JPH08176033A - ベンゼン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、電気光学表示素子用の、特にマト
リックス液晶表示体用の液晶相の成分として使用するこ
とができる新規化合物に関する。 【構成】 本発明に係る化合物は下記式Ｉで表わされる
ベンゼン化合物である： 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、下記式Ｉで表わされる
フッ素化ベンゼン誘導体に関するものである：

【化５】 式Ｉにおいて、Ｒは、１８個までの炭素原子を有するア
ルキル基またはアルケニル基であり、これらの基は非置
換であるか、あるいはＣＮによりまたは少なくとも１個
のハロゲンにより置換されており、そしてこれらの基中
に存在する１個のＣＨ_２基または隣接していない２個以
上のＣＨ_２基は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ
−、−ＣＯ−Ｏ−および−Ｃ≡Ｃ−の群から選択される
基により置き換えられていてもよく、

【０００２】

【化６】

【０００３】Ａ^１は、 ａ） １，４−フェニレン基であり、この基中に存在す
る１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられてい
てもよく、あるいは ｂ） １，４−シクロヘキシレン基であり、この基中に
存在する１個のＣＨ_２基または隣接していない２個のＣ
Ｈ_２基は、−Ｏ−または−Ｓ−により置き換えられてい
てもよく、あるいは ｃ） １，４−シクロヘキセニレン、ピペリジン−１，
４−ジイル、１，４−ビシクロ〔２．２．２〕オクチレ
ンまたはナフタレン−２，６−ジイル基であり、上記基
ａ）および基ｂ）は、１個または２個以上のハロゲン原
子またはシアノ基および／またはメチル基により置換さ
れていてもよく、

【０００４】Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ
−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＨ_２−、−
ＣＨ_２Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２−または単結合であり、

【０００５】Ｘは炭素原子１〜１２個を有するアルキル
基またはアルコキシ基、ＮＣＳあるいはＱ−Ｙ（式中、
Ｑは−Ｏ−、−Ｓ−または単結合であり、そしてＹはＣ
Ｎ、ＦまたはＣｌであるか、あるいは炭素原子１〜５個
を有する、ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アル
ケニル基である）であり、Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ、
相互に独立して、ＨまたはＦであり、そしてｍは、０、
１または２である。

【０００６】本発明はまた、液晶相の成分として、これ
らの化合物を使用すること、およびまた本発明に係る液
晶相を含有する液晶表示素子および電気光学表示素子に
関するものである。

【０００７】式Ｉで表わされる化合物は、液晶相の成分
として、特にＳＴＮまたはＳＢＥなどの大きいツイスト
角を有するねじれセルを包含する、ねじれセルの原則、
ゲスト−ホスト効果、整列相の変形の効果、または動的
散乱の効果に基づく表示体用の、特にマトリックス液晶
表示体（ＭＬＣ表示体）用の、液晶相の成分として使用
することができる。

【０００８】本発明の目的は、液晶相の成分として適し
ており、特に比較的低い粘度および大きい正の誘電異方
性を有する新規で安定な液晶化合物もしくはメソーゲン
性化合物を見出すことにあった。

【０００９】

【背景技術】下記式で表わされる化合物は、特開平５−
３１０６１６号公報に記載されている：

【化７】 ４，４−ジ置換２′，３−ジフルオロビフェニルフェニ
ル化合物は、ＤＥ４００７８６３に記載されている。

【００１０】

【発明の開示】本発明により、式Ｉで表わされる化合物
が、液晶相の成分として格別に適していることが見出さ
れた。特に、これらの化合物は、比較的低い粘度を有す
る。これらの化合物を使用することによって、広いメソ
フェース範囲およびまた有利な光学異方性値および誘電
異方性値を有し、かつまた同時に、非常に好ましい電気
抵抗値を有する点で際立っている、安定な液晶相を得る
ことができる。これによって、特にマトリックス液晶表
示体（ＭＬＣ表示体）またはスーパーツイスト表示体用
の液晶相において、格別の利益を得ることができる。

【００１１】さらにまた、式Ｉで表わされる化合物を提
供することによって、各種用途の観点から、液晶混合物
の調製に適する液晶物質の範囲が非常に一般的に相当に
拡大される。式Ｉで表わされる化合物は広い用途範囲を
有する。置換基を選択することによって、これらの化合
物は液晶相を主として構成する基材として使用すること
ができる；しかしながら、これらの化合物はまた、他の
群の化合物からの液晶基材に添加して、例えばこのよう
な誘電体の誘電異方性および／または光学異方性を変え
ることができ、および／またはそのスレシホールド電圧
および／またはその粘度および／またはその電気抵抗値
を最適にすることができる。

【００１２】式Ｉで表わされる化合物は純粋な状態で無
色であり、そして電気光学用途に対して好ましく位置す
る温度範囲で液晶メソフェースを形成する。これらの化
合物は化学物質、熱および光に対して安定である。従っ
て、本発明は、式Ｉで表わされる化合物、特に式Ｉにお
いて、Ｌ^１および／またはＬ^２がフッ素である化合物に
関する。

【００１３】本発明はさらにまた、これらの化合物を液
晶相の成分として使用することに関する。本発明はま
た、式Ｉで表わされる化合物の少なくとも１種を含有す
る液晶相、およびまたこの種の相を含有する液晶表示素
子、特に電気光学表示素子、さらに特にマトリックス液
晶表示体に関する。

【００１４】簡潔にするために、以下の記載において、
Ａ^２は

【化８】 を表わし、そしてＣｙｃは１，４−シクロヘキシレンま
たは１，４−シクロヘキセニレン基を表わし、Ｄｉｏは
１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表わし、Ｄｉ
ｔは１，３−ジチアン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐ
ｈｅは１，４−フェニレン基を表わし、Ｐｙｄはピリジ
ン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐｙｒはピリミジン−
２，５−ジイル基を表わしそしてＢｉはビシクロ〔２．
２．２〕オクチレン基を表わすものとする。これらのＣ
ｙｃおよび／またはＰｈｅは非置換であることができ、
あるいは置換基として、１個または２個のＦまたはＣＮ
を有することができる。

【００１５】従って、式Ｉで表わされる化合物は、下記
の付属式Ｉａ〜Ｉｎで表わされる二環式化合物または三
環式化合物： Ｒ−Ｃｙｃ−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉａ Ｒ−Ｐｈｅ−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｂ Ｒ−Ｄｉｏ−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｃ Ｒ−Ｄｉｔ−Ａ^２−Ｐｂｅ−Ｘ Ｉｄ Ｒ−Ｐｙｄ−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｅ Ｒ−Ｐｙｒ−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｆ Ｒ−Ｂｉ−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｇ Ｒ−Ｐｈｅ−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｈ Ｒ−Ｃｙｃ−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｉ Ｒ−Ｄｉｏ−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｊ Ｒ−Ｄｉｔ−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｋ Ｒ−Ｐｙｄ−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｌ Ｒ−Ｐｙｒ−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｍ Ｒ−Ｂｉ−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｎ

【００１６】および下記式Ｉｏ〜Ｉｑで表わされる四環
式化合物： Ｒ−Ａ^１−Ａ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｏ Ｒ−Ａ^１−Ｚ^１−Ａ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｐ Ｒ−Ａ^１−Ｚ^１−Ａ^１−Ｚ^１−Ａ^２−Ｐｈｅ−Ｘ Ｉｑ を包含する。

【００１７】１個または２個以上の架橋基Ｚ^１を含有す
る付属式Ｉａ〜Ｉｑで表わされる化合物において、この
架橋員は好ましくは、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ
−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−または
−Ｃ≡Ｃ−、特に−ＣＨ_２ＣＨ_２−である。Ｒは好まし
くは、直鎖状のアルキルであり、さらにまたアルコキシ
またはアルケニルである。式Ｉで表わされる化合物は好
ましくは、１個よりも多くない基Ｂｉ、Ｐｙｄ、Ｐｙ
ｒ、ＤｉｏおよびＤｉｔを含有する。

【００１８】特に好適な化合物は、下記式Ｉ１〜Ｉ６で
表わされるベンゼン誘導体である：

【化９】

【００１９】式Ｉで表わされる化合物において、Ｘは好
ましくは、ＣＮ、ＮＣＳ、ＯＣＮ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ_３、
ＯＣＦ_３、ＣＦ_２Ｈ、ＣＨＦ_２、ＣＦ_２Ｃｌ、ＯＣＦ_２
Ｈ、ＯＣＦ_２Ｃｌ、ＯＣＨ_２ＣＦ_３、ＯＣＨＦＣＦ_３、
ＯＣＦ_２ＣＦ_３、ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｈ、ＯＣＨ＝ＣＦ_２、
ＯＣＦ＝ＣＦ_２、ＯＣＦ＝ＣＣｌ_２、ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｃ
ｌ、ＣＨ_２ＣＦ_３、ＣＨ_２ＣＦ_２Ｈ、ＯＣＦ＝ＣＨ_２、
ＣＨ＝ＣＦ_２、ＣＦ＝ＣＦ_２、ＣＦ＝ＣＨ_２、ＯＣＨ_３
またはＣ_２Ｈ_５である。

【００２０】式Ｉにおいて、ＸがＦ、Ｃｌ、ＣＮ、ＯＣ
Ｆ_３，ＯＣＨＦＣＦ_３、ＯＣＨＦ_２、ＯＣＨ_２ＣＦ_３、
ＯＣＦ＝ＣＦ_２またはＯＣＨ＝ＣＦ_２である化合物は、
特に好適な化合物として挙げることができる。

【００２１】さらにまた、式Ｉにおいて、この分子中に
存在する１，４−フェニレン環が置換基として、１個ま
たは２個のフッ素を有する化合物を好適化合物として挙
げることができる。このような置換環には、特に２−フ
ルオロ−１，４−フェニレンおよび２，６−ジフルオロ
−１，４−フェニレンがある。

【００２２】Ｒがアルキル基またはアルコキシ基である
場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状であることがで
きる。この基は好ましくは、直鎖状であって、２個、３
個、４個、５個、６個または７個の炭素原子を有し、従
って好ましくは、エチル、プロピル、プチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ペントキシ、ヘキソキシまたはヘプトキシであ
り、さらにまたメチル、オクチル、ノニル、デシル、ウ
ンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペン
タデシル、メトキシ、オクトキシ、ノノキシ、デコキ
シ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシまたはテ
トラデコキシであることができる。

【００２３】オキサアルキルは好ましくは、直鎖状の２
＝オキサプロピル（＝メトキシメチル）、２−（＝エト
キシメチル）または３＝オキサブチル（＝２−メトキシ
エチル）、２−、３−または４−オキサペンチル、２
−、３−、４−または５−オキサヘキシル、２−、３
−、４−、５−または６−オキサヘプチル、２−、３
−、４−、５−、６−または７−オキサオクチル、２
−、３−、４−、５−、６−、７−または８−オキサノ
ニルあるいは２−、３−、４−、５−、６−、７−、８
−または９−オキサデシルである。

【００２４】Ｒがアルケニル基である場合に、この基は
直鎖状または分枝鎖状であることができる。この基は好
ましくは、直鎖状であって、炭素原子２〜１０個を有す
る。従って、この基は特に、ビニル、プロプ−１−また
は−２−エニル、ブト−１−、−２−または−３−エニ
ル、ペント−１−、−２−、−３−または−４−エニ
ル、ヘキシ−１−、−２−、−３−、−４−または−５
−エニル、ヘプト−１−、−２−、−３−、−４−、−
５−または−６−エニル、オクト−１−、−２−、−
３、−４−、−５−、−６−または−７−エニル、ノン
−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、−６−、−
７−または−８−エニル、あるいはデク−１−、−２
−、−３−、−４−、−５−、−６−、−７−、−８−
または−９−エニルである。

【００２５】式Ｉおよびその付属式で表わされる化合物
の中で、その分子中に存在する基のうちの少なくとも１
つが上記の好ましい意味の１つを有する化合物を好適化
合物として挙げることができる。式Ｉで表わされる化合
物において、好ましい立体異性体は、その分子中に存在
する環Ｃｙｃおよびピペリジンが、トランス−１，４−
ジ置換されている化合物である。１個または２個以上の
基Ｐｙｄ、Ｐｙｒおよび／またはＤｉｏを含有する、前
記式で表わされる化合物はそれぞれ、２種の２，５−位
置異性体を包含する。

【００２６】１，４−シクロヘキセニレン基は好ましく
は、下記の構造を有する：

【化１０】

【００２７】式Ｉで表わされる化合物は、刊行物（例え
ばＨｏｕｂｅｎ−ＷｅｙｌによるＭｅｔｈｏｄｅｎ ｄ
ｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｇｅｏ
ｒｇ−Ｔｈｉｅｍｅ出版社、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔなどの
標準的学術書）に記載されているようなそれ自体公知の
方法により、正確には当該反応に適する、公知の反応条
件の下に、製造することができる。それ自体は公知であ
るが、本明細書には詳細に記載されていない変法を使用
することもできる。

【００２８】本発明に係る式Ｉで表わされるフルオロシ
クロヘキセン誘導体は、例えば下記の方法により、製造
することができる：

【化１１】

【００２９】

【化１２】

【００３０】

【化１３】

【００３１】

【化１４】

【００３２】以下に、数種の特に好ましい化合物の合成
に係りさらに詳細に説明する：

【化１５】

【００３３】

【化１６】

【００３４】

【化１７】

【００３５】

【化１８】

【００３６】

【化１９】

【００３７】

【化２０】

【００３８】

【化２１】

【００３９】本発明に係る液晶相は好ましくは、１種ま
たは２種以上の本発明に係る化合物以外の追加の成分と
して、２〜４０種、特に４〜３０種の成分を含有する。
これらの相は非常に特に好ましくは、１種または２種以
上の本発明に係る化合物以外に、７〜２５種の成分を含
有する。これらの追加の成分は好ましくは、ネマティッ
クまたはネマトゲニック（単変性または等方性）物質、
特にアゾキシベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化
合物、ビフェニル化合物、ターフェニル化合物、フェニ
ルまたはシクロヘキシルベンゾエート化合物、シクロヘ
キサンカルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエス
テル化合物、シクロヘキシル安息香酸のフェニルまたは
シクロヘキシルエステル化合物、シクロヘキシルシクロ
ヘキサンカルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエ
ステル化合物、安息香酸のシクロヘキシルフェニルエス
テル化合物、シクロヘキサンカルボン酸のシクロヘキシ
ルフェニルエステル化合物、シクロヘキシルシクロヘキ
サンカルボン酸のシクロヘキシルフェニルエステル化合
物、フェニルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシルビ
フェニル化合物、フェニルシクロヘキシルシクロヘキサ
ン化合物、シクロヘキシルシクロヘキサン化合物、シク
ロヘキシルシクロヘキセン化合物、シクロヘキシルシク
ロヘキシルシクロヘキセン化合物、１，４−ビス−シク
ロヘキシルベンゼン化合物、４，４′−ビス−シクロヘ
キシルビフェニル化合物、フェニル−またはシクロヘキ
シル−ピリミジン化合物、フェニル−またはシクロヘキ
シル−ピリジン化合物、フェニル−またはシクロヘキシ
ル−ジオキサン化合物、フェニル−またはシクロヘキシ
ル−１，３− ジチアン化合物、１，２−ジフェニルエ
タン化合物、１，２−ジシクロヘキシルエタン化合物、
１−フェニル−２−シクロヘキシルエタン化合物、１−
シクロヘキシル−２−（４−フェニルシクロヘキシル）
エタン化合物、１−シクロヘキシル−２−ビフェニリル
エタン化合物、１−フェニル−２−シクロヘキシルフェ
ニルエタン化合物、置換されていてもよいハロゲン化ス
チルベン化合物、ベンジルフェニルエーテル化合物、ト
ラン化合物および置換ケイ皮酸化合物の群からの物質か
ら選択される。これらの化合物中に存在する、１，４−
フェニレン基はフッ素化されていてもよい。

【００４０】本発明に係る相の追加の成分として適す
る、最も重要な化合物は、下記式１、２、３、４および
５で表わされることを特徴とすることができる： Ｒ′−Ｌ−Ｅ−Ｒ″ １ Ｒ′−Ｌ−ＣＯＯ−Ｅ−Ｒ″ ２ Ｒ′−Ｌ−ＯＯＣ−Ｅ−Ｒ″ ３ Ｒ′−Ｌ−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｅ−Ｒ″ ４ Ｒ′−Ｌ−Ｃ≡Ｃ−Ｅ−Ｒ″ ５

【００４１】式Ｉ、２、３、４および５において、Ｌお
よびＥは、同一または異なっていてもよく、それぞれ相
互に独立して、−Ｐｈｅ−、−Ｃｙｃ−、−Ｐｈｅ−Ｐ
ｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−、−
Ｐｙｒ−、−Ｄｉｏ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃ
ｙｃ−から形成される群からの二価の基およびそれらの
鏡像基であり、これらの基において、Ｐｈｅは非置換
の、またはフッ素置換されている１，４−フェニレンで
あり、Ｃｙｃはトランス−１，４−シクロヘキシレンま
たは１，４−シクロヘキセニレンであり、Ｐｙｒはピリ
ミジン−２，５−ジイルまたはピリジン−２，５−ジイ
ルであり、Ｄｉｏは１，３−ジオキサン−２，５−ジイ
ルであり、そしてＧは２−（トランス−１，４−シクロ
ヘキシル）エチル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリ
ジン−２，５−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，
５−ジイルである。

【００４２】基ＬおよびＥのうちの一方は、好ましくは
Ｃｙｃ、ＰｈｅまたはＰｙｒである。Ｅは好ましくは、
Ｃｙｃ、ＰｈｅまたはＰｈｅ−Ｃｙｃである。本発明に
係る相は好ましくは、式１、２、３、４および５におい
て、ＬおよびＥがＣｙｃ、ＰｈｅおよびＰｙｒからなる
群から選ばれる化合物から選択される１種または２種以
上の成分、および同時に、式１、２、３、４および５に
おいて、基ＬおよびＥのうちの一方がＣｙｃ、Ｐｈｅお
よびＰｙｒからなる群から選ばれ、他方の基が−Ｐｈｅ
−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ
−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−からなる群か
ら選ばれる化合物から選択される１種または２種以上の
成分、およびまた任意に、式１、２、３、４および５に
おいて、基ＬおよびＥが−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ
−Ｃｙｃ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−から
なる群から選ばれる化合物から選択される１種または２
種以上の成分を含有する。

【００４３】付属式１ａ、２ａ、３ａ、４ａおよび５ａ
で表わされる化合物において、Ｒ′およびＲ″はそれぞ
れ、相互に独立して、８個までの炭素原子を有する、ア
ルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシま
たはアルカノイルオキシである。これらの化合物の大部
分において、Ｒ′およびＲ″は相互に相違しており、こ
れらの基の一方は通常、アルキルまたはアルケニルであ
る。付属式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで表わさ
れる化合物において、Ｒ″は、−ＣＮ、−ＣＦ_３、Ｆ、
Ｃｌまたは−ＮＣＳである。この場合に、Ｒは付属式１
ａ〜５ａで表わされる化合物に係る前記の意味を有し、
好ましくはアルキルまたはアルケニルである。しかしな
がら、式１、２、３、４および５で表わされる化合物に
係り提案されている、他の種々の置換基も慣用である。
かなりのこのような物質または別様には、その混合物は
市販されている。これらの物質はいずれも、刊行物から
公知の方法もしくはその類似方法により得ることができ
る。

【００４４】本発明に係る相は好ましくは、化合物１
ａ、２ａ、３ａ、４ａおよび５ａからなる群（グループ
１）からの成分に加えてまた、化合物１ｂ、２ｂ、３
ｂ、４ｂおよび５ｂからなる群（グループ２）からの成
分を含有し、その割合は好ましくは、下記のとおりであ
る： グループ１：２０〜９０％、特に３０〜９０％、 グループ２：１０〜８０％、特に１０〜５０％。 本発明に係る化合物の割合と添加されるグループ１およ
びグループ２からの化合物の割合の合計は、１００％ま
でである。

【００４５】本発明に係る相は好ましくは、本発明に係
る化合物を１〜４０％、特に好ましくは、５〜３０％の
割合で含有する。さらに好ましい相は、本発明に係る化
合物を４０％よりも多い割合で、特に４５〜９０％の割
合で含有する。本発明に係る相は好ましくは、３種、４
種または５種の本発明に係る化合物を含有する。

【００４６】本発明に係る相はそれ自体慣用の方法によ
り調製することができる。一般に、諸成分を相互に、有
利には高められた温度で、溶解させる。適当な添加剤を
使用することによって、これらの液晶相は、これらの相
を従来開示されているあらゆる型式の液晶表示素子で使
用することができるような様相で、本発明に従い変性さ
せることができる。この種の添加剤は当業者に知られて
おり、刊行物（Ｈ．Ｋｅｌｋｅｒ／Ｒ．Ｈａｔｚによる
Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａ
ｌｓ，Ｖｅｒｌａｇ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｗｅｉｎｈｅｉ
ｍ，１９８０）に詳細に記載されている。例えば、呈色
ゲスト−ホスト系を調製するために、多色性染料を添加
することができ、あるいはネマティック相の誘電異方
性、粘度および／または配向を変えるための物質を添加
することができる。特に、本発明に係る相は、ＭＬＣ表
示体で使用するのに適している。

【００４７】

【実施例】以下の例は、本発明を説明するものであっ
て、本発明を制限するものではない。前記記載および以
下の記載において、パーセンテージは重量パーセントで
ある。温度はいずれも摂氏度で示す。ｍ．ｐ＝融点であ
り、ｃ．ｐ＝透明点である。さらに、Ｃ＝結晶状態であ
り、Ｎ＝ネマティック状態であり、Ｓ＝スメクティック
相であり、そしてＩ＝等方性相である。これらの記号間
の数字は転移温度を表わす。Δｎは光学異方性（５８９
ｎｍ、２０℃）を表わし、そして粘度（ｍｍ^２／秒）は
２０℃で測定した。

【００４８】「慣用の方法で仕上げ処理する」の用語
は、水を添加し、この混合物をジクロロメタン、メチル
ｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはジエチルエーテルによ
り抽出し、この有機相を分離採取し、乾燥させ、次いで
蒸発させ、この生成物を結晶化および／またはクロマト
グラフィにより精製することを意味するものとする。下
記の略記号を使用する： ＤＡＳＴ ジエチルアミノサルファトリフルオライド ＤＣＣ ジシクロヘキシルカルボジイミド ＤＤＱ ジクロロジシアノベンゾキノン ＤＩＢＡＬＨ 水素化ジイソブチルアルミニウム ＤＭＳＯ ジメチルスルホキシド ＰＯＴ カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド ＴＨＦ テトラヒドロフラン ｐＴｓＯＨ ｐ−トルエンスルホン酸

【００４９】例 １

【化２２】 ＴＨＦ ２５０ｍｌ中のマグネシウム片１モルの懸濁液
に、臭素数滴を添加する。引き続いて、ＴＨＦ ２５０
ｍｌ中の１−ブロモ−４−フルオロベンゼン１モルの溶
液を、少しずつ滴下して添加する。この混合物を１．５
時間還流させ、次いでこのグリニアル試薬に、沸騰温度
で、ＴＨＦ ５００ｍｌ中の４−トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシルシクロヘキサノン０．９モルを滴下し
て添加する。この混合物を１．５時間還流させ、次いで
３０℃において、水１．５リットルおよび濃ＨＣｌ ２
００ｍｌを添加する。この混合物をさらに１／４時間撹
拌し、この有 機相を分離採取し、この水性相はメチル
ｔｅｒｔ−ブチルエーテルにより抽出し、これらの有機
相を集め、次いで慣用の方法で仕上げ処理する。

【００５０】

【化２３】 １ａ）からのシクロヘキセン誘導体０．２モルを、ＴＨ
Ｆ ５００ｍｌ中に溶解し、次いでＢＨ_３・ＴＨＦ錯体
２４０ｍｌを、＋２℃で０．５時間にわたり添加する。
この混合物を＋２℃で、さらに１時間撹拌し、室温まで
温め、次いでさらに１時間撹拌する。エタノール６０ｍ
ｌを添加し、この混合物を３０℃に温め、次いで先ず６
Ｎ ＮａＯＨ ４０ｍｌを、次に３０％Ｈ_２Ｏ_２ ８０
ｍｌを添加する。この混合物を２時間還流させ、室温ま
で冷却し、次いで加水分解する。この水性相は分離し、
この有機相をメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル２５０ｍ
ｌにより稀釈する。この有機相を５％ＮａＨＳＯ_３溶液
および水により洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４上で乾燥さ
せる。この溶剤をロータベーパーで除去し、残留物をｎ
−ヘキサンから再結晶させる。

【００５１】

【化２４】 ｂ）からのシクロヘキサノール誘導体０．０９４モル
を、窒素雰囲気の下に、ジクロロメタン２５０ｍｌ中に
溶解し、次いでピリジニウム クロロクロメート０．１
４モルを添加する。この反応混合物を２時間還流させ、
次いで蒸発させる。この残留物をＡｌ_２Ｏ_３／シリカゲ
ルカラムにおいて精製する。

【００５２】

【化２５】 ジクロロメタン２０ｍｌ中のｃ）からのシクロヘキサノ
ン誘導体（０．０２モル）を、室温で、ジクロロメタン
１５ｍｌ中のＤＡＳＴ０．０３８２モルに添加する。こ
の混合物を４時間還流させ、この反応溶液を一夜にわた
って、室温まで冷却させる。この混合物を氷冷却して加
水分解し、引き続いて慣用の方法により仕上げ処理す
る：

【００５３】

【化２６】 この生成物（０．０１モル）は、さらに精製することな
く、ＴＨＦ ５０ｍｌ中に溶解し、カリウムｔｅｒｔ−
ブトキシド０．０３モルを添加し、この混合物を次い
で、Ｎ_２雰囲気の下に、５０℃で１１時間撹拌する。こ
の混合物を室温まで冷却させ、氷水および濃ＨＣｌを添
加し、この混合物をメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに
より抽出し、引き続いて慣用の方法により仕上げ処理に
付する。 Ｃ ４０ Ｎ １２４．５ Ｉ；Δｎ＝＋０．１０６；
Δε＝６．７６

【００５４】同様にして、下記式：

【化２７】 で表わされる、次の化合物を製造する：

【００５５】

【表１】

【００５６】

【表２】

【００５７】

【表３】

【００５８】

【表４】

【００５９】例 ２

【化２８】 エーテル６０ｍｌ中のマグネシウム片０．２５モルの懸
濁液に、臭素２滴を添加する。引き続いて、エーテル６
０ｍｌ中の３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメト
キシブロモベンゼン０．２モルの溶液を、滴下して添加
する。この混合物をさらに０．５時間撹拌し、次いでこ
のグリニアル試薬に、２０〜２５℃で、エーテル５０ｍ
ｌ中の４−トランス−４−プロピルシクロヘキシルシク
ロヘキサノン０．２モルの溶液を滴下して添加する。こ
の混合物をさらに２時間撹拌し、水５００ｍｌ中に注ぎ
入れ、酸性にし、次いでエーテルと振り混ぜることによ
って抽出する。この有機相を蒸発乾燥させる。この残留
物を、トルエン中に溶解し、次いで水分離器上で、ｐ−
トルエンスルホン酸とともに、５時間還流させる。この
混合物を引き続いて、室温まで冷却させ、中和し、次い
で慣用の方法で仕上げ処理に付する。

【００６０】

【化２９】 例１ａ）からのシクロヘキセン誘導体０．２モルを、Ｔ
ＨＦ ２００ｍｌ中に溶解し、次いでホウ水素化ナトリ
ウム０．２ｇを添加する。この混合物にＢＦ_３・エーテ
レート０．２４モルを滴下して添加する。この期間中、
反応混合物の温度は、１０℃を越えてはならない。この
混合物を引き続いて室温で、さらに２時間撹拌する。加
水分解の後に、さらに仕上げ処理することなく、この反
応混合物に、ナトリウムジクロメートの硫酸溶液を直接
に添加する。この酸化期間中、反応温度は、１５℃を越
えてはならない。この混合物を、室温でさらに１時間撹
拌し、次いで３０℃でさらに０．５時間撹拌する。この
混合物を濾過し、エーテルにより抽出し、次に水により
洗浄し、引き続いて溶剤を減圧の下に除去する。この残
留物をクロマトグラフィにより精製する。

【００６１】

【化３０】 ｂ）からのケトン０．０１モルを、６０℃で１５時間、
ジエチルアミノサルファトリフルオライド０．０２５モ
ルにより処理する。この混合物を次いで、氷水中に、撹
拌しながら滴下して導入する。エーテルの添加後に、こ
の有機相を分離採取し、次いで慣用の仕上げ処理に付す
る。

【００６２】

【化３１】 ＴＨＦ １０ｍｌ中のＢｕＬｉ（ｎ−ヘキサン中の１５
％）１３．５モルに、−２０℃において、ジイソプロピ
ルアミン１３．５モルを滴下して添加する。この溶液を
次いで、１０分間撹拌し、次いでＴＨＦ １０ｍｌおよ
びｃ）からのジェムのジフッ素化合物１３．５モルから
なる混合物に、保護気体の下に−４０℃で、滴下して添
加する。この混合物を先ず−４０℃で０．５時間、引き
続いて室温で一夜にわたり、撹拌する。加水分解の後
に、この生成物を慣用の仕上げ処理に付する。 Δε＝１５．５；Δｎ＝＋０．０７９

【００６３】例 ３

【化３２】

【００６４】工程３．１

【化３３】 ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２−
フルオロベンゼン１．２モル、カリウムｔｅｒｔ−ブト
キシド１．２モルおよびＴＨＦ ３リットルに、窒素雰
囲気の下に−１００℃で１時間にわたり、ｎ−ブチルリ
チウム（ｎ−ヘキサン中の１５％）１．３２モルを滴下
して添加する。この混合物をさらに１時間撹拌し、次い
でこの反応混合物に、−１００℃で、ホウ酸トリメチル
１．３８モルを滴下して添加し、この反応混合物をさら
に１．５時間撹拌する。１８％ＨＣｌ３．６リットルを
添加し、この有機相を分離採取し、この水性相はトルエ
ンにより抽出する。有機抽出液を集め、引き続いて慣用
の仕上げ処理に付する。

【００６５】工程３．２

【化３４】 ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２−
フルオロフェニルボロン酸０．１３モル、３，４−ジフ
ルオロブロモベンゼン０．１３モル、トルエン３２５ｍ
ｌおよびエタノール１３０ｍｌに、テトラキス（トリフ
ェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）１．６ｇおよび炭
酸ナトリウム溶液（Ｈ_２Ｏ １５０ｍｌ中のＮａ_２ＣＯ
_３４１．６６ｇ）を添加する。この混合物を室温まで冷
却させ、この有機相を分離採取する。水性相はトルエン
により抽出し、これらの有機抽出液を集め、次いで慣用
の仕上げ処理に付する。 Ｃ ４２ Ｎ ５７．１ Ｉ；Δｎ＝＋０．１３１；Δ
ε＝１０．０１

【００６６】同様にして、下記式：

【化３５】 で表わされる次の化合物を製造する：

【００６７】

【表５】

【００６８】例 ４

【化３６】

【００６９】工程４．１

【化３７】 水素化ナトリウム （６０％）１．０モルを、窒素雰囲
気の下に、ＴＨＦ２００ｍｌ中に懸濁し、次いでＴＨＦ
４００ｍｌ中に溶解した４−ブロモ−２−フルオロフェ
ノール１．０モルを０℃で、滴下して添加する。この混
合物を室温まで温め、０．５時間撹拌し、次いで濾過す
る。この濾液を蒸発させ、トルエン中に溶解し、次いで
結晶形態まで蒸発させる。この残留物を、石油エーテル
を用いて沈殿させる。この結晶を吸引濾別し、次いで乾
燥させる。

【００７０】工程４．２

【化３８】 ２．１からのフェノキシド０．０８モルを、ＤＭＥＵ８
０ｍｌ中に導入し、この混合物を５０℃に加熱する。
１，２，２，２−テトラフルオロ−１−ヨウドエタン
０．０８８モルを添加し、この混合物を次いで、５０℃
で１６時間撹拌する。この混合物を室温まで冷却させ、
次いで水を加える。この混合物を、稀ＨＣｌを用いて酸
性にし、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルにより、次い
で１０％ＮａＯＨおよび水により抽出し、Ｎａ_２ＳＯ_４
上で乾燥させ、次いで濾過する。この濾液を蒸発させ、
残留物を次いでバルブチューブ中で８００ミリバールに
おいて、蒸留する。

【００７１】工程４．３

【化３９】 １−（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−２
−フルオロ−４−ブロモベンゼン０．０１３モルをＴＨ
Ｆ５０ｍｌに溶解し、この溶液を６０℃に加熱し、次い
で４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２
−フルオロフェニルホウ酸０．０１２モルおよびＫＨ_２
ＰＯ_４０．０１３モル、Ｎａ_２ＨＰＯ_４０．０２５モル
および水２５ｍｌからなる溶液を添加する。テトラキス
トリフェニルパラジウム（Ｏ）０．０１２モルを添加
し、この混合物を７０℃で一夜にわたり撹拌し、室温ま
で冷却させ、次いで慣用の仕上げ処理に付する。

【００７２】同様にして、下記式

【化４０】 で表わされる次の化合物を製造する：

【００７３】

【表６】

【００７４】例 ５

【化４１】

【００７５】工程５．１

【化４２】 ナトリウム１−ブロモ−３，５−ジフルオロフェノキシ
ド０．０５モルを、窒素雰囲気の下に、ＤＭＥＵ５０ｍ
ｌ中に導入し、この混合物を次いで、５０℃に加熱す
る。１−ブロモ−２，２−ジフルオロエタン０．０５ｍ
ｌを撹拌しながら、滴下して添加する。この混合物を引
き続いて、５０℃で一夜にわたり撹拌する。１−ブロモ
−２，２−ジフルオロエタン０．００５モルを加え、こ
の混合物を７０℃でさらに２４時間撹拌し、次いで室温
まで冷却させ、水を加え、この混合物を次いで、慣用の
仕上げ処理に付する。

【００７６】工程５．２

【化４３】 トルエン６０ｍｌ中のｐ−トランス〔４−プロピルシク
ロヘキシル〕−２−フルオロフェニルホウ酸０．０３モ
ルを、水３０ｍｌ中のＮａＯＨ４．８ｇに添加し、この
混合物を４５℃で０．５時間撹拌する。この溶液に、１
−（２，２−ジフルオロエトキシ）−４−ブロモ−２，
６−ジフルオロベンゼン０．０３モルおよびテトラキス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）０．７ｇ
を添加し、この混合物を１００℃で一夜にわたり撹拌す
る。この混合物を室温まで冷却させ、次いでこの有機相
を分離採取する。溶剤をロータベーパー上で除去し、残
留物を、５０〜７０℃で石油エーテルを用いて、シリカ
ゲルフリットに通すことにより濾過する。この濾液を蒸
発させ、次いで残留物をｎ−ヘキサンから再結晶させ
る。 Ｃ ５６ Ｎ ９７．２ Ｉ；Δｎ＝＋０．１３９；Δ
ε＝１２．３４

【００７７】同様にして、下記式：

【化４４】 で表わされる次の化合物を製造する：

【００７８】

【表７】

【００７９】例 ６

【化４５】

【００８０】工程６．１

【化４６】 ４−ブロモ−２−フルオロフェノキシド０．０８５モル
を、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１００リ
ットルに溶解し、この溶液を１４０℃に加熱し、次いで
２，２，２−トリフルオロエチルメチルスルホネート
０．０９モルを滴下して添加する。この溶液を、１４０
℃で２４時間撹拌する。引き続いて、氷水５００ｍｌを
添加し、この混合物を慣用の仕上げ処理に付する。

【００８１】工程６．２

【化４７】 トランス−ｎ−ペプチルシクロヘキシル−２−フルオロ
フェニルホウ酸０．０５モル、トルエン２０ｍｌ、エタ
ノール１０ｍｌ、Ｎａ_２ＣＯ_３０．０３０モルおよびテ
トラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）
０．８６モルを、４−ブロモ−２−フルオロフェニル
２，２，２−トリフルオロエチルエーテル０．０１５モ
ルに添加し、この混合物を２時間還流させる。石油エー
テル（４０〜８０°）１００ｍｌを加え、この混合物を
慣用の仕上げ処理に付する。

【００８２】工程６．３

【化４８】 ＴＨＦ １０ｍｌ中のＢｕＬｉ（ｎ−ヘキサン中の１５
％）１３．５ミリモルに、−２０℃において、ジイソプ
ロピルアミン１３．５ミリモルを滴下して添加する。こ
の溶液を引き続いて、１０分間撹拌し、次いでＴＨＦ
１０ｍｌ、トランス−ｎ−ペンチルシクロヘキシルフェ
ニル−２−フルオロフェニル２，２，２−トリフルオロ
エチルエーテル１３．５ミリモルからなる混合物に、保
護気体の下で−４０℃において滴下して添加する。この
混合物を先ず、−４０℃で０．５時間、引き続いて室温
で一夜にわたり、撹拌する。この添加後に、この混合物
を慣用の仕上げ処理に付する。 Ｃ ４８ Ｎ ９６．６ Ｉ；Δｎ＝＋０．１４４；Δ
ε＝８．２４

【００８３】例３と同様にして、ホウ酸カプリングによ
り、下記式：

【化４９】 で表わされる化合物を製造する：

【００８４】

【表８】

【００８５】

【表９】

【００８６】

【表１０】

【００８７】例 ７

【化５０】 １−トリフルオロメトキシ−２−フルオロ−４−ブロモ
ベンゼン０．０５モルおよび４−（トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル）−２−フルオロフェニルホウ酸
０．０５モルを、トルエン１２５ｍｌおよびエタノール
５０ｍｌ中に溶解し、次いでテトラキス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム（Ｏ）０．６ｇおよびＮａ_２Ｃ
Ｏ_３溶液（Ｈ_２Ｏ ６０ｍｌ中のＮａ_２ＣＯ_３１５．９
ｇ）を順次添加する。この混合物を、３時間還流させ、
次いで室温まで冷却させ、この有機相を分離採取する。
水性相はトルエンにより抽出し、有機抽出液を集め、次
いで慣用の仕上げ処理に付する。 Ｃ ４３ Ｎ ６６．３ Ｉ；Δｎ＝＋０．１２４；Δ
ε＝１２．５５

【００８８】同様にして、下記式：

【化５１】 で表わされる次の化合物を製造する：

【００８９】

【表１１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 43/225 Ｃ 7419−4Ｈ 49/215 49/223 49/225 49/227 49/255 Ａ 9049−4Ｈ 255/32 323/07 Ｃ０７Ｄ 213/74 309/02 339/08 Ｃ０９Ｋ 19/12 19/16 9279−4Ｈ 19/18 9279−4Ｈ 19/20 9279−4Ｈ 19/30 9279−4Ｈ 19/34 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (72)発明者 フォルカー・ライフェンラート ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 ヘルベルト・プラッハ ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 ラインハルト・ヒッティッヒ ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 アイケ・ポーチュ ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 ベルンハルト・リーゲル ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 エッケハルト・バルトマン ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 エッケハルト・パウルート ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 ザビーネ・シェーン ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250 (72)発明者 カズアキ・タルミ ドイツ連邦共和国 64293 ダルムシュタ ットフランクフルター シュトラーセ 250

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式Ｉで表わされるベンゼン誘導体： 【化１】 〔式中、 Ｒは、１８個までの炭素原子を有するアルキル基または
   アルケニル基であり、これらの基は非置換であるか、あ
   るいはＣＮによりまたは少なくとも１個のハロゲンによ
   り置換されており、そしてこれらの基中に存在する１個
   のＣＨ_２基または隣接していない２個以上のＣＨ_２基
   は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ
   −Ｏ−および−Ｃ≡Ｃ−の群から選択される基により置
   き換えられていてもよく、 【化２】 Ａ^１は、 ａ） １，４−フェニレン基であり、この基中に存在す
   る１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられてい
   てもよく、あるいは ｂ） １，４−シクロヘキシレン基であり、この基中に
   存在する１個のＣＨ_２基または隣接していない２個のＣ
   Ｈ_２基は、−Ｏ−または−Ｓ−により置き換えられてい
   てもよく、あるいは ｃ） １，４−シクロヘキセニレン、ピペリジン−１，
   ４−ジイル、１，４−ビシクロ〔２．２．２〕オクチレ
   ンまたはナフタレン−２，６−ジイル基であり、上記基
   ａ）および基ｂ）は、１個または２個以上のハロゲン原
   子またはシアノ基および／またはメチル基により置換さ
   れていてもよく、 Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ
   −、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−
   Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２Ｃ
   Ｈ_２−または単結合であり、 Ｘは炭素原子１〜１２個を有するアルキル基またはアル
   コキシ基、ＮＣＳあるいはＱ−Ｙ（式中、Ｑは−Ｏ−、
   −Ｓ−または単結合であり、そしてＹはＣＮ、Ｆまたは
   Ｃｌであるか、あるいは炭素原子１〜５個を有する、ハ
   ロゲン化アルキル基またはハロゲン化アルケニル基であ
   る）であり、 Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ、相互に独立して、Ｈまたは
   Ｆであり、そしてｍは、０、１または２である〕。
2. 【請求項２】 下記式で表わされるベンゼン誘導体： 【化３】 （式中、Ｒ、Ｘ、Ｌ^１およびＬ^２は、請求項１に定義さ
   れているとおりである）。
3. 【請求項３】 下記式で表わされるベンゼン誘導体： 【化４】 （式中、Ｒ、ＸおよびＬ^２は、請求項１に定義されてい
   るとおりである）。
4. 【請求項４】 式Ｉにおいて、Ｌ^１および／またはＬ^２
   がフッ素である化合物。
5. 【請求項５】 式Ｉにおいて、ＸがＣＮ、Ｆ、Ｃｌ、Ｏ
   ＣＦ_３、ＯＣＨＦ_{２、ＣＦ ３}、ＯＣＨＦＣＦ_３、ＯＣＨ
   _２ＣＦ_３、ＯＣＨ＝ＣＦ_２またはＯＣＦ＝ＣＦ_２である
   化合物。
6. 【請求項６】 電気光学表示素子用の液晶相の成分とし
   て、式Ｉで表わされる化合物を使用すること。
7. 【請求項７】 少なくとも２種の成分を含有する液晶相
   であって、１種または２種以上の成分が式Ｉで表わされ
   る化合物であることを特徴とする液晶相。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の液晶相を誘電体として
   含有することを特徴とする電気光学表示素子。
9. 【請求項９】 請求項７に記載の液晶相を誘電体として
   含有することを特徴とする、マトリックス液晶表示素
   子。