JPWO2013125356A1 - テトラフルオロプロペニルを有する液晶性化合物、液晶組成物、および液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物、この組成物を用いた液晶表示素子を提供する。式（１）で表される化合物である。例えば、Ｒ1は、炭素数１〜１０のアルキルであり；環Ａ1、環Ａ2、環Ａ3、環Ａ4、および環Ｂ1は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、およびＺ4は単結合であり；ｌ、ｍ、ｎ、およびｏは独立して、０または１であり、ｌ、ｍ、ｎ、およびｏの和が１以上である。

Description

本発明は、液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、テトラフルオロプロペニルを有する液晶性化合物、この化合物を含有し、ネマチック相を有する組成物、およびこの組成物を用いた液晶表示素子に関する。

液晶表示素子は、パソコン、テレビなどのディスプレイに広く利用されている。この素子は、液晶性化合物の光学的異方性、誘電率異方性などを利用したものである。液晶表示素子の動作モードとしては、ＰＣ（phase change）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super twisted nematic）モード、ＢＴＮ（bistable twisted nematic）モード、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）モード、ＯＣＢ（opticallycompensated bend）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＶＡ（vertical alignment）モード、ＰＳＡ（polymer sustained alignment）などのモードが知られている。

このような液晶表示素子では、適切な物性を有する液晶組成物が使われている。液晶表示素子の特性をさらに向上させるには、この組成物に含まれる液晶性化合物が、下記の（１）〜（８）で示す物性を有するのが好ましい。
（１）熱、光などに対する高い安定性、
（２）高い透明点、
（３）液晶相の低い下限温度、
（４）小さな粘度（η）、
（５）適切な光学的異方性（Δｎ）、
（６）大きな誘電率異方性（Δε）、
（７）適切な弾性定数（Ｋ）、
（８）他の液晶性化合物との優れた相溶性。

液晶性化合物の物性が素子の特性に及ぼす効果は、次のとおりである。

（１）のように、熱、光などに対する高い安定性を有する化合物は、素子の電圧保持率を大きくする。これによって、素子の寿命が長くなる。（２）のように、高い透明点を有する化合物は、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（３）のように、ネマチック相、スメクチック相などのような液晶相の低い下限温度、特にネマチック相の低い下限温度を有する化合物も、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（４）のように、粘度の小さな化合物は、素子の応答時間を短くする。

（５）のように、適切な光学的異方性を有する化合物は、素子のコントラストを向上させる。素子の設計に応じて、大きな光学的異方性または小さな光学的異方性、すなわち適切な光学的異方性を有する化合物が必要である。素子のセルギャップを小さくすることにより応答時間を短くする場合には、大きな光学的異方性を有する化合物が適している。（６）のように大きな誘電率異方性を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。これによって、素子の消費電力が小さくなる。

（７）に関しては、大きな弾性定数を有する化合物は、素子の応答時間を短くする。小さな弾性定数を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。したがって、向上させたい特性に応じて適切な弾性定数が必要になる。（８）のように他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する化合物は、異なった物性を有する液晶性化合物と混合して組成物の物性を調節することが容易となる。

これまでに、大きな誘電率異方性を有する液晶性化合物が種々合成された。特許文献１、および非特許文献１にはトリフルオロプロペニルを有する化合物（Ｓ−１）が記載されている。しかし、この化合物は誘電率異方性が充分に大きくないので、この化合物を含有する液晶組成物は、市販の素子が必要とするしきい値電圧を満たすことができないようである。

特許文献２には、ペンタフルオロプロペニルを有する化合物（Ｓ−２）が示されている。しかし、この化合物も誘電率異方性が充分に大きくない。

さらに、特許文献３にもペンタフルオロプロペニルやジフルオロエチレンオキシを有する化合物（Ｓ−３）および（Ｓ−４）が開示されている。しかし、この化合物も誘電率異方性が充分に大きくない上に、（１）の熱、光などに対する高い安定性が不十分であった。

このような状況から、上記の特性（１）〜（８）に関して優れた性質を有する化合物の開発が望まれている。

欧州特許出願公開第４８０２１７号明細書 特開２００５−２９８４６６号公報 特開平８−４０９５２号公報

Journal of Fluorine Chemistry. 2006, 127, 610

本発明の第一の目的は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物である。この目的は、特に大きな誘電率異方性を有する化合物である。

第二の目的は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する液晶組成物である。この目的は、これらの特性にバランスよく優れた液晶組成物である。

第三の目的は、この組成物を含有し、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する液晶表示素子である。

本発明は、式（１）で表される化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を用いた液晶表示素子に関する。

式（１）において、
Ｒ¹は、炭素数１〜１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ₂）₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、および環Ｂ¹は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
ｌ、ｍ、ｎ、およびｏは独立して、０または１であり、ｌ、ｍ、ｎおよびｏの和が１以上である。

本発明の液晶性化合物は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する。この化合物は、特に大きな誘電率異方性を有する。

本発明の液晶組成物は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する。この組成物は、これらの特性にバランスよく優れている。

本発明の液晶表示素子は、この組成物を含有し、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する。

この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は、液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。透明点は、液晶性化合物における液晶相−等方相の転移温度である。液晶相の下限温度は、液晶性化合物における固体−液晶相（スメクチック相、ネマチック相など）の転移温度である。ネマチック相の上限温度は、液晶組成物におけるネマチック相−等方相の転移温度であり、上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を下限温度と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と略すことがある。この略記は式（２）などで表される化合物にも適用することがある。式（１）から式（１４）において、六角形で囲んだＡ¹、Ｂ¹、Ｃ¹などの記号はそれぞれ環Ａ¹、環Ｂ¹、環Ｃ¹などに対応する。百分率で表した化合物の量は、組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。複数のＲ¹が、異なる式に使用されている。これらの化合物において、任意の２つのＲ¹が表わす２つの基は、同一であってもよいし、異なってもよい。このルールは、環Ａ¹、Ｚ¹などの記号にも適用される。

「少なくとも１つの“Ａ”は、“Ｂ”で置き換えられてもよい」の表現は、“Ａ”が１つのとき、“Ａ”の位置は任意であり、“Ａ”の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく選択できることを意味する。「少なくとも１つのＡが、Ｂ、ＣまたはＤで置き換えられてもよい」という表現は、任意のＡがＢで置き換えられる場合、任意のＡがＣで置き換えられる場合、および任意のＡがＤで置き換えられる場合、さらに複数のＡがＢ、Ｃ、Ｄの少なくとも２つで置き換えられる場合を含むことを意味する。例えば、少なくとも１つの−ＣＨ₂−が−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよいアルキルには、
アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルケニルオキシアルキルが含まれる。なお、連続する２つの−ＣＨ₂−が−Ｏ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−のようになることは好ましくない。アルキルなどにおいて、メチル部分（−ＣＨ₂−Ｈ）の−ＣＨ₂−が−Ｏ−で置き換えられて−Ｏ−Ｈになることも好ましくない。

本発明は、下記の内容を包含する。

［１］ 式（１）で表される化合物。

式（１）において、
Ｒ¹は、炭素数１〜１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ₂）₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、および環Ｂ¹は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
ｌ、ｍ、ｎ、およびｏは独立して、０または１であり、ｌ、ｍ、ｎおよびｏの和が１以上である。

［２］ 項［１］に記載の式（１）において、環Ｂ¹が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンである、項［１］に記載の化合物。

［３］ 項［１］に記載の式（１）において、Ｒ¹が、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数２〜１５のアルケニル、炭素数１〜１４のアルコキシ、または炭素数２〜１４のアルケニルオキシであり；Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴が独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である、項［１］に記載の化合物。

［４］ 項［１］に記載の式（１）において、Ｒ¹が、炭素数１〜１５のアルキルまたは炭素数２〜１５のアルケニルであり；Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴が独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、または−ＣＦ₂Ｏ−である、項［１］に記載の化合物。

［５］ 項［１］に記載の式（１）において、Ｒ¹が、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、環Ｂ¹が１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであり、；Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴が独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、または−ＣＨ＝ＣＨ−である、項［１］に記載の化合物。

［６］ 式（１−１）〜（１−３）のいずれか１つで表される、項［１］に記載の化合物。

式（１−１）〜（１−３）において、
Ｒ¹は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；
環Ａ¹、環Ａ²、および環Ａ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
環Ｂ¹は１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであり；
Ｚ¹、Ｚ²、およびＺ³は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、または−ＣＨ＝ＣＨ−である。

［７］ 式（１−４）〜（１−１９）のいずれか１つで表される、項［１］に記載の化合物。

式（１−４）〜（１−１９）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、およびＬ⁴は水素またはフッ素である。

［８］ 式（１−２０）〜（１−３１）のいずれか１つで表される、項［１］に記載の化合物。

式（１−２０）〜（１−３１）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹は水素またはフッ素である。

［９］ 式（１−３２）〜（１−３９）のいずれか１つで表される、項［１］に記載の化合物。

式（１−３２）〜（１−３９）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ⁴、Ｌ⁵、Ｌ⁶、およびＬ⁷は独立して、
水素またはフッ素である。

［１０］ 式（１−４０）〜（１−４７）のいずれか１つで表される、項［１］に記載の化合物。

式（１−４０）〜（１−４７）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルであり；Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³は独立して、水素またはフッ素である。

［１１］ 項［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１つ含有する液晶組成物。

［１２］ 式（２）〜（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１１］に記載の液晶組成物。

式（２）〜（４）において、
Ｒ²は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ¹は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＣＦ＝Ｆ₂、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、または−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃であり；
環Ｃ¹、環Ｃ²、および環Ｃ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ⁵およびＺ⁶は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、または−（ＣＨ₂）₄−であり；
Ｌ⁸およびＬ⁹は独立して、水素またはフッ素である。

［１３］ 式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１１］に記載の液晶組成物。

式（５）において、
Ｒ³は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ²は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｄ¹、環Ｄ²、および環Ｄ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ⁷は、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＣＨ₂Ｏ−であり；
Ｌ¹⁰およびＬ¹¹は独立して、水素またはフッ素であり；
ｒは、０、１または２であり、ｓは０または１であり、ｒとｓの和は、０、１、２または３である。

［１４］ 式（６）〜（１１）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１１］に記載の液晶組成物。

式（６）〜（１１）において、
Ｒ⁴およびＲ⁵は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｅ¹、環Ｅ²、環Ｅ³、および環Ｅ⁴は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ⁸、Ｚ⁹、Ｚ¹⁰、およびＺ¹¹は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−であり；
Ｌ¹²およびＬ¹³は独立して、フッ素または塩素であり；
ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、およびｙは独立して０または１であり、ｕ、ｖ、ｗ、およびｘの和は、１または２である。

［１５］ 式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１１］に記載の液晶組成物。

式（１２）〜（１４）において、
Ｒ⁶およびＲ⁷は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｆ¹、環Ｆ²、および環Ｆ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイル、であり；
Ｚ¹²およびＺ¹³は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。

［１６］ 項［１３］に記載の式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１２］に記載の液晶組成物。

［１７］ 項［１５］に記載の式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１２］に記載の液晶組成物。

［１８］ 項［１５］に記載の式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１３］に記載の液晶組成物。

［１９］ 項［１５］に記載の式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項［１４］に記載の液晶組成物。

［２０］ 少なくとも１つの光学活性化合物および／または重合可能な化合物をさらに含有する、項［１１］〜［１９］のいずれか１項に記載の液晶組成物。

［２１］ 少なくとも１つの酸化防止剤および／または紫外線吸収剤をさらに含有する、項［１１］〜［２０］のいずれか１項に記載の液晶組成物。
［２２］ 項［１１］〜［２１］のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。

本発明の化合物、液晶組成物、液晶表示素子について、順に説明する。
１−１．本発明の化合物
本発明の化合物（１）、化合物（１）の好ましい例について説明をする。化合物（１）における末端基、環構造、結合基、および置換基の好ましい例は、化合物（１）の下位式にも適用される。

式（１）において、Ｒ¹は、炭素数１〜１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ₂）₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。

このようなＲ¹の例は、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、アルキルチオアルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルオキシアルキル、アルコキシアルケニル、およびアルケニルチオである。これらの基において分岐よりも直鎖の方が好ましい。Ｒ¹が分岐の基であっても光学活性であるときは好ましい。

アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−ＣＨ＝ＣＨＣ₃Ｈ₇、−ＣＨ＝ＣＨＣ₄Ｈ₉、−Ｃ₂Ｈ₄ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、および−Ｃ₂Ｈ₄ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅のような奇数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、および−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₃Ｈ₇のような偶数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い透明点または液晶相の広い温度範囲を有する。Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 327に詳細な説明がある。

アルキルの例は、−ＣＨ₃、−Ｃ₂Ｈ₅、−Ｃ₃Ｈ₇、−Ｃ₄Ｈ₉、−Ｃ₅Ｈ₁₁、−Ｃ₆Ｈ₁₃、−Ｃ₇Ｈ₁₅、−Ｃ₈Ｈ₁₇、−Ｃ₉Ｈ₁₉、−Ｃ₁₀Ｈ₂₁、−Ｃ₁₁Ｈ₂₃、−Ｃ₁₂Ｈ₂₅、−Ｃ₁₃Ｈ₂₇、−Ｃ₁₄Ｈ₂₉、および−Ｃ₁₅Ｈ₃₁である。

アルコキシの例は、−ＯＣＨ₃、−ＯＣ₂Ｈ₅、−ＯＣ₃Ｈ₇、−ＯＣ₄Ｈ₉、−ＯＣ₅Ｈ₁₁、−ＯＣ₆Ｈ₁₃および−ＯＣ₇Ｈ₁₅、−ＯＣ₈Ｈ₁₇、−ＯＣ₉Ｈ₁₉、−ＯＣ₁₀Ｈ₂₁、−ＯＣ₁₁Ｈ₂₃、−ＯＣ₁₂Ｈ₂₅、−ＯＣ₁₃Ｈ₂₇、および−ＯＣ₁₄Ｈ₂₉である。

アルコキシアルキルの例は、−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣ₂Ｈ₅、−ＣＨ₂ＯＣ₃Ｈ₇、−（ＣＨ₂）₂−ＯＣＨ₃、−（ＣＨ₂）₂−ＯＣ₂Ｈ₅、−（ＣＨ₂）₂−ＯＣ₃Ｈ₇、−（ＣＨ₂）₃−ＯＣＨ₃、−（ＣＨ₂）₄−ＯＣＨ₃、および−（ＣＨ₂）₅−ＯＣＨ₃である。

アルケニルの例は、−ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣ₃Ｈ₇、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、および−（ＣＨ₂）₃−ＣＨ＝ＣＨ₂である。

アルケニルオキシの例は、−ＯＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＯＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、および−ＯＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅である。

少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたアルキルの例は、−ＣＨ₂Ｆ、−ＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₂−Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨ₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₃−Ｆ、−（ＣＦ₂）₃−Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、−ＣＨＦＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₄−Ｆ、−（ＣＦ₂）₄−Ｆ、−（ＣＨ₂）₅−Ｆ、−（ＣＦ₂）₅−Ｆ、−ＣＨ₂Ｃｌ、−ＣＨＣｌ₂、−ＣＣｌ₃、−（ＣＨ₂）₂−Ｃｌ、−ＣＣｌ₂ＣＨ₂Ｃｌ、−ＣＣｌ₂ＣＨＣｌ₂、−ＣＨ₂ＣＣｌ₃、−ＣＣｌ₂ＣＣｌ₃、−（ＣＨ₂）₃−Ｃｌ、−（ＣＣｌ₂）₃−Ｃｌ、−ＣＣｌ₂ＣＨＣｌＣＣｌ₃、−ＣＨＣｌＣＣｌ₂ＣＣｌ₃、−（ＣＨ₂）₄−Ｃｌ、−（ＣＣｌ₂）₄−Ｃｌ、−（ＣＨ₂）₅−Ｃｌ、および−（ＣＣｌ₂）₅−Ｃｌである。

少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたアルコキシの例は、−ＯＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＨＦ₂、−ＯＣＦ₃、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、−ＯＣＨ₂ＣＦ₃、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−Ｆ、−Ｏ−（ＣＦ₂）₃−Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、−ＯＣＨＦＣＦ₂ＣＦ₃、−Ｏ（ＣＨ₂）₄−Ｆ、−Ｏ−（ＣＦ₂）₄−Ｆ、−Ｏ−（ＣＨ₂）₅−Ｆ、−Ｏ−（ＣＦ₂）₅−Ｆ、−ＯＣＨ₂Ｃｌ、−ＯＣＨＣｌ₂、−ＯＣＣｌ₃、−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｃｌ、−ＯＣＣｌ₂ＣＨ₂Ｃｌ、−ＯＣＣｌ₂ＣＨＣｌ₂、−ＯＣＨ₂ＣＣｌ₃、−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−Ｃｌ、−Ｏ−（ＣＣｌ₂）₃−Ｃｌ、−ＯＣＣｌ₂ＣＨＣｌＣＣｌ₃、−ＯＣＨＣｌＣＣｌ₂ＣＣｌ₃、−Ｏ（ＣＨ₂）₄−Ｃｌ、−Ｏ−（ＣＣｌ₂）₄−Ｃｌ、−Ｏ−（ＣＨ₂）₅−Ｃｌ、および−Ｏ−（ＣＣｌ₂）₅−Ｃｌである。

少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたアルケニルの例は、−ＣＨ＝ＣＨＦ、−ＣＨ＝ＣＦ₂、−ＣＦ＝ＣＨＦ、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂Ｆ、−ＣＨ＝ＣＨＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ＝ＣＦ₂、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＦ₃、−ＣＨ＝ＣＨＣＦ₂ＣＦ₃、−ＣＨ＝ＣＨＣｌ、−ＣＨ＝ＣＣｌ₂、−ＣＣｌ＝ＣＨＣｌ、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂Ｃｌ、−ＣＨ＝ＣＨＣＣｌ₃、−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ＝ＣＣｌ₂、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＣｌ₃、および−ＣＨ＝ＣＨＣＣｌ₂ＣＣｌ₃である。

Ｒ¹は、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数２〜１５のアルケニル、炭素数１〜１４のアルコキシ、炭素数２〜１４のアルケニルオキシが好ましく、さらには、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数２〜１５のアルケニルがより好ましく、特に炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニルが好ましい。

Ｒ¹のより好ましい例は、−ＣＨ₃、−Ｃ₂Ｈ₅、−Ｃ₃Ｈ₇、−Ｃ₄Ｈ₉、−Ｃ₅Ｈ₁₁、−Ｃ₆Ｈ₁₃、−Ｃ₇Ｈ₁₅、−Ｃ₈Ｈ₁₇、−Ｃ₉Ｈ₁₉、−Ｃ₁₀Ｈ₂₁、−ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣ₃Ｈ₇、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、および−（ＣＨ₂）₃−ＣＨ＝ＣＨ₂である。

式（１）において、環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、および環Ｂ¹は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルである。

環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、およびテトラヒドロピラン−２，５−ジイルである。少なくとも１つの水素がハロゲンに置き換えられた１，４−フェニレンの好ましい例は、基（１５−１）〜（１５−１８）である。

２−フルオロ−１，４−フェニレンは、左右対称ではない。ラテラル位のフッ素が左末端基の側に位置する場合（左向き；１５−１）と、右末端基の側に位置する場合（右向き；１５-２）とがある。好ましい２−フルオロ−１，４−フェニレンは、右向き（１５−２）である。２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン（１５−４および１５−６）も左右対称ではない。好ましい２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンは、右向き（１５−４）である。その他の基においても、左右対称ではない場合は、右向きが好ましい。

少なくとも１つの水素がハロゲンに置き換えられた１，４−フェニレンのさらに好ましい例は、２−フルオロ−１，４−フェニレンおよび２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。

１，３−ジオキサン−２，５−ジイルは、左右対称ではない。−Ｏ−が左末端基の側に位置する場合（左向き；１５−１９）と、右末端基の側に位置する場合（右向き；１５-２０）とがある。好ましい１，３−ジオキサン−２，５−ジイルは、右向き（１５−２０）である。テトラヒドロピラン−２，５−ジイル（１５−２１および１５−２２）も左右対称ではない。好ましいテトラヒドロピラン−２，５−ジイルは、右向き（１５−２２）である。ピリミジン−２，５−ジイルおよびピリジン−２，５−ジイルにおいても、右向き（１５−２４および１５−２６）が好ましい。すなわち、右向きとは、OやNがテトラフルオロプロペニルの方にあることである。

環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴のより好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、およびテトラヒドロピラン−２，５−ジイルである。

環Ｂ¹の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンである。ハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンとしては、前記環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴と同様である。

式（１）において、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である。

Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴の好ましい例は、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、および−ＣＦ₂Ｏ−である。Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴のより好ましい例は、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、および−ＣＨ＝ＣＨ−である。Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴の全てが単結合である場合、あるいは単結合と１つの−（ＣＨ₂）₂−、または１つの−ＣＨ＝ＣＨ−との組み合わせが特に好ましい。

式（１）において、ｌ、ｍ、ｎ、およびｏは独立して、０または１であり、その和は１以上である。ｌ、ｍ、ｎ、およびｏの和の好ましい例は、１、２、および３である。ｌ、ｍ、ｎ、およびｏの和のより好ましい例は、１および２である。
１−２．化合物（１）の物性とその調整
化合物（１）において、Ｒ¹、環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、環Ｂ¹、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴の種類とｌ、ｍ、ｎ、およびｏの和を適切に組み合わせることによって、透明点、光学的異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。化合物の物性に大きな差異がないので、化合物（１）は、²Ｈ（重水素）、¹³Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。Ｒ¹などの種類が化合物（１）の物性に及ぼす主要な効果を以下に説明する。

左末端基Ｒ¹が直鎖であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして粘度が小さい。Ｒ¹が分岐鎖であるときは、他の液晶性化合物との相溶性がよい。Ｒ¹が光学活性である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、液晶表示素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（reverse twisted domain）を防止することができる。Ｒ¹が光学活性でない化合物は、組成物の成分として有用である。Ｒ¹がアルケニルであるとき、好ましい立体配置は、前記したように二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い上限温度または液晶相の広い温度範囲を有する。

環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴の総てが１，４−シクロヘキシレンであるときは、透明点が高く、粘度が小さい。環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴の少なくとも１つが１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるときは、光学的異方性が比較的大きく、そして配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が比較的大きい。環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³および環Ａ⁴の総てが、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、またはこれらの組み合わせであるときは、光学的異方性が特に大きい。環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴の少なくとも１つが１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであるときは、誘電率異方性が大きい。環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴の少なくとも１つがテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであるときは、他の液晶性化合物との相溶性が良好である。

環Ｂ¹が１，４−シクロヘキシレンであるときは、熱、光などに対する安定性が高く、粘度が小さい。環Ｂ¹が１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるときは、透明点が高く、光学的異方性が大きく、誘電率異方性が大きい。

結合基Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴が、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であるときは、粘度が小さい。結合基が、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは、粘度がより小さい。結合基が−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして弾性定数（Ｋ）が大きい。結合基が−Ｃ≡Ｃ−であるときは、光学的異方性が大きい。特に、結合基が−ＣＦ₂Ｏ−または−ＣＯＯ−であるときは、誘電率異方性が大きい。

ｌ、ｍ、ｎ、およびｏの和が１であるときは、粘度が小さく、他の液晶性化合物との相溶性が良好である。ｌ、ｍ、ｎ、およびｏの和が２であるときは、粘度が小さく、透明点が高い。ｌ、ｍ、ｎ、およびｏの和が３または４であるときは、粘度が小さく、透明点が特に高い。

以上のように、環構造、末端基、結合基などの種類と環構造の数を適切に選択することによって目的の物性を有する化合物を得ることができる。したがって、化合物（１）は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡのようなモードの液晶表示素子に用いられる液晶組成物の成分として有用である。
１−３．化合物（１）の例
化合物（１）の好ましい例は、化合物（１−１）〜（１−３）である。より好ましい例は、化合物（１−４）〜（１−１９）、化合物（１−２０）〜（１−３１）、および化合物（１−３２）〜（１−３９）である。最も好ましい例は、化合物（１−４０）〜（１−４７）である。

式（１−１）〜（１−３）において、Ｒ¹は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；環Ａ¹、環Ａ²、および環Ａ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；環Ｂ¹は１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであり；Ｚ¹、Ｚ²、およびＺ³は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、または−ＣＨ＝ＣＨ−である。

式（１−４）〜（１−１９）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、およびＬ⁴は水素またはフッ素である。

式（１−２０）〜（１−３１）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹は水素またはフッ素である。

式（１−３２）〜（１−３９）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ⁴、Ｌ⁵、Ｌ⁶、およびＬ⁷は水素またはフッ素である。

本発明の液晶性化合物は、前記Ｒ¹、環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、および環Ｂ¹、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴とともに、テトラフルオロプロペニルを有しているので熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性などにバランスよく優れ、しかも特に大きな誘電率異方性を有する。

化合物（１−４）〜（１−１９）は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、および小さな粘度という観点から好ましい。化合物（１−２０）〜（１−３１）は、高い透明点および優れた相溶性という観点から好ましい。化合物（１−３２）〜（１−３９）は、高い透明点、大きな光学的異方性、および大きな誘電率異方性という観点から好ましい。

これらの式において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルであり；Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³は独立して、水素またはフッ素である。
１−４．化合物（１）の合成
化合物（１）の合成法について説明する。化合物（１）は有機合成化学の方法を適切に組み合わせることにより合成できる。出発物に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、「オーガニックシンセシス」（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc）、「オーガニック・リアクションズ」（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc）、「コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス」（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、「新実験化学講座」（丸善）などの成書に記載されている。
１−４−１．結合基の生成
化合物（１）における結合基を生成する方法の例は、下記のスキームのとおりである。このスキームにおいて、ＭＳＧ¹（またはＭＳＧ²）は、少なくとも１つの環を有する一価の有機基である。複数のＭＳＧ¹（またはＭＳＧ²）が表わす一価の有機基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。

（Ｉ）単結合の生成
所定の環を有するホウ酸（１６）と公知の方法で合成されるハロゲン化合物（１７）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で反応させて化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（１８）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で化合物（１７）を反応させることによっても合成される。
（ＩＩ）−ＣＯＯ−と−ＯＣＯ−の生成
化合物（１８）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させてカルボン酸（１９）を得る。化合物（１９）と、公知の方法で合成されるフェノール（２０）とをＤＣＣ（Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させて−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｂ）を合成する。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成する。
（ＩＩＩ）−ＣＦ₂Ｏ−と−ＯＣＦ₂−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬のような硫黄化剤で処理して化合物（２１）を得る。化合物（２１）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ₂Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する。M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照。化合物（１Ｃ）は化合物（２１）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化しても合成される。W. H. Bunnelle et al.,J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照。この方法によって−ＯＣＦ₂−を有する化合物も合成する。Peer. Kirsch et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によってこれらの結合基を生成させることも可能である。
（ＩＶ）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（１８）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのホルムアミドと反応させてアルデヒド（２３）を得る。公知の方法で合成されるホスホニウム塩（２２）をカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（２３）に反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
（Ｖ）−（ＣＨ₂）₂−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｅ）を合成する。
（ＶＩ）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下で、化合物（１８）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（２４）を得る。ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（２４）を化合物（１７）と反応させて、化合物（１Ｆ）を合成する。
（ＶＩＩ）−ＣＨ₂Ｏ−と−ＯＣＨ₂−の生成
化合物（２３）を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物（２５）を得る。これを臭化水素酸などでハロゲン化して化合物（２６）を得る。炭酸カリウムなどの存在下で、化合物（２６）を化合物（２０）と反応させて化合物（１Ｇ）を合成する。
（ＶＩＩＩ）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（１８）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（２７）を得る。化合物（１７）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと化合物（２７）と反応させて化合物（１Ｈ）を合成する。

以上を組み合わせて臭化物（２８）を合成する。
１−４−２．環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、および環Ｂ¹の生成
１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，３，５，６−テトラフルオロ−１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイルなどの環に関しては出発物が市販されているか、または合成法がよく知られている。このような環に相当する、ＭＳＧ化合物（１６）〜（１８）を使用する。
１−４−３．化合物（１）を合成する方法
化合物（１）を合成する方法の例は、次のとおりである。公知の方法により合成される臭化物（２８）とメルカプトフェニルテトラゾール（２９）をＫＯＨなどの塩基の存在下で反応させてスルフィド（３０）を得る。このスルフィド（３０）をＭＣＰＢＡ（メタクロロ過安息香酸）などの酸化剤で酸化してスルホン（３１）を得る。スルホン（３１）にＬＤＡ（リチウムジイソプロピルアミド）、ついでＮＦＳＩ（Ｎ−フルオロベンゼンスルホンイミド）を反応させてフッ素化スルホン（３２）を得る。このフッ素化スルホン（３２）を、ＫＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザンカリウム）の存在下、トリフルオロアセトアルデヒド（３３）と反応させて化合物（１）を合成する。なお、この反応に用いるトリフルオロアセトアルデヒド（３３）は、エチルヘミアセタール（３４）を濃硫酸中で加熱することにより得られる。

これらの化合物において、Ｒ¹、環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、環Ｂ¹、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、Ｚ⁴、ｌ、ｍ、ｎ、およびｏの定義は、前記と同じである。
２．組成物（１）
本発明の液晶組成物（１）について説明をする。この組成物（１）は、少なくとも１つの化合物（１）を成分として含む。組成物（１）は、２つ以上の化合物（１）を含んでいてもよい。液晶性化合物の成分が化合物（１）のみであってもよい。組成物（１）は、化合物（１）の少なくとも１つを１〜９９重量％の範囲で含有することが、優良な特性を発現させるために好ましい。より好ましい割合は、５〜６０重量％の範囲である。組成物（１）は、化合物（１）と、化合物（１）以外の種々の液晶性化合物とを含んでもよい。

好ましい組成物は、以下に示す成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥから選択された化合物を含む。組成物（１）を調製するときには、例えば、化合物（１）の誘電率異方性を考慮して成分を選択することもできる。成分を適切に選択した組成物は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する。

成分Ｂは、化合物（２）、（３）および（４）である。成分Ｃは化合物（５）である。成分Ｄは、化合物（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、および（１１）である。

成分Ｅは、化合物（１２）、（１３）および（１４）である。これらの成分について、順に説明する。

成分Ｂは、式（２）〜（４）の右末端にハロゲンまたはフッ素含有基を有する化合物である。（末端の一方が、ベンゼン環に結合したフッ素含有基である）
成分Ｂの好ましい例として、化合物（２−１）〜（２−１６）、化合物（３−１）〜（３−１１２）、化合物（４−１）〜（４−５４）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｂ）において、Ｒ²およびＸ¹の定義は、前記と同じである。

成分Ｂは、誘電率異方性が正であり、熱、光などに対する安定性が非常に優れているので、ＴＦＴモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｂの含有量は、組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適するが、好ましくは１０〜９７重量％の範囲、より好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。この組成物は、化合物（１２）、（１３）、および（１４）（成分Ｅ）をさらに添加することにより粘度を調整することができる。

成分Ｃは、式（５）の右末端基が−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである化合物（５）である。
（末端の一方が、ベンゼン環に結合したシアノ含有基である）
成分Ｃの好ましい例として、化合物（５−１）〜（５−６４）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｃ）において、Ｒ³およびＸ²の定義は、前記と同じである。

成分Ｃは、誘電率異方性が正であり、その値が大きいのでＳＴＮモード用、ＴＮモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に主として用いられる。この成分Ｃを添加することにより、組成物の誘電率異方性を大きくすることができる。成分Ｃは、液晶相の温度範囲を広げる、粘度を調整する、または光学的異方性を調整する、という効果がある。成分Ｃは、素子の電圧−透過率曲線の調整にも有用である。

ＳＴＮモード用またはＴＮモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｃの含有量は、組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適しているが、好ましくは１０〜９７重量％の範囲、より好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。この組成物は、成分Ｅを添加することにより液晶相の温度範囲、粘度、光学的異方性、誘電率異方性などを調整できる
成分Ｄは、化合物（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、および（１１）である。これらの化合物は、２、３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのように、ラテラル位が２つのハロゲンで置換されたベンゼン環を有する。

成分Ｄの好ましい例として、化合物（６−１）〜（６−６）、化合物（７−１）〜（７−１５）、化合物（８−１）、化合物（９−１）〜（９−３）、化合物（１０−１）〜（１０−１１）、および化合物（１１−１）〜（１１−１０）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｄ）において、Ｒ⁴およびＲ⁵の定義は、前記と同じである。

成分Ｄは、誘電率異方性が負の化合物である。成分Ｄは、主としてＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｄの含有量を増加させると組成物の誘電率異方性が大きくなるが、粘度が大きくなる。そこで、誘電率異方性の要求値を満たす限り、含有量は少ないほうが好ましい。したがって、誘電率異方性の絶対値が５程度であることを考慮すると、充分な電圧駆動をさせるには、含有量が４０重量％以上であることが好ましい。

成分Ｄのうち、化合物（６）は２環化合物であるので、主として、粘度の調整、光学的異方性の調整、または誘電率異方性の調整の効果がある。化合物（７）および（８）は３環化合物であるので、上限温度を高くする、光学的異方性を大きくする、または誘電率異方性を大きくするという効果がある。化合物（９）、（１０）および（１１）は、誘電率異方性を大きくするという効果がある。

ＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｄの含有量は、組成物の全重量に対して、好ましくは４０重量％以上であり、より好ましくは５０〜９５重量％の範囲である。成分Ｄを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。成分Ｄを誘電率異方性が正である組成物に添加する場合は、成分Ｄの含有量が組成物の全重量に対して３０重量％以下が好ましい。

成分Ｅは、２つの末端基がアルキルなどである化合物である。成分Ｅの好ましい例として、化合物（１２−１）〜（１２−１１）、化合物（１３−１）〜（１３−１９）、および化合物（１４−１）〜（１４−６）を挙げることができる。

これらの化合物（成分Ｅ）において、Ｒ⁶およびＲ⁷の定義は、前記と同じである。

成分Ｅは、誘電率異方性の絶対値が小さいので、中性に近い化合物である。化合物（１２）は、主として粘度の調整または光学的異方性の調整の効果がある。化合物（１３）および（１４）は、上限温度を高くすることによってネマチック相の温度範囲を広げる効果、または光学的異方性の調整の効果がある。

成分Ｅの含有量を増加させると組成物の粘度が小さくなるが、誘電率異方性が小さくなる。そこで、誘電率異方性の要求値を満たす限り、含有量は多いほうが好ましい。したがって、ＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｅの含有量は、組成物の全重量に対して、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上である。
液晶組成物の調製
組成物（１）の調製は、必要な成分を高い温度で溶解させるなどの方法により行われる。用途に応じて、この組成物に添加物を添加してよい。添加物の例は、光学活性化合物、重合可能な化合物、重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などである。このような添加物は当業者によく知られており、文献に記載されている。

組成物（１）は、少なくとも１つの光学活性化合物をさらに含有してもよい。光学活性化合物として、公知のキラルド−プ剤を添加することができる。このキラルド−プ剤は液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与えることによって逆ねじれを防ぐ、という効果を有する。キラルド−プ剤の好ましい例として、下記の光学活性化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１３）を挙げることができる。

組成物（１）は、このような光学活性化合物を添加して、らせんピッチを調整する。らせんピッチは、ＴＦＴモード用およびＴＮモード用の組成物であれば４０〜２００μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＳＴＮモード用の組成物であれば６〜２０μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＢＴＮモード用の組成物の場合は、１．５〜４μｍの範囲に調整するのが好ましい。らせんピッチの温度依存性を調整する目的で２つ以上の光学活性化合物を添加してもよい。

組成物（１）は、重合可能な化合物を添加することによってＰＳＡモード用に使用することもできる。重合可能な化合物の例はアクリレート、メタクリレート、ビニル、ビニルオキシ、プロペニルエーテル、エポキシ、ビニルケトン、オキセタンなどである。重合可能な化合物は、好ましくは光重合開始剤などの適切な開始剤存在下でＵＶ照射などにより重合する。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。

酸化防止剤は、大きな電圧保持率を維持するために有効である。酸化防止剤の好ましい例は、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−アルキルフェノールなどである。紫外線吸収剤は、上限温度の低下を防ぐために有効である。紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。立体障害のあるアミンのような光安定剤もまた好ましい。

組成物（１）は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系、テトラジン系などの二色性色素を添加すれば、ＧＨ（guest host）モード用に使用することもできる。

光学活性化合物、重合可能な化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素などの添加量は特に制限されない。

この組成物を含有する素子は大きな電圧保持率を有する。この組成物は、ＡＭ素子、特に透過型のＡＭ素子に適する。成分化合物の割合を制御することによって、またはその他の液晶性化合物を混合することによって、約０．０８から約０．２５の範囲の光学異方性を有する組成物、さらには約０．１０から約０．３０の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。この組成物は、ネマチック相を有する組成物としての使用、光学活性な化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用が可能である。

発明の液晶組成物の好ましいネマチック相の下限温度は、少なくとも約−２０℃以下であり、より好ましいネマチック相の下限温度は約−３０℃以下であり、特により好ましいネマチック相の下限温度は約−４０℃以下である。本発明の液晶組成物の好ましいネマチック相の上限温度は、少なくとも約７０℃以上であり、より好ましいネマチック相の上限温度は約８０℃以上であり、特により好ましいネマチック相の上限温度は約９０℃以上である。本発明の液晶組成物の５８９ｎｍで２５℃における好ましい光学異方性は、約０．０７から約０．２０の範囲であり、より好ましい光学異方性は約０．０７から約０．１６の範囲であり、特により好ましい光学異方性は約０．０８から約０．１３の範囲である。本発明の液晶組成物の２５℃における好ましい誘電率異方性は、少なくとも約２以上であり、より好ましい誘電率異方性は約３以上であり、特により好ましい誘電率異方性は約３．５以上である。
３．液晶表示素子
組成物（１）は、ＰＣモード、ＴＮモード、ＳＴＮモード、ＯＣＢモード、ＰＳＡモードなどの動作モードを有し、アクティブマトリックス（ＡＭ方式）で駆動する液晶表示素子に使用できる。組成物（１）は、ＰＣモード、ＴＮモード、ＳＴＮモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＩＰＳモードなどの動作モードを有し、パッシブマトリクス（ＰＭ）方式で駆動する液晶表示素子にも使用することができる。これらのＡＭ方式およびＰＭ方式の素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用ができる。

組成物（１）は、ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子、液晶中に三次元網目状高分子を形成して作製した
ポリマ−分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）、ポリマ−ネットワ−ク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）にも使用できる。

実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例によっては制限されない。特に断りのない限り、「％」は「重量％」を意味する。

合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法により同定した。
ＮＭＲ分析
測定装置は、ＤＲＸ−５００（ブルカーバイオスピン（株）社製）を用いた。¹Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ₃などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。¹⁹Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ₃を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。
［測定試料］
相構造および転移温度を測定するときには、液晶性化合物そのものを試料として用いた。ネマチック相の上限温度、粘度、光学的異方性、誘電率異方性などの物性を測定するときには、化合物を母液晶に混合して調製した組成物を試料として用いた。

化合物を母液晶と混合した試料を用いる場合には、次の方法で測定を行った。化合物１５重量％と母液晶８５重量％とを混合して試料を調製した。この試料の測定値から、次の式で表わされる外挿法にしたがって、外挿値を計算し、この値を記載した。〈外挿値〉＝（１００×〈試料の測定値〉−〈母液晶の重量％〉×〈母液晶の測定値〉）／〈化合物の重量％〉
化合物と母液晶との割合がこの割合であっても、結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出する場合には、化合物と母液晶との割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更をしていき、結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出しなくなった割合で試料の物性を測定した。なお、特に断りのない限り、化合物と母液晶との割合は、１５重量％：８５重量％である。

母液晶としては、下記の母液晶（ｉ）を用いた。母液晶（ｉ）の成分の割合を重量％で示す。

［測定方法］
物性の測定は下記の方法で行った。それらの多くは、日本電子機械工業会規格（Standard of Electronic Industries Association of Japan）、ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。測定に用いたＴＮ素子には、ＴＦＴを取り付けなかった。

（１）相構造
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料（化合物）を置き、３℃／分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。

（２）転移温度（℃）
パーキンエルマー社製走査熱量計ＤＳＣ−７システム、またはＤｉａｍｏｎｄ ＤＳＣシステムを用いて、３℃／分速度で昇降温し、試料（化合物）の相変化に伴う吸熱ピーク、または発熱ピークの開始点を外挿により求め、転移温度を決定した。化合物が固体からスメクチック相、ネマチック相などの液晶相に転移する温度を「液晶相の下限温度」と略すことがある。化合物が液晶相から液体に転移する温度を「透明点」と略すことがある。

結晶はＣと表した。結晶の種類区別がつく場合は、それぞれＣ₁またはＣ₂と表した。スメクチック相はＳ、ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相、またはスメクチックＦ相の区別がつく場合は、それぞれＳ_A、Ｓ_B、Ｓ_C、またはＳ_Fと表した。液体（アイソトロピック）はＩと表した。転移温度は、例えば、「Ｃ ５０．０ Ｎ １００．０ Ｉ」のように表記した。これは、結晶からネマチック相への転移温度（ＣＮ）が５０．０℃であり、ネマチック相から液体への転移温度（透明点）が１００．０℃であることを示す。

（３）低温相溶性
化合物の割合が、２０重量％、１５重量％、１０重量％、５重量％、３重量％、および１重量％となるように母液晶と化合物とを混合した試料を調製し、試料をガラス瓶に入れた。このガラス瓶を、−１０℃または−２０℃のフリーザー中に一定期間保管したあと、結晶またはスメクチック相が析出しているかどうか観察をした。

（４）ネマチック相の上限温度（Ｔ_NIまたはＮＩ；℃）
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。

（５）ネマチック相の下限温度（Ｔ_C；℃）
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、Ｔ_Cを≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。

（６）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
Ｅ型回転粘度計を用いて測定した。

（７）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。ツイスト角が０°であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。このＴＮ素子に１６Ｖから１９．５Ｖの範囲で０．５Ｖ毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）と
ピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度を測定した素子を用い、下に記載した方法で求めた。

（８）光学的異方性（屈折率異方性；２５℃で測定；Δｎ）
測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学的異方性（Δｎ）の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥の式から計算した。

（９）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、そしてツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（１０Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。

（１０）弾性定数（Ｋ；２５℃で測定；ｐＮ）
測定には横河・ヒューレットパッカード株式会社製のＨＰ４２８４Ａ型ＬＣＲメータを用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである水平配向素子に試料を入れた。このセルに０ボルトから２０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。測定した静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を「液晶デバイスハンドブックク」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．９９）からＫ₁₁およびＫ₃₃の値を得た。次に１７１頁にある式（３．１８）に、先ほど求めたＫ₁₁およびＫ₃₃の値を用いてＫ₂₂を算出した。弾性定数は、このようにして求めたＫ₁₁、Ｋ₂₂、およびＫ₃₃の平均値である。

（１１）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が約０．４５/Δｎ(μｍ)であり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に印加する電圧（３２Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから１０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が９０％になったときの電圧である。
〔原料〕
ソルミックス（登録商標）Ａ−１１は、エタノール（８５．５％），メタノール（１３．４％）とイソプロパノール（１．１％）の混合物であり、日本アルコール販売（株）から入手した。テトラヒドロフランをＴＨＦと略すことがある。Ｎ−フルオロベンゼンスルホンイミドをＮＦＳＩと略すことがある。
［実施例１］
化合物（Ｎｏ．１−１−１）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−１）（２１．０ｇ）、メルカプトフェニルテトラゾール（１３．７ｇ）、およびＴＢＡＨＳ（テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩）（１．１８ｇ）を反応器に入れ、トルエン（８０．０ｍｌ）に溶解させた。そこへ、水酸化カリウム（５．５６ｇ）の水（４０．０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、７０℃で８時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮して、化合物（Ｔ−２）（２７．８ｇ；１００％）を得た。

第２工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−２）（２７．８ｇ）を反応器に入れ、ソルミックス（登録商標）Ａ−１１（４００ｍｌ）に溶解させ、０℃に冷却した。そこへ、七モリブデン酸六アンモニウム四水和物（８．６２ｇ）の３５％過酸化水素水（６７．８ｇ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ２４時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製した。さらにトルエンからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ−３）（１７．０ｇ；５６．６％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３）（８．４９ｇ）を反応器に入れて、トルエン（２５０ｍｌ）に溶解させ、−７０℃に冷却した。そこへ、ＬＤＡ（１．１２Ｍ；ＴＨＦ溶液；２４．６ｍｌ）をゆっくりと加え、１２分間攪拌した。次に、ＮＦＳＩ（９．３２ｇ）を加え、５０分間攪拌し、室温に戻しつつさらに５０分間攪拌した。反応混合物を−７０℃に再び冷却したのち、トリフルオロアセトアルデヒド（７．７７ｇ）のＴＨＦ（５０．０ｍｌ）溶液、およびＫＨＭＤＳ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；３９．４ｍｌ）をゆっくりと加え、１時間攪拌し、室温に戻しつつさらに３時間攪拌した。なお、反応に用いたトリフルオロアセトアルデヒドは、トリフルオロアセトアルデヒドエチルヘミアセタール（１４．２ｇ）と濃硫酸（１００ｍｌ）を混合し、８０℃で攪拌することにより得られた。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製した。さらにソルミックス（登録商標）Ａ−１１からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−１−１）（１．７４ｇ；２７．５％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：４．９３（ｄｑ，Ｊ＝３４．４Ｈｚ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．１６−２．０４（ｍ，１Ｈ）、１．９８−１．９１（ｍ，２Ｈ）、１．８６−１．６６（ｍ，６Ｈ）、１．３５−１．１９（ｍ，４Ｈ）、１．１９−１．１０（ｍ，３Ｈ）、１．１０−０．９１（ｍ，６Ｈ）、０．９１−０．７９（ｍ，５Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−１−１）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ６８．４ （Ｓ_B ６５．７） Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝２２．４℃；誘電率異方性（Δε）＝１３．２；光学的異方性（Δｎ）＝０．０５０；粘度（η）＝１６．２ｍＰａ・ｓ．
[実施例２]
化合物（Ｎｏ．１−２−３）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−４）（１６．０ｇ）、メルカプトフェニルテトラゾール（８．３１ｇ）、およびＴＢＡＨＳ（テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩）（０．７２０ｇ）を反応器に入れ、トルエン（８０．０ｍｌ）に溶解させた。そこへ、水酸化カリウム（３．３９ｇ）の水（４０．０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、７０℃で８時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮して、化合物（Ｔ−５）（２０．１ｇ；１００％）を得た。

第２工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−５）（２１．６ｇ）を反応器に入れ、クロロホルム（３００ｍｌ）に溶解させ、−１０℃に冷却した。そこへ、ＭＣＰＢＡ（２３．６ｇ）のクロロホルム（３００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ２４時間攪拌した。反応混合物を２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製した、さらにトルエンからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ−６）（１８．２ｇ；７８．８％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−６）（１０．０ｇ）を反応器に入れて、トルエン（４００ｍｌ）に溶解させ、−７０℃に冷却した。そこへ、ＬＤＡ（１．１２Ｍ；ＴＨＦ溶液；２４．６ｍｌ）をゆっくりと加え、１２分間攪拌した。次に、ＮＦＳＩ（９．３４ｇ）を加え、５０分間攪拌し、室温に戻しつつさらに５０分間攪拌した。反応混合物を−７０℃に再び冷却したのち、トリフルオロアセトアルデヒド（７．５１ｇ）のＴＨＦ（５０．０ｍｌ）溶液、およびＫＨＭＤＳ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；３９．５ｍｌ）をゆっくりと加え、１時間攪拌し、室温に戻しつつさらに３時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製した。さらにヘプタンとソルミックス（登録商標）Ａ−１１との混合溶媒（体積比、１：１）からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−２−３）（２．２７ｇ；２９．０％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．１３−７．０３（ｍ，４Ｈ）、４．９５（ｄｑ，Ｊ＝３４．４Ｈｚ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．５５（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４２（ｔｔ，Ｊ＝１２．１Ｈｚ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．１８−２．０５（ｍ，１Ｈ）、２．０１−１．７８（ｍ，８Ｈ）、１．６８−１．５７（ｍ，２Ｈ）、１．４９−１．３６（ｍ，２Ｈ）、１．３３−１．２１（ｍ，２Ｈ）、１．２１−１．１２（ｍ，６Ｈ）、０．９４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−２−３）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ １０５ Ｓ_B １３４ Ｎ １４７ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝１００℃；誘電率異方性（Δε）＝１３．８；光学的異方性（Δｎ）＝０．１０２；粘度（η）＝５２．３ｍＰａ・ｓ．
[実施例３]
化合物（Ｎｏ．１−２−４３）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−７）（１８．２ｇ）を原料として用い、実施例１の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−８）（２２．４ｇ；１００％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−８）（２２．４ｇ）を原料として用い、実施例２の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−９）（２１．４ｇ；８９．９％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−９）（１８．３ｇ）を反応器に入れて、トルエン（７３０ｍｌ）に溶解させ、−７０℃に冷却した。そこへ、ＬＤＡ（１．１２Ｍ；ＴＨＦ溶液；４１．７ｍｌ）をゆっくりと加え、１２分間攪拌した。次に、ＮＦＳＩ（１５．８ｇ）を加え、５０分間攪拌し、室温に戻しつつさらに５０分間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製した。さらにトルエンからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ−１０）（１２．６ｇ；６６．６％）を得た。

第４工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−１０）（１３．２ｇ）を反応器に入れて、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）（２００ｍｌ）およびＤＭＰＵ（Ｎ，Ｎ'−ジメチルプロピレン尿素）（２００ｍｌ）に溶解させ、−７０℃に冷却した。そこへ、ＫＨＭＤＳ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；４６．６ｍｌ）、およびトリフルオロアセトアルデヒド（１３．２ｇ）のＴＨＦ（１０．０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、１時間攪拌し、室温に戻しつつさらに３時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：トルエン＝１０：１）で精製した。さらにソルミックス（登録商標）Ａ−１１からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−２−４３）（１．６８ｇ；１６．５％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．５６−７．５２（ｍ，２Ｈ）、７．５２−７．４６（ｍ，２Ｈ）、７．４５−７．４０（ｍ，１Ｈ）、７．３２−７．２７（ｍ，４Ｈ）、５．６９（ｄｑ，Ｊ＝３２．２Ｈｚ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）、２．６５（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ）、１．７５−１．６５（ｍ，２Ｈ）、０．９８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−２−４３）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ９１．４ Ｎ １０８ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝８４．４℃；誘電率異方性（Δε）＝４５．１；光学的異方性（Δｎ）＝０．２３９；粘度（η）＝６９．８ｍＰａ・ｓ．
[実施例４]
化合物（Ｎｏ．１−２−３０）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−１１）（１７．６ｇ）を原料として用い、実施例１の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１２）（２１．８ｇ；９９．１％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−１２）（２０．３ｇ）を原料として用い、実施例２の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１３）（１６．４ｇ；７５．９％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−１３）（１５．４ｇ）を原料として用い、実施例３の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１４）（１０．９ｇ；６８．６％）を得た。

第４工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−１４）（９．８６ｇ）を反応器に入れて、ＴＨＦ（４００ｍｌ）に溶解させ、−７０℃に冷却した。そこへトリフルオロアセトアルデヒド（１３．３ｇ）のＴＨＦ（１０．０ｍｌ）溶液、およびＫＨＭＤＳ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；３６．９ｍｌ）をゆっくりと加え、１時間攪拌し、室温に戻しつつさらに３時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）で精製した。さらにイソプロパノールと酢酸エチルとの混合溶媒（体積比、１：１）からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−２−３０）（２．６２ｇ；３４．９％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：４．９４（ｄｑ，Ｊ＝３４．３Ｈｚ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ）、４．１９−４．１２（ｍ，３Ｈ）、３．３８（ｄｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１８−２．０５（ｍ，１Ｈ）、２．００−１．８９（ｍ，４Ｈ）、１．７８−１．６０（ｍ，５Ｈ）、１．５５−１．４６（ｍ，１Ｈ）、１．３３−１．０９（ｍ，９Ｈ）、１．０２−０．９０（ｍ，３Ｈ）、０．９０−０．７６（ｍ，５Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−２−３０）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、粘度、光学的異方性、誘電率異方性の測定には、化合物と母液晶との割合が５重量％：９５重量％である試料を用いた。

転移温度：Ｃ ７４．４ Ｓ_B １８３ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝１３４℃；誘電率異方性（Δε）＝１４．１；光学的異方性（Δｎ）＝０．１０３；粘度（η）＝８０．０ｍＰａ・ｓ．
[実施例５]
化合物（Ｎｏ．１−２−７１）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−１５）（１８．１ｇ）を原料として用い、実施例１の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１６）（２４．１ｇ；９７．２％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−１６）（２４．１ｇ）を原料として用い、実施例２の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１７）（１６．３ｇ；６２．２％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−１７）（１６．３ｇ）を原料として用い、実施例３の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１８）（１３．０ｇ；７６．２％）を得た。

第４工程
化合物（Ｔ−１８）（１３．０ｇ）を原料として用い、実施例４の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１９）（４．３９ｇ；４９．１％）を得た。

第５工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−１９）（４．３９ｇ）、蟻酸（２１．９ｍｌ）、ＴＢＡＢ（テトラブチルアンモニウムブロミド）（１．５０ｇ）、およびトルエン（４５．０ｍｌ）を反応器に入れて、室温で１２時間撹拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、炭酸水素ナトリウムを用いて中和した後、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製して、化合物（Ｔ−２０）（２．７６ｇ；７９．１％）を得た。

第６工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３）（１．５６ｇ）、および化合物（Ｔ−２０）（０．７５０ｇ）を反応器に入れて、ＤＭＥ（エチレングリコールジメチルエーテル）（６０．０ｍｌ）に溶解させ、−７０℃に冷却した。そこへＫＨＭＤＳ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；４．０１ｍｌ）をゆっくりと加え、１時間攪拌し、室温に戻しつつさらに１時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製した。さらにヘプタンとソルミックス（登録商標）Ａ−１１との混合溶媒（体積比、１：１）からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−２−７１）（０．５５０ｇ；３８．５％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：５．３７−５．２３（ｍ，２Ｈ）、４．９４（ｄｑ，Ｊ＝３４．３Ｈｚ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．１８−２．０５（ｍ，１Ｈ）、１．９８−１．９１（ｍ，２Ｈ）、１．９１−１．６５（ｍ，１２Ｈ）、１．３５−１．２４（ｍ，４Ｈ）、１．１８−１．０６（ｍ，５Ｈ）、１．０５−０．９１（ｍ，８Ｈ）、０．９１−０．７９（ｍ，５Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−２−７１）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、粘度、光学的異方性、誘電率異方性の測定には、化合物と母液晶との割合が３重量％：９７重量％である試料を用いた。

転移温度：Ｃ ７８．３ Ｓ_G １５０ Ｓ_B １７２ Ｎ ２２９ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝１６８℃；誘電率異方性（Δε）＝１２．１；光学的異方性（Δｎ）＝０．１３７；粘度（η）＝６０．０ｍＰａ・ｓ．
[実施例６]
化合物（Ｎｏ．１−２−１１６）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（１０．１ｇ）、およびＴＨＦ（３００ｍｌ）を反応器に入れて、０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｔ−２１）（３０．０ｇ）のＴＨＦ（２００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ１時間撹拌した。反応混合物を０℃に再び冷却したのち、クロロメチルメチルエーテル（１８．７ｇ）のＴＨＦ（３０．０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつさらに１２時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製して、化合物（Ｔ−２２）（３０．５ｇ；７９．２％）を得た。

第２工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−２２）（３０．５ｇ）、およびトルエン（５００ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへＤＩＢＡＬ（水素化ジイソブチルアルミニウム）（１．００Ｍ；トルエン溶液；１６１ｍｌ）をゆっくりと加え室温に戻しつつ１２時間撹拌した。反応混合物を１Ｎ塩酸に注ぎ込み、不溶物を濾別したのち、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、トルエン：酢酸エチル＝５：１）で精製して、化合物（Ｔ−２３）（２９．８ｇ；９６．１％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、水素化ホウ素ナトリウム（５．８６ｇ）、メタノール（１５０ｍｌ）、およびＴＨＦ（５０．０ｍｌ）を反応器に入れて、０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｔ−２３）（２９．８ｇ）のＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え室温に戻しつつ２時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮して、化合物（Ｔ−２４）（３０．１ｇ；１００％）を得た。

第４工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−２４）（３０．１ｇ）、トリフェニルホスフィン（４２．５ｇ）、およびジクロロメタン（３００ｍｌ）を反応器に入れて、０℃に冷却した。そこへ四臭化炭素（５３．８ｇ）のジクロロメタン（２８０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え室温に戻しつつ３時間撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：トルエン＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ−２５）（３２．１ｇ；８１．５％）を得た。

第５工程
化合物（Ｔ−２５）（３２．１ｇ）を原料として用い、実施例１の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２６）（４３．１ｇ；９８．４％）を得た。

第６工程
化合物（Ｔ−２６）（４３．１ｇ）を原料として用い、実施例２の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２７）（３５．３ｇ；７５．３％）を得た。

第７工程
化合物（Ｔ−２７）（３３．５ｇ）を原料として用い、実施例３の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２８）（３４．１ｇ；９７．４％）を得た。

第８工程
化合物（Ｔ−２８）（３１．０ｇ）を原料として用い、実施例３の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２９）（３．２０ｇ；１５．０％）を得た。

第９工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−２９）（３．２０ｇ）、エタノール（５０．０ｍｌ）、および２Ｎ塩酸（１５．０ｍｌ）を反応器に入れて、６０℃で６時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、トルエン：酢酸エチル＝５：１）で精製して、化合物（Ｔ−３０）（２．７１ｇ；１００％）を得た。

第１０工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３０）（２．７１ｇ）、化合物（Ｔ−３１）（４．８５ｇ）、炭酸カリウム（４．６４ｇ）、ＴＢＡＢ（０．７２２ｇ）、およびＤＭＦ（８０．０ｍｌ）を反応器に入れて、９０℃で２時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：トルエン＝２０：１）で精製した。さらにソルミックス（登録商標）Ａ−１１からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−２−１１６）（３．２６ｇ；５５．７％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．５１−７．４８（ｍ，２Ｈ）、７．３３−７．２８（ｍ，２Ｈ）、７．２５−７．２０（ｍ，２Ｈ）、７．０１−６．９６（ｍ，２Ｈ）、５．６２（ｄｑ，Ｊ＝３２．０Ｈｚ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）、２．６５（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、１．７４−１．６５（ｍ，２Ｈ）、０．９７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−２−１１６）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ５９．４ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝２３．７℃；誘電率異方性（Δε）＝５５．２；光学的異方性（Δｎ）＝０．１４４；粘度（η）＝５４．３ｍＰａ・ｓ．
[実施例７]
化合物（Ｎｏ．１−３−１１５）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−３２）（２４．２ｇ）を原料として用い、実施例１の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−３３）（３０．３ｇ；８８．６％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−３３）（３０．３ｇ）を原料として用い、実施例２の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−３４）（２０．４ｇ；６１．４％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−３４）（２０．４ｇ）を原料として用い、実施例３の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−３５）（２０．１ｇ；９３．９％）を得た。

第４工程
化合物（Ｔ−３５）（２０．１ｇ）を原料として用い、実施例４の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−３６）（５．８２ｇ；４３．６％）を得た。

第５工程
化合物（Ｔ−３６）（５．８２ｇ）を原料として用い、実施例５の第５工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−３７）（４．８１ｇ；１００％）を得た。

第６工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３８）（２５．０ｇ）、トルエン（５０．０ｍｌ）、および２，２，４−トリメチルペンタン（５０．０ｍｌ）を反応器に入れて、６０℃に加熱した。そこへプロパンジチオール（１０．９ｍｌ）を加え１時間撹拌したのち、トリフルオロメタンスルホン酸（１９．４ｍｌ）をゆっくりと加え１時間撹拌した。続いて留出してくる水を除去しつつ、さらに２時間加熱還流を行った。反応混合物を室温まで冷却したのち、減圧下で濃縮し、残渣をｔ−ブチルメチルエーテルからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ−３９）（４０．８ｇ；８６．８％）を得た。

第７工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−４０）（２．４１ｇ）、トリエチルアミン（１．９１ｍｌ）、およびジクロロメタン（１５０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｔ−３９）（５．００ｇ）のジクロロメタン（１５０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え１時間撹拌した。次にフッ化水素トリエチルアミン錯体（５．１３ｍｌ）をゆっくりと加え３０分間撹拌した。続いて臭素（２．７０ｍｌ）をゆっくりと加えさらに１時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、炭酸水素ナトリウムを用いて中和したのち、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製して、化合物（Ｔ−４１）（３．６１ｇ；７６．６％）を得た。

第８工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−４１）（２．０９ｇ）、およびジエチルエーテル（６０．０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへｎ−ブチルリチウム（１．６５Ｍ；ｎ−ヘキサン溶液；３．１２ｍｌ）をゆっくりと加え２時間撹拌した。次に化合物（Ｔ−３７）（１．１８ｇ）のジエチルエーテル（５．００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え室温に戻しつつ１２時間撹拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製して、化合物（Ｎｏ．Ｔ−４２）（１．９１ｇ；７０．７％）を得た。

第９工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−４２）（１．８０ｇ）、およびジクロロメタン（１６．０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへトリエチルシラン（０．５４０ｍｌ）、および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．４３０ｍｌ）をゆっくりと加え０℃まで昇温しつつ２時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製した。さらにヘプタンとソルミックス（登録商標）Ａ−１１との混合溶媒（体積比、１：１）からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−３−１１５）（０．９００ｇ；５１．４％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．１６−７．１０（ｍ，１Ｈ）、６．９３−６．８５（ｍ，２Ｈ）、５．００（ｄｑ，Ｊ＝３４．３Ｈｚ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ）、２．８２（ｔｔ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ）、２．３３−２．２２（ｍ，１Ｈ）、２．１０−１．９５（ｍ，７Ｈ）、１．８９−１．８０（ｍ，２Ｈ）、１．８０−１．６８（ｍ，４Ｈ）、１．５７−１．４５（ｍ，４Ｈ）、１．４０−１．２６（ｍ，４Ｈ）、１．２０−１．１１（ｍ，３Ｈ）、１．１０−０．９２（ｍ，６Ｈ）、０．９２−０．８０（ｍ，５Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−３−１１５）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、粘度、光学的異方性、誘電率異方性の測定には、化合物と母液晶との割合が１０重量％：９０重量％である試料を用いた。

転移温度：Ｃ １５０ Ｓ_B １５９ Ｎ ２７６ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝１７４℃；誘電率異方性（Δε）＝１４．９；光学的異方性（Δｎ）＝０．１２７；粘度（η）＝７７．２ｍＰａ・ｓ．
[実施例８]
化合物（Ｎｏ．１−１−１３）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−２０）（１．０９ｇ）、化合物（Ｔ−４３）（０．６９０ｇ）、６Ｎ塩酸（１．６５ｍｌ）、およびアセトン（５．００ｍｌ）を反応器に入れて、３時間加熱還流を行った。反応混合物を食塩水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（体積比、ヘプタン：酢酸エチル＝７：１）で精製した。さらにヘプタンとソルミックス（登録商標）Ａ−１１との混合溶媒（体積比、１：１）からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−１−１３）（０．８４２ｇ；５４．０％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：４．９４（ｄｑ，Ｊ＝３４．３Ｈｚ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、４．１８（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ）、４．０７（ｄｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，２Ｈ）、３．２８（ｄｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１８−２．０６（ｍ，１Ｈ）、２．０２−１．９０（ｍ，５Ｈ）、１．５６−１．４７（ｍ，１Ｈ）、１．３４−１．０９（ｍ，６Ｈ）、１．０５−０．９６（ｍ，２Ｈ）、０．８９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−１−１３）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ６４．７ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝−２６．３℃；誘電率異方性（Δε）＝２３．８；光学的異方性（Δｎ）＝０．０２４；粘度（η）＝４２．９ｍＰａ・ｓ．
[実施例９]
化合物（Ｎｏ．１−２−１８）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−４４）（１．００ｇ）、およびＴＨＦ（１５．０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへｓｅｃ−ブチルリチウム（１．０６Ｍ；シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン溶液；４．７５ｍｌ）をゆっくりと加え２時間撹拌した。次に化合物（Ｔ−３７）（１．１８ｇ）のＴＨＦ（５．００ｍｌ）溶液をゆっくりと加え室温に戻しつつ２時間撹拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製して、化合物（Ｔ−４５）（１．５９ｇ；８０．３％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−４５）（１．５９ｇ）を原料として用い、実施例７の第９工程と同様の手法により、化合物（１−２−１８）（０．５４１ｇ；３５．４％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．４９−７．４５（ｍ，２Ｈ）、７．３４−７．３０（ｍ，１Ｈ）、７．２６−７．２１（ｍ，４Ｈ）、５．０２（ｄｑ，Ｊ＝３４．２Ｈｚ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ）、２．８８（ｔｔ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ）、２．６２（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ）、２．３５−２．２４（ｍ，１Ｈ）、２．１３−２．００（ｍ，４Ｈ）、１．７３−１．４５（ｍ，６Ｈ）、０．９７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−２−１８）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ １２８ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝７６．４℃；誘電率異方性（Δε）＝２０．５；光学的異方性（Δｎ）＝０．１５７；粘度（η）＝７３．９ｍＰａ・ｓ．
[実施例１０]
化合物（Ｎｏ．１−１−４２）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−４６）（２．５６ｇ）、化合物（Ｔ−２０）（１．５０ｇ）、およびＤＭＥ（３０．０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへＫＨＭＤＳ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；８．０３ｍｌ）をゆっくりと加え、１時間攪拌し、室温に戻しつつさらに１時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製した。さらにソルミックス（登録商標）Ａ−１１からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−１−４２）（０．６７３ｇ；２９．０％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：５．３７−５．２４（ｍ，２Ｈ）、４．９５（ｄｑ，Ｊ＝３４．５Ｈｚ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．１７−２．０５（ｍ，１Ｈ）、１．９７−１．６５（ｍ，１０Ｈ）、１．３７−１．２３（ｍ，４Ｈ）、１．２０−０．９８（ｍ，７Ｈ）、０．９５−０．８４（ｍ，５Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−１−４２）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ５２．２ Ｓ_B ６５．７ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝２４．４℃；誘電率異方性（Δε）＝１１．９；光学的異方性（Δｎ）＝０．０５７；粘度（η）＝１３．５ｍＰａ・ｓ．
[実施例１１]
化合物（Ｎｏ．１−１−４）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−４７）（１７．８ｇ）を原料として用い、実施例１の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−４８）（２２．８ｇ；１００％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−４８）（２２．８ｇ）を原料として用い、実施例２の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−４９）（１７．１ｇ；６９．８％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−４９）（１７．１ｇ）を原料として用い、実施例３の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−５０）（１４．１ｇ；７９．２％）を得た。

第４工程
化合物（Ｔ−５０）（１３．０ｇ）を原料として用い、実施例４の第４工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−５１）（４．４６ｇ；４６．４％）を得た。

第５工程
化合物（Ｔ−５１）（４．６４ｇ）を原料として用い、実施例５の第５工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−５２）（３．６２ｇ；９２．８％）を得た。

第６工程
窒素雰囲気下、メチルトリフェニルホスフィンブロミド（２．５２ｇ）、およびＴＨＦ（２６．０ｍｌ）を反応器に入れて、−３０℃に冷却した。そこへカリウムt-ブトキシド（０．７６０ｇ）をゆっくりと加え、３０分間攪拌した。次に化合物（Ｔ−５２）（１．８０ｇ）のＴＨＦ（１０．０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつさらに３時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製した。さらにソルミックス（登録商標）Ａ−１１からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−１−４）（０．６５７ｇ；３６．７％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：５．８１−５．７２（ｍ，１Ｈ）、５．０２−４．８５（ｍ，３Ｈ）、２．１６−２．０４（ｍ，１Ｈ）、２．００−１．７０（ｍ，９Ｈ）、１．３１−１．１９（ｍ，２Ｈ）、１．１３−０．９８（ｍ，８Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−１−４）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ３８．９ Ｓ_B ４７．７ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝０．４℃；誘電率異方性（Δε）＝１０．８；光学的異方性（Δｎ）＝０．０５０；粘度（η）＝１３．６ｍＰａ・ｓ．
[実施例１２]
化合物（Ｎｏ．１−１−５）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−５２）（１．８０ｇ）、化合物（Ｔ−５３）（１．８２ｇ）、およびＤＭＥ（３６．０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへＫＨＭＤＳ（１．００Ｍ；ＴＨＦ溶液；７．６４ｍｌ）をゆっくりと加え、室温に戻しつつ４時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。一緒にした有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製した。さらにソルミックス（登録商標）Ａ−１１からの再結晶により精製して、化合物（Ｎｏ．１−１−５）（０．４４３ｇ；２３．７％）を得た。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：５．４３−５．３２（ｍ，２Ｈ）、４．９３（ｄｑ，Ｊ＝３４．４Ｈｚ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．１５−２．０３（ｍ，１Ｈ）、１．９９−１．９１（ｍ，２Ｈ）、１．８８−１．６８（ｍ，７Ｈ）、１．６４（ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，３Ｈ）、１．３０−１．１９（ｍ，２Ｈ）、１．１２−０．９７（ｍ，８Ｈ）．
化合物（Ｎｏ．１−１−５）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｓ_B １０１ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝３３．７℃；誘電率異方性（Δε）＝１５．４；光学的異方性（Δｎ）＝０．０７０；粘度（η）＝１９．５ｍＰａ・ｓ．
実施例１〜１２に記載された合成方法と同様の方法により、以下に示す化合物（Ｎｏ．１−１−１）〜（Ｎｏ．１−１−６８）、化合物（Ｎｏ．１−２−１）〜（Ｎｏ．１−２−１２０）、および化合物（Ｎｏ．１−３−１）〜（Ｎｏ．１−３−１４０）を合成することができた。

[比較例１]
比較化合物として、化合物（Ｓ−１）を合成した。この化合物は、ＥＰ４８０２１７Ａに記載されたものであり、本発明の化合物からフッ素が水素に置き換わったトリフルオロメチルビニルを有するものである。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：６．３１（ｍ，１Ｈ）、５．５３（ｍ，１Ｈ）、２．０４−１．９５（ｍ，１Ｈ）、１．８４−１．６５（ｍ，９Ｈ）、１．３５−１．２６（ｍ，２Ｈ）、１．２０−０．９１（ｍ，１０Ｈ）、０．９１−０．８０（ｍ，５Ｈ）．
比較化合物（Ｓ−１）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ５５．７ Ｓ_B ６２．８ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝２５．０℃；誘電率異方性（Δε）＝７．４０；光学的異方性（Δｎ）＝０．０５７；粘度（η）＝８．７０ｍＰａ・ｓ．

実施例１で得られた化合物（Ｎｏ．１−１−１）と比較化合物（Ｓ−１）の物性を表１にまとめた。表１から、化合物（Ｎｏ．１−１−１）は、比較化合物（Ｓ−１）と比較して、誘電率異方性が大きい点で優れていることが分かった。
[比較例２]
比較化合物として、化合物（Ｓ−２）を合成した。この化合物は、特開２００５−２９８４６６号公報に記載され、本発明の化合物の水素がフッ素に置き換わった、パーフルオロプロペニルを有するものである。

化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：２．６５−２．５０（ｍ，１Ｈ）、１．９０−１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．５５−１．４４（ｍ，２Ｈ）、１．３５−１．２８（ｍ，２Ｈ）、１．２０−０．８０（ｍ，１４Ｈ）．
比較化合物（Ｓ−２）の物性は、次のとおりであった。

転移温度：Ｃ ４９．５ Ｓ_B ６２．６ Ｉ．
上限温度（Ｔ_NI）＝２７．７℃；誘電率異方性（Δε）＝８．１０；光学的異方性（Δｎ）＝０．０５７；粘度（η）＝７．３０ｍＰａ・ｓ．

実施例１で得られた化合物（Ｎｏ．１−１−１）と比較化合物（Ｓ−２）の物性を表２にまとめた。表２から、化合物（Ｎｏ．１−１−１）は、比較化合物（Ｓ−２）と比較して、誘電率異方性が大きい点で優れていることが分かった。化合物（Ｎｏ．１−１−１）は比較化合物（Ｓ−２）よりもフッ素置換基が１つ少ないにも拘らず、誘電率異方性が大きいということは、特筆に値する。
〔組成物（１）の実施例〕
実施例により本発明の液晶組成物を詳細に説明する。本発明は下記の実施例によって限定されない。実施例における化合物は、下記の表３の定義に基づいて記号により表した。表３において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、組成物の特性値をまとめた。特性は、先に記載した方法にしたがって測定し、測定値を外挿することなくそのまま記載した。

[実施例１３]
３−ＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−１−１） ３％
５−ＨＢ−ＣＬ （２−２） １６％
３−ＨＨ−４ （１２−１） １２％
３−ＨＨ−５ （１２−１） ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ （３−１） ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ （３−１） ３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ （３−１） ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ８％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （１４−１） ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６） ２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６） ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６） ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５） ３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５） ３％
ＮＩ＝１１２．６℃；Δｎ＝０．０９０；Δε＝４．０；Ｖｔｈ＝２．４５Ｖ；η＝１９．２ｍＰａ・ｓ．

[実施例１４]
３−ＢＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−３） ３％
３−ｄｈＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−２７） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３） ８％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ２０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２７） １０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６） ３％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ （４−１７） ２％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５） ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ （１４−１） ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （１４−１） ３％

[実施例１５]
１−ＢＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−１） ３％
３−ＧＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−２４） ３％
５−ＨＢ−Ｆ （２−２） １２％
６−ＨＢ−Ｆ （２−２） ９％
７−ＨＢ−Ｆ （２−２） ７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ （３−１） ７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ （３−１） ７％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ （３−１） ５％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ （３−１） ５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ （３−４） ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ （３−３） ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３ （３−３） ５％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ （３−５） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） １０％
５−ＨＢＢＨ−３ （１４−１） ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （１４−２） ３％

[実施例１６]
３−ＨＧＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−３０） ３％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＦＶＣＦ３ （１−２−４３） ５％
５−ＨＢ−ＣＬ （２−２） １１％
３−ＨＨ−４ （１２−１） ８％
３−ＨＨＢ−１ （１３−１） ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３） ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） １５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） １５％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１２） １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１２） ３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１２） ３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３９） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３９） ５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３９） ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６） ３％
ＮＩ＝７２．０℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝７．７；Ｖｔｈ＝１．４５Ｖ；η＝１８．５ｍＰａ・ｓ．

[実施例１７]
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＦＶＣＦ３ （１−２−４３） ４％
５−ＨＢ（Ｆ）ＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−３−２） ３％
３−ＨＢ−ＣＬ （２−２） ６％
５−ＨＢ−ＣＬ （２−２） ４％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ （３−１） ５％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３ （３−１３） ５％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３ （３−１９） １０％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ５％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ５％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ （３−２１） ８％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ （３−２１） １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ５％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２１） ５％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２６） ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２６） １０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３９） ５％

[実施例１８]
３−ＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−１−１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ）−ＦＶＣＦ３ （１−１−２５） ４％
５−ＨＢ−ＣＬ （２−２） ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ （２−３） ６％
３−ＨＨ−４ （１２−１） ９％
３−ＨＨ−ＥＭｅ （１２−２） ２０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ （３−１０） ８％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ （３−１０） ８％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１２） １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１２） ５％
４−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１０３） ３％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１０３） ６％
２−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１０６） ４％
３−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１０６） ４％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１０９） ７％

[実施例１９]
５−ＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−１−３） ３％
５−ＨＧＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−３１） ３％
２−ＨＢ−Ｃ （５−１） ５％
３−ＨＢ−Ｃ （５−１） １０％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１２−５） １５％
２−ＢＴＢ−１ （１２−１０） ３％
３−ＨＨＢ−１ （１３−１） ７％
３−ＨＨＢ−Ｆ （３−１） ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （１３−１） ５％
３−ＨＨＢ−３ （１３−１） １２％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ （３−１０） ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ （３−１０） ４％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３） ４％

[実施例２０]
３−ＢＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−３） ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−３） ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） １６％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２７） １０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６） ３％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ （４−１７） ２％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−１５） ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ （１４−１） ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （１４−１） ４％
ＮＩ＝１００．１℃；Δｎ＝０．１１５；Δε＝９．１；Ｖｔｈ＝１．７９Ｖ；η＝３５．６ｍＰａ・ｓ．
上記組成物１００部にＯｐ−０５を０．２５部添加したときのピッチは６２．３μｍであった。

[実施例２１]
３−ＨＨＶＨ−ＦＶＣＦ３ （１−２−７１） ３％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１２−５） ７％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） ９％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） １６％
２−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ４％
３−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ４％
５−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） １０％
ＮＩ＝９２．５℃；Δｎ＝０．１１９；Δε＝６．４；η＝２６．４ｍＰａ・ｓ．

[実施例２２]
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−ＦＶＣＦ３ （１−２−１１６）５％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ （５−１５） ６％
３−ＨＢ−Ｃ （５−１） １８％
２−ＢＴＢ−１ （１２−１０） １０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ （１２−１） ３０％
３−ＨＨＢ−１ （１３−１） ４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ （１３−１） ８％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ （１３−１） １１％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ （１３−１７） ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ （１３−１７） ４％
ＮＩ＝７４．１℃；Δｎ＝０．１２５；Δε＝９．１；η＝１３．６ｍＰａ・ｓ．

[実施例２３]
３−ＨＨＸＢ（Ｆ）Ｈ−ＦＶＣＦ３ （１−３−１１５）３％
３−ＨＨ−４ （１２−１） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ３３％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ３２％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） １０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ８％
ＮＩ＝６４．１℃；Δｎ＝０．１０４；Δε＝８．８；η＝３０．２ｍＰａ・ｓ．

[実施例２４]
３−ＧＨ−ＦＶＣＦ３ （１−１−１３）５％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２−４） ３％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１２−５） ７％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） ９％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） １６％
２−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ４％
３−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ４％
５−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） １０％
ＮＩ＝８１．５℃；Δｎ＝０．１１０；Δε＝６．４；η＝２５．２ｍＰａ・ｓ．

[実施例２５]
３−ＢＢ（Ｆ）Ｈ−ＦＶＣＦ３ （１−２−１８）５％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ （５−１５） ６％
３−ＨＢ−Ｃ （５−１） １８％
２−ＢＴＢ−１ （１２−１０）１０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ （１２−１） ３０％
３−ＨＨＢ−１ （１３−１） ４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ （１３−１） ８％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ （１３−１） １１％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ （１３−１７） ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ （１３−１７） ４％
ＮＩ＝７６．７℃；Δｎ＝０．１２６；Δε＝７．３；η＝１４．６ｍＰａ・ｓ．

[実施例２６]
３−ＨＶＨ−ＦＶＣＦ３ （１−１−４２）３％
３−ＨＨ−４ （１２−１） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ３０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） ３２％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） １０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−１５） ８％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （４−６） ３％
ＮＩ＝６３．９℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝８．７；η＝２９．３ｍＰａ・ｓ．

[実施例２７]
Ｖ−ＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−１−４） ５％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２−４） ３％
３−ＨＢ−Ｏ２ （１２−５） ７％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２） １０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） ９％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （３−２３） １６％
２−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ４％
３−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ４％
５−ＨＢＢ−Ｆ （３−２２） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （３−２４） １０％
ＮＩ＝８２．９℃；Δｎ＝０．１１２；Δε＝５．８；η＝２３．７ｍＰａ・ｓ．

[実施例２８]
１Ｖ−ＨＨ−ＦＶＣＦ３ （１−１−５） ５％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ （５−１５） ６％
３−ＨＢ−Ｃ （５−１） １８％
２−ＢＴＢ−１ （１２−１０）１０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ （１２−１） ３０％
３−ＨＨＢ−１ （１３−１） ４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ （１３−１） ８％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ （１３−１） １１％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ （１３−１７） ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ （１３−１７） ４％
ＮＩ＝７４．６℃；Δｎ＝０．１２１；Δε＝７．１；η＝１１．９ｍＰａ・ｓ．
いずれの実施例も、上限温度が低く、粘度も低く、適切な光学的異方性を有し、かつ大きな誘電率異方性を示すものであった。

本発明の液晶性化合物は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する。本発明の液晶組成物は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する。この組成物は、これらの特性にバランスよく優れている。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含有し、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する。したがって、パソコン、テレビなどに用いる液晶表示素子に広く利用できる。

Claims (22)

1. 式（１）で表される化合物。
   

   

   式（１）において、
   Ｒ¹は、炭素数１〜１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ₂）₂−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
   環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、環Ａ⁴、および環Ｂ¹は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり；
   Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
   ｌ、ｍ、ｎ、およびｏは独立して、０または１であり、ｌ、ｍ、ｎおよびｏの和が１以上である。
2. 請求項１に記載の式（１）において、
   環Ｂ¹が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンである、請求項１に記載の化合物。
3. 請求項１に記載の式（１）において、Ｒ¹が、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数２〜１５のアルケニル、炭素数１〜１４のアルコキシ、または炭素数２〜１４のアルケニルオキシであり；Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴が独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である、請求項１に記載の化合物。
4. 請求項１に記載の式（１）において、Ｒ¹が、炭素数１〜１５のアルキルまたは炭素数２〜１５のアルケニルであり；Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴が独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、または−ＣＦ₂Ｏ−である、請求項１に記載の化合物。
5. 請求項１に記載の式（１）において、Ｒ¹が、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；環Ａ¹、環Ａ²、環Ａ³、および環Ａ⁴が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、環Ｂ¹が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであり、；Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、およびＺ⁴が独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、または−ＣＨ＝ＣＨ−である、請求項１に記載の化合物。
6. 式（１−１）〜（１−３）のいずれか１つで表される、請求項１に記載の化合物。
   

   

   式（１−１）〜（１−３）において、
   Ｒ¹は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；
   環Ａ¹、環Ａ²、および環Ａ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり；
   環Ｂ¹は１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであり；
   Ｚ¹、Ｚ²、およびＺ³は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、または−ＣＨ＝ＣＨ−である。
7. （１−４）〜（１−１９）のいずれか１つで表される、請求項１に記載の化合物。
   
   

   

   式（１−４）〜（１−１９）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、およびＬ⁴は水素またはフッ素である。
8. 式（１−２０）〜（１−３１）のいずれか１つで表される、請求項１に記載の化合物。
   

   

   式（１−２０）〜（１−３１）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹は水素またはフッ素である。
9. 式（１−３２）〜（１−３９）のいずれか１つで表される、請求項１に記載の化合物。
   

   

   式（１−３２）〜（１−３９）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｌ⁴、Ｌ⁵、Ｌ⁶、およびＬ⁷は独立して、水素またはフッ素である。
10. 式（１−４０）〜（１−４７）のいずれか１つで表される、請求項１に記載の化合物。
    

    

    式（１−４０）〜（１−４７）において、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキルであり；Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³は独立して、水素またはフッ素である。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも１つ含有する液晶組成物。
12. 式（２）〜（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１１に記載の液晶組成物。
    
    

    

    式（２）〜（４）において、
    Ｒ²は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    Ｘ¹は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＣＦ＝Ｆ₂、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、または−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃であり；
    環Ｃ¹、環Ｃ²、および環Ｃ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
    Ｚ⁵およびＺ⁶は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、または−（ＣＨ₂）₄−であり；
    Ｌ⁸およびＬ⁹は独立して、水素またはフッ素である。
13. 式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１１に記載の液晶組成物。
    

    

    式（５）において、
    Ｒ³は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    Ｘ²は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
    環Ｄ¹、環Ｄ²、および環Ｄ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
    Ｚ⁷は、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＣＨ₂Ｏ−であり；
    Ｌ¹⁰およびＬ¹¹は独立して、水素またはフッ素であり；
    ｒは、０、１または２であり、ｓは０または１であり、ｒとｓの和は、０、１、２または３である。
14. 式（６）〜（１１）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１１に記載の液晶組成物。
    

    

    式（６）〜（１１）において、
    Ｒ⁴およびＲ⁵は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    環Ｅ¹、環Ｅ²、環Ｅ³、および環Ｅ⁴は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
    Ｚ⁸、Ｚ⁹、Ｚ¹⁰、およびＺ¹¹は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−であり；
    Ｌ¹²およびＬ¹³は独立して、フッ素または塩素であり；
    ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、およびｙは独立して０または１であり、ｕ、ｖ、ｗ、およびｘの和は、１または２である。
15. 式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１１に記載の液晶組成物。
    

    

    式（１２）〜（１４）において、
    Ｒ⁶およびＲ⁷は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    環Ｆ¹、環Ｆ²、および環Ｆ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイル、であり；
    Ｚ¹²およびＺ¹³は独立して、単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。
16. 請求項１３に記載の式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１２に記載の液晶組成物。
17. 請求項１５に記載の式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１２に記載の液晶組成物。
18. 請求項１５に記載の式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１３に記載の液晶組成物。
19. 請求項１５に記載の式（１２）〜（１４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項１４に記載の液晶組成物。
20. 少なくとも１つの光学活性化合物および／または重合可能な化合物をさらに含有する、請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
21. 少なくとも１つの酸化防止剤および／または紫外線吸収剤をさらに含有する、請求項１１〜２０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
22. 請求項１１〜２１のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。