JPH0753432A - ベンゼン誘導体および液晶性媒体 - Google Patents

ベンゼン誘導体および液晶性媒体

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JPH0753432A
JPH0753432A JP6182640A JP18264094A JPH0753432A JP H0753432 A JPH0753432 A JP H0753432A JP 6182640 A JP6182640 A JP 6182640A JP 18264094 A JP18264094 A JP 18264094A JP H0753432 A JPH0753432 A JP H0753432A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶性媒体が成分として適し、かつ特に比較
的低い粘度と比較的高い誘電性を同時に有するネマトゲ
ン性の新規な、安定な液晶性またはメソーゲン性化合物
を提供する。 【構成】 式I 【化1】 [式中R1 、R2 、L1 、L2 【化2】 【化3】 mおよびnは請求項1に定義した通りである]のモノフ
ッ素化ベンゼン誘導体およびこれら化合物を含有する液
晶性媒体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は式Iのモノフッ素化ベン
ゼン誘導体
【0002】
【化16】 [式中
【0003】
【化17】 および
【0004】
【化18】 はそれぞれ、互いに独立に
【0005】
【化19】 であり、R1 は置換されてないかまたはCNまたはCF
3 で一置換されているかまたはハロゲンで少なくとも一
置換されている炭素原子1ないし12個を有するアルキ
ルまたはアルケニルであり、これらの基の中の1個以上
のCH2 基がそれぞれの場合にたがいに独立して−O
−、−S−、
【0006】
【化20】 −CO−、−CO−O−、−O−CO−または−O−C
O−O−により、O原子がたがいに直接結合しないよう
に置換されていても良く、R2 は1−5個の炭素原子を
有するアルコキシであって、(a) m=2、n=0,
【0007】
【化21】 であり、L1 =Fであり、あるいは(b) R1 =アル
ケニルである場合には、または1−5個の炭素原子を有
するアルキルであり、L1-4 の内の1基がフッ素であり
かつ他の基L1 、L2 、L3 またはL4 が水素であり、
mおよびnがそれぞれ独立であって、0、1または2で
あって、ただしm+n≧1である]に関する。
【0008】本発明はさらにこれら化合物の液晶性媒体
の成分としての使用に関し、さらに本発明による液晶性
媒体を含有する液晶および電気光学ディスプレイ素子に
関する。
【0009】式Iの化合物は液晶性媒体の成分として、
特にねじれセル、ゲスト−ホスト効果、配向相の変形効
果、動的散乱の効果の原理に基づくディスプレイ用に使
用することが出来る。
【0010】
【従来の技術】JP59/16840が既に式
【0011】
【化22】 [式中R=R’=アルキル]の化合物を開示している。
【0012】しかしながら、高い△εのそのような化合
物の極めて広範囲な応用分野を考慮して、特殊な応用に
厳密に調製した特性を持つ高いネマトゲン性のその他の
化合物を入手することは好ましいことである。本発明に
よる化合物は驚くべき程に良好な急峻性のSTN混合物
が得られることである。対応するフッ素化していない化
合物に比較して、これら物質は明らかにスメクチック相
を形成する傾向が低いのである。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明は液晶性媒体の
成分として適し、かつ特に同時に比較的低い粘度と比較
的高い誘電性を有するネマトゲン性の新規な、安定な液
晶性あるいはメソーゲン性化合物を提供することを目的
としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】式Iの化合物は液晶性媒
体の成分としては極めて適していることが見出された。
特にこれら化合物は比較的低い粘度を持っている。これ
ら化合物を安定な、広いネマチック性メゾ相領域、有利
な光学異方性および誘電異方性を有する液晶性媒体を得
るために使用することができる。
【0015】加えて、式Iの化合物の提供は極めて一般
的に種々の応用観点から見て、液晶性混合物の製造に適
した液晶性物質の領域を拡大したのである。
【0016】式Iの化合物は広い応用領域を持ってい
る。置換基の選択によって代わるが、これら化合物は液
晶性媒体を圧倒的に構成している基礎素材として使用す
ることができる。しかしながら式Iの化合物を例えばこ
のタイプの誘電体の誘電および/または光学異方性を変
更するために及び/または閾値電圧および/またはその
粘度を最適化するために、他のクラスの化合物の液晶性
基礎素材に添加することも可能である。
【0017】純粋状態では、式Iの化合物は無色であ
り、かつ電気−光学利用には好ましい位置にある温度範
囲では液晶性のメゾ相を形成している。これら化合物は
化学的、熱的に安定であり、かつ光にたいしても安定で
ある。
【0018】従って、本発明は式Iの化合物に関し、か
つ液晶性の媒体の成分としてこれら化合物の使用にも関
する。本発明は更に式Iの少なくとも1種の化合物を含
有する液晶性の媒体に関し、かつ液晶性ディスプレイ素
子、特にそのような媒体を含有する電気−光学ディスプ
レイ素子に関する。
【0019】化合物の中の非常に極めて好ましい小さい
グループは従属式I1ないしI14
【0020】
【化23】
【0021】
【化24】 (R3 およびR4 =水素あるいはC1-5 アルキル)の化
合物から成る。式Iおよび従属式I1ないしI9の全て
の化合物については、基L1 およびL 2 のいずれかがフ
ッ素であり、かつ他の基L1 あるいはL2 が水素である
ことが好ましい。
【0022】従属式I1ないしI9では、R3 は好まし
くは水素或はメチルである。R2 は好ましくは1ないし
5個の炭素原子を有する直鎖アルキルあるいはアルコキ
シ基である。I10ないしI14の従属式のR1 では好
ましくはアルキルあるいはアルケニルである。m+nは
好ましくは2である。
【0023】R1 あるいはR2 がアルキル基および/ま
たはアルコキシ基であるならば、直鎖であっても枝別れ
していてもよい。好ましくは直鎖であり、2、3、4、
5、6または7個の炭素原子を有し、従って好ましくは
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、
ヘキソキシあるいはヘプトキシであり、更にメチル、オ
クチル、ノニル、デシル、メトキシ、オクトキシ、ノノ
キシまたはデコキシである。
【0024】オクサアルキルは好ましくは直鎖の2−オ
クサプロピル(=メトキシメチル)、2−(=エトキシ
メチル)あるいは3−オクサブチル(=2−メトキシメ
チル)、2−、3−あるいは4−オクサペンチル、2
−、3−、4−あるいは5−オクサヘキシル、2−、3
−、4−、5−あるいは6−オクサヘプチル、2−、3
−、4−、5−、6−あるいは7−オクサオクチル、2
−、3−、4−、5−、6−、7−あるいは8−オクサ
ノニルあるいは2−、3−、4−、5−、6−、7−、
8−あるいは9−オクサデシルである。
【0025】R1 あるいはR2 が、1個のCH2 基が−
CH=CH−で置換されているアルキル基であるなら
ば、これは直鎖でっても枝別れしていても良い。好まし
くは直鎖であって、かつ2ないし10個の炭素を有して
いる。従って特にビニル、プロプ−1−または−2−エ
ニルであり、ブト−1−、−2−または−3−エニル、
ペント−1−、−2−、−3−または−4−エニル、ヘ
クス−1−、−2−、−3−、−4−または−5−エニ
ル、ヘプト−1−、−2−、−3−、−4−、−5−ま
たは−6−エニル、オクト−1−、−2−、−3−、−
4−、−5−、−6−、−7−エニル、ノン−1−、−
2−、−3−、−4−、−5−、−6−、−7−または
−8−エニル、デシ−1−、−2−、−3−、−4−、
−5−、−6−、−7−、−8−または−9−エニルで
ある。
【0026】R1 あるいはR2 が、1個のCH2 基が−
O−で、他のCH2 が−CO−で置換されているアルキ
ル基であるなら、これらは好ましくは隣接している。従
って、これらの基はアシロキシ基−CO−O−またはオ
キシカルボニル基−O−CO−を含有している。これら
の基は好ましくは直鎖であって、かつ2ないし6個の炭
素原子を含有している。
【0027】従って、特にアセトキシ、プロピオニルオ
キシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノ
イルオキシ、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメ
チル、ブチリルオキシメチル、ペンタノイルオキシメチ
ル、2−アセトキシエチル、2−プロピオニルオキシエ
チル、2−ブチリルオキシエチル、3−アセトキシプロ
ピル、3−プロピオニルオキシプロピル、4−アセトキ
シブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキ
シカルボニル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカ
ルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキ
シカルボニルメチル、2−(メトキシカルボニル)エチ
ル、2−(エトキシカルボニル)エチル、2−(プロポ
キシカルボニル)エチル、3−(メトキシカルボニル)
プロピル、3−(エトキシカルボニル)プロピルあるい
は4−(メトキシカルボニル)ブチルである。
【0028】R1 あるいはR2 が、1個のCH2 基が置
換されてない、あるいは置換されている−CH=CH−
で置換されていて、かつ隣接したCH2 基がCOあるい
はCO−OまたはO−COで置換されているアルキル基
ならば、この基は直鎖であっても枝別れしていてもよ
い。この基は好ましくは直鎖であって、かつ4ないし1
3個の炭素原子を有している。従って、特にアクリロイ
ルオキシメチル、2−アクリロイルオキシエチル、3−
アクリロイルオキシプロピル、4−アクリロイルオキシ
ブチル、5−アクリロイルオキシペンチル、6−アクリ
ロイルオキシヘキシル、7−アクリロイルオキシヘプチ
ル、8−アクリロイルオキシオクチル、9−アクリロイ
ルオキシノニル、10−アクリロイルオキシデシル、メ
タクリロイルオキシメチル、2−メタクリロイルオキシ
エチル、3−メタクリロイルオキシプロピル、4−メタ
クリロイルオキシブチル、5−メタクリロイルオキシペ
ンチル、6−メタクリロイルオキシヘキシル、7−メタ
クリロイルオキシヘプチル、8−メタクリロイルオキシ
オクチルまたは9−メタクリロイルオキシノニルであ
る。
【0029】R1 あるいはR2 がCNまたはCF3 で一
置換されているアルキルあるいはアルケニル基であるな
らば、この基は好ましくは直鎖であり、このCNあるい
はCF3 による置換はω−位置である。
【0030】R1 あるいはR2 がハロゲンで少なくとも
一置換されているアルキルまたはアルケニル基であるな
らば、この基は好ましくは直鎖であって、かつハロゲン
は好ましくはフッ素か塩素である。多重置換の場合に
は、ハロゲンは好ましくはフッ素である。得られた基も
ペルフロロ化した基をも包含する。一置換の場合には、
フッ素または塩素の置換基は希望したどの位置でも良い
が、しかし好ましくはω−位置である。
【0031】枝別れした側鎖R1 およびR2 を含有する
式Iの化合物は通常の液晶性基礎素材中でのより良好な
溶解度のためにときには重要であることもあるが、これ
らが光学活性であるならば、特にキラルドーピング剤と
して重要である。
【0032】このタイプの枝別れ基は一般的には1より
多い枝別れをもっていない。好ましい枝別れした基Rは
イソプロピル、2−ブチル(=1−メチルプロピル)、
イソブチル(=2−メチルプロピル)、2−メチルブチ
ル、イソペンチル、(=3−メチルブチル)、2−メチ
ルペンチル、3−メチルペンチル、2−エチルヘキシ
ル、2−プロピルペンチル、イソプロポキシ、2−メチ
ルプロポキシ、2−メチルブトキシ、3−メチルブトキ
シ、2−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2
−エチルヘキソキシ、1−メチルヘキソキシおよび1−
メチルヘプトキシである。
【0033】R1 あるいはR2 が、2個以上のCH2
−O−および/または−CO−O−で置換されているア
ルキル基ならば、この基は直鎖あるいは枝別れしていて
もよい。この基は好ましくは枝別れしており、3ないし
12個の炭素原子を持っている。従って、特にビスカル
ボキシメチル、2,2−ビスカルボキシエチル、3,3
−ビスカルボキシプロピル、4,4−ビスカルボキシブ
チル、5,5−ビスカルボキシペンチル、6,6−ビス
カルボキシヘキシル、7,7−ビスカルボキシヘプチ
ル、8,8−ビスカルボキシオクチル、9,9−ビスカ
ルボキシノニル、10,10−ビスカルボキシデシル、
ビス(メトキシカルボニル)メチル、2,2−ビス(メ
トキシカルボニル)エチル、3,3−ビス(メトキシカ
ルボニル)プロピル、4,4−ビス(メトキシカルボニ
ル)ブチル、5,5−ビス(メトキシカルボニル)ペン
チル、6,6−ビス(メトキシカルボニル)ヘキシル、
7,7−ビス(メトキシカルボニル)ヘプチル、8,8
−ビス(メトキシカルボニル)オクチル、ビス(エトキ
シカルボニル)メチル、2,2−ビス(エトキシカルボ
ニル)エチル、3,3−ビス(エトキシカルボニル)プ
ロピル、4,4−ビス(エトキシカルボニル)ブチル、
5,5−ビス(エトキシカルボニル)ペンチルである。
【0034】重縮合に適した側鎖R1 あるいはR2 を含
有する式Iの化合物は液晶性の重縮合体の製造には適し
ている。
【0035】式Iはこれら化合物のラセミ体、光学対掌
体およびこれらの混合物をカバーしている。
【0036】式Iおよびその従属式のこれらの化合物の
うちで、これらの化合物はそのなかに存在する少なくと
も1個の基が上述の一つの意味を有することが好まし
い。式Iの化合物の中ではシクロヘキサン環がトランス
−1,4−二置換体である立体異性体が好ましい。
【0037】式Iの化合物は文献記載のような(例えば
ホウベン−ワイル著、有機化学の方法、ゲオルク−ティ
ーメ(Georg−Thieme)出版社、シュツット
ガルトのような標準的な著作)それ自身公知の方法で合
成することが可能であって、もっと厳密には公知であっ
てかつ上記の反応に適した反応条件で合成することがで
きる。
【0038】さらにそれ自身公知である変法をここで使
用することも可能であるが、ここでは詳細には記載しな
い。
【0039】本発明による化合物は例えば以下のように
(R3 およびR4 が水素あるいはアルキル)合成するこ
とができる。
【0040】
【化25】
【0041】
【化26】
【0042】
【化27】
【0043】
【化28】
【0044】
【化29】
【0045】
【化30】
【0046】
【化31】
【0047】
【化32】
【0048】
【化33】
【0049】
【化34】 本発明による液晶性の媒体は好ましくは本発明による1
種以上の化合物に加えて、その他の構成成分として2な
いし40種、特に4ないし30種の成分を含有してい
る。これらの媒体は本発明による1種以上の化合物に加
えて、極めて特別に好ましくは7ないし25種の成分を
含有している。これらのその他の構成成分好ましくはネ
マチックあるいはネマトゲン性(モノトロピーあるいは
等方性)物質であり、特にアゾキシベンゼン、ベンジリ
デンアニリン、ビフェニル、ターフェニル、フェニルあ
るいはシクロヘキシルベンゾエート、シクロヘキサンカ
ルボン酸のフェニルあるいはシクロヘキシルエステル、
シクロヘキシルベンゾイックアシッドのフェニルあるい
はシクロヘキシルエステル、シクロヘキシルシクロヘキ
サンカルボン酸のフェニルあるいはシクロヘキシルエス
テル、安息香酸のシクロヘキシルフェニルエステル、シ
クロヘキサンカルボン酸のシクロヘキシルフェニルエス
テル、シクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のシク
ロヘキシルフェニルエステル、フェニルシクロヘキサ
ン、シクロヘキシルビフェニル、フェニルシクロヘキシ
ルシクロヘキサン、シクロヘキシルシクロヘキサン、シ
クロヘキシルシクロヘキシルシクロヘキサン、1,4−
ビス−シクロヘキシルベンゼン、4,4’−ビス−シク
ロヘキシルビフェニル、フェニル−あるいはシクロヘキ
シルピリミジン、フェニール−あるいはシクロヘキシル
ピリジン、フェニル−あるいはシクロヘキシルジオキサ
ン、フェニル−あるいはシクロヘキシル−1,3−ジチ
アン、1,2−ジフェニルエタン、1,2−ジシクロヘ
キシルエタン、1−フェニル−2−シクロヘキシルエタ
ン、1−シクロヘキシル−2−(4−フェニルシクロヘ
キシル)エタン、1−シクロヘキシル−2−ビフェニエ
タン、1−フェニル−2−シクロヘキシルフェニエタ
ン、場合によってはハロゲン化したスチルベン、ベンジ
ルフェニルエーテル、トラン類、置換したケイ皮酸、か
ら選択される。これらの化合物中の1,4−フェニレン
基はフッ素化していてもよい。本発明による媒体のその
他の構成成分として適した最も重要な化合物は式1、
2、3、4および5の特徴を有している。
【0050】 R’−L−E−R” 1 R’−L−COO−E−R” 2 R’−L−OOC−E−R” 3 R’−L−CH2 CH2 −E−R” 4 R’−L−C≡C−E−R” 5 これらの式1、2、3、4および5においては、Lおよ
びEは同一であっても異なっていてもよく、互いに独立
にそれぞれ−Phe−、−Cyc−、−Phe−Phe
−、−Phe−Cyc−、−Cyc−Cyc−、−Py
r−、−Dio−、−G−Phe−およびG−Cyc−
およびその鏡像体で構成されるグループからの2価の基
であり、ただし式中Pheは置換されてないか、あるい
は弗素で置換された1,4−フェニレン、Cycはトラ
ンス−1,4−シクロヘキシレンあるいは1,4−シク
ロヘキシレン、Pyrはピリミジン−2,5−ジイル、
ピリジン−2,5−ジイル、Dioは1,3−ジオキサ
ン−2,5−ジイルであり、Gは2−(トランス−1,
4−シクロヘキシル)エチル、ピリミジン−2,5−ジ
イル、ピリジン−2,5−ジイルあるいは1,3−ジオ
キサン−2,5−ジイルである。
【0051】基LおよびEの一つは好ましくはCyc,
PheあるいはPyrである。Eは好ましくはCyc、
PheあるいはPhe−Cycである。本発明による媒
体は好ましくは式1、2、3、4および5の化合物から
選択された1種以上の成分を含有しており、ただし式中
LおよびEはCyc、PheおよびPyrからなるグル
ープから選択され、同時に式1、2、3、4および5の
化合物から選択された1種以上の成分を含有しており、
ただし式中基LおよびEの一はCyc,Pheあるいは
Pyrからなるグループから選択され、その他の基は−
Phe−Phe−、−Phe−Cyc−、Cyc−Cy
c−、−G−Phe−およびG−Cyc−から選択さ
れ、場合によっては、式1、2、3、4および5の式の
化合物から選択される1種以上の成分を含有しており、
ただし式中基LおよびEは−Phe−Cyc−、Cyc
−Cyc−、−G−Phe−およびG−Cyc−から選
択される。
【0052】式1、2、3、4および5の化合物の小さ
な従属グループでは、R’及びR”は互いに独立に、そ
れぞれの場合に8個迄の炭素原子を有するアルキル、ア
ルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニ
ルオキシあるいはアルカノイルオキシである。この小さ
な従属グループは以下ではグループAと呼ばれ、その化
合物を従属式 1a、2a、3a、4aおよび5aと記号
を付けることにする。これらの大抵の化合物にあって
は、R’およびR”互いに異なっており、これらの基の
一は通常はアルキル、アルケニル、アルコキシあるいは
アルコキシアルキルである。
【0053】グループBとして公知である 1、2、3、
4および5の化合物の他の小さな従属グループでは、
R”は−F,−Cl、−NCSあるいは−(O)i CH
3-(k+1 )k Cl1 であり、ただし式中iは0または1
であり、k+lは1、2または3である。R”がこの意
味を有する化合物を従属式1b、2b、3b、4bおよ
び5bと記号を付ける。R”が−F、−Cl、−NC
S、−CF3 、−OCHF 2 あるいは−OCF3 である
従属式1b、2b、3b、4bおよび5bの化合物が特
に好ましい。
【0054】従属式1b、2b、3b、4bおよび5b
の化合物にあっては、R’は従属式1aないし5aの化
合物の場合に定義した通りであり、好ましくはアルキ
ル、アルケニル、アルコキシあるいはアルコキシアルキ
ルである。
【0055】式1、2、3、4および5の化合物の中そ
の他の小さな従属グループでは、R”は−CNである。
この従属グループは以下ではグループCとして公知であ
り、この従属グループの化合物は従って従属式1c、2
c、3c、4cおよび5cと記載する。従属式1c、2
c、3c、4cおよび5cの化合物にあっては、R’は
従属式1aないし5aの化合物の場合に定義した通であ
り、好ましくはアルキル、アルコキシあるいはアルケニ
ルである。
【0056】グループA、BおよびCの好ましい化合物
に加えて、提案した置換基のその他の変更を有する式
1、2、3、4および5の他の化合物も慣用の化合物で
ある。これらすべての物質は文献から公知の方法あるい
はそれに類似の方法で入手することも出来る。
【0057】本発明による式Iの化合物の他に媒体は好
ましくはグループAおよび/またはグループBおよび/
またはグループCから選択された1種以上の化合物を含
有する。本発明による媒体中のこれらグループからの化
合物の重量割合は好ましくは以下の通りである。 グループA: 0ないし90%、好ましくは20な
いし90%、特に30ないし90% グループB: 0ないし80%、好ましくは10な
いし80%、特に10ないし65% グループC: 0ないし80%、好ましくは5ない
し80%、特に5ないし50% 本発明による特定の媒体中に存するグループAおよび/
またはBおよび/またはCの重量割合の合計は好ましく
は5ないし90%であり、特に10ないし90%であ
る。
【0058】本発明による媒体は本発明による化合物を
好ましくは1ないし40%、特に好ましくは5ないし3
0%含有している。さらに好ましい媒体は本発明による
化合物40%以上、特に45ないし90%含有している
媒体である。媒体は好ましくは本発明の化合物を3、4
または5種含有している。
【0059】本発明による媒体はそれ自身公知の方法で
製造出来る。一般的には、有利なことには温度を上げる
と、成分は互いに溶解する。適当な添加剤によって、い
ままでに開示された全てのタイプの液晶ディスプレイ素
子の中で使用することが出来るような方法で、本発明に
従って液晶性の相を改質することが可能である。このタ
イプの添加剤は当業者には公知であり、文献(H.ケル
カー(Kelker)/R.ハッツ(Hatz)著、液
晶のハンドブック 化学出版社、ワインハイム(Wei
nheim)1980)に詳細に記載されている。例え
ば色付きのゲストーホストシステムを製造するために、
多色性染料を添加することができる、あるいはネマチッ
ク相の誘電異方性、粘度および/または配向を変化する
ために物質を添加するすることも出来る。
【0060】本出願および以下の実施例では、液晶化合
物の構造を略成語によって示し、化学式への転換は以下
の表AおよびBに従って行なうことができる。Cn
2n+1およびCm2m+1はそれぞれnおよびm個の炭素を
もつ直鎖アルキル基をもつアルキル基である。表B中の
コーディングは自明である。表Aでは、基礎構造のため
の略成語のみを示す。個々の場合には、置換基R1 、R
2 、L1 およびL2 のためのコードが続き、これらは基
礎構造のために略成語からダッシュをつけて離されてい
る。
【0061】
【化35】 表 A
【0062】
【化36】
【0063】
【化37】
【0064】
【化38】 表 B
【0065】
【化39】
【0066】
【化40】
【0067】
【実施例】以下の実施例は発明を説明することを目的と
しており、制限を行なうものではない。これまでおよび
これ以降において、百分率は重量百分率である。全ての
温度表示は℃表示であり、mp.=融点、cp=透明点
である。さらにC=結晶相、N=ネマチック相、S=ス
メクチック相、I=等方性相である。これら記号間の数
値は転移温度である。Δnは光学異方性(589nm、
20℃)を示しおよび粘度は20℃で測定した。
【0068】慣用の加工処理とは必要ならば水を加え、
混合物をジクロロメタン、ジエチルエーテル、メチルタ
ーシャリブチルエーテル、あるいはトルエンで抽出し、
有機相を分離し、乾燥し、蒸発し、生成品を減圧蒸留あ
るいは再結晶および/またはクロマトグラフィーによっ
て精製することを意味する。以下の略号を使用する。 DMF N、N−ジメチルフォルムアマミド DMEU 1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
ン KOT ターシャリブトキサイドカリウム THF テトラヒドロフラン pTSOH p−トルエンスルフォン酸 実施例1
【0069】
【化41】 工程1.1
【0070】
【化42】 式Iの0.25モルをジエチルエーテル350mlに溶
解させた溶液に−70℃でBuLi0.25モルを滴下
する。その混合物を更に0.5時間攪拌し、さらにテト
ライソプロピルオルソチタネート0.25モルを−70
ないし−60℃で添加する。式IIの0.22モルをジ
エチルエーテル150mlに溶解した溶液を−20℃で
この反応混合液に添加する。更に1時間攪拌し、さらに
水および10%の塩酸溶液を添加し、その混合物を通常
の加工処理に掛ける。 工程1.2
【0071】
【化43】 IIIの0.22モルをトルエン700mlに溶解し、
p−トルエンスルフォン酸3gを添加し、その混合物を
水分離器上で1夜煮沸する。混合物を室温に冷却し、さ
らに通常の加工処理作業を行なう。 工程1.3
【0072】
【化44】 IVの0.14モルをエタノール500mlに溶解し、
ラネーニッケル30gを添加し、その混合物を25−3
0℃および5バールで水素添加する。水素添加が完了し
たときに。触媒を濾過し、濾液をロータリーエバポレー
ターで蒸発させる。 工程1.4
【0073】
【化45】 リチウムアルミニウムハイドライド0.035モルをト
ルエン30mlに溶解させた溶液を式V0.07モルを
150mlのTHFに溶解した溶液に添加する。その混
合物を1時間リフラックスさせ、室温に冷却し、水を添
加し、その混合物をHClで酸性にし、さらに通常の加
工処理に掛ける。 工程1.5
【0074】
【化46】 VIの65.6ミリモルをジクロロメタン200mlに
溶解し、ピリジニウムクロロクロメート79.6ミリモ
ルおよびセライト(Celite)11gを添加し、そ
の混合物を室温で4時間攪拌する。
【0075】反応混合物を蒸発させ、残留物をメチルタ
ーシャリブチルエーテルと一緒にシリカゲルで濾過す
る。 工程1.6
【0076】
【化47】 エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド91.
4ミリモルを窒素雰囲気中で0℃でTHF50mlに導
入し、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド
(0.1モルのTHF溶液)を滴下した。混合物をさら
に15分間攪拌し、THF50mlにVIIの31.4
ミリモルを溶解した溶液を−70℃でこの混合溶液に滴
下した。その混合物を攪拌しながら室温に加熱し、水お
よび塩化ナトリウム溶液を添加し、その混合物を2規定
の塩酸溶液で酸性にし、さらに通常の加工処理に掛け
る。 工程1.7
【0077】
【化48】 窒素雰囲気中で、VIIIの23.3ミリモルをトルエ
ン30mlに溶解し、ベンゼンスルフオン酸ナトリウム
6.2ミリモルおよび1規定の塩酸8.5mlと一緒に
リフラックスする。その後に混合物を通常の加工処理を
行なう。ジクロロメタンを使ってシリカゲルカラムから
製品を溶離する。C45N220.2I,Δn=+0.
134、Δε=0.65、MS 330(M+)、31
6、205、191、178、165、152、13
9、121、109、95、81、67、55、41。
【0078】
【化49】 の以下の化合物が同様に合成された。
【0079】
【化50】
【0080】
【化51】
【0081】
【化52】 実施例2
【0082】
【化53】 工程2.1
【0083】
【化54】 様式2に類似して、トランス−2−フロロフェニル−4
−プロピルシクロヘキサン0.1モルおよびメチルシク
ロヘキサノン−4−カーボキシレート0.1モルをテト
ライソプロピルオルトチタネートで化合させる。
【0084】エステルグループのアルケニル基への転換
は工程1.4ないし1.7に類似して実施する。式
【0085】
【化55】 の以下の化合物が同様に合成された。
【0086】
【化56】
【0087】
【化57】
【0088】
【化58】 実施例3
【0089】
【化59】 工程3.1
【0090】
【化60】 Iの2.54モルとIIの2.54モルをトルエン4l
およびエタノール1.7lに溶解し、テトラキス[トリ
フェニルフォスフィン]パラジウム(0)29gおよび
炭酸ナトリウム溶液(2モル/l)2.6lを順次に添
加する。反応溶液を5時間リフラックスし、その後に慣
用の加工処理作業を行なう。 工程3.2
【0091】
【化61】 ピリジウムクロロクロメート0.973モルとセライト
12.5gをジクロロメタン1.25l中に懸濁し、I
IIの0.973モルとジクロロメタン1.25lの溶
液を20−25℃で添加する。反応混合物を5時間室温
で攪拌し、その後に慣用の加工処理作業を行なう。 工程3.3
【0092】
【化62】 ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド12
7.7ミリモルをTHF200mlに溶解し、その溶液
を−20℃に冷却する。攪拌しながら、THF45ml
に溶解したターシャリーブトキサイドカリウム121.
6ミリモルの溶液を−20℃で滴下する。10分後に、
THF65mlに溶解したIVの121.6ミリモルの
溶液を反応混合物に滴下する。混合物を室温に加熱し、
水を添加し、その混合物を慣用の加工処理作業にかけ
る。 工程3.4
【0093】
【化63】 Vの69ミリモルをトルエン85mlに溶解し、ベンゼ
ンスルフォン酸17.9ミリモルと1規定の塩酸溶液2
7.6mlを添加し、その混合物を50℃で32時間攪
拌し、その後に慣用の加工処理作業にかける。
【0094】式
【0095】
【化64】 の以下の化合物が同様に得られた。
【0096】
【化65】 実施例4
【0097】
【化66】 a)
【0098】
【化67】 2−フロロ−4−メトキシブロモベンゼン350ミリモ
ルをジエチルエーテル350mlに溶解し、その溶液を
攪拌しながら−70℃に冷却する。n−BuLi350
ミリモルをこの溶液に−70℃で滴下する。その混合物
を0.5時間攪拌し、トランス、トランス−4−エチル
シクロヘキシルシクロヘキサノン350ミリモルをジエ
チルエーテル150mlに溶解した溶液をこの冷却溶液
に滴下する。混合物を室温に温め、加水分解し、希薄塩
酸溶液で酸性にする。有機相を分離し、水性相をメチル
ターシャリブチルエーテルで抽出する。合体させた有機
相を水で洗浄し、Na2 SO4 で乾燥する。溶媒をロー
タリーエバポレーターで除去し、精製することなく残留
物をさらに処理する。 b)
【0099】
【化68】 a)の生成物(350ミリモル)をトルエン500ml
に溶解し、パラトルエンスルフォン酸5gを添加し、そ
の混合物を3時間水分離器上で煮沸する。中性になるま
で反応溶液を洗浄し、ロータリーエバポレーターを使っ
て濃縮する。残留物をシリカゲル(ヘキサン:エチルア
セテート=9:1)で濾過する。 c)
【0100】
【化69】 b)のシクロヘキサン誘導体205ミリモルをPd/C
の存在下で水素添加する。C 65 SB 46 N
157.6 I、Δn=+0.100、Δε=−0.
5。
【0101】式
【0102】
【化70】 の以下の化合物が同様に得られた。
【0103】
【化71】
【0104】
【化72】
【0105】
【化73】 実施例5
【0106】
【化74】 トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−フェニルブロマイド107ミリモルおよび2−フ
ロロ−4−メトキシボロニックアシッド107ミリモル
をトルエン200mlおよびエタノール85mlに溶解
し、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウ
ム(O)を添加する。2モルの炭酸ナトリウム溶液12
0mlを添加し、その混合物を煮沸するまで加熱する。
反応の進行をクロマトグラフィーを使ってモニターし、
転換が完了したときに、反応を終了させた。混合物を室
温に放冷し、メチルターシャリブチルエーテルおよび水
を添加し、有機相を分離し、慣用の加工処理作業にかけ
る。C 62 N 172.1 I、Δn=+0.18
1、Δε=2.18。 式
【0107】
【化75】 の以下の化合物が同様に得られた。
【0108】
【化76】
【0109】
【化77】
【0110】
【化78】
【0111】
【表1】
【0112】
【表2】
【0113】
【表3】
【0114】
【表4】
【0115】
【表5】
【0116】
【表6】
【0117】
【表7】
【0118】
【表8】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02F 1/13 9315−2K (72)発明者 マティアス ブレーマー ドイツ連邦共和国 64295 ダルムシュタ ット シェプ−アレー 51 (72)発明者 ベルンハルト リーガー ドイツ連邦共和国 64839 ミュンスター ハウプトシュトラーセ 31 アー (72)発明者 ミヒァエル ユンゲ ドイツ連邦共和国 64319 プフンクシュ タット ダルムシュテッター シュトラー セ 16 (72)発明者 樽見 和明 ドイツ連邦共和国 64342 ゼーハイム フリーダーヴェーク 29

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式Iのモノフッ素化したベンゼン誘導
    体。 【化1】 [式中 【化2】 および 【化3】 はそれぞれ、互いに独立に 【化4】 であり、R1 は置換されてないかまたはCNまたはCF
    3 で一置換されているかまたはハロゲンで少なくとも一
    置換されている炭素原子1ないし12個を有するアルキ
    ルまたはアルケニルであり、これらの基の中の1個以上
    のCH2 基がそれぞれの場合にたがいに独立して−O
    −、−S−、 【化5】 −CO−、−CO−O−、−O−CO−または−O−C
    O−O−により、O原子がたがいに直接結合しないよう
    に置換されていても良く、R2 は1−5個の炭素原子を
    有するアルコキシであって、(a) m=2、n=0, 【化6】 であり、L1 =Fであるか、あるいは(b) R1 =ア
    ルケニルである場合には、または1−5個の炭素原子を
    有するアルキルであり、L1-4 の内の1基がフッ素であ
    りかつ他の基L1 、L2 、L3 またはL4 が水素であ
    り、mおよびnがそれぞれ独立であって、0、1または
    2であって、ただしm+n≧1である]
  2. 【請求項2】 式I1の化合物。 【化7】 [式中R2 、L1 およびL2 は請求項1の定義の通りで
    あり、R3 は水素あるいは1ないし5個の炭素原子を有
    するアルキル基である]
  3. 【請求項3】 式I3の化合物。 【化8】 [式中R3 は水素あるいは1ないし5個の炭素原子を有
    するアルキル基である]
  4. 【請求項4】 式I9の化合物。 【化9】 [式中L1 およびL2 は請求項1の定義の通であり、R
    3 およびR4 はそれぞれ、互いに独立に水素あるいは1
    ないし5個の炭素原子を有するアルキル基である]
  5. 【請求項5】 式I4の化合物。 【化10】 [式中R2 、L1 およびL2 は請求項1の定義の通りで
    あり、R3 は水素あるいは1ないし5個の炭素原子を有
    するアルキル基である]
  6. 【請求項6】 式I10の化合物。 【化11】 [式中R1 は請求項1の定義の通りである]
  7. 【請求項7】 式I11の化合物。 【化12】 [式中R1 は請求項1の定義の通りである]
  8. 【請求項8】 式I12の化合物。 【化13】 [式中R1 は請求項1の定義の通りである]
  9. 【請求項9】 式I13の化合物。 【化14】 [式中R1 は請求項1の定義の通りである]
  10. 【請求項10】 式I14の化合物。 【化15】 [式中R1 は請求項1の定義の通りである]
  11. 【請求項11】 m+n=2であることを特徴とする式
    Iの化合物。
  12. 【請求項12】 式Iの化合物を成分として含有する液
    晶性媒体。
  13. 【請求項13】 液晶性媒体が少なくとも式Iの化合物
    1種を含有することを特徴とする少なくとも2種の液晶
    性の成分を有する液晶性媒体。
  14. 【請求項14】 液晶性ディスプレイ素子が請求項13
    による液晶性媒体を含有することを特徴とする液晶性デ
    ィスプレイ素子。
  15. 【請求項15】 電気光学ディスプレイ素子が請求項1
    3による誘電体として液晶性媒体を含有していることを
    特徴とする電気光学ディスプレイ素子。
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