JPH024756A - ４‐シアノ‐２，３‐ジフルオロフエノールの誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下記の式Ｉで示される４−シアノ−２，３−
ジフルオロフェノールの誘導体に関する： ［式中、Ｒ１は、Ｃ原子１〜１２個を有するアルキル基
であり、この基中に存在する１個または２個のＣ１２基
は、２個のＯ原子か相互に直接に結合しないものとして
、−ｏ−、−ｃｏ−、−ｃｏ−ｏ−および（または）−
ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられていてもよく、 Ａ１およびＡ２は、相互に独立して、それぞれ１．４−
フェニレン基であり、この基は非置換であるか、あるい
は置換基として１ｇまたは２個のＦ原子を有し、そして
この基中に存在する１個または２個のＣＩ＋基はまた。

Ｎにより置き換えられていてもよく、あるいはＡ１およ
びＡ２は、それぞれ、トランス−１，４−シクロヘキシ
レン基であり、この基中に存在する１曲のＣＨ２基また
は隣接していない２ｇのＣＨ２基はまた、Ｏ原子および
（または）Ｓ原子により置き換えられていてもよく、 Ｚは、−ＣＯ−Ｏ−１−Ｏ−ＣＯ−１−ＣＨ２ＣＨ２−
、−０ＣＨ２−。

−Ｃ）＋２Ｏ−１−Ｃ＝Ｃ−または単結合であり。

ｍは、０．１または２であり、そして Ｑは、−ＣＯ−または−ＣＨ，−である１゜簡潔にする
ために、以下の記載において。

Ｃｙｃは、１．４−シクロヘキシレン基であり、Ｄｉｏ
は、１．３−ジオキサン−２，５−ジイル基であり、Ｄ
ｉｔは、１，３−ジチアン−２，５−ジイル基であり、
Ｐｈｅは、１，４−フェニレン基であり、Ｐｙｄは、ピ
リジン−２，５−ジイル基であり。

Ｐｙｒは、ピリミジン−２，５−ジイル基であり。

モしてＰｙｎは、ピリダジン−２，５−ジイル基であり
、これらの基は、非置換であるか、あるいは置換基を有
していてもよいものとする。　ＰｈｅＸは、式 で示される基であり、Ｘは以下の記載を通して。

好ましくは塩素またはフッ素である。

ＰＦ２Ｎは、式、 で示される基である。

式■で示される化合物は、液晶相、特にねじれセルの原
則、ゲスト−ホスト効果、整列相の変形の効果または動
的散乱の効果にもとすく表示体用の液晶相の成分として
使用することができる。

このようなセルのマルチブレックスオペレーションのた
めの重要な基準は、分子軸に対して垂直である誘電定数
に対する誘電定数の異方性の比、すなわちΔε／ε１が
低いことである［たとえば、Ｇｈａｒａｄｊｅｄａｇｊ
ｉ、　Ｆ、等によるＲｅｖ。

Ｐｈａｓ、Ａｐｐｌ、１１．４６７頁（１９７６年）］
。

低いΔε／′ε１を得るために負のΔεを有する物質を
正のΔεを有する物質と混合することが通常、行われて
いる。

しかしながら、正のΔεを有することに加えて、強力な
横方向双極性を有する物質を使用する方がよい、このタ
イプの多くの液晶１ヒ合掬がこれまでに、すでに合成さ
れており、たとえば４−シアノ−２（５）−フルオロフ
ェノールのカルボン酸エステルｆヒ合物あるいは５−シ
アノピリジン−２−イル化合物などがある。

しかしながら、一般に、この５−シアノピリジン−２−
イル化合物は、たとえば混合物中における貧弱な溶解性
、高粘度、高融点および化学物質に対する不安定性など
の欠点を示す。さらに、これらの化合物は、一般に、全
く高次のスメクテイツク相形成傾向を有する。従って、
正の誘電異方性を有すると同時に、分子軸に対して垂直
である高い誘電定数を有し、これにより、非常に広く、
種々の電気光学用途のための混合物の性質をさらに改善
することができる別種の化合物が求められている。

本発明の目的は、正の誘電異方性、負の横方向双極性お
よび同時に、低い粘度を有する、安定な液晶化合物ある
いはメソーゲン性１ヒ合物を見い出すことにもとづいて
いた。

式Ｉで示される化合物が、液晶相の成分として優れて適
することが見い出された。特に、これらの化合物を使用
することにより、広い、メンフェース範囲および比較的
低い粘度を有する安定な液晶相を調製することができる
。

さらにまた、式■で示される化合物を提供することによ
って、種々の技術的性能の観点から、液晶混合物の調製
に適する液晶物質の範囲が非常に一般的に相当に拡大さ
れる。

式Ｉで示される化合物は、広い用途範囲を有する。これ
らの化合物は置換基を選択することによって、液晶相を
主として構成する基材として使用することができる。し
かしながら、他の群の化合物に属する液晶基材に、式Ｉ
で示される化合物を添加して、たとえばこのような誘電
体の誘電異方性および（または）光学異方性および（ま
たは）粘度および（または）自発分極および（または）
相範囲および（、または）チルト角および（または）ピ
ッチを変えることができる。

式■で示される化合物はまた、液晶誘電体の成分として
使用することができる別種の化合物を製造するための中
間体として使用するのにも適している。

式Ｉで示される化合物は純粋な状態で無色であり、電気
光学用途に有利に位置する温度範囲内で液晶メンフェー
スを形成する。これらの化合物は化学物質、熱および光
に対して非常に安定である。

従って、本発明は、式Ｉで示される化合物および式１で
示される化合物の合成における中間生成物としての４−
シアノ−２，３−ジフルオロフェノールに関する。

本発明はまた、構造要素として、４−シアノ−２，３−
ジフルオロフェノキシ基を有する化合物、特に式■で示
される化合物の少なくとも一種を含有する液晶メジウム
に間し、さらにまた、本発明はこのタイプのメジウムを
含む液晶表示素子に関する。このタイプの相は特に有利
な弾性定数を有し、かつまた、それらの低いΔε／εε
／ε上値て、ＴＦＴ混合物に特に適している。

本明細書の全体を通して、Ｒ１、Ａ１、Ａ２、Ｚおよび
ｍは側段のことわりがないかぎり、前記の意味を有する
ものとする。

従って１式■で示される化合物は、部分式ＩａおよびＩ
ｂで示される２個の環を有する化合物： Ｒ’　−Ａ２−　ＣＨ２−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　
　　Ｉ　ａＲｌ−Ａ’　−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　
　　　　　Ｉｂ部分式ＩＣおよび工ｄで示される３個の
環を有する化合物： Ｒ’　−Ａ’−２−Ａ２−　Ｃｔｌｚ−０−ＰＦ２Ｎ　
　　　　　Ｉ　ｃＲ’　−Ａｌ−２−Ａ’　−ＣＯ−０
−ＰＦ２Ｎ　　　　　　：［ｄ部分式■ｅおよびＩｆで
示される４個の環を有する化合物： Ｒ’　−Ａ１−２’−Ａ’−２−Ａ２−　ＣＨ２−０−
ＰＦ２Ｎ　　　ＩｅＲ’−Ａ１−２−Ａ’−７−Ａ２−
Ｃｏ−Ｏ−ＰＦ２Ｎ　　　Ｉｆおよび部分式Ｉｇおよび
ｆ−ｈで示される５個の環を有する１ヒ合物： Ｒ’　−Ａ’−１−Ａ’−２−Ａ’−２−Ａ２−　ＣＨ
２−０−ＰＦ２Ｎｇ Ｒ１−Ａ１−２−　Ａｌ−Ｚ−Ａｌ−７−Ａ２−　ＣＯ
−０−ＰＦ２Ｎｈ を包含する。

本明細書に記載されている式で示される化合物において
　Ｒ１は好ましくは、アルキルであり、そしてまたＲ１
は好ましくはアルコキシである。

Ａ１およびＡ２は好ましくは、ＰｈｅＸ、　Ｃｙｃ　、
　Ｐｈｅ、Ｄｉｏ　ｔ、たはＰｙｒである６式１で示さ
れる化合物はそれぞれ、好ましくは、１個より多くない
基Ｄｉｏ　、　Ｄｉｔ　、　Ｐｉｐ　、　Ｂｉ、　Ｐｙ
ｎ　、　ＰｙｒまなはＰｈｅＸを含有する ｍは好ましくは０．１または２であり、特に好ましくは
１である。

基２は同一または異なることができ、好ましくは単結合
であり、二番目に好ましいものとして、基Ｚは−ＣＯ−
Ｏ−１−Ｏ−ＣＯ−１−Ｃ＝　Ｃ−または−Ｃ）１２Ｃ
Ｈ２−基である８式■において、基Ｚの全部が単結合で
あるか、あるいは基Ｚのうちの１個が−ＣＯ−Ｏ−１−
Ｏ−ＣＯ−１−Ｃ＝Ｃ−または−ＣＨ２ＣＨ２−である
相当する化合物は特に好ましい。

本明細書に記載の式において、Ｒ１は好ましくは、Ｃ原
子２〜１ｏｆＪＡ、特にＣ原子３〜７個を有する。Ｒ１
中に存在するＣＨ，基のうちの１＠または２個は置き換
えられていてもよい。好ましくは、１個だけのＣＨ，基
が一〇−−ＣＯ−１−Ｃ＝　Ｃ−１−３−−ＣＨ＝ＣＨ
−−ＣＨ−ハロゲンまたは−ＣＨＣＮ−１特に−〇−、
−ＣＯ−または−ＣＥＣ−により置き換えられている。

ハロゲンはＦ、Ｃ１！、　ＢｒまたはＩ、好ましくは、
αである。

本明細書に記載の式において、Ｒ１は好ましくは、アル
キル基アルコキシ基またはらう一種のオキサアルキル基
であり、そしてまた、Ｒ１はアルキル基であって、その
基中に存在する１個または２個以上のＣＨ，基が、２個
のへテロ原子は相互に直接に結合しないものとして、−
〇−−Ｏ−ＣＯ−１−ＣミＣ−，−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ
Ｈ−ハロゲン−および−ＣＩＩＣＮ−よりなる群から選
ばれる基により、あるいは２個の適当な基の組合せによ
り置き換えられていてもよい基である。

Ｒ１がアルキル基であり、この基中に存在する１個のＣ
Ｈ２基が０原子により置き換えられていてもよい場合（
「アルコキシ」）または「オキサアルキル」）、あるい
はこの基中に存在する、隣接していない２個のＣＨ２基
がＯ原子により置き換えられていてもよい場合（「アル
コキシアルコキシ」または「ジオキサアルキル」）に、
この基は直鎖状または分子鎖状であることができる。好
ましくは、この基は直鎖状であり、そしてＣ原子２．３
．４．５．６または７個を有し、従って、好ましくはエ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘ
キソキシあるいはへブチルオキシであり、さらにまな、
メチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、メト
キシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、
ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ
あるいはテトラデシルオキシである。

オキサアルキルは好ましくは、直鎖状の２−オキサプロ
ピル（＝メトキシメチル）、２−オキサブチル（＝エト
キシメチル）または３−オキサブチル（＝２−メトキシ
エチル）、２−３−または４−オキサペンチル、２−１
３−４−または５−オキサヘキシル、２−１３−４−１
５−または６−オキサヘプチル、２−３−５４−１５−
１６−または７−オキサオクチル、２−１３−１４−．
５−１６−１７−まなは８−オキサノニル、２−１３−
、．４−５．６−１７−１８−または９−オキサデシル
、１．３−ジオキサブチル（＝メトキシメトキシ）、１
．３−５１．４−または２，４−ジオキサペンチル、１
．３−、１．４−１１，５−１２．４−、２．５−また
は３．５−ジオキサヘキシル、あるいは１．３−１．４
−、、１．５−、、１．６−１２，４−５２，５−２、
Ｇ　　、３．５−５３．６−または４．６−ジオキサへ
ブチルである。

Ｒ１がアルキル基であり、この基中に存在するＣＨ，基
が一〇Ｈ＝ＣＨ−により置き換えられている場合に、こ
の基は直蒲状または分枝鎖状であることができる。好ま
しくは、この基は直鎖状であり、モしてＣ原子２〜１０
個を有する。従って、この基は、特にビニル、プロプ−
１−２−ユニル、ブドー１−−２−または−３−エニル
ペント−１−１−２−−３−または−４−ユニル、ヘキ
ス−１−１−２−１−３−−４−または−５−エニル、
ヘプト−１−−２＝５−１−４−　−５−または−６−
エニル、オクト−１−１−２−１−３−１−４〜、−５
−６−または−７−エニル、ノン−１ ＝７−または−８−エニルあるいはデク−１−−７−８
−または−９−エニルである。

Ｒ１がアルキル基であり、この基中に存在する０１１２
基が一〇−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−により置き換えら
れている場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状である
ことかできる。好ましくは、この基はＣ原子２〜６個を
有する。従って、この基は、特にアセトキシ、グロビオ
ニルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘ
キサノイルオキシ、アセトキシメチル、プロピオニルオ
キシメチル、プチリルオキシメナル、ペンタノイルオキ
シメチル、２−アセトキシエチル、２−１０ピオニルオ
キシエチル、２−プチリルオキレエチル、３−アセトキ
シプロピル、３−グロピオニルオキシプロピル、４−ア
セトキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペ
ントキシカルボニル、メトキシカルボニルメチル、エト
キシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、
ブトキシカルボニルメチル、２−（メトキシカルボニル
）−エチル、２−（エトキシカルボニル）−エチル、２
−（プロポキシカルボニル）−エチル、３−（メトキシ
カルボニル）−プロピル、３−（エトキシカルボニル）
−プロピルおよび４−（メトキシカルボニル）−ブチル
である。

分枝鎖状ｌ１ｌｌＩ鎖基ＲＬを有する式Ｉで示される化
な物は、これらが慣用の液晶基材中で改善された溶解性
を有することから、時には重要であるが、これらが光学
活性である場合は、カイラルドーピング剤として特に重
要である。このタイプのスメクテイツク化合物は強誘電
性材料の成分として使用するのに適している。

一般に、この種の分枝鎖状基は１個より多くの鎧分校を
有していない、好ましい分枝鎖状基Ｒ１はイソプロピル
、２−ブチル（＝１−メチルプロピル）、イソブチル（
＝２−メチルプロピル）、２−メチルブチル、インペン
チル（＝３−メチルブチル）、２−メチルペンチル、３
−メチルペンチル、２−エチルヘキシル、２−プロピル
ペンチル、インプロポキシ、２−メチルプロポキシ、２
−メチルブトキシ、３−メチルブトキシ、２−メチルペ
ントキシ、３−メチルベンｌ−キシ、２−エチルヘキソ
キシ、１−メチルヘキソキシ、１−メチルへブトキシ、
２−オキサ−３−メチルブチル、３−オキサ−４−メチ
ルペンチル、４−メチルヘキシル、２−ノニル、２〜デ
シル、２−ドデシル、６−メチルオクトキシ、６−メチ
ルオクタノイルオキシ、５−メチルへブチルオキシカル
ボニル、２−メチルブチリルオキシ、３−メチルバレリ
ルオキシ、４−メチルヘキサノイルオキシ、２−クロロ
フ。

ロピオニルオキシ、２−クロロ−３−メチルブチリルオ
キシ、２−クロロ−４−メチルバレリルオキシ、２−ク
ロロ−３−メチルバレリルオキシ、２−メチル−３−オ
キサベンチルおよび２−メチル−３−オキサヘキシルで
ある。

Ｒ１がアルキル基であり、この基中に存在する２ｍまた
は３ＭＪ以上のＣＨ２基が一〇−および（または）　−
ＣＯ−Ｏ−により置き換えられている場合に、この基は
直鎖状または分枝鎖状であることができる。好ましくは
、この基は分枝鎖状であり、そしてＣ原子３〜１２個を
有する。従って、この基は特にビス−カルボキシ−メチ
ル、２．２−ビス−カルボキシ−エチル、３．３−とス
ーカルボキシーグロピル、４．４−ビス−カルボキシ−
ブチル、５，５−とスーカルボキシーベンチル、６．６
−とスーカルボキシーヘキシル、７．１−ビス−カルホ
キシーヘプチル、８，８−とスーカルボキシーオクチル
、９．９−とスーカルボキシーノニル、１０．１０−と
スーカルボキシーデシル、ビス−（メトキシカルボニル
）〜、メチル、２．２−ビス−（メトキシカルボニル）
−エチル、３．３−ビス−（メトキシカルボニル）−フ
゛ロビル、４．４−ビス−（メトキシカルボニル）−ブ
チル、５，５−ビス−（メトキシカルボニル）−ペンチ
ル、６．６−ビス−（メトキシカルボニル）−ヘキシル
、７．７−ビス−（メトキシカルボニル）−ヘプチル、
８．８−ビス−（メトキシカルボニル）−オクチル、ビ
ス−（エトキシカルボニル）−メチル、２，２−ビス−
（エトキシカルボニル）−エチル、３．３−ビス−（エ
トキシカルボニル）−プロピル、４，４−ビス−（エト
キシカルボニル）−ブチルおよび５．５−ビス−（エト
キシカルボニル）−ペンチルである。

重縮合反応に適する側鎖基Ｒ１を有する式Ｉで示される
１ヒ合物は液晶重縮合物の製造に適している。

式■はこれらの化合物のラセミ体および光学対掌体の両
方、ならびにその混合物を包含するらのとする。

弐■および式Ｉａ〜Ｉｈで示される化合物の中で、好ま
しい化合物は、その分子中に存在する基のうちの少なく
とも一つが前記の好ましい意味の一つを有する化合物で
ある。

部分式Ｉａ〜Ｉｂで示される２核状化合物の中では、下
記の部分式Ｉａａ〜■ａｅおよび部分式Ｉｂａ〜Ｉｂｄ
で示される化合物が好ましい：Ｒ’−Ｐｈｅ−ＣＨ２−
０−Ｐ２ＦＮ　　　　　　　　　Ｉ　ａａＲｌ−Ｃｙｃ
−Ｃ１１２−０−Ｐ２ＦＮ　　　　　　　　　Ｉａｂｎ
’　−Ｄｉｏ−Ｃｔｌ、　−０−Ｐ２ＦＮ　　　　　　
　　　工ａｃＲ’　−Ｐｙｒ−Ｃ１ｌｔ　−０−Ｐ２Ｆ
Ｎ　　　　　　　　　Ｉ　ａｄＩｔ’　−ＰｈｅＸ−Ｃ
Ｈ２−０−Ｐ２ＦＮ　　　　　　　　　Ｉ　ａｅＲｌ−
ＰｈｅＸ−Ｃｏ−０−Ｐ２ＦＮ　　　　　　　　　Ｉ　
ｂａＲ’　−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−Ｐ２ＦＮ　　　　　　
　　　　Ｉ　ｂｂＲ’　−Ｃｙｃ−Ｃｏ−０−Ｐ２ＦＮ
　　　　　　　　　　よりｃＲｌ−Ｐｙｒ−Ｃｏ−０−
Ｐ２ＦＮ　　　　　　　　　　Ｉ　ｂｄ部分式ＩＣおよ
びＩｄで示される３核状化合物の中では、下記の部分式
Ｉｃａ−Ｉｄｎで示される化合物が好ましい： Ｒ１−Ｐｈｅ−ＰＭ−Ｃｔｌ２−０−ＰＦ２Ｎ　　　　
　　　　Ｉ　ＣａＲ１−ＰｈｅＸ−Ｐｈｅ−ＣＨｙ　０
−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　ＩｃｂＲｌ−Ｐｈｅ−ＰＭＸ
−ＣＨ２−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　Ｉ　ＣＣＲ’−
Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｃ１２−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　
　ＩｃｄＲｌ−ＣｙＣ−ＣｙＣ−ＣＨ２−０−ＰＦ２Ｎ
　　　　　　　　Ｉ　ＣｅＲ’−Ｃｙｃ−Ｐｈｅ−Ｃ）
Ｉ２−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　ｃｆＲ’−Ｐ
ｙｒ−Ｃｙｃ−Ｃｌｌ□−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　
　　　　Ｉ　ＣＬＪＲ’−Ｐｈｅ−ＣＯ−０−ＰＭ−Ｃ
Ｈ２−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　Ｉ　ｃｈＲ’−ＣＶ
Ｃ−ＣＯ−０−Ｐｈｅ−ＣＨｚ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　
　　　Ｉ　ＣｉＲ’　−Ｃｙｃ−ＣＨ，Ｃｔｌ２−　Ｐ
ｈｅ−ＣＨ２−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　Ｉ　ＣｊＲ’　
−Ｐｈｅ−Ｃ）Ｉｔ　Ｃｔｌ２−　Ｐｈｅ−ＣＨ２−０
−ＰＦ２Ｎ　　　　　Ｉ　ｃｋＲ’−Ｐｈｅ−Ｃ＝Ｃ−
Ｐｈｅ−ＣＨｚ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　Ｉ　ＣＩ
ｎ’　−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　
　　　　　　　ＩｄａＲ’　−ＰｈｅＸ−Ｐｈｅ−ＣＯ
−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　　　　Ｉ　ｄｂＲｌ−
Ｐｈｅ−ＰｈｅＸ−Ｃｏ−Ｑ−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　
　　　　Ｉ　ｄｃｆｌｌ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｃｏ−０−
ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　　　　工ｄｄＲ’　−Ｃｙｃ
−Ｃｙｃ−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　　　　
Ｉ　ｄｅＲ’　−Ｃｙｃ−Ｐｈｅ−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ
　　　　　　　　　　　　Ｉ　ｄｆＲ’　−Ｐｙｒ−Ｐ
ｈｅ−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　　　　Ｉ　
ｄｇＩｔｌ−Ｐｈｅ−０−ＣＯ−Ｐｈｅ−ＧＯ−０−Ｐ
Ｆ２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　ｄｈＲｌ−Ｃｙｃ−０−Ｃ
Ｏ−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　
ｄｉＲ’−Ｃｙｃ−ＣＯ−０−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−ＰＦ
２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　ｄｊＲ’　−Ｐｈｅ−ＣＯ−
０−Ｐｈｅ−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　
ｄｋＲｌ−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−Ｃｙｃ−ＣＯ−０−ＰＦ
２Ｎ　　　　　Ｉ旧Ｒ’　−Ｐｈｅ−Ｑ−ＣＯ−Ｃｙｃ
−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　ｄ１１部分
式■ｅ〜Ｉｆで示される三核状化合物の中では、下記の
部分式■１〜Ｉ８で示される化合物が好ましい： Ｒ’　−Ａ”　−Ａ”　−Ａ’　−Ｃ）＋２−０−ＰＦ
２Ｎ　　　　　　Ｉ　ＩＲｌ　−Ａｌ　−Ａｌ　−Ａ２
−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　　■２Ｒ’　−Ａ１４
−　Ａ’　−Ａ２−Ｃ０−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　Ｉ　
３ＲＬ−ＡＩ−Ｚ−Ａｌ−Ａ２−ＣＨ２−０−ＰＦ２Ｎ
　　　　工４１１１−Ａｌ−Ａ’−Ｚ−Ａ２−ＣＨ２−
０−ＰＦ２Ｎ　　　　Ｊ５Ｒ１−Ａ’　−ＡＩ　−２−
Ａ２−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　　　Ｉ　６Ｒ’−Ａ’
−Ｚ−Ａ１−’−Ａ２−ＣＯ−０−ＰＦ２Ｎ　　　Ｉ７
Ｒ’−Ａ”−２−Ａ”−７−Ａ２−ＣＨ，−０−ＰＦ２
Ｎ　　　Ｉ８上記の部分式■１〜■８で示される化合物
において、基Ａ！および基Ａ２は好ましくは、トランス
−１，４−シクロヘキシレン（Ｃｙｃ）、１．４−フェ
ニレン（Ｐｈｅ）　、２−ハロゲノ−１，４−フｘ＝レ
ンまたは３−ハロゲノ−１，４−フェニレン［ＰｈｅＸ
）、ジオキサ：ｙ−２，５−ジイル（Ｄｉｏ）　、ジチ
アン−２，５−ジイル（Ｄｉｔ）あるいはピリミジン−
２，５−ジイル（Ｐｙｒ）である、１個または２個以上
の基Ｄｉｏ　、Ｄｉｔおよび（，１なは）　Ｐｙｒを含
む上記式で示される化合物はそれぞれ、存在できる二種
の２．５−（Ｄ＋ｏ、　ＤｉｔまたはＰｙｒ　）位置異
性体を包含する。

式１で示される化合物は文献［たとえばＨｏｕｂｅｎ−
１４ｅｙ　ｌによるＨｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　Ｏｒｇ
ａｎｉｓｃｈｅｎＣｈｅｎｉｅ（Ｇｅｏｒｑ−Ｔｈｉｅ
ｎｅ出版社、ｓｔｕｔｔｇａｒｔ市）のような標準的学
術書コに記載されているようなそれ自体既知の方法によ
り、特に、あげられている反応に適する既知の反応条件
の下で製造される。さらにまた、それ自体既知であって
、ここでは詳細に説明されていない変法も使用できる。

所望により、原料化合物はまた、これらを反応混合物か
ら単離することなく、直ちにさらに反応させて式Ｉで示
される化合物を生成させる方法により、その場で生成さ
せることもできる。

式Ｉで示される化合物は好ましくは、４−シアノ−２，
３−ジフルオロフェノールのエステル（ヒまたはエーテ
ル化により得られる。

４−シアノ−２，３−ジフルオロフェノール化合物は既
知の方法により４−ヒドロキシ−２，３−ジフルオロ安
息香酸のアミドの脱水により得られる。この酸化合物は
既知の方法［たとえばＡ、Ｍ、Ｒｏｅ等によるＪ、Ｃｈ
ｅｌ、Ｓｏｃ、Ｃｈｅｎ＋、Ｃｏｎｎ、　２２５８２頁
（１９６５年）］と同様にして生成される４−トリメチ
ルシリルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルリチウム
または４−アルコキシ−２，３−ジフルオロフェニルリ
チウムを二酸化炭素でカルボキシル化することにより製
造される。

さらにまた、４−トリメチルシリルオキシ−２，３−ジ
フルオロベンズアルデヒドまたは４−アルコキシ−２，
３−ジフルオロベンズアルデヒド（この化合物は相当す
るリチウム化合物からホルムアミド化合物でホルミル化
することにより得られる）はニトリルに容易に変換する
ことができる［たとえばＪ、５ｔｒｅｉｔｈ等によるＨ
ｅ１ｖ。

Ｃｈｉｍ、Ａｃｔａ　５９．２７８６頁（１９７６年）
］。

］４−シアノー２．３−ジフルオロフェノーのもう一つ
の使用できる製造方法は４−トリメチルシリルオキシ−
２，３−ジフルオロフェニルリチウムとシアノゲンクロ
ライドまたはブロマイドとの反応である。

さらにまた、４−シアノ−２，３−ジフルオロフェノー
ルは２．３−ジフルオロ−４−メトキシニトロベンゼン
（この化合物はたとえば、ＲｏＢｏ　Ｉ　ｔｏｎ等の方
法［Ｊ、Ｃｈｅｎ、Ｓｏｃ、Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ、　１
９７８１４１頁］によって得られる）から、Ｃｕｔ（Ｃ
Ｎｈとの反応および引続くエーテル開裂により得ること
ができる。

式Ｉで示される化合物はまた、式Ｉに相当するが、Ｈ原
子の代りに１藺または２１１Ｉ以上の還元できる基およ
び（または）Ｃ−Ｃ結合を有する相当する化合物を還元
することにより製造することができる。

適当な還元できる基は好ましくはカルボニル基、特にケ
ト基であり、そしてまた、たとえば遊離のまたはエステ
ル化されているヒドロキシル基、あるいは芳香族核に結
合しているハロゲン原子である。還元に好適な原料化合
物は式Ｉにおいて、シクロヘキサン環の代りにシクロヘ
キセン環またはシクロヘキサノン環を有することができ
、そして（あるいは）　−Ｃｈｅｌ２−基の代りに−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−基を有することができ、そして（あるいは）
−Ｃ１１２−基の代りに、−ＣＯ−基を有することがで
き、そして（あるいは）Ｈ原子の代りに、遊離のまたは
官能性に変えられている（たとえばそのｐ−トルエンス
ルホネートの形の）　ＯＨ基を有することができる相当
する化合物である。

この還元は、たとえば約０°Ｃ〜約２００″Ｃの温度お
よび約１〜２００バールの圧力の下で、不活性溶媒、た
とえばメタノール、エタノールまたはインプロパツール
のようなアルコール、テトラヒドロフラン（ＴＨＥ）ま
たはジオキサンのようなエーテル、酢酸エチルのような
エステル、酢酸のようなカルボン酸あるいはシクロヘキ
サンのような炭化水素中において接触水素添加により行
なうことができる。適当な触媒は好ましくはｐｔまたは
Ｐｄのような貴金属であり、これらは酸（ヒＩＩ（たと
えばｐｔｏ、またはＰｄＯ）の形態で、支持体上で（た
とえば木炭、炭酸カルシウムまたは炭酸ストロンチウム
上のＰｄ）、あるいは微粉砕した形態で使用することが
できる。

ゲトン化合物はまた。　Ｃ１ｅｎｎｅｎｓｅｎの方法（
この方法ではアニン、アマルカム状アニンまたはスズと
塩酸を、好ましくは水性アルコール性溶液中でまたは水
、・′トルエンを用いる不均質相で。

約８０〜１２０°の温度で使用する）、あるいはＷｏｌ
ｆｆ−に１ｓｈｎｅｒの方法（この方法では、ヒドラジ
ンを、好ましくはにＯＨまたはＨａ叶のようなアルカリ
の存在の下で、ジエチレングリコールまたはトリエチレ
ングリコールのような高沸点溶媒中において、約１００
〜２００°の温度で使用する）により還元することがで
き、アルキル基および（または）　−ＣＨ２ＣＨ２−架
橋を有する式■で示される相当する１ヒ合物が得られる
４ 複合水素（ヒ物を用いる還元を使用することもできるー
たとえば、アリールスルホニルオキシ基はＬ　！　Ａｊ
！　Ｈａを用いて還元的に分離することができ、特にρ
−トルエンスルホニルオキシメチル基は、好ましくはジ
エチルエーテルまたはＴＨＥのような不活性溶媒中で、
約Ｏ〜１００°の温度において、メチル基に還元するこ
とができる。

メタノール中でトリブチルスズ水素化物またはＮａＢＨ
ｎを用いると、二重結合を水素添加することができる（
ＣＮ基が存在する場合でも）。

式Ｉで示されるエステル化合物はまた、相当するカルボ
ン酸化合物（またはその反応性誘導体）をアルコールま
たはフェノール化合物（あるいはそれらの反応性誘導体
）でエステル化することにより得ることができる。

前記カルボン酸化合物の適当な反応性誘導体は特に、酸
ハライド化合物、中でもクロライド化合物およびブロマ
イド化合物、およびまた酸無水物、たとえば混合酸無水
物、アジド化合物あるいはエステル化合物、特にアルキ
ル基中にＣ原子１〜４個を有するアルキルエステル化合
物である。

前記アルコールまたはフェノール化合物の適当な反応性
誘導体は、特にＮａまたはＫのようなアルカリ金属の相
当する金属アルコレートまたは金属フェルレートである
。

エステル化は有利には、不活性溶媒の存在の下で行なう
、非常に好適な溶媒は特に、ジエチルエーテル、ジ−ｎ
−ブチルエーテル、ＴＨＥ、ジオキサンまたはアニソー
ルのようなエーテル、アセトン、ブタノンまたはシクロ
ヘキサノンのようなゲトン、ＤＩ４Ｆまたはリン酸へキ
サメチルトリアミドのようなアミド、ベンゼン、トルエ
ンまたはキシレンのような炭化水素、四塩化炭素または
テトラクロロエチレンのようなハロゲン化炭化水素、ジ
メチルスルホキシドまたはスルホランのようなスルホキ
シドである。水不混和性溶媒を同時に有利に使用でき、
これによりエステル化中に生成された水を共沸蒸溜によ
り留去できる。場合により、エステル化用溶媒として、
過剰の有機塩基、たとえばピリジン、キノリンよた−は
トリエチルアミンを使用することらできる。エステル化
はまた溶媒の不存在下に、たとえば反応成分を酢酸ナト
リウムの存在の下で単純に加熱することにより行なうこ
ともてきる０反応温度は通常、−５０〜＋２５０°、好
ましくは一２０’〜＋８０°である。これらの温度で、
エステル化反応は一般に１５分〜４８時間後に完了する
。

エステル化合物を製造するためのもう一つの好ましい方
法はカルボン酸を脱水剤の存在の下で、アルコールまた
はフェノールと、必要に応じて触媒として有機塩基を使
用して、反応させる方法である。

特に好適な脱水剤は分子篩または、たとえはジシクロヘ
キシルカルボジイミドなどのカルボジイミド化合物であ
る。特に適当な塩基触媒は４−ジメチルアミノピリジン
である。

それぞれの場合におけるエステル化の反応条件はほとん
ど使用する原料物質の種類に依存する。すなわち、遊離
カルボン酸は一般に、遊離アルコールまたはフェノール
と強酸、たとえば塩酸または硫酸のような獄酸の存在の
下で反応させる。好適な反応方法は酸無水物、または特
に酸クロライドをアルコールと、好ましくは塩基性媒質
中で反応させる方法であり、この場合に塩基としては、
水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸カリウムまたは炭酸水素カリウムのようなアルカ
リ金属の炭酸塩あるいは炭酸水素塩、酢酸ナトリウムま
たは酢酸カリウムのようなアルカリ金属酢酸塩、水酸化
カルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物、あるい
はトリエチルアミン、とリジン、ルチジン、コリジンま
たはキノリンのような有機塩基が特に重要である。もう
一つの好適なエステル化方法は上記のアルコールまたは
フェノールを先ずたとえば水酸化ナトリウムまたは水酸
１ヒカリウムのエタノール溶液で処理することによりナ
トリウムアルコレートまたはナトリウムフエナートある
いはカリウムアルコレートまたはカリウムフエナートに
変換し、このアルコレートまたはフェルレートを単離し
、次いでアセトン中またはジエチルエーテル中で炭酸水
素ナトリウムまたは炭酸カリウムとともに、撹拌しなが
ら懸濁し、この懸濁港にジエチルエーテル、アセトンま
たはＤＨＦ中の酸クロライドまたは酸無水物の溶液を、
好ましくは約２５°〜＋２０°の温度で加えることより
なる方法である。

相当する酸アミド化合物を脱水させることにより１式Ｉ
で示されるニトリル化合物を製造することができる。こ
のアミド化合物は、たとえば相当するエステルｊヒ金物
または酸ハライド化合物からアンモニアとの反応により
得られる２適当な脱水剤の例には、　ＳｏＩ″ｆｌ、　
、　ＰＩ、、　ＰＣり５、ＰＯＣｌ２　、５０２Ｃｈま
たはＣ０Ｃｊ！：のような無機酸クロライドおよびまた
Ｐ２０Ｓ　、　Ｐ２　Ｓ５　、　ＩＪ　Ｃａ２　（この
化合物は、たとえばＮａＣρどの複合化合物として１重
用する）、芳香族のスルホン酸およびスルホン酸ハライ
ドがある。この反応は不活性溶媒の存在の下でまたは不
存在下に、約Ｏ°〜１５０゜の温度で行なうことができ
る。３Ｉ￥１当な溶媒の例には、ピリジンまたはトリエ
チルアミンのような塩基、ベンゼン、トルエンまたはキ
シレンのような芳香族炭化水素、あるいはＤＨＦのよう
なアミドがある。

式■で示される前記ニトリル化合物はまた、相当する酸
ハライド化合物、好ましくはタロライドをスルファミド
と、好ましくはテトラメチレンスルホンのような不活性
溶媒中で、約８０゛〜１５０°の温度、好ましくは１２
０°において反応させることにより製造することができ
る６通常の方法で仕上げ処理した後に、ニトリル化合物
をさらに処理することなく直接に単離することができる
。

式Ｉで示される化合物はまな、相当するジアゾニウム塩
から、ジアゾニウム基を、たとえば５ａｎｄｎｅｙｅｒ
の方法を用いて、０Ｍ基により置き換えることにより得
ることができる。

このジアゾニウム塩化合物は、たとえば式■において、
ＣＮ基の代りに水素原子を有する相当する化合物をニト
ロ化し、生成物を還元して相当するアミンを生成し、次
いでこのアミン生成物を、たとえばＮａＮＯ２またはに
ＮＯ□により、水溶液中で約−１０〜＋１０の温度でジ
アゾ化することにより製造することができる。

ＣＮによる置換は、好ましくはジアゾニウム塩水溶液を
５ａｎｄｎｅｙｅｒ法により、ＣＬ１２（ＣＮ）２と反
応させることにより行なう。

式Ｉで示される化合物はまた、式■において、０Ｍ基の
代りに水素原子を有する相当する化合物を、それ自体既
知の方法により脱プロトン化させ、引続いて、生成物を
シアノゲンクロライドまたはブロマイドと反応させるこ
とにより製造することができる。

トラン化合物（弐丁において、１＝−ＣミＣ−）の製造
は、たとえば相当するハロゲン化合物を塩基性溶媒中で
遷移金属触媒を用いてアセチリドと反応させることによ
り行なう、この場合に、好ましくは、触媒として、パラ
ジウム、特にビス−（トリフェニルホスフィン）−パラ
ジウム（ＩＩ）クロライドおよびヨー化銅の混合物をピ
ペリジン溶媒中で使用する。

式■で示されるエーテル化合物は相当するヒドロキシ化
合物、好ましくは相当するフェノール化合物のエーテル
化により得ることができる。

ヒドロキシ化合物は好ましく先ず、相当する金属誘導体
に、たとえばＮａＨ、ＮａＮＨ，、ＮａＯＨ１にＯＨ、
ＮａｚＣＯ３またはに２ＣＯ１で処理することにより、
相当するアルカリ金属アルコレート化合物またはアルカ
リ金属フェノール化合物に変換する。このアルコレート
またはフエナートは次いて′相当するアルキルハライド
、アルキルスルホネ−ト 好ましくはアセトン、１，２−ジメトキシエタン、ＤＩ
４Ｆまたはジメチルスルホキシドなどの不活性溶媒中で
，あるいはまた過剰の水性または水性アルコール性Ｎａ
ＯＨまたはＫＯＨ中で，約２０’〜１００”の温度にお
いて反応させることができる。

本発明による液晶メジウムは、本発明によるｆヒ合物の
一種または二種以上に加えて，好ましくはさらに別の成
分として，２〜４０種、特に４〜３０種の成分を片有す
る。これらのメジウムは非常に特に“好ましくは，７〜
２５種の成分および本発明による化合物の一種または二
種以上を含有する．これらの別種の成分は好ましくはネ
マティックまたはネマトゲニツク（単変性または等方性
）物質、特にアゾキシベンゼン化合物、ベンジリデンア
ニリン化合物、ビフェニル化合物、ターフェニル化合物
、フェニルまたはシクロへキシルベンゾエート化合物、
フェニルまたはシクロへキシルシクロヘキサンカルボキ
シレート化合物、フェニルまたはシクロへキシルシクロ
へキシルベンゾエート化合物、フェニルまたはシクロへ
キシルシクロへキシルシクロヘキサンカルボキシレート
化合物、シクロヘキシルフェニルベンゾエート化合物、
シクロへキシルフェニルシクロヘキサンカルボキシレー
ト化合物、シクロへキシルフェニルシクロへキシルシク
ロヘキサンカルボキシレート化合物、フェニルシクロヘ
キサン化合物、シクロへキシルビフェニル化合物、フェ
ニルシクロへキシルシクロヘキサン化合物、シクロへキ
シルシクロヘキサン化合物、シクロへキシルシクロヘキ
セン化合物、シクロへキシルシクロへキシルシクロヘキ
セン化合物、１．４−ビス−シクロヘキシルベンゼン化
合物、４，４°−とスーシクロへキシルビフェニル化合
物、フェニルピリミジン化合物、シクロへキシルピリミ
ジン化合物、フェニルピリジン化合物、シクロへキシル
ピリジン化合物、フエニルジオキサン化合物、シクロへ
キシルジオキサン化合物、フェニル−１．３−ジチアン
化合物、シクロへキシル−１．３−ジチアン化合物、１
２−ジフェニルエタン化合物、１．２−ジシクロヘキシ
ルエタン化合物、１−フェニル−２シクロヘキシル工タ
ン化合物、■ーシクロへキシル−２−（４−フェニルシ
クロへキシル）−エタン化合物、１−シクロへキシル−
２−ビフェニルエタン化合物、１−フェニル−２−シク
ロへキシルフェニルエタン化合物、場合によりハロゲン
１ヒされているスチルベン化合物、ベンジルフェニルエ
ーテル化合物、トラン化合物および置換されているケイ
皮酸化合物の群に属する物質から選択される．これらの
化合物中に存在する１，４−フェニレン基はフッ素化さ
れていることができる。

本発明によるメジウムの別種の成分として適する最も重
要な化合物は次式１、２．３．４および５で示すことが
できる特徴を有する二Ｒ’−Ｌ−Ｅ−Ｒ’”　　　　　
　　　　　　　　　ＩＲ’−Ｌ−ＣＯＯ−Ｅ−Ｒ”　　
　　　　　　　　　　２Ｒ’−Ｌ−００Ｃ−Ｅ−Ｒ’“
　　　　　　　　　　　３Ｒ’−Ｌ−ＣＨｚＣｈ−　Ｅ
−Ｒ’”　　　　　　　　　　４Ｒ’−Ｌ−ＣＥ　Ｃ−
Ｅ−Ｒ”　　　　　　　　　　　　５式１、式２、式３
、式４および式５において。

しおよびＥは同一または異なることができ，相互に独立
して，それぞれ、−Ｐｈｅ−　、−Ｃｙｃ−−Ｐｈｅ−
Ｐｈｅ−　、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−　、　−Ｃｙｃ−Ｃｙ
ｃ−　、　−Ｐｙｒ−−Ｄｉｏ−　、−Ｇ−Ｐｈｅ−お
よび−〇−Ｃｙｃ−ならびにそれらのｉｆＡ　（ｔ．基
からなる群に属する二価の基であり、Ｐｈｅは１，４−
フェニレンであり，この基は非置換であるか，またはフ
ッ素で置換されており。

ＣｙＣはトランス−１，４−シクロヘキセニレンまたは
１４−シクロヘキセニレンであり，　Ｐｙｒはビグミジ
ン−２，５−ジイルよたはピリジン−２，５ジイルであ
り、Ｄｉｏは１．３−ジオキサン−２，５−ジイルであ
り、そしてＧは２−（トランス−１，４−シクロヘキシ
ル）−エチル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン
−２，５−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，５−
ジイルである。

好ましくは、基しおよび基りのうちの一つはＣｙｃ　、
　ＰｈｅまなはＰｙｒである。Ｅは好ましくは。

Ｃｙｃ　、ＰｈｅまたはＰｈｅ−Ｃｙｃである。

本発明によるメジウムは好ましくは１式１．２．３．４
および５において、その分子中に存在する基りおよび基
ＥがＣｙｃ　、　ＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選
ばれる相当する化合物から選択される成分の一種または
二種以上と、同時に、式１．２．３．４および５におい
て、その分子中に存在する基りおよび基Ｅのうちの一つ
がＣｙｃ　、　ＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選ば
れ、そして基しおよび基Ｅのうちの池の一つが−Ｐｈｅ
−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−
、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−〇−Ｃｙｃ−からなる群から
逼ばれる相当する化合物から選択される成分の一種また
は二種以上および場合により、式１．２．３．４および
５において、その分子中に存在する基しおよび基Ｅが−
Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−−Ｇ−Ｐｈｅ−
および−〇−Ｃｙｃ−からなる群から選ばれる相当する
化合物から選択される成分の一種または二種以上を含有
する。

部分式１ａ、２ａ、３ａ、４ａおよび５ａで示される化
合物においては、ＲｏおよびＲ”は相互に独立して、そ
れぞれ、８個までの炭素原子を有するアルキル、アルケ
ニル、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルカノイ
ルオキシである。これらの化合物の大部分の場合に、Ｒ
ｏおよびＲ”は相互に異なっており、これらの基の一つ
は、大部分の場合に、アルキルまたはアルケニルである
０部分式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで示される
化合物においては、Ｒ”は−ＣＮ−ＣＦ３、ｒ、　ｃｉ
！または−ＮＣ３であり、この場合に、Ｒｏは部分式１
ａ〜５ａで示される化合物について前記した意味を有し
、好ましくはアルキルまたはアルケニルである。しかし
ながら、包含されるその他の種々の置換基はまた、式１
．２．３．４および５で示される化合物において慣用で
ある。かなりのこのような物質またはその混合物は市販
されている。これらの物質の全部は文献から既知の方法
によりまたはその類似方法により得ることができる。

本発明によるメジウムは、化合物１ａ、２ａ、３ａ、４
ａおよび５ａからなる群（群１）からの成分に加えて、
好ましくは化合物１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂか
らなる群（群２）からの成分を含有し、その割合は好ま
しくは、下記のとおりである： 群１：２０〜９０％、特に、３０〜９０％群２：１０〜
８０％、特に、１０〜５０％そして本発明による化合物
と群１および群２からの化合物との割合の合計は１０ｔ
％までである。

本発明によるメジウムは好ましくは、本発明による化合
物１〜４０％、特に好ましくは、５〜３０％含有する６
本発明による１ヒ合物を４０％より多い量、特に４５〜
９０％の量で含有するメジウムはまた、好ましい０本発
明によるメジウムは好ましくは三種、四種または三種の
本発明による化合物を含有する。

本発明によるメジウムの調製はそれ自体慣用の方法で行
なう、一般に、諸成分を相互に、好ましくは高められた
温度で溶解させる。

本発明による液晶相は適当な添加剤を使用することによ
り、これらを従来開示されているタイプの全部の液晶表
示素子で使用できるように変性することができる。

このような添加剤は当業者にとって既知であり、文献（
Ｈ，Ｋｅｌｋｅｒ／Ｒ，ＨａｔｚによるＨａｎｄｂｏｏ
ｋｏｆ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ、　Ｖｅｒｌ
ａｇ　Ｃｈｅｎｉｅ、Ｗｅｉｎｈｅｉｎ１９８０年）に
詳細に記載されている。たとえば、着色ゲスト−ホスト
系を生成するために多色性染料を添加でき、あるいは誘
電異方性、粘度および（または）ネマティック相の配向
を変えるための物質を添加することができる。

次間は本発明を制限することなく、説明するためのらの
である、　Ｉｌ、ｐ、−融点であり、ｃ、ｐ、＝透明点
である０本明細書全体を通して、パーセンテージは重量
による。全ての温度は摂氏度で示すものである。

「清書の方法で仕上げる」の用語は次の意味を有するも
のとする：水を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、
相を分離させ、有機相を乾燥させ、次いで蒸発させ、生
成物を結晶化および（または）クロマトグラフィにより
精製する。

さらにまた、Ｃは結晶一固体状態であり、Ｓはスメクテ
イツク相（インデックスは相のタイプの特徴を示す）で
あり、Ｎはネマティック状態であり、Ｃｈはコレステリ
ック相であり、そしてＩは等方性用である。二種の記号
間の数字は転移温度を摂氏度で示すものである。

例　　１ ２３−ジフルオロ−４−シアノフェノールの製造 ａ）　　４−エトキシ−２，３−ジフルオロベンズアル
デヒド へ゛キサン中の０．２モルｎ−ブチルリチウムの溶１１
２５ａｅを一１８°Ｃで、２．３−シフルオｏフｘネト
ール０．２モル、テトラメチルエチレンジアミン０．２
モルおよびテトラヒドロフラン４００　ｔｓｔの混合物
に加え、混合物を一６０℃で２時間撹拌する。ｎ−ホル
ミルピペリジン０．２モルとテトラヒドロフラン２０−
との混合物をこの混合物に滴下して加える。−２０℃ま
で温め、次いで慣用の方法で仕上げ、標題のアルデヒド
化合物を無色固形物の形態で得る、融点＝７０℃。

ｂ）　　４−エトキシ−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ヒドロキシルアミノ−Ｏ−スルホン酸０．１２モルおよ
び水５０ｍ（の混合物を３０℃で、４−エトキシ−２，
３−ジフルオロベンズアルデヒド０．１モルおよび水１
００ｍｅの混合物に加え、混合物を１時間撹拌する。６
５°Ｃにまで２時間温め、次いで慣用の方法で仕上げ、
標題のニトリル化合物を無色固形物の形態で得る、融点
＝４５℃。

ｃ）　　２．３−ジフルオロ−４−シアノフェノール４
−エトキシ−２，３−ジフルオロベンゾニトリル０．１
モル、塩化アルミニウム０．１２モルおよびトルエン１
５０　ｔｘｅの混合物を２時間、加熱溝とうさせる。慣
用の方法で仕上げ、標題のフェノール化合物を無色固形
物の形態で得る。

例　　２ ４−アロイルオキシ−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル化合物の製造 ジシクロへキシルカルボジイミド０．１１モルおよびト
ルエン２０ｒａｅの混合物を、ｐ−ペンチル安息香酸０
．１モル、２，３−ジフルオロ−４−シアノフェノール
０．１モル（この化合物は例１におけるように製造する
）、４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．５ｇおよ
びトルエン２００Ｊ！の混合物に加える。室温で４時間
撹拌した後に、混合物にシュウ酸０．４　ｇを加え、撹
拌を３０分間続ける。慣用の方法で仕上げ、４−（４−
ペンチルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベン
ゾニトリルを得る。

同様にして、下記の化合物を製造する：４−（４−エチ
ルベンゾイルオキシ）−２，３ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−（４−グロビルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−ブチルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−ヘキシルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−ヘプチルベンゾイルオキシ）２．３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−オクチルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−エトキシベンゾイルオキシ）２．３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−プロポキシベンゾイルオキシ勺＝２．３−ジ
フルオロベンゾニトリル ４−（４−ブトキシベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−ベントキシベンゾイルオキシ）−２，３−ジ
フルオ口ペンゾニトリル ４−（４−ヘキシルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−へブチルオキシベンゾイルオキシ）−２，３
−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−オクチルオキシベンゾイルオキシ）−２，３
−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（２−メチルブチル）−ベンゾイルオキシ
）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−アセ
トキシベンゾイルオキシ）２．３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（４−プロピオニルオキシベンゾイルオキシ）−２
，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−ブチリルオ
キジベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（４−ペンタノイルオキシベンゾイルオキシ）−２
，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−ヘキサノイ
ルオキシベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベン
ゾニトリル４−（４−ヘプタノイルオキシベンゾイルオ
キシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−
オクタノイルオキシベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル。

原料化合物として４−アルキルビフェニル−４°−カル
ボン酸を使用し、同様にして下記の化合物が得られる： ４−（４−エチルビフェニル−４′−イルカルボニルオ
キシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−プロビルビフェニル−４°−イルカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−ブチルビフェニル−４°−イルカルボニルオ
キシ）　　２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−ペンチルビフェニル−４゛−イルカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−へキシルビフェニル−４”−イルカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−へブチルビフェニル−４゛−イルカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−オクチルビフェニル−４゛−イルカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−エトキシビフェニル−４゛−イルカルボニル
オキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−プロポキシビフェニル−４−イルカルボニル
オキシ）　−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−ブトキシビフェニル−４°−イルカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−ペントキシビフェニル−４°−イルカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−ヘキシルオキシビフェニル−４°−イルカル
ボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−へブチルオキシビフェニル−４゜イルカルボ
ニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−才クチルオキシビフェニル−４°−イルカル
ボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（２−メチルブチル）−ビフェニル−４°
−イルカルボニルオキシ）　　２．３−ジフルオロベン
ゾニトリル。

原料化合物として４−（トランス−４−アルキルシクロ
ヘキシル）−安息香酸を使用し、同様にして、下記の化
合物が得られる： ４−　（４−（）−ランス−４−エチルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−１ランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−ベンゾイルオキシ）−２３−ジフルオロベンゾニトリ
ル、に９８’Ｎ１９５°　Ｉ４−　（４−（トランス−
４−プチルシクロヘキシル）−ベンゾイルオキシ＞−２
，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（トランス−４−エトキシシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（トランス−４−プロポキシシクロヘキシ
ル）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（トランス−４−ブトキシシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（トランス−４−ペントキシシクロヘキシ
ル）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（トランス−４−ヘキシルオキシシクロヘ
キシル）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−　（４−（トランス−４−へブチルオキシシクロヘ
キシル）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−　（４−（トランス−４−オクチルオキシシクロヘ
キシル）−ベンゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオロ
ベンゾニトリル。

原料化合物として４−（５−アル冴ルジオキサンー２−
イル）−安息香酸を使用し、同様にして、下記の化合物
が得られる： ４−　（４−（５−エチルジオキサン−２−イル）−ベ
ンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−プロピルジオキサン−２イル）−ベ
ンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−ブチルジオキサン−２−イル）−ベ
ンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−ペンチルジオキサン−２−イル）−
ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−へキシルジオキサン−２−イル）−
ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−へブチルジオキサン−２−イル）−
ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−＜５−オクチルジオキサン−２−イル）−
ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−エトキシジオキサン−２イル）−ベ
ンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−１０ボキシジオキサン−２−イル）
−ベンゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（５−ブトキシジオキサン−２−イル）−
ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−ペントキシジオキサン−２−イル）
−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−＜５−ヘキシルオキシジオキサン−２−イ
ル）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（５−へブチルオキシジオキサン−２−イ
ル）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（５−オクチルオキシジオキサン−２−イ
ル）−ベンゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオロベン
ゾニトリル。

原料化合物として４−（４−アルキルベンゾイルオキシ
）−安息香酸を使用し、同様にして、下記の化合物が得
られる： ４−　（４−（４−エチルベンゾイルオキシ）−ベンゾ
イルオキシ＞　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−、（４−（４−プロピルベンゾイルオキシ）−ベン
ゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−＜４−ブチルベンゾイルオキシ）−ベンゾ
イルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　＜４−　（４−ペンチルベンゾイルオキシ）−ベ
ンゾイルオキシ暑〜２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（４−ヘキシルベンゾイルオキシ）−ベン
ゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−１４−ヘプチルベンゾイルオキシ）−ベンゾ
イルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（４−ヘキシルベンゾイルオキシ）−ベン
ゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（４−エトキシベンゾイルオキシ）−ベン
ゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（４−プロポキシベンゾイルオキシ）−ベ
ンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（４−ブトキシベンゾイルオキシ）−ベン
ゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−＜４−ベントキシベンゾイルオキシ）−ベ
ンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（４−へキシルオキシベンゾイルオキシ）
−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（４−（４−へブチルオキシベンゾイルオキシ）−
ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（４−オクチルオキシベンゾイルオキシ）
−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル。

原料化合物として４−　（４−１ランス−４−アルキル
シクロヘキサン力ルポニルオキシ）−安息香酸を使用し
、同様にして、下記の化合物が得られる： ４−　（４−１ランス−４−エチルシクロヘキサンカル
ボニルオキシ）−ベンゾイルオキシ）２．３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−　（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキサン
カルボニルオキシ）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジ
フルオロベンゾニトリル４−　（４−（トランス−４−
ブチルシクロヘキサンカルボニルオキシ）〜ベンゾイル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（）−ランス−４−ペンチルシクロヘキサ
ンカルボニルオキシ）−ベンゾイルオキシ）−２，３−
ジフルオロベンゾニトリル４−　（４−（トランス−４
−へキシルシクロヘキサンカルボニルオキシ）−ベンゾ
イルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−
　（４−（トランス−４−へブチルシクロヘキサンカル
ボニルオキシ）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル４−　（４−（トランス−４−オク
チルシタロヘキサン力ルポニルオキシ）−ベンゾイルオ
キシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−　（４
−（トランス−４−エトキシシクロヘキサンカルボニル
オキシ）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル４−　＜４−　（トランス−４−プロポキ
シシクロヘキサンカルボニルオキシ）−ベンゾイルオキ
シ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−　（４−
１ランス−４−ブトキシシクロヘキサンカルボニルオキ
シ）−ベンゾイルオキシ＞−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル４−　（４−（トランス−４−ベントキシシク
ロヘキサン力ルポニルオキシ）−ベンゾイルオキシ）−
２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−　（４−（トラ
ンス−４−へキシルオキシシクロヘキサンカルボニルオ
キシ）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベン
ゾニトリル４−（４−（トランス−４−ヘプチルオキシ
シクロヘキサンカルボニルオキシ）−ベンゾイルオキシ
）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−　（４−（
トランス−４−オクチルオキシシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−ベンゾイルオキシ）　　２．３−ジフルオ
ロベンゾニトリル。

例　　３ ４−シクロヘキサンカルボニルオキシ−２，３＝ジフル
オロベンゾニトリル化合物の製造トランス−４−オクチ
ルシクロヘキサンカルボニルクロライド０．１モル（こ
の化合物はトルエン中でカルボン酸化合物とオキザリル
クロライドとから製造する）およびメチレンジクロライ
ド７５１Ｉ１１！の混合物を、２．３−ジフルオロ−４
シアノフェノール０．１モル（この化合物は例１のとお
りに製造する）、ピリジン０．１２モル、４−Ｎ、Ｎ−
ジメチルアミノピリジン１０ミリモルおよびメチレンジ
クロライド２５０　ｍｅの混合物に加える。室温で１０
時間、撹拌した後に、混合物を稀塩酸、飽和重炭酸ナト
リウム溶液および水で洗浄する。慣用の方法で仕上げ、
４−（トランス−４−オクチルシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリルを得る
。

同様にして、下記の化合物を製造する：４−（トランス
−４−エチルシクロヘキサンカルボニルオキシ）−２，
３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ブチルシクロヘキサンカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−へキシルシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−エトキシシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）　−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−プロポキシシクロヘキサンカルボ
ニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ブトキシシクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−＜１−ランス−４−ペントキシシクロヘキサンカル
ボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ヘキシルオキシシクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−へブチルオキシシクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−（トランス−４−オクチルオキシシクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル
。

原料化合物としてトランス、トランス−４−アルキルビ
シクロヘキサン−４°−カルボニルクロライドを使用し
、同様にして、下記の化合物が得られる： ４−（トランス、トランス−４−エチルビシクロへキシ
ル−４゛−カルボニルオキシ）−２３−ジフルオロベン
ゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−グロビルビシクロへキ
シル−４°−カルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロ
ベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−ブチルビシクロへキシ
ル−４゛−カルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−ペンチルビシクロへキ
シル−４゛−カルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロ
ベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−へキシルビシクロへキ
シル−４°−カルボニルオキシ）２．３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−へブチルビシクロへキ
シル−４゛−カルボニルオキシ）２．３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−オクチルビシクロへキ
シル−４°−カルボニルオキシ）−２３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−エトキシビシク・口へ
キシル−４°−カルボニルオキシ）２．３−ジフルオロ
ベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−プロポキシビシクロへ
キシル−４°−カルボニルオキシ）−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−ブトキシビシクロへキ
シル−４°−カルボニルオキシ）２．３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−ペントキシビシクロへ
キシル−４°−カルボニルオキシ）−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−へキシルオキシビシク
ロへキシル−４゛−カルボニルオキシ）＝２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−へブチルオキシビシク
ロへキシル−４°−カルボニルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−オクチルオキシビシク
ロへキシル−４゛−カルボニルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル。

原料化合物としてトランス−４−（４−アルキルフェニ
ル）−シクロヘキサンカルボニルクロライドを使用し、
同様にして、下記の化合物が得られる： ４−（トランス−４−（４−エチルフェニル）−シクロ
ヘキサンカルボニルオキシ）　−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−プロピルフェニル）−シク
ロヘキサンカルボニルオキシ）＝２．３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−ブチルフェニル）−シクロ
ヘキサンカルボニルオキシ）　−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−ペンチルフェニル）−シク
ロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−へキシルフェニル）−シク
ロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−へグチルフェニル）−シク
ロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−オクチルフェニル）−シク
ロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−エトキシフェニル）−シク
ロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−プロポキシフェニル）−シ
クロヘキサン−カルボニルオキシ）−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−ブトキシフェニル）−シク
ロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−ペントキシフェニル）−シ
クロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロ
ベンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−へキシルオキシフェニル）
−シクロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−へグチルオキシフェニル）
−シクロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−オクチルオキシフェニル）
−シクロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル。

原料化合物としてトランス−４−（２−（トランス−４
−アルキルシクロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸を使用し、同様にして、下記の化合物が得
られる二 ４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシ
クロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサンカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（２−（トランス−４−グロピル
シクロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（２−（トランス−４ブチルシク
ロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサンカルボニルオ
キシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（２−（トランス−４ペンチルシ
クロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサンカルボニル
オキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（２−（トランス−４−へキシル
シクロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（？−ランスー４−　（２−（トランス−４−ヘプ
チルシクロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサンカル
ボニルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−（２−（トランス−４−オクチル
シクロヘキシル）−エチル）−シクロヘキサンカルボニ
ルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル。

例　　４ ４−ベンジルオキシ−２，３−ジフルオロベンゾ二ｌ・
リル化合物の製造 ｐ−ペンチルベンジルクロライド０．１２モルとエタノ
ール２０Ｊ！との混合物を、２．３−ジフルオロ−４−
シアノフェノール０．１モル（この化合物は例１におけ
るように製造する）およびナトリウムエトキシド０．１
モルのエタノール６０ｍｅ中の混合物に加え、混合物を
５時間、加熱溝とうさせる。エタノールを留去した後に
、反応混合物を冷却させ、次いで５％水酸化ナトリウム
水溶１１５Ｉ）ｌ！上に注ぎ入れる。慣用の方法で仕上
げ、４−（４−ペンチルベンジルオキシ）　−２，３−
ジフルオロベンゾニトリルを得る。

同様にして、下記の化合物を製造する：４−（４−エチ
ルベンジルオキシ）　−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（４−グロビルベンジルオキシ）　　２．３ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−ブチルベンジルオキシ）　−２，３ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−（４−へキシルベンジルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−へブチルベンジルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−オクチルベンジルオキシ）　−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−エトキシベンジルオキシ）　　２．３ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−プロポキシベンジルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−ブトキシベンジルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−ペントキシベンジルオキシ）＝２．３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−へキシルオキシベンジルオキシ）−２，３−
ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−へブチルオキシベンジルオキシ）＝２，３−
ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−オクチルオキシベンジルオキシ）−２，３−
ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−エチルビフェニル−４゛−イルメトキシ）−
２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−プロピル
ビフェニル−４°−イルメトキシ）−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル４−（４−ブチルビフェニル−４゛−
イルメトキシ）−２，３−ジフルオ口ペンゾニトリル４
−（４−ペンチルビフェニル−４′−イルメトキシ）−
２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−へキシル
ビフェニル−４“−イルメトキシ）−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル４−（４−へグチルビフェニル−４°
−イルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル
４−（４−オクチルビフェニル−４°−イルメトキシ）
　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−エト
キシビフェニル−４°−イルメトキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル４−（４−プロポキシビフェニル
−４゛−イルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル４−（４−ブトキシビフェニル−４°−イルメト
キシ）−２３−ジフルオロベンゾニトリル４−（４−ペ
ントキシビフェニル−４゛−イルメトキシ）−２，３−
ジフルオロベンゾニトリル４−（４−ヘキシルオキシビ
フェニル−４゛−イルメトキシ）−２，３−ジフルオロ
ベンゾニトリル ４−（４−へブチルオキシビフェニル−４“−イルメト
キシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（４−オクチルオキシビフェニル−４°−イルメト
キシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）
−ベンジルオキシ’）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−１ランス−４−グロビルシクロヘキシル）
−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）
−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−（トランス−４−へキシルシクロヘキシル
）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−（トランス−４−へ１ナルシクロヘキシル
）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）
−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（トランス−４−エトキシシクロヘキシル
）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−（１−ランス−４−グロボキシシクロヘキ
シル）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（）ランス−４−ブトキシシクロヘキシル
）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−１ランス−４−ペントキシシクロヘキシル
）−ベンジルオキシ）−・２．３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（トランス−４−ヘキシルオキシシクロヘ
キシル）−ベンジルオキシ）　−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−　（４−１ランス−４−へブチルオキシシクロヘキ
シル）−ベンジルオキシ）　−２，３−ジフルオロベン
ゾニトリル ４−　（４−（）ランス−４−オクチルオキシシクロヘ
キシル）−ベンジルオキシ）　−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−　（４−（５−エチルジオキサン−２−イル）−ベ
ンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−プロピルジオキサン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−＜５−ブチルジオキサン−２−イル）−ベ
ンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　＜４−　（５−ペンチルジオキサン−２−イル）
−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　＜４−　（５−へキシルジオキサン−２−イル）
−ベンジルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−（５−へ１チルジオキサン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−オクチルジオキサン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−エトキシジオキサン−２イル）−ベ
ンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−ブトキシジオキサン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−ペントキシジオキサン−２−イル）
−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−へキシルオキシジオキサン−２−イ
ル）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　＜４−　（５−へブチルオキシジオキサン−２−
イル）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（５−才クチルオキシジオキサン−２−イ
ル）−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　＜４−　（５−エチルピリミジン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−プロピルピリミジン−２−イル）−
ベンジルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−ブチルピリミジン−２−イル）−ベ
ンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−ペンチルピリミジン−２−イル）−
ベンジルオキシ’Ｉ−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−へキシルピリミジン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−へ１チルピリミジン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　＜４−　（５−オクチルピリミジン−２イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−エトキシピリミジン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−１０ボキシピリミジン−２−イル）
−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−ブトキシピリミジン−２−イル）−
ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（５−ペントキシピリミジン−２−イル）
−ベンジルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（４−（５−へキシルオキシピリミジン−２−イ
ル）−ベンジルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（５−へブチルオキシピリミジン−２−イ
ル）−ベンジルオキシ）　　２．３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−　（４−（５−オクチルオキシピリミジン−２−イ
ル）−ベンジルオキシ）−２，３〜ジフルオロベンゾニ
トリル。

例　　５ ４−（シクロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロ
ベンゾニトリル化合物の製造 １−（トランス−４−ペンチルシクロへキシル−１−メ
トキシ）−２，３−ジフルオロベンゼン０．１モル（こ
の化合部は例４と同様にして、２３−ジフルオロフェノ
ールおよびトランス−４−ペンチルシクロヘキシルメチ
ルヨーダイトから製造する）をテトラヒドロフラン／テ
トラメチルエチレンジアミン中のローブチルリチウムを
用いて脱１０トン化し、次いでＮ−ホルミルピペリジン
によりホルミル化する。このホルミル化合物を例１　　
ｂ）同様に、ヒドロキシルアミン−〇−スルホン酸と反
応させる。慣用の方法で仕上げ、４−（トランス−４−
ペンチルシクロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリルを得る。

同様にして、下記の化合物が得られる：４−（トランス
−４−エチルシクロへキシルメトキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル４−（トランス−４−プロピルシ
クロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス−４−ブチルシクロへキシルメトキシ）
−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（トランス−
４−ヘキシルシクロへキシルメトキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−へ１チルシクロへキシルメトキシ
）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシルメトキシ
）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−エトキシシクロへキシルメトキシ
）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−プロポキシシクロへキシルメトキ
シ）　　２．３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ブトキシシクロへキシルメトキシ
）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ペントキシシクロへキシルメトキ
シ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ヘキシルオキシシクロへキシルメ
トキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−ヘプチルオキシシクロへキシルメ
トキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス−４−オクチルオキシシクロへキシルメ
トキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−エチルビシクロへキシ
ル−４°−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス、トランス−４−プロピルビシクロへキ
シル−４°−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス、トランス−４−ブチルビシクロへキシ
ル−４゛−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス、トランス−４−ペンチルビシクロへキ
シル−４°−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス、トランス−４−へキシルビシクロへキ
シル−４゛−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス、トランス−４−へブチルビシクロへキ
シル−４°−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス、トランス−４−オクチルビシクロへキ
シル−４°−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス、トランス−４−エトキシビシクロへキ
シル−４°−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス、トランス−４−１０ポキシビシクロへ
キシル−４゛−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−（トランス、トランス−４−ブトキシビシクロへキ
シル−４゛−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス、トランス−４−ペントキシビシクロへ
キシル−４゛−メトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル ４−（トランス、トランス−４−ヘキシルオキシビシク
ロへキシル−４゛−メトキシ）　　２．３＝ジフルオロ
ベンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−ヘプチルオキシシクロ
へキシル−４°−メトキシ）　−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス、トランス−４−オクチルオキシビシク
ロへキシル−４°−メトキシ）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−（４−エチルフェニル）−シクロ
へキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−（トランス−４−（４−プロピルフェニル）−シク
ロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−４−（４−ブチルフェニル）−シクロ
へキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−（トランス−４−（４−ペンチルフェニル）−シク
ロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−４−（４−へキシルフェニル）−シク
ロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−４−（４−へブチルフェニル）−シク
ロへキシルメトキシ）　−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス−４−（４−オクチルフェニル）−シク
ロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−４−（４−エトキシフェニル）−シク
ロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−４−（４−プロポキシフェニル）−シ
クロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−（トランス−４−（４−ブトキシフェニル）−シク
ロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−４−（４−ペントキシフェニル）−シ
クロへキシルメトキシ）−２３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−４−（４−へキシルオキシフェニル）
−シクロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベン
ゾニトリル ４−（トランス−４−（４−へブチルオキシフェニル）
−シクロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロペン
ゾニトリル ４−（トランス−４−（４−オクチルオキシフェニル）
−シクロへキシルメトキシ）−２，３−ジフルオロベン
ゾニトリル。

例　　Ａ ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−ベン
ゾニトリル　２１．６％ ４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−ベン
ゾニトリル　３２゜４％ ４−（トランス−４−へ１チルシクロヘキシル）−ベン
ゾニトリル　２２．５％ ４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４゛
−シアノビフェニル　１３．５％及び ４−＜４−１ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−
ベンゾイルオキシ−２，３−ジフルオロベンゾニトリル
　１０％ よりなる液晶メジウム。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I ［式中、Ｒ＾１は、Ｃ原子１〜１２個を有するアルキル
   基であり、この基中に存在する１個または２個のＣＨ＿
   ２基は、２個のＯ原子が相互に直接に結合しないものと
   して、−Ｏ−、−ＣＯ−−ＣＯ−Ｏ−および（または）
   −ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられていてもよく、 Ａ＾１およびＡ＾２は、相互に独立して、それぞれ１，
   ４−フェニレン基であり、この基は非置換であるか、ま
   たは置換基として１個または２個のＦ原子を有し、そし
   てこの基中に存在する１個または２個のＣＨ基はまた、
   Ｎにより置き換えられていてもよく、あるいはＡ＾１お
   よびＡ＾２は、それぞれトランス−１，４−シクロヘキ
   シレン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ＿２基
   または隣接していない２個のＣＨ＿２基はＯ原子および
   （または）Ｓ原子により置き換えられていてもよく、 Ｚは、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ＿２ＣＨ＿
   ２−、−ＯＣＨ＿２−、−ＣＨ＿２Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−ま
   たは単結合であり、ｍは、０、１または２であり、そし
   て Ｑは、−ＣＯ−または−ＣＨ＿２−である］で示される
   ４−シアノ−２，３−ジフルオロフェニルの誘導体。
2. （２）式 I で示される化合物を成分として含有する液
   晶メジウム。
3. （３）少なくとも二種の液晶成分を含有する液晶メジウ
   ムであつて、少なくとも一種の成分が構造要素として、
   ２，３−ジフルオロ−４−シアノフェノキシ基を有する
   ことを特徴とする液晶メジウム。
4. （４）少なくとも一種の成分が、式 I で示される化合
   物であることを特徴とする請求項３に記載の液晶メジウ
   ム。
5. （５）請求項３または４に記載の液晶メジウムを含有す
   ることを特徴とする液晶表示素子。
6. （６）請求項３または４に記載の液晶メジウムを、誘電
   体として含有することを特徴とする請求項５に記載の電
   気光学表示素子。