JP2005060399A - 水素化の方法 - Google Patents
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-
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-
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-
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Abstract
Description
シクロヘキサン環またはテトラヒドロピラン環を分子の中心的な構成として含む化合物は、例えば、天然もしくは合成の芳香や医薬、またはメソゲニックもしくは液晶化合物の材料として、あるいは、これら有用な物質の合成のための前駆体として、有機化学において重要な役割を果たしている。
a、b、c、dおよびeは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはeは1であり;
A11、A12、A13、A14およびA15は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、1もしくは2以上の非隣接CH2基は-O-および/または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに1もしくは2以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり;
Wは、-CH2-または-O-であり;
Z11、Z13、Z14 およびZ15は、他とは独立に、単結合、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり;
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である;
で表される化合物の製造方法であって、
式IIAあるいは式IIB
f、g、h、iおよびjは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはjは1であり;
A21、A22、A23、A24およびA25は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、1もしくは2以上の非隣接CH2基は-O-および/または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに1もしくは2以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり;
Wは、-CH2-または-O-であり;
Y21は、水素、ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたは同一もしくは異なってハロゲンもしくはCNにより一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、置換されていないかまたはハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により同一または異なって一置換または多置換されている7〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれらの遊離基中の1もしくは2以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が他と直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく;
Z22は、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である;
で表される化合物が、1または2以上の同一かまたは異なるホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体の存在下で水素化されることを特徴とする、前記製造方法により達成される。
[(P(A31A32A33))3RhX31] III
[(diene)Ir(A41)(P(A42A43A44))]Y41 IV
式中、
A31、A32およびA33は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、3つのリガンドP(A31A32A33)において同一または異なる意味を有し、すなわち、3つのリガンドP(A31A32A33)は同じであるか異なっており;
A41は、置換されていないかまたは置換されているヘテロシクリルまたはヘテロアリール遊離基であり;
A42、A43およびA44は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、ここで遊離基A42、A43およびA44のうちの1つが例えば単結合またはアルキレンブリッジを介してA41に結合していてもよく、キレートリガンドを形成し;
X31は、リガンドあるいは式Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2の陰イオンであり;
Y41は、リガンドあるいは式Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2またはCF3CO2の陰イオンであり;そして
ジエンは、1,5-シクロオクタジエニル(COD)、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 である、
で表される錯体から選択される。
A31、A32およびA33 は、各場合において、同じ意味かまたは異なる意味を有し、A31、A32およびA33 のうちの2つが同じ意味を有し、A31、A32およびA33 のうちの3つ目が異なる意味を有してもよい。好ましくは、A31、A32およびA33 は同じ意味を有する。
Y41は、好ましくはPF6、SbF6、BF4、BARF、またはClO4であり、特にはPF6である。
式IVでのdieneは、好ましくは1,5-シクロオクタジエニル(COD)、ノルボルナジエニルであり、特にはCODである。
[(P(フェニル)3RhCl] III-1
の遷移金属錯体である。
[(diene)Ru(allyl)2] V
[(diene)RhX61]2 VI
[(diene)2Rh]Y71 VII
[(diene)IrX81]2 VIII
[(diene)2Ir]Y91 IX
RhX101 3・xH2O X
式中、
X61、X81およびX101は、他とは独立にCl、BrまたはIであり;
xは、0、1、2または3であり;
Y71およびY91は、他とは独立に式PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2の陰イオンであり;
dieneは、1,5-シクロオクタジエニル(COD)、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 であり;そして
allylは、アリルまたはメタリルである;
で表される錯体から選択され、
そして
A111、A112、A113、A121、A122、A123およびA124は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり;そして
Gは、1〜8個の炭素原子を有するアルキレンブリッジあるいは置換されていないかまたは置換されている1,2-フェニレン、2,3-ナフチレン、2,2-ビフェニレンまたは1,1'-ジ(シクロペンタジエニル)鉄である、
で表される化合物から選択される。
X101は、好ましくはBrまたはIであり、特にはBrである。
xは、好ましくは3である。
Y71およびY91は、好ましくはPF6、SbF6、BF4、BARFまたはClO4の陰イオンであり、特にはBF4またはBARFである。
式V〜IXのジエンは、好ましくは1,5-シクロオクタジエニル(COD)またはノルボルナジエニルであり、特にはCODである。
式V〜IXのアリルは、好ましくはメタリルである。
本発明の態様においては、Gは1,1'-フェロセニル遊離基(1,1'-ジ(シクロペンタジエニル)鉄)である。
[(COD)RhCl]2 VI-1
で表される錯体であり、ホスフィンリガンドはトリフェニルホスフィンまたはトリ(オルトトリル)ホスフィンである。
水素化は耐圧容器中で行われ、好ましくは酸素を排除して行われる。
さらに、WがCH2 である場合には、本発明の方法は式IBのシクロヘキセン誘導体を用いて行われるのが好ましい。
a、d、f および iは0であり;
b および gは0または1であり;
c および hは0または1であり;
e および jは1であり;
A12および A22は、bまたはgが1である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキセン遊離基であり;
A13および A23は、cまたはhが1である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキセン遊離基、あるいは置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり;
A15 および A25は、置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり;
Y11および Y21は、置換されていないか、あるいは1〜8個の炭素原子を有しFにより一置換もしくは多置換されているアルカニルまたはアルコキシ遊離基、7〜12個の炭素原子を有し置換されていないかもしくは置換されているアラルキルまたはアラルキル-O-遊離基、F、Cl、BrあるいはCNであり;
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-CO-O-または-O-CO-であり;
Z13 および Z23は、単結合または-CO-O-であり;
Z14 および Z24は、cまたはhが1である場合には、単結合、-CF2O-または-CO-O- であり;そして
Z22は、単結合、-CH2CH2-、-CH=CH-、-CO-O-または-O-CO-である、
から選択される。
これらの式において、nは1、2、3、4、5、6、7または8、特には1、2、3、4 または5であり、式IIAh、IIAiおよびIIAjの化合物においてはさらに0である。Y21 は、上記式IIAにおけるのと同じ意味を有し、好ましくはF、Cl、Br、CF3、OCH3、OCF3もしくはアラルキル-O-であり、特に好ましくはFである。置換基L21およびL22 は、他とは独立にH、Cl、BrもしくはFであり、好ましくは少なくとも1つがFであり、特には両者がFである。
本発明の好ましい態様においては、式IIの化合物の水素化はさらなる工程ステップとして、例えばメタノールもしくはエタノールなどのアルコール溶媒といった適切な溶媒から式Iのトランス異性体の結晶化が引き続き行われる。
上記で定義された式IIAもしくはIIBの化合物、および、1または2以上の同一かまたは異なる上記で定義されたホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体を含む組成物、ならびに、式IAもしくはIBの化合物の製造のための前記組成物の使用に関する。
置換されていないかあるいは、同一かもしくは異なってF、Cl、Br、Iおよび/または-CNにより一置換または多置換されており、1または2以上のCH2基が、ヘテロ原子(OおよびS)が他と直接結合しないように-O-(「アルコキシ」もしくは「オキサアルキル」)、-S-(「チオアルキル」)、-CH=CH-(「アルケニル」)、-C≡C-(「アルキニル」)、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよい。(式Iの化合物において、「アルキル」はアルケニル遊離基を含まない。)アルキルは、好ましくは、直鎖または分枝であって、1、2、3、4、5、6、7もしくは8個の炭素原子を有する置換されていないかまたは置換されているアルカニル、アルケニルもしくはアルコキシ遊離基である。アルキルがアルカニル遊離基である場合には、好ましくはメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル;CF3、CHF2、CH2F;CF2CF3である。アルカニル遊離基は、特に好ましくは、直鎖であって、置換されていないかまたはFにより置換されている。
実施例中で用いられる出発化合物は、文献により知られた方法により製造した。
用いた遷移金属錯体および遷移金属触媒はStrem ChemicalsまたはMerck KGaA (Darmstadt, Germany)から購入し、さらなる精製をすることなく用いた。
溶媒は、分析的に純粋なものを用い、使用前に脱気した。
反応は、脱酸素下で行われた。
水素化変換は、ガスクロマトグラフィー(GC)(Varian Chrompack CP-3800, 標準条件)により決定した。生成混合物の組成および反応のシス/トランス選択性もガスクロマトグラフィーにより決定した。
トリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを活性炭に担持した5%パラジウムに置き換えた以外は、実施例1と同じ条件下で、オレフィン1の水素化を行った。室温、1バールの水素圧でのTHF中の100%の反応で、生成物2が38%のトランス含有量で得られた。
実施例2の反応を、種々の実験条件下で、異なる遷移金属錯体もしくは遷移金属錯体前駆体を用いて行った。各錯体を錯体全体を基準として1モル%、望ましくは安定化しているホスフィンの約2もしくは約3当量用いる。反応時間は15時間である。実験条件ならびにその結果を表1に示す。
表1
トランス-2-(4-ブロモフェニル)-5-エチルテトラヒドロピランは、同様に、対応するオレフィンから76%のトランス含有量で製造される。
Claims (11)
- 式IAまたはIB
a、b、c、dおよびeは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはeは1であり;
A11、A12、A13、A14およびA15は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、1もしくは2以上の非隣接CH2基は-O-および/または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに1もしくは2以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり;
R11は、水素、あるいは置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらにこれらの遊離基中の1もしくは2以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく、ここでaおよびbが同時に0であってZ12が一重結合である場合にはR11 は水素でなく;
Wは、-CH2-または-O-であり;
Y11は、水素、 ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により同一または異なって一置換または多置換されている7〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれらの遊離基中の1もしくは2以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が他と直接結合しないように-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O--により置換されていてもよく;
Z11、Z13、Z14 およびZ15は、他とは独立に、単結合、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり;
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である;
で表される化合物の製造方法であって、
前記製造方法は、
式IIAの化合物あるいは式IIBの化合物
f、g、h、iおよびjは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはjは1であり;
A21、A22、A23、A24およびA25は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、1もしくは2以上の非隣接CH2基は-O-および/または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに1もしくは2以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル 遊離基であり;
R21は、水素、あるいは置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらに、これらの遊離基中の1もしくは2以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O- により置換されていてもよく、ここでfおよびgが同時に0であってZ22が単結合である場合にはR21 は水素でなく;
Wは、-CH2-または-O-であり;
Y21は、水素、 ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたは同一もしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、7〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれらの遊離基中の1もしくは2以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく;
Z21、 Z23、 Z24およびZ25は、他とは独立に単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり;
Z22は、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である;
で表される化合物が、1または2以上の同一かまたは異なるホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体の存在下で水素化されることを特徴とする、前記製造方法。 - 遷移金属錯体が、ロジウム、イリジウムおよび/またはルテニウム錯体であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 遷移金属錯体が、式IIIまたはIV:
[(P(A31A32A33))3RhX31] III
[(diene)Ir(A41)(P(A42A43A44))]Y41 IV
式中、
A31、A32およびA33は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、3つのリガンドP(A31A32A33)において同一または異なる意味を有し;
A41は、置換されていないかまたは置換されているヘテロシクリルまたはヘテロアリール遊離基であり;
A42、A43およびA44は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、ここで遊離基A42、A43およびA44のうちの1つがA41 に結合していてもよく;
X31 は、Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2であり;
Y41は、式Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2またはCF3CO2の陰イオンであり;そして
ジエンは、1,5-シクロオクタジエニル、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 である、
で表される錯体から選択されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。 - 遷移金属錯体が、式III-1:
[(P(フェニル)3RhCl] III-1
で表される錯体であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。 - 遷移金属錯体が、遷移金属錯体前駆体とホスフィンリガンドとの反応によりそのまま形成されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 遷移金属錯体前駆体が、式V、VI、VII、VIII、IX またはX:
[(diene)Ru(allyl)2] V
[(diene)RhX61]2 VI
[(diene)2Rh]Y71 VII
[(diene)IrX81]2 VIII
[(diene)2Ir]Y91 IX
RhX101 3・xH2O X
式中、
X61、X81およびX101は、他とは独立にCl、BrまたはIであり;
xは、0、1、2または3であり;
Y71およびY91は、他とは独立に式PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2の陰イオンであり;
dieneは、1,5-シクロオクタジエニル(COD)、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 であり;そして
allylは、アリルまたはメタリルである;
で表される錯体から選択され、ホスフィンリガンドが、式XIおよび/またはXII:
A111、A112、A113、A121、A122、A123およびA124は、他とは独立に置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり;そして
Gは、1〜8個の炭素原子を有するアルキレンブリッジあるいは置換されていないかまたは置換されている1,2-フェニレン、2,3-ナフチレン、2,2-ビフェニレンまたは1,1'-ジ(シクロペンタジエニル)鉄である、
で表される化合物から選択されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。 - 遷移金属錯体前駆体が、式VI-1
[(COD)RhCl]2 VI-1
で表される錯体であり、ホスフィンリガンドがトリフェニルホスフィンまたはトリ(オルトトリル)ホスフィンであることを特徴とする、請求項5または6に記載の方法。 - 式IA、IB、IIAおよびIIBにおいて、Wが-O-であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 式IAおよびIBまたはIIAおよびIIBにおいて、
a、d、f および iは0であり;
b および gは0または1であり;
c および hは0または1であり;
e および jは1であり;
A12および A22は、bまたはgが1である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキシレン遊離基であり;
A13および A23は、cまたはhが1である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキシレン遊離基、あるいは置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり;
A15および A25は、置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり;
R11 および R21は、1〜8個の炭素原子を有するアルカニル遊離基 であり;
Y11および Y21は、置換されていないか、あるいは、1〜8個の炭素原子を有しFにより一置換もしくは多置換されているアルカニルまたはアルコキシ遊離基、7〜12 個の炭素原子を有し置換されていないかもしくは置換されているアラルキルまたはアラルキル-O-遊離基、F、Cl、BrあるいはCNであり;
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-CO-O-または-O-CO-であり;
Z13 および Z23は、単結合または-CO-O-であり;
Z14 および Z24は、cまたはhが1である場合には、単結合、-CF2O-または-CO-O- であり;そして
Z22は、単結合、-CH2CH2-、-CH=CH-、-CO-O-または-O-CO-である、ことを特徴とする、請求項1〜8に記載の方法。 - 式IIAおよびIIBにおいて、Z22が-CH=CH-であることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 式IIAまたはIIB
f、g、h、i および jは、他とは独立に0 または1であり、ここでWが-CH2-である場合には jは1であり;
A21、A22、A23、A24 および A25は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、1もしくは2以上の非隣接CH2基は-O-および/または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに1もしくは2以上の非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり;
R21は、水素、置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらにこれらの遊離基中の1もしくは2以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく、ここでfおよびgが同時に0であってZ22が単結合である場合にはR21 は水素でなく;
Wは、-CH2-または-O-であり;
Y21は、水素、ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により同一または異なって一置換または多置換されている7〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれら遊離基中の1もしくは2以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O--により置換されていてもよく;
Z21、Z23、Z24 およびZ25は、他とは独立に、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり;
Z22は、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である;
で表される化合物
ならびに
1または2以上の同一かまたは異なるホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体を含有する組成物。
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