JP2764331B2 - 2,3‐ジフルオロビフエニル化合物 - Google Patents

2,3‐ジフルオロビフエニル化合物

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JP2764331B2 JP1502561A JP50256189A JP2764331B2 JP 2764331 B2 JP2764331 B2 JP 2764331B2 JP 1502561 A JP1502561 A JP 1502561A JP 50256189 A JP50256189 A JP 50256189A JP 2764331 B2 JP2764331 B2 JP 2764331B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、4−Q1−4′−Q2−2,3−ジフルオロビフ
エニル化合物に関する。上記において、Q1およびQ2は、
相互に独立して、それぞれ、RまたはR−A1−A2−Zで
あり、RはC原子1〜15個を有するアルキルまたはC原
子3〜15個を有するアルケニルであり、これらの基はそ
れぞれ、非置換であるか、あるいは置換基として少なく
とも1個のフツ素または塩素を有し、そしてこれらの各
基中に存在する1個のCH2基または隣接していない2個
のCH2基はまた、−O−、−CO−、−O−CO−、−CO−
O−または−O−COO−により置き換えられていてもよ
く、Zは−COO−、−O−CO−、−CH2O−、−O−CH
2−、−CH2CH2−または単結合であり、そしてA1およびA
2は、相互に独立して、それぞれ1,4−フエニレンであ
り、この基は非置換であるか、あるいは1個または2個
のフツ素原子により置換されており、あるいはA1および
A2はそれぞれ、トランス−1,4−シクロヘキシレンであ
り、この基中に存在する1個のCH2基または隣接してい
ない2個のCH2基は−O−により置き換えられていても
よく、そして2個の基A1および基A2のうちの一つはま
た、単結合であることもできる、ただし、基Q1または基
Q2のうちの一つがアルキルまたはアルコキシであり、そ
して他の基Q1または基Q2がR−A1−A2−Z(式中、2個
の基A1および基A2のうちの一つは単結合である)である
場合には、Zは−CO−O−、−O−CO−、−CH2O−、OC
H2−または−CH2CH2−である。
また基Q1または基Q2のうちの一つがR−A1−A2−Z
(式中、Zは単結合、A1とA2は1,4−フエニレン)であ
り、そして他の基Q1または基Q2がRである化合物、 及び 基Q1と基Q2がともにR−A1−A2−Zで、一方のA1及び
A2がそれぞれ1,4−フェニレン、他方のA1及びA2がそれ
ぞれ単結合であり、Zは両方とも単結合である化合物 を除く。
簡潔にするために、以下の記載において、Cycは1,4−
シクロヘキシレン基であり、Pheは1,4−フエニレン基で
あり、Pydはピリジン−2,5−ジイル基であり、Pyrはピ
リミジン−2,5−ジイル基であり、そしてPynはピラジン
−2,5−ジイル基であり、これらの基は非置換である
か、あるいは1個または2個のフツ素原子により置換さ
れていることができるものとする。好ましくは、これら
の基は非置換である。
BPF2は式 で示される基である。
式Iで示される化合物は液晶相、特にねじれセルの原
則、ゲスト−ホスト効果、整列相の変形の効果または動
的散乱の効果にもとづく表示体用の液晶相の成分として
使用することができる。
式Iで示される化合物は誘電率の顕著に負の異方性を
有する点できわ立つており、また電場において、それら
の分子の長軸は場の方向に対して垂直に配向される。こ
の効果は知られており、種々の液晶表示体における、た
とえば光散乱タイプ(動的散乱)の、いわゆるDAP効果
(整列相の変形)の、あるいはECBタイプ(電気的に制
御された複屈折)の、あるいはゲスト/ホストタイプ
(ゲスト/ホスト相互作用)の液晶セルにおける、光学
的透明性の制御に使用されている。
式Iで示される化合物はまた、カイラルにチルトされ
たスメクテイツク相の成分として使用するのにも適して
いる。強誘電性物性を有するカイラルにチルトされたス
メクテイツク液晶相は一種または二種以上のチルトされ
たスメクテイツク相を有する基材混合物に適当なカイラ
ルドーピング物質を添加することによつて調製すること
ができる[L.A.Veresnev等によるMol.Cryst.Liq.Cryst.
89,327頁(1982);H.R.Brand等によるJ.Physique44(Le
tt.),L−771(1983)]。このタイプの相はカイラルに
チルトされた相の強誘電性物質により、ClarkおよびLag
erwallにより開示されたSSFLCテクノロジイの原則[N.
A.ClarkおよびS.T.LagerwallによるAppl.Phys.Lett.36,
899頁(1980);USP 4,367,924]にもとづく高速表示体
用の誘電体として使用することができる。
現在、弱い負の誘電異方性を有する、多くの液晶化合
物はすでに合成されている。他方、誘電率の大きい負の
異方性を有する液晶成分は比較的少ししか知られていな
い。さらにまた、大きい負の誘電異方性を有する化合物
は一般に、たとえば混合物中における貧弱な溶解性、高
い粘度、高い融点および科学的不安定性などの欠点を示
す。従つて、広く種々の電気光学用途に対して混合物の
物性をさらに改善することを可能にする、負の誘電異方
性を有する別種の化合物が求められている。
負の誘電異方性を有し、そしてカルボキシル基または
共有結合を介して結合している2個または3個の環を有
し、かつまた1個または2個以上の、ハロゲン、シアノ
基またはニトロ基などのラテラル基を有する液晶化合物
は西ドイツ国特許2,240,864、2,613,293、2,835,662お
よび2,836,086ならびにヨーロツパ特許023,728から知ら
れている。
本発明に係る化合物はヨーロツパ特許084,194に記載
の広い式の中に包含されるが、この特許明細書には本発
明に関して式で示されている各化合物は記載されていな
い。従つて、当業者は、この公知技術から本発明に係る
化合物の合成などについて簡単に想到することはでき
ず、また本発明に係る化合物が、ほとんど好ましい位置
にあるメソフエース範囲を有し、かつまた大きい負の誘
電異方性を有すると同時に、低粘度を有する点できわ立
つていることを認識することもできない。
さらにまた、ヨーロツパ特許084,194には、この特許
による化合物が低いスメクテイツク傾向を有することか
ら、本発明に係る化合物をSSFLCテクノロジイの原則に
もとづく表示体で使用できることも全く記載されていな
い。
2,3−ジクロロハイドロキノンのジ安息香酸エステル
がまた知られているが[たとえばBristol等によるJ.Or
g.Chem.39,3138頁(1974)またはClanderman等によるJ.
Am.Chem.Soc.97,1585頁(1975)]、これらの化合物は
単変性であるか、あるいは非常に小さいメソフエース範
囲を有する。Eidenschink等により開示された4−ヒド
ロキシ−2,3−ジクロロ安息香酸のエステルはまた、小
さいメソフエース範囲を有するだけである[Angew.Che
m.89,103頁(1977)]。
西ドイツ国公開特許出願公報2,933,563に記載されて
いる4−アルキル−2,3−ジクロロフエニル−4′−ア
ルキルビシクロヘキシル−4−カルボン酸エステルはそ
れらが高い粘度を有することから工業的に使用すること
はできない。
本発明の目的は大きい負の誘電異方性を有すると同時
に、低粘度を有する、安定な液晶化合物またはメソーゲ
ン性化合物を見い出すことにあつた。
式Iで示される化合物が液晶相の成分として使用する
のに優れて適することが見い出された。特に、これらの
化合物は広いメソフエース範囲および比較的低い粘度を
有する安定な液晶相の調製を可能にする。
式Iで示される化合物はまた、カイラルにチルトされ
たスメクテイツク液晶相の成分として使用するのにも適
している。
さらに、式Iで示される化合物を提供することによつ
て、種々の適用技術の観点から、液晶混合物の調製に適
する液晶物質の範囲が非常に一般的な方法で格別に拡大
される。
式Iで示される化合物は広い用途範囲を有する。これ
らの化合物は置換基を選択することによつて、液晶相を
主として構成する基材として使用することができるが、
他の種類に属する化合物よりなる液晶基材に式Iで示さ
れる化合物を加え、たとえば、このような誘電体の誘電
異方性および(または)光学異方性、および(または)
粘度、および(または)自発分極、および(または)相
範囲、および(または)チルト角、および(または)ピ
ツチを変えることができる。
式Iで示される化合物はまた、液晶誘電体の成分とし
て使用することができる、別種の物質を製造するための
中間生成物として使用するのにも適している。
式Iで示される化合物は、純粋な状態で、無色であ
り、これらの化合物は電気光学用途に対して有利に位置
する温度範囲内で液晶メソフエースを形成する。これら
の化合物は化学物質、熱および光に対して非常に安定で
ある。
従つて、本発明は式Iで示される化合物、特に、下記
の式Iaおよび式Ibで示される化合物に関する: [各式中、R1およびR2は相互に独立して、それぞれC
原子1〜15個を有するアルキルである]。
本発明はまた、下記の式Icおよび式Idで示される中間
生成物に関する: [各式中、Q1は前記の意味を有し、そしてXはOH、CO
OHまたはハロゲンである 但し、式Icの場合、XがOHで、Q1がヘプチルであるも
の、 式Idの場合、XがOHで、Q1ヘプチルであるもの
又はXがCOOHで、Q1がC1-12アルキル又はC1-12アルコキ
シであるもの を除く)]。
本発明はまた、式I、式Iaおよび式Ibで示される化合
物の製造方法に関し、この方法は適当なカルボン酸化合
物またはその反応性誘導体の一種を適当なヒドロキシル
化合物またはその反応性誘導体の一種と反応させること
を特徴とする方法である。
本発明はまた、式Iで示される化合物を液晶相の成分
として使用することに関する。本発明はまた、式Iで示
される化合物の少なくとも一種を含有する液晶相および
この種の相を含有する液晶表示素子に関する。この種の
相は特に有利な弾性定数を示し、またそれらが低いΔε
/ε⊥値を有することから、TFT混合物に特に適する。
本明細書の全体を通して、Q1、Q2、A1、A2、Rおよび
Zは、別段のことわりがないかぎり、上記の意味を有す
るものとする。
従つて、式Iで示される化合物は部分式Ie(2個の環
を有する)、および部分式If〜Ii(3個の環を有する)
および部分式Ij〜In(4個の環を有する)で示される好
ましい化合物を包含する: R−BPF2−R Ie R−A1−BPF2−R If R−BPF2−A1−R Ig R−A1−Z−BPF2−R Ih R−BPF2−Z−A1−R− Ii R−A1−BPF2−A1−R Ij R−A1−Z−BPF2−A1−R Ik R−A1−BPF2−Z−A1−R Il R−A1−A2−BPF2−R Im R−BPF2−A1−A2−R In これらの中で、部分式Ia〜Ihで示される化合物は特に
好ましい。
式Ihで示される化合物の中では、下記の式Ih1および
式Ih2で示される化合物は特に好ましい。
本明細書に記載の式で示される化合物において、複数
個のRは相互に異なり、それぞれ好ましくはアルキルま
たはアルコキシである。
本明細書に記載の式で示される化合物において、その
分子中に存在する基Rのうちの一つがアルケニルまたは
オキサアルキル(たとえばアルコキシメチル)である化
合物もまた好ましい。
A1およびA2は、好ましくは非置換の1,4−フエニレ
ン、Cyc、PydまたはPyrである。式Iで示される化合物
は好ましくは、基Pyd、Pyn、Pyrまたは2,3−ジフルオロ
−1,4−フエニレンをそれぞれ1個より多くは含有しな
い。
本明細書に記載の式において、基Rは好ましくは、C
原子2〜12個、特に3〜10個、有する。R中に存在する
1個または2個のCH2基はまた、置き換えられているこ
とができる。好ましくは、1個だけのCH2基が−O−ま
たは−CH=CH−により置き換えられている。
本明細書に記載の式において、基Rは、好ましくはア
ルキル、アルコキシまたはもう一種のオキサアルキル基
であり、さらにまた、基中に存在する1個または2個の
CH2基が−CH=CH−により置き換えられることができる
アルキル基である。
基Rがアルキル基であり、この基中に存在する1個の
CH2基がO原子により置き換えられている場合に(「ア
ルコキシ」または「オキサアルキル」)、あるいは隣接
していない2個のCH2基がO原子により置き換えられて
いる場合に(「アルコキシアルコキシ」または「ジオキ
サアルキル」)、これらの基は直鎖状または分枝鎖状で
あることができる。好ましくは、これらの基は直鎖状で
あり、C原子2、3、4、5、6または7個を有し、従
つて、好ましくはエチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ペントキシ、ヘキシルオキシまたはヘプチルオキ
シであり、そしてまた、メチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、メトキシ、オクチルオキシ、ノニル
オキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオ
キシ、トリデシルオキシまたはテトラデシルオキシであ
る。
オキサアルキルは好ましくは直鎖状の2−オキサプロ
ピル(=メトキシメチル)、2−オキサブチル(=エト
キシメチル)または3−オキサブチル(=2−メトキシ
エチル)、2−、3−または4−オキサペンチル、2
−、3−、4−または5−オキサヘキシル、2−、3
−、4−、5−または6−オキサヘプチル、2−、3
−、4−、5−、6−または7−オキサオクチル、2
−、3−、4−、5−、6−、7−または8−オキサノ
ニル、2−、3−、4−、5−、6−、7−、8−また
は9−オキサデシル、1,3−ジオキサブチル(=メトキ
シメトキシ)、1,3−、1,4−または2,4−ジオキサペン
チル、1,3−、1、4−、1,5−、2,4−、2,5−または3,
5−ジオキサヘキシルあるいは1,3−、1,4−、1,5−、1,
6−、2,4−、2,5−、2,6−、3,5−、3,6−または4,6−
ジオキサヘプチルである。
基Rがアルキル基であり、この基中に存在する1個の
CH2基が−CH=CH−により置き換えられている場合に
は、トランス形が好ましい。このアルケニル基は直鎖状
または分枝鎖状であることができる。好ましくは、この
基は直鎖状であり、C原子2〜10個を有する。
従つて、この基は特に、ビニル、プロプ−1−エニ
ル、プロプ−2−エニル、ブト−1−、−2−または−
3−エニル、ペント−1−、−2−、−3−または−4
−エニル、ヘキス−1−、−2−、−3−、−4−また
は5−エニル、ヘプト−1−、−2−、−3−、−4
−、−5−または−6−エニル、オクト−1−、−2
−、−3−、−4−、−5−、−6−または−7−エニ
ル、ノン−1−、−2−、−3−、−4−、−5−、−
6−、−7−または−8−エニル、あるいはデク−1
−、−2−、−3−、−4−、−5−、−6−、−7
−、−8−または−9−エニルである。
分枝鎖状基Rを有する式Iで示される化合物は慣用の
液晶基材中で改善された溶解性を有することから、場合
により重要であることができるが、これらが光学活性で
ある場合に、カイラルドーピング剤として特に重要であ
る。この種のスメクテイツク化合物は強誘電性材料の成
分として使用するのに適している。
一般に、この種の分枝鎖状基は多くて一つの鎖分枝を
有する。好ましい分枝鎖状基Rはイソプロピル、2−ブ
チル(=1−メチルプロピル)、イソブチル(=2−メ
チルプロピル)、2−メチルブチル、イソペンチル(=
3−メチルブチル)、2−メチルペンチル、3−メチル
ペンチル、2−エチルヘキシル、2−プロピルペンチ
ル、イソプロポキシ、2−メチルプロポキシ、2−メチ
ルブトキシ、3−メチルブトキシ、2−メチルペントキ
シ、3−メチルペントキシ、2−エチルヘキシルオキ
シ、1−メチルキシルオキシ、1−メチルヘプチルオキ
シ、2−オキサ−3−メチルブチル、3−オキサ−4−
メチルペンチル、4−メチルヘキシル、2−ノニル、2
−デシル、2−ドデシル、6−メチルオクチルオキシ、
6−メチルオクタノイルオキシ、2−メチルブチリルオ
キシ、3−メチルバレリルオキシ、5−メチルヘプチル
オキシカルボニル、4−メチルヘキサノイルオキシ、2
−クロロ−プロピオニルオキシ、2−クロロ−3−メチ
ルブチリルオキシ、2−クロロ−4−メチルバレリルオ
キシ、2−クロロ−3−メチルバレリルオキシ、2−メ
チルオキサペンチル、2−メチルオキサヘキシル、2−
フルオロ−3−メチルバレリルオキシあるいは2−フル
オロ−3−メチルブトキシである。
式Iはこれらの化合物のラセミ体および光学対掌体の
両方およびその混合物を包含する。
式Iおよび式Ia〜Inで示される好ましい化合物は、そ
の分子中に含まれる基のうちの少なくとも一つが前記の
好ましい意味のうちの一つを有する相当する化合物であ
る。
式Iで示される化合物は文献[たとえばHouben-Weyl
によるMethoden der Organischen Chemie(Georg-Thiem
e出版社、Stuttgart市)のような標準的学術書]に記載
されているようなそれ自体既知の方法により、特に、あ
げられている反応に適する既知の反応条件の下で製造さ
れる。この点に関して、それ自体既知であつて、ここで
は詳細に説明されていない変法も使用することができ
る。
所望により、原料物質は、これらを反応混合物から単
離せずに、直ちにさらに反応させ、式Iで示される化合
物を生成する方法により、その場で生成させることもで
きる。
式Iで示される化合物は1,2−ジフルオロベンゼンを
原料化合物として使用し、得ることができる。この化合
物を既知の方法[たとえば、A.M.Roe等によるJ.Chem.So
c.Chem.Comm.,22,582頁(1965)]により金属化し、次
いで相当する親電子化合物と反応させる。このようにし
て得られた1−置換2,3−ジフルオロベンゼンを使用
し、この一連の反応を2回目として、適当な親電子化合
物を用いて行ない、このようにして、1,4−ジ置換2,3−
ジフルオロベンゼンを得る。この1,4−ジ置換2,3−ジフ
ルオロベンゼン化合物は所望により、引続く反応工程
で、目的生成物に変換することができる。1,2−ジフル
オロベンゼンまたは1−置換2,3−ジフルオロベンゼン
は、不活性溶媒、エーテル、例えば、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、tert−ブ
チルメチルエーテルまたはジオキサン、ヘキサン、ヘプ
タン、シクロヘキサン、ベンゼンまたはトルエンのよう
な炭化水素あるいはこれらの溶媒の混合物などの中で、
必要に応じて、テトラメチルエチレンジアミン(TMED
A)またはヘキサメチルリン酸トリアミドのような錯化
剤の添加の下に、−100℃〜+50℃、好ましくは−78℃
〜0℃の温度において、フエニルリチウム、リチウムテ
トラメチルピペリジンあるいはn−、sec−またはtert
−ブチルリチウムと反応させる。
2,3−ジフルオロフエニルリチウム化合物は−100℃〜
0℃、好ましくは−50℃において、相当する親電子化合
物と反応させる。適当な親電子化合物はアルデヒド化合
物、ケトン化合物、ニトリル化合物、エポキシド化合
物、カルボン酸誘導体、たとえばエステル、無水物また
はハライド、ハロゲノギ酸エステルあるいは二酸化炭素
である。
脂肪族または芳香族のハロゲン化合物と反応させる場
合には、2,3−ジフルオロフエニルリチウム化合物を金
属交換させ、次いで遷移金属触媒の条件の下にカツプリ
ングさせる。この目的には、2,3−ジフルオロフエニル
アエン化合物(西ドイツ国公開特許出願公報3,632,410
参照)または2,3−ジフルオロフエニルチタン化合物
(西ドイツ国公開特許出願公報3,736,489参照)が特に
適する。
2,3−ジフルオロビフエニル化合物は、たとえばC−
C結合の代りにH原子を含有する化合物を酸化剤で処理
することによつて製造することができる。
適当な酸化可能な基は、好ましくはシクロヘキセン環
である。この酸化に適する、好ましい原料化合物は式 に相当する化合物であり、この化合物は標準的方法を使
用して、酸化(脱水素)により本発明に係る化合物に変
換される。
酸化は、たとえば接触脱水素によつて行なうことがで
きる。
しかしながら、反応条件が温和であることから、2,3
−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DD
Q)、クロラニル、イオウまたはセレンを用いる脱水素
が好適である。
本発明に係るエステル化合物は、相当するカルボン酸
化合物(またはそれらの反応性誘導体)をアルコールま
たはフエノール化合物(あるいはそれらの反応性誘導
体)でエステル化することにより得ることができる。
前記カルボン酸化合物の適当な反応性誘導体は、特に
酸ハライド化合物、中でもクロライド化合物およびブロ
マイド化合物、およびまた酸無水物、たとえば混合酸無
水物、アジド化合物あるいはエステル化合物、特にアル
キル基中にC原子1〜4個を有するアルキルエステル化
合物である。
前記アルコールまたはフエノール化合物の適当な反応
性誘導体は、特にNaまたはKのようなアルカリ金属の相
当する金属アルコレートまたは金属フエネートである。
エステル化は有利には、不活性溶媒の存在の下に行な
う。適当な溶媒は、特にジエチルエーテル、ジ−n−ブ
チルエーテル、THF、ジオキサンまたはアニソールのよ
うなエーテル、アセトン、ブタノンまたはシクロヘキサ
ノンのようなケトン、DMFまたはリン酸ヘキサメチルト
リアミドのようなアミド、ベンゼン、トルエンまたはキ
シレンのような炭化水素、四塩化炭素またはテトラクロ
ロエチレンのようなハロゲン化炭化水素、ジメチルスル
ホキシドまたはスルホランのようなスルホキシドであ
る。水不混和性溶媒を同時に有利に使用でき、これによ
りエステル化中に生成された水を共沸蒸溜により留去す
ることができる。場合により、エステル化用溶媒とし
て、過剰の有機塩基、たとえばピリジン、キシリンまた
はトリエチルアミンを使用することもできる。エステル
化はまた溶媒の不存在の下に、たとえば反応成分を酢酸
ナトリウムの存在の下に単純に加熱することにより行な
うこともできる。反応温度は通常、−50〜+250°、好
ましくは−20°〜+80°である。これらの温度で、エス
テル化反応は一般に15分〜48時間後に完了する。
各場合において、エステル化の反応条件はほとんど使
用する原料物質の種類に依存する。すなわち、遊離カル
ボン酸は一般に、遊離アルコールまたはフエノールと強
酸、たとえば塩酸または硫酸のような鉱酸の存在の下に
反応させる。好適な反応方法は酸無水物、または特に酸
クロライドをアルコールと、好ましくは塩基性媒質中で
反応させる方法であり、この場合に重要な塩基は、水酸
化ナトリウムまたは水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウムまたは炭酸水素カリウムのようなアルカリ金
属の炭酸塩あるいは炭酸水素酸、酢酸ナトリウムまたは
酢酸カリウムのようなアルカリ金属酢酸塩、水酸化カル
シウムのようなアルカリ土類金属水酸化物、あるいはト
リエチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジンまたは
キノリンのような有機塩基である。もう一つの好適なエ
ステル化方法は上記のアルコールまたはフエノールを先
ずたとえば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムのエ
タノール溶液で処理することによりナトリウムアルコレ
ートまたはナトリウムフエネートあるいはカリウムアル
コレートまたはカリウムフエネートに変換し、このアル
コレートまたはフエネートを単離し、次いでアセトン、
またはジエチルエーテル中に炭酸水素ナトリウムまたは
炭酸カリウムとともに、攪拌しながら懸濁し、この懸濁
液にジエチルエーテル、アセトンまたはDMF中の酸クロ
ライドまたは酸無水物の溶液を、好ましくは約−25°〜
+20°の温度で加えることよりなる方法である。
本発明に係るエーテル化合物は相当するヒドロキシル
化合物、好ましくは相当するフエノール化合物のエーテ
ル化により得ることができる。ヒドロキシル化合物は遊
離には先ず、相当する金属誘導体に、たとえばNaH、NaN
H2、NaOH、KOH、Na2CO3またはK2CO3で処理することによ
り相当するアルカル金属アルコレートまたはアルカリ金
属フエネートに変換する。このアルコレートまたはフエ
ネートは次いで相当するアルキルハライド、アルキルス
ルホネートまたはジアルキルスルフエート化合物と、好
ましくはアセトン、1,2−ジメトキシエタン、DMFまたは
ジメチルスルホキシドなどの不活性溶媒中で、あるいは
また過剰の水性または水性−アルコール性NaOHまたはKO
H中で、約20°〜100°の温度において反応させることが
できる。
本発明による液晶相は、本発明に係る化合物の一種ま
たは二種以上に加えて、好ましくは追加の成分として、
2〜40種、特に4〜30種の成分を含有する。非常に特に
好ましくは、これらの相は7〜25種の成分ならびに本発
明に係る化合物の一種または二種以上を含有する。これ
らの追加の成分は好ましくは、ネマテイツクまたはネマ
トゲニツク(単変性または等方性)物質、特にアゾキシ
ベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフエ
ニル化合物、ターフエニル化合物、フエニルまたはシク
ロヘキシルベンゾエート化合物、フエニルまたはシクロ
ヘキシルシクロヘキサンカルボキシレート化合物、フエ
ニルまたはシクロヘキシルシクロヘキシルベンゾエート
化合物、フエニルまたはシクロヘキシルシクロヘキシル
ヘキサンカルボキシレート化合物、シクロヘキシルフエ
ニルベンゾエート化合物、シクロヘキサンカルボン酸ま
たはシクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸化合物、
フエニルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシルビフエ
ニル化合物、フエニルシクロヘキシルシクロヘキサン化
合物、シクロヘキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘ
キシルシクロヘキセン化合物、シクロヘキシルシクロヘ
キシルシクロヘキセン化合物、1,4−ビス−シクロヘキ
シルベンゼン化合物、4,4′−ビス−シクロヘキシルビ
フエニル化合物、フエニルピリミジン化合物、シクロヘ
キシルピリミジン化合物、フエニルピリジン化合物、シ
クロヘキシルピリジン化合物、フエニルジオキサン化合
物、シクロヘキシルジオキサン化合物、フエニル−1,3
−ジチアン化合物、シクロヘキシル−1,3−ジチアン化
合物、1,2−ジフエニルエタン化合物、1,2−ジシクロヘ
キシルエタン化合物、1−フエニル−2−シクロヘキシ
ルエタン化合物、1−シクロヘキシル−2−(4−フエ
ニルシクロヘキシル)−エタン化合物、1−シクロヘキ
シル−2−ビフエニリルエタン化合物、1−フエニル−
2−シクロヘキシルフエニルエタン化合物、場合により
ハロゲン化されているスチルベン化合物、ベンジルフエ
ニルエーテル化合物、トラン化合物および置換されてい
るケイ皮酸化合物から選択される。これらの化合物中に
存在する1,4−フエニレン基はフツ素化されていること
もできる。
本発明に係る相の追加の成分として使用するのに適す
る、最も重要な化合物は下記の式1、式2、式3、式4
および式5で示すことができる特徴を有する: R′−L−E−R″ 1 R′−L−COO−E−R″ 2 R′−L−OOC−E−R″ 3 R′−L−CH2CH2−E−R″ 4 R′−L−C≡C−E−R″ 5 式1、式2、式3、式4および式5において、Lおよ
びEは、同一または異なることができ、相互に独立して
それぞれ、−Phe−、−Cyc−、−Phe−Phe−、−Phe−C
yc−、−Cyc−Cyc−、−Pyr−、−Dio−、−G−Phe−
および−G−Phe−および−G−Cyc−ならびに、その鏡
像基よりなる群に属する二価の基であり、Pheは非置換
の、またはフツ素により置換されている1,4−フエニレ
ンであり、Cycはトランス−1,4−シクロヘキシレンまた
は1,4−シクロヘキセニレンであり、Pyrはピリミジン−
2,5−ジイルまたはピリジン−2,5−ジイルであり、Dio
は1,3−ジオキサン−2,5−ジイルであり、そしてGは2
−(トランス−1,4−シクロヘキシル)−エチル、ピリ
ミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイルまたは1,
3−ジオキサン−2,5−ジイルである。
好ましくは、基Lおよび基Eのうちの一つはCyc、Phe
またはPyrである。Eは好ましくは、Cyc、PheまたはPhe
−Cycである。本発明による相は好ましくは、式1、式
2、式3、式4および式5において、LおよびEがCy
c、PheおよびPyrよりなる群から選ばれる相当する化合
物から選ばれる一種または二種以上の成分を含有すると
同時に、式1、式2、式3、式4および式5において、
基Lおよび基Eのうちの一つがCyc、PheまたはPyrより
なる群から選ばれ、そしてこれらの基の他の一つが−Ph
e−Phe−、−Phe−Cyc−、−Cyc−Cyc−、−G−Phe−
および−G−Cyc−よりなる群から選ばれる相当する化
合物から選ばれる一種または二種以上の成分を含有し、
そして所望により、式1、式2、式3、式4および式5
において、基Lおよび基Eが−Phe−Cyc−、Cyc−Cyc
−、−G−Phe−および−G−Cyc−よりなる群から選ば
れる相当する化合物から選ばれる一種または二種以上の
成分を含有する。
部分式1a、2a、3a、4aおよび5aで示される化合物で
は、R′およびR″は、相互に独立して、それぞれ8個
までの炭素原子を有するアルキル、アルケニル、アルコ
キシ、アルケニルオキシまたはアルカノイルオキシであ
る。これらの化合物の大部分において、R′およびR″
は、相互に異なつており、これらの基のうちの一つは大
部分の場合に、アルキルまたはアルケニルである。部分
式1b、2b、3b、4bおよび5bで示される化合物では、R″
は−CN、−CF3、F、Clまたは−NCSである。この場合
に、Rは部分式1a〜5aで示される化合物に係り前記した
意味を有し、好ましくはアルキルまたはアルケニルであ
る。しかしながら、式1、式2、式3、式4および式5
で示される化合物において、包含されるその他の種々の
置換基もまた慣用である。この種のかなりの化合物ある
いはその混合物は市販されている。これらの物質はいず
れも、文献から知られている方法により、あるいはこの
ような方法と同様の方法により得ることができる。
本発明による相は、化合物1a、2a、3a、4aおよび5aの
グループ(グループ1)に属する成分に加えて、好まし
くはまた、化合物1b、2b、3b、4bおよび5bのグループ
(グループ2)に属する成分を含有し、その割合は、好
ましくは、下記のとおりである: グループ1:20〜90%、特に30〜90% グループ2:10〜80%、特に10〜50% 本発明に係る化合物の割合とグループ1およびグルー
プ2に属する化合物の割合との合計が100%である。
本発明による相は好ましくは、本発明に係る化合物を
1〜40%、特に好ましくは、5〜30%、含有する。本発
明に係る化合物を40%より多い量で、特に45〜90%の量
で含有する相もまた好ましい。相は好ましくは、本発明
に係る化合物を三種、四種または五種含有する。
本発明による相の調製はそれ自体慣用の方法で行な
う。一般に、諸成分を、好ましくは高められた温度で相
互に溶解する。本発明による液晶相は適当な添加剤を使
用することによつて、これらを従来開示されているタイ
プの全部の液晶表示素子で使用できるように、変性する
ことができる。このような添加剤は当業者にとつて既知
であり、文献に詳細に記載されている(H.Kelker/R.Hat
zによるHandbook of Liquid Crystals,Verlag Chemie,W
einheim,1980)。たとえば、着色ゲスト−ホスト系を生
成するために多色性染料を添加でき、あるいは誘電異方
性、粘度および(または)ネマテイツク相の配向を変え
るための物質を添加することができる。
次例は本発明を制限することなく、説明するためのも
のである。m.p.=融点であり、そしてc.p.=透明点であ
る。本明細書全体を通して、パーセンテージは重量によ
るパーセントである。全ての温度は摂氏度で示すもので
ある。
「通常の方法で仕上げる」の用語は次の意味を有す
る:水を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、相を分
離させ、有機相を乾燥させ、次いで蒸発させ、生成物を
結晶化および(または)クロマトグラフイにより精製す
る。
さらにまた、Cは結晶−固体状態を意味し、Sはスメ
クテイツク相(インデツクスは相のタイプの特徴を示
す)を意味し、Nはネマテイツク状態を意味し、Chはコ
レステリツク相を意味し、そしてIは等方性相を意味す
る。二種の記号間の数値は転移温度を摂氏度で示すもの
である。
例1 1−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフエニル)−
4−(トランス−4−n−プロピルシクロヘキシルエチ
ル)−シクロヘキス−1−エン39g[この化合物は次の
通りにして得られる:ブチルリチウム(BuLi)のn−ヘ
キサン中の1.6N溶液131mlを、水分を排除し、かつまた
窒素雰囲気の下に、−70℃で、テトラヒドロフラン(TH
F)400ml中のエトキシ−2,3−ジフルオロベンゼン31.6g
およびテトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)23.2gの
溶液に滴下して加える。混合物を次いで、−70℃で4時
間攪拌し、次いでTHF100ml中の4−(トランス−4−n
−プロピルシクロヘキシルエチル)−シクロヘキサノン
50gをゆっくり加える。反応混合物を室温までゆっくり
温め、次いで飽和塩化アンモニウム溶液1.5lで加水分解
する。混合物をエーテルで抽出し、エーテル相を水で数
回、洗浄し、乾燥させ、次いで蒸発させる。残留物をエ
タノール700ml中に取り、濃HCl70mlを加え、混合物を3
時間、還流の下に沸とうさせる。水1.5lを次いで加え、
混合物をメチルtert−ブチルエーテルで抽出する。エー
テル相を中性まで洗浄し、乾燥させ、次いで蒸発させ、
残留物を再結晶させる。生成物(m.p.:73°およびc.p.:
139°)およびトルエン250ml中のDDQ50gを1時間、還流
の下に沸とうさせる。冷却後、反応混合物をシリカゲル
上でトルエンとともに過し、液を蒸発させ、残留物
をクロマトグラフイにより精製する。このようにして、
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−2−
(4′−エトキシ−2′,3′−ジフルオロビフエニル−
4−イル)−エタンが得られる、m.p.:64°、c.p.:144
°。
例2 ヘキサン中のn−BuLiの1.6N溶液0.21モルを、水分を
排除し、窒素雰囲気の下で、−70℃において、THF400ml
中のトランス−4−n−プロピルシクロヘキシルエチル
−2,3−ジフルオロベンゼン0.2モル[この化合物は2,3
−ジフルオロベンゼンを−85℃においてBuLi/カリウムt
ert−ブチレート(t−BuOK)/1,3−ジメチメテトラヒ
ドロ−2−(1H)−ピリミジノン(DMPU)の存在の下
に、トランス−4−n−プロピルシクロヘキシルエチル
ヨーダイドによりアルキル化することによつて得られ
る]およびTMEDA0.2モルの溶液に、滴下して加える。混
合物を−70°で4時間攪拌し、次いで4−ペンチルオキ
シシクロヘキサノン0.2モルを加える。反応混合物を室
温まで温め、次いで稀HClで加水分解し、生成物を通常
の方法で仕上げ処理する。生成物をトルエン中に取り、
次いで水分離器の下で、p−トルエンスルホン酸の存在
の下に、加熱沸とうさせる。トルエン相を中性まで水で
洗浄し、次いで乾燥させ、次いでDDQ0.4モルを加える。
反応混合物は沸とうさせる。反応が完了した時点で、混
合物をシリカゲルカラムに通して過し、次いで通常の
方法で仕上げ処理する。生成物は結晶化およびクロマト
グラフイにより精製する。
1−(トランス−4−プロピル−シクロヘキシル)−
2−(4′ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロビフエニ
ル−4−イル)−エタンが得られる。
同様にして、次の化合物を製造した:1−(トランス−
ペンチルシクロヘキシル)−2−(4′−ペンチル−2,
3−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エタン、m.p.:
27°、c.p.:107°。
例3 THF500ml中のトランス−4−n−ペンチルシクロヘキ
シルエチル−2,3−ジフルオロベンゼン0.2モルを−70℃
で、水分を排除し、窒素雰囲気の下に、TMEDA0.2モルお
よびBuLiのヘキサン中1.6N溶液131mlと反応させ、混合
物を−70℃で4時間攪拌する。THF100mlに溶解した4−
(トランス−4−n−プロピルシクロヘキシルエチル)
−シクロヘキサノン50gを次いでゆっくり加える。反応
混合物を室温までゆっくり温め、次いで稀HClにより加
水分解し、次いで通常の方法で仕上げ処理する。このよ
うにして得られた生成物の混合物をトルエン中に取り入
れ、水分離器の下に、少量のp−トルエンスルホン酸と
ともに加熱沸とうさせる。混合物を通常の方法で仕上げ
処理し、生成物を二倍モル量のDDQとともに、トルエン
中で2時間、還流の下に加熱する。反応混合物を次い
で、シリカゲルに通して過し、液を蒸発させ、残留
物を再結晶させる。4−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシルエチル)−4′−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシルエチル)−2,3−ジフルオロビフエニル
が得られる。
例4 CH2Cl2に溶解したジシクロヘキシルカルボジイミド
(DCC)0.1モルを0℃で、水分の排除の下に、CH2Cl230
0ml中の4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル−
4−オール0.1モル[この化合物は4′−ペンチル−2,3
−ジフルオロ−4−メトキシ−ビフエニルから、HBr/氷
酢酸によるエーテル開裂によつて得られる]、トランス
−4−n−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸0.1モル
および触媒量の4−N,N′−ジメチルアミノピリジン(D
MAP)に加える。混合物を次いで室温で12時間攪拌し、
沈殿したジシクロヘキシル尿素を分離し、残留物を通常
の方法で仕上げ処理する。生成物は結晶化により精製す
る。このようにして、4′−ペンチル−2,3−ジフルオ
ロビフエニル−4−イルトランス−4−n−ペンチルシ
クロヘキサンカルボキシレートが得られる。
例5 4′−n−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル−
4−オール0.1モルおよびトランス−4−n−ペンチル
シクロヘキシルメチエルヨーダイド0.1モルをジメチル
ホルムアミド(DMF)中の無水K2CO30.12モルの存在の下
に、おだやかに沸とうさせて加熱する。反応が完了した
時点で、混合物を通常の方法で仕上げ処理し、生成物は
クロマトフラフイおよび結晶化により精製する。このよ
うにして、トランス−4−n−ペンチルシクロヘキシル
メチル4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル−
4−イルエーテルが得られる、C(58° SC)30° SA
72° N 116° I。
同様にして、下記の化合物を製造する: トランス−4−n−ペンチルシクロヘキシルメチル
4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル−4−イ
ルエーテル トランス−4−n−プロピルシクロヘキシルメチル
4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル−4−イ
ルエーテル トランス−4−n−プロピルシクロヘキシルメチル
4′−ヘプチル−2,3−ジフルオロビフエニル−4−イ
ルエーテル トランス−4−n−ヘプチルシクロヘキシルメチル
4′−ヘプチル−2,3−ジフルオロビフエニル−4−イ
ルエーテル トランス−4−n−オクチルシクロヘキシルメチル
4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル−4−イ
ルエーテル、C 57° SA 97° N 110° I。
例6 オクチルオキシ−2,3−ジフルオロベンゼン0.1モルを
THF200ml中で、TMEDA0.1モルの存在の下に、−70℃にお
いて、ヘキサン中のBuLiの1.6N溶液0.105モルで金属化
し、3時間後−70℃で、混合物を4−ヘキシルシクロヘ
キサノン0.1モルと反応させる。反応混合物を室温まで
温め、次いで飽和NH4Cl溶液で加水分解し、MTBエーテル
で抽出し、次いで通常の方法で仕上げ処理する。生成物
の混合物をトルエン中に取り入れ、水分離器の下に、p
−トルエンスルホン酸2gの存在の下で沸とうさせる。こ
のトルエン溶液を次いで中性まで水で洗浄し、次いで乾
燥させ、DDQ0.2モルを加える。混合物を3時間、還流の
下に沸とうさせ、次いで冷却させ、短いシリカゲルカラ
ムに通す。生成物は結晶化により精製する。このように
して、4′−ヘプチル−2,3−ジフルオロ−4−オクチ
ルオキシビフエニルが得られる。
同様にして、下記の化合物を製造する: 4′−ペンチル−2,3−ジフルオロ−4−メトキシビ
フエニル、4′−オクチル−2,3−ジフルオロ−4−オ
クチルオキシビフエニル、4′−ノニル−2,3−ジフル
オロ−4−ノニルオキシビフエニル、4′−ペンチル−
2,3−ジフルオロオクチルオキシビフエニル、C18° N2
2.6° I。
例7 p−プロピルフエノール13.6gおよび2,3−ジフルオロ
−4−ペンチルオキシフエニル−4′−カルボン酸32g
[4−ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロビフエニル−
4′−カルボン酸の製造:ペンチルオキシ−2,3−ジフ
ルオロベンゼンをTHF中で−70℃において、慣用の条件
の下に、等モル量のブチルリチウムおよびTMEDAで金属
化し、反応混合物を次いで、−70℃で4時間攪拌し、次
いで、同一温度において、等モル量のトリイソプロピル
クロロ−オルトチタネートと反応させる。反応混合物を
−30℃までゆつくり温め、次いで等モル量のエチルシク
ロヘキサノン−4−カルボキシレートを加え、混合物を
室温までゆつくり温めながら、攪拌を12時間続ける。反
応混合物を氷冷した稀塩酸で加水分解し、短時間攪拌
し、次いでセライトに通して過する。液をMTBエー
テルで抽出し、有機相を乾燥させ、次いで蒸発させる。
残留物をエタノール中に取り、少量の塩酸を加え、混合
物を12時間、還流の下に沸とうさせる。水を加えた後
に、生成物を通常の方法で仕上げ処理し、次いでトルエ
ン中で二倍モル量のDDQとともに沸とうさせる。混合物
を次いで、通常の方法で仕上げ処理し、このエステルを
室温において、少し過剰のKOHエタノール溶液を用いて
ケン化する。この酸は結晶化により精製する]を先ず、
メチレンクロライド250ml中に、触媒量のDMAPとともに
取り入れ、次いでメチレンクロライド中のDCC0.1モルの
溶液を0℃で滴下して加える。反応混合物は室温で12時
間攪拌し、沈殿したジシクロヘキシル尿素を別し、有
機相を通常の方法で仕上げ処理する。このようにして、
p−プロピルフエニル4−ペンチルオキシ−2,3−ジフ
ルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレートを得
る。
同様にして、下記の化合物を製造する: p−ヘキシルフエニル4−ペンチルオキシ−2,3−ジ
フルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレート p−ヘキシルフエニル4−ヘプチルオキシ−2,3−ジ
フルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレート p−ヘキシルフエニル4−オクチルオキシ−2,3−ジ
フルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレート p−ヘキシルフエニル4−ノニルオキシ−2,3−ジフ
ルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレート p−ヘプチルフエニル4−オクチルオキシ−2,3−ジ
フルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレート p−オクチルフエニル4−オクチルオキシ−2,3−ジ
フルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレート、C1
58.6° C2 63.6° SC 121° SA 139.1° N 144.5°
I p−ノニルフエニル4−オクチルオキシ−2,3−ジフ
ルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレート p−ヘキシルオキシフエニル4−オクチルオキシ−2,
3−ジフルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレー
ト p−ヘプチルオキシフエニル4−オクチルオキシ−2,
3−ジフルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレー
ト p−オクチルオキシフエニル4−オクチルオキシ−2,
3−ジフルオロビフエニル−4′−イルカルボキシレー
ト、C 83.8° SC 151.7° SA 154.9° N 165.4° I 4−オクチル−3−フルオロフエニル4−オクチルオ
キシ−2,3−ジフルオロビフエニル−4′−イルカルボ
キシレート、4−オクチル−2−フルオロフエニル4−
オクチルオキシ−2,3−ジフルオロビフエニル−4′−
イルカルボキシレート、C 45.2° SC 84.3° N 120.7
° I、4−オクチルオキシ−2−フルオロフエニル4−
オクチルオキシ−2,3−ジフルオロフエニル−4′−イ
ルカルボキシレート、C 56.7° SC 103° N 141.6°
I、4−ヘプチル−2−フルオロフエニルヘプチル−2,3
−ジフルオロフエニル−4′−イルカルボキシレート、
C<20° N 83.4° I、トランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシル4−オクチルオキシ−2,3−ジフルオロビフエ
ニル−4′−イルカルボキシレート、C(67.8° SC
81.6° SA 97.5° N 132.4° I、4−ヘプチル−3−
フルオロフエニル4−オクチルオキシ−2,3−ジフルオ
ロビフエニル−4′−イルカルボキシレート、C 44.7°
SC (41°) SA 146° I、4−オクチルオキシ−3
−フルオロフエニル4−オクチルオキシ−2,3−ジフル
オロビフエニル−4′−イルカルボキシレート、C 83.6
° SC 116° SA 162.9° I。
例8 4−オクチルビシクロ[2.2.2]オクチルカルボキシ
ルクロライド0.0055モルを4′−オクチルオキシ−
2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−オール0.0055モ
ル[この化合物は4−オクチルオキシ−2,3−ジフルオ
ロフエニルジイソプロピルヒドロキシチタネートを、テ
トラキス(トリフエニルホスフイン)パラジウム(O)
を触媒として使用し、p−ベンジルオキシブロモベンゼ
ンとカツプリングさせることによつて得られる、4′−
オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−ベンジル
オキシビフエニルの水素添加分解による開裂によつて製
造される]、メチレンクロライド20mlおよびトリエチル
アミン1mlの混合物に加える。20℃で24時間攪拌し、通
常の方法で仕上げ処理した後に、4′−オクチルオキシ
−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル4−オク
チルビシクロ[2.2.2]オクチル−カルボキシレートが
得られる、C 57.1° SC 128.5° SA 156° N 177.5°
I。
同様にして、下記の化合物を製造する: 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロビフエ
ニル−4−イルトランス−4−ヘプチルシクロヘキシル
カルボキシレート、C 53° SC 132.8° SA 144.4° N
162° I 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロビフエ
ニル−4−イルトランス−4−ヘキシルシクロヘキシル
カルボキシレート、C 45° SC 129° SA 135.7° N 1
66.3° I 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロビフエ
ニル−4−イルトランス−4−オクチルシクロヘキシル
カルボキシレート、C 56° SC 133.6° SA 147° N 1
57° I 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
アセトキシビフエニル 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
プロピオニルオキシビフエニル 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
ブチリルオキシビフエニル 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
ペンタノイルオキシビフエニル 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
ヘキサノイルオキシビフエニル 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
ヘプタノイルオキシビフエニル、C 62.9° I 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
オクタノイルオキシビフエニル、C 54.9° SC 63.0°
N 66.5° I 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
ノナノイルオキシビフエニル、C 58° SC 63.1° N 6
3.5° I 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
(4−メチルヘキサノイルオキシ)−ビフエニル、C 38
° SC (32.5°) N (35.5°) I 4′−オクチルオキシ−2′,3′−ジフルオロ−4−
デカノイルオキシビフエニル、C 51.8° SC 71° I。
例9 ヘキサン中のn−BuLi溶液0.15モルを、−90℃におい
て、THF250mlの4′−n−ペンチル−2,3−ジフルオロ
ビフエニル0.1モル(この化合物は例3と同様にして、
1,2−ジフルオロベンゼンおよび4−ペンチルシクロヘ
キサノンから製造される)とカリウムtert−ブチレート
0.1モルとの混合物に滴下して加える。−85℃で10分
間、攪拌した後に、THF50ml中の1−(4−プロピルフ
エニル)−2−ヨードエタン0.1モルの溶液およびDMPU2
mlを滴下して加える。−40℃まで温め、通常の方法で仕
上げ処理した後に、1−(4′−n−ペンチル−2,3−
ジフルオロビフエニル−4−イル)−2−(4−プロピ
ルフエニル)−エタンを得る。
同様にして、下記の化合物を製造する: 1−(4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−エチルフエニル)−エタン 1−(4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ブチルフエニル)−エタン 1−(4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ペンチルフエニル)−エタ
ン 1−(4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ヘキシルフエニル)−エタ
ン 1−(4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ヘプチルフエニル)−エタ
ン 1−(4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−オクチルフエニル)−エタ
ン 1−(4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−エチルフエニル)−エタン 1−(4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ブチルフエニル)−エタン 1−(4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ペンチルフエニル)−エタ
ン 1−(4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ヘキシルフエニル)−エタ
ン 1−(4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−ヘプチルフエニル)−エタ
ン 1−(4′−プロピル−2,3−ジフルオロビフエニル
−4′−イル)−2−(4−オクチルフエニル)−エタ
ン。
例10 例1と同様にして、1−(4−プロピルフエニル)−
2−(4′−ペンチル−2′,3′−ジフルオロビフエニ
ル−4−イル)−エタンが3−ペンチル−1,2−ジフル
オロベンゼン0.1モルおよび4−(2−(4−プロピル
フエニル)−エチル)−シクロヘキサノン0.1モルから
得られる。
同様にして、下記の化合物が得られる: 1−(4−プロピルフエニル)−2−(4′−エチル
−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エタ
ン 1−(4−プロピルフエニル)−2−(4′−プロピ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−プロピルフエニル)−2−(4′−ブチル
−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エタ
ン 1−(4−プロピルフエニル)−2−(4′−ヘキシ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−プロピルフエニル)−2−(4′−ヘプチ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−プロピルフエニル)−2−(4′−オクチ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−ペンチルフエニル)−2−(4′−エトキ
シ−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン、C 63.7° N 101.2° I 1−(4−ペンチルフエニル)−2−(4′−プロピ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−ペンチルフエニル)−2−(4′−プロピ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−ペンチルフエニル)−2−(4′−ヘキシ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−ペンチルフエニル)−2−(4′−ヘプチ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 1−(4−ペンチルフエニル)−2−(4′−オクチ
ル−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イル)−エ
タン 次例は本発明による液晶相に関するものである: 例A 2−p−ヘプチルオキシフエニル−5−オクチルピリ
ミジン 7%、 2−p−オクチルオキシフエニル−5−オクチルピリ
ミジン 11%、 2−p−ヘキシルオキシフエニル−5−ノニルピリミ
ジン 6%、 2−p−ノニルルオキシフエニル−5−ノニルピリミ
ジン 14%、 4′−オクチル−2,3−ジフルオロ−4−オクチルオ
キシビフエニル 5%、 4′−ノニル−2,3−ジフルオロ−4−ノニルオキシ
ビフエニル 7%、 p−ヘキシルフエニル4−ペンチルオキシ−2,3−ジ
フルオロビフエニル−4′−カルボキシレート 8%、 r−1−シアノ−シス−4−(4′−オクチルオキシ
ビフエニル−4−イル)−1−オクチルシクロヘキサン
20%、 r−1−シアノ−シス−4−(4′−オクチルビフエ
ニル−4−イル)−1−ブチルシクロヘキサン 12%お
よび 光学活性p−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)
−フエニル2−シアノ−2−メチルヘキサノエート 10
% よりなる液晶相はSC*59° SA 61° Ch 78° Iおよ
び室温で18nC/cmの自発分極を示す。
例B p−トランス−4−エチルシクロヘキシル−ベンゾニ
トリル 10%、 p−トランス−4−プロピルシクロヘキシル−ベンゾ
ニトリル 14%、 p−トランス−4−ブチルシクロヘキシル−ベンゾニ
トリル 11%、 p−トランス−4−ペンチルシクロヘキシル−ベンゾ
ニトリル 19%、 1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−2
−(4′−エトキシ−2′,3′−ジフルオロビフエニル
−4−イル)−エタン 9%、 1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−2
−(4′−ペンチルオキシ−2′,3′−ジフルオロビフ
エニル−4−イル)−エタン 8%、 4,4′−ビス−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)−ビフエニル 3%、 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−
4′(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−ビフ
エニル 5%、 トランス−4−プロピルシクロヘキシルトランス,ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシルシクロヘキサン−
4′−カルボキシレート 2%、 トランス−4−プロピルシクロヘキシルトランス,ト
ランス−4−ブチルシクロヘキシルシクロヘキサン−
4′−カルボキシレート 3%、 4′−ペンチル−2,3−ジフルオロビフエニル−4−
イルトランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボキシ
レート 5%、 トランス−4−プロピルシクロヘキシルトランス−4
−プロピルシクロヘキサンカルボキシレート 6%およ
び トランス−4−プロピルシクロヘキシルトランス−4
−ペンチルシクロヘキサンカルボキシレート 5% よりなるネマテイツク液晶相は広い動作温度範囲、低い
複屈折および低いしきい電圧によつてきわ立つている。
例C 4−ヘプチル−2−フルオロフエニル4′−ヘプチル
オキシビフエニル−4−イルカルボキシレート 16.87
%、 4−ヘプチル−2−フルオロフエニル4′−ヘプチル
オキシ−2′−フルオロビフエニル−4−イルカルボキ
シレート 16.87%、 4−オクチル−2−フルオロフエニル4′−オクチル
オキシ−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イルカ
ルボキシレート 16.87%、 4−オクチルオキシ−3−フルオロフエニル4−オク
チルオキシベンゾエート 14%、 4−ヘキシルオキシ−3−フルオロフエニル4−オク
チルオキシベンゾエート 14%、 4−オクチルオキシ−2−フルオロフエニル4−ペン
チルベンゾエート 10%、 4−ヘプチル−3−フルオロフエニル4′−オクチル
オキシ−2′,3′−ジフルオロビフエニル−4−イルカ
ルボキシレート 9%および カイラル1−シアノ−2−メチルプロピル4′−オク
チルオキシビフエニル−4−イルカルボキシレート 2.
4% よりなる液晶相はSC*71.8° SA 81° Ch 103.8° Iお
よび高い自発分極を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 69/75 C07C 69/75 C 69/753 69/753 Z 69/757 69/757 C 69/94 69/94 C09K 19/20 C09K 19/20 19/30 19/30 19/46 19/46 19/54 19/54 G02F 1/13 500 G02F 1/13 500 (72)発明者 ヴエツヒトラー,アンドレアス ドイツ連邦共和国D‐6103グリースハイ ム、ゲーテシユトラーセ34 (72)発明者 ヴエーベル,ゲオルグ ドイツ連邦共和国D‐6106エルツハウゼ ン、ウイルヘルム‐ロイシユナー‐シユ トラーセ38 (72)発明者 フインケンツエラー,ウルリツヒ ドイツ連邦共和国D‐6831プランクシユ タツト、ヴアルトプフアツト74 (72)発明者 コーツ,デイビツド イギリス国ドーセツトBH21 3SW、 ウインボーン、マーレイ、ソツプウイズ クレツセント 87 (72)発明者 セイジ,イアン チヤールズ イギリス国ドーセツトBH18 8EG、 ブロードストーン、ウエントワース ド ライブ 58 (72)発明者 グリーンフイールド,サイモン イギリス国BH17 7YA、プール、ク リークムーア、ブラツクバード クロー ズ 2 (72)発明者 グレイ,ジヨージ ウイリアム イギリス国ノース ハンバーサイドHU 16 4DZ、コツテインガム、ニユーゲ ート ストリート、グレンウツド (無 番地) (72)発明者 ハード,マイケル イギリス国ノース ハンバーサイドHU 4 7BZ、ハル、アンラビー パーク ロード サウス22 (72)発明者 レイシー,デイビツド イギリス国ノース ハンバーサイドHU 18 9NN、ハル、キルデール クロー ズ 19 (72)発明者 トイン,ケネス ジヨンソン イギリス国ノース ハンバーサイドHU 6 8QW、ハル、ホール ロード 25 (56)参考文献 特表 平1−503387(JP,A) 特表 平6−502382(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 25/18 C07C 39/367 C07C 43/225 C07C 69/00 C09K 19/00 G02F 1/13

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】4−Q1−4′−Q2−2,3−ジフルオロビフ
    エニルである、2、3又は4環化合物 [Q1およびQ2は、相互に独立して、それぞれ、Rまたは
    R−A1−A2−Z−であり、 RはC原子1〜15個を有するアルキルまたはC原子3〜
    15個を有するアルケニルであり、これらの基はそれぞ
    れ、非置換であるか、あるいは置換基として少なくとも
    1個のフツ素または塩素を有し、そしてこれらの各基中
    に存在する1個のCH2基または隣接していない2個のCH2
    基はまた、−O−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−ま
    たは−O−COO−により置き換えられていてもよく、 Zは−COO−、−O−CO−、−CH2O−、−O−CH2−、−
    CH2CH2−または単結合であり、そして A1およびA2は、相互に独立して、それぞれ1,4−フエニ
    レンであり、この基は非置換であるか、あるいは1個ま
    たは2個のフツ素原子により置換されており、あるいは
    A1およびA2は、それぞれトランス−1,4−シクロヘキシ
    レンであり、この基中に存在する1個のCH2基または隣
    接していない2個のCH2基はまた、−O−により置き換
    えられていてもよく、そして2個の基A1および基A2のう
    ちの一つはまた、単結合であることもできる。 ただし、基Q1または基Q2のうちの一つがアルキルまたは
    アルコキシであり、そして他の基Q1または基Q2がR−A1
    −A2−Z(式中、2個の基A1および基A2のうちの一つは
    単結合である)である場合には、Zは−CO−O−、−O
    −CO−、−CH2O−、−OCH2または−CH2CH2−である。 また基Q1または基Q2のうちの一つがR−A1−A2−Z(式
    中、Zは単結合、A1とA2は1,4−フエニレン)であり、
    そして他の基Q1または基Q2がRである化合物、 及び 基Q1と基Q2がともにR−A1−A2−Zで、一方のA1及びA2
    がそれぞれ1,4−フェニレン、他方のA1及びA2がそれぞ
    れ単結合であり、Zは両方とも単結合である化合物 を除く。]
  2. 【請求項2】式Ia〜式In R−BPF2−R Ie R−A1−Z−BPF2−R Ih R−BPF2−Z−A1−R− Ii R−A1−BPF2−A1−R Ij R−A1−Z−BPF2−A1−R Ik R−A1−BPF2−Z−A1−R Il R−A1−A2−BPF2−R Im R−BPF2−A1−A2−R In [各式中、Rはアルキル、アルコキシ、アルケニル又は
    アルコキシメチルである]である、請求項1に記載の化
    合物。
  3. 【請求項3】R−BPF2−R Ie R−A1−Z−BPF2−R Ih R−BPF2−Z−A1−R Ii である、請求項1に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 である、請求項1に記載の化合物。
  5. 【請求項5】式Iaおよび式Ib [各式中、R1およびR2は、相互に独立して、それぞれC
    原子1〜15個を有するアルキルである] で示されるジフルオロビフエニル化合物。
  6. 【請求項6】請求項1に記載の4−Q1−4′−Q2−2,3
    −ジフルオロビフエニル化合物の製造方法であつて、C
    −C二重結合の代りに、2つの隣接したH原子を含む化
    合物を酸化剤で処理するか、あるいはZが−CO−O−ま
    たは−O−CO−であり、そして(または)R中に存在す
    るCH2基の少なくとも一つが−O−CO−、−CO−O−ま
    たは−O−COO−により置き換えられているエステルを
    製造するために、カルボン酸化合物またはその反応性誘
    導体の一種をアルコール化合物またはその反応性誘導体
    の一種と反応させるか、あるいはZが−CH2O−または−
    OCH2であり、そして(または)R中に存在するCH2基の
    少なくとも一つが−O−により置き換えられているエー
    テルを製造するために、ヒドロキシル化合物をエーテル
    化することを特徴とする製造方法。
  7. 【請求項7】式Icおよび式Id (各式中、Q1は前記の意味を有し、そしてXはOH、COOH
    またはハロゲンである 但し、式Icの場合、XがOHで、Q1がヘプチルであるも
    の、 式Idの場合、XがOHで、Q1ヘプチルであるもの又は XがCOOHで、Q1がC1-12アルキル又はC1-12アルコキシで
    あるもの を除く) で示される、4−Q1−4′−Q2−2,3−ジフルオロビフ
    エニル化合物を製造するための中間生成物。
  8. 【請求項8】式Ie R−BPF2−R Ie (式中、Rは、それぞれ、独立に、請求項1に記載の意
    味を有し、そして、BPF2は式、 で示される基である) で示される2,3−ジフルオロビフエニル化合物。
  9. 【請求項9】少なくとも二種の液晶成分を含有する液晶
    媒体であつて、少なくとも一種の成分が請求項1に記載
    の化合物であることを特徴とする前記液晶媒体。
  10. 【請求項10】請求項9に記載の液晶媒体を誘電体とし
    て含有することを特徴とする、電気光学表示素子。
JP1502561A 1988-03-10 1989-02-27 2,3‐ジフルオロビフエニル化合物 Expired - Lifetime JP2764331B2 (ja)

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DE3807861.9 1988-03-10
DE3807861A DE3807861A1 (de) 1988-03-10 1988-03-10 2,3-difluorbiphenyle

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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR9007097A (pt) * 1989-12-06 1992-02-18 Merck Patent Gmbh Compostos de 2,6-difluorbenzeno 1,4-dissubstituidos e meio cristalino liquido
EP0450368A3 (en) * 1990-03-31 1992-03-18 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschraenkter Haftung Liquid crystal display and liquid crystal mixture
US5288428A (en) * 1990-08-15 1994-02-22 Hoffmann-La Roche Inc. Liquid crystal compounds having a terminal alkoxy propenyl group
DE4027981A1 (de) * 1990-09-04 1992-04-30 Merck Patent Gmbh Matrix-fluessigkristallanzeige
JP2977410B2 (ja) * 1993-04-26 1999-11-15 シャープ株式会社 強誘電性液晶組成物およびこれを用いた素子
GB9413324D0 (en) * 1994-07-01 1994-08-24 Secr Defence Liquid crystal compounds, mixtures and devices
AU1812097A (en) * 1996-02-29 1997-09-16 Chisso Corporation Liquid crystal compounds having fluorinated 1,4-phenylene skeletons, liquid crystal compositions, and liquid crystal display devices
JP3231333B2 (ja) * 1996-04-02 2001-11-19 チッソ株式会社 液晶性化合物、この液晶性化合物を含有する液晶組成物、及び液晶組成物を用いた液晶表示素子
TW448229B (en) * 1996-05-14 2001-08-01 Mitsubishi Gas Chemical Co Optically active compound, liquid crystal compositions containing the optically active compound, and liquid crystal display device
JP4547742B2 (ja) 1999-10-13 2010-09-22 チッソ株式会社 液晶組成物および液晶表示素子
DE502006004279D1 (de) * 2005-05-21 2009-09-03 Merck Patent Gmbh Flüssigkristallines Medium
ATE517968T1 (de) * 2006-09-06 2011-08-15 Jnc Corp Cyclohexen-derivate mit alkenyl, flüssigkristallzusammensetzung und flüssigkristallanzeigevorrichtung
EP1897928B1 (en) 2006-09-06 2010-10-27 Chisso Corporation Chlorofluorobenzene liquid crystal compound, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP5352972B2 (ja) * 2007-08-01 2013-11-27 Jnc株式会社 液晶組成物および液晶表示素子
KR101510912B1 (ko) 2007-09-10 2015-04-10 제이엔씨 석유 화학 주식회사 액정성 화합물, 액정 조성물 및 액정 표시 소자
EP2562233B1 (en) 2010-04-22 2019-07-17 JNC Corporation Liquid crystal composition and liquid crystal display element
TWI518171B (zh) 2010-06-03 2016-01-21 捷恩智股份有限公司 液晶組成物及液晶顯示元件
JP5849664B2 (ja) 2011-01-31 2016-02-03 Jnc株式会社 液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子
CN106459766B (zh) 2014-07-25 2017-12-05 Dic株式会社 液晶组合物及使用其的液晶显示元件
JP6467807B2 (ja) 2014-08-08 2019-02-13 Jnc株式会社 ブテン結合基を有する液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子
CN115216307B (zh) * 2021-04-15 2024-02-20 河北迈尔斯通电子材料有限公司 一种低阈值低功耗低粘度的液晶组合物

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0019665B2 (de) * 1979-05-28 1987-12-16 MERCK PATENT GmbH Flüssigkristalline Verbindungen
DE2933563A1 (de) * 1979-07-18 1981-02-05 Bbc Brown Boveri & Cie Anisotrope verbindungen mit negativer dk-anisotropie
DE2939782A1 (de) * 1979-09-07 1981-04-02 BBC AG Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau Aromatische verbindungen mit negativer dk-anisotropie
DE3042391A1 (de) * 1980-11-10 1982-06-16 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fluorhaltige cyclohexylbiphenylderivate, diese enthaltende dielektrika und elektrooptisches anzeigeelement
DE3270906D1 (en) * 1982-01-14 1986-06-05 Merck Patent Gmbh Liquid crystal mixtures
EP0085995B1 (de) * 1982-02-04 1986-04-09 MERCK PATENT GmbH Anisotrope Verbindungen und Flüssigkristallmischungen
DE3209178A1 (de) * 1982-03-13 1983-09-15 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Polyhalogenaromaten
US4985583A (en) * 1982-08-26 1991-01-15 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Cyclohexane derivatives
DE3317597A1 (de) * 1983-05-14 1984-11-15 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Bicyclohexylethane
GB8314077D0 (en) * 1983-05-20 1983-06-29 Secr Defence Disubstituted ethanes
EP0133489B1 (de) * 1983-08-04 1988-01-20 MERCK PATENT GmbH Nematische Verbindungen
DE3401320A1 (de) * 1984-01-17 1985-07-25 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Ethanderivate
CH660003A5 (de) * 1984-04-16 1987-03-13 Merck Patent Gmbh Anisotrope verbindungen und fk-mischungen mit diesen.
DE3575158D1 (de) * 1984-07-12 1990-02-08 Hoffmann La Roche Fluessigkristalline gemische enthaltend komponenten mit einer 4-alkenyl- oder 2z-alkenyl-seitenkette.
DE3506446A1 (de) * 1985-02-23 1986-08-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Pyrimidinderivate
JPH0825957B2 (ja) * 1985-03-12 1996-03-13 チッソ株式会社 ジフルオロ芳香族化合物
JPS61210056A (ja) * 1985-03-14 1986-09-18 Chisso Corp 含ハロゲン光学活性液晶化合物及び液晶組成物
DE3515373A1 (de) * 1985-04-27 1986-11-06 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Stickstoffhaltige heterocyclen
DE3518734A1 (de) * 1985-05-24 1986-11-27 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Smektische fluessigkristalline phasen
GB8520715D0 (en) * 1985-08-19 1985-09-25 Secr Defence Secondary alcohol derivatives
WO1987005012A2 (en) * 1986-02-21 1987-08-27 The Secretary Of State For Defence In Her Britanni Liquid crystal compounds, mixtures and devices
DE3788243D1 (de) * 1986-05-22 1994-01-05 Hoffmann La Roche Flüssigkristalline Derivate von Phenylbenzoat.
JPH07100790B2 (ja) * 1986-09-01 1995-11-01 チッソ株式会社 ネマチツク液晶組成物
WO1988002130A2 (en) * 1986-09-16 1988-03-24 MERCK Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung Liquid crystal phases for electro-optic display elements based on the ecb effect
DD257638A1 (de) * 1987-02-19 1988-06-22 Univ Halle Wittenberg Ferroelektrische fluessigkristalle
DE3717484A1 (de) * 1987-05-23 1988-12-01 Merck Patent Gmbh Cyclobutanderivate
DE3880499T2 (de) * 1987-12-18 1993-10-14 Secr Defence Brit Cyanhydrinderivate und deren verwendung in flüssigkristallmaterialien und vorrichtungen.
DE3807910A1 (de) * 1988-03-10 1989-09-21 Merck Patent Gmbh Verfahren zur herstellung von 2,3-difluorbenzolen
US4897216A (en) * 1988-03-10 1990-01-30 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung 2,3-difluorophenol derivatives
US4925590A (en) * 1988-03-10 1990-05-15 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Derivatives of 4-cyano-2,3-difluorophenol

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KR900700567A (ko) 1990-08-16
EP0362318A1 (de) 1990-04-11
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US5204019A (en) 1993-04-20

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