JPH05345383A - ガス遮断性積層プラスチックス材 - Google Patents
ガス遮断性積層プラスチックス材Info
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Abstract
を見ることが出来るとともに使用後のリサイクルが可能
で廃棄処理が容易である、包装材等に使用するガス遮断
性積層プラスチックス材を提供する。 【構成】 プラスチックス材と、その上に設けた少なく
ともケイ素、酸素、炭素を含む有機ケイ素化合物の重合
体で形成された第1層と、第1層の上に設けたケイ素酸
化物の第2層とからなるガス遮断性積層プラスチックス
材であり、第1層はケイ素、炭素、酸素の組成において
ケイ素15%以上、炭素20%以上であり、第2層はケ
イ素酸化物であって組成がSiOX(X=1.5〜2.
0)である。
Description
スの透過を遮断したプラスチックス材に関する。
の透過を防ぐ必要があり、従来種々の試みがなされてい
る。例えば、ケイ素酸化物やアルミニウム酸化物等の無
機の被覆層を設けたり、ポリ塩化ビニリデン等のガス遮
断性樹脂層を積層したり、アルミ箔の金属フイルムを積
層することが試みられて来た。この他特開平3−183
759号公報にはプラスチックスフイルムにそのプラス
チックスと同じ合成樹脂を真空蒸着や、スパッタリング
によって薄膜状で被覆して有機物層を形成し、その上に
無機物を蒸着して有機物と無機物の混合層を形成し、そ
の上に無機物層を形成した積層フイルムが示されてい
る。このプラスチックスは、被覆層の無機物とは全く異
なる物質であって親和性が乏しいためプラスチックスに
は同じ合成樹脂を被覆し、無機被覆の定着性を良くする
ために中間に合成樹脂と無機物のブレンド層を形成した
ものであるが、ブレンド層の表面は無機物のみの面では
なく合成樹脂の面も存在するので無機物層の定着性は期
待した程には向上しない。また、合成樹脂と無機物を2
工程で蒸着することはシート状物以外例えば成形体には
適用出来ない。さらに合成樹脂は蒸着すると分子量が低
下するのでこのプラスチックス材は加工性が劣化する。
このような問題があるので充分満足出来るものではな
い。
透過を遮断したプラスチックス材は充分満足出来るもの
ではなかった。前述の例についてみても無機の被覆層を
設けたプラスチックス材は遮断性が小さく内容物の変質
を充分に防止出来ない。またポリ塩化ビニリデンを積層
するとガス遮断性は良いが、包装材の廃棄が時に塩素が
発生するので問題がある。アルミ箔等を積層すると不透
明となって内容物が見えなくなり、しかもマイクロ波を
遮断するので電子レンジによる加熱が出来ない欠点があ
る。本発明はこのような問題を全て解決した。
もケイ素、酸素、炭素を含む有機ケイ素化合物の重合体
で形成された第1層と、第1層の上に設けたケイ素酸化
物の第2屑とからなるガス遮断性積層プラスチックス
材。 2. 第1層中のケイ素、炭素そして酸素の組成におい
てケイ素15%以上、炭素20%以上残りが酸素を含有
する有機ケイ素化合物の重合体層である、1項に記載さ
れたガス遮断性積層プラスチックス材。 3. 第2層の主成分が酸化ケイ素化合物であり、その
組成がSiOX(X=1.5〜2.0)である、1項ま
たは2項に記載されたガス遮断性積層プラスチックス
材。 4. 第2層の酸化ケイ素化合物が60%以上であり、
その組成がSiOX(X=1.5〜2.0)である、1
項ないし3項のいずれか1項に記載されたガス遮断性積
層プラスチックス材。 5. 第1層が0.01μm〜0.1μmの膜厚であり
第2層が0.03μm〜0.2μmである、1項ないし
3項のいずれか1項に記載されたガス遮断性積層プラス
チックス材。」 に関する。
以外は良好な性能を示すので、ガス遮断性を向上させる
べく種々研究した。
の上に、ケイ素、炭素、酸素を含む有機ケイ素化合物の
重合体被覆層を設けたことである。この層はそれ自体は
ガス遮断性はない。本発明の第2の特徴は上記の第1層
の上にケイ素酸化物層を設けたことである。このケイ素
酸化物層は前述の通り直接プラスチックス材に設けても
充分なガスの透過を遮断する作用を奏さない。ところ
が、第1の層の上に第2の層が設けられると、両者の相
乗効果によってガス遮断性が著しく向上する。
とこのような特別の効果が奏されるのかその学問的解明
は必ずしも充分ではないが、本発明は反復再現する作用
効果を奏する。本発明者は、ケイ素酸化物層のガス遮断
効果は、被覆基体上に供給されるケイ素酸化物微粒子の
安定定着性によるとことろが大きいと考える。即ち供給
された粒子はプラスチックス基体上を移動し最も安定な
場所で安定化し定着する。この場合プラスチックス基体
の上にケイ素、炭素、酸素を含むケイ素化合物の重合体
被膜が形成されているとケイ素酸化物微粒子は良好に安
定化し定着する。そしてその分布は均一となり、安定化
してケイ素酸化物粒子の上にさらに酸化物微粒子が積み
重なってケイ素酸化物被覆が形成されるので緊密な被覆
となるからであると考えている。
1層中のケイ素、炭素、酸素の組成において、、ケイ素
15%以上、炭素20%以上そして残りが酸素を含有
し、0.01μm〜0.1μmの薄い層である。被覆層
の厚みがこれより厚くなるとガス遮断性が悪くなる。
物重合体被覆は例えば、ヘキサメチルジシラン等の有機
ケイ素化合物モノマーをプラスチックス基体上で重合す
ることによって形成することが出来る。
マーとしてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、オクタメチルシ
クロテトラシロキサン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、1133−テトラメチルジシ
ロキサン、ヘキサンメチルジシロキサン等である。
が、この層はケイ素酸化物以外の金属化合物例えばMg
OやMgF2やCuCO3などを含むことも出来る。し
かしながら、この第2層はケイ素酸化物が主成分であ
り、ケイ素酸化物は好ましくは60%以上より好適には
65%以上存在しなければならない。第2層のケイ素酸
化物被覆は例えば二酸化ケイ素などのケイ素酸化物と他
の金属化合物を用いてPVD法で形成することが出来
る。本発明の第3の特徴はこのようなガス遮断層が設け
られたプラスチックス材は廃棄上全く問題はなく、リサ
イクルも出来る。本発明のガス遮断層を配設するプラス
チックス材としてはポリエチレンテレフタレート等のポ
リエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン樹脂、ナイロン、ポリビニルアルコール、
ポリ塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂等である。
本発明のガス遮断層を設けたプラスチックス材は成形性
が良くないので、ガス遮断性は成形したボトル、袋、箱
等の包装容器に被覆するのが好ましい。ガス遮断層を配
設したプラスチックスフイルムはガス遮断層の上に保護
層をラミネートすることにより袋に加工することが出来
る。本発明のガス遮断性プラスチックスはガス遮断層の
定着性が良好であるので熱湯殺菌に耐えるのでレトルト
用に使用することが出来る。
を具体的に説明する。各実施例と比較例におけるガス透
過量の測定は基材がシートの場合は、水蒸気透過量はL
yssy 社製 Automatic Permeab
ility Tester L80−4000を使用し
て測定した。測定条件は40℃相対温度90%である。
透過単位はg/m2 day で表わした。酸素ガス透
過量はモダンコントロール社製OX−tran 100
を使用して測定した。測定条件は27℃相対温度90
%であり透過量単位cc/m2 day atm で表
わした。基材がボトルやカップ状の場合はボトルまたは
カップ内に水を2g充填した。アルミ箔とポリプロピレ
ンまたはポリエチレンテレフタレート樹脂が積層されて
いる積層体を蓋材として使用し、アルミ箔を外面にむ
け、水が充填されているボトルまたはカップにヒートシ
ールした。50℃40%RH、40℃10%RHの雰囲
気にそれらを保存し、重量変化を測定し、水蒸気透過量
を測定した。
シートの表面にヘキサメチルジシランとエチレン及び酸
素ガスを混合し低温プラズマCVD法によりSi16
%、O36%、C48%の組成比の第1層の重合体被膜
を形成した。この被覆の膜厚は0.053μmであっ
た。この薄膜の上に高周波イオンプレーティング法によ
りケイ素と酸素の組成比が1:1.8で膜厚が0.07
μmの薄膜の第2層を被覆した。
変えた他は実施例と同様にして第1層と第2層を形成し
た。
変えた以外は実施例1と同様にして第1層と第2層を形
成した。実施例1〜3および比較例1〜3の第1層の組
成比と膜厚、第2層の組成比と膜厚を表1に示す。併せ
てこれ等の被膜を設けたシートの水蒸気透過量を表1に
示す。
イルムの表面にプラズマCVD法によりケイ素、酸素、
炭素の重量比が2:3:5で膜厚が0.04μmの第1
層を被覆しその上にプラズマCVD法によりケイ素、酸
素、炭素の組成比が3:6:1で膜厚が0.056μm
の第2層を被覆した。
のフイルムの酸素ガス透過量を未処理の被覆のない比較
例5のフイルムとともに表2に示す。
ー型ポリプロピレン製ボトルの外表面にプラズマCVD
法によりケイ素、酸素、炭素の組成比が2:3:5で膜
厚が0.044μmの第1層を被覆し、その上にプラズ
マCVD法によりケイ素、酸素、炭素の組成比が3:
6:1で膜厚が0.069μmの第2層を被覆した。
のボトルの水蒸気透過量を未処埋の被覆のない比較例7
のボトルと共に表3に示す。
形状のポリエチレンテレフタレート製カップの内表面に
プラズマCVD法によりケイ素、酸素、炭素の組成比が
2:3:5で膜厚が0.047μの第1層を被覆し、そ
の上にプラズマCVD法によりケイ素、酸素、炭素の組
成比が3:6:1で膜厚が0.069μの第2層を被覆
した。
のカップの水蒸気透過量を未処理の被覆のない比較例9
のボトルと共に表4に示す。
に薄い遮断層で非常に優れたガス遮断効果を奏してお
り、各層の組成が特定範囲からはずれると効果が大きく
劣化することがわかる。
膜でガスの透過を有効に遮断し、使用後のリサイクルが
良好であり、廃棄にも問題がない優れた効果を奏する。
Claims (5)
- 【請求項1】 プラスチックス材と、その上に設けた少
なくともケイ素、酸素、炭素を含む有機ケイ素化合物の
重合体で形成された第1層と、第1層の上に設けたケイ
素酸化物の第2層とからなるガス遮断性積層プラスチッ
クス材。 - 【請求項2】 第1層中のケイ素、炭素そして酸素の組
成においてケイ素15%以上、炭素20%以上残りが酸
素を含有する有機ケイ素化合物の重合体層である、請求
項1に記載されたガス遮断性積層プラスチックス材。 - 【請求項3】 第2屑の主成分が酸化ケイ素化合物であ
り、その組成がSiOX(X=1.5〜2.0)であ
る、請求項1または2に記載されたガス遮断性積層プラ
スチックス材。 - 【請求項4】 第2層の酸化ケイ素化合物が60%以上
であり、その組成がSiOX(X=1.5〜2.0)で
ある、請求項1ないし3のいずれか1項に記載されたガ
ス遮断性積層プラスチックス材。 - 【請求項5】 第1層が0.01μm〜0.1μmの膜
厚であり第2層が0.03μm〜0.2μmである、請
求項1ないし3のいずれか1項に記載されたガス遮断性
積層プラスチックス材。
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JP4195784A JP2526766B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | ガス遮断性積層プラスチックス材 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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