JPH1170611A - 透明ガスバリアフィルム - Google Patents
透明ガスバリアフィルムInfo
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- JPH1170611A JPH1170611A JP9233914A JP23391497A JPH1170611A JP H1170611 A JPH1170611 A JP H1170611A JP 9233914 A JP9233914 A JP 9233914A JP 23391497 A JP23391497 A JP 23391497A JP H1170611 A JPH1170611 A JP H1170611A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】黄褐色度が極端に低く、かつ高いガスバリア性
を有し、フレキシビリティと基材への密着性にも優れた
単一のガスバリア層を付着した透明性を有するガスバリ
アフィルムを提供することにある。 【解決手段】透明性を有する高分子材料からなる基材２
０の片面もしくは両面に無機化合物からなる透明ガスバ
リア層を積層した積層フィルムにおいて、該透明ガスバ
リア層が炭素５〜１５％含有する酸化珪素薄膜層３０で
あり、その透明ガスバリア層が、有機珪素化合物ガスお
よび酸素ガスを主原料としてプラズマＣＶＤ法によって
形成されてなる透明ガスバリアフィルム１としたもので
あって、前記酸化珪素薄膜層３０の色が、無色透明であ
り、３６６ｎｍの波長の光の光線透過率が７５％以上で
ある透明ガスバリアフィルム１０としたものである。
を有し、フレキシビリティと基材への密着性にも優れた
単一のガスバリア層を付着した透明性を有するガスバリ
アフィルムを提供することにある。 【解決手段】透明性を有する高分子材料からなる基材２
０の片面もしくは両面に無機化合物からなる透明ガスバ
リア層を積層した積層フィルムにおいて、該透明ガスバ
リア層が炭素５〜１５％含有する酸化珪素薄膜層３０で
あり、その透明ガスバリア層が、有機珪素化合物ガスお
よび酸素ガスを主原料としてプラズマＣＶＤ法によって
形成されてなる透明ガスバリアフィルム１としたもので
あって、前記酸化珪素薄膜層３０の色が、無色透明であ
り、３６６ｎｍの波長の光の光線透過率が７５％以上で
ある透明ガスバリアフィルム１０としたものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主に食品、医薬
品、精密電子部品等の包装分野に用いられる包装フィル
ムに関するものであり、特に、透明性とガスバリア性に
優れた包装フィルムに関する。
品、精密電子部品等の包装分野に用いられる包装フィル
ムに関するものであり、特に、透明性とガスバリア性に
優れた包装フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より，食品、医薬品、精密電子部品
等の包装に用いられる包装材料として、内容物を品質変
化させる原因となる酸素、水蒸気等の影響を防ぐために
ガスバリア性を有するアルミニウム箔層を設けた包装材
やアルミニウム蒸着フィルムが知られ、実用されてき
た。しかし、このような包装材は、安定したガスバリア
性が得られるものの、透明性に欠け内容物が見にくいと
いう問題点があった。
等の包装に用いられる包装材料として、内容物を品質変
化させる原因となる酸素、水蒸気等の影響を防ぐために
ガスバリア性を有するアルミニウム箔層を設けた包装材
やアルミニウム蒸着フィルムが知られ、実用されてき
た。しかし、このような包装材は、安定したガスバリア
性が得られるものの、透明性に欠け内容物が見にくいと
いう問題点があった。
【０００３】一方、透明なガスバリアフィルムとして、
ポリ塩化ビニリデンを塗布したフィルムや、エチレン・
ビニルアルコール共重合体の技術が開示されていた。し
かし、ポリ塩化ビニリデンを塗布したフィルムでは、塩
素を含むため、廃棄時の焼却処理において、有害ガスの
発生等による環境問題や焼却炉の腐食等による耐用期間
の短縮などの問題があった。また、エチレン・ビニルア
ルコール共重合体のフィルムでは、水蒸気で酸素バリア
性が劣化しやすいという問題点があった。
ポリ塩化ビニリデンを塗布したフィルムや、エチレン・
ビニルアルコール共重合体の技術が開示されていた。し
かし、ポリ塩化ビニリデンを塗布したフィルムでは、塩
素を含むため、廃棄時の焼却処理において、有害ガスの
発生等による環境問題や焼却炉の腐食等による耐用期間
の短縮などの問題があった。また、エチレン・ビニルア
ルコール共重合体のフィルムでは、水蒸気で酸素バリア
性が劣化しやすいという問題点があった。
【０００４】そこで、これらの問題点を解消する包装材
料として、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシ
ウム等の無機酸化物を高分子フィルム上に真空蒸着法や
スパッタリング法で付着させたものが開発され、透明性
およびガスバリア性の両者が付与された包装材料として
好適とされている。
料として、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシ
ウム等の無機酸化物を高分子フィルム上に真空蒸着法や
スパッタリング法で付着させたものが開発され、透明性
およびガスバリア性の両者が付与された包装材料として
好適とされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
酸化珪素薄膜等の無機酸化物形成技術においては、ガス
バリア性向上のために酸素の比率を低下させると、黄褐
色度が大きくなり、透明性が低下するという問題と、膜
厚を厚くするとフレキシブル性に欠けクラックが入り易
くなることと基材と酸化珪素薄膜との密着力が弱くなる
という問題があった。
酸化珪素薄膜等の無機酸化物形成技術においては、ガス
バリア性向上のために酸素の比率を低下させると、黄褐
色度が大きくなり、透明性が低下するという問題と、膜
厚を厚くするとフレキシブル性に欠けクラックが入り易
くなることと基材と酸化珪素薄膜との密着力が弱くなる
という問題があった。
【０００６】本発明は、かかる従来技術の問題点を解決
するものであり、その課題とするところは、黄褐色度が
極端に低く、かつ高いガスバリア性を有し、フレキシビ
リティと基材への密着性にも優れた単一のガスバリア層
を付着した透明性を有するガスバリアフィルムの提供に
ある。
するものであり、その課題とするところは、黄褐色度が
極端に低く、かつ高いガスバリア性を有し、フレキシビ
リティと基材への密着性にも優れた単一のガスバリア層
を付着した透明性を有するガスバリアフィルムの提供に
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項１の発明では、透明性を
有する高分子材料からなる基材の片面もしくは両面に無
機化合物からなる透明ガスバリア層を積層した積層フィ
ルムにおいて、該透明ガスバリア層が炭素５〜１５％含
有する酸化珪素薄膜層であることを特徴とする透明ガス
バリアフィルムとしたものである。
を達成するために、まず請求項１の発明では、透明性を
有する高分子材料からなる基材の片面もしくは両面に無
機化合物からなる透明ガスバリア層を積層した積層フィ
ルムにおいて、該透明ガスバリア層が炭素５〜１５％含
有する酸化珪素薄膜層であることを特徴とする透明ガス
バリアフィルムとしたものである。
【０００８】また、請求項２の発明では、前記透明ガス
バリア層が、有機珪素化合物ガスおよび酸素ガスを主原
料としてプラズマＣＶＤ法によって形成されてなること
を特徴とする透明ガスバリアフィルムとしたものであ
る。
バリア層が、有機珪素化合物ガスおよび酸素ガスを主原
料としてプラズマＣＶＤ法によって形成されてなること
を特徴とする透明ガスバリアフィルムとしたものであ
る。
【０００９】また、請求項３の発明では、前記酸化珪素
薄膜層の色が、無色透明であり、３６６ｎｍの波長の光
の光線透過率が７５％以上である透明ガスバリアフィル
ムとしたものである。
薄膜層の色が、無色透明であり、３６６ｎｍの波長の光
の光線透過率が７５％以上である透明ガスバリアフィル
ムとしたものである。
【００１０】上記の炭素を含む酸化珪素薄膜を形成する
有機珪素化合物は、テトラエトキシシラン（ＴＥＯ
Ｓ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テト
ラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、オクタメチルシ
クロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキ
サン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキ
シシラン、トリメチルエトキシシラン、エチルトリメト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピル
トリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラ
ン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメ
トキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、デカメチルシクロペンタシ
ロキサンなどから選択でき、これらの有機珪素化合物の
うちの一つまたは複数からなることを特徴とするもの
で、好ましくは、ＴＥＯＳ、ＨＳＤＳＯ、ＴＭＤＳＯ、
オクタメチルシクロテトラシロキサンである。
有機珪素化合物は、テトラエトキシシラン（ＴＥＯ
Ｓ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テト
ラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、オクタメチルシ
クロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキ
サン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキ
シシラン、トリメチルエトキシシラン、エチルトリメト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピル
トリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラ
ン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメ
トキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、デカメチルシクロペンタシ
ロキサンなどから選択でき、これらの有機珪素化合物の
うちの一つまたは複数からなることを特徴とするもの
で、好ましくは、ＴＥＯＳ、ＨＳＤＳＯ、ＴＭＤＳＯ、
オクタメチルシクロテトラシロキサンである。
【００１１】また、上記本発明の透明性を有するガスバ
リアフィルムのガスバリア層は、有機珪素化合物の蒸気
と酸素に加えて、場合によっては不活性ガスを用いてプ
ラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｉｐ
ｏｓｉｔｉｏｎ）法を用いて形成されるもので、透明性
が非常によく、緻密な連続層であり、酸素透過度は１ｃ
ｃ／ｍ2 ／ｄａｙ以下、水蒸気透過度は１ｇ／ｍ2 ／ｄ
ａｙ以下である。そして炭素を５〜１５％含むことによ
り、フレキシビリティと密着性も良好となるものであ
る。
リアフィルムのガスバリア層は、有機珪素化合物の蒸気
と酸素に加えて、場合によっては不活性ガスを用いてプ
ラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｉｐ
ｏｓｉｔｉｏｎ）法を用いて形成されるもので、透明性
が非常によく、緻密な連続層であり、酸素透過度は１ｃ
ｃ／ｍ2 ／ｄａｙ以下、水蒸気透過度は１ｇ／ｍ2 ／ｄ
ａｙ以下である。そして炭素を５〜１５％含むことによ
り、フレキシビリティと密着性も良好となるものであ
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面を
用いて説明する。図１は、本発明の透明性を有するガス
バリアフィルムの側断面を表す説明図である。
用いて説明する。図１は、本発明の透明性を有するガス
バリアフィルムの側断面を表す説明図である。
【００１３】図１に示すように、本発明の透明性を有す
るガスバリアフィルム（１０）の構成は、基材（２０）
の表面に、炭素を含む酸化珪素薄膜層（３０）が形成さ
れてなるものである。この酸化珪素薄膜層（３０）に含
まれる炭素の含有率は５〜１５％が好ましく、これより
少ないとフレキシビリティに欠け、酸化珪素薄膜層（３
０）が割れやすくバリア性を損なうおそれがある。ま
た、これより多いとガスバリアフィルム（１０）が黄色
みを帯びて透明性に欠けるもので、炭素の含有率が５〜
１５％ではさらに透明性が増し、非常に良好なフィルム
を得ることができるものである。
るガスバリアフィルム（１０）の構成は、基材（２０）
の表面に、炭素を含む酸化珪素薄膜層（３０）が形成さ
れてなるものである。この酸化珪素薄膜層（３０）に含
まれる炭素の含有率は５〜１５％が好ましく、これより
少ないとフレキシビリティに欠け、酸化珪素薄膜層（３
０）が割れやすくバリア性を損なうおそれがある。ま
た、これより多いとガスバリアフィルム（１０）が黄色
みを帯びて透明性に欠けるもので、炭素の含有率が５〜
１５％ではさらに透明性が増し、非常に良好なフィルム
を得ることができるものである。
【００１４】上記の基材（２０）は、透明性を有する高
分子材料であり、ガスバリア層としての炭素を含む酸化
珪素薄膜層（３０）の無色透明性を生かすために透明な
フィルムが望ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリ
エステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレンなど
のポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポ
リイミドフィルムなどが用いられ、延伸、未延伸のいず
れでもよく、また、機械的強度や寸法安定性のあるもの
が良く、特に二軸方向に任意に延伸されたポリエチレン
テレフタレートが好ましい。
分子材料であり、ガスバリア層としての炭素を含む酸化
珪素薄膜層（３０）の無色透明性を生かすために透明な
フィルムが望ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリ
エステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレンなど
のポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポ
リイミドフィルムなどが用いられ、延伸、未延伸のいず
れでもよく、また、機械的強度や寸法安定性のあるもの
が良く、特に二軸方向に任意に延伸されたポリエチレン
テレフタレートが好ましい。
【００１５】また、この基材（２０）の表面に、周知の
種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止
剤、可塑剤、滑剤等が施されていてもよく、酸化珪素薄
膜層（３０）との密着性をよくするために、前処理とし
てコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処
理等を施しておいてもよく、さらに、薬品処理、溶剤処
理などを施してもよい。また、基材（２０）は単層であ
ってもよいが、２種類以上の高分子フィルムからなる多
層構造であってもよい。
種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止
剤、可塑剤、滑剤等が施されていてもよく、酸化珪素薄
膜層（３０）との密着性をよくするために、前処理とし
てコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処
理等を施しておいてもよく、さらに、薬品処理、溶剤処
理などを施してもよい。また、基材（２０）は単層であ
ってもよいが、２種類以上の高分子フィルムからなる多
層構造であってもよい。
【００１６】上記基材（２０）の厚みは、特に制限を受
けるものではないが、包装材料としての適性すなわちラ
ミネートや他の層の積層等を含めた加工適性を考慮する
と３〜２００μｍの範囲で、用途によっては６〜３０μ
ｍとするのが好ましい。
けるものではないが、包装材料としての適性すなわちラ
ミネートや他の層の積層等を含めた加工適性を考慮する
と３〜２００μｍの範囲で、用途によっては６〜３０μ
ｍとするのが好ましい。
【００１７】また、炭素を含む酸化珪素薄膜層（３０）
は、高分子材料からなる基材（２０）の上に積層される
もので、この酸化珪素薄膜層（３０）を設ける手段とし
ては有機珪素ガスおよび酸素ガスを主原料とするプラズ
マＣＶＤ法が適する。真空蒸着法等のドライプレーティ
ングも考えられるが、ドライプレーティングでは酸化珪
素薄膜中に任意の料の炭素を均一に含ませるのが困難で
あり、本発明の透明ガスバリアフィルム用の成膜には不
向きである。また、プラズマＣＶＤ法におけるプラズマ
励起源としては、高周波（ＨＦ）、ラジオ波（ＲＦ）、
マイクロ波（ＭＦ）等が用いられる。
は、高分子材料からなる基材（２０）の上に積層される
もので、この酸化珪素薄膜層（３０）を設ける手段とし
ては有機珪素ガスおよび酸素ガスを主原料とするプラズ
マＣＶＤ法が適する。真空蒸着法等のドライプレーティ
ングも考えられるが、ドライプレーティングでは酸化珪
素薄膜中に任意の料の炭素を均一に含ませるのが困難で
あり、本発明の透明ガスバリアフィルム用の成膜には不
向きである。また、プラズマＣＶＤ法におけるプラズマ
励起源としては、高周波（ＨＦ）、ラジオ波（ＲＦ）、
マイクロ波（ＭＦ）等が用いられる。
【００１８】上記の炭素を含む酸化珪素薄膜層（３０）
の厚さは、一般的に１００〜２０００Åが好ましい。こ
れより薄いと厚さにムラが生じやすくバリア性が十分で
ないことがあり、また、これより厚い場合は柔軟性、経
済性の点で問題が生じ、好ましくは５００〜１５００Å
の範囲である。
の厚さは、一般的に１００〜２０００Åが好ましい。こ
れより薄いと厚さにムラが生じやすくバリア性が十分で
ないことがあり、また、これより厚い場合は柔軟性、経
済性の点で問題が生じ、好ましくは５００〜１５００Å
の範囲である。
【００１９】さらに、この炭素を含む酸化珪素薄膜層
（３０）上に他の層を積層することもできる。例えば、
印刷層やヒートシール層であり、印刷層は厚さ０．１〜
２μｍが一般的である。
（３０）上に他の層を積層することもできる。例えば、
印刷層やヒートシール層であり、印刷層は厚さ０．１〜
２μｍが一般的である。
【００２０】また、ヒートシール層は、袋状包装体など
を形成する際の接着部に利用されるものであり、ポリエ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸
共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、
エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸
エステル共重合体およびそれらの金属架橋物等の樹脂が
用いられる。この形成法としては、上記樹脂を溶融さ
せ、押し出し貼り合わせるエキストルーションラミネー
ト法や、フィルム状の樹脂をドライラミネート法やノン
ソルベントラミネート法により積層する方法等で、いず
れも公知の方法により積層される。その厚さは任意で目
的に応じて決定されるものであり、一般的には１５〜２
００μｍの範囲である。
を形成する際の接着部に利用されるものであり、ポリエ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸
共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、
エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸
エステル共重合体およびそれらの金属架橋物等の樹脂が
用いられる。この形成法としては、上記樹脂を溶融さ
せ、押し出し貼り合わせるエキストルーションラミネー
ト法や、フィルム状の樹脂をドライラミネート法やノン
ソルベントラミネート法により積層する方法等で、いず
れも公知の方法により積層される。その厚さは任意で目
的に応じて決定されるものであり、一般的には１５〜２
００μｍの範囲である。
【００２１】
【実施例】次に本発明を実施例により、さらに具体的に
説明する。 ＜実施例１＞基材（２０）として、厚さ１２μｍのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一方の面
にテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を５５℃で気化さ
せて、キャリアガスとしてアルゴンガスを用い、酸素：
アルゴン（ＴＥＯＳを含む）＝１４：１よりなる混合ガ
スを原料ガスとして、ＲＦプラズマ（１３．５６ＭＨ
ｚ）によるプラズマＣＶＤ法により、炭素を含む酸化珪
素薄膜層（３０）を約５００オングストロームの厚さに
形成し、本発明の透明性を有するガスバリアフィルム
（１０）を得た。このフィルムの組成を島津製作所社製
のＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏ
ｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）
を用いて測定したところ、約６％の炭素が含まれてい
た。
説明する。 ＜実施例１＞基材（２０）として、厚さ１２μｍのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一方の面
にテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を５５℃で気化さ
せて、キャリアガスとしてアルゴンガスを用い、酸素：
アルゴン（ＴＥＯＳを含む）＝１４：１よりなる混合ガ
スを原料ガスとして、ＲＦプラズマ（１３．５６ＭＨ
ｚ）によるプラズマＣＶＤ法により、炭素を含む酸化珪
素薄膜層（３０）を約５００オングストロームの厚さに
形成し、本発明の透明性を有するガスバリアフィルム
（１０）を得た。このフィルムの組成を島津製作所社製
のＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏ
ｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）
を用いて測定したところ、約６％の炭素が含まれてい
た。
【００２２】＜実施例２＞炭素を含む酸化珪素薄膜層
（３０）を約１０００Åにした以外は、実施例１と全く
同様の材料および方法・条件で透明性を有するガスバリ
アフィルム（１０）を得た。
（３０）を約１０００Åにした以外は、実施例１と全く
同様の材料および方法・条件で透明性を有するガスバリ
アフィルム（１０）を得た。
【００２３】＜実施例３＞ヘキサメチルジシロキサン
（ＨＭＤＳＯ）を４℃で気化させて、キャリアガスを流
さず、酸素：ＨＭＤＳＯ＝３０：１よりなる混合ガスを
原料ガスとした以外は、実施例１と全く同様の材料や方
法で透明性を有するガスバリアフィルム（１）を得た。
このフィルムの組成をＥＳＣＡで同様に測定したとこ
ろ、約１２％の炭素が含まれていた。
（ＨＭＤＳＯ）を４℃で気化させて、キャリアガスを流
さず、酸素：ＨＭＤＳＯ＝３０：１よりなる混合ガスを
原料ガスとした以外は、実施例１と全く同様の材料や方
法で透明性を有するガスバリアフィルム（１）を得た。
このフィルムの組成をＥＳＣＡで同様に測定したとこ
ろ、約１２％の炭素が含まれていた。
【００２４】＜実施例４＞炭素を含む酸化珪素薄膜層
（３０）を約１０００Åの厚さにした以外は、実施例３
と全く同様の材料や方法・条件で透明性を有するガスバ
リアフィルム（１０）を得た。
（３０）を約１０００Åの厚さにした以外は、実施例３
と全く同様の材料や方法・条件で透明性を有するガスバ
リアフィルム（１０）を得た。
【００２５】＜比較例１＞原料混合ガスの酸素量をＯＳ
ＣＣＭ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｃｕｂｉｃ Ｃｅｎｔｉｍ
ｅｔｅｒ／Ｍｉｎｕｔｅ つまり酸素は流さないこと）
にした以外は、実施例１と全く同様の材料や条件で酸化
珪素薄膜を形成した。このフィルムの組成をＥＳＣＡで
測定したところ、約４５％の炭素が含まれていた。
ＣＣＭ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｃｕｂｉｃ Ｃｅｎｔｉｍ
ｅｔｅｒ／Ｍｉｎｕｔｅ つまり酸素は流さないこと）
にした以外は、実施例１と全く同様の材料や条件で酸化
珪素薄膜を形成した。このフィルムの組成をＥＳＣＡで
測定したところ、約４５％の炭素が含まれていた。
【００２６】＜比較例２＞従来の真空蒸着法により、酸
化珪素薄膜を厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）フィルム上に形成した。この酸化珪素薄膜
中には炭素は含まれていない。
化珪素薄膜を厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）フィルム上に形成した。この酸化珪素薄膜
中には炭素は含まれていない。
【００２７】実施例１〜４および比較例１、２で得られ
た積層フィルムを評価するため、フィルムの酸素透過率
（ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ）、水蒸気透過率（ｇ／ｍ2 ／ｄ
ａｙ）をＭＯＣＯＭ社製のＯＸＴＲＡＮおよびＰＡＲＭ
ＴＲＡＮで測定した。さらに、得られた積層フィルムの
透明性を評価するために、目視による色および光線透過
率（％−３６６ｎｍ）を測定した。その結果を表１に示
した。
た積層フィルムを評価するため、フィルムの酸素透過率
（ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ）、水蒸気透過率（ｇ／ｍ2 ／ｄ
ａｙ）をＭＯＣＯＭ社製のＯＸＴＲＡＮおよびＰＡＲＭ
ＴＲＡＮで測定した。さらに、得られた積層フィルムの
透明性を評価するために、目視による色および光線透過
率（％−３６６ｎｍ）を測定した。その結果を表１に示
した。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。即ち、透明性を有する高分子材料
からなる基材に無機化合物からなる透明ガスバリア層を
積層した積層フィルムにおいて、その透明ガスバリア層
としての酸化珪素ガスバリア層に炭素を５〜１５％含有
させることにより、他のフィルムとのラミネートや印刷
などの後加工を施さなくとも酸素透過度が１ｃｃ／ｍ2
／ｄａｙ以下、水蒸気透過度１ｇ／ｍ2 ／ｄａｙ以下と
ガスバリア性に優れた効果を有する。
示す如き効果がある。即ち、透明性を有する高分子材料
からなる基材に無機化合物からなる透明ガスバリア層を
積層した積層フィルムにおいて、その透明ガスバリア層
としての酸化珪素ガスバリア層に炭素を５〜１５％含有
させることにより、他のフィルムとのラミネートや印刷
などの後加工を施さなくとも酸素透過度が１ｃｃ／ｍ2
／ｄａｙ以下、水蒸気透過度１ｇ／ｍ2 ／ｄａｙ以下と
ガスバリア性に優れた効果を有する。
【００３０】また、酸化珪素ガスバリア層内の炭素は珪
素や酸素と相互に結合しており、有機系高分子に類似し
ているため、フレキシビリティが良好になる効果があ
る。
素や酸素と相互に結合しており、有機系高分子に類似し
ているため、フレキシビリティが良好になる効果があ
る。
【００３１】さらに、透明ガスバリアフィルムと他のフ
ィルムとの密着強度も３５０ｇｆ／１５ｍｍ幅以上と、
包装用積層フィルムとして十分な強度を有する包装用積
層フィルムの提供ができる。
ィルムとの密着強度も３５０ｇｆ／１５ｍｍ幅以上と、
包装用積層フィルムとして十分な強度を有する包装用積
層フィルムの提供ができる。
【００３２】また、炭素含有量を１５％以下に抑えるこ
とにより、本来の酸化珪素薄膜のもつバリア性を保持
し、酸化珪素の結晶性を損なうことなく緻密で黄色味を
帯びない非常に透明なフィルムを形成することが可能で
ある。
とにより、本来の酸化珪素薄膜のもつバリア性を保持
し、酸化珪素の結晶性を損なうことなく緻密で黄色味を
帯びない非常に透明なフィルムを形成することが可能で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態を示す透明ガスバリアフ
ィルムの側断面で表した説明図である。
ィルムの側断面で表した説明図である。
１０‥‥ガスバリアフィルム ２０‥‥基材 ３０‥‥酸化珪素薄膜層
Claims (3)
- 【請求項１】透明性を有する高分子材料からなる基材の
片面もしくは両面に無機化合物からなる透明ガスバリア
層を積層した積層フィルムにおいて、該透明ガスバリア
層が炭素５〜１５％含有する酸化珪素薄膜層であること
を特徴とする透明ガスバリアフィルム。 - 【請求項２】前記透明ガスバリア層が、有機珪素化合物
ガスおよび酸素ガスを主原料としてプラズマＣＶＤ法に
よって形成されてなることを特徴とする請求項１記載の
透明ガスバリアフィルム。 - 【請求項３】前記酸化珪素薄膜層の色が、無色透明であ
り、３６６ｎｍの波長の光の光線透過率が７５％以上で
あることを特徴とする請求項１または２記載の透明ガス
バリアフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9233914A JPH1170611A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 透明ガスバリアフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9233914A JPH1170611A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 透明ガスバリアフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1170611A true JPH1170611A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=16962580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9233914A Pending JPH1170611A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 透明ガスバリアフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1170611A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002370722A (ja) * | 2001-06-19 | 2002-12-24 | Toppan Printing Co Ltd | バリア容器 |
| US8273419B2 (en) | 2008-09-24 | 2012-09-25 | Fujifilm Corporation | Method of forming gas barrier layers including a change in pressure, a gas barrier layer formed by the method, and a gas barrier film |
| JP2014518947A (ja) * | 2011-05-25 | 2014-08-07 | エージーシー グラス ユーロップ | 低圧ｐｅｃｖｄによってガラス基板上に層を蒸着するための方法 |
| JP2016078372A (ja) * | 2014-10-20 | 2016-05-16 | 凸版印刷株式会社 | 透明ガスバリアフィルム |
-
1997
- 1997-08-29 JP JP9233914A patent/JPH1170611A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002370722A (ja) * | 2001-06-19 | 2002-12-24 | Toppan Printing Co Ltd | バリア容器 |
| US8273419B2 (en) | 2008-09-24 | 2012-09-25 | Fujifilm Corporation | Method of forming gas barrier layers including a change in pressure, a gas barrier layer formed by the method, and a gas barrier film |
| JP2014518947A (ja) * | 2011-05-25 | 2014-08-07 | エージーシー グラス ユーロップ | 低圧ｐｅｃｖｄによってガラス基板上に層を蒸着するための方法 |
| JP2017095801A (ja) * | 2011-05-25 | 2017-06-01 | エージーシー グラス ユーロップＡｇｃ Ｇｌａｓｓ Ｅｕｒｏｐｅ | 低圧ｐｅｃｖｄによってガラス基板上に層を蒸着するための方法 |
| JP2016078372A (ja) * | 2014-10-20 | 2016-05-16 | 凸版印刷株式会社 | 透明ガスバリアフィルム |
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| A02 | Decision of refusal |
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