓ ＡＧ）製の型式ＢＡ５１０として市販され
ている高真空蒸着装置を示している。図２の装置には２
つの異なるコーティングステーションが備えられてい
る。層束は、それぞれ３０ｎｍの厚さを有する３つのＳ
ｉＯ2 層と、ヘキサメチルジシロキサンから製造され、
それぞれ１０ｎｍの厚さを有し、１個のＣ原子につき
２．５個のＳｉ原子を含有している４つの有機バリヤー
層から成っている。装置は、真空接続管２１２を備えた
基板２１５を有する。釣鐘状の真空容器２１４は、シー
ル２１３によってこの基板２１５に真空気密されてい
る。コーティングステーションの１つは、螺旋状に巻か
れたフィラメント２２から成っており、その中に無機バ
リヤー層を生成する材料の供給源であるＳｉＯペレット
２１１が取り付けられている。エネルギーはライン２１
０を経て螺旋状に巻かれたフィラメントに供給される。
別のコーティングステーション２１は、ＰＣＶＤガス放
電法に従って作動し、電極２３及び高電圧供給装置２９
から成る。電極２３は、保持手段２５を介してスピンド
ル２６に取り付けられているコーティングされる容器２
４内にその一部が突き出ている。スピンドル２６はハン
ドル２７を使って上下動可能であり、また回転もできる
ので、容器２４をＳｉＯをコーティングするためのフィ
ラメント２２の上部に、また、有機バリヤー層をコーテ
ィングする目的のための電極２３の上部に配置可能であ
る。電極２３は中空であり、それにより、ヘキサメチル
ジシロキサンを管２８を経由して容器２４中に導いて、
高電圧プラズマにより有機層として容器の内壁面上に析
出させることができる。
【００２６】図２の装置において、圧力を０．００１ミ
リバールにセットし、電極２３に−２．５ｋＶの直流電
圧を印加すると、導入されるヘキサメチルジシロキサン
中でプラズマ放電が起こる。ここで、１個のＣ原子につ
き２．５個のＳｉ原子を有する重合体有機バリヤー層が
容器の内壁面上に堆積する。有機バリヤー層の層厚が１
０ｎｍに達すると直ちに、ガスの供給並びに高電圧のス
イッチが切られ、その後で容器は螺旋状に巻かれたフィ
ラメント２２の上部にフィラメントが容器の中心にくる
ように置かれる。０．０００１ミリバールの圧力で、フ
ィラメントが電流により加熱されると、フィラメントの
内部に置かれたＳｉＯペレットからＳｉＯが蒸発する。
蒸発したＳｉＯは、容器の内壁面上、すなわち既にある
有機バリヤー層上に堆積する。層厚が３０ｎｍに達した
後、容器は再びプラズマコーティングステーションの上
部にくるように回動され、次の有機層が形成される。こ
のように、真空を中断することなく、さらに３つの有機
バリヤー層と、ＳｉＯからなる２つの無機バリヤー層を
形成することにより、４つの有機バリヤー層と３つの無
機バリヤー層からなるバリヤー皮膜全体が得られる。酸
素透過は、２２２分の１の酸素透過減少に相当する０．
６２ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールに達した。
リバールにセットし、電極２３に−２．５ｋＶの直流電
圧を印加すると、導入されるヘキサメチルジシロキサン
中でプラズマ放電が起こる。ここで、１個のＣ原子につ
き２．５個のＳｉ原子を有する重合体有機バリヤー層が
容器の内壁面上に堆積する。有機バリヤー層の層厚が１
０ｎｍに達すると直ちに、ガスの供給並びに高電圧のス
イッチが切られ、その後で容器は螺旋状に巻かれたフィ
ラメント２２の上部にフィラメントが容器の中心にくる
ように置かれる。０．０００１ミリバールの圧力で、フ
ィラメントが電流により加熱されると、フィラメントの
内部に置かれたＳｉＯペレットからＳｉＯが蒸発する。
蒸発したＳｉＯは、容器の内壁面上、すなわち既にある
有機バリヤー層上に堆積する。層厚が３０ｎｍに達した
後、容器は再びプラズマコーティングステーションの上
部にくるように回動され、次の有機層が形成される。こ
のように、真空を中断することなく、さらに３つの有機
バリヤー層と、ＳｉＯからなる２つの無機バリヤー層を
形成することにより、４つの有機バリヤー層と３つの無
機バリヤー層からなるバリヤー皮膜全体が得られる。酸
素透過は、２２２分の１の酸素透過減少に相当する０．
６２ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールに達した。
【００２７】実施例１５ 本実施例は、プラズマコーティングステーションの代わ
りに、パラシクロファンが置かれる加熱タングステンる
つぼを有する蒸発ステーションをさらに備えている点に
おいて異なる以外は図２に示す装置と同様の装置内で行
った。加熱するとパラシクロファンは、３５℃以下の温
度で重合してポリ−ｐ−キシリレン膜（ポリパラキシロ
ール膜又はパリレン膜としても知られている）を生成す
るモノマーであるビラジカルのｐ−キシリレンに熱分解
する。容器の内側に、１０ｎｍの厚さのパリレン層で始
まり、４つの１０ｎｍの厚さのパリレン層及び３つの３
０ｎｍの厚さのＳｉＯ層の全部を交互に形成した。この
皮膜のＣＯ2 透過は、未コーティング容器と比べて８３
分の１のＣＯ2 透過の減少に相当する８．３ｃｍ3／ｍ2
／ｄ／バールに達した。
りに、パラシクロファンが置かれる加熱タングステンる
つぼを有する蒸発ステーションをさらに備えている点に
おいて異なる以外は図２に示す装置と同様の装置内で行
った。加熱するとパラシクロファンは、３５℃以下の温
度で重合してポリ−ｐ−キシリレン膜（ポリパラキシロ
ール膜又はパリレン膜としても知られている）を生成す
るモノマーであるビラジカルのｐ−キシリレンに熱分解
する。容器の内側に、１０ｎｍの厚さのパリレン層で始
まり、４つの１０ｎｍの厚さのパリレン層及び３つの３
０ｎｍの厚さのＳｉＯ層の全部を交互に形成した。この
皮膜のＣＯ2 透過は、未コーティング容器と比べて８３
分の１のＣＯ2 透過の減少に相当する８．３ｃｍ3／ｍ2
／ｄ／バールに達した。
【００２８】実施例１６ 実施例１と同様に、それぞれ５０ｎｍの厚さを有し、ヘ
キサメチルジシロキサンから製造された６つの有機バリ
ヤー層と、ＴｉＯ2 の５つの無機バリヤー層で容器をコ
ーティングした。各無機バリヤー層は対応するペアの有
機バリヤー層の２つの互いに隣り合う層の間に配され
た。有機バリヤー層は１個のＣ原子につき３．３個のＳ
ｉ原子を含んでいた。容器壁に形成した最初の層は有機
バリヤー層であった。無機バリヤー層は、容器壁の方か
ら見て様々な厚さ、すなわち５０ｎｍ、４０ｎｍ、３０
ｎｍ、２０ｎｍ及び１０ｎｍを有していた。このように
コーティングされた容器は、０．４２ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ
／バールの酸素拡散を示した。オートクレーブ処理後の
アセトン侵蝕は発見されなかった。
キサメチルジシロキサンから製造された６つの有機バリ
ヤー層と、ＴｉＯ2 の５つの無機バリヤー層で容器をコ
ーティングした。各無機バリヤー層は対応するペアの有
機バリヤー層の２つの互いに隣り合う層の間に配され
た。有機バリヤー層は１個のＣ原子につき３．３個のＳ
ｉ原子を含んでいた。容器壁に形成した最初の層は有機
バリヤー層であった。無機バリヤー層は、容器壁の方か
ら見て様々な厚さ、すなわち５０ｎｍ、４０ｎｍ、３０
ｎｍ、２０ｎｍ及び１０ｎｍを有していた。このように
コーティングされた容器は、０．４２ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ
／バールの酸素拡散を示した。オートクレーブ処理後の
アセトン侵蝕は発見されなかった。
【００２９】実施例１７ ５つの無機バリヤー層と６つの有機バリヤー層からなる
バリヤー皮膜を実施例１で述べた方法に従って形成し
た。無機バリヤー層は異なる組成と厚さを有していた。
有機バリヤー層は実施例１６のそれぞれに相当する厚さ
と組成を有していた。容器壁の方向から見て、無機バリ
ヤー層を、３０ｎｍのＴｉＯ2 、２０ｎｍのＳｉＯ2 、
３０ｎｍのＴｉＯ2 、２０ｎｍのＳｉＯ2 及び３０ｎｍ
のＴｉＯ2の順に配した。容器は０．４８ｃｍ3 ／ｍ2
／ｄ／バールのＯ2 拡散を示した。アセトン侵蝕は測定
され得なかった。
バリヤー皮膜を実施例１で述べた方法に従って形成し
た。無機バリヤー層は異なる組成と厚さを有していた。
有機バリヤー層は実施例１６のそれぞれに相当する厚さ
と組成を有していた。容器壁の方向から見て、無機バリ
ヤー層を、３０ｎｍのＴｉＯ2 、２０ｎｍのＳｉＯ2 、
３０ｎｍのＴｉＯ2 、２０ｎｍのＳｉＯ2 及び３０ｎｍ
のＴｉＯ2の順に配した。容器は０．４８ｃｍ3 ／ｍ2
／ｄ／バールのＯ2 拡散を示した。アセトン侵蝕は測定
され得なかった。
【００３０】実施例１８ 実施例１と同様に、５０ｎｍの厚さを有するＴｉＯ2 の
５つの無機バリヤー層と、ヘキサメチルジシロキサンか
ら製造された６つの有機バリヤー層で容器をコーティン
グした。有機バリヤー層は層中の金属原子が異方性分布
していた。有機バリヤー層は、各々５０ｎｍの厚さがあ
った。Ｓｉ：Ｃの比はその境界面において１個のＣ原子
につき約６個のＳｉ原子であり、有機バリヤー層の中心
に向かってほぼ放物線状に１個のＣ原子につき３個のＳ
ｉ原子にまで低下していった。コーティングされた容器
の酸素拡散は０．４３ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールに達し
た。オートクレーブ処理後のアセトン侵蝕は測定されな
かった。以上、本発明の好適な実施例について説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、当
業者にとって、本発明の精神及び特許請求の範囲に記載
の範囲から逸脱することなく、種々の変更、修正が可能
であることが明らかであろう。
５つの無機バリヤー層と、ヘキサメチルジシロキサンか
ら製造された６つの有機バリヤー層で容器をコーティン
グした。有機バリヤー層は層中の金属原子が異方性分布
していた。有機バリヤー層は、各々５０ｎｍの厚さがあ
った。Ｓｉ：Ｃの比はその境界面において１個のＣ原子
につき約６個のＳｉ原子であり、有機バリヤー層の中心
に向かってほぼ放物線状に１個のＣ原子につき３個のＳ
ｉ原子にまで低下していった。コーティングされた容器
の酸素拡散は０．４３ｃｍ3 ／ｍ2 ／ｄ／バールに達し
た。オートクレーブ処理後のアセトン侵蝕は測定されな
かった。以上、本発明の好適な実施例について説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、当
業者にとって、本発明の精神及び特許請求の範囲に記載
の範囲から逸脱することなく、種々の変更、修正が可能
であることが明らかであろう。
【図１】ＰＩＣＶＤ法による層形成用装置を示す概略図
である。
である。
【図２】２つの異なるコーティングステーションを組み
込んだ高真空蒸着装置を示す概略図である。
込んだ高真空蒸着装置を示す概略図である。
【図３】複数の有機及び無機層でコーティングされた容
器の概略部分断面図である。
器の概略部分断面図である。
１ マイクロ波放射線、 ２ マイクロ波シールド、
３ マイクロ波アンテナ、 ４ 容器、 ５ ガス給送
路、 ６ 真空管路、 ７ 環状シール、 ８基板、
２２ フィラメント、 ２３ 電極、 ２４ 容器、
２５ 保持手段、 ２６ スピンドル、 ２７ ハンド
ル、 ２８ 管、 ２９ 高電圧供給装置、 ２１１
ＳｉＯペレット、 ２１２ 真空接続管、 ２１３ シ
ール、２１４ 真空容器、 ２１５ 基板、 ３１ 容
器、 ３２ 有機バリヤー層、 ３３ 無機バリヤー層
３ マイクロ波アンテナ、 ４ 容器、 ５ ガス給送
路、 ６ 真空管路、 ７ 環状シール、 ８基板、
２２ フィラメント、 ２３ 電極、 ２４ 容器、
２５ 保持手段、 ２６ スピンドル、 ２７ ハンド
ル、 ２８ 管、 ２９ 高電圧供給装置、 ２１１
ＳｉＯペレット、 ２１２ 真空接続管、 ２１３ シ
ール、２１４ 真空容器、 ２１５ 基板、 ３１ 容
器、 ３２ 有機バリヤー層、 ３３ 無機バリヤー層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/20 Ｃ２３Ｃ 14/20 Ａ 16/30 16/30 16/50 16/50 (72)発明者 マルチン、ヘミング ドイツ連邦共和国、55442 ストロムベル ク、プファルベルク 14 (72)発明者 ミヒャエル、シュパルレーク ドイツ連邦共和国、55218 インゲルハイ ム、アム・グラウエン・シュタイン 12 (72)発明者 グードルーン、ツシャシュレル ドイツ連邦共和国、55270 ツォルンハイ ム、レルヒェンシュトラーセ ７
Claims (19)
- 【請求項１】 プラスチックからなる容器本体と、該容
器本体に適用され、組成が異なる少なくとも２つの順次
配されたバリヤー層を含む層束の形態のバリヤー皮膜と
からなり、該バリヤー層のうち第１の層が酸化物、窒化
物、酸窒化物、及びそれらの混合物のうちの少なくとも
１種から成る無機バリヤー層であり、前記バリヤー層の
第２の層が重合体材料から成る有機バリヤー層であるこ
とを特徴とする容器。 - 【請求項２】 前記バリヤー皮膜が少なくとも２つの無
機バリヤー層を含むことを特徴とする請求項１に記載の
容器。 - 【請求項３】 前記無機バリヤー層が、Ｓｉ，Ａｌ，Ｔ
ｉ，Ｓｎ又はＴａの１種以上の酸化物、及び／又は、Ｔ
ｉ，Ｓｉ又はＡｌの窒化物及び／又は酸窒化物から成る
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の容器。 - 【請求項４】 前記有機バリヤー層が炭素原子１個当り
１０個以下の金属原子を含有することを特徴とする請求
項１乃至３のいずれか一項に記載の容器。 - 【請求項５】 前記有機バリヤー層が前記無機バリヤー
層と同じ金属原子を含有することを特徴とする請求項４
に記載の容器。 - 【請求項６】 前記有機バリヤー層が炭素原子１個当り
０．１〜５個の金属原子を含有することを特徴とする請
求項１乃至５のいずれか一項に記載の容器。 - 【請求項７】 前記各無機バリヤー層が２〜３００ｎｍ
の厚さを有することを特徴とする請求項１乃至６のいず
れか一項に記載の容器。 - 【請求項８】 前記各有機バリヤー層が２〜１０００ｎ
ｍの厚さを有することを特徴とする請求項１乃至７のい
ずれか一項に記載の容器。 - 【請求項９】 前記バリヤー皮膜の全体の厚さが０．１
ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至８のいず
れか一項に記載の容器。 - 【請求項１０】 前記容器が、前記バリヤー皮膜が適用
される壁面を有し、さらに該壁面と前記バリヤー皮膜の
第１の層との間に介在されたプライマー層を有すること
を特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の容
器。 - 【請求項１１】 前記無機バリヤー層及びこれに隣接し
ている有機バリヤー層が共同して、無機バリヤー層の組
成が連続的に有機バリヤー層の組成に変わる遷移領域を
規定していることを特徴とする請求項１乃至１０のいず
れか一項に記載の容器。 - 【請求項１２】 前記有機バリヤー層及びこれに隣接し
ている無機バリヤー層が共同して境界面を規定し、前記
有機バリヤー層が金属原子を含有し、前記金属原子の含
有量が前記境界面より前記有機バリヤー層の中心部の方
が少なくなるように有機バリヤー層の厚さ方向にわたっ
て変化していることを特徴とする請求項１乃至１１のい
ずれか一項に記載の容器。 - 【請求項１３】 バリヤー皮膜を具備した壁面を有する
容器の製造方法であって、前記壁面に、酸化物、窒化
物、酸窒化物、及びそれらの混合物のうちの少なくとも
１種から成る無機バリヤー層及び重合体材料から成る有
機バリヤー層を順次形成して前記バリヤー皮膜を規定す
る層束を設け、少なくとも１つの無機バリヤー層を形成
し、かつ少なくとも１つの有機バリヤー層を形成したと
きに前記バリヤー層の形成を終えることを特徴とする容
器の製造方法。 - 【請求項１４】 無機バリヤー層を２〜３００ｎｍの厚
さとなるように形成し、かつ有機バリヤー層を２〜１０
００ｎｍの厚さとなるように形成することを特徴とする
請求項１３に記載の方法。 - 【請求項１５】 前記層のそれぞれがＰＶＤ（物理的蒸
着）法、ＰＣＶＤ（プラズマ化学的気相成長）法、又は
ＰＩＣＶＤ（プラズマインパルス化学的気相成長）法を
利用して形成されることを特徴とする請求項１３又は１
４に記載の方法。 - 【請求項１６】 前記層束の全体の厚さが０．１ｍｍ以
下となるように前記バリヤー層を形成することを特徴と
する請求項１３乃至１５のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１７】 有機バリヤー層が炭素原子１個につき
０．１〜１０個の金属原子でドープされることを特徴と
する請求項１３乃至１６のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１８】 前記有機バリヤー層及び無機バリヤー
層が同じ金属原子でドープされることを特徴とする請求
項１３乃至１７のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１９】 前記有機バリヤー層及びこれに隣接し
ている無機バリヤー層が共同して境界面を規定し、前記
有機バリヤー層が金属原子を含有し、前記金属原子の含
有量を前記境界面より前記有機バリヤー層の中心部の方
が少なくなるように有機バリヤー層の厚さ方向にわたっ
て変化させることを特徴とする請求項１７又は１８に記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4438359.2 | 1994-10-27 | ||
| DE4438359A DE4438359C2 (de) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | Behälter aus Kunststoff mit einer Sperrbeschichtung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08318590A true JPH08318590A (ja) | 1996-12-03 |
| JP4050800B2 JP4050800B2 (ja) | 2008-02-20 |
Family
ID=6531816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30227295A Expired - Fee Related JP4050800B2 (ja) | 1994-10-27 | 1995-10-27 | バリヤー皮膜を有するプラスチック容器及びその製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5736207A (ja) |
| EP (1) | EP0709485B1 (ja) |
| JP (1) | JP4050800B2 (ja) |
| AT (1) | ATE172754T1 (ja) |
| CA (1) | CA2161362C (ja) |
| DE (2) | DE4438359C2 (ja) |
| DK (1) | DK0709485T3 (ja) |
| ES (1) | ES2123872T3 (ja) |
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001113624A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-04-24 | Becton Dickinson & Co | 非理想的バリアコーティング構造およびプラスチック基板にそれを塗布する方法 |
| JP2001518685A (ja) * | 1997-09-30 | 2001-10-16 | テトラ ラヴァル ホールディングズ アンド ファイナンス エス．アー． | プラズマ強化処理におけるプラスチック製ボトルの内面処理方法および装置 |
| JP2003089164A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-25 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリア材及びその製造方法 |
| JP2003100450A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-04-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置及びその作製方法 |
| JP2004527077A (ja) * | 2001-03-27 | 2004-09-02 | アピト コープ．エス．アー． | プラズマ表面処理方法およびその方法を実現する装置 |
| JP2005235743A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | General Electric Co <Ge> | 拡散障壁を有する複合材物品及び該物品を組み込んだ素子 |
| JP2005527076A (ja) * | 2002-04-15 | 2005-09-08 | ショット アーゲー | 有機電気光学素子の気密封止 |
| JP2005290560A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Schott Ag | 改善された耐薬品性を有する複合材料 |
| JP2005538028A (ja) * | 2002-09-14 | 2005-12-15 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 被覆物 |
| JP2006089073A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Hokkai Can Co Ltd | 内面被覆プラスチック容器及びその製造方法 |
| WO2007034773A1 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-03-29 | Mitsubishi Plastics, Inc. | ガスバリア性積層フィルム |
| JP2008001111A (ja) * | 2001-04-09 | 2008-01-10 | Toppan Printing Co Ltd | 積層体 |
| JP2008100398A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Toppan Printing Co Ltd | プラスチック容器及びプラスチック容器の製造方法 |
| JP2008132766A (ja) * | 2006-10-14 | 2008-06-12 | Schott Ag | プラスチック容器用のｐｉｃｖｄ被覆 |
| JP2008520477A (ja) * | 2004-11-15 | 2008-06-19 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 高保全性保護被膜 |
| JP2008526573A (ja) | 2005-01-14 | 2008-07-24 | ソリユテイア・インコーポレイテツド | 湿気バリアを有する積層板 |
| US7420208B2 (en) | 2001-06-20 | 2008-09-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US7465482B2 (en) | 2001-10-10 | 2008-12-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Film, packaging material, container, lens, window, spectacles, recording medium, and deposition apparatus |
| US7728326B2 (en) | 2001-06-20 | 2010-06-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic apparatus |
| JP2011523977A (ja) * | 2008-04-29 | 2011-08-25 | エージェンシー フォー サイエンス，テクノロジー アンド リサーチ | 無機傾斜バリア膜及びそれらの製造方法 |
| KR20130128689A (ko) * | 2012-05-17 | 2013-11-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 평판 표시 장치의 박막 봉지 및 그 제조방법 |
| US8900366B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| US8904819B2 (en) | 2009-12-31 | 2014-12-09 | Samsung Display Co., Ltd. | Evaporator with internal restriction |
| US8955217B2 (en) | 1999-10-25 | 2015-02-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for edge sealing barrier films |
| US9184410B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
| US9337446B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output |
| WO2016185938A1 (ja) * | 2015-05-15 | 2016-11-24 | コニカミノルタ株式会社 | フィルム積層体、その製造方法及び成膜装置 |
| KR20170130415A (ko) * | 2015-03-25 | 2017-11-28 | 바스프 코팅스 게엠베하 | 가요성 유기-무기 라미네이트의 제조 방법 |
| US9839940B2 (en) | 2002-04-15 | 2017-12-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| KR20190123514A (ko) * | 2018-04-24 | 2019-11-01 | 삼성전자주식회사 | 유연한 유무기 보호막 및 그 제조방법 |
| US10950821B2 (en) | 2007-01-26 | 2021-03-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
Families Citing this family (139)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6579580B1 (en) * | 1990-11-14 | 2003-06-17 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Composite container having barrier property |
| US5607789A (en) * | 1995-01-23 | 1997-03-04 | Duracell Inc. | Light transparent multilayer moisture barrier for electrochemical cell tester and cell employing same |
| US5955161A (en) * | 1996-01-30 | 1999-09-21 | Becton Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
| IT1284629B1 (it) * | 1996-04-17 | 1998-05-21 | Cetev Cent Tecnolog Vuoto | Metodo per la deposizione di film ottici con struttura mista inorganico-organica. |
| DE19615242A1 (de) * | 1996-04-18 | 1997-10-23 | Daimler Benz Ag | Verfahren zur Herstellung von Schichtsystemen auf Kunststoffoberflächen |
| DE19706255C2 (de) * | 1997-02-18 | 2000-11-30 | Schott Glas | Sterilisierbarer Glasbehälter für medizinische Zwecke, insbesondere zur Aufbewahrung pharmazeutischer oder diagnostischer Produkte |
| US6223683B1 (en) * | 1997-03-14 | 2001-05-01 | The Coca-Cola Company | Hollow plastic containers with an external very thin coating of low permeability to gases and vapors through plasma-assisted deposition of inorganic substances and method and system for making the coating |
| DE19722205A1 (de) * | 1997-05-27 | 1998-12-03 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Kunststoff- oder Glasbehältern mittels eines PCVD-Beschichtungsverfahrens |
| DE19739140C1 (de) * | 1997-09-06 | 1999-04-08 | Schott Glas | Kolbenbürette für eine Bürettenanordnung |
| DE19740806C2 (de) * | 1997-09-17 | 1999-10-07 | Schott Glas | Mikrotiterplatte aus Kunststoff |
| DE19754056C1 (de) * | 1997-12-05 | 1999-04-08 | Schott Glas | Verfahren zum Beschichten von Elastomerkomponenten |
| DE19801320B4 (de) * | 1998-01-16 | 2004-08-26 | Schott Glas | Befüllter und verschlossener Kunststoffbehälter und Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE19801861C2 (de) | 1998-01-20 | 2001-10-18 | Schott Glas | Verfahren zum Herstellen eines hohlen, innenbeschichteten Glasformkörpers |
| DE19802333A1 (de) * | 1998-01-23 | 1999-07-29 | Leybold Systems Gmbh | Barriereschicht für Verpackungsmaterial und Verfahren zur Herstellung einer Barriereschicht für Verpackungsmaterial |
| DE19802506A1 (de) * | 1998-01-23 | 1999-07-29 | Leybold Systems Gmbh | Metallhaltige Barriereschicht für Verpackungsmaterial und Verfahren zur Herstellung einer metallhaltigen Barriereschicht für Verpackungsmaterial |
| US6082025A (en) * | 1998-09-11 | 2000-07-04 | Nike, Inc. | Flexible membranes |
| ATE343939T1 (de) | 1998-09-11 | 2006-11-15 | Nike International Ltd | Biegsame membranen |
| DE19849205A1 (de) * | 1998-10-26 | 2000-04-27 | Leybold Systems Gmbh | Transparentes Barriereschichtensystem |
| DE19901834A1 (de) * | 1999-01-19 | 2000-07-20 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren zum Beschichten von Substraten aus Kunststoff |
| US6793981B2 (en) * | 1999-03-23 | 2004-09-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Process for producing laminated film, and reflection reducing film |
| DE19921303C1 (de) | 1999-05-07 | 2000-10-12 | Schott Glas | Glasbehälter für medizinische Zwecke |
| US6054188A (en) * | 1999-08-02 | 2000-04-25 | Becton Dickinson And Company | Non-ideal barrier coating architecture and process for applying the same to plastic substrates |
| US6475579B1 (en) | 1999-08-06 | 2002-11-05 | Plastipak Packaging, Inc. | Multi-layer plastic container having a carbon-treated internal surface and method for making the same |
| DE19945299A1 (de) * | 1999-09-22 | 2001-03-29 | Gfe Met & Mat Gmbh | Plasmabeschichtungsverfahren und dreidimensionales Kunststoffsubstrat mit einer metallhaltigen Beschichtung auf der Kunststoffoberfläche |
| US20090191342A1 (en) * | 1999-10-25 | 2009-07-30 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
| US20070196682A1 (en) * | 1999-10-25 | 2007-08-23 | Visser Robert J | Three dimensional multilayer barrier and method of making |
| US6413645B1 (en) | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Battelle Memorial Institute | Ultrabarrier substrates |
| US6503616B1 (en) | 1999-10-25 | 2003-01-07 | P. T. Indorama Synthetics | Micronized particles |
| US6623861B2 (en) | 2001-04-16 | 2003-09-23 | Battelle Memorial Institute | Multilayer plastic substrates |
| US7198832B2 (en) * | 1999-10-25 | 2007-04-03 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
| DE19957744A1 (de) * | 1999-12-01 | 2001-06-07 | Tetra Laval Holdings & Finance | Vorrichtung zum Abdichten des Stirnrandes eines Behälterhalses |
| US6492026B1 (en) | 2000-04-20 | 2002-12-10 | Battelle Memorial Institute | Smoothing and barrier layers on high Tg substrates |
| US6629763B2 (en) * | 2000-06-17 | 2003-10-07 | Schott Glas | Object which has optical layers |
| US6740378B1 (en) | 2000-08-24 | 2004-05-25 | The Coca-Cola Company | Multilayer polymeric/zero valent material structure for enhanced gas or vapor barrier and uv barrier and method for making same |
| US6720052B1 (en) * | 2000-08-24 | 2004-04-13 | The Coca-Cola Company | Multilayer polymeric/inorganic oxide structure with top coat for enhanced gas or vapor barrier and method for making same |
| JP4595276B2 (ja) * | 2000-12-25 | 2010-12-08 | 東洋製罐株式会社 | マイクロ波プラズマ処理方法及び装置 |
| DE10114401B4 (de) * | 2001-03-23 | 2005-03-17 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Verfahren zum Blasformen eines Behälters aus Kunststoff und zum Beschichten des Behälterinneren |
| US20040101636A1 (en) * | 2001-03-29 | 2004-05-27 | Markus Kuhr | Method for producing a coated synthetic body |
| EP1245298B1 (de) * | 2001-03-29 | 2008-02-27 | Schott Ag | Verfahren zum Herstellen eines beschichteten Kunststoffkörpers |
| AU2002305393A1 (en) * | 2001-05-04 | 2002-11-18 | General Atomics | O2 and h2o barrier material |
| WO2002100928A1 (en) * | 2001-06-12 | 2002-12-19 | North Carolina State University | Barrier coatings for elastomeric materials |
| DE10130666A1 (de) * | 2001-06-28 | 2003-01-23 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Softcoat |
| DE10139305A1 (de) | 2001-08-07 | 2003-03-06 | Schott Glas | Verbundmaterial aus einem Substratmaterial und einem Barriereschichtmaterial |
| DE10138697B4 (de) * | 2001-08-07 | 2005-02-24 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten und Spritzblasen eines dreidimensionalen Körpers |
| JP2004537448A (ja) * | 2001-08-20 | 2004-12-16 | ノバ−プラズマ インコーポレイテッド | 気体および蒸気に対する浸透度の低いコーティング |
| US20090208754A1 (en) * | 2001-09-28 | 2009-08-20 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
| KR20040044551A (ko) * | 2001-10-12 | 2004-05-28 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 배리어 및 그 제조 방법 |
| DE10161469A1 (de) * | 2001-12-13 | 2003-07-03 | Schott Glas | Volumenoptimierter Reaktor zur beidseitig gleichzeitigen Beschichtung von Brillengläsern |
| DE10204363A1 (de) * | 2002-02-02 | 2003-08-14 | Schott Glas | Interferenzbeschichtung zur Verbesserung des Energiehaushaltes von HID-Lampen |
| DE10216092A1 (de) * | 2002-04-11 | 2003-10-30 | Schott Glas | Verbundmaterial aus einem Substratmaterial und einem Barriereschichtmaterial |
| US20030203210A1 (en) * | 2002-04-30 | 2003-10-30 | Vitex Systems, Inc. | Barrier coatings and methods of making same |
| DE20211075U1 (de) * | 2002-07-22 | 2003-12-11 | Rpc Bramlage Gmbh | Behälterförmige Verpackungen |
| DE10258680B4 (de) * | 2002-08-07 | 2008-09-11 | Schott Ag | Herstellen eines Verbundmaterials mit einem biologisch abbaubaren Kunststoffsubstrat und zumindest einer Beschichtung |
| US7399500B2 (en) * | 2002-08-07 | 2008-07-15 | Schott Ag | Rapid process for the production of multilayer barrier layers |
| DE10258678B4 (de) * | 2002-12-13 | 2004-12-30 | Schott Ag | Schnelles Verfahren zur Herstellung von Multilayer-Barriereschichten |
| US7449246B2 (en) * | 2004-06-30 | 2008-11-11 | General Electric Company | Barrier coatings |
| US8691371B2 (en) * | 2002-09-11 | 2014-04-08 | General Electric Company | Barrier coating and method |
| US7015640B2 (en) * | 2002-09-11 | 2006-03-21 | General Electric Company | Diffusion barrier coatings having graded compositions and devices incorporating the same |
| US20060208634A1 (en) * | 2002-09-11 | 2006-09-21 | General Electric Company | Diffusion barrier coatings having graded compositions and devices incorporating the same |
| US20040050384A1 (en) * | 2002-09-17 | 2004-03-18 | Lawrence Stein | Fire-resistant containers made using inorganic polymer material |
| DE10252543A1 (de) * | 2002-11-08 | 2004-05-27 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Beschichtung für ein Kunststoffsubstrat |
| WO2004044039A2 (en) * | 2002-11-12 | 2004-05-27 | Dow Global Technologies Inc. | Process and apparatus for depositing plasma coating onto a container |
| US20040161558A1 (en) * | 2003-02-03 | 2004-08-19 | Gamel Melissa J. | Retortable light excluding container and methods of using same |
| US7018713B2 (en) * | 2003-04-02 | 2006-03-28 | 3M Innovative Properties Company | Flexible high-temperature ultrabarrier |
| US7648925B2 (en) * | 2003-04-11 | 2010-01-19 | Vitex Systems, Inc. | Multilayer barrier stacks and methods of making multilayer barrier stacks |
| US7510913B2 (en) * | 2003-04-11 | 2009-03-31 | Vitex Systems, Inc. | Method of making an encapsulated plasma sensitive device |
| US20070275181A1 (en) * | 2003-05-16 | 2007-11-29 | Carcia Peter F | Barrier films for plastic substrates fabricated by atomic layer deposition |
| US20050271893A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
| US9725805B2 (en) | 2003-06-27 | 2017-08-08 | Spts Technologies Limited | Apparatus and method for controlled application of reactive vapors to produce thin films and coatings |
| US7513953B1 (en) | 2003-11-25 | 2009-04-07 | Nano Scale Surface Systems, Inc. | Continuous system for depositing films onto plastic bottles and method |
| DE102004001603B4 (de) * | 2004-01-09 | 2009-03-05 | Schott Ag | Behälter mit Innendekor |
| EP1711338B1 (en) * | 2004-02-06 | 2009-04-29 | LG Chem, Ltd. | Plastic substrate having multi-layer structure and method for preparing the same |
| WO2005121397A2 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-22 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
| US7879396B2 (en) * | 2004-06-04 | 2011-02-01 | Applied Microstructures, Inc. | High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics |
| US8034419B2 (en) * | 2004-06-30 | 2011-10-11 | General Electric Company | Method for making a graded barrier coating |
| US20090110892A1 (en) * | 2004-06-30 | 2009-04-30 | General Electric Company | System and method for making a graded barrier coating |
| DE102004032013B4 (de) * | 2004-07-02 | 2007-05-16 | Rehau Ag & Co | Multilagenschichtaufbau für Polymere, Verfahren zu dessen Herstellung und die Verwendung von Kunststoffformteilen mit dem Multilagenschichtaufbau |
| DE102004042431B4 (de) * | 2004-08-31 | 2008-07-03 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabeschichtung von Werkstücken mit spektraler Auswertung der Prozessparameter und Verwendung der Vorrichtung |
| WO2006025356A1 (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-09 | Konica Minolta Holdings, Inc. | ガスバリア積層体及びその製造方法 |
| DE102004046287A1 (de) * | 2004-09-23 | 2006-03-30 | Hella Kgaa Hueck & Co. | Bauteil aus einem Mehrschichtwerkstoff |
| DE102004060481A1 (de) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Hella Kgaa Hueck & Co. | Bauteil aus einem Mehrschichtwerkstoff sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE102004061464B4 (de) * | 2004-12-17 | 2008-12-11 | Schott Ag | Substrat mit feinlaminarer Barriereschutzschicht und Verfahren zu dessen Herstellung |
| JP4716773B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2011-07-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムとそれを用いた有機デバイス |
| US20070020451A1 (en) * | 2005-07-20 | 2007-01-25 | 3M Innovative Properties Company | Moisture barrier coatings |
| US7829147B2 (en) * | 2005-08-18 | 2010-11-09 | Corning Incorporated | Hermetically sealing a device without a heat treating step and the resulting hermetically sealed device |
| US7722929B2 (en) * | 2005-08-18 | 2010-05-25 | Corning Incorporated | Sealing technique for decreasing the time it takes to hermetically seal a device and the resulting hermetically sealed device |
| US20070040501A1 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-22 | Aitken Bruce G | Method for inhibiting oxygen and moisture degradation of a device and the resulting device |
| DE102005040266A1 (de) | 2005-08-24 | 2007-03-01 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur innenseitigen Plasmabehandlung von Hohlkörpern |
| US7767498B2 (en) * | 2005-08-25 | 2010-08-03 | Vitex Systems, Inc. | Encapsulated devices and method of making |
| JP5275543B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2013-08-28 | 株式会社吉野工業所 | 高いバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| US7833933B2 (en) * | 2005-11-28 | 2010-11-16 | Haldor Topsøe A/S | Process for the preparation of a paraffin isomerization catalyst |
| DE102006018491A1 (de) * | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Flexible plasmapolymere Produkte, entsprechende Artikel, Herstellverfahren und Verwendung |
| US20080006819A1 (en) * | 2006-06-19 | 2008-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Moisture barrier coatings for organic light emitting diode devices |
| DE102007031416B4 (de) * | 2006-07-03 | 2013-01-17 | Sentech Instruments Gmbh | Substrat aus einem polymeren Werkstoff und mit einer wasser- und sauerstoff- undurchlässigen Barrierebeschichtung sowie dazugehöriges Herstellungsverfahren |
| US8088502B2 (en) * | 2006-09-20 | 2012-01-03 | Battelle Memorial Institute | Nanostructured thin film optical coatings |
| US8115326B2 (en) * | 2006-11-30 | 2012-02-14 | Corning Incorporated | Flexible substrates having a thin-film barrier |
| DE102006058771B4 (de) * | 2006-12-12 | 2018-03-01 | Schott Ag | Behälter mit verbesserter Restentleerbarkeit und Verfahren zu dessen Herstellung |
| CN101573468B (zh) * | 2006-12-29 | 2013-10-30 | 3M创新有限公司 | 制备无机或无机/有机复合膜的方法 |
| US8227040B2 (en) * | 2006-12-29 | 2012-07-24 | 3M Innovative Properties Company | Method of curing metal alkoxide-containing films |
| DE102007029296A1 (de) * | 2007-06-22 | 2008-12-24 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Flasche aus PLA mit verbesserter Wasserdampfbarriere |
| FR2918301B1 (fr) * | 2007-07-06 | 2011-06-24 | Sidel Participations | Revetement barriere depose par plasma comprenant au moins trois couches, procede d'obtention d'un tel revetement et recipient revetu d'un tel revetement |
| EP2179842B1 (en) * | 2007-08-14 | 2016-11-09 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | Biodegradable resin container having deposited film, and method for formation of deposited film |
| BRPI0819548A2 (pt) * | 2007-12-28 | 2015-05-19 | 3M Innovative Properties Co | "sistemas de filme de encapsulação flexível" |
| JP5624033B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2014-11-12 | スリーエム イノベイティブプロパティズカンパニー | 無機又は無機／有機ハイブリッドバリアフィルムの製造方法 |
| US8033885B2 (en) * | 2008-09-30 | 2011-10-11 | General Electric Company | System and method for applying a conformal barrier coating with pretreating |
| US20100080929A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-01 | General Electric Company | System and method for applying a conformal barrier coating |
| US20100167002A1 (en) * | 2008-12-30 | 2010-07-01 | Vitex Systems, Inc. | Method for encapsulating environmentally sensitive devices |
| US7985188B2 (en) | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
| MX345403B (es) | 2009-05-13 | 2017-01-30 | Sio2 Medical Products Inc | Revestimiento por pecvd utilizando un precursor organosilícico. |
| US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
| US9472783B2 (en) * | 2009-10-12 | 2016-10-18 | General Electric Company | Barrier coating with reduced process time |
| KR101160270B1 (ko) * | 2009-11-12 | 2012-06-27 | 포항공과대학교 산학협력단 | 액체 용기 |
| US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
| WO2012064983A2 (en) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | Converter Munufacturing, Inc. | Simultaneous production of nested, separable thermoformed articles |
| US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
| WO2012109038A2 (en) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | Applied Materials, Inc. | Method for hybrid encapsulation of an organic light emitting diode |
| EP2683836B1 (en) | 2011-03-10 | 2021-02-17 | Kaiatech, Inc. | Method and apparatus for treating containers |
| US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
| KR20130027852A (ko) * | 2011-09-08 | 2013-03-18 | 씨제이제일제당 (주) | 나노구조의 소수성 표면을 갖는 식품용기 및 그의 제조방법 |
| EP2776603B1 (en) | 2011-11-11 | 2019-03-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS |
| US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
| KR20130098606A (ko) | 2012-02-28 | 2013-09-05 | 씨제이제일제당 (주) | 향상된 산소차단성을 갖는 식품용기 및 그의 제조방법 |
| CA2887352A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
| JP2015528422A (ja) * | 2012-08-12 | 2015-09-28 | ベヴァスイス アーゲー | 開始のための押しボタンを備える、酸素不浸透性の充填可能な密閉キャップ |
| EP2914762B1 (en) | 2012-11-01 | 2020-05-13 | SiO2 Medical Products, Inc. | Coating inspection method |
| US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
| US20140141191A1 (en) * | 2012-11-20 | 2014-05-22 | Veeco Ald Inc. | Hydrophobic and Oleophobic Encapsulation Material with Alternating Layers |
| WO2014085348A2 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of pecvd deposition on medical syringes, cartridges, and the like |
| US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
| US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
| KR102472240B1 (ko) | 2013-03-11 | 2022-11-30 | 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. | 코팅된 패키징 |
| US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
| WO2014144926A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating method |
| US11066745B2 (en) | 2014-03-28 | 2021-07-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
| US9725802B2 (en) | 2014-11-11 | 2017-08-08 | Graham Packaging Company, L.P. | Method for making pet containers with enhanced silicon dioxide barrier coating |
| US11077233B2 (en) | 2015-08-18 | 2021-08-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
| DE202018002336U1 (de) | 2018-05-11 | 2018-09-20 | Oliver Landgraf | Vorrichtung zur Beschichtung und beschichtete Behälter |
| WO2020081118A1 (en) | 2018-10-19 | 2020-04-23 | Cmp Development Llc | Potassium phosphates composition for injection |
| CN112030134A (zh) * | 2020-07-22 | 2020-12-04 | 深圳市八六三新材料技术有限责任公司 | 一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4008405C1 (ja) * | 1990-03-16 | 1991-07-11 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
| JPH03183759A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-09 | Toyobo Co Ltd | 積層プラスチックフイルムおよびその製造方法 |
| JPH0414440A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-20 | Toray Ind Inc | 積層フィルム |
| JPH05345383A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | ガス遮断性積層プラスチックス材 |
| JPH05345831A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | ガス遮断性プラスチックス材の製造方法 |
| EP0607573A1 (en) * | 1992-12-18 | 1994-07-27 | Becton, Dickinson and Company | Barrier coating |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4552791A (en) * | 1983-12-09 | 1985-11-12 | Cosden Technology, Inc. | Plastic container with decreased gas permeability |
| US4764405A (en) * | 1987-07-22 | 1988-08-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for increasing barrier properties of thermoplastic substrates |
| GB2210826B (en) * | 1987-10-19 | 1992-08-12 | Bowater Packaging Ltd | Barrier packaging materials |
| JPH0825244B2 (ja) * | 1988-05-10 | 1996-03-13 | 三菱化学株式会社 | ガスバリヤ性の優れた透明プラスチックフィルム |
| CA2040638A1 (en) * | 1990-04-20 | 1991-10-21 | Gedeon I. Deak | Barrier materials useful for packaging |
| MX9303141A (es) * | 1992-05-28 | 1994-04-29 | Polar Materials Inc | Metodos y aparatos para depositar recubrimientos de barrera. |
| US5462779A (en) * | 1992-10-02 | 1995-10-31 | Consorzio Ce.Te.V. Centro Tecnologie Del Vuoto | Thin film multilayer structure as permeation barrier on plastic film |
| ES2117789T3 (es) * | 1993-06-01 | 1998-08-16 | Kautex Textron Gmbh & Co Kg | Procedimiento para producir un recubrimiento polimero en cuerpos huecos de materia plastica. |
| CH685755A5 (de) * | 1993-06-03 | 1995-09-29 | Tetra Pak Suisse Sa | Verfahren zur Herstellung eines Schichtstoffes. |
| US5518792A (en) * | 1993-08-25 | 1996-05-21 | Toppan Printing Co., Ltd. | Packaging materials having oxygen barrier quality |
| US5364666A (en) * | 1993-09-23 | 1994-11-15 | Becton, Dickinson And Company | Process for barrier coating of plastic objects |
| US5679412A (en) * | 1993-10-28 | 1997-10-21 | Manfred R. Kuehnle | Method and apparatus for producing gas impermeable, chemically inert container structures for food and volatile substances |
| JPH07126419A (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-16 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア性積層体 |
| US5510155A (en) * | 1994-09-06 | 1996-04-23 | Becton, Dickinson And Company | Method to reduce gas transmission |
| US5545375A (en) * | 1994-10-03 | 1996-08-13 | Becton, Dickinson And Company | Blood collection tube assembly |
-
1994
- 1994-10-27 DE DE4438359A patent/DE4438359C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-07-20 DE DE59504059T patent/DE59504059D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-20 AT AT95111365T patent/ATE172754T1/de active
- 1995-07-20 EP EP95111365A patent/EP0709485B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-20 ES ES95111365T patent/ES2123872T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-20 DK DK95111365T patent/DK0709485T3/da active
- 1995-10-25 CA CA002161362A patent/CA2161362C/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-27 US US08/549,180 patent/US5736207A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-27 JP JP30227295A patent/JP4050800B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-11-21 US US08/976,425 patent/US5900285A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03183759A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-09 | Toyobo Co Ltd | 積層プラスチックフイルムおよびその製造方法 |
| DE4008405C1 (ja) * | 1990-03-16 | 1991-07-11 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
| US5154943A (en) * | 1990-03-16 | 1992-10-13 | Schott Glaswerke | Plasma cvd process for coating a dome-shaped substrate |
| JPH0414440A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-20 | Toray Ind Inc | 積層フィルム |
| JPH05345383A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | ガス遮断性積層プラスチックス材 |
| JPH05345831A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | ガス遮断性プラスチックス材の製造方法 |
| EP0607573A1 (en) * | 1992-12-18 | 1994-07-27 | Becton, Dickinson and Company | Barrier coating |
| JPH07311194A (ja) * | 1992-12-18 | 1995-11-28 | Becton Dickinson & Co | バリヤーコーティング |
Cited By (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001518685A (ja) * | 1997-09-30 | 2001-10-16 | テトラ ラヴァル ホールディングズ アンド ファイナンス エス．アー． | プラズマ強化処理におけるプラスチック製ボトルの内面処理方法および装置 |
| JP2001113624A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-04-24 | Becton Dickinson & Co | 非理想的バリアコーティング構造およびプラスチック基板にそれを塗布する方法 |
| US8955217B2 (en) | 1999-10-25 | 2015-02-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for edge sealing barrier films |
| JP2004527077A (ja) * | 2001-03-27 | 2004-09-02 | アピト コープ．エス．アー． | プラズマ表面処理方法およびその方法を実現する装置 |
| JP2008001111A (ja) * | 2001-04-09 | 2008-01-10 | Toppan Printing Co Ltd | 積層体 |
| US9178168B2 (en) | 2001-06-20 | 2015-11-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | White light emitting device |
| US7728326B2 (en) | 2001-06-20 | 2010-06-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic apparatus |
| US9166180B2 (en) | 2001-06-20 | 2015-10-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device having an organic light emitting diode that emits white light |
| US9276224B2 (en) | 2001-06-20 | 2016-03-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic light emitting device having dual flexible substrates |
| JP2003100450A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-04-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置及びその作製方法 |
| US7420208B2 (en) | 2001-06-20 | 2008-09-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| JP2003089164A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-25 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリア材及びその製造方法 |
| JP4701570B2 (ja) * | 2001-09-18 | 2011-06-15 | 凸版印刷株式会社 | 透明ガスバリア材及びその製造方法 |
| US7465482B2 (en) | 2001-10-10 | 2008-12-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Film, packaging material, container, lens, window, spectacles, recording medium, and deposition apparatus |
| JP2005527076A (ja) * | 2002-04-15 | 2005-09-08 | ショット アーゲー | 有機電気光学素子の気密封止 |
| US9839940B2 (en) | 2002-04-15 | 2017-12-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| US8900366B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| JP2005538028A (ja) * | 2002-09-14 | 2005-12-15 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 被覆物 |
| JP2005235743A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | General Electric Co <Ge> | 拡散障壁を有する複合材物品及び該物品を組み込んだ素子 |
| JP2005290560A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Schott Ag | 改善された耐薬品性を有する複合材料 |
| JP2006089073A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Hokkai Can Co Ltd | 内面被覆プラスチック容器及びその製造方法 |
| JP2008520477A (ja) * | 2004-11-15 | 2008-06-19 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 高保全性保護被膜 |
| JP2008526573A (ja) | 2005-01-14 | 2008-07-24 | ソリユテイア・インコーポレイテツド | 湿気バリアを有する積層板 |
| JP5103184B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2012-12-19 | 三菱樹脂株式会社 | ガスバリア性積層フィルム |
| WO2007034773A1 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-03-29 | Mitsubishi Plastics, Inc. | ガスバリア性積層フィルム |
| JP2008132766A (ja) * | 2006-10-14 | 2008-06-12 | Schott Ag | プラスチック容器用のｐｉｃｖｄ被覆 |
| JP2008100398A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Toppan Printing Co Ltd | プラスチック容器及びプラスチック容器の製造方法 |
| US10950821B2 (en) | 2007-01-26 | 2021-03-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
| JP2011523977A (ja) * | 2008-04-29 | 2011-08-25 | エージェンシー フォー サイエンス，テクノロジー アンド リサーチ | 無機傾斜バリア膜及びそれらの製造方法 |
| US9337446B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output |
| US9184410B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
| US9362530B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-06-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
| US8904819B2 (en) | 2009-12-31 | 2014-12-09 | Samsung Display Co., Ltd. | Evaporator with internal restriction |
| KR20130128689A (ko) * | 2012-05-17 | 2013-11-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 평판 표시 장치의 박막 봉지 및 그 제조방법 |
| KR20170130415A (ko) * | 2015-03-25 | 2017-11-28 | 바스프 코팅스 게엠베하 | 가요성 유기-무기 라미네이트의 제조 방법 |
| JP2018513271A (ja) * | 2015-03-25 | 2018-05-24 | ビーエーエスエフ コーティングス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＢＡＳＦ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ＧｍｂＨ | 可撓性有機−無機ラミネートの製造方法 |
| WO2016185938A1 (ja) * | 2015-05-15 | 2016-11-24 | コニカミノルタ株式会社 | フィルム積層体、その製造方法及び成膜装置 |
| KR20190123514A (ko) * | 2018-04-24 | 2019-11-01 | 삼성전자주식회사 | 유연한 유무기 보호막 및 그 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2161362A1 (en) | 1996-04-28 |
| EP0709485A1 (de) | 1996-05-01 |
| DE4438359C2 (de) | 2001-10-04 |
| DE4438359A1 (de) | 1996-05-02 |
| DK0709485T3 (da) | 1999-07-12 |
| EP0709485B1 (de) | 1998-10-28 |
| US5736207A (en) | 1998-04-07 |
| US5900285A (en) | 1999-05-04 |
| JP4050800B2 (ja) | 2008-02-20 |
| CA2161362C (en) | 2007-01-16 |
| DE59504059D1 (de) | 1998-12-03 |
| ES2123872T3 (es) | 1999-01-16 |
| ATE172754T1 (de) | 1998-11-15 |
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