JPH02289529A - ジフルオロメチレン化合物 - Google Patents
ジフルオロメチレン化合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は下記の式Iで示されるジフルオロメチレン化合
物に関する: R’−(A’−Z’)n+−A”−Q−CFt−(A3
−Z”)n−A’−R” 1〔式中 R1および
R2は、それぞれ相互に独立して、CyK子1〜15個
をそれぞれ有するアルキル基またはアルケニル基であり
、この基は、それぞれ非置換であるか、あるいは置換基
として1個のCNまたはCF3を有するか、あるいは置
換基として少なくとも1個のハロゲンを有し、そしてこ
れらの基中に存在する1個または2個以上のCH,基は
、それぞれ相互に独立して、0原子が相互に直接に結合
しないものとして、−〇−ベΣ、(Σ、−CO−1〜c
o:o−l−0−CO−または−o−co−o−により
置き換えられていてもよく、そしてまた、基R1および
基R2のうちの一つはlIH%ハロゲン、−CNまたは
−NC5であることができ、AI A2およびA3は
、それぞれ相互に独立して、 (a)トランス−1,4−シクロヘキシレン基であり、
この基中に存在する1個のCH,基または隣接していな
い2個以上のCH,基はまた、−〇−および(または)
−8−により置き換えられていてもよく、 (b)1.4−フェニレン基であり、この基中に存在す
る1個または2個のCH基はまた、Nにより置き換えら
れていてもよく、 (C) 1.4−シクロヘキセニレン、1.3−シクロ
ブチレン、1.4−ビシクロ(2,2,2)オクチレン
、ピペリジン−1,4−ジイル、ナフタレン−2,6−
ジイル、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイルおよび
1,2,3.4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジ
イルよりなる群から選ばれる基であり、上記の基(a)
および(b)は、置換基として、CNまたはフッ素を有
していてもよく、 A4は AI、A2およびA3の定義のうちの一つを有
し、あるいはn=0の場合には、A4はまた、単結合で
あることができ、 ZlおよびZ2は、それぞれ相互に独立して、−CO−
O−1〜O−CO−1〜CH,0−1〜0cl(、−1
〜CHtCHz−1CH=CH−1〜C=C−または単
結合であり、mは1,2または3であり、 nは0、lまたは2であり、 Qは、−CO−1〜〇−または−3−である、ただし、 (a)(m+n)はl、2または3であり、(b)n−
0、Q−0およびAIが単結合である場合には、R2は
塩素または一〇Nであり、(c) n = 01Q−3
およびAIが単結合である場合には R1はハロゲンま
たは一〇Nであり、そして (d)n=o、Q=COおよびAIが単結合である場合
には R2はH1ハロゲンまたは−CNである〕。
物に関する: R’−(A’−Z’)n+−A”−Q−CFt−(A3
−Z”)n−A’−R” 1〔式中 R1および
R2は、それぞれ相互に独立して、CyK子1〜15個
をそれぞれ有するアルキル基またはアルケニル基であり
、この基は、それぞれ非置換であるか、あるいは置換基
として1個のCNまたはCF3を有するか、あるいは置
換基として少なくとも1個のハロゲンを有し、そしてこ
れらの基中に存在する1個または2個以上のCH,基は
、それぞれ相互に独立して、0原子が相互に直接に結合
しないものとして、−〇−ベΣ、(Σ、−CO−1〜c
o:o−l−0−CO−または−o−co−o−により
置き換えられていてもよく、そしてまた、基R1および
基R2のうちの一つはlIH%ハロゲン、−CNまたは
−NC5であることができ、AI A2およびA3は
、それぞれ相互に独立して、 (a)トランス−1,4−シクロヘキシレン基であり、
この基中に存在する1個のCH,基または隣接していな
い2個以上のCH,基はまた、−〇−および(または)
−8−により置き換えられていてもよく、 (b)1.4−フェニレン基であり、この基中に存在す
る1個または2個のCH基はまた、Nにより置き換えら
れていてもよく、 (C) 1.4−シクロヘキセニレン、1.3−シクロ
ブチレン、1.4−ビシクロ(2,2,2)オクチレン
、ピペリジン−1,4−ジイル、ナフタレン−2,6−
ジイル、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイルおよび
1,2,3.4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジ
イルよりなる群から選ばれる基であり、上記の基(a)
および(b)は、置換基として、CNまたはフッ素を有
していてもよく、 A4は AI、A2およびA3の定義のうちの一つを有
し、あるいはn=0の場合には、A4はまた、単結合で
あることができ、 ZlおよびZ2は、それぞれ相互に独立して、−CO−
O−1〜O−CO−1〜CH,0−1〜0cl(、−1
〜CHtCHz−1CH=CH−1〜C=C−または単
結合であり、mは1,2または3であり、 nは0、lまたは2であり、 Qは、−CO−1〜〇−または−3−である、ただし、 (a)(m+n)はl、2または3であり、(b)n−
0、Q−0およびAIが単結合である場合には、R2は
塩素または一〇Nであり、(c) n = 01Q−3
およびAIが単結合である場合には R1はハロゲンま
たは一〇Nであり、そして (d)n=o、Q=COおよびAIが単結合である場合
には R2はH1ハロゲンまたは−CNである〕。
本発明はさらにまた、これらの化合物を液晶相の成分と
して使用することに関し、そしてまた、本発明は本発明
に係る液晶相を含有する液晶表示素子および電気光学表
示素子に関する。
して使用することに関し、そしてまた、本発明は本発明
に係る液晶相を含有する液晶表示素子および電気光学表
示素子に関する。
式Iで示される化合物は液晶相、特にt;とえばSTN
またはSBEなどの大きいねじれを有する変型セルを含
むねじれセルの原則、ゲスト−ホスト効果、整列相の変
形の効果、あるいは動的散乱の効果にもとづく表示体用
の液晶相の成分として使用することができる。
またはSBEなどの大きいねじれを有する変型セルを含
むねじれセルの原則、ゲスト−ホスト効果、整列相の変
形の効果、あるいは動的散乱の効果にもとづく表示体用
の液晶相の成分として使用することができる。
本発明の目的は、液晶相の成分として適しており、特に
比較的低い粘度および中程度の正の誘電異方性を有する
、新規で安定な液晶化合物またはメソーゲン性化合物を
見い出すことにあつ tこ 。
比較的低い粘度および中程度の正の誘電異方性を有する
、新規で安定な液晶化合物またはメソーゲン性化合物を
見い出すことにあつ tこ 。
ここに、式Iで示される化合物が液晶相の成分として格
別に適することが見い出された。特に、これらの化合物
は比較的低い粘度を有する。
別に適することが見い出された。特に、これらの化合物
は比較的低い粘度を有する。
これらの化合物を使用することによって、広いメンフェ
ース範囲および有利な光学異方性値および誘電異方性値
を有し、同時に、非常に好ましい比抵抗値を有する点で
きわ立っている、安定な液晶相を得ることができる。こ
の物性は、特にアクティブマトリックス表示体またはス
ーパーツイスト表示体用の相の場合には、格別に有利で
ある。
ース範囲および有利な光学異方性値および誘電異方性値
を有し、同時に、非常に好ましい比抵抗値を有する点で
きわ立っている、安定な液晶相を得ることができる。こ
の物性は、特にアクティブマトリックス表示体またはス
ーパーツイスト表示体用の相の場合には、格別に有利で
ある。
液晶物性を有し、そして1個の末端0CHF、基を有す
る類似の化合物はすでに開示されている。
る類似の化合物はすでに開示されている。
一方では、この相当する化合物に対し、結晶構造の研究
が行なわれている(S、V、 5ereda%によるK
ristallografiya、 32 (5)、
1165 (1987)および同書33 (1) 11
8 (1988))。しかしながら、本発明に係る化合
物に対して、これらの化合物は窒素含有架橋員を含有し
ている。他方で、V、V、 Titov等は、Mo1.
Cryst、 Liq、 Cryst、 47(1〜
2)、 l (1978)において、p位置に0CHF
、基を有する安息香酸エステル化合物を開示した。しか
しながら、これらの化合物は一般に、比較的不利な誘電
異方性値を有し、かつまた最近の表示体用途に対し、本
発明に係る化合物に比較して、相当に劣っている。
が行なわれている(S、V、 5ereda%によるK
ristallografiya、 32 (5)、
1165 (1987)および同書33 (1) 11
8 (1988))。しかしながら、本発明に係る化合
物に対して、これらの化合物は窒素含有架橋員を含有し
ている。他方で、V、V、 Titov等は、Mo1.
Cryst、 Liq、 Cryst、 47(1〜
2)、 l (1978)において、p位置に0CHF
、基を有する安息香酸エステル化合物を開示した。しか
しながら、これらの化合物は一般に、比較的不利な誘電
異方性値を有し、かつまた最近の表示体用途に対し、本
発明に係る化合物に比較して、相当に劣っている。
さらにまた、式Iで示される化合物を提供することによ
って、種々の適用の観点から、液晶混合物の調製に適す
る液晶物質の範囲が非常に一般的に相当に拡大される。
って、種々の適用の観点から、液晶混合物の調製に適す
る液晶物質の範囲が非常に一般的に相当に拡大される。
式Iで示される化合物は広い適用分野を有する。置換基
を選択することによって、これらの化合物は液晶相を主
として構成する基材として使用することができる。しか
しながら、これらの化合物はまた、たとえばこのタイプ
の誘電体の誘電異方性および(または)光学異方性に影
響を与えるために、そして(あるいは)そのしきい電圧
および(または)その粘度を最適にするために、別の種
類の化合物からの液晶基材に添加することもできる。
を選択することによって、これらの化合物は液晶相を主
として構成する基材として使用することができる。しか
しながら、これらの化合物はまた、たとえばこのタイプ
の誘電体の誘電異方性および(または)光学異方性に影
響を与えるために、そして(あるいは)そのしきい電圧
および(または)その粘度を最適にするために、別の種
類の化合物からの液晶基材に添加することもできる。
式Iで示される化合物は、純粋な状態で、無色であり、
電気光学用途に対して非常に好ましい温度範囲で液晶メ
ンフェースを形成する。これらの化合物は、化学的に、
熱的に、かつまた光に対して安定である。
電気光学用途に対して非常に好ましい温度範囲で液晶メ
ンフェースを形成する。これらの化合物は、化学的に、
熱的に、かつまた光に対して安定である。
本発明はまた、式Iで示される化合物、特に次式■lで
示される化合物: R’−(A’−Z’)lIl−A”−5−CFz−R”
I 1(式中、R’% A’% Z’、 mお
よびA2は前記定義のとおりであり、モしてR2はフッ
素、塩素または−CNである) および次式I2で示される化合物: R’−(A’−Z’)lII−A”−0−CF、−R”
I 2(式中、R1%AI、 zl、mおよび
A2は、上記定義のとおりであり、そしてR1は−CN
または塩素である) および次式■3で示される化合物: R’−(A’−Z’)lll−A”−CO−CF、−R
’ I 3(式中、R1、A1、Zl、mおよび
A2は、上記定義のとおりであり、モしてR2はH1フ
ッ素、塩素または−CNである) に関するものである。
示される化合物: R’−(A’−Z’)lIl−A”−5−CFz−R”
I 1(式中、R’% A’% Z’、 mお
よびA2は前記定義のとおりであり、モしてR2はフッ
素、塩素または−CNである) および次式I2で示される化合物: R’−(A’−Z’)lII−A”−0−CF、−R”
I 2(式中、R1%AI、 zl、mおよび
A2は、上記定義のとおりであり、そしてR1は−CN
または塩素である) および次式■3で示される化合物: R’−(A’−Z’)lll−A”−CO−CF、−R
’ I 3(式中、R1、A1、Zl、mおよび
A2は、上記定義のとおりであり、モしてR2はH1フ
ッ素、塩素または−CNである) に関するものである。
本発明はまた、これらの化合物を液晶相の成分として使
用するこ七に関する。本発明はさらにまた、式Iで示さ
れる化合物のうちの少なくとも一種を含有する液晶相に
関し、またこのタイプの相を含有する液晶表示素子、特
に電気光学表示素子に関する。
用するこ七に関する。本発明はさらにまた、式Iで示さ
れる化合物のうちの少なくとも一種を含有する液晶相に
関し、またこのタイプの相を含有する液晶表示素子、特
に電気光学表示素子に関する。
簡潔にするために、以下の記載において、Xは一〇−C
F、−であり、Cycは1.4−シクロヘキシレン基で
あり、Cheは1.4−シクロヘキセニレン基であり、
Dioは1.3−ジオキサン−2,5−ジイル基であり
、Dialよ1.3−ジチアン−2,5−ジイル基であ
り、Pheは1.4−7エニレン基であり、Pydはピ
リジン−2,5−ジイル基であり、Pyrはピリミジン
−2,5−ジイル基であり、モしてBiはビシクロ(2
,2,2)オクチレン基であるものとし、このCycお
よび(または) Pheは非置換であるか、あるいは置
換基として、1個または2個のFまI;はCNを有する
ことができるものとする。
F、−であり、Cycは1.4−シクロヘキシレン基で
あり、Cheは1.4−シクロヘキセニレン基であり、
Dioは1.3−ジオキサン−2,5−ジイル基であり
、Dialよ1.3−ジチアン−2,5−ジイル基であ
り、Pheは1.4−7エニレン基であり、Pydはピ
リジン−2,5−ジイル基であり、Pyrはピリミジン
−2,5−ジイル基であり、モしてBiはビシクロ(2
,2,2)オクチレン基であるものとし、このCycお
よび(または) Pheは非置換であるか、あるいは置
換基として、1個または2個のFまI;はCNを有する
ことができるものとする。
従って、式Iで示される化合物は、付属式I a
AII c : R’−A’−A”−X−R” I a
R’−A’−Z’−A”−X−R” I
bR’−A”−X−A’−R” I
cで示される、2個の環を有する化合物、付属式1式
%: で示される、3個の環を有する化合物、付属式1l−1
y: R’−A’−A’−A’−A”−X−R”R’−A’−
Z’−A’−A’−A”−X−R”R’−A’−A’−
Z’−A’−A’−X−R”R’−A’−A’−A’−
Z−A”−X−R”R’−A’−Z’−A’−Z’−A
’−A”−X−R”R’ −A ’ −Z ’ −A
’ −A ’ −Z ’−A″−X−R”R’−A’−
A’−Z’−AI−Z’−A”−X−R’R’−A’−
Z’−A’−Z’−A’−Z”−A”−X−R”R’−
A’−A’−A”−X−A’−R”R’−A’−A’−
X−A’−A’−R2I uR’−A”−X−A3−
A”−A’−R2I vR’−A’−Z’−A’−A
’−X−A’−R” I wR’−A
’−A’−Z’−A”−X−A’−R”
I xR’−A’−Z’−A”−X−A3−A’−
R” I yで示される、4個の環を
有する化合物を包含する。
AII c : R’−A’−A”−X−R” I a
R’−A’−Z’−A”−X−R” I
bR’−A”−X−A’−R” I
cで示される、2個の環を有する化合物、付属式1式
%: で示される、3個の環を有する化合物、付属式1l−1
y: R’−A’−A’−A’−A”−X−R”R’−A’−
Z’−A’−A’−A”−X−R”R’−A’−A’−
Z’−A’−A’−X−R”R’−A’−A’−A’−
Z−A”−X−R”R’−A’−Z’−A’−Z’−A
’−A”−X−R”R’ −A ’ −Z ’ −A
’ −A ’ −Z ’−A″−X−R”R’−A’−
A’−Z’−AI−Z’−A”−X−R’R’−A’−
Z’−A’−Z’−A’−Z”−A”−X−R”R’−
A’−A’−A”−X−A’−R”R’−A’−A’−
X−A’−A’−R2I uR’−A”−X−A3−
A”−A’−R2I vR’−A’−Z’−A’−A
’−X−A’−R” I wR’−A
’−A’−Z’−A”−X−A’−R”
I xR’−A’−Z’−A”−X−A3−A’−
R” I yで示される、4個の環を
有する化合物を包含する。
これらの化合物の中で、付属式のIa、Ib。
Ic、Id%Ie、Ifs IgSIh、IiおよびI
Iで示される化合物は、特に好ましい。
Iで示される化合物は、特に好ましい。
付属式1aで示される好ましい化合物は、下記の付属式
1aa〜Iahで示される化合物を包含する: R’−Phe−Phe−X−R” I
aaR’−Phe−Cyc−X−R”
I abR’−Dio−Phe−X−R”
I acR’−Pyr−Phe−X−R”
I adR’−Pyd−Phe−X−
R” I asR’−Cyc−Phe
−X−R” I afR’−Cyc−
Cyc−X−R” I agR’−C
he−Phe−X−R”
I ahこれらの化合物の中では、付属式のI a
a。
1aa〜Iahで示される化合物を包含する: R’−Phe−Phe−X−R” I
aaR’−Phe−Cyc−X−R”
I abR’−Dio−Phe−X−R”
I acR’−Pyr−Phe−X−R”
I adR’−Pyd−Phe−X−
R” I asR’−Cyc−Phe
−X−R” I afR’−Cyc−
Cyc−X−R” I agR’−C
he−Phe−X−R”
I ahこれらの化合物の中では、付属式のI a
a。
I ab、 I ac%I ad、 I afおよ
びIagで示される化合物が特に好ましい。
びIagで示される化合物が特に好ましい。
付属式Ibで示される好ましい化合物は、下記の付属式
I ba” I bmで示される化合物を包含する: R’−Phe−CH,CH,−Phe−X−R”
I baR’−Phe−OCH,−Phe−X−R
” I bbR’−Cyc−CM、CH=
−Phe−X−R” I bcR’−Cyc−
CH,CHI−Cyc−X−R” I bdR
’−Cyc−Coo−Phe−X−R”
I beR’−Cyc−COO−Cyc−X−R”
I bfR’−A’−CH,CH,−Phe
−X−R’ I bgR’−A’−CH,C
H,−Cyc−X−R” I bhR’−A
’−CH,0−Phe−X−R” I b
iR’−A’−0CR,−Phe−X−R”
I bjR’−A’−Coo−Phe−X−R”
I bkR’−A’−0CO−Phe−
X−R” I blR’−Che−CH
,CH,−Phe−X−R” I bm付属式
1cで示される好ましい化合物は、下記の付属式1ca
−1cdで示される化合物を包含する: R’−Phe−X−Phe−R2 R’−Cyc−X−Phe−R” R’−Phe−X−Cyc−R” R’−Cyc−X−Cyc−R” 付属式Idで示される好 記の付属式1 da” I dmで示 する: R’−Phe−Phe−Phe−X−RズR’−Phe
−Pha−Cyc−X−R2R’−Phe−Dio−P
he−X−R”R’−Cyc−Cyc−Phe−X−R
”R’−Cyc−Cyc−Cyc−X−R’R’−Py
d−Phe−Phe−X−R”R’−Pyr−Phe−
Phe−X−R”R’−Phe−Pyr−Phe−X−
R”R’−Cyc−Phe−Phe−X−R”R’−C
yc−Phe−Cyc−X−R2ca cb ce cd ましい化合物は、下 される化合物を包含 da db Ida Ida Ida Idj Iag dh Idj Idj R’−Dio−Phe−Phe−X−R”R’−Che
−Phe−Phe−X−R”R’−Phe−Che−P
he−X−R”これらの化合物の中では、 I dc、 I dd、 I dell diおよ
び化合物が特に好ましい。
I ba” I bmで示される化合物を包含する: R’−Phe−CH,CH,−Phe−X−R”
I baR’−Phe−OCH,−Phe−X−R
” I bbR’−Cyc−CM、CH=
−Phe−X−R” I bcR’−Cyc−
CH,CHI−Cyc−X−R” I bdR
’−Cyc−Coo−Phe−X−R”
I beR’−Cyc−COO−Cyc−X−R”
I bfR’−A’−CH,CH,−Phe
−X−R’ I bgR’−A’−CH,C
H,−Cyc−X−R” I bhR’−A
’−CH,0−Phe−X−R” I b
iR’−A’−0CR,−Phe−X−R”
I bjR’−A’−Coo−Phe−X−R”
I bkR’−A’−0CO−Phe−
X−R” I blR’−Che−CH
,CH,−Phe−X−R” I bm付属式
1cで示される好ましい化合物は、下記の付属式1ca
−1cdで示される化合物を包含する: R’−Phe−X−Phe−R2 R’−Cyc−X−Phe−R” R’−Phe−X−Cyc−R” R’−Cyc−X−Cyc−R” 付属式Idで示される好 記の付属式1 da” I dmで示 する: R’−Phe−Phe−Phe−X−RズR’−Phe
−Pha−Cyc−X−R2R’−Phe−Dio−P
he−X−R”R’−Cyc−Cyc−Phe−X−R
”R’−Cyc−Cyc−Cyc−X−R’R’−Py
d−Phe−Phe−X−R”R’−Pyr−Phe−
Phe−X−R”R’−Phe−Pyr−Phe−X−
R”R’−Cyc−Phe−Phe−X−R”R’−C
yc−Phe−Cyc−X−R2ca cb ce cd ましい化合物は、下 される化合物を包含 da db Ida Ida Ida Idj Iag dh Idj Idj R’−Dio−Phe−Phe−X−R”R’−Che
−Phe−Phe−X−R”R’−Phe−Che−P
he−X−R”これらの化合物の中では、 I dc、 I dd、 I dell diおよ
び化合物が特に好ましい。
付属式1eで示される好ましい
記の付属式I ea −1emで示されるする:
R’ −Phe−Z ’ −Phe−Z ’ −Phe
−X−12’R’−Phe−Z’−Phe−Z’−Cy
c−X−R”R’−Phe−Z’−Dio−Z’−Ph
e−X−R”R’−Cyc−Z’−Cye−Z’−Ph
e−X−R”R’−Cyc−Z’−Cyc−Z’−Cy
c−X−R”R’−Pyd−Z’−Phe−Z’−Ph
e−X−R”R’−Phe−Z’−Pyd−Z’−Ph
e−X−R”R’−Pyr−Z’−Phe−Z’−Ph
e−X−R”R’−Phe−Z’−Pyr−Z’−Ph
e−X−R2R’−Phe−Z’−Cyc−Z’−Ph
e−X−R2R’−Cyc−Z’−Phe−Z’−Cy
c−X−R”dk Idj dm 付属式のIda。
−X−12’R’−Phe−Z’−Phe−Z’−Cy
c−X−R”R’−Phe−Z’−Dio−Z’−Ph
e−X−R”R’−Cyc−Z’−Cye−Z’−Ph
e−X−R”R’−Cyc−Z’−Cyc−Z’−Cy
c−X−R”R’−Pyd−Z’−Phe−Z’−Ph
e−X−R”R’−Phe−Z’−Pyd−Z’−Ph
e−X−R”R’−Pyr−Z’−Phe−Z’−Ph
e−X−R”R’−Phe−Z’−Pyr−Z’−Ph
e−X−R2R’−Phe−Z’−Cyc−Z’−Ph
e−X−R2R’−Cyc−Z’−Phe−Z’−Cy
c−X−R”dk Idj dm 付属式のIda。
Idjで示される
化合物は、下
化合物を包含
ea
eb
ec
ed
ee
ef
Iag
eh
ei
Idj
ek
R’−Dio−Z’−Phe−Z’−Phe−X−R”
I elR’−Che4’−Phe−Z’
−Phe−X−R” I em付属式If
で示される好ましい化合物は、下記の付属式I fa−
1fkで示される化合物を包含する: R’−Pyr−Z’−Phe−Phe−X−R”
I raR’−Dio−Z’−Phe−Phe−X
−R” I fbR’−Cyc−Z’−Phe
−Phe−X−R” I fcR’−Cyc−
Z’−Phe−C’yc−X−R”
I fdR’−Phe−Z’−Cyc−P
he−X−R’ I feR’−Cyc−Z’
−Cyc−Phe−X−R’ I ff1?’
−Cyc−Z’−Cyc−Cyc−X−R”
I fgR’−Phe−Z’−Dio−Phe−X−R
” I fhR’−Pyd−Z’−Phe−P
he−X−R” I fiR’−Phe−Z’
−Pyr−Phe−X−R’ I fjR’−
Phe−Z’−Che−Phe−X−R” I
fk付属式1gで示される好ましい化合物は、下記の
付属式1ga−1gpで示される化合物を包含する: R’−Pyr−Phe−Z’−Phe−X−R”
I gaR’−Pyr−Phe−OCH2−Phe
−X−R21gbR’−Phe−Phe−Z’−Phe
−X−R” I gcR’−Phe−P
he−Z’−Cyc−X−R’ I g
dR’−Cyc−Cyc−Z’−Phe−X−R”
I zeR’−Cyc−Cyc−Z’−C
yc−X−R” I gfR’−Cyc−
Cyc−CH,CH,−Phe−X−R2I ggR’
−PVd−Phe−Z’−Phe−X−R”
I ghR’−Dio−Phe−Z’−Phe−
X−R” I giR’−Phe−Cy
c−Z’−Phe−X−R’ I gjR
’−Phe−Cyc−Z’−Cyc−X−R’
I gkR’−Phe−Pyd−Z’−Phe
−X−R21glR’−Che−Phe−Z’−Phe
−X−R” I gmR’−Phe−C
he−Z’−Phe−X−R21gnR’−Cyc−P
he−Z’−Phe−X−R” I g
。
I elR’−Che4’−Phe−Z’
−Phe−X−R” I em付属式If
で示される好ましい化合物は、下記の付属式I fa−
1fkで示される化合物を包含する: R’−Pyr−Z’−Phe−Phe−X−R”
I raR’−Dio−Z’−Phe−Phe−X
−R” I fbR’−Cyc−Z’−Phe
−Phe−X−R” I fcR’−Cyc−
Z’−Phe−C’yc−X−R”
I fdR’−Phe−Z’−Cyc−P
he−X−R’ I feR’−Cyc−Z’
−Cyc−Phe−X−R’ I ff1?’
−Cyc−Z’−Cyc−Cyc−X−R”
I fgR’−Phe−Z’−Dio−Phe−X−R
” I fhR’−Pyd−Z’−Phe−P
he−X−R” I fiR’−Phe−Z’
−Pyr−Phe−X−R’ I fjR’−
Phe−Z’−Che−Phe−X−R” I
fk付属式1gで示される好ましい化合物は、下記の
付属式1ga−1gpで示される化合物を包含する: R’−Pyr−Phe−Z’−Phe−X−R”
I gaR’−Pyr−Phe−OCH2−Phe
−X−R21gbR’−Phe−Phe−Z’−Phe
−X−R” I gcR’−Phe−P
he−Z’−Cyc−X−R’ I g
dR’−Cyc−Cyc−Z’−Phe−X−R”
I zeR’−Cyc−Cyc−Z’−C
yc−X−R” I gfR’−Cyc−
Cyc−CH,CH,−Phe−X−R2I ggR’
−PVd−Phe−Z’−Phe−X−R”
I ghR’−Dio−Phe−Z’−Phe−
X−R” I giR’−Phe−Cy
c−Z’−Phe−X−R’ I gjR
’−Phe−Cyc−Z’−Cyc−X−R’
I gkR’−Phe−Pyd−Z’−Phe
−X−R21glR’−Che−Phe−Z’−Phe
−X−R” I gmR’−Phe−C
he−Z’−Phe−X−R21gnR’−Cyc−P
he−Z’−Phe−X−R” I g
。
R’−Cyc−Phe−Z’−Cyc−X−R21gp
付属式1hで示される好ましい化合物は、下記の付属式
Iha〜Ihhで示される化合物を包含する: R’−Phe−X−Phe−Phe−R”
I haR’−Phe−X−Cyc−Phe−R”
’ I hbR’−Phe−X−Cyc−C
yc−R2R’−Phe−X−Pha−Cyc−R’R
’−Cyc−X−Phe−Cyc−R”R’−Cyc−
X−Phe−Phe−R”R’−Cyc−X−Cyc−
Phe−R’R’−Cyc−X−Cyc−Cyc−R”
付属式1iで示される好ま 記の付属式1ia−1ihで示さ する: R’−Phe−Phe−X−Phe−R”R’−Phe
−Phe−X−Cyc−R”R’ −Phe−Cyc−
X−Cyc−R”R’−Phe−Cyc−X−Phe−
R”R’−Cyc−Cyc−X−Phe−R”R’−C
yc−Cyc−X−Cyc−R”R’−Cyc−Phe
−X−Cyc−R”R’−Cyc−Phe−X−Phe
−R”付属式IIで示される好ま 記の付属式11a〜Ilfで示さ する: he hd ha hf hg hh しい化合物は、下 れる化合物を包含 ia ib ic id ie if ig ih しい化合物は、下 れる化合物を包含 R’−Phe−Phe−Phe−Phe−X−R”
I IaR’−Cyc−Phe−Phe
−Phe−X−R” I lbR’−C
yc−Cyc−Phe−Phe−X−R”
I lcR’−Cyc−Cyc−Cyc−Phe−
X−R” I IdR’−Cyc−Cy
c−Cyc−Cyc−X−R211eR’−Cyc−P
he−Phe−Cyc−X−R” I
If前記のおよび後記する式で示される化合物において
、Xは好ましくはX−CF、−であり、この場合には、
Qは一〇−1〜8−または−CO−である。
付属式1hで示される好ましい化合物は、下記の付属式
Iha〜Ihhで示される化合物を包含する: R’−Phe−X−Phe−Phe−R”
I haR’−Phe−X−Cyc−Phe−R”
’ I hbR’−Phe−X−Cyc−C
yc−R2R’−Phe−X−Pha−Cyc−R’R
’−Cyc−X−Phe−Cyc−R”R’−Cyc−
X−Phe−Phe−R”R’−Cyc−X−Cyc−
Phe−R’R’−Cyc−X−Cyc−Cyc−R”
付属式1iで示される好ま 記の付属式1ia−1ihで示さ する: R’−Phe−Phe−X−Phe−R”R’−Phe
−Phe−X−Cyc−R”R’ −Phe−Cyc−
X−Cyc−R”R’−Phe−Cyc−X−Phe−
R”R’−Cyc−Cyc−X−Phe−R”R’−C
yc−Cyc−X−Cyc−R”R’−Cyc−Phe
−X−Cyc−R”R’−Cyc−Phe−X−Phe
−R”付属式IIで示される好ま 記の付属式11a〜Ilfで示さ する: he hd ha hf hg hh しい化合物は、下 れる化合物を包含 ia ib ic id ie if ig ih しい化合物は、下 れる化合物を包含 R’−Phe−Phe−Phe−Phe−X−R”
I IaR’−Cyc−Phe−Phe
−Phe−X−R” I lbR’−C
yc−Cyc−Phe−Phe−X−R”
I lcR’−Cyc−Cyc−Cyc−Phe−
X−R” I IdR’−Cyc−Cy
c−Cyc−Cyc−X−R211eR’−Cyc−P
he−Phe−Cyc−X−R” I
If前記のおよび後記する式で示される化合物において
、Xは好ましくはX−CF、−であり、この場合には、
Qは一〇−1〜8−または−CO−である。
−X−R”末端基を有する、式lで示される化合物にお
いては、R2はH1ハロゲンまたはCNである。
いては、R2はH1ハロゲンまたはCNである。
−Q−CF!−R”末端基を有する式■で示される化合
物において、QがOである場合には、R2は塩素または
CNであり、そしてQがSである場合には、R2はフッ
素、塩素またはCNである。
物において、QがOである場合には、R2は塩素または
CNであり、そしてQがSである場合には、R2はフッ
素、塩素またはCNである。
従って、末端基X−R”は、好ましくは下記の基である
: o−CF3 −Co−CF!−H Co−CF、−CN −C:0−CF、−C12 −5−CF。
: o−CF3 −Co−CF!−H Co−CF、−CN −C:0−CF、−C12 −5−CF。
5−CF、−Ci2
−3−CF、−CN
−O−CF、−CI2
0−CF、−CN
R1は、好ましくはアルキルであり、さらにまたアルコ
キシであることができる。R2は、好ましくはアルキル
、アルコキシ、ESCI2またはONであり、A1、A
2、A3および(または) AIは、好ましくはPhe
、 Cyc、 CheSPyrまたはDioである。
キシであることができる。R2は、好ましくはアルキル
、アルコキシ、ESCI2またはONであり、A1、A
2、A3および(または) AIは、好ましくはPhe
、 Cyc、 CheSPyrまたはDioである。
式Iで示される化合物は、好ましくは多くて1個の基B
is pyd、 Pyr、 DioまたはDit
を含有する。
is pyd、 Pyr、 DioまたはDit
を含有する。
式Iおよび全ての付属式で示される好ましい化合物は、
これらの式において、A1、A2、A3および(または
)A1が1.4−フェニレン基であり、この基が置換基
として、1個または2個のFを有するか、あるいは1個
のCNを有する相当する化合物である。このような基に
は、特に2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フル
オロ−1,4−フェニレンおよび2.3−ジフルオロ−
1,4−7エニレン、ナラヒに2−シアノ−1,4−フ
ェニレンおよび3−シアノ−1,4−フェニレンかある
。
これらの式において、A1、A2、A3および(または
)A1が1.4−フェニレン基であり、この基が置換基
として、1個または2個のFを有するか、あるいは1個
のCNを有する相当する化合物である。このような基に
は、特に2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フル
オロ−1,4−フェニレンおよび2.3−ジフルオロ−
1,4−7エニレン、ナラヒに2−シアノ−1,4−フ
ェニレンおよび3−シアノ−1,4−フェニレンかある
。
ZlおよびZ!は、好ましくは単結合、−CO−O−1
〜O−CO−および−〇〇 、 CH、−であり、二番
目に好ましくは、−coto−および−〇〇Hz−であ
る。
〜O−CO−および−〇〇 、 CH、−であり、二番
目に好ましくは、−coto−および−〇〇Hz−であ
る。
基R1および基R2のうちの一つがハロゲンである場合
には、このハロゲンは、好ましくはF1C12、B「ま
たはIである。
には、このハロゲンは、好ましくはF1C12、B「ま
たはIである。
R1および(または) R2がアルキル基および(また
は)アルコキシ基である場合には、この基は直鎖状また
は分枝鎖状であることができる。この基は、好ましくは
直鎖状であり、C[子2.3.4.5.6または7個を
有し、従って好ましくは、エチル、クロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ
、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシまたはへ)。
は)アルコキシ基である場合には、この基は直鎖状また
は分枝鎖状であることができる。この基は、好ましくは
直鎖状であり、C[子2.3.4.5.6または7個を
有し、従って好ましくは、エチル、クロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ
、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシまたはへ)。
トキシであり、さらにまた、メチル、オクチル、ノニル
、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラ
デシル、ペンタデシル、メトキシ、オクトキシ、ツノキ
シ、デクキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデクキ
シまたはテトラデシルシであることができる。
、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラ
デシル、ペンタデシル、メトキシ、オクトキシ、ツノキ
シ、デクキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデクキ
シまたはテトラデシルシであることができる。
オキサアルキルは、好ましくは直鎖状の2−オキサプロ
ピル(−メトキシメチル)、2−(−エトキシメチル)
または3−オキサブチル(=2−メトキシエチル)、2
− 3−または4−オキサペンチル、2− 3− 4−
または5−オキサヘキシル、2− 3− 4− 5−ま
たは6−オキサヘプチル、2− 3− 4−5−6−ま
たは7−オキサオクチル、2−3− 4− 5− 6−
7−または8−オキサノニル、あるいは2− 3−
4− 5−6− 7− 8−または9−オキサノニルで
ある。
ピル(−メトキシメチル)、2−(−エトキシメチル)
または3−オキサブチル(=2−メトキシエチル)、2
− 3−または4−オキサペンチル、2− 3− 4−
または5−オキサヘキシル、2− 3− 4− 5−ま
たは6−オキサヘプチル、2− 3− 4−5−6−ま
たは7−オキサオクチル、2−3− 4− 5− 6−
7−または8−オキサノニル、あるいは2− 3−
4− 5−6− 7− 8−または9−オキサノニルで
ある。
R1および(または)R2がアルケニル基である場合に
は、この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる
。この基は、好ましくは、直鎖状でありC[千2〜10
個を有する。従って、この基は、特に、ビニル、グログ
−1〜または−2−エニル、ブドーl−−2−または−
3−エニル、ベント−1〜−2−−3−または−4−エ
ニル、ヘキス−1〜−2−−3−4−または−5−エニ
ル、ヘプト−1〜2−−3−−4−−5−または−6−
エニル、オクト−1〜−2−−3−−4−−5−−6−
または−7−エニル、ノン−1〜7−または−8−エニ
ル、あるいはデク−1〜7−−8−または−9−エニル
である。
は、この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる
。この基は、好ましくは、直鎖状でありC[千2〜10
個を有する。従って、この基は、特に、ビニル、グログ
−1〜または−2−エニル、ブドーl−−2−または−
3−エニル、ベント−1〜−2−−3−または−4−エ
ニル、ヘキス−1〜−2−−3−4−または−5−エニ
ル、ヘプト−1〜2−−3−−4−−5−または−6−
エニル、オクト−1〜−2−−3−−4−−5−−6−
または−7−エニル、ノン−1〜7−または−8−エニ
ル、あるいはデク−1〜7−−8−または−9−エニル
である。
R1および(または)R2がアルキル基であり、この基
中に存在する1個のCH,基が一〇−により置き換えら
れており、かつまた1個のCH2基が−C〇−により置
き換えられている場合には、これらの基は好ましくは隣
接している。従って、これらの基はアシルオキシ基−C
O−0−または才キシカルボニル基−0−CO−を含有
する。これらの基は、好ましくは、直鎖状でありC原子
2〜6個を有する。従って、これらの基は、特に、アセ
チルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペ
ンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセチルオキ
シメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシ
メチル、ペンタノイルオキシメチル、2−アセチルオキ
シエチル、2−グロピオニルオキシエチル、2−ブチリ
ルオキシエチル、3−アセチルオキシエチル、3−グロ
ピオニルオキシグロビル、4−アセチルオキシブチル、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニ
ル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
チル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニ
ルメチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(
エトキシカルボニル)エチル、2−(7”ロボキシ力ル
ポニル)エチル、3−(メトキシカルボニル)プロピル
、3−(エトキシカルボニル)プロピルおよび4−(メ
トキシカルボニル)ブチルである。
中に存在する1個のCH,基が一〇−により置き換えら
れており、かつまた1個のCH2基が−C〇−により置
き換えられている場合には、これらの基は好ましくは隣
接している。従って、これらの基はアシルオキシ基−C
O−0−または才キシカルボニル基−0−CO−を含有
する。これらの基は、好ましくは、直鎖状でありC原子
2〜6個を有する。従って、これらの基は、特に、アセ
チルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペ
ンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセチルオキ
シメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシ
メチル、ペンタノイルオキシメチル、2−アセチルオキ
シエチル、2−グロピオニルオキシエチル、2−ブチリ
ルオキシエチル、3−アセチルオキシエチル、3−グロ
ピオニルオキシグロビル、4−アセチルオキシブチル、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニ
ル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
チル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニ
ルメチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(
エトキシカルボニル)エチル、2−(7”ロボキシ力ル
ポニル)エチル、3−(メトキシカルボニル)プロピル
、3−(エトキシカルボニル)プロピルおよび4−(メ
トキシカルボニル)ブチルである。
R1および(まjこは)R2がアルケニルこの基中に存
在する1個のCH,基がーCO−または一CO−O−あ
るいは一〇−CO−により置き換えられている場合には
、この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。
在する1個のCH,基がーCO−または一CO−O−あ
るいは一〇−CO−により置き換えられている場合には
、この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。
この基は、好ましくは直鎖状であり、C原子4〜13個
を有する。従って、この基は、特に、アクリロイルオキ
シメチル、2−アクリロイルオキシエチル、3−アクリ
ロイルオキシエチル、4−アクリロイルオキシブチル、
5−アクリロイルオキシペンチル、6−アクリロイルオ
キシヘキシル、7−アクリロイルオキシヘプチル、8−
アクリロイルオキシオクチル、9−アクリロイルオキシ
ノニル、10−アクリロイルオキシデシル、メタアクリ
ロイルオキシメチル、2−メタアクリロイルオキシエチ
ル、3−メタアクリロイルオキシエチル、4−メタアク
リロイルオキシブチル、5−メタアクリロイルオキシペ
ンチル、6−メタアクリロイルオキシヘキシル、7−メ
タアクリロイルオキシへブチル、8−メタアクリロイル
オキシオクチル、または9−メタアクリロイルオキシノ
ニルである。
を有する。従って、この基は、特に、アクリロイルオキ
シメチル、2−アクリロイルオキシエチル、3−アクリ
ロイルオキシエチル、4−アクリロイルオキシブチル、
5−アクリロイルオキシペンチル、6−アクリロイルオ
キシヘキシル、7−アクリロイルオキシヘプチル、8−
アクリロイルオキシオクチル、9−アクリロイルオキシ
ノニル、10−アクリロイルオキシデシル、メタアクリ
ロイルオキシメチル、2−メタアクリロイルオキシエチ
ル、3−メタアクリロイルオキシエチル、4−メタアク
リロイルオキシブチル、5−メタアクリロイルオキシペ
ンチル、6−メタアクリロイルオキシヘキシル、7−メ
タアクリロイルオキシへブチル、8−メタアクリロイル
オキシオクチル、または9−メタアクリロイルオキシノ
ニルである。
重合反応に適する側鎖基のR1および(または)R2を
含有する、式Iで示される化合物は液晶ポリマーの製造
に適する。
含有する、式Iで示される化合物は液晶ポリマーの製造
に適する。
分枝鎖状側鎖基のR1および(または)R2を有する式
■で示される化合物は、慣用の液晶基材中で良好な溶解
性を有することから、場合により、重要であることがで
きるが、特に、これらの化合物が光学活性である場合に
は、カイラルドーピング物質として重要であることがで
きる。
■で示される化合物は、慣用の液晶基材中で良好な溶解
性を有することから、場合により、重要であることがで
きるが、特に、これらの化合物が光学活性である場合に
は、カイラルドーピング物質として重要であることがで
きる。
この種のスメクテイック化合物は、強誘電性材料の成分
として適している。
として適している。
SA相を有する、式Iで示される化合物は、たとえば熱
書込み式表示体用に適している。
書込み式表示体用に適している。
この種の分枝鎖状基は一般に、多くて一つの鎖分枝を有
する。好ましい分枝鎖状の基R1および(または)基R
2は、イングロビル、2−ブチル(=1〜メチルグロビ
ル)、イソブチル(=2−メチルグロビル)、2−メチ
ルブチル、インペンチル(−3−メチルブチル)、2−
メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−エチルヘキ
シル、2−プロピルペンチル、インプロポキシ、2−メ
チルオクトキシ、2−メチルブトキシ、3−メチルブト
キシ、2−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、
2−エチルヘキソキシ、l−メチルヘキソキシ、l−メ
チルへブトキシ、2−オキサ−3−メチルブチル、3−
オキサ−4−メチルペンチル、4−メチルヘキシル、2
−ノニル、2−デシル、2−ドデシル、6−メチルオク
トキシ、6−メチルオクタロイルオキシ、5−メチルへ
ブチルオキシカルボニル、2−メチルブチリルオキシ、
3−メチルバレリルオキシ、4−メチルヘキサノイルオ
キシ、2−クロaグロピオニルオキシ、2〜クロロ−3
−メチルブチリルオキシ、2−クロロ−4−メチルバレ
リルオキシ、2−クロロ−3−メチルバレリルオキシ、
2−メチル−3−オキサペンチルおよび2−メチル−3
−オキサヘキシルである。
する。好ましい分枝鎖状の基R1および(または)基R
2は、イングロビル、2−ブチル(=1〜メチルグロビ
ル)、イソブチル(=2−メチルグロビル)、2−メチ
ルブチル、インペンチル(−3−メチルブチル)、2−
メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−エチルヘキ
シル、2−プロピルペンチル、インプロポキシ、2−メ
チルオクトキシ、2−メチルブトキシ、3−メチルブト
キシ、2−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、
2−エチルヘキソキシ、l−メチルヘキソキシ、l−メ
チルへブトキシ、2−オキサ−3−メチルブチル、3−
オキサ−4−メチルペンチル、4−メチルヘキシル、2
−ノニル、2−デシル、2−ドデシル、6−メチルオク
トキシ、6−メチルオクタロイルオキシ、5−メチルへ
ブチルオキシカルボニル、2−メチルブチリルオキシ、
3−メチルバレリルオキシ、4−メチルヘキサノイルオ
キシ、2−クロaグロピオニルオキシ、2〜クロロ−3
−メチルブチリルオキシ、2−クロロ−4−メチルバレ
リルオキシ、2−クロロ−3−メチルバレリルオキシ、
2−メチル−3−オキサペンチルおよび2−メチル−3
−オキサヘキシルである。
R1またはR2がアルキル基であり、この基中に存在す
る2個または3個以上のCH2基が一〇−および(また
は)−CO−O−により置き換えられている場合には、
この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。こ
の基は、好ましくは分枝鎖状であり、C[子3〜12個
を有する。従って、この基は特に、ビスカルボキシメチ
ル、2.2−ビスカルボキシエチル、3.3−ビスカル
ボキシプロビル、4.4−ビスカルボキンブチル、5.
5−ビスカルボキシペンチル、6.6−ビスカルボキシ
ヘキシル、7.7−ビスカルボキシヘプチル、88−ビ
スカルボキシオクチル、9.9−ビスカルボキシノニル
、10.10−ビスカルボキシデシル、ビス(メトキシ
カルボニル)メチル、2,2−ビス(メトキシカルボニ
ル)エチル、3.3−ビス(メトキシカルボニル)プロ
ピル、4.4−ビス(メトキシカルボニル)ブチル、5
.5−ビス(メトキシカルボニル ルボニル)ヘキシル、7.7ービス(メトキシカルボ・
ニル)へブチル、8.8−ビス(メトキシカルボニル)
オクチル、ビス(エトキシカルボニル)メチル、2+2
− ヒス(エトキシカルボニル)エチル、3、3−ビス
(エトキシカルボニル)プロピル、4、4−ビス(エト
キシカルボニル)ブチルまたは5、5−ビス(エトキシ
カルボニル)ヘキシルである。
る2個または3個以上のCH2基が一〇−および(また
は)−CO−O−により置き換えられている場合には、
この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。こ
の基は、好ましくは分枝鎖状であり、C[子3〜12個
を有する。従って、この基は特に、ビスカルボキシメチ
ル、2.2−ビスカルボキシエチル、3.3−ビスカル
ボキシプロビル、4.4−ビスカルボキンブチル、5.
5−ビスカルボキシペンチル、6.6−ビスカルボキシ
ヘキシル、7.7−ビスカルボキシヘプチル、88−ビ
スカルボキシオクチル、9.9−ビスカルボキシノニル
、10.10−ビスカルボキシデシル、ビス(メトキシ
カルボニル)メチル、2,2−ビス(メトキシカルボニ
ル)エチル、3.3−ビス(メトキシカルボニル)プロ
ピル、4.4−ビス(メトキシカルボニル)ブチル、5
.5−ビス(メトキシカルボニル ルボニル)ヘキシル、7.7ービス(メトキシカルボ・
ニル)へブチル、8.8−ビス(メトキシカルボニル)
オクチル、ビス(エトキシカルボニル)メチル、2+2
− ヒス(エトキシカルボニル)エチル、3、3−ビス
(エトキシカルボニル)プロピル、4、4−ビス(エト
キシカルボニル)ブチルまたは5、5−ビス(エトキシ
カルボニル)ヘキシルである。
重縮合に適する側鎖基のR1および(または)R2を有
する式■で示される化合物は、液晶重縮合物の製造に適
している。
する式■で示される化合物は、液晶重縮合物の製造に適
している。
式lはこれらの化合物のラセミ体および光学対掌体、な
らびにそれらの混合物を包含する。
らびにそれらの混合物を包含する。
式Iおよびその付属式で示される化合物の中では、その
分子中に存在する基のうちの少なくとも一つが前記の好
ましい意味のうちの一つを有する化合物が好ましい。
分子中に存在する基のうちの少なくとも一つが前記の好
ましい意味のうちの一つを有する化合物が好ましい。
式Iで示される化合物において、その分子中に存在する
環のCycおよびピペリジンがトランス−1.4−ジ置
換されている立体異性体が好ましい。1個または2個以
上の基pya,基Pyrおよび(または)基Dioを有
する、前記式で示される化合物は、それぞれ2種の2.
5−位置異性体を包含する。
環のCycおよびピペリジンがトランス−1.4−ジ置
換されている立体異性体が好ましい。1個または2個以
上の基pya,基Pyrおよび(または)基Dioを有
する、前記式で示される化合物は、それぞれ2種の2.
5−位置異性体を包含する。
付属式IIで示される、特に好ましい化合物は、下記の
付属式11a−11mで示される化合物である: 付属式■2で示される、特に好ましい化合物は、下記の
付属式! 2a” I 2cで示される化合物である: 付属式I3で示される、特に好ましい化合物は、下記の
付属式I 3a” 13gで示される化合物である: 式■4 R’−(A’−2’)a+−A”−X−(A3−Z”)
n−A’−R”(式中、A′は単結合ではない) で示され、その分子中に存在するXが2個の環状基のA
2とA3またはA4を相互に連結している化合物の中で
は、下記の付属式14a−14tで示される化合物が特
に好ましい: 上記の付属式I la −11g112a −I 20
. I 3a〜I3fおよび14a−I4tで示され
る化合物において、アルキル−およびアルコキシ−は、
それぞれC原子1〜12個を有するアルキル基またはア
ルコキシ基である。
付属式11a−11mで示される化合物である: 付属式■2で示される、特に好ましい化合物は、下記の
付属式! 2a” I 2cで示される化合物である: 付属式I3で示される、特に好ましい化合物は、下記の
付属式I 3a” 13gで示される化合物である: 式■4 R’−(A’−2’)a+−A”−X−(A3−Z”)
n−A’−R”(式中、A′は単結合ではない) で示され、その分子中に存在するXが2個の環状基のA
2とA3またはA4を相互に連結している化合物の中で
は、下記の付属式14a−14tで示される化合物が特
に好ましい: 上記の付属式I la −11g112a −I 20
. I 3a〜I3fおよび14a−I4tで示され
る化合物において、アルキル−およびアルコキシ−は、
それぞれC原子1〜12個を有するアルキル基またはア
ルコキシ基である。
1.4−シクロヘキセニレン基は、好ましくは下記の構
造を有する: 式!で示される化合物は文献〔たとえばHouben−
Wey IによるMeLhoden der Orga
nischenChem ie(Georg−Th i
en+e出版社、SLutLgarL市)、■巻、86
7頁以降、のような標準的学術書〕に記載されているよ
うなそれ自体既知の方法により、特にあげられている反
応に適する既知の反応条件の下で製造される。この場合
には、またそれ自体既知であって、ここでは詳細に説明
されていない変法を使用することもできる。
造を有する: 式!で示される化合物は文献〔たとえばHouben−
Wey IによるMeLhoden der Orga
nischenChem ie(Georg−Th i
en+e出版社、SLutLgarL市)、■巻、86
7頁以降、のような標準的学術書〕に記載されているよ
うなそれ自体既知の方法により、特にあげられている反
応に適する既知の反応条件の下で製造される。この場合
には、またそれ自体既知であって、ここでは詳細に説明
されていない変法を使用することもできる。
本発明に係るアリールトリフルオロチオメチルエーテル
化合物は、たとえばチオアリール化合物を、フェノール
とクロロホルムとの間のReimer−Tiemann
反応に適する反応条件ノ下ニ、トリフルオロヨードメタ
ンと反応させることによって、製造することができる〔
たとえば、V、N。
化合物は、たとえばチオアリール化合物を、フェノール
とクロロホルムとの間のReimer−Tiemann
反応に適する反応条件ノ下ニ、トリフルオロヨードメタ
ンと反応させることによって、製造することができる〔
たとえば、V、N。
Boiko、 G、M、 5hchupak、 L、M
、 YagupolskijによるZh、 Org、
Khim、 13 (1977)、 1057頁参照)
。
、 YagupolskijによるZh、 Org、
Khim、 13 (1977)、 1057頁参照)
。
本発明に係るジフルオロアリールエーテル化合物および
アリールジフルオロチオエーテル化合物はまた、たとえ
ば少なくとも1個の電子吸引基をさらに有する、相当す
るニトロベンゼン化合物またはフルオロベンゼン化合物
ヲアルカリ金属ジフルオロアルコキシ化合物と、あるい
はアルカリ金属ジフルオロチオアルキル化合物と直接に
反応させ、FまたはNO□をジフルオロアルコキシ基ま
たはジフルオロチオアルキル基により置換することによ
って、製造することができる(J、P、 Idoux等
によるJ、 Org、 Che+++、 50゜197
6頁(1985)参照〕。
アリールジフルオロチオエーテル化合物はまた、たとえ
ば少なくとも1個の電子吸引基をさらに有する、相当す
るニトロベンゼン化合物またはフルオロベンゼン化合物
ヲアルカリ金属ジフルオロアルコキシ化合物と、あるい
はアルカリ金属ジフルオロチオアルキル化合物と直接に
反応させ、FまたはNO□をジフルオロアルコキシ基ま
たはジフルオロチオアルキル基により置換することによ
って、製造することができる(J、P、 Idoux等
によるJ、 Org、 Che+++、 50゜197
6頁(1985)参照〕。
式Iで示されるジフルオロアルキル化合物は、たとえば
アルデヒドまたはケトンをジアルキルアミノイオウトリ
フルオライド、たとえばDAST(ジエチルアミノイオ
ウトリフルオライド)と反応させることによって[W、
J、 MiddletonによるJ、 Org、 Ch
em、 40.574頁(1975)参照]、あるいは
四フッ化イオウと反応させることによって(A、 Ha
as、 M、 5piLzer、 M、 Liebによ
る。 Chew。
アルデヒドまたはケトンをジアルキルアミノイオウトリ
フルオライド、たとえばDAST(ジエチルアミノイオ
ウトリフルオライド)と反応させることによって[W、
J、 MiddletonによるJ、 Org、 Ch
em、 40.574頁(1975)参照]、あるいは
四フッ化イオウと反応させることによって(A、 Ha
as、 M、 5piLzer、 M、 Liebによ
る。 Chew。
Ber、 121 (1988)、 1329頁参照〕
製造することができる。
製造することができる。
式■で示されるトリフルオロアセチルアリール化合物お
よびジフルオロアセチルアリール化合物(Q−CO)は
、たとえば相当するアリール化合物とトリフルオロアセ
チルクロライドまたはジフルオロアセチルクロライドと
を、Fr1eder−CrafLs条件の下に、相互に
反応させることによって製造することができる〔たとえ
ば、J、H。
よびジフルオロアセチルアリール化合物(Q−CO)は
、たとえば相当するアリール化合物とトリフルオロアセ
チルクロライドまたはジフルオロアセチルクロライドと
を、Fr1eder−CrafLs条件の下に、相互に
反応させることによって製造することができる〔たとえ
ば、J、H。
Simons、 E、O,Ram1erによるJ、 A
m、 Chem、 Soc。
m、 Chem、 Soc。
65 (1943)、 389頁参照〕。
式Iで示されるシアノジフルオロメトキシ化合物および
シアノジフルオロメチルチオ化合物は、たとえば相当す
るアルコレートまたはチオアルコレートをクロロジフル
オロ酢酸と反応させ、この方法で得られるカルボキシジ
フルオロメトキシ化合物またはカルボキシジフルオロメ
チルチオ化合物中に存在するカルボキシル基を、それ自
体既知の方法〔たとえば、L、M。
シアノジフルオロメチルチオ化合物は、たとえば相当す
るアルコレートまたはチオアルコレートをクロロジフル
オロ酢酸と反応させ、この方法で得られるカルボキシジ
フルオロメトキシ化合物またはカルボキシジフルオロメ
チルチオ化合物中に存在するカルボキシル基を、それ自
体既知の方法〔たとえば、L、M。
Yagupolskii、 V、A、 Korinko
によるZh、 0bshch。
によるZh、 0bshch。
37 (197)、 1717頁に記載の方法〕によっ
て、シアノ基に変換することにより、製造することがで
きる。
て、シアノ基に変換することにより、製造することがで
きる。
所望により、出発物質はまた、これらを反応混合物から
単離せずに、直ちにさらに反応させて、式■で示される
化合物を生成するようにして、その場で生成させること
ができる。
単離せずに、直ちにさらに反応させて、式■で示される
化合物を生成するようにして、その場で生成させること
ができる。
従って、式lで示される化合物は、1個または2個以上
の還元可能な基および(または)C−C結合をH原子の
代りに有するが、その他の点では式Iに相当する化合物
を還元することによって製造することができる。
の還元可能な基および(または)C−C結合をH原子の
代りに有するが、その他の点では式Iに相当する化合物
を還元することによって製造することができる。
適当な還元可能な基は、好ましくはカルボニル基、特に
ケト基であり、さらにまた、たとえば遊離のまたはエス
テル化されているヒドロキシル基、芳香族に結合してい
るハロゲン原子である。この還元に好適な出発物質は、
式Iに相当するが、シクロヘキサン環の代りに、シクロ
ヘキセン環またはシクロヘキサノン環を含有することが
でき、そして(または) −CH,CH,−基の代りに
一〇〇=CH−基を有することができ、そして(または
)−cut−基の代りに−C〇−基を含有することがで
き、そして(または)H原子の代りに遊離のまたは官能
性に変えられている(たとえばそのp−)ルエンスルホ
ネートの形の) OH基を有することができる化合物で
ある。
ケト基であり、さらにまた、たとえば遊離のまたはエス
テル化されているヒドロキシル基、芳香族に結合してい
るハロゲン原子である。この還元に好適な出発物質は、
式Iに相当するが、シクロヘキサン環の代りに、シクロ
ヘキセン環またはシクロヘキサノン環を含有することが
でき、そして(または) −CH,CH,−基の代りに
一〇〇=CH−基を有することができ、そして(または
)−cut−基の代りに−C〇−基を含有することがで
き、そして(または)H原子の代りに遊離のまたは官能
性に変えられている(たとえばそのp−)ルエンスルホ
ネートの形の) OH基を有することができる化合物で
ある。
この還元は、たとえば約0°〜約200°の温度で、約
l〜200バールの圧力の下に、不活性溶媒、たとえば
メタノール、エタノールまたはインプロパツールのよう
なアルコール、テトラヒドロ7ラン(THF)まにはジ
オキサンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステ
ル、酢酸のようなカルボン酸あるいはシクロヘキサンの
ような度化水素中で、接触水素添加により、行なうこと
ができる。適当な触媒は、好ましくは、たとえばPtま
たはPdなとの貴金属であり、これらは酸化物の形で(
たとえば、pto、またはPd0) 、支持体上で(た
とえば、木炭、炭酸カルシウムまたは炭酸ストロンチウ
ム上のPd) 、あるいは微粉砕された形で使用するこ
とができる。
l〜200バールの圧力の下に、不活性溶媒、たとえば
メタノール、エタノールまたはインプロパツールのよう
なアルコール、テトラヒドロ7ラン(THF)まにはジ
オキサンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステ
ル、酢酸のようなカルボン酸あるいはシクロヘキサンの
ような度化水素中で、接触水素添加により、行なうこと
ができる。適当な触媒は、好ましくは、たとえばPtま
たはPdなとの貴金属であり、これらは酸化物の形で(
たとえば、pto、またはPd0) 、支持体上で(た
とえば、木炭、炭酸カルシウムまたは炭酸ストロンチウ
ム上のPd) 、あるいは微粉砕された形で使用するこ
とができる。
ケトン化合物はまた、Clemmensenの方法(こ
の方法では、アニン、アニンアマルガムまたはスズと塩
酸とを、好ましくは水性−アルコール性溶液中または水
/トルエンを用いる不均質相系中で、約80〜120°
の温度で使用する)、あるいはWolff−Kishn
erの方法(この方法では、ヒドラジンを、好ましくは
KOHまたはNaOHのようなアルカリの存在の下、で
、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリコール
のような高沸点溶媒中において、約100〜200”の
温度において使用する)により還元することができ、ア
ルキル基および(または) −CH,CH3−架橋を有
する式Iで示される相当する化合物を生成することがで
きる。
の方法では、アニン、アニンアマルガムまたはスズと塩
酸とを、好ましくは水性−アルコール性溶液中または水
/トルエンを用いる不均質相系中で、約80〜120°
の温度で使用する)、あるいはWolff−Kishn
erの方法(この方法では、ヒドラジンを、好ましくは
KOHまたはNaOHのようなアルカリの存在の下、で
、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリコール
のような高沸点溶媒中において、約100〜200”の
温度において使用する)により還元することができ、ア
ルキル基および(または) −CH,CH3−架橋を有
する式Iで示される相当する化合物を生成することがで
きる。
さらにまた、複合水素化物を用いる還元もまた使用でき
る。−例として、アリールスルホニルオキシ基はLiA
(lHaを用いる還元により分離することができ、特に
、p−トルエンスルホニルオキシメチル基は、好ましく
はジエチルエーテルまたはTHFのような不活性溶媒中
で、約O〜100’の温度において、メチル基に還元す
ることができる。二重結合は、メタノール中でNaBH
4または水素化トリブチル−スズを用いて水素添加する
ことができる。
る。−例として、アリールスルホニルオキシ基はLiA
(lHaを用いる還元により分離することができ、特に
、p−トルエンスルホニルオキシメチル基は、好ましく
はジエチルエーテルまたはTHFのような不活性溶媒中
で、約O〜100’の温度において、メチル基に還元す
ることができる。二重結合は、メタノール中でNaBH
4または水素化トリブチル−スズを用いて水素添加する
ことができる。
1.4−)ユニしン基の代りに、1.4−シクロヘキセ
ニレン基を有するが、他の点では式Iに相当する、式■
で示される化合物は、たとえば適当な溶媒中で、DDQ
(ジクロロジシアノベンゾキノン)を使用し、酸化させ
ることができる。
ニレン基を有するが、他の点では式Iに相当する、式■
で示される化合物は、たとえば適当な溶媒中で、DDQ
(ジクロロジシアノベンゾキノン)を使用し、酸化させ
ることができる。
式Iで示されるエステル化合物はまた、相当するカルボ
ン酸化合物(またはそれらの反応性誘導体)をアルコー
ルまたはフェノール化合物(あるいはそれらの反応性誘
導体)でエステル化することにより、あるいはDCC法
(DDC−ジシクロへキシルカルボジイミド)により、
得ることもできる。
ン酸化合物(またはそれらの反応性誘導体)をアルコー
ルまたはフェノール化合物(あるいはそれらの反応性誘
導体)でエステル化することにより、あるいはDCC法
(DDC−ジシクロへキシルカルボジイミド)により、
得ることもできる。
相当するカルボン酸化合物およびアルコールまたはフェ
ノール化合物は、既知であるか、あるいは既知の方法と
同様にして製造することができる。
ノール化合物は、既知であるか、あるいは既知の方法と
同様にして製造することができる。
前記カルボン酸化合物の適当な反応性誘導体は、特にア
シルハライド、中でもクロライドおよびブロマイド、さ
らにまた、酸無水物、たとえば混合酸無水物、アジド化
合物あるいはエステル化合物、特にアルキル基中にC原
子1〜4mを有するアルキルエステル化合物である。
シルハライド、中でもクロライドおよびブロマイド、さ
らにまた、酸無水物、たとえば混合酸無水物、アジド化
合物あるいはエステル化合物、特にアルキル基中にC原
子1〜4mを有するアルキルエステル化合物である。
前記のアルコールまたはフェノール化合物の適当な反応
性誘導体は、特にナトリウムまたはカリウムのようなア
ルカリ金属の相当する金属アルコキシドまたは金属フェ
ノキシトである。
性誘導体は、特にナトリウムまたはカリウムのようなア
ルカリ金属の相当する金属アルコキシドまたは金属フェ
ノキシトである。
エステル化は有利には、不活性溶媒の存在の下に行なう
。好適な溶媒は、特にエーテル類、たとえばジエチルエ
ーテル、ジ−n−ブチルエーテル、THF、ジオキサン
またはアニソール、ケトン類、たとえばアセトン、ブタ
ノンまたはシクロヘキサノン、アミド類、たとえばDM
Fまたはリン酸へキサメチルトリアミド、炭化水素類、
たとえばベンゼン、トルエンまたはキシレン、ハロゲン
化炭化水素類、たとえばテトラクロロメタン、ジクロロ
メタンまたはテトラクロロエチレンおよびスルホキシド
類、たとえばジメチルスルホキシドまたはスルホランで
ある。
。好適な溶媒は、特にエーテル類、たとえばジエチルエ
ーテル、ジ−n−ブチルエーテル、THF、ジオキサン
またはアニソール、ケトン類、たとえばアセトン、ブタ
ノンまたはシクロヘキサノン、アミド類、たとえばDM
Fまたはリン酸へキサメチルトリアミド、炭化水素類、
たとえばベンゼン、トルエンまたはキシレン、ハロゲン
化炭化水素類、たとえばテトラクロロメタン、ジクロロ
メタンまたはテトラクロロエチレンおよびスルホキシド
類、たとえばジメチルスルホキシドまたはスルホランで
ある。
式■で示されるニトリル化合物を製造するためには、相
当する酸アミド化合物、たとえばCN基がC0NHz基
により置き換えられている相当する化合物を脱水させる
ことができる。このアミド化合物は、たとえば相当する
エステル化合物またはアシルハライド化合物からアンモ
ニアとの反応により得ることができる。適当な脱水剤の
例ニハ、5ocQ、、pca、、PCQs、 POCQ
s、5OtCLまたはGOCI22のような無機酸クロ
ライドおよびまf:、P、O,、P2S5− ARC4
s(コ’)化合物は、タトエばNaCQとの複合化合物
として使用する)、芳香族のスルホン酸およびスルホン
酸ハライドがある。この反応は不活性溶媒の存在の下に
または不存在の下に、約08〜150°の温度で行なう
ことができる。適当な溶媒の例には、ピリジンまたはト
リエチルアミンのような塩基、ベンゼン、トルエンまた
はキシレンのような芳香族炭化水素、あるいはDMFの
ようなアミドがある。
当する酸アミド化合物、たとえばCN基がC0NHz基
により置き換えられている相当する化合物を脱水させる
ことができる。このアミド化合物は、たとえば相当する
エステル化合物またはアシルハライド化合物からアンモ
ニアとの反応により得ることができる。適当な脱水剤の
例ニハ、5ocQ、、pca、、PCQs、 POCQ
s、5OtCLまたはGOCI22のような無機酸クロ
ライドおよびまf:、P、O,、P2S5− ARC4
s(コ’)化合物は、タトエばNaCQとの複合化合物
として使用する)、芳香族のスルホン酸およびスルホン
酸ハライドがある。この反応は不活性溶媒の存在の下に
または不存在の下に、約08〜150°の温度で行なう
ことができる。適当な溶媒の例には、ピリジンまたはト
リエチルアミンのような塩基、ベンゼン、トルエンまた
はキシレンのような芳香族炭化水素、あるいはDMFの
ようなアミドがある。
式lで示される前記ニトリル化合物を製造するためには
、また相当するアシルハライド化合物、好ましくはクロ
ライドを、スルファミドと、好ましくはテトラメチレン
スルホンのような不活性溶媒中で、約80°〜150’
の温度、好ましくは120’において反応させることが
できる。通常の方法で仕上げ処理した後に、ニトリル化
合物を直接に単離することができる。
、また相当するアシルハライド化合物、好ましくはクロ
ライドを、スルファミドと、好ましくはテトラメチレン
スルホンのような不活性溶媒中で、約80°〜150’
の温度、好ましくは120’において反応させることが
できる。通常の方法で仕上げ処理した後に、ニトリル化
合物を直接に単離することができる。
式Iで示されるエーテル化合物は相当するヒドロキシル
化合物、好ましくは相当するフェノール化合物のエーテ
ル化により得ることができる。ヒドロキシル化合物は有
利には先ず、相当する金属誘導体に、たとえばNaH%
NaNH2、N a OH1にOH,Na、GO,また
はに、Co、で処理することにより相当するアルカリ金
属アルコレートまt;はアルカリ金属フェルレートに変
換する。この生成物は次いで相当するアルキルハライド
、アルキルスルホネートまたはジアルキルスルフェート
化合物と、有利にはアセトン、■、2−ジメトキシエタ
ン、DMFまたはジメチルスルホキシドなどの不活性溶
媒中で、あるいはまた過剰の水性または水性−アルコー
ル性NaOHまたはKCN中で、約20°〜100°の
温度において反応させることができる。
化合物、好ましくは相当するフェノール化合物のエーテ
ル化により得ることができる。ヒドロキシル化合物は有
利には先ず、相当する金属誘導体に、たとえばNaH%
NaNH2、N a OH1にOH,Na、GO,また
はに、Co、で処理することにより相当するアルカリ金
属アルコレートまt;はアルカリ金属フェルレートに変
換する。この生成物は次いで相当するアルキルハライド
、アルキルスルホネートまたはジアルキルスルフェート
化合物と、有利にはアセトン、■、2−ジメトキシエタ
ン、DMFまたはジメチルスルホキシドなどの不活性溶
媒中で、あるいはまた過剰の水性または水性−アルコー
ル性NaOHまたはKCN中で、約20°〜100°の
温度において反応させることができる。
式Iで示されるニトリル化合物を製造するためには、ま
た、式Iで示される相当する塩素化合物、または臭素化
合物またはヨー素化合物をシアニド化合物、好ましくは
NaCN% KCNまたはCut(CN)*のような金
属シアニドと、たとえばピリジンの存在の下で、 DM
FまたはN−メチルピロリドンのような不活性溶媒中に
おいて、20゜〜200°の温度で反応させることがで
きる。
た、式Iで示される相当する塩素化合物、または臭素化
合物またはヨー素化合物をシアニド化合物、好ましくは
NaCN% KCNまたはCut(CN)*のような金
属シアニドと、たとえばピリジンの存在の下で、 DM
FまたはN−メチルピロリドンのような不活性溶媒中に
おいて、20゜〜200°の温度で反応させることがで
きる。
式Iにおいて AIが少なくとも1個のFi子により、
そして(または)1個のCN基により置換されている化
合物はまた、相当するジアゾニウム塩から、そのジアゾ
ニウム基を、たとえばSch iemannの方法また
はSandmeyerの方法によって、フッ素原子また
はCN基により置き換えることにより、得ることもでき
る。
そして(または)1個のCN基により置換されている化
合物はまた、相当するジアゾニウム塩から、そのジアゾ
ニウム基を、たとえばSch iemannの方法また
はSandmeyerの方法によって、フッ素原子また
はCN基により置き換えることにより、得ることもでき
る。
式Iで示されるジオキサン誘導体およびジチアン誘導体
は、好ましくは相当するアルデヒド化合物(またはその
反応性誘導体)を相当する1、3−ジオール化合物(ま
たはその反応性誘導体)あるいは相当する1、3−ジチ
オール化合物と、好ましくは不活性溶媒、たとえばベン
ゼンまたはトルエンなどの存在の下に、そして(あるい
は)触媒、たとえば硫酸、ベンゼンスルホン酸またはP
−)ルエンスルホン酸などの強酸の存在の下に、約20
〜約150’、好ましくは80〜120’の温度におい
て、反応させることによって製造される。これらの出発
物質の適当な反応性誘導体は、主としてアセタール類で
ある。
は、好ましくは相当するアルデヒド化合物(またはその
反応性誘導体)を相当する1、3−ジオール化合物(ま
たはその反応性誘導体)あるいは相当する1、3−ジチ
オール化合物と、好ましくは不活性溶媒、たとえばベン
ゼンまたはトルエンなどの存在の下に、そして(あるい
は)触媒、たとえば硫酸、ベンゼンスルホン酸またはP
−)ルエンスルホン酸などの強酸の存在の下に、約20
〜約150’、好ましくは80〜120’の温度におい
て、反応させることによって製造される。これらの出発
物質の適当な反応性誘導体は、主としてアセタール類で
ある。
前記のアルデヒド化合物、1.3−ジオール化合物およ
び1.3−ジチオール化合物の中の若干ならびにその反
応性誘導体の若干は既知であるが、これらの化合物はい
ずれも、文献から既知の化合物かり、有機化学の標準的
方法によって、困難を伴なうことなく、製造することが
できる。
び1.3−ジチオール化合物の中の若干ならびにその反
応性誘導体の若干は既知であるが、これらの化合物はい
ずれも、文献から既知の化合物かり、有機化学の標準的
方法によって、困難を伴なうことなく、製造することが
できる。
たとえば、アルデヒド化合物は、相当するアルコール化
合物の酸化により、あるいは相当するニトリル化合物ま
たは相当するカルボン酸化合物またはその誘導体の還元
により得ることができ、ジオール化合物は、相当するジ
エステル化合物の還元により得ることができ、そしてジ
チオール化合物は、ニトリル化合物または相当するシバ
ライド化合物をNa5Hと反応させることによって、得
ることができる。
合物の酸化により、あるいは相当するニトリル化合物ま
たは相当するカルボン酸化合物またはその誘導体の還元
により得ることができ、ジオール化合物は、相当するジ
エステル化合物の還元により得ることができ、そしてジ
チオール化合物は、ニトリル化合物または相当するシバ
ライド化合物をNa5Hと反応させることによって、得
ることができる。
本発明に係る液晶相は、本発明に係る化合物の一種また
は二種以上に加えて、さらに別の成分として、好ましく
は2〜40種、特に4〜30種の成分を含有する。これ
らの相は、非常に特に好ましくは、本発明に係る化合物
の一種または二種以上に加えて7〜25種の成分を含有
する。
は二種以上に加えて、さらに別の成分として、好ましく
は2〜40種、特に4〜30種の成分を含有する。これ
らの相は、非常に特に好ましくは、本発明に係る化合物
の一種または二種以上に加えて7〜25種の成分を含有
する。
これらの別の成分は好ましくは、ネマティックまたはネ
マトゲニック(単変性または等方性)物質、特にアゾキ
シベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフ
ェニル化合物、ターフェニル化合’h 、フェニルまた
はシクロへキシルベンゾエート化合物、シクロヘキサン
カルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化
合物、シクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のフェ
ニルまたはシクロヘキシルエステル(1物、安息香酸の
シクロへキシルフェニルエステル化合物、シクロヘキサ
ンカルボン酸のシクロヘキシルフェニルエステル化合物
、シクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のシクロへ
キシルフェニルエステル化合物、フェニルシクロヘキサ
ン化合物、シクロへキシルビフェニル化合物、フェニル
シクロへキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシル
シクロヘキサン化合物、シクロヘキシルシクロヘキセン
化合物、シクロへキシルシクロへキシルシクロヘキセン
化合物、1.4−ビス−シクロヘキシルベンゼン化合物
、4.4’−ビス−シクロへキシルビフェニル化合物、
フェニル−またはシクロヘキシル−ピリミジン化合物、
フェニル−またはシクaヘキシル−ピリジン化合物、フ
ェニル−またはシクロヘキシル−ジオキサン化合物、フ
ェニル−またはシクロへキシル−1,3−ジチアン化合
物、l、2−ジフェニルエタン化合物、 1.2−ジシ
クロヘキシルエタン化合物、1〜7zニル−2−シクロ
ヘキシルエタン化合物、l−シクロへキシル−2−(4
−7エニルシクロヘキシル)エタン化合物、l−シクロ
ヘキシル−2−ビフェニリルエタン化合物、l−フェニ
ル−2−シクロへキシルフェニルエタン化合物、場合に
よりハロケン化されているスチルベン化合物、ベンジル
フェニルエーテル化合物、トラン化合物および置換され
ているケイ皮酸化合物の群からの物質から選択される。
マトゲニック(単変性または等方性)物質、特にアゾキ
シベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフ
ェニル化合物、ターフェニル化合’h 、フェニルまた
はシクロへキシルベンゾエート化合物、シクロヘキサン
カルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化
合物、シクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のフェ
ニルまたはシクロヘキシルエステル(1物、安息香酸の
シクロへキシルフェニルエステル化合物、シクロヘキサ
ンカルボン酸のシクロヘキシルフェニルエステル化合物
、シクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のシクロへ
キシルフェニルエステル化合物、フェニルシクロヘキサ
ン化合物、シクロへキシルビフェニル化合物、フェニル
シクロへキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシル
シクロヘキサン化合物、シクロヘキシルシクロヘキセン
化合物、シクロへキシルシクロへキシルシクロヘキセン
化合物、1.4−ビス−シクロヘキシルベンゼン化合物
、4.4’−ビス−シクロへキシルビフェニル化合物、
フェニル−またはシクロヘキシル−ピリミジン化合物、
フェニル−またはシクaヘキシル−ピリジン化合物、フ
ェニル−またはシクロヘキシル−ジオキサン化合物、フ
ェニル−またはシクロへキシル−1,3−ジチアン化合
物、l、2−ジフェニルエタン化合物、 1.2−ジシ
クロヘキシルエタン化合物、1〜7zニル−2−シクロ
ヘキシルエタン化合物、l−シクロへキシル−2−(4
−7エニルシクロヘキシル)エタン化合物、l−シクロ
ヘキシル−2−ビフェニリルエタン化合物、l−フェニ
ル−2−シクロへキシルフェニルエタン化合物、場合に
よりハロケン化されているスチルベン化合物、ベンジル
フェニルエーテル化合物、トラン化合物および置換され
ているケイ皮酸化合物の群からの物質から選択される。
これらの化合物中に存在する1、4−フユニレン基はま
た、フッ素化されていることができる。
た、フッ素化されていることができる。
本発明に係る相の別の成分として適する最も重要な化合
物は次式の1.2.3.4および5で示すことができる
特徴を有する: R’−L−E−R“ )R’−L−Co
o−E−R” 2R’−L−00C−E−
R’ 3R’−L−CB、C)I、−E−
R“ 4R’ −L−CIC−E−R’
5式l、式2、式3、式4および式5において、
LおよびEは、同一または異なることができ、相互に独
立して、それぞれ、−Phe−−Cyc−−Phe−P
he−5−Phe−Cyc−1〜Cyc−Cyc−1〜
Pyr−1〜Dio−1〜G−Phe−および−〇−C
yc−ならびにそれらの鏡像基からなる群からの二価の
基であり、Pheは1.4−フユニレンであり(この基
は非置換であるか、またはフッ素で置換されている)、
Cycはトランス−1,4−シクロヘキシレンまたは1
.4−シクロヘキセニレンであり、Pyrはピリミジン
−2,5−ジイルまたはピリジン−2,5−ジイルであ
り、Dioは1.3−ジオキサン−2,5−ジイルであ
り、そしてGは2−(トラ′ンスー1.4−シクロヘキ
シル)−エチル、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジ
ン−2,5−ジイルまたは1.3−ジオキサン−2,5
−ジイルである。
物は次式の1.2.3.4および5で示すことができる
特徴を有する: R’−L−E−R“ )R’−L−Co
o−E−R” 2R’−L−00C−E−
R’ 3R’−L−CB、C)I、−E−
R“ 4R’ −L−CIC−E−R’
5式l、式2、式3、式4および式5において、
LおよびEは、同一または異なることができ、相互に独
立して、それぞれ、−Phe−−Cyc−−Phe−P
he−5−Phe−Cyc−1〜Cyc−Cyc−1〜
Pyr−1〜Dio−1〜G−Phe−および−〇−C
yc−ならびにそれらの鏡像基からなる群からの二価の
基であり、Pheは1.4−フユニレンであり(この基
は非置換であるか、またはフッ素で置換されている)、
Cycはトランス−1,4−シクロヘキシレンまたは1
.4−シクロヘキセニレンであり、Pyrはピリミジン
−2,5−ジイルまたはピリジン−2,5−ジイルであ
り、Dioは1.3−ジオキサン−2,5−ジイルであ
り、そしてGは2−(トラ′ンスー1.4−シクロヘキ
シル)−エチル、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジ
ン−2,5−ジイルまたは1.3−ジオキサン−2,5
−ジイルである。
好ましくは、基りおよび基Eのうちの−・つは、CVC
s PheまたはPyrである。Eは好ましくは、C
yc、 PheまたはPhe−Cycである。
s PheまたはPyrである。Eは好ましくは、C
yc、 PheまたはPhe−Cycである。
本発明に係る相は、好ましくは、式l、式2、式3、式
4および式5において、その分子中に存在する基りおよ
び基Eが070% PheおよびPyrから選ばれる
相当する化合物から選択される成分の一種または二種以
上と、同時に、式11式2、式3、式4および式5にお
いて、その分子中に存在する基りおよび基Eのうちの一
つがCYCs PheおよびPyrから選ばれ、そし
て基りおよび基Eのうちの他の一つが−Phe−Phe
−1〜Phe−CI/C−5−Cyc−Cyc−5−G
−Phe−および−G−Cyc−から選ばれる相当する
化合物から選択される成分の一種または二種以上、およ
び場合により、式11式2、式3、式4および式5にお
いて、その分子中に存在する基りおよび基Eが−Phe
−Cyc−−Cyc−Cyc−1〜G−Phe−および
−〇−Cyc−から選ばれる相当する化合物から選択さ
れる成分の一種または二種以上を含有する。
4および式5において、その分子中に存在する基りおよ
び基Eが070% PheおよびPyrから選ばれる
相当する化合物から選択される成分の一種または二種以
上と、同時に、式11式2、式3、式4および式5にお
いて、その分子中に存在する基りおよび基Eのうちの一
つがCYCs PheおよびPyrから選ばれ、そし
て基りおよび基Eのうちの他の一つが−Phe−Phe
−1〜Phe−CI/C−5−Cyc−Cyc−5−G
−Phe−および−G−Cyc−から選ばれる相当する
化合物から選択される成分の一種または二種以上、およ
び場合により、式11式2、式3、式4および式5にお
いて、その分子中に存在する基りおよび基Eが−Phe
−Cyc−−Cyc−Cyc−1〜G−Phe−および
−〇−Cyc−から選ばれる相当する化合物から選択さ
れる成分の一種または二種以上を含有する。
付属式のla、2a、3a、4aおよび5aで示される
化合物においては R/およびR#は、相互に独立して
、それぞれ、8個までの法素原子を有するアルキル、ア
ルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルケ
ニルオキシである。これらの化合物の大部分の場合に、
R′およびR#は相互に異なっており、これらの基のう
ちの一つは、通常、アルキルまたはアルケニルである。
化合物においては R/およびR#は、相互に独立して
、それぞれ、8個までの法素原子を有するアルキル、ア
ルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルケ
ニルオキシである。これらの化合物の大部分の場合に、
R′およびR#は相互に異なっており、これらの基のう
ちの一つは、通常、アルキルまたはアルケニルである。
付属式のlb、2b、3b、4bおよび5bで示される
化合物においては、R“は−CN、 −CF3、−0C
F 3、OCF、HSF、 CQまたは−NC5であり
、この場合に、Rは付属式1a〜5aで示される化合物
について前記した意味を有し、好ましくはアルキルまた
はアルケニルである。しかしながら式1、式2、式3、
式4および式5で示される化合物において、包含される
その他の種々の置換基はまた使用することができる。か
なりのこのような物質またはその混合物は、市販されて
いる。これらの物質はいずれも、文献から既知の方法に
より、またはその類似方法により得ることができる。
化合物においては、R“は−CN、 −CF3、−0C
F 3、OCF、HSF、 CQまたは−NC5であり
、この場合に、Rは付属式1a〜5aで示される化合物
について前記した意味を有し、好ましくはアルキルまた
はアルケニルである。しかしながら式1、式2、式3、
式4および式5で示される化合物において、包含される
その他の種々の置換基はまた使用することができる。か
なりのこのような物質またはその混合物は、市販されて
いる。これらの物質はいずれも、文献から既知の方法に
より、またはその類似方法により得ることができる。
本発明に係る相は、化合物1a、 2a、3a、 4a
および5aからなる群(群1)からの成分に加えて、好
ましくは化合物1b、 2b、 3b、 4bおよび5
bからなる群(群2)からの成分を含有し、その割合は
好ましくは下記のとおりである: 群l:20〜90%、特に、30〜90%群2:10〜
80%、特に、10〜50%そして本発明に係る化合物
と群lおよび群2からの化合物との割合の合計は100
%である。
および5aからなる群(群1)からの成分に加えて、好
ましくは化合物1b、 2b、 3b、 4bおよび5
bからなる群(群2)からの成分を含有し、その割合は
好ましくは下記のとおりである: 群l:20〜90%、特に、30〜90%群2:10〜
80%、特に、10〜50%そして本発明に係る化合物
と群lおよび群2からの化合物との割合の合計は100
%である。
本発明に係る相は、好ましくは、本発明に係る化合物を
1〜40%、特に好ましくは、5〜30%含有する。本
発明に係る化合物を、40%より多い量、特に45〜9
0%の量で含有する相はまた、好ましい1本発明に係る
相は、好ましくは三種、四種または三種の本発明に係る
化合物を含有する。
1〜40%、特に好ましくは、5〜30%含有する。本
発明に係る化合物を、40%より多い量、特に45〜9
0%の量で含有する相はまた、好ましい1本発明に係る
相は、好ましくは三種、四種または三種の本発明に係る
化合物を含有する。
本発明に係る相はそれ自体慣用の方法で調製される。一
般に、鎖成分を相互に、好ましくは高められた温度で溶
解させる。本発明に係る液晶相は適当な添加剤を使用す
ることにより、これらを従来開示されているタイプの全
部の液晶表示素子で使用できるように変性することがで
きる。このような添加剤は当業者にとって既知であり、
文献(H,Kelker/ R,HaLzによる1(a
ndbook of Liquid Crystals
、 Verlag Chemie。
般に、鎖成分を相互に、好ましくは高められた温度で溶
解させる。本発明に係る液晶相は適当な添加剤を使用す
ることにより、これらを従来開示されているタイプの全
部の液晶表示素子で使用できるように変性することがで
きる。このような添加剤は当業者にとって既知であり、
文献(H,Kelker/ R,HaLzによる1(a
ndbook of Liquid Crystals
、 Verlag Chemie。
Weinheim、 1980年)に詳細に記載されて
いる。
いる。
たとえば、着色ゲスト−ホスト系を生成するために多色
性染料を添加することができ、あるいは誘電異方性、粘
度および(または)ネマティック相の配向を変えるだめ
の物質を添加することができる。
性染料を添加することができ、あるいは誘電異方性、粘
度および(または)ネマティック相の配向を変えるだめ
の物質を添加することができる。
次側は本発明を説明しようとするものであり、制限する
ものではない。mp、−融点−cあす、cp。
ものではない。mp、−融点−cあす、cp。
−透明点である。前記および後記の記載において、パー
センテージは重量によるパーセンテージである。全ての
温度は摂氏度で示すものである。
センテージは重量によるパーセンテージである。全ての
温度は摂氏度で示すものである。
[慣用の方法で仕上げる」の用語は次の意味を有するも
のとする:水を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、
有機相を分離し、乾燥させ、次いで蒸発させ、生成物を
結晶化および(または)りaマドグラフィにより精製す
る。
のとする:水を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、
有機相を分離し、乾燥させ、次いで蒸発させ、生成物を
結晶化および(または)りaマドグラフィにより精製す
る。
さらにまた、略語は次の意味を有するものとする:C:
結晶一固体状態、S:スメクテイック相(インデックス
は相のタイプの特徴を示す)、N:ネマティック状態、
Ch:コレステリック相、I:等方性相。二種の記号間
の数字は転移温度を摂氏度で示すものである。
結晶一固体状態、S:スメクテイック相(インデックス
は相のタイプの特徴を示す)、N:ネマティック状態、
Ch:コレステリック相、I:等方性相。二種の記号間
の数字は転移温度を摂氏度で示すものである。
DAST ジエチルアミノサルファトリフルオラ
イドDCCジシクロへキシルカルボジイミドDDQ
ジクロロジシアノベンゾキノンDIBALH水素化
ジイソブチルアルミニウムKOT カリウム第三
−ブタル−トTHF テトラヒドロフラン pTsOHp −トルエンスルホン酸 例 1 4−(4−)ランス−ペンチルシクロヘキシル)−4’
−()リフルオロメチルチオ)−ビフェニル 4− ()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
’−メルカプトビフェニル0.1モル(この化合物は、
相当する炭化水素化合物からクロロスルホン酸で処理す
ることにより、得られる相当するスルホニルクロライド
から、アニンおよび塩酸を使用し、還元することによっ
て製造される)を含有する三ツ頚フラスコ中で、−60
’〜−70°に冷却しながら、先ず液状アンモニア10
0m12を、次いでトリフルオロヨードメタン0.12
5モルを導入する。この混合物に水銀灯を2時間、照射
する。アンモニアを次いで、蒸発させ、残留物を5%水
酸化ナトリウム溶液50m(1で処理し、混合物をエー
テル(3X 100mff)で抽出する。エーテル相を
集め、水で、次いで5%強度の亜硫酸ナトリウム溶液で
、次いで再び水で洗浄する。エーテルを留去し、残留物
をエタノールから、2回再結晶させる。
イドDCCジシクロへキシルカルボジイミドDDQ
ジクロロジシアノベンゾキノンDIBALH水素化
ジイソブチルアルミニウムKOT カリウム第三
−ブタル−トTHF テトラヒドロフラン pTsOHp −トルエンスルホン酸 例 1 4−(4−)ランス−ペンチルシクロヘキシル)−4’
−()リフルオロメチルチオ)−ビフェニル 4− ()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
’−メルカプトビフェニル0.1モル(この化合物は、
相当する炭化水素化合物からクロロスルホン酸で処理す
ることにより、得られる相当するスルホニルクロライド
から、アニンおよび塩酸を使用し、還元することによっ
て製造される)を含有する三ツ頚フラスコ中で、−60
’〜−70°に冷却しながら、先ず液状アンモニア10
0m12を、次いでトリフルオロヨードメタン0.12
5モルを導入する。この混合物に水銀灯を2時間、照射
する。アンモニアを次いで、蒸発させ、残留物を5%水
酸化ナトリウム溶液50m(1で処理し、混合物をエー
テル(3X 100mff)で抽出する。エーテル相を
集め、水で、次いで5%強度の亜硫酸ナトリウム溶液で
、次いで再び水で洗浄する。エーテルを留去し、残留物
をエタノールから、2回再結晶させる。
生成物はc 79 N 106 ■を有する固
形物として得られる。
形物として得られる。
同様にして、下記の化合物が製造される:例 2
ジフルオロ(4−ペンチルフェニル)(4−ペンチルフ
ェニルチオ)メタン 4−ペンチルベンズアルデヒド1モルを、ニッケル製オ
ートクレーブ中で、水3滴を加えた後に、四フッ化イオ
ウ2モルと100℃で18時間反応させる。反応が完了
した時点で、気体状の反応生成物を氷冷水酸化ナトリウ
ム溶液中に通すことによって除去する。オートクレーブ
中の残留物をジクロロメタン5001112中に取り、
この溶液を、補水酸化ナトリウム溶液と振りまぜること
により中性にする。水性相をジクロロメタン(2X 1
00+mQ)で抽出し、有機相を集め、溶剤を留去し、
残留物を水ポンプによる減圧の下に、80〜90°で蒸
留する。留出物をテトラクロロメタン500mQ中に、
臭素50m+12とともに溶解し、この溶液に、還流さ
せながら、水銀灯を3日間、照射する。冷却後に、混合
物を亜硫酸ナトリウム溶液で、次いで水で、洗浄し、溶
剤を次いで留去し、残留物をQ、l++lmHgおよび
80℃で蒸留する。
ェニルチオ)メタン 4−ペンチルベンズアルデヒド1モルを、ニッケル製オ
ートクレーブ中で、水3滴を加えた後に、四フッ化イオ
ウ2モルと100℃で18時間反応させる。反応が完了
した時点で、気体状の反応生成物を氷冷水酸化ナトリウ
ム溶液中に通すことによって除去する。オートクレーブ
中の残留物をジクロロメタン5001112中に取り、
この溶液を、補水酸化ナトリウム溶液と振りまぜること
により中性にする。水性相をジクロロメタン(2X 1
00+mQ)で抽出し、有機相を集め、溶剤を留去し、
残留物を水ポンプによる減圧の下に、80〜90°で蒸
留する。留出物をテトラクロロメタン500mQ中に、
臭素50m+12とともに溶解し、この溶液に、還流さ
せながら、水銀灯を3日間、照射する。冷却後に、混合
物を亜硫酸ナトリウム溶液で、次いで水で、洗浄し、溶
剤を次いで留去し、残留物をQ、l++lmHgおよび
80℃で蒸留する。
得られた留出物を、ジメチルホルムアミド500m12
中の4−ペンチルチオフェノールのナトリウム塩(これ
は、チオフェノール096モルおよびナトリウム0.6
モルから製造される)の溶液に加える。この混合物を5
0°で16時間撹拌し、エーテル500IIQを次いで
加え、混合物を水(3×500mQ)と振りまぜること
によって洗浄する。エーテルを留去した後に、残留物を
短いシリカゲルカラムに移し、石油エーテルで溶出する
。石油エーテルを留去した後に、生成物をエタノールか
ら2回、再結晶させる。
中の4−ペンチルチオフェノールのナトリウム塩(これ
は、チオフェノール096モルおよびナトリウム0.6
モルから製造される)の溶液に加える。この混合物を5
0°で16時間撹拌し、エーテル500IIQを次いで
加え、混合物を水(3×500mQ)と振りまぜること
によって洗浄する。エーテルを留去した後に、残留物を
短いシリカゲルカラムに移し、石油エーテルで溶出する
。石油エーテルを留去した後に、生成物をエタノールか
ら2回、再結晶させる。
同様にして、下記の化合物が製造される:CI)II
r C5Hy CsHr CsH++ C5Hy C5Hr 例 3 ジフルオロ(4−へブチルフェニルオキシ)(4−ペン
チルフェニル)メタン この化合物の製造は、DMF 600m12中のナトリ
ウム4−へグチルフェノレート0.6モル(この化合物
はフェノールおよび水素化ナトリウムから製造される)
の溶液を使用して、例2と同様に行なう。反応混合物は
80°に24時間維持する。
r C5Hy CsHr CsH++ C5Hy C5Hr 例 3 ジフルオロ(4−へブチルフェニルオキシ)(4−ペン
チルフェニル)メタン この化合物の製造は、DMF 600m12中のナトリ
ウム4−へグチルフェノレート0.6モル(この化合物
はフェノールおよび水素化ナトリウムから製造される)
の溶液を使用して、例2と同様に行なう。反応混合物は
80°に24時間維持する。
同様にして、下記の化合物が製造される:CsH+ r
C3Hy CsHt CsH+ + 例 4 4− (トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
’−)リフルオロアセチルビフェニル4− (トランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)ビフェニル0.5モル
、硫化炭素500mffおよび塩化アルミニウム0.5
モルを、ドライアイス還流コンデンサーを備えた、三ツ
頚フラスコ中に入れる。この混合物を−306に冷却さ
せた後に、その中にトリフルオロアセチルクロライド0
.5モルを導入する。この混合物を次いで、θ°まで温
め、この温度で6時間、次いで室温で14時間、撹拌す
る。この反応混合物を氷と稀塩酸との混合物上に注ぎ入
れる。有機相を分離し、水性相はジクロロメタン(2X
50mg)と振りまぜることによって抽出する。有機
相を集め、溶剤を留去し、生成物をエタノールから2回
、再結晶させる。
C3Hy CsHt CsH+ + 例 4 4− (トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
’−)リフルオロアセチルビフェニル4− (トランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)ビフェニル0.5モル
、硫化炭素500mffおよび塩化アルミニウム0.5
モルを、ドライアイス還流コンデンサーを備えた、三ツ
頚フラスコ中に入れる。この混合物を−306に冷却さ
せた後に、その中にトリフルオロアセチルクロライド0
.5モルを導入する。この混合物を次いで、θ°まで温
め、この温度で6時間、次いで室温で14時間、撹拌す
る。この反応混合物を氷と稀塩酸との混合物上に注ぎ入
れる。有機相を分離し、水性相はジクロロメタン(2X
50mg)と振りまぜることによって抽出する。有機
相を集め、溶剤を留去し、生成物をエタノールから2回
、再結晶させる。
同様にして、下記の化合物が製造される:出発化合物と
して、2−ジフルオロ−2−クロロアセチルクロライド
を使用し、下記の化合物が同様にして、得られる: 同様にして、下記の化合物が製造される:CJ++
1 C’yH+5 C1H1l Omp : 39’a例 5 4−ジフルオロアセチル−4’−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ビフェニルこの化合物の製造は、
4−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェ
ニル0.5モルおよびジフルオロアセチルクロライド0
.5モルから、例4と同様に行なう。
して、2−ジフルオロ−2−クロロアセチルクロライド
を使用し、下記の化合物が同様にして、得られる: 同様にして、下記の化合物が製造される:CJ++
1 C’yH+5 C1H1l Omp : 39’a例 5 4−ジフルオロアセチル−4’−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ビフェニルこの化合物の製造は、
4−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェ
ニル0.5モルおよびジフルオロアセチルクロライド0
.5モルから、例4と同様に行なう。
例 6
2−(4−シアノフェニル)−2,2−ジフルオロ−1
〜(4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)フ
ェニル〕エタノン ブロモジフルオロ(4−シアノフェニル)メタン0,0
8モル〔この化合物はA、 Haas、 M。
〜(4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)フ
ェニル〕エタノン ブロモジフルオロ(4−シアノフェニル)メタン0,0
8モル〔この化合物はA、 Haas、 M。
5pitzer、 M、 LiebによりChew、
Ber、 121 (1988)に記載された方法に
よって製造される)を、THF 50*aに溶解し、次
いでヘキサン中のブチルリチウムの1.6モル溶液50
mffを一78°で、滴下して加える。この混合物を1
5分間撹拌し、次いでTHF 601112中の4−(
トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニトリ
ル0.08モルの溶液を滴下して加える。この混合物を
O@まで温め、次いで氷と稀塩酸との混合物中に注ぎ入
れる。
Ber、 121 (1988)に記載された方法に
よって製造される)を、THF 50*aに溶解し、次
いでヘキサン中のブチルリチウムの1.6モル溶液50
mffを一78°で、滴下して加える。この混合物を1
5分間撹拌し、次いでTHF 601112中の4−(
トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニトリ
ル0.08モルの溶液を滴下して加える。この混合物を
O@まで温め、次いで氷と稀塩酸との混合物中に注ぎ入
れる。
有機相を分離し、水性相はエーテル(50票(1)およ
びジクロロメタン(2X 25mff)で抽出する。
びジクロロメタン(2X 25mff)で抽出する。
有機相を集め、溶剤を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ムにおいて、溶出剤として石油エーテル/エーテルを使
用し、クロマトグラフィ処理する。この溶出液を蒸発さ
せ、残留物をエタノールから再結晶させる。
ムにおいて、溶出剤として石油エーテル/エーテルを使
用し、クロマトグラフィ処理する。この溶出液を蒸発さ
せ、残留物をエタノールから再結晶させる。
同様にして、下記の化合物が製造される:sHt
tHts
F、C0
N
N
IHII
C、H□
例 7
4−(シアノジフルオロメトキシ)−4’−(トランス
−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニル DMF 100+x(2中の4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ビフェニル−4′−オール0.1
0モルおよびクロロジフルオロ酢酸091モルの溶液に
、水素化ナトリウム0.11モルを少しずつ加える。こ
の混合物を次いで、16時間、80″で温める。インプ
ロパツール2501112を次いで加工、混合物を回転
蒸発器で蒸発させる。このインプロパツールの添加およ
び蒸発を2回、繰返すと、残留物は痕跡量のDMFを含
有するだけになる。
−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニル DMF 100+x(2中の4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)ビフェニル−4′−オール0.1
0モルおよびクロロジフルオロ酢酸091モルの溶液に
、水素化ナトリウム0.11モルを少しずつ加える。こ
の混合物を次いで、16時間、80″で温める。インプ
ロパツール2501112を次いで加工、混合物を回転
蒸発器で蒸発させる。このインプロパツールの添加およ
び蒸発を2回、繰返すと、残留物は痕跡量のDMFを含
有するだけになる。
五塩化リン(0,1モル)を次いで、少しずつ加える。
この混合物を温め、外部からの加熱によって60°に3
時間、保持する。ガラスフリットに通して濾過した後に
、生成物を石油エーテル/二硫化炭素から再結晶させる
(この再結晶は・−70°に冷却しながら行なう)。
時間、保持する。ガラスフリットに通して濾過した後に
、生成物を石油エーテル/二硫化炭素から再結晶させる
(この再結晶は・−70°に冷却しながら行なう)。
この方法で得られた酸クロライド化合物をジオキサン5
0m(2中に取り、次いで32%強度アンモニア水溶液
10+n(2で処理する。反応が鎮静化した後に、混合
物をさらに1時間撹拌し、水50IIIQを加え、混合
物をさらに1時間撹拌する。沈殿した生成物を次いで、
吸引炉別し、水で洗浄し、次いで減圧の下に乾燥させる
。次いで五酸化リン0.07モルとともに、約100°
Cで3時間、加熱する。冷却後に、残留物をソックスレ
ー抽出器において、トルエンで抽出する。抽出液を減圧
で蒸発させ、得られた残留物をエタノールから2回、再
結晶させる。
0m(2中に取り、次いで32%強度アンモニア水溶液
10+n(2で処理する。反応が鎮静化した後に、混合
物をさらに1時間撹拌し、水50IIIQを加え、混合
物をさらに1時間撹拌する。沈殿した生成物を次いで、
吸引炉別し、水で洗浄し、次いで減圧の下に乾燥させる
。次いで五酸化リン0.07モルとともに、約100°
Cで3時間、加熱する。冷却後に、残留物をソックスレ
ー抽出器において、トルエンで抽出する。抽出液を減圧
で蒸発させ、得られた残留物をエタノールから2回、再
結晶させる。
同様にして、下記の化合物が製造される:ベンチルシク
ロヘキシル)フェニルチオエーテル この化合物の製造は、4− ()ランス−4−ペンチル
シクロヘキシル)チオフェノール0.1モル(この化合
物は、鋭化合物である炭化水素からクロロスルホン酸を
使用して得られる、相当するスルホニルクロライドをア
ニン/氷酢酸により還元することによって製造される)
から出発し、例7と同様にして、行なう。
ロヘキシル)フェニルチオエーテル この化合物の製造は、4− ()ランス−4−ペンチル
シクロヘキシル)チオフェノール0.1モル(この化合
物は、鋭化合物である炭化水素からクロロスルホン酸を
使用して得られる、相当するスルホニルクロライドをア
ニン/氷酢酸により還元することによって製造される)
から出発し、例7と同様にして、行なう。
同様にして、下記の化合物が製造される:l
Ca1(II
THIS
例 8
シアノジフルオロメチル4−()ランス−4−C3H?
C,H目
例 9
フェノール0.1モルとトリフルオロアセチルクロライ
ド011モルとを、例4と同様に反応させ、4−トリフ
ルオロアセチルフェノールヲ得る。この生成物を、カル
ボン酸およびDCCを使用してエステル化する。p−ペ
ンチル安息香酸を使用すると、4−トリフルオロアセチ
ルフェニルペンチルベンゾエートが得られる:mp:2
7°C1△t=26.7゜ 同様にして、下記の化合物が製造される:fff
10 トリフルオロアセチルフェノール0.1モル、トランス
−4−ペンチルシクロヘキシルメチルブロマイド0.1
1モル、K2CO20,3モル:i 、t: (/ D
MF250mQの混合物を、140°Cで10時間、加
熱する。
ド011モルとを、例4と同様に反応させ、4−トリフ
ルオロアセチルフェノールヲ得る。この生成物を、カル
ボン酸およびDCCを使用してエステル化する。p−ペ
ンチル安息香酸を使用すると、4−トリフルオロアセチ
ルフェニルペンチルベンゾエートが得られる:mp:2
7°C1△t=26.7゜ 同様にして、下記の化合物が製造される:fff
10 トリフルオロアセチルフェノール0.1モル、トランス
−4−ペンチルシクロヘキシルメチルブロマイド0.1
1モル、K2CO20,3モル:i 、t: (/ D
MF250mQの混合物を、140°Cで10時間、加
熱する。
慣用の方法で仕上げ処理し、次いで結晶化させると、4
−(トランス−4−ペンチルシクロへキシルメトキシ)
−1〜1〜リフルオロアセチルベンゼンが得られる、m
p:60°C1△ε−13,78混合物例 A 下記の成分よりなる液晶相を調製するニドランス−1〜
p−プロピルフェニル−4=ペンチルシクロヘキサン1
1重量%、 4’−(2−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル
)エチル)−4−エチル−2−フルオロビフェニル16
重量%、 4’−(2−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル
)エチル)−4−ペンチルー2−フルオロビフェニル1
O1i量%、 4−エチル−4’−(トランス−4−プロピルンクロヘ
キシル)−ビフェニル93141%、4.4’−ビス(
トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニル4
重量%、 4.4’−ヒス(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)ビフェニル、N131%、 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’
−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−ビフェ
ニル4重量%、 4.4′−ビス(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−2−フルオロビフェニル611jt%、 4.4′−ビス(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)−2−フルオロビフェニル6flJi%および 4’−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
−(lリフルオロメチルチオ)ビフェニル30重量%。
−(トランス−4−ペンチルシクロへキシルメトキシ)
−1〜1〜リフルオロアセチルベンゼンが得られる、m
p:60°C1△ε−13,78混合物例 A 下記の成分よりなる液晶相を調製するニドランス−1〜
p−プロピルフェニル−4=ペンチルシクロヘキサン1
1重量%、 4’−(2−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル
)エチル)−4−エチル−2−フルオロビフェニル16
重量%、 4’−(2−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル
)エチル)−4−ペンチルー2−フルオロビフェニル1
O1i量%、 4−エチル−4’−(トランス−4−プロピルンクロヘ
キシル)−ビフェニル93141%、4.4’−ビス(
トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニル4
重量%、 4.4’−ヒス(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)ビフェニル、N131%、 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’
−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−ビフェ
ニル4重量%、 4.4′−ビス(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−2−フルオロビフェニル611jt%、 4.4′−ビス(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)−2−フルオロビフェニル6flJi%および 4’−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
−(lリフルオロメチルチオ)ビフェニル30重量%。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式 I R^1−(A^1−Z^1)_m−A^2−Q−CF_
2(A^3−Z^2)_n−A^4−R^2 I 〔式中
、R^1およびR^2は、それぞれ相互に独立して、C
原子1〜15個をそれぞれ有するアルキル基またはアル
ケニル基であり、これらの基は、それぞれ非置換である
か、または置換基として1個のCNまたはCF_3を有
するか、あるいは置換基として少なくとも1個のハロゲ
ンを有し、そしてこれらの基中に存在する1個または2
個以上のCH_2基は、それぞれ相互に独立して、O原
子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、▲数
式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等
があります▼、−CO−、−CO−O−、−O−CO−
または−O−CO−O−により置き換えられていてもよ
く、そして基R^1および基R^2のうちの1個はまた
、H、ハロゲン、−CNまたは−NCSであることもで
き、 A^1、A^2およびA^3は、それぞれ相互に独立し
て、 (a)トランス−1,4−シクロヘキシレン基であり、
この基中に存在する1個のCH_2基または隣接してい
ない2個以上のCH_2基は、−O−および(または)
−S−により置き換えられていてもよく、 (b)1,4−フェニレン基であり、この基中に存在す
る1個または2個のCH基はNにより置き換えられてい
てもよく、あるいは (c)1,4−シクロヘキセニレン、1,3−シクロブ
チレン、1,4−ビシクロ(2,2,2)オクチレン、
ピペリジン−1,4−ジイル、ナフタレン−2,6−ジ
イル、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイルおよび1
,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイ
ルよりなる群から選ばれる基であり、 上記の基(a)および基(b)は、置換基としてCNま
たはフッ素を有していてもよく、 A^4は、A^1、A^2およびA^3の定義のうちの
一つを有し、あるいはn=0の場合には、A^4はまた
、単結合であることができ、 Z^1およびZ^2は、それぞれ相互に独立して、−C
O−O−、−O−CO−、−CH_2O−、−OCH_
2−、−CH_2CH_2−、−CH=CH−、−C≡
C−または単結合であり、mは1、2または3であり、 nは0、1または2であり、そして Qは、−CO−、−O−または−S−である、ただし、 (a)(m+n)は1、2または3であり、(b)n=
0、Q=0およびA^4が単結合である場合には、R^
2は塩素または−CNであり、(c)n=0、Q=Sお
よびA^4が単結合である場合には、R^2はハロゲン
または−CNであり、そして (d)n=0、Q=COおよびA^4が単結合である場
合には、R^2はH、ハロゲンまたは−CNである〕 で示されるジフルオロメチレン化合物。 2)式 I 1 R^1−(A^1−Z^1)_m−A^2−S−CF_
2−R^2 I 1(式中、R^1、A^1、Z^1、m
およびA^2は前記定義のとおりであり、そしてR^2
はフッ素、塩素または−CNである) で示されることを特徴とする、請求項1に記載のジフル
オロメチレン化合物。 3)式 I 2 R^1−(A^1−Z^1)_m−A^2−O−CF_
2−R^2 I 2(式中、R^1、A^1、Z^1、m
およびA^2は前記定義のとおりであり、そしてR^2
は−CNまたは塩素である) で示されることを特徴とする、請求項1に記載のジフル
オロメチレン化合物。 4)式 I 3 R^1−(A^1−Z^1)_m−A^2−CO−CF
_2−R^2 I 3(式中、R^1、A^1、Z^1、
mおよびA^2は前記定義のとおりであり、そしてR^
2はH、フッ素、塩素または−CNである) で示されることを特徴とする、請求項1に記載のジフル
オロメチレン化合物。 5)A^4がA^1、A^2およびA^3の意味のうち
の一つを有し、そしてnが0または1であることを特徴
とする、請求項1に記載のジフルオロメチレン化合物。 6)QがOまたはSであることを特徴とする、請求項5
に記載のジフルオロメチレン化合 物。 7)A^1、A^2およびA^3が、それぞれ相互に独
立して、トランス−1,4−シクロヘキシレンまたは1
,4−フェニレンであることを特徴とする、請求項1〜
6のうちの少なくとも一項に記載のジフルオロメチレン
化合物。 8)Z^1およびZ^2が、それぞれ相互に独立して、
−CH_2CH_2−、−C≡C−または単結合である
ことを特徴とする、請求項1〜7のうちの少なくとも一
項に記載のジフルオロメチレン化合物。 9)式 I で示される化合物を液晶相の成分として使用
すること。 10)少なくとも二種の液晶成分を含有し、式 I で示
される化合物のうちの少なくとも一種を含有することを
特徴とする、液晶相。 11)請求項10に記載の液晶相を含有することを特徴
とする、液晶表示素子。 12)請求項10に記載の液晶相を、誘電体として含有
することを特徴とする、電気光学表示素子。
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