JP2011051932A - ビシクロヘキサン構造を有するアルコールおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
核磁気共鳴装置:日本電子EX-270(内部標準物質:テトラメチルシラン(TMS))
赤外分光光度計:ThermoFischer Nicolet-6700
ガスクロマトグラフ質量分析装置:Agilent Technologies 5975C VL MSD /6850 GC
4−ヒドロキシメチルビシクロヘキサンの合成
5000mlオートクレーブ内に、溶媒として2−プロパノール(IPA、和光純薬、特級)910g、三菱ガス化学製ビフェニルアルデヒド364g(2.0mol)および5%Ru/Al2O3(N.E.CHEMCAT製)7.3gを投入後、水素で10MPaに加圧し、150℃で8h攪拌した。冷却後、窒素雰囲気下で触媒を濾過した。ロータリーエバポレーターで溶媒除去後、減圧蒸留を行い、目的化合物である4−ヒドロキシメチルビシクロヘキサンを得た(収率80%、純度99%)。
以上、GC−MS,IR,NMRの結果より生成物は目的とする式(2)の4−ヒドロキシメチルビシクロヘキサンであると同定された。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58167535A (ja) * | 1982-03-26 | 1983-10-03 | Chisso Corp | トランス,トランス−4−アルキル−4′−アルキルオキシメチルビシクロヘキサン類 |
JPH0753432A (ja) * | 1993-08-03 | 1995-02-28 | Merck Patent Gmbh | ベンゼン誘導体および液晶性媒体 |
JP2000103752A (ja) * | 1998-09-30 | 2000-04-11 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | シクロヘキサン誘導体の製造方法 |
CN101407482A (zh) * | 2008-03-27 | 2009-04-15 | 河北迈尔斯通电子材料有限公司 | 一种用于合成丁烯类液晶的中间体及其合成方法 |
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2009
- 2009-09-02 JP JP2009202200A patent/JP2011051932A/ja active Pending
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