JP2003104352A - バリア性プラスチック容器 - Google Patents
バリア性プラスチック容器Info
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- JP2003104352A JP2003104352A JP2001299045A JP2001299045A JP2003104352A JP 2003104352 A JP2003104352 A JP 2003104352A JP 2001299045 A JP2001299045 A JP 2001299045A JP 2001299045 A JP2001299045 A JP 2001299045A JP 2003104352 A JP2003104352 A JP 2003104352A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】プラスチックの酸素や二酸化炭素、水蒸気のよ
うな低分子ガスを透過するという性質をプラスチック容
器に薄膜を被膜することで確実に低減し、かつ内容物の
直接接触及びレトルト処理等を行ってもバリア性が低下
しない薄膜を形成したプラスチック容器を提供する。 【解決手段】プラスチック基材１上に珪素化合物蒸着薄
膜層が被覆され、該蒸着薄膜層の少なくとも最外面層が
炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分とする珪素化合物蒸
着薄膜層２からなるプラスチック容器であり、例えば、
プラスチック基材１上に酸化珪素を主成分とする珪素化
合物蒸着薄膜層３が被覆され、その薄膜層３の上面に最
外面層として、炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分とす
る珪素化合物蒸着薄膜層２が被覆されている。
うな低分子ガスを透過するという性質をプラスチック容
器に薄膜を被膜することで確実に低減し、かつ内容物の
直接接触及びレトルト処理等を行ってもバリア性が低下
しない薄膜を形成したプラスチック容器を提供する。 【解決手段】プラスチック基材１上に珪素化合物蒸着薄
膜層が被覆され、該蒸着薄膜層の少なくとも最外面層が
炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分とする珪素化合物蒸
着薄膜層２からなるプラスチック容器であり、例えば、
プラスチック基材１上に酸化珪素を主成分とする珪素化
合物蒸着薄膜層３が被覆され、その薄膜層３の上面に最
外面層として、炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分とす
る珪素化合物蒸着薄膜層２が被覆されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラスチック容器に
真空蒸着法によりバリア性を有する薄膜を形成すること
により製造されるバリア性等の物性にすぐれたプラスチ
ック容器に関するものである。
真空蒸着法によりバリア性を有する薄膜を形成すること
により製造されるバリア性等の物性にすぐれたプラスチ
ック容器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ここ最近、プラスチック容器は、その成
形の容易性や軽量性、さらには低コストである点等の種
々の特性から、食品分野や医薬品分野等の様々な分野に
おいて包装容器として広く使用されている。
形の容易性や軽量性、さらには低コストである点等の種
々の特性から、食品分野や医薬品分野等の様々な分野に
おいて包装容器として広く使用されている。
【０００３】しかしながら、プラスチック容器は、酸素
や二酸化炭素、水蒸気のような低分子ガスを透過する性
質を有しており、容器として補わなければならない面が
あった。これらの諸問題を解決するためにいろいろな方
策がとられているが、どれもさまざまな問題を抱えてお
り、完全に解決することができていない。
や二酸化炭素、水蒸気のような低分子ガスを透過する性
質を有しており、容器として補わなければならない面が
あった。これらの諸問題を解決するためにいろいろな方
策がとられているが、どれもさまざまな問題を抱えてお
り、完全に解決することができていない。
【０００４】例えば、プラスチック容器のガス透過性を
低減する方法の１つとして、複数のプラスチック材料を
積層したり、ブレンドしたりする方法がある。これらの
方法を用いると、ある程度までガス透過性を低減するこ
とができるが、より高いバリア性を求める容器に使用す
る際などでは、目的のガス透過性まで低減することがで
きないほか、リサイクルの面でも支障をきたすといった
問題を抱えている。また、使用する樹脂のコストも非常
に高いものである。
低減する方法の１つとして、複数のプラスチック材料を
積層したり、ブレンドしたりする方法がある。これらの
方法を用いると、ある程度までガス透過性を低減するこ
とができるが、より高いバリア性を求める容器に使用す
る際などでは、目的のガス透過性まで低減することがで
きないほか、リサイクルの面でも支障をきたすといった
問題を抱えている。また、使用する樹脂のコストも非常
に高いものである。
【０００５】他にも、ガスバリア性を上げるため、ガス
バリア性の高いフィルムをインサート成形する事などが
行われているが、成形工程が複雑となり，製造費用も高
くなってしまうという問題を抱えている。
バリア性の高いフィルムをインサート成形する事などが
行われているが、成形工程が複雑となり，製造費用も高
くなってしまうという問題を抱えている。
【０００６】ここ近年、プラスチック容器に真空蒸着法
を用いて被膜（成膜）を行う技術が知られてきている。
例えばフィルムに真空蒸着法を用いてバリア性を有する
薄膜を形成させ、それをラミネートしてフィルム袋を製
造したり、プラスチックボトル内外面に真空蒸着法を用
いてバリア性を有する薄膜を形成したりしているものが
ある。これらの問題としては、蒸着面が内容物と直接触
れると蒸着膜が劣化してバリア性が低下したり、レトル
ト処理などを行うと、同様にバリア性が低下するといっ
た問題を抱えていた。
を用いて被膜（成膜）を行う技術が知られてきている。
例えばフィルムに真空蒸着法を用いてバリア性を有する
薄膜を形成させ、それをラミネートしてフィルム袋を製
造したり、プラスチックボトル内外面に真空蒸着法を用
いてバリア性を有する薄膜を形成したりしているものが
ある。これらの問題としては、蒸着面が内容物と直接触
れると蒸着膜が劣化してバリア性が低下したり、レトル
ト処理などを行うと、同様にバリア性が低下するといっ
た問題を抱えていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明では、従来の問
題点を解決するとともに、プラスチックの酸素や二酸化
炭素、水蒸気のような低分子ガスを透過するという性質
を、プラスチック容器に薄膜を被膜することで確実に低
減し、かつ、内容物の直接接触および、レトルト処理等
を行ってもバリア性が低下しない薄膜を形成したプラス
チック容器を提供することである。
題点を解決するとともに、プラスチックの酸素や二酸化
炭素、水蒸気のような低分子ガスを透過するという性質
を、プラスチック容器に薄膜を被膜することで確実に低
減し、かつ、内容物の直接接触および、レトルト処理等
を行ってもバリア性が低下しない薄膜を形成したプラス
チック容器を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１の発
明は、プラスチック基材上に珪素化合物蒸着薄膜層が被
覆され、該蒸着薄膜層の少なくとも最外面層が、炭化珪
素もしくは窒化珪素を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜
層からなることを特徴とするバリア性プラスチック容器
である。
明は、プラスチック基材上に珪素化合物蒸着薄膜層が被
覆され、該蒸着薄膜層の少なくとも最外面層が、炭化珪
素もしくは窒化珪素を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜
層からなることを特徴とするバリア性プラスチック容器
である。
【０００９】請求項２の発明は、プラスチック基材上に
酸化珪素を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層が被膜さ
れ、該蒸着薄膜層の少なくとも最外面層が、炭化珪素も
しくは窒化珪素を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層か
らなることを特徴とするバリア性プラスチック容器であ
る。
酸化珪素を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層が被膜さ
れ、該蒸着薄膜層の少なくとも最外面層が、炭化珪素も
しくは窒化珪素を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層か
らなることを特徴とするバリア性プラスチック容器であ
る。
【００１０】請求項３の発明は、上記請求項１、２記載
のバリア性プラスチック容器であって、前記プラスチッ
ク基材上に被膜された珪素化合物蒸着薄膜層の総厚が、
５〜１００ｎｍであることを特徴とするバリア性プラス
チック容器である。
のバリア性プラスチック容器であって、前記プラスチッ
ク基材上に被膜された珪素化合物蒸着薄膜層の総厚が、
５〜１００ｎｍであることを特徴とするバリア性プラス
チック容器である。
【００１１】請求項４の発明は、上記請求項１乃至３の
いずれか１項記載のバリア性プラスチック容器におい
て、前記最外面層に形成される珪素化合物蒸着薄膜層の
膜中における酸素の原子量組成比が、３０％以下である
ことを特徴とするバリア性プラスチック容器である。
いずれか１項記載のバリア性プラスチック容器におい
て、前記最外面層に形成される珪素化合物蒸着薄膜層の
膜中における酸素の原子量組成比が、３０％以下である
ことを特徴とするバリア性プラスチック容器である。
【００１２】請求項５の発明は、上記請求項１乃至請求
項４のいずれか１項記載のバリア性プラスチック容器に
おいて、少なくとも最外面層に形成された珪素化合物蒸
着薄膜層が、ＰＶＤ蒸着法により形成され、その材料と
して炭化珪素、窒化珪素が用いられていることを特徴と
するバリア性プラスチック容器である。
項４のいずれか１項記載のバリア性プラスチック容器に
おいて、少なくとも最外面層に形成された珪素化合物蒸
着薄膜層が、ＰＶＤ蒸着法により形成され、その材料と
して炭化珪素、窒化珪素が用いられていることを特徴と
するバリア性プラスチック容器である。
【００１３】請求項６の発明は、上記請求項１乃至請求
項４のいずれか１項記載のバリア性プラスチック容器に
おいて、最外面層に形成された珪素化合物蒸着薄膜層が
ＣＶＤ蒸着法により形成され、その材料として有機珪素
化合物モノマーが用いられていることを特徴とするバリ
ア性プラスチック容器である。
項４のいずれか１項記載のバリア性プラスチック容器に
おいて、最外面層に形成された珪素化合物蒸着薄膜層が
ＣＶＤ蒸着法により形成され、その材料として有機珪素
化合物モノマーが用いられていることを特徴とするバリ
ア性プラスチック容器である。
【００１４】請求項７の発明は、上記請求項６記載のバ
リア性プラスチック容器において、前記有機珪素化合物
モノマーが、酸素を含有しない有機珪素化合物モノマー
であることを特徴とするバリア性プラスチック容器であ
る。
リア性プラスチック容器において、前記有機珪素化合物
モノマーが、酸素を含有しない有機珪素化合物モノマー
であることを特徴とするバリア性プラスチック容器であ
る。
【００１５】請求項８の発明は、上記請求項１乃至請求
項７のいずれか１項記載のバリア性プラスチック容器で
あって、前記最外面層の珪素化合物蒸着薄膜層が内容物
と直接接する構造からなることを特徴とするバリア性プ
ラスチック容器である。
項７のいずれか１項記載のバリア性プラスチック容器で
あって、前記最外面層の珪素化合物蒸着薄膜層が内容物
と直接接する構造からなることを特徴とするバリア性プ
ラスチック容器である。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１に、プラスチック容器に真空
蒸着法にて成膜したものの断面図を示す。ここでプラス
チック容器とは、フィルム状のものからブロー成形品・
射出成形品を含み、真空蒸着法はＰＶＤ法、ＣＶＤ法、
スパッタ法などがあげられる。
蒸着法にて成膜したものの断面図を示す。ここでプラス
チック容器とは、フィルム状のものからブロー成形品・
射出成形品を含み、真空蒸着法はＰＶＤ法、ＣＶＤ法、
スパッタ法などがあげられる。
【００１７】蒸着法は特に既定はなく、目的の炭化珪素
・窒化珪素の珪素化合物を主成分として成膜（被膜）が
行えるものならば、どの方法を用いても良い。
・窒化珪素の珪素化合物を主成分として成膜（被膜）が
行えるものならば、どの方法を用いても良い。
【００１８】本発明者らは研究を行ううち、炭化珪素も
しくは窒化珪素化合物を主成分とする膜が内容物の直接
接触やレトルト処理に耐えることを発見した。よって、
これらの珪素化合物によりバリアを向上したり、これら
の珪素化合物蒸着薄膜層を保護層として用いることを考
えた。
しくは窒化珪素化合物を主成分とする膜が内容物の直接
接触やレトルト処理に耐えることを発見した。よって、
これらの珪素化合物によりバリアを向上したり、これら
の珪素化合物蒸着薄膜層を保護層として用いることを考
えた。
【００１９】バリア向上は、本発明請求項１のように、
例えば図１に示すプラスチック容器の基材１（又は容器
本体表面）に直接、炭化珪素もしくは窒化珪素化合物を
主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層２を被覆（被膜形
成）すると良い。
例えば図１に示すプラスチック容器の基材１（又は容器
本体表面）に直接、炭化珪素もしくは窒化珪素化合物を
主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層２を被覆（被膜形
成）すると良い。
【００２０】この炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分と
する膜構成に於いても、ある程度の酸素バリア性の向上
は行えるが、高いバリア性は実現できないため、本発明
請求項２のように、プラスチック容器の基材１上に、珪
素酸化物層３を形成し、その上に炭化珪素もしくは窒化
珪素を主成分とした珪素化合物蒸着薄膜層２を形成する
ことが好ましい。この構成であれば珪素酸化物層３の被
膜により高いバリア性が得られるほか、珪素酸化物は無
色透明なため、光線透過率も向上させることができる。
また、酸化珪素膜の下面に上述の炭化珪素もしくは窒化
珪素を主成分とした層を両サイドからのブロック及び密
着のために設けてもよい。
する膜構成に於いても、ある程度の酸素バリア性の向上
は行えるが、高いバリア性は実現できないため、本発明
請求項２のように、プラスチック容器の基材１上に、珪
素酸化物層３を形成し、その上に炭化珪素もしくは窒化
珪素を主成分とした珪素化合物蒸着薄膜層２を形成する
ことが好ましい。この構成であれば珪素酸化物層３の被
膜により高いバリア性が得られるほか、珪素酸化物は無
色透明なため、光線透過率も向上させることができる。
また、酸化珪素膜の下面に上述の炭化珪素もしくは窒化
珪素を主成分とした層を両サイドからのブロック及び密
着のために設けてもよい。
【００２１】プラスチック容器の基材１上に設けられた
珪素化合物の総厚は、５〜１００ｎｍとすることが好ま
しく、該範囲以下であるとバリア性が向上せず、該範囲
以上であるとクラックが発生し易くなるという問題を抱
えている。また、炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分と
した珪素化合物蒸着薄膜層の厚みは、５〜５０ｎｍとな
ることが好ましいが、これに限定するものではない。
珪素化合物の総厚は、５〜１００ｎｍとすることが好ま
しく、該範囲以下であるとバリア性が向上せず、該範囲
以上であるとクラックが発生し易くなるという問題を抱
えている。また、炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分と
した珪素化合物蒸着薄膜層の厚みは、５〜５０ｎｍとな
ることが好ましいが、これに限定するものではない。
【００２２】本発明の炭化珪素もしくは窒化珪素を主成
分とする珪素化合物中の酸素の原子量組成比は３０％以
下であることが好ましい。酸素の原子量組成比は少なけ
れば少ないほど好ましい。しかし、成膜（被膜形成）を
行ったサンプルを大気中にさらすと表面は酸化されるた
り、被膜中の残留酸素などの影響で酸素を完全に取り除
くことはできないため、炭化珪素もしくは窒化珪素を主
成分とする珪素化合物中の酸素の原子量組成比は３０％
以下とすることが好ましい。
分とする珪素化合物中の酸素の原子量組成比は３０％以
下であることが好ましい。酸素の原子量組成比は少なけ
れば少ないほど好ましい。しかし、成膜（被膜形成）を
行ったサンプルを大気中にさらすと表面は酸化されるた
り、被膜中の残留酸素などの影響で酸素を完全に取り除
くことはできないため、炭化珪素もしくは窒化珪素を主
成分とする珪素化合物中の酸素の原子量組成比は３０％
以下とすることが好ましい。
【００２３】また、炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分
とする珪素化合物を形成する方法はＰＶＤ法であれば炭
化珪素もしくは窒化珪素を加熱・気化させ、成膜（被膜
形成）する方法が挙げられる。その際、イオンブレーデ
ィング効果も行えるが、反応ガスとしては不活性ガス・
窒素などの酸素以外のガスで行わなければならない。
とする珪素化合物を形成する方法はＰＶＤ法であれば炭
化珪素もしくは窒化珪素を加熱・気化させ、成膜（被膜
形成）する方法が挙げられる。その際、イオンブレーデ
ィング効果も行えるが、反応ガスとしては不活性ガス・
窒素などの酸素以外のガスで行わなければならない。
【００２４】ＣＶＤ法であれば有機珪素化合物モノマー
をガス供給し、プラズマ化させて被膜形成する方法が好
ましい。この際も反応ガスとしては不活性ガス・窒素な
どの酸素以外のガスで行う必要がある。
をガス供給し、プラズマ化させて被膜形成する方法が好
ましい。この際も反応ガスとしては不活性ガス・窒素な
どの酸素以外のガスで行う必要がある。
【００２５】有機珪素化合物モノマーとしては、シラ
ン、ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメ
チルシラン、テトラメチルシラン、テトラメチルジシロ
キサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリ
シロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ヘキサメチ
ルジシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ランなどがあげられるが、これに限定するものではな
い。また、有機珪素化合物モノマーとしては酸素を含ま
ないモノマーがより好ましく、シラン、ジシラン、メチ
ルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラ
メチルシラン、ヘキサメチルジシランなどを使用するこ
とがより好ましいがこれに限定するものではない。
ン、ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメ
チルシラン、テトラメチルシラン、テトラメチルジシロ
キサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリ
シロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ヘキサメチ
ルジシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ランなどがあげられるが、これに限定するものではな
い。また、有機珪素化合物モノマーとしては酸素を含ま
ないモノマーがより好ましく、シラン、ジシラン、メチ
ルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラ
メチルシラン、ヘキサメチルジシランなどを使用するこ
とがより好ましいがこれに限定するものではない。
【００２６】
【実施例】上記発明の実施の形態を、実施例を用いて以
下に説明する。また、実施例及び比較例により得られた
フィルム形態の各サンプルの保存前の酸素透過量（fmol
/m２ ・ s ・ Pa、又は mol/m２ ・ s ・ Pa）を測定する
ことによりバリア性の評価を行った。また、これらサン
プルをＮａＣｌ１％溶液に入れ、４０℃にて３日間保存
した後、同様にして保存後の酸素透過量 (fmol/m２ ・s
・ Pa）を測定してバリア性の評価を行った。その結果
を表１に示す。なお、単位ｆｍｏｌのｆは１０−１５
の数値を表す。
下に説明する。また、実施例及び比較例により得られた
フィルム形態の各サンプルの保存前の酸素透過量（fmol
/m２ ・ s ・ Pa、又は mol/m２ ・ s ・ Pa）を測定する
ことによりバリア性の評価を行った。また、これらサン
プルをＮａＣｌ１％溶液に入れ、４０℃にて３日間保存
した後、同様にして保存後の酸素透過量 (fmol/m２ ・s
・ Pa）を測定してバリア性の評価を行った。その結果
を表１に示す。なお、単位ｆｍｏｌのｆは１０−１５
の数値を表す。
【００２７】
【表１】
【００２８】＜実施例１＞ポリエチレンテレフタレート
製プラスチックフィルムに対してシリコンカーバイドを
蒸着源とし、ＰＶＤ蒸着法にて炭化珪素を主成分とする
珪素化合物を積層した。珪素化合物の蒸着膜厚は１０ｎ
ｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素の原子量組成比は
３：１：１であった。
製プラスチックフィルムに対してシリコンカーバイドを
蒸着源とし、ＰＶＤ蒸着法にて炭化珪素を主成分とする
珪素化合物を積層した。珪素化合物の蒸着膜厚は１０ｎ
ｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素の原子量組成比は
３：１：１であった。
【００２９】＜実施例２＞実施例１で用いたフィルムと
同様のポリエチレンテレフタレート製プラスチックフィ
ルムに対して酸化珪素を蒸着源とし、ＰＶＤ蒸着法にて
酸化珪素を主成分とする珪素化合物を積層した。酸化珪
素を主成分とする珪素化合物の蒸着膜厚は１５ｎｍであ
り、膜中の炭素と珪素と酸素の原子量組成比は、１：
２：４であった。続いて、該酸化珪素を主成分とする珪
素化合物膜の上面に、さらに炭化珪素を主成分とする珪
素化合物膜を積層した。炭化珪素を主成分とする珪素化
合物膜の厚み、組成、成膜方法は実施例１と同様とし
た。
同様のポリエチレンテレフタレート製プラスチックフィ
ルムに対して酸化珪素を蒸着源とし、ＰＶＤ蒸着法にて
酸化珪素を主成分とする珪素化合物を積層した。酸化珪
素を主成分とする珪素化合物の蒸着膜厚は１５ｎｍであ
り、膜中の炭素と珪素と酸素の原子量組成比は、１：
２：４であった。続いて、該酸化珪素を主成分とする珪
素化合物膜の上面に、さらに炭化珪素を主成分とする珪
素化合物膜を積層した。炭化珪素を主成分とする珪素化
合物膜の厚み、組成、成膜方法は実施例１と同様とし
た。
【００３０】＜実施例３＞実施例１で用いたフィルムと
同様のポリエチレンテレフタレート製プラスチックフィ
ルムに対してテトラメトキシシランと酸素ガスを用い
て、ＣＶＤ蒸着法にて酸化珪素を主成分とする珪素酸化
物を積層した。酸化珪素を主成分とする珪素酸化物の蒸
着膜厚は１８ｎｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素の原
子量組成比は１：１：２であった。続いて、該酸化珪素
を主成分とする珪素酸化物膜の上面にさらにテトラメト
キシシランのみを用いて、ＣＶＤ蒸着法にて炭化珪素を
主成分とする珪素酸化物膜を積層した。炭化珪素を主成
分とする珪素酸化物膜の厚みは５ｎｍであり、膜中の炭
素と珪素と酸素の原子量組成比は３：２：２であった。
同様のポリエチレンテレフタレート製プラスチックフィ
ルムに対してテトラメトキシシランと酸素ガスを用い
て、ＣＶＤ蒸着法にて酸化珪素を主成分とする珪素酸化
物を積層した。酸化珪素を主成分とする珪素酸化物の蒸
着膜厚は１８ｎｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素の原
子量組成比は１：１：２であった。続いて、該酸化珪素
を主成分とする珪素酸化物膜の上面にさらにテトラメト
キシシランのみを用いて、ＣＶＤ蒸着法にて炭化珪素を
主成分とする珪素酸化物膜を積層した。炭化珪素を主成
分とする珪素酸化物膜の厚みは５ｎｍであり、膜中の炭
素と珪素と酸素の原子量組成比は３：２：２であった。
【００３１】＜実施例４＞上記実施例３と同様にして、
ＣＶＤ蒸着法にて酸化珪素を主成分とする珪素酸化物を
積層した。続いて、該酸化珪素を主成分とする珪素酸化
物膜の上面にさらにジメチルシランのみを用いて、ＣＶ
Ｄ蒸着法にて炭化珪素を主成分とする珪素酸化物膜を積
層した。炭化珪素を主成分とする珪素酸化物膜の厚みは
８ｎｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素の原子量組成比
は５：２：１であった。
ＣＶＤ蒸着法にて酸化珪素を主成分とする珪素酸化物を
積層した。続いて、該酸化珪素を主成分とする珪素酸化
物膜の上面にさらにジメチルシランのみを用いて、ＣＶ
Ｄ蒸着法にて炭化珪素を主成分とする珪素酸化物膜を積
層した。炭化珪素を主成分とする珪素酸化物膜の厚みは
８ｎｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素の原子量組成比
は５：２：１であった。
【００３２】＜実施例５＞上記実施例３と同様にして、
ＣＶＤ蒸着法にて酸化珪素を主成分とする珪素酸化物を
積層した。続いて、該酸化珪素を主成分とする珪素酸化
物膜の上面にさらにジシランと窒素を用いて、ＣＶＤ蒸
着法にて窒化珪素を主成分とする珪素化合物膜を積層し
た。窒化珪素を主成分とする珪素化合物膜の厚みは８ｎ
ｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素と窒素の原子量組成
比は１：２：１：３であった。
ＣＶＤ蒸着法にて酸化珪素を主成分とする珪素酸化物を
積層した。続いて、該酸化珪素を主成分とする珪素酸化
物膜の上面にさらにジシランと窒素を用いて、ＣＶＤ蒸
着法にて窒化珪素を主成分とする珪素化合物膜を積層し
た。窒化珪素を主成分とする珪素化合物膜の厚みは８ｎ
ｍであり、膜中の炭素と珪素と酸素と窒素の原子量組成
比は１：２：１：３であった。
【００３３】＜比較例１＞実施例１で用いたフィルムと
同様のポリエチレンテレフタレート製プラスチックフィ
ルムに対して、何も蒸着を行わない構成とした。
同様のポリエチレンテレフタレート製プラスチックフィ
ルムに対して、何も蒸着を行わない構成とした。
【００３４】＜比較例２＞上記実施例２における酸化珪
素を主成分とする珪素化合物膜の上面に、炭化珪素を主
成分とする珪素酸化物膜を積層しない構成とした以外
は、実施例２と同様の構成とした。
素を主成分とする珪素化合物膜の上面に、炭化珪素を主
成分とする珪素酸化物膜を積層しない構成とした以外
は、実施例２と同様の構成とした。
【００３５】＜比較例３＞上記実施例３における酸化珪
素を主成分とする珪素化合物膜の上面に、炭化珪素を主
成分とする珪素酸化物膜を積層しない構成とした以外
は、実施例３と同様の構成とした。
素を主成分とする珪素化合物膜の上面に、炭化珪素を主
成分とする珪素酸化物膜を積層しない構成とした以外
は、実施例３と同様の構成とした。
【００３６】
【発明の効果】本発明のバリア性プラスチック容器は、
プラスチックの酸素や二酸化炭素、水蒸気のような低分
子ガスを透過するという性質を、プラスチック容器に薄
膜を被膜することで確実に低減し、かつ、内容物の直接
接触及びレトルト処理等を行っても、バリア性が低下し
ない薄膜を形成したプラスチック容器を提供でき、従来
の問題点を解決したバリア性に優れた内容物の直接接触
に耐える容器を提供できる効果がある。
プラスチックの酸素や二酸化炭素、水蒸気のような低分
子ガスを透過するという性質を、プラスチック容器に薄
膜を被膜することで確実に低減し、かつ、内容物の直接
接触及びレトルト処理等を行っても、バリア性が低下し
ない薄膜を形成したプラスチック容器を提供でき、従来
の問題点を解決したバリア性に優れた内容物の直接接触
に耐える容器を提供できる効果がある。
【図１】本発明のバリア性プラスチック容器の一実施の
形態の断面図。
形態の断面図。
【図２】本発明のバリア性プラスチック容器の他の実施
の形態の断面図。
の形態の断面図。
１…プラスチック容器基材
２…窒化珪素もしくは炭化珪素を主成分とする珪素化合
物蒸着薄膜層 ３…珪素酸化物を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層
物蒸着薄膜層 ３…珪素酸化物を主成分とする珪素化合物蒸着薄膜層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ２３Ｃ 14/20 Ｃ２３Ｃ 16/42
16/42 Ｃ０８Ｌ 101:00
// Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｂ６５Ｄ 1/00 Ｂ
(72)発明者 辻野 学
東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印
刷株式会社内
Ｆターム(参考） 3E033 BA06 BA18 BB10 CA16 FA02
FA03
4F006 AA11 AA31 AA35 AB76 BA05
CA07 DA01
4F100 AA16C AA20A AA32B AD05C
AH06C AK01A AK42 BA03
BA07 BA10C BA27 EH66B
EH66C GB16 JD02 YY00B
YY00C
4K029 AA11 AA26 BA46 BA52 BA56
BA58 BC00 BD00 CA01 DB05
EA01
4K030 AA06 AA09 AA18 BA37 BA40
BA44 CA07 CA11 JA01 LA01
LA24
Claims (8)
- 【請求項１】プラスチック基材上に珪素化合物蒸着薄膜
層が被覆され、該蒸着薄膜層の少なくとも最外面層が、
炭化珪素もしくは窒化珪素を主成分とする珪素化合物蒸
着薄膜層からなることを特徴とするバリア性プラスチッ
ク容器。 - 【請求項２】プラスチック基材上に酸化珪素を主成分と
する珪素化合物蒸着薄膜層が被膜され、該蒸着薄膜層の
少なくとも最外面層が、炭化珪素もしくは窒化珪素を主
成分とする珪素化合物蒸着薄膜層からなることを特徴と
するバリア性プラスチック容器。 - 【請求項３】請求項１、２記載のバリア性プラスチック
容器であって、前記プラスチック基材上に被膜された珪
素化合物蒸着薄膜層の総厚が５〜１００ｎｍであること
を特徴とするバリア性プラスチック容器。 - 【請求項４】請求項１乃至３のいずれか１項記載のバリ
ア性プラスチック容器において、前記最外面層に形成さ
れる珪素化合物蒸着薄膜層の膜中における酸素の原子量
組成比が３０％以下であることを特徴とするバリア性プ
ラスチック容器。 - 【請求項５】請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載
のバリア性プラスチック容器において、少なくとも最外
面層に形成された珪素化合物蒸着薄膜層がＰＶＤ蒸着法
により形成され、その材料として炭化珪素、窒化珪素が
用いられていることを特徴とするバリア性プラスチック
容器。 - 【請求項６】請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載
のバリア性プラスチック容器において、最外面層に形成
された珪素化合物蒸着薄膜層がＣＶＤ蒸着法により形成
され、その材料として有機珪素化合物モノマーが用いら
れていることを特徴とするバリア性プラスチック容器。 - 【請求項７】請求項６記載のバリア性プラスチック容器
において、前記有機珪素化合物モノマーが、酸素を含有
しない有機珪素化合物モノマーであることを特徴とする
バリア性プラスチック容器。 - 【請求項８】請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載
のバリア性プラスチック容器であって、前記最外面層の
珪素化合物蒸着薄膜層が内容物と直接接する構造からな
ることを特徴とするバリア性プラスチック容器。
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|---|---|---|---|
| JP2001299045A JP2003104352A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | バリア性プラスチック容器 |
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| JP2001299045A JP2003104352A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | バリア性プラスチック容器 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003104352A true JP2003104352A (ja) | 2003-04-09 |
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| JP2001299045A Pending JP2003104352A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | バリア性プラスチック容器 |
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|---|---|
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005092714A1 (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | 高いガスバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| WO2005092715A1 (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | 高いガスバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| WO2005121390A1 (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | 合成樹脂成形物表面における有機化合物の吸着抑制方法 |
| JP2006103744A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | アルデヒド類が低減されたポリエステル樹脂容器及びその容器の製法 |
| JP2016087986A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | イビデン株式会社 | 樹脂基体及び樹脂基体の製造方法 |
| EP2660049A4 (en) * | 2010-12-28 | 2016-10-19 | Kirin Brewery | MADE OF A PLASTIC, GAS-NON-INDUCED PRODUCT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| EP3093309A1 (en) | 2015-05-11 | 2016-11-16 | Coating Plasma Industrie | Process for depositing a gas barrier coating on a polymer film or polymer container, and polymer film or polymer container with coated with such a gas barrier |
| CN106337170A (zh) * | 2015-07-06 | 2017-01-18 | 友技科株式会社 | 等离子体化学气相沉积装置以及成膜方法 |
| JP2017025389A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | 株式会社ユーテック | プラズマｃｖｄ装置及び成膜方法 |
| JP2019064644A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 三菱ケミカル株式会社 | ガスバリア性容器 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0872193A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | 透明性を有するガスバリア性積層フィルム |
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001299045A patent/JP2003104352A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0872193A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | 透明性を有するガスバリア性積層フィルム |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1728723A1 (en) * | 2004-03-26 | 2006-12-06 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | Synthetic resin container with high gas barrier performance |
| WO2005092715A1 (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | 高いガスバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| JP2005306482A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-11-04 | Yoshino Kogyosho Co Ltd | 高いガスバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| WO2005092714A1 (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | 高いガスバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| EP1728723A4 (en) * | 2004-03-26 | 2008-09-17 | Yoshino Kogyosho Co Ltd | ART RESIN CONTAINER WITH HIGH GAS PERFORMANCE |
| WO2005121390A1 (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | 合成樹脂成形物表面における有機化合物の吸着抑制方法 |
| JP2006103744A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | アルデヒド類が低減されたポリエステル樹脂容器及びその容器の製法 |
| EP2660049A4 (en) * | 2010-12-28 | 2016-10-19 | Kirin Brewery | MADE OF A PLASTIC, GAS-NON-INDUCED PRODUCT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| JP2016087986A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | イビデン株式会社 | 樹脂基体及び樹脂基体の製造方法 |
| EP3093309A1 (en) | 2015-05-11 | 2016-11-16 | Coating Plasma Industrie | Process for depositing a gas barrier coating on a polymer film or polymer container, and polymer film or polymer container with coated with such a gas barrier |
| CN106337170A (zh) * | 2015-07-06 | 2017-01-18 | 友技科株式会社 | 等离子体化学气相沉积装置以及成膜方法 |
| JP2017014596A (ja) * | 2015-07-06 | 2017-01-19 | 株式会社ユーテック | プラズマｃｖｄ装置及び成膜方法 |
| JP2017025389A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | 株式会社ユーテック | プラズマｃｖｄ装置及び成膜方法 |
| JP2019064644A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 三菱ケミカル株式会社 | ガスバリア性容器 |
| JP7005256B2 (ja) | 2017-09-29 | 2022-01-21 | 三菱ケミカル株式会社 | ガスバリア性容器 |
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