JP2811342B2 - ジフルオロベンゼン誘導体 - Google Patents
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Description
るものである。
またはR−A1−A2−Zであり、 Rは、1〜15個のC原子を有するアルキルまたは3〜
15個のC原子を有するアルケニルであり、これらの基の
それぞれは、置換されていないかまたは1個のシアノに
より置換されているかまたは少なくとも1個のフッ素ま
たは塩素により置換されておりそしてまたこれらの基中
の1個のCH2基は−O−、−CO−、−O−CO−、−CO−
O−または−O−CO−O−により置き換えられていても
よく、 A1およびA2は、相互に独立して、それぞれ、トランス
−1,4−シクロヘキシレン(この基中に存在する1個のC
H2基または2個の隣接していないCH2基は、また、−O
−により置き換えられていてもよい)、または1,4−フ
エニレン(この基は、置換されていないかまたは1個ま
たは2個のフツ素により置換されておりそしてこの基中
に存在する1個または2個のCH基は、Nにより置き換え
られていてもよい)であり、そして2個の基A1およびA2
のうちの1個は、単一結合であってもよく、 Zは、−CO−O−、−O−CO−、−CH2O−、−OCH
2−、−CH2CH2−または単一結合であり、そして mは、0または2である。
シクロヘキシレン基であり、Pheは1,4−フエニレン基で
あり、Pydはピリジン−2,5−ジイル基であり、Pyrはピ
リミジン−2,5−ジイル基でありそしてPynはピラジン−
2,5−ジイル基でありそしてこれらの基は、置換されて
いないかまたは1個または2個のフツ素により置換され
ている。好ましくは、これらの基は、置換されていな
い。
原則、ゲスト−ホスト効果、整列相の変形の効果または
動的散乱の効果にもとづく表示体用の液晶相の成分とし
て使用することができる。
有する点できわ立っており、式Iで示される化合物は、
電場において、それらの分子の長軸がこの場に対して垂
直に整列される。この効果は知られており、種々の液晶
表示体、たとえば、光散乱タイプ(動的散乱)の液晶セ
ル、またはいわゆるDAPタイプ(整列相の変形)の液晶
セル、またはECBタイプ(電気的に制御された複屈折)
の液晶セル、またはゲスト−ホスト相互作用タイプの液
晶セルにおいて、光学的透明性の制御に使用されてい
る。
ルトされたスメクテイツク相の成分として適している。
強誘電性物性を有するカイラルにチルトされたスメクテ
イツク液晶相は一種または二種以上のチルトされたスメ
クテイツク相を有する基材混合物に適当なカイラルドー
ピング物質を添加することにより調製することができる
〔L.A.Veresnev等によるMol.Cryst.Liq.Cryst.89,327頁
(1982);およびH.R.Brand等によるJ.Physique.44(Le
tt.),L−771(1983)〕。このような相はClarkおよびL
agerwallにより開示されたSSFLCテクノロジイの原則
〔N.A.ClarkおよびS.T.LagerwallによるAppl.Phys.Let
t.36、899頁(1980年);および米国特許4,367,924〕に
もとづいて、カイラルにチルトされた相の強誘電性物性
にもとづき、迅速−スイツチング性表示体用の誘電体と
して使用することができる。
合物がすでに合成されている。これに対して、誘電率の
大きい負の異方性を有する液晶化合物は依然として比較
的少ししか知られていない。さらに、このような誘電率
の大きい負の異方性を有する化合物は一般に、例えば混
合物中における貧弱な溶解性、高い粘度、高い融点、お
よび化学的不安定性などの欠点を有する。従って、負の
誘電異方性を有し、大部分の種々の電気光学用途のため
の混合物の物性をさらに改良することができる別種の化
合物が求められている。
共有結合により結合している2個または3個の環および
1個または2個以上の側鎖基、たとえばハロゲン、シア
ノまたはニトロ基を有する液晶化合物は西ドイツ国特許
2,240,864、同2,613,293、同2,835,662および同2,836,0
86、ならびにヨーロツパ特許023,728から知られてい
る。
物は広範な式中に包含されている。しかしながら、この
ヨーロツパ特許には、本発明による式で示されている個
々の化合物はいずれも記載されていない。従って、この
従来技術から、当業者は本発明の化合物を合成する可能
性を簡易に見出すことはできなかったものであり、ある
いはまた、本発明による化合物が好ましい位置にあるメ
ソフエース範囲を顕著に有し、しかも低い粘度と同時
に、あわせて大きい負の誘電異方性を有する点できわ立
っていることを認識することもできなかったものであ
る。
物が低いスメクテイツク傾向を有することから、本発明
による化合物をSSFLCテクノロジイにもとづく表示体に
おいて使用できることを示唆する記述は、何ら示されて
いない。
化合物も知られている。〔たとえば、Bristol et al,J.
Org.Chem.39、3138頁(1974年)、またはClanderman et
al,J.Am.Chem.Sco.97、1585頁(1975年)〕。しかしな
がら、これらの化合物は単変性であるか、あるいは非常
に狭いメソフエース範囲を有するのみのものである。Ei
denschink et al,Angew.Chem.89、103頁(1977年)に記
載されている4−ヒドロキシ−2,3−ジクロロ安息香酸
のエステル化合物もまた、狭いメソフエース範囲を有す
るのみのものである。
ている、4−アルキル−2,3−ジクロロフエニル4′−
アルキルビシクロヘキシル−4−カルボキシレート化合
物は、それらの高い粘度のために、工業的に使用するこ
とはできない。
低い粘度を有する安定な液晶化合物またはメソーゲン性
化合物を提供することにある。
に適することが見い出された。特に、これらの化合物を
用いることによって、広いメソフエース範囲および比較
的低い粘度を有する安定な液晶相を調製することができ
る。
たスメクテイツク液晶相の成分としても適している。
よつて、種々の適用の観点から、液晶組成物の調製に適
する液晶物質の範囲が極めて一般的に相当に拡大され
る。
らの化合物は、置換基を選択することによって、液晶相
を主として構成する基材として使用することができる
が、式Iで示される化合物はまた、他の群の化合物から
の液晶基材に添加して、たとえば誘電異方性および(ま
たは)光学異方性および(または)粘度および(また
は)自発分極および(または)相範囲および(または)
チルト角および(または)そのような誘電フイルターの
ピツチを変えることができる。
て使用することができる他の物質を製造するための中間
体としても適している。
り、電気光学用途に対して好ましく位置する温度範囲で
液晶メソフエースを形成する。これらの化合物は、化学
的に、熱的にまた、光の作用に対して非常に安定であ
る。
であり、そしてまた、本発明は式Iで示される化合物の
製造方法に関するものであり、この方法は相当するカル
ボン酸化合物またはその反応性誘導体を相当するヒドロ
キシ化合物またはその反応性誘導体と反応させることを
特徴とする方法である。
として使用することに関する。さらに、本発明は式Iで
示される化合物の少なくとも一種を含有する液晶相およ
びこのような相を含有する液晶表示素子に関する。この
ような相は特に有利な弾性定数を有し、そしてそれらの
低いΔε/ε⊥値によって、TFT混合物に特に適してい
る。
A1、A2、R、Zおよびmは、別に明確に説明しない限り
は、前述した意義を有す。
よびI b(2個の環を有す)部分式I c〜I f(3個の環
を有す)および部分式I g〜I m(4個の環を有す)を包
含する。
特に好ましい。
は、相互に独立して、それぞれ好ましくはアルキルまた
はアルコキシである。
ばアルコキシメチル)である前述した式または後述する
式の化合物も、また好ましい。
フエニレン、Cyc、PydまたはPyrである。好ましくは、
式Iの化合物は、それぞれの場合において、1個より多
い基Pyd、Pyn、Pyrまたは2,3−ジフルオロ−1,4−フエ
ニレンを含有していない。
しくは2〜12個のC原子、特に3〜10個のC原子を有
す。R中において、1個または2個のCH2基は、また、
置き換えられていてもよい。好ましくは、1個のCH2の
みが、−O−または−CH=CH−により置き換えられてい
る。
しくは、アルキル基,アルコキシ基または他のオキサア
ルキル基そしてまたアルキル基(この基中に存在する1
個または2個のCH2基は−CH=CH−により置き換えられ
ていてもよい)である。
はO原子によって置き換えられていてもよく(例、アル
コキシまたはオキサアルキル)または2個の隣接してい
ないCH2基はO原子によって置換されていてもよい
(例、アルコキシアルコキシまたはジオキサアルキ
ル)〕である場合は、これらは直鎖状または有枝鎖状で
ある。好ましくは、アルキル基は、直鎖状であり、2、
3、4、5、6または7個のC原子を有しそして従っ
て、好ましくは、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ペントキシ、ヘキソキシまたはヘプトキシ、そし
てまた、メチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、メトキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシル
オキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシ
ルオキシまたはテトラデシルオキシである。
ロピル(=メトキシメチル)、2−(=エトキシメチ
ル)または3−オキサブチル(=2−メトキシエチ
ル)、2−、3−または4−オキサペンチル、2−、3
−、4−または5−オキサヘキシル、2−、3−、4
−、5−または6−オキサヘプチル、2−、3−、4
−、5−、6−または7−オキサオクチル、2−、3
−、4−、5−、6−、7−または8−オキサノニル、
2−、3−、4−、5−、6−、7−、8−または9−
オキサデシル、1,3−ジオキサブチル(=メトキシメト
キシ)、1,3−、1,4−、2,4−ジオキサペンチル、1,3
−、1,4−、1,5−、2,4−、2,5−または3,5−ジオキサ
ヘキシル、1,3−、1,4−、1,5−、1,6−、2,4−、2,5
−、2,6−,3,5−、3,6−または4,6−ジオキサヘプチル
である。
2基が−CH=CH−により置き換えられている場合は、ト
ランス−形態が好ましい。このアルケニル基は、直鎖状
または有枝鎖状である。好ましくは、それは直鎖状であ
り、そして、2〜10個のC原子を有している。従って、
それは、特にビニル、プロプ−1−エニルまたはプロプ
−2−エニル、ブト−1−エニル、ブト−2−エニルま
たはブト−3−エニル、ペント−1−エニル、ペント−
2−エニル、ペント−3−エニルまたはペント−4−エ
ニル、ヘキス−1−エニル、ヘキス−2−エニル、ヘキ
ス−3−エニル、ヘキス−4−エニルまたはヘキス−5
−エニル、ヘプト−1−エニル、ヘプト−2−エニル、
ヘプト−3−エニル、ヘプト−4−エニル、ヘプト−5
−エニルまたはヘプト−6−エニル、オクト1−エニ
ル、オクト−2−エニル、オクト−3−エニル、オクト
−4−エニル、オクト−5−エニル、オクト−6−エニ
ルまたはオクト−7−エニル、ノン−1−エニル、ノン
−2−エニル、ノン−3−エニル、ノン−4−エニル、
ノン−5−エニル、ノン−6−エニル、ノン−7−エニ
ルまたはノン−8−エニル、デク−1−エニル、デク−
2−エニル、デク−3−エニル、デク−4−エニル、デ
ク−5−エニル、デク−6−エニル、デク−7−エニ
ル、デク−8−エニルまたはデク−9−エニルである。
基材物質中における高度の溶解性のために、重要である
ことが多くそして特に、これらの化合物が光学的に活性
である場合は、カイラルドーピング物質として重要であ
る。この型のスメクテイツク化合物は、強誘電性物質に
対する成分として適している。
ない鎖枝分れを含有している。好ましい有枝鎖状の基R
は、イソプロピル、2−ブチル(=1−メチルプロピ
ル)、イソブチル(=2−メチルプロピル)、2−メチ
ルブチル、イソペンチル(=3−メチルブチル)、2−
メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−エチルヘキ
シル、2−プロピルペンチル、イソプロポキシ、2−メ
チルプロポキシ、2−メチルブトキシ、3−メチルブト
キシ、2−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、
2−エチルヘキソキシ、1−メチルヘキソキシ、1−メ
チルヘプトキシ、2−オキサ−3−メチルブチル、3−
オキサ−4−メチルペンチル、4−メチルヘキシル、2
−ノニル、2−デシル、2−ドデシルおよび6−メチル
オクトキシである。
体を包含し、ならびに、それらの混合物をも包含する。
されている基の少なくとも1個が前述した好ましい意義
の1つを有する化合物が好ましい。
en der Organischen Chmie(Methods of organic chemi
stry),Georg−Thieme−Verlag,Stuttgartの標準学術
書〕に記載されているようなそれ自体既知の方法によっ
て、そして、特に、上記反応に対して既知でありそして
適当した反応条件下で製造される。本明細書には詳細に
説明していないけれどもそれ自体既知である変形法もま
た使用することができる。
物から単離しないでそしてさらに直ちに反応させて式I
の化合物を変換させるような方法で、反応系内で形成さ
せることもできる。
して得ることできる。後者の化合物を、既知方法〔例え
ば、A.M.Roe等:J.Chem.Soc.Chem.Comm.22,582(196
5)〕により金属化し、そして、適当な求電子試薬と反
応させる。このようにして得られた1−置換2,3−ジフ
ルオロベンゼンを使用して、この反応の手順を、適当な
求電子試薬を使用して、再度実施して1,4−ジ置換2,3−
ジフルオロベンゼンを得、必要に応じ、この化合物を更
に他の反応工程により最終生成物に変換することができ
る。もし適当である場合はテトラメチルエチレンジアミ
ン(TMEDA)またはヘキサメチルホスホトリアミドのよ
うな複合剤(complexing agent)を添加して、不活性溶
剤例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタン、第3級ブチルメチルエーテルまたはジオ
キサンまたは炭化水素例えばヘキサン、ヘプタン、シク
ロヘキサン、ベンゼンまたはトルエンまたはこれらの溶
剤の混合物中で1,2−ジフルオロベンゼンまたは1−置
換2,3−ジフルオロベンゼンを、−100℃〜+50℃、好ま
しくは−78℃−0℃の温度で、フエニルリチウム、リチ
ウムテトラメチルピペリジン、n−、第2級−または第
3級ブチルリチウムと反応させる。
0℃、好適には−50℃以下で相当する求電子試薬と反応
させる。適当な求電子試薬は、アルデヒド、ケトン、ニ
トリル、エポキシド、カルボン酸誘導体例えばエステ
ル、無水物またはハライド、ハロゲノホルメートまたは
二酸化炭素である。
ては、リチウム2,3−ジフルオロフエニル化合物を、遷
移金属接触作用下で金属交換しそして結合させる。亜鉛
2,3−ジフルオロフエニル化合物(西独公開特許第3,63
2,410号参照)またはチタン2,3−ジフルオロフエニル化
合物(西独公開特許第3,736,489号参照)がこの目的に
対して特に適している。
りに1個またはそれより多くの還元できる基および(ま
たは)C−C結合を含有し、それ以外は式Iに相当する
化合物を、還元することにより製造することができる。
そしてまた、例えば遊離のまたはエステル化されたヒド
ロキシル基または芳香族に結合したハロゲン原子であ
る。還元に適した好ましい出発物質は、シクロヘキサン
環の代りにシクロヘキセン環またはシクロヘキサノン環
および(または)−CH2CH2−基の代りに−CH=CH−基お
よび(または)−CH2−基の代りに−CO−基および(ま
たは)H原子の代りに遊離のまたは官能性に変えられた
OH基(例えばそのp−トルエンスルホネートの形態の
基)を含有し、それ以外は、式Iに相当するものであ
る。
ノールまたはイソプロパノールのようなアルコール、テ
トラヒドロフラン(THF)またはジオキサンのようなエ
ーテル、酢酸エチルのようなエステル、酢酸のようなカ
ルボン酸またはシクロヘキサンのような炭化水素中にお
いて、0゜〜約200゜の間の温度および約1〜200バール
の間の圧力下で、接触水素添加することにより行うこと
ができる。適当な触媒は、好ましくは、酸化物の形態
(例えばPtO2、PdO)、支持体上の形態(例えばPd付炭
素、Pd付炭酸カルシウムまたはPd付炭酸ストロンチウ
ム)または微細に分散された形態で使用することのでき
るPtまたPdのような希金属である。
の間の温度で、好ましくは水性アルコール溶液中または
水/トルエンの不均質相中で亜鉛、アマルガム化亜鉛ま
たは錫および塩酸を使用する〕またはCagliottiの方法
〔トシルヒドラゾンを硼水素化ナトリウム、シアノ硼水
素化ナトリウムまたはカテコール−ボランと反応させる
ことによる(Org.Synth.52,122(1972)〕によって、ア
ルキル基および(または)−CH2CH2−架橋を含有する式
Iの相当する化合物に還元することができる。
例えば、アリールスルホニルオキシ基は、LiAlH4によっ
て還元的に除去することができそして特に、p−トルエ
ンスルホニルメチル基は、好ましくは約0〜100゜の間
の温度でジエチルエーテルまたはTHFのような不活性溶
剤中でメチル基に還元することができる。
(またはその反応性誘導体)による相当するカルボン酸
(またはその反応性誘導体)のエステル化によって得る
ことができる。
イドとりわけクロライドおよびブロマイド、そしてま
た、例えば混合酸無水物を包含する無水物、アジドまた
はエステル特にアルキル基中に1〜4個のC原子を有す
るアルキルエステルである。
誘導体は、相当する金属のアルコレートまたはフエネー
ト、好ましくは、NaまたはKのようなアルカリ金属のア
ルコレートまたはフエネートである。
て行われる。特に、エーテル例えばジエチルエーテル、
ジ−n−ブチルエーテル、THF、ジオキサンまたはアニ
ソール、ケトン例えばアセトン、ブタノンまたはシクロ
ヘキサノン、アミド例えばDMFまたは燐酸ヘキサメチル
トリアミド、炭化水素例えばベンゼン、トルエンまたは
キシレン、ハロゲン化炭化水素例えば四塩化炭素または
テトラクロロエチレン、およびスルホキシド例えばジメ
チルスルホキシドまたはスルホランが、非常に適してい
る。同時に、エステル化中に形成した水を共沸的に溜去
するために、水−不混和性溶剤を有利に使用することが
できる。時々、過剰の有機塩基例えばピリジン、キノリ
ンまたはトリエチルアミンを、エステル化に対して使用
することもできる。エステル化は、また、溶剤の不存在
において、例えば、単に成分を酢酸ナトリウムの存在下
で加熱することにより実施することができる。反応温度
は、通常、−50゜〜+250゜の間、好ましくは−20゜〜
+80゜の間である。これらの温度において、エステル化
反応は、一般に15分〜48時間後に完了する。
れる出発物質の性質に依存する。すなわち、遊離カルボ
ン酸は、一般に強酸例えば塩酸または硫酸のような鉱酸
の存在下で、遊離のアルコールまたはフエノールと反応
させる。好ましい操作は、好ましくは塩基性媒質中にお
ける酸無水物または特に酸クロライドとアルコールとの
反応である。重要な塩基は、特に、アルカリ金属の水酸
化物例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム、ア
ルカリ金属の炭酸塩または重炭酸塩例えば炭酸ナトリウ
ム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまた重炭酸カリウ
ム、アルカリ金属の酢酸塩例えば酢酸ナトリウムまたは
酢酸カリウム、アルカリ土類金属の水酸化物例えば水酸
化カルシウムまたは有機塩基例えばトリエチルアミン、
ピリジン、ルチジン、コリジンまたはキノリンである。
更に他の好ましいエステル化を行うには、はじめに、ア
ルコールまたはフエノールを例えばエタノール性水酸化
ナトリウムまたは水酸化カリウムによる処理によりナト
リウムまたはカリウムのアルコレートまたはフエネート
に変換し、このアルコレートまたはフエネートを単離
し、そして、重炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムと一
緒に、撹拌しながら、アセトンまたはジエチルエーテル
中に懸濁し、次に、ジエチルエーテル、アセトンまたは
DMF中の酸クロライドまたは酸無水物の溶液を、この懸
濁液に好ましくは約−25゜〜+20゜の間の温度で加え
る。
ましくは相当するフエノールのエーテル化によって得る
ことができる。好ましくは、ヒドロキシ化合物を、はじ
めに、相当する金属誘導体に、例えばNaH、NaNH2、NaO
H、KOH、Na2CO3またはK2CO3による処理により相当する
アルカリ金属のアルコレートまたはアルカリ金属のフエ
ネートに変換する。次に、これらの化合物を、約20゜〜
100゜の間の温度で好ましくは、アセトン、1,2−ジメト
キシエタン、DMFまたはジメチルスルホキシドのような
不活性溶剤中または過剰の水性または水性のアルコール
性NaOHまたはKOH中で相当するハロゲン化アルキル、ス
ルホン酸アルキルまたは硫酸ジアルキルと反応させるこ
とができる。
それより多くの本発明の化合物のほかに、更に他の構成
成分として2〜40種、特に4〜30種の成分を含有する。
非常に特に好ましくは、これらの液晶組成物は、1種ま
たはそれより多くの本発明の化合物のほかに、7〜25種
の成分を含有する。これらの成分は、好ましくは、ネマ
テイツクまたはネマテイツク誘発性(単変性または等方
性)物質、特にアゾキシベンゼン、ベンジリデンアニリ
ン、ビフエニル、ターフエニル、フエニルまたはシクロ
ヘキシルベンゾエート、フエニルまたはシクロヘキシル
シクロヘキサンカルボキシレート、フエニルまたはシク
ロヘキシルシクロヘキシルベンゾエート、フエニルまた
はシクロヘキシルシクロヘキシルシクロヘキサンカルボ
キシレート、シクロヘキシルフエニルベンゾエート、シ
クロヘキシルフエニルシクロヘキサンカルボキシレート
またはシクロヘキシルフエニルシクロヘキシルシクロヘ
キサンカルボキシレート、フエニルシクロヘキサン、シ
クロヘキシルビフエニル、フエニルシクロヘキシルシク
ロヘキサン、シクロヘキシルシクロヘキサン、シクロヘ
キシルシクロヘキセン、シクロヘキシルシクロヘキシル
シクロヘキセン、1,4−ビス−シクロヘキシルベンゼ
ン、4,4′−ビス−シクロヘキシルビフエニル、フエニ
ル−またはシクロヘキシル−ピリミジン、フエニル−ま
たはシクロヘキシルピリジン、フエニル−またはシクロ
ヘキシル−ジオキサン、フエニル−またはシクロヘキシ
ル−1,3−ジチアン、1,2−ジフエニルエタン、1,2−ジ
シクロヘキシルエタン、1−フエニル−2−シクロヘキ
シルエタン、1−シクロヘキシル−2−(4−フエニル
シクロヘキシル)−エタン、1−シクロヘキシル−2−
ビフエニルエタン、1−フエニル−2−シクロヘキシル
フエニルエタン、場合によってはハロゲン化されたスチ
ルベン、ベンジルフエニルエーテル、トランおよび置換
された桂皮酸のクラスからの物質から選択される。これ
らの化合物中の1,4−フエニレン基は、また、フル素化
されていてもよい。
ることのできるもっとも重要な化合物は、式1、2、
3、4および5によって特徴づけることができる。
びEは、同一または異なつて相互に独立して、それぞれ
−Phe−、−Cyc−、−Phe−Phe−、−Phe−Cyc−、−Cy
c−Cyc−、−Pyr−、−Dio−、−G−Phe−および−G
−Cyc−およびその鏡像体〔式中、Pheは置換されていな
いかまたはフツ素−置換されている1,4−フエニレンで
あり、Cycはトランス−1,4−シクロヘキシレンまたは1,
4−シクロヘキセニレンであり、Pyrはピリミジン−2,5
−ジイルまたはピリジン−2,5−ジイルでありそしてDio
は1,3−ジオキサン−2,5−ジイルでありそしてGは2−
(トランス−1,4−シクロヘキシル)−エチル、ピリミ
ジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイルまたは1,3
−ジオキサン−2,5−ジイルである〕からなる群からの
2価の差である。
Pyrである。Eは、好ましくはCyc、PheまたはPhe−Cyc
である。
3、4および5〔式中、LおよびEは、Cyc、Pheおよび
Pyrからなる群から選択されたものである〕の化合物か
ら選択された1種またはそれより多くの成分および同時
に式1、2、3、4および5〔式中、基LおよびEの一
方はCyc、PheおよびPyrからなる群から選択されたもの
でありそして他の基は−Phe−Phe−、−Phe−Cyc−、−
Cyc−Cyc−、−G−Phe−および−G−Cyc−からなる群
から選択されたものである〕の化合物から選択された1
種またはそれより多くの成分およびもし適当である場合
は式1、2、3、4および5〔式中、基LおよびEは−
Phc−Cyc−、−Cyc−Cyc−、−G−Phe−および−G−C
ye−からなる群から選択されたものである〕の化合物か
ら選択された1種またはそれより多くの成分を含有す
る。
およびR″は、相互に独立して、それぞれ8個までの炭
素原子を有するアルキル、アルケニル、アルコキシ、ア
ルケニルオキシまたはアルカノイルオキシである。これ
らの化合物の大部分において、R′およびR″は、異な
っており、これらの基の1個は、大部分の場合におい
て、アルキルまたはアルケニルである。部分式1b、2b、
3b、4bおよび5bの化合物においては、R″は−CN、−CF
3、F、Cl、または−NCSである。この場合においては、
Rは部分式1a〜5aの化合物に対して示した意義を有し、
そして、好ましくはアルキルまたはアルケニルである。
しかしながら、式1、2、3、4および5の化合物にお
ける考えられる置換分の他の置換分も、また通常のもの
である。このような物質の多くは、あるいはその混合物
さえも、商業的に入手できる。これらの物質は、すべ
て、文献から知られている方法またはそれに類似した方
法によって得ることができる。
らの成分のほかに、本発明による液晶組成物は、好まし
くはまた、化合物1b、2b、3b、4bおよび5bの群(グルー
プ2)からの成分を含有する。これらの成分の割合は、
好ましくは、次の通りである。
体の割合は、100%までである。
に好ましくは5〜30%の本発明の化合物を含有する。ま
た、40%以上、特に45〜90%の本発明の化合物を含有す
る液晶組成物も、また好ましい。液晶組成物は、好まし
くは、3、4または5種の本発明の化合物を含有する。
造される。一般に、成分を、好ましくは上昇した温度で
相互に溶解させる。適当な添加剤によって、本発明によ
る液晶組成物は、これらの液晶組成物をこれまで開示さ
れたすべての型の液晶表示素子に使用することができる
ように、変性することができる。このような添加剤は、
当該技術に精通せし者に知られておりそして広く文献
〔H.Kelker/R.Hatz:Handbook of Liquid Crystals,Verl
ag Chemie,Weinheim,1980〕に記載されている。例え
ば、着色したゲスト−ホスト系を製造するために多色染
料を添加することができ、またはネマテイツク相の誘導
異方性、粘度および(または)配向を変化する物質を添
加することができる。
するためのものであり、そして本発明を限定するための
ものではない。m.p.=融点、c.p.=透明点を示す。前述
および後述中の%は、重量%を意味しそして温度はすべ
て℃で示す。“常用の方法による処理”とは次の操作を
意味する。
し、有機相を乾燥し次に蒸発し、そして生成物を結晶化
および(または)クロマトグラフイーにより精製する。
スメクテイツク相(インデツクスは相タイプの違いを示
す)、N:ネマテイツク状態、Ch:コレステリツク相、I:
等方性相。2種の記号間の数字は、変換温度(℃)を示
す。
4−(4−トランス−プロピル−シクロヘキシルエチ
ル)−シクロヘクス−1−エン〔製造:n−ヘキサン中の
ブチルリチウム(BuLi)の1.6N溶液131mlを、湿気を排
除しそして窒素雰囲気下において、−70℃でエトキシ−
2,3−ジフルオロベンゼン31.6gおよびテトラメチルエチ
レンジアミン(TMEDA)23.2gおよびテトラヒドロフラン
(THF)400mlの溶液に滴加する。次に、混合物を−70℃
で4時間撹拌しそして次にTHF100ml中の4−(トランス
−4−n−プロピルシクロヘキシルエチル)−シクロヘ
キサノン50gを徐々に加える。得られた反応混合物を徐
徐に室温に加温しそしてそれから飽和塩化アンモニウム
溶液1.5で加水分解する。混合物を、エーテルで抽出
しそしてエーテル相を水で数回洗滌し、乾燥しそして蒸
発する。残留物をエタノール700mlにとり、濃HCl 70ml
を加えそして混合物を3時間還流下で沸騰させる。次
に、水1.5を加えそして混合物をメチル第3級ブチル
エーテル(MTBエーテル)で抽出する。エーテル相を中
性になるまで洗滌し、乾燥しそして蒸発し次に残留物を
再結晶する〕39gを、THF 250mlに溶解しそして5%Pd−
C 4gの存在下において34℃で0.5バールの水素圧下で水
素添加する。それから、混合物を過し、溶液を蒸発し
そしてトランス−4−(トランス−4−n−プロピルシ
クロヘキシルエチル)−(4−エトキシ−2,3−ジフル
オロフエニル)−シクロヘキサンを、クロマトグラフイ
ーおよび結晶化によって単離する。
(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シクロ
ヘキサン トランス−4−(4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シクロ
ヘキサン トランス−4−(4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シク
ロヘキサン トランス−4−(4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シク
ロヘキサン トランス−4−(4−エチルシクロヘキシルエチル)−
(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シク
ロヘキサン トランス−4−(4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シ
クロヘキサン トランス−4−(4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シク
ロヘキサン トランス−4−(4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シ
クロヘキサン トランス−4−(4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シ
クロヘキサン トランス−4−(4−エチルシクロヘキシルエチル)−
(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シクロ
ヘキサン トランス−4−(4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シク
ロヘキサン トランス−4−(4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シクロ
ヘキサン トランス−4−(4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シク
ロヘキサン トランス−4−(4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−シク
ロヘキサン トランス−4−(4−エチルシクロヘキシルエチル)−
(4−ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−
シクロヘキサン トランス−4−(4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−(4−ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)
−シクロヘキサン トランス−4−(4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
(4−ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−
シクロヘキサン トランス−4−(4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−(4−ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)
−シクロヘキサン トランス−4−(4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−(4−ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)
−シクロヘキサン トランス−4−(4−エチルシクロヘキシルエチル)−
(4−ヘプチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−
シクロヘキサン トランス−4−(4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−(4−ヘプチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)
−シクロヘキサン トランス−4−(4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
(4−ヘプチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−
シクロヘキサン トランス−4−(4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−(4−ヘプチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)
−シクロヘキサン トランス−4−(4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−(4−ヘプチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル)
−シクロヘキサン 実施例 2 THF 70ml中の1,2−ジフルオロ−3−(トランス−4
−n−プロピルシクロヘキシルメトキシ)−ベンゼン3
7.5gの溶液、ヘキサン中のブチルリチウム(BuLi)の1.
6N溶液68.5mlそして次にTHF 70ml中のトランス−4−
(トランス−4−n−プロピルシクロヘキシル)−シク
ロヘキシルエチルアイオダイド39.8gおよび1,3−ジメチ
ル−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン(DMPU)20
gの溶液を、順次に撹拌しながら、−90℃のTHF 80ml中
のカリウム第3級ブチレート(t−BuOK)12.3gの溶液
に加える。添加終了後に、撹拌することが困難である懸
濁液を徐々に−40℃に加温し、水を加えそして混合物を
常法により処理する。これによって、トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシメチル4−(トランス−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル
エチル)−2,3−ジフルオロフエニルエーテルを得る。
ンス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニル
エーテル トランス−4−ブチルシクロヘキシルメチル4−(トラ
ンス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニル
エーテル トランス−4−ペンチルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエ
ニルエーテル トランス−4−エチルシクロヘキシルメチル4−(トラ
ンス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−
シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニルエ
ーテル トランス−4−プロピルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)
−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニル
エーテル トランス−4−ブチルシクロヘキシルメチル4−(トラ
ンス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−
シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニルエ
ーテル トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)
−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニル
エーテル トランス−4−エチルシクロヘキシルメチル4−(トラ
ンス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニル
エーテル トランス−4−プロピルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエ
ニルエーテル トランス−4−ブチルシクロヘキシルメチル4−(トラ
ンス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニル
エーテル トランス−4−ペンチルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエ
ニルエーテル トランス−4−エチルシクロヘキシルメチル4−(トラ
ンス−4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)
−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエニル
エーテル トランス−4−プロピルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエ
ニルエーテル トランス−4−ペンチルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエ
ニルエーテル トランス−4−ヘキシルシクロヘキシルメチル4−(ト
ランス−4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエ
ニルエーテル 実施例 3 塩化メチレンに溶解したジシクロヘキシカルボジイミ
ド(DCC)0.05モルを、0℃で接触量の4−N,N′−ジメ
チルアミノピリジン(DMAP)の存在下において、塩化メ
チレン(70ml)中の4−(トランス−4−(トランス−
4−n−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシルエ
チル)−2,3−ジフルオロフエノール〔−90゜でTHF中で
2,3−ジフルオロアニソールを等モル量のt−BuOKおよ
びBuLiと反応させてそして等モル量のDMPUの存在下にお
いてカリウム化合物をトランス−4−(トランス−4−
n−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシルエチル
アイオダイドでアルキル化しそして次に臭化水素酸/氷
酢酸でエーテル開裂を行うことによって得ることができ
る〕0.05モルおよびトランス−4−n−ペンチルシクロ
ヘキサンカルボン酸0.05モルの溶液に加える。反応混合
物を室温で12時間撹拌し、沈澱したジシクロヘキシル尿
素を去しそして混合物を常法により処理する。これに
よって4−(トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジ
フルオロフエニルトランス−4−ペンチルシクロヘキサ
ンカルボキシレートを得る。
キシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ
フエニルトランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボ
キシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ
フエニルトランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボ
キシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−ペンチルシクロヘキサンカル
ボキシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ヘプチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−ペンチルシクロヘキサンカル
ボキシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ
フエニルトランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボ
キシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−プロピルシクロヘキサンカル
ボキシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ
フエニルトランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボ
キシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−プロピルシクロヘキサンカル
ボキシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ
フエニルトランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボキ
シレート 4−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボ
キシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ
フエニルトランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボキ
シレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボ
キシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ
フエニルトランス−4−ヘプチルシクロヘキサンカルボ
キシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−ヘプチルシクロヘキサンカル
ボキシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−ヘプチルシクロヘキサンカル
ボキシレート 4−(トランス−4−(トランス−4−ヘプチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオ
ロフエニルトランス−4−ヘプチルシクロヘキサンカル
ボキシレート 実施例 4 湿気を排除しながらそして窒素雰囲気下において、ヘ
キサン中のn−BuLiの1.6N溶液の0.21モルを、−70℃
で、THF 400ml中のエトキシ−2,3−ジフルオロベンゼン
0.2モルおよびTMEDF 0.2モルの溶液に滴加する。混合物
を、−70゜で4時間撹拌し次に4−(トランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル−シクロヘキサノン0.2モルを加
える。反応混合物を室温に加温しそして次に稀HClで加
水分解し次に生成物を常法によって単離する。生成物を
トルエン中にとりそして接触量のp−トルエンスルホン
酸の存在下において、水分離器下で加熱沸騰させる。次
に、トルエン相を中性になるまで水で洗滌し次に蒸発す
る。残留物をTHF中にとりそして23℃および常圧下で5
%Pd/C E 101 RW 30gを使用して水素添加する。触媒の
除去後、溶剤を蒸発しそして生成物をクロマトグラフイ
ーにより単離する。これによって、K 53゜ SB 79゜ N 1
84.2゜ Iを有する2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキシル〕−1−エトキシベンゼンを得る。
4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1−
エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1
−エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1−
エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−ヘプチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1
−エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1−
ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1
−ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1−
ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1
−ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1−
オクチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1
−オクチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1−
オクチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1
−オクチルオキシベンゼン 実施例 5 実施例4と同様にして、4−ペンチルシクロヘキサノ
ンと反応させて、2,3−ジフロオロ−4−(トランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)−1−エトキシベンゼン
を得る。
ヘキシル)−1−エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)−1−エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ブチルシクロ
ヘキシル)−1−エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ヘプチルシク
ロヘキシル)−1−エトキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−1−プロポキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)−1−プロポキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ブチルシクロ
ヘキシル)−1−プロポキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)−1−プロポキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ヘプチルシク
ロヘキシル)−1−プロポキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−1−ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)−1−ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ブチルシクロ
ヘキシル)−1−ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)−1−ペンチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−1−オクチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)−1−オクチルオキシベンゼン 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)−1−オクチルオキシベンゼン 実施例 6 実施例3と同様にして、4−(トランス−4−ペンチ
ルシクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエノー
ルを4−オクチルオキシ安息香酸と反応させて、K 53゜
SC(21゜)N 137゜ Iを有する4−(トランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエ
ニル4−オクチルオキシベンゾエートを得る。
2,3−ジフルオロフエニル4−オクチルオキシベンゾエ
ート 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−オクチルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニル4−オクチルオキシベンゾエ
ート 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−オクチルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニル4−ペンチルオキシベンゾエ
ート 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−ペンチルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−ペンチルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−ペンチルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニル4−プロピルオキシベンゾエ
ート 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−プロピルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−プロピルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−プロピルオキシベンゾ
エート 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−エトキシベンゾエート 4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニル4−エトキシベンゾエート 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−エトキシベンゾエート 4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニル4−エトキシベンゾエート 実施例 7 実施例3と同様にして、4−(トランス−4−ペンチ
ルシクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロフエノー
ルをカプロン酸と反応させてK 45゜ N(26.4゜)Iを有
する相当する4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキ
シルエチル)−2,3−ジフルオロフエニルカプロエート
を得る。
−2,3−ジフルオロフエニルカプロエート 4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニルカプロエート 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニルカプロエート 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニルカプロエート 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニルプロピオネート 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニルプロピオネート 4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロフエニルプロピオネート 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニルプロピオネート 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロフエニルプロピオネート 実施例 8 ブチルリチウム(BuLi)の1.6N溶液130mlを、−90゜
〜−100゜で撹拌しながら、1,2−ジフルオロベンゼン0.
25M、カリウム第3級ブチレート0.2MおよびTHF 200mlの
混合物に加える。次に、トランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシルエチルアイオダイド0.2M、DMPU 0.2MおよびTHF
50mlの混合物を、−85゜〜−90゜で加える。
更に1時間つづけ、水を加えそして混合物を常法により
処理する。
ロヘキシルエチル−2,3−ジフルオロベンゼン(0.1M)
を、TMEDA 0.1MとともにTHF 200mlに溶解し、ヘキサン
中のBuLiの1.6N溶液0.1Mを−60゜〜−70゜で加えそして
混合物を撹拌する。2時間の反応時間の後に、ドライア
イス(破砕した)10〜20gを加える。撹拌を更に1/2時間
つづけ、混合物を室温に加温し、水を加えそして混合物
を常法により処理する。
ロヘキシルカルボジイミド)の存在下で4−ペンチルフ
エノールでエステル化する。処理および精製後に、K 45
゜ SA 92゜ N 130.3゜ Iを有する4−ペンチルフエニル
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロベンゾエートを得る。
ロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−ペンチルフエニル4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−ペンチルフエニル4−(トランス−4−ブチルシク
ロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−エチルフエニル4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−エチルフエニル4−(トランス−4−ブチルシクロ
ヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−エチルフエニル4−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−エチルフエニル4−(トランス−4−ヘプチルシク
ロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−プロピルフエニル4−(トランス−4−エチルシク
ロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−プロピルフエニル4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−プロピルフエニル4−(トランス−4−ブチルシク
ロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−プロピルフエニル4−(トランス−4−ペンチルシ
クロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−プロピルフエニル4−(トランス−4−ヘキシルシ
クロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−プロピルフエニル4−(トランス−4−ヘプチルシ
クロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 4−プロピルフエニル4−(トランス−4−オクチルシ
クロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロベンゾエート 実施例 9 ヘキサン中のBuLiの1.6N溶液0.105Mを、−60゜〜−70
゜で、THF 200ml中のトランス−4−ペンチルシクロヘ
キシルエチル−2,3−ジフルオロベンゼン(製造につい
ては、実施例8参照)0.1MおよびTMEDA 0.1Mに加える。
混合物を、3時間撹拌しそして次にペンチルシクロヘキ
サノン0.1M(THF中)を、−60゜〜−70゜で加える。撹
拌を、更に3時間つづける。この間に、反応混合物は、
室温に達する。次に、これを飽和NH4Cl溶液で加水分解
しそして常法により処理する。残留物を、トルエンに溶
解しそして水分離器下において2時間p−トルエンスル
ホン酸3gとともに加熱する。抽出による常法の処理後
に、相当するシクロヘキセン誘導体が得られる。
Q)との反応によって芳香族化する。この目的のため
に、トルエン300ml中のDDQ 0.35Mを、室温で、トルエン
600ml中のシクロヘキセン化合物0.155Mの混合物に加え
る。次に、混合物を、3時間加熱沸騰させ次に室温に冷
却し、ヒドロキノンを去しそして液を酸性亜硫酸
塩、H2Oおよび飽和NaCl溶液で洗滌する。処理およびク
ロマトグラフイーおよび(または)蒸溜による精製後、
K 22゜ N 106.7゜ Iを有する4−(トランス−4−ペン
チルシクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロ−4′
−ペンチルビフエニルを得る。
2,3−ジフルオロ−4′−ペンチルビフエニル 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−ペンチルビフエニル 4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロ−4′−ペンチルビフエニル 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−ペンチルビフエニル 4−(トランス−4−ノニルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロ−4′−ペンチルビフエニル 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロ−4′−ヘプチルビフエニル 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−ヘプチルビフエニル 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−ヘプチルビフエニル 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−ヘプチルビフエニル 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロ−4′−プロピルビフエニル 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−プロピルビフエニル 4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロ−4′−プロピルビフエニル 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−プロピルビフエニル 4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−プロピルビフエニル 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルエチル)−
2,3−ジフルオロ−4′−エチルビフエニル 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−エチルビフエニル 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−エチルビフエニル 4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−エチルビフエニル 4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシルエチル)
−2,3−ジフルオロ−4′−エチルビフエニル 以下の実施例は、本発明による液晶相に関するもので
ある。
トリル13%、 トランス−1−p−メトキシフエニル−4−プロピルシ
クロヘキサン20%、 トランス−1−p−ブトキシフエニル−4−プロピルシ
クロヘキサン13%、 2,3−ジフルオロ−4−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)−1−エトキシベンゼン17%、 トランス−4−プロピルシクロヘキシルトランス−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサンカルボキシレート3%、 トランス−4−ペンチルシクロヘキシルトランス−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサンカルボキシレート3%、 トランス−4−ペンチルシクロヘキシルトランス−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サンカルボキシレート3%、 トランス−4−プロピルシクロヘキシルトランス−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サンカルボキシレート3%、 4,4′−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−
2−フルオロビフエニル5%、 4,4′−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−
ビフエニル4%、 4,4′−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−
2−フルオロビフエニル4%、 2,3−ジフルオロ−4−〔トランス−4−(トランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル〕−1
−エトキシベンゼン6%および 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4′
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−ビフエ
ニル6% からなるネマテイツク液晶相は、広いネマテイツク相範
囲および低複屈折によって特徴づけられる。
Claims (5)
- 【請求項1】式I [式中、Q1およびQ2は、相互に独立して、それぞれ、R
またはR−A1−A2−Zであり、 Rは、C原子1〜15個を有するアルキルまたはC原子3
〜15個を有するアルケニルであり、これらの基はそれぞ
れ、置換されていないかまたは1個のシアノにより置換
されているかまたは少なくとも1個のフッ素または塩素
により置換されており、そしてまたこれらの基中に存在
する1個のCH2基は−O−、−CO−、−O−CO−、−CO
−O−または−O−CO−O−により置き換えられていて
もよく、 A1およびA2は、相互に独立して、それぞれ、トランス−
1,4−シクロヘキシレン(この基中に存在する1個のCH2
基または隣接していない2個のCH2基はまた、−O−に
より置き換えられていてもよい)、または1,4−フェニ
レン(この基は、置換されていないかまたは1個または
2個のフッ素により置換されており、そしてこの基中に
存在する1個または2個のCH基はまた、Nにより置き換
えられていてもよい)であり、そして2個の基A1および
A2のうちの1個は、単結合であってもよく、 Zは、−CO−O−、−O−CO−、−CH2O−、−OCH2−、
−CH2CH2−または単結合であり、そして mは、0または2である、 ただし、 (a)Q1=アルキルまたはアルコキシであり、そして Q2=アルキル、アルコキシ、 または であるか、または (b) であり、そして Q2=アルキルまたはアルコキシ である場合においては、m=0である] で表わされるジフルオロベンゼン誘導体。 - 【請求項2】式Iで表わされる化合物が式I a R−Cyc−PheF2−R I a [式中、Rはそれぞれ独立して、C原子1〜15個を有す
るアルキルまたはアルコキシであり、 Cycは、トランス−1,4−シクロヘキシレンであり、そし
て PheF2は、式 で表わされる基である] で表わされる化合物であることを特徴とする、請求項1
に記載のジフルオロベンゼン誘導体。 - 【請求項3】式Iで表わされる化合物が式I c R−A1−Z−Cyc−PheF2−R I c [式中、Rはそれぞれ独立して、C原子1〜15個を有す
るアルキルまたはアルコキシであり、 Cycは、トランス−1,4−シクロヘキシレンであり、 A1は、Cycであり、 Zは、単結晶であり、そして PheF2は、式 で表わされる基である] で表わされる化合物であることを特徴とする、請求項1
に記載のジフルオロベンゼン誘導体。 - 【請求項4】少なくとも2種の液晶成分を含有する液晶
組成物であって、少なくとも1種の成分が請求項1に記
載の誘導体であることを特徴とする液晶組成物。 - 【請求項5】請求項4に記載の液晶組成物を誘電体とし
て含有することを特徴とする電気光学表示素子。
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