JPH0692969A - ７−アシル−３−置換カルバモイルオキシセフェム化合物及びその製造法 - Google Patents

７−アシル−３−置換カルバモイルオキシセフェム化合物及びその製造法

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JPH0692969A
JPH0692969A JP3317319A JP31731991A JPH0692969A JP H0692969 A JPH0692969 A JP H0692969A JP 3317319 A JP3317319 A JP 3317319A JP 31731991 A JP31731991 A JP 31731991A JP H0692969 A JPH0692969 A JP H0692969A
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Takeki Komatsu
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 抗菌剤である３−置換カルバモイルオキシ−
３−セフェム誘導体及びその製造方法を提供する。 【構成】 下記式（１） （式中、Ａは−ＣＨ＝または−Ｎ＝を示し、Ｒ1 は水酸
基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級アルコキシ基ま
たは保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ2 及びＲ3 は
低級アルキル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバモ
イル置換低級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキ
ル基などを示す。Ｒ4 はカルボキシル基または保護基で
保護されたカルボキシル基を示す。）で表される７−ア
シル−３−置換カルバモイルオキシセフェム化合物また
はその医薬として許容される塩。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は医薬として優れた作用を
有する新規な抗菌剤である３−置換カルバモイルオキシ
−３−セフェム誘導体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開昭５３−３４７９４号公報には、
式：
【０００３】
【化２８】
【０００４】（ここでＹは水素または求核性化合物残基
である）
【０００５】で表わされる化合物を含む無置換または低
級アルキル基で置換された３−カルバモイルオキシ−３
−セフェム誘導体が開示されている。
【０００６】また特公平１−４４７１４号公報には下記
一般式で示される化合物が開示されている。
【０００７】
【化２９】
【０００８】（ここで、Ｒ6 はアミノ基またはアシルア
ミノ基、Ｒ7 はカルボキシル基または保護されたカルボ
キシル基、式：
【０００９】
【化３０】
【００１０】で示される基は、ジ（低級）アルキルアミ
ノ（低級）アルキルアミノ基、低級アルキルで置換され
ていてもよい１〜４個の窒素原子を含有する飽和５もし
くは６員複素環式（低級）アルキルアミノ基または低級
アルキルもしくはヒドロキシ（低級）アルキルで置換さ
れていてもよい２〜４個の窒素原子を含有する飽和５も
しくは６員複素環式基、Ｘ1 は−Ｓ−または
【００１１】
【化３１】
【００１２】点線は２もしくは３−セフェム環をそれぞ
れ意味する。）
【００１３】さらに特公平３−４６４７４号公報には下
記一般式：
【００１４】
【化３２】
【００１５】（式中、Ｒ1 は保護されていてもよいアミ
ノ基または水酸基を、Ｒ3 は水素を、Ｒ5 はヒドロキシ
基または置換されていてもよいアルコキシ基を、Ｒ8 は
水素を、Ｑは３−置換−３−セフェム−４−カルボン酸
を構成するための炭素−炭素結合を、Ｒはエステル残基
を示す。）
【００１６】で表わされるセフェム化合物などの報告が
ある。
【００１７】現在、幾つかの種類の半合成セファロスポ
リンが感染症の治療に利用されているが、抗菌力にすぐ
れ、特に経口投与可能な抗菌剤としては満足なものがな
い。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は抗菌力
にすぐれ、さらに経口投与可能な抗菌剤を提供すること
にある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、新規な３−置換カルバモイルオキシ−３−セフェ
ム誘導体が種々の病原菌に対しすぐれた抗菌活性を有
し、さらに薬理学的に保護された誘導体は消化管からす
みやかに吸収され、吸収後ただちに非エステル体を生じ
て経口投与用の抗菌剤として有用であることを見い出
し、本発明を完成するに到った。
【００２０】即ち、本発明は、下記一般式（１）：
【００２１】
【化３３】
【００２２】（式中、Ａは−ＣＨ＝または−Ｎ＝を示
し、Ｒ1 は水酸基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級
アルコキシ基または保護基で保護された水酸基を示す。
Ｒ2 及びＲ3 は同一または異なって低級アルキル基、水
酸基置換低級アルキル基、カルバモイル置換低級アルキ
ル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示すか、Ｒ2
は水素原子であってＲ3 は低級アルコキシ基又はハロゲ
ン原子で置換されてもよい低級アルキル基を示すか、あ
るいは式：
【００２３】
【化３４】
【００２４】で示される基は、窒素原子１個を含有する
４−６員複素環式基またはモルホリノ基を示し、それら
は低級アルキル基、水酸基または水酸基置換低級アルキ
ル基で置換されていてもよい。Ｒ4 はカルボキシル基ま
たは保護基で保護されたカルボキシル基を示す。）
【００２５】で表される７−アシル−３−置換カルバモ
イルオキシセフェム化合物またはその医薬として許容さ
れる塩、その製造法並びにそれからなる抗菌剤および中
間体に関するものである。
【００２６】一般式（１）において、Ｒ1 で示される低
級アルコキシ基、またはフッ素置換された低級アルコキ
シ基としてはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、モノフルオロメトキシ、ジフルオ
ロメトキシ、２−モノフルオロエトキシ、２，２−ジフ
ルオロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシな
どの炭素数１〜４のアルコキシ基またはフッ素置換アル
コキシ基が挙げられる。
【００２７】Ｒ1 で示される保護された水酸基における
保護基とは、脱離容易な水酸基保護基であり、たとえば
ホルミル、アセチル、クロロアセチル、メトキシアセチ
ル、フェノキシアセチル、ベンゾイル、エトキシカルボ
ニル、ｐ−ニトロフェノキシカルボニル、テトラヒドロ
ピラニル、テトラヒドロチオフラニル、トリチル、メト
キシメチル、エトキシメチル、トリメチルシリル、ｔ−
ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルなどの比較的緩和な
条件下で脱離可能な保護基などで保護された水酸基を意
味し好ましい保護基としてはアセチル、トリチルなどが
挙げられる。
【００２８】一般式（１）においてＲ2 、Ｒ3 で示され
る低級アルキル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバ
モイル置換低級アルキル基、シアノ置換低級アルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロ
キシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキ
シブチル、カルバモイルメチル、２−カルバモイルエチ
ル、３−カルバモイルプロピル、２−カルバモイルプロ
ピル、シアノメチル、２−シアノエチル、３−シアノプ
ロピル、２−シアノプロピルなどが挙げられる。Ｒ2 が
水素原子であって、Ｒ3 が低級アルコキシ基またはハロ
ゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基において、
低級アルキル基とは上記記載のアルキル基などが挙げら
れ、好ましくはメチル基、エチル基などが挙げられる。
低級アルコキシ基とはＲ1 で定義された基と同様であ
り、ハロゲン原子とはフッ素、塩素、ヨウ素などが挙げ
られ、好ましくはフッ素原であり置換されてもよい数は
１〜３である。
【００２９】また、式：
【００３０】
【化３５】
【００３１】で示される、置換されてもよい窒素原子一
つを含有する４〜６員複素環式基またはモルホリノ基と
しては次に示す基を挙げることができる。
【００３２】
【化３６】
【００３３】
【化３７】
【００３４】
【化３８】
【００３５】
【化３９】
【００３６】式中、Ｒ10は水素、低級アルキル基、水酸
基、水酸基置換低級アルキル基を示し、低級アルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル基、ヒドロキシ置換
低級アルキル基としてはヒドロキシメチル基、２−ヒド
ロキシエチル基などが挙げられる。
【００３７】
【化４０】
【００３９】として好ましい基としては、
【００４０】
【化４１】
【００４１】−ＮＨＣＨ3 、−Ｎ（ＣＨ3)2 などが挙げ
られ、さらに好ましい基としては−Ｎ（ＣＨ3)2 が挙げ
られる。
【００４２】Ｒ4 のカルボキシル基の保護基としては、
メチル、エチル、ｔ−ブチルなどの低級アルキル基；ｐ
−メトキシベンジル、ｐ−ニトロベンジル、３，４−ジ
メトキシベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フェ
ネチルなどの置換基を有していてもよいフェニル基で置
換された低級アルキル基；２，２，２−トリクロロエチ
ル、２−ヨードエチルなどのハロゲン化低級アルキル
基；ピバロイルオキシメチル、アセトキシメチル、プロ
ピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、バレリ
ルオキシメチル、１−アセトキシエチル、２−アセトキ
シエチル、１−ピバロイルオキシエチル、２−ピバロイ
ルオキシエチルなどの低級アルカノイルオキシ低級アル
キル基；パルミトイルオキシエチル、ヘプタベカノイル
オキシメチル、１−パルミトイルオキシエチルなどの高
級アルカノイルオキシ低級アルキル基；メトキシカルボ
ニルオキシメチル、１−（ブトキシカルボニルオキシ）
エチル、１−（ｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチ
ル、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチルなどの低級
アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル基；カルボキ
シメチル、２−カルボキシエチルなどのカルボキシ低級
アルキル基；３−フタリジルなどの複素環基；４−グリ
シルオキシベンゾイルオキシメチル、４−〔Ｎ−（ｔ−
ブトキシカルボニル）グリシルオキシ〕ベンゾイルオキ
シメチルなどの置換基を有していてもよいベンゾイルオ
キシ低級アルキル基；（５−メチル−２−オキソ−１，
３−ジオキソレン−４−イル）メチルなどの（置換ジオ
キソレン）低級アルキル基；１−（シクロヘキシルアセ
チルオキシ）エチルなどのシクロアルキル置換低級アル
カノイルオキシ低級アルキル基、１−（シクロヘキシル
オキシカルボニルオキシ）エチルなどのシクロアルキル
オキシカルボニルオキシ低級アルキル基等が挙げられ
る。
【００４３】要するに、何らかの手段で分解されてカル
ボン酸となり得る保護基であればいかなる基でもよく、
好ましくは１−（イソプロピルオキシカルボニルオキ
シ）エチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチ
ル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）
エチル基、ピバロイルオキシメチル基又はイソプロピル
オキシカルボニルオキシメチル基などが挙げられる。さ
らに好ましい基としては１−（イソプロピルオキシカル
ボニルオキシ）エチル基である。
【００４４】また、医薬として許容される塩としては、
例えばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属
塩；アンモニウム塩；テトラエチルアンモニウム塩、ベ
タイン塩などの４級アンモニウム塩；カルシウム塩、マ
グネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；塩酸塩、臭化
水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩な
どの無機酸塩；酢酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸
塩などの有機カルボン酸塩；メタンスルホン酸塩、ヒド
ロキシメタンスルホン酸塩、ヒドロキシエタンスルホン
酸塩、タウリン塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンス
ルホン酸塩などの有機スルホン酸塩；アルギニン塩、リ
ジン塩、セリン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸
塩、グリシン塩などのアミノ酸塩；トリメチルアミン
塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、プロカイン塩、
ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルエチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、
ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、トリ
ス（ヒドロキシメチルアミノ）メタン塩、フェネチルベ
ンジルアミン塩などのアミン塩などが挙げられる。
【００４５】本発明化合物（１）は、例えば次に示す方
法によって製造することができる。
【００４６】１）製法１
【００４７】一般式（２）
【００４８】
【化４２】
【００４９】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 および
【００５０】
【化４３】
【００５１】は、前記と同じ意味を示す。）
【００５２】で表わされる化合物またはその塩を、一般
式（３）
【００５３】
【化４４】
【００５４】（式中、Ａ及びＲ1 は前記と同じ意味を示
し、そしてＲ6 はアミノ基または保護されたアミノ基を
示す。）
【００５５】で表わされる化合物またはその反応性酸誘
導体またはそれらの塩と反応させ、必要によりアミノ
基、カルボキシル基または水酸基の保護基を離脱し、あ
るいはカルボキシル基を保護基で保護することにより一
般式（１）で表わされる化合物またはその塩を得る。
【００５６】Ｒ6 におけるアミノ基の保護基としては、
カルバモイル基、脂肪族アシル基、芳香環または複素環
を含むアシル基、スルホニル基あるいはベンジリデン基
が挙げられる。
【００５７】アシル基およびスルホニル基の例としては
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブ
チリル、バレリル、イソバレリル、オキサリル、サクシ
ニル、ピバロイル等のアルカノイル基、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、１
−シクロプロピルエトキシカルボニル、イソプロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカル
ボニル、ペンチルオキシカルボニル、第３級ペンチルオ
キシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等のアルコ
キルカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル、フェネ
チルオキシカルボニル等のアラルコキシカルボニル基、
メシル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソ
プロパンスルホニル、ブタンスルホニル等のアルカンス
ルホニル基、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル
等のアレーンスルホニル基、ベンゾイル、トルオイル、
ナフトイル、フタロイル、インダンカルボニル等のアロ
イル基、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル等の
アラルカノイル基、フェノキシアセチル、フェノキシプ
ロピオニル等のアリールオキシアルカノイル基、フロイ
ル、テノイル、ニコチノイル等の複素環カルボニル基、
チエニルグリオキシロイル、チアゾリルグリオキシロイ
リル等の複素環グリオキシロイル基、チエニルアセチ
ル、チアゾリルアセチル等の複素環アルカノイル基等が
挙げられる。これらの基は、例えば塩素、臭素、沃素、
弗素を含むハロゲン、ニトロ基、アミノ基、ホルミルア
ミノ、アセチルアミノ等のアルカノイルアミノ基、シア
ノ基、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル等のアルキル基、ビニル、アリル等のアルケニル基、
式＝Ｎ−ＯＲ5 （式中Ｒ5 は水素、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
のアルキル基、ビニル、プロペニル等のアルケニル基、
エチニル、プロピニル等のアルキニル基を意味する）で
示される基等の適当な置換分を１個以上有してもよい。
【００５８】さらにベンジリデン基の例としては、ベン
ジリデン基、ｐ−ニトロベンジリデン基、ｍ−ニトロベ
ンジリデン基、３，４−メチレンジオキシベンジリデン
基、ｍ−クロルベンジリデン基などが挙げられる。
【００５９】化合物（３）は縮合剤〔カルボジイミド
（Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミドなど）、
カルボニル化合物（カルボニルジイミダゾールなど）、
イソキサゾリウム塩、アシルアミノ化合物（２−エトキ
シ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキシキ
ノリンなど）〕の存在下に反応させてもよい。またその
反応性酸誘導体としては酸無水物｛対称酸無水物、混合
酸無水物〔鉱酸（リン酸、硫酸、炭酸半エステルな
ど）、有機酸（アルカン酸、アラルカン酸、スルホン酸
など）との混合酸無水物など〕｝、酸ハロゲン化物、活
性エステル〔Ｎ−ヒドロキシ化合物とのエステル（Ｎ−
ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミ
ドなどとのエステル）〕、チオールエステル（アラルキ
ルチオールエステル、異項環チオールエステルなど）、
アリールエステル（フェニルエステル、ハロフェニルエ
ステル、ニトロフェニルエステルなど）を用いる。
【００６０】上記反応はジクロロメタン、クロロホル
ム、テトラハイドロフラン、アセトン、酢酸エチル、メ
タノール、エタノール、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン等の不活性溶媒中、反応温度−５０℃〜＋５０℃で行
うことができる。
【００６１】保護基の離脱、カルボキシル基を保護基で
の保護、造塩反応は常法により行なうことができる。
【００６２】保護されたカルボキシル基の脱保護は酸の
存在下、加水分解によりなしえる。好適な酸としては、
例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、酢
酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸等の有機酸、三フッ化ホウ素、三塩化アル
ミニウム、塩化第二スズ、塩化第二鉄、四塩化チタン、
塩化亜鉛等のルイス酸があげられる。必要に応じて、ア
ニソール等の陽イオン捕捉剤の存在化に反応を行なうの
が好ましい。
【００６３】加水分解は通常、水、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、テトラハイドロフラン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジオキサン、塩化メチレン等の
不活性溶媒またはそれらの混合溶媒で行なわれる。ま
た、上記酸を溶媒として用いてもよい。反応は、通常−
７８℃〜８０℃で行なうことができるが、好ましくは氷
冷下から室温下で行なわれる。
【００６４】Ｒ4 がカルボキシル基またはその塩の場合
保護基で保護する方法は、常法により行えばよく、例え
ばエステル化の方法は必要に応じてアルカリ金属塩化、
または有機アミン塩化し、アルコール反応誘導体と反応
させることにより行ないえる。
【００６５】アルカリ金属塩化は、酢酸ソーダ、酢酸カ
リウム、２−エチルヘキサン酸ソーダ、２−エチルヘキ
サン酸カリウム等の有機酸アルカリ金属塩、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の
アルカリ金属炭酸塩などを用いて行なわれる。有機アミ
ン塩化はトリメチルアミン、トリエチルアミン、ジクロ
ロヘキシルアミン、ピリジンなどを用いて行なわれる。
【００６６】反応は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、テトラハイドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジオキサン、塩化メチレン、酢酸
エチル、酢酸メチル、アセトニトリル等の不活性溶媒ま
たはそれらの混合溶媒で行なわれる。
【００６７】アルコール反応誘導体との反応は通常、
水、メタノール、エタノール、プロパノール、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、アセトン、テトラハイドロフラン、ジオキサン、塩
化メチレン、酢酸エチル、酢酸メチル、アセトニトリ
ル、ベンゼン、トルエン等の不活性溶媒またはそれらの
混合溶媒で行なわれる。また、反応は、通常−７８℃〜
８０℃で行なうことができるが、好ましくは氷冷下から
室温下で行なわれる。
【００６８】保護されたアミノ基の脱保護は通常の方法
に従い酸の存在下に行ないえる。好適な酸としては、例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、酢酸、
トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸等の有機酸があげられる。
【００６９】反応は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトン、テトラハイ
ドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン等の不活性溶媒
またはそれらの混合溶媒で行なわれる。また、反応は、
通常−５０℃〜５０℃で行なうことができるが、好まし
くは氷冷下から室温下で行なわれる。
【００７０】２）製法２
【００７１】一般式（４）
【００７２】
【化４５】
【００７３】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 および
【００７４】
【化４６】
【００７５】は前記と同じ意味を示す。Ｘはハロゲン原
子を示す。）
【００７６】で表わされる化合物またはその塩とチオ尿
素を反応させ、必要によりカルボキシル基の保護基を離
脱し、あるいはカルボキシル基を保護基で保護すること
により一般式（５）：
【００７７】
【化４７】
【００７８】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 および
【００７９】
【化４８】
【００８０】は、前記と同じ意味を示す。）
【００８１】で表わされる化合物またはその塩を製造す
ることができる。
【００８２】反応は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、蟻酸、酢酸、アセト
ン、テトラハイドロフラン、ジオキサン、塩化メチレ
ン、酢酸エチル、酢酸メチル、アセトニトリル、ベンゼ
ン、トルエン等の不活性溶媒またはそれらの混合溶媒で
行なわれる。また、反応は、通常−７８℃〜８０℃で行
なうことができるが、好ましくは氷冷下から室温下で行
なわれる。
【００８３】３）製法３
【００８４】一般式（１１）
【００８５】
【化４９】
【００８６】（式中、Ｒ1 、Ｒ4 、Ｒ6 は前記と同様の
意味を有する。）
【００８７】で表わされる化合物またはその塩にＮ，
Ｎ’−カルボニルジイミダゾールを反応させ反応性誘導
体に導いた後、式
【００８８】
【化５０】
【００８９】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 および
【００９０】
【化５１】
【００９１】は、前記と同様の意味を有する。）
【００９２】で表わされる化合物またはその塩と反応さ
せ、必要により、アミノ基、水酸基またはカルボキシル
基の保護基を常法により脱離させ、更に必要によりカル
ボキシル基を保護基で保護することにより一般式（１）
で表わされる化合物およびその塩を製造することができ
る。保護基の離脱等は製法１に記載した常法により行な
うことができる。
【００９３】上記の本発明化合物の製法１〜３におい
て、製造原料化合物（２）、（４）および（１１）に代
えて、それぞれのセフェム環のスルホキシド体を用いて
反応後、還元することにより、それぞれの目的化合物
（１）、および（５）を得ることもできる。
【００９４】次に本発明化合物の製造に利用される中間
体は例えば以下に示す方法によって製造することができ
る。
【００９５】ａ）製法Ａ
【００９６】一般式（９）
【００９７】
【化５２】
【００９８】（式中、Ｒ5 はアミノ基または保護された
アミノ基、Ｙは水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原
子またはニトロ基を示す。Ｙはこれらの基で同一または
異なって１〜５個置換されていてもよい。）
【００９９】で表わされる化合物またはその塩と式：
【０１００】
【化５３】
【０１０１】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 および
【０１０２】
【化５４】
【０１０３】は、前記と同じ意味を示す。）
【０１０４】で表わされる化合物またはその塩とを適当
な不活性溶媒中で反応させ、必要によりカルボキシル基
を保護することにより一般式（８）
【０１０５】
【化５５】
【０１０６】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 および
【０１０７】
【化５６】
【０１０８】は、前記と同じ意味を示す。）
【０１０９】で表わされる化合物またはその塩を製造す
ることができる。
【０１１０】反応は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、テ
トラハイドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、ベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム等の
不活性溶媒またはそれらの混合溶媒中で行なわれる。
【０１１１】反応は、通常−７８℃〜８０℃で行なうこ
とができるが、好ましくは氷冷下から室温下で行なわれ
る、反応時間は通常１０分から１時間行なうだけで十分
である。
【０１１２】Ｒ5 におけるアミノ基の保護基としては前
記のＲ6 におけるアミノ基の保護基と同じである。
【０１１３】目的に応じてアミノ基の保護基を離脱し、
あるいはカルボキシル基を保護基で保護することにより
本発明化合物（１）の中間体として使用することができ
る。アミノ基の脱保護、カルボキシル基の保護化は製法
１の項に記載した常法により行なうことができる。
【０１１４】ｂ）製法Ｂ
【０１１５】一般式（１２）
【０１１６】
【化５７】
【０１１７】（式中、Ｒ4 およびＲ5 は前記と同じ意味
を示す。）
【０１１８】で表わされる化合物またはその塩と塩基の
存在下にホスゲンまたはホスゲン誘導体を反応させ一般
式（７）で表わされる化合物を得る。
【０１１９】
【化５８】
【０１２０】（式中、Ｒ4 およびＲ5 は前記と同じ意味
を示す。）
【０１２１】続いて、式
【０１２２】
【化５９】
【０１２３】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 および
【０１２４】
【化６０】
【０１２５】は、前記と同じ意味を示す。）
【０１２６】で表わされる化合物またはその塩と反応さ
せ、一般式（８）
【０１２７】
【化６１】
【０１２８】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 および
【０１２９】
【化６２】
【０１３０】は、前記と同じ意味を示す。）
【０１３１】で表わされる化合物を製造することができ
る。
【０１３２】上記反応において、好適な塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属、アルカ
リ土類金属水酸化物、炭酸塩、トリエチルアミン、トリ
ブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、トル
イジン、ルチジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンな
どの三級アミンがあげられる。
【０１３３】ホスゲンあるいはホスゲン誘導体として
は、トリクロロメチルクロロフォルメート、ビス（トリ
クロロメチル）カーボネートがあげられる。
【０１３４】これら反応の溶媒としては、通常、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、アセトン、アセトニトリル、
テトラハイドロフラン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、酢酸エチルなどの不活性溶媒またはそれらの混合液
が使用される。また反応は、通常−１００℃から３０℃
で行なうことができるが、好ましくは−７８℃から０℃
で行なわれる。
【０１３５】目的に応じて、アミノ基またはカルボキシ
ル基の保護基を離脱し、あるいはカルボキシル基を保護
基で保護することにより本発明化合物（１）の中間体と
して使用できる。脱保護等は製法１の項に記載した常法
により行なうことができる。
【０１３６】ｃ）製法Ｃ
【０１３７】一般式（１３）
【０１３８】
【化６３】
【０１３９】（式中、Ｒ4 は前記と同じ意味を示し、R5
a は保護されたアミノ基を示す。）
【０１４０】で表わされる化合物あるいはそれらの塩と
Ｎ，Ｎ′−カルボニルジイミダゾールを反応させ活性誘
導体へと導いた後、式
【０１４１】
【化６４】
【０１４２】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 および
【０１４３】
【化６５】
【０１４４】は、前記と同じ意味を示す。）
【０１４５】で表わされる化合物またはその塩と反応さ
せ、必要によりアミノ基を脱保護することにより、一般
式（８）
【０１４６】
【化６６】
【０１４７】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 および
【０１４８】
【化６７】
【０１４９】は、前記と同じ意味を示す。）
【０１５０】で表わされる化合物を製造することができ
る。
【０１５１】反応は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、テ
トラハイドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、ベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム等の
不活性溶媒またはそれらの混合溶媒中で行なわれる。
【０１５２】目的に応じて、アミノ基またはカルボキシ
ル基の保護基を離脱し、あるいはカルボキシル基を保護
基で保護することにより本発明化合物（１）の中間体と
して使用すればよい。脱保護等は製法１の項に記載した
常法により行なうことができる。
【０１５３】ｄ）製法Ｄ
【０１５４】一般式（２）の化合物またはその塩と、
式：
【０１５５】ＸＣＨ2 ＣＯＣＨ2 ＣＯＯＨ
【０１５６】（式中、Ｘはハロゲン原子を示す。）
【０１５７】で表わされる化合物、その塩またはそのカ
ルボキシル基反応性誘導体を反応させることにより一般
式（１４）
【０１５８】
【化６８】
【０１５９】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｘおよび
【０１６０】
【化６９】
【０１６１】は、前記と同じ意味を示す。）
【０１６２】で表される化合物を得ることができる。
【０１６３】反応性誘導体としては、酸塩化物、酸臭化
物等のような酸ハロゲン化物が挙げられ、これらの酸ハ
ロゲン化物はジケテンとハロゲンとの反応によって得ら
れる。
【０１６４】反応は通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトン、テトラハイ
ドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、酢酸エチル、
酢酸メチル、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、ピ
リジン等の不活性溶媒またはそれらの混合溶媒で行なわ
れる。また、反応は、通常−７８℃〜８０℃で行なうこ
とができるが、好ましくは氷冷下から室温下で行なわれ
る。
【０１６５】次いで一般式（１４）の化合物またはその
塩とニトロソ化剤を反応させることにより一般式
（４）：
【０１６６】
【化７０】
【０１６７】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｘおよび
【０１６８】
【化７１】
【０１６９】は前記と同じ意味を示す。）
【０１７０】で表わされる化合物またはその塩を製造す
ることができる。
【０１７１】ニトロソ化剤としては、亜硝酸およびその
誘導体、例えば亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の
亜硝酸アルカリ金属、亜硝酸ブチル、亜硝酸ペンチル、
亜硝酸アミル等の亜硝酸アルキル等が挙げられる。亜硝
酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸アルカリ金属
を使用する場合には、塩酸、硫酸、蟻酸、酢酸等の無機
あるいは有機酸の存在化で行なうのが好ましい。
【０１７２】この反応は通常、水、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
アセトン、テトラハイドロフラン、ジオキサン、塩化メ
チレン等の不活性溶媒またはそれらの混合溶媒で行なわ
れる。また、反応は、通常−７８℃〜８０℃で行なうこ
とができるが、好ましくは氷冷下から室温下で行なわれ
る。
【０１７３】ｅ）製法Ｅ
【０１７４】一般式（１５）
【０１７５】
【化７２】
【０１７６】（式中、Ｒ5 は前記と同じ意味を示し、R4
a は保護されたカルボキシル基を示す。）
【０１７７】で表わされる化合物またはその塩と、一般
式（１６）
【０１７８】
【化７３】
【０１７９】（式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を示
す。）
【０１８０】で表わされる化合物とを塩基の存在下に反
応させることにより一般式（１７）：
【０１８１】
【化７４】
【０１８２】（式中、R4 a 、Ｒ5 およびＹは前記と同じ
意味を示す。）
【０１８３】で表わされる化合物またはその塩が高収率
で得られる。
【０１８４】次いでカルボキシル基の保護基を脱保護す
ることにより一般式（９）：
【０１８５】
【化７５】
【０１８６】（式中、Ｒ5 およびＹは前記と同じ意味を
示す。）
【０１８７】で表わされる化合物またはその塩を製造す
ることができる。カルボキシル基の脱保護法は製法１に
記載した常法により行なうことができる。
【０１８８】一般式（１５）で表わされる化合物の塩類
としては例えばアルカリ金属塩（ナトリウム塩、カリウ
ム塩など）アルカリ土類金属塩（カルシウム塩、マグネ
シウム塩など）アンモニウム塩、有機アミン塩（トリメ
チルアミン塩、トリエチルアミン塩など）、有機酸塩
（ギ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、トルエンスルホン酸塩
など）無機酸塩（塩酸塩、硫酸塩など）があげられる。
【０１８９】好適な塩基としては、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化マグネ
シウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属塩またはア
ルカリ土類金属塩、或は酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム等の有機酸アルカ
リ金属塩、アルカリ土類金属塩、或はトリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジ
ン、トルイジン、ルチジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピ
リジンなどの三級アミンがあげられる。
【０１９０】反応は通常、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、アセトン、アセトニトリル、テトラハイドロフラ
ン、ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、酢酸
エチル、酢酸メチル、ベンゼン、トルエン、ヘキサンな
どの不活性溶媒またはそれらの混合液中で行なわれる。
【０１９１】反応は、通常−７８℃〜８０℃で行なうこ
とができるが、好ましくは氷冷下から室温下で行なわれ
る。
【０１９２】上記の中間体化合物の製法Ａ〜Ｅにおいて
製造原料化合物（９）、（１２）、（１３）、（１４）
および（１５）に代えて、それぞれのスルホキシド体を
用いて反応後還元することによりそれぞれの目的化合物
（８）、（４）および（９）を得ることもできる。
【０１９３】上記中間体のうち、化合物（２）に含まれ
る下記化合物（６）
【０１９４】
【化７６】
【０１９５】（式中、R2 a 及びR3 a は同一または異なっ
て低級アルキル基、ヒドロキシ置換低級アルキル基、ま
たはシアノ置換低級アルキル基を示すか、あるいは式：
【０１９６】
【化７７】
【０１９７】で示される基は、窒素原子１個を含有する
４−６員複素環式基またはモルホリノ基を示し、それら
は低級アルキル基、水酸基または水酸基置換低級アルキ
ル基で置換されていてもよい。Ｒ4 はカルボキシル基ま
たは保護基で保護されたカルボキシル基Ｒ5 はアミノ基
または保護されたアミノ基を示す。）
【０１９８】で表わされる化合物、化合物（４）および
化合物（９）は新規化合物である。
【０１９９】
【発明の効果】次に本発明化合物の効果を、下記実施例
で得られた代表的な化合物について、各種細菌に対する
最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）、経口投与による尿中排泄
率、invivo での呼吸器感染モデルマウスに対する治療
実験結果を示す。
【０２００】ａ）各種細菌に対するＭＩＣを常法により
測定した結果を表１に示す。
【０２０１】
【表１】
【０２０２】表１において、化合物Ａは次のとおりであ
る。
【０２０３】化合物Ａ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−カ
ルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸
【０２０４】表１に示す如く、本発明の化合物は優れた
抗菌活性を示し、特にヘモフィルス・インフルエンザ菌
に強い抗菌力を有する有用な化合物である。
【０２０５】ｂ）バイオアベイラビリティ 本発明の代表的化合物を、ＣＭＣ−Ｎａ溶液の懸濁液と
し、２０ｍｇ／ｋｇの割合でマウスに経口投与し、６時
間後までの尿を採集し、尿中回収率およびバイオアベイ
ラビリティ(bioavailability) を表２に示した。
【０２０６】
【表２】
【０２０７】表２において、化合物Ｂ、化合物Ｃ及び化
合物Ｄは、次のとおりである。
【０２０８】化合物Ｂ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−カ
ルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ピバロイルオキシメチルエステル
【０２０９】化合物Ｃ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−カ
ルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 １−（イソプロピルオキシカルボニルオキシ）エチ
ルエステル
【０２１０】化合物Ｄ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３−カルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ピ
バロイルオキシメチルエステル
【０２１１】ｃ）呼吸器感染マウス治療効果 菌液をマウス鼻腔内に接種し、ヘモフィルス・インフル
エンザエ(H・influenzae) の場合は１時間後に、また、
クレブシェラ・ニューモニアエ(K・pneumoniae) の場合
は４時間後に、各化合物のＣＭＣ−Ｎａ溶液の懸濁液を
経口投与する。感染２４時間後に肺内菌数を測定する。
測定限界は、次のとおりである。
【０２１２】Ｌｏｇ ＣＦＵ／Ｌｕｎｇ＝１．４８
【０２１３】ここにＣＦＵはコロニー形成単位(Colony
Forming Unit) を示す。
【０２１４】そして、コロニーが、０（零）の場合、消
失(eradication) したとみなして、Ｌｏｇ ＣＦＵ／Ｌ
ｕｎｇ＝１として計算する。その結果を表３及び表４に
示した。
【０２１５】
【表３】
【０２１６】表３において、化合物Ｅ及び化合物Ｆは、
次のとおりである。
【０２１７】化合物Ｅ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−（イソ
プロピルオキシカルボニルオキシ）エチルエステル
【０２１８】化合物Ｆ ７−〔（Ｚ）−２（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸
【０２１９】
【表４】
【０２２０】表４において、化合物Ｃは表２に記載した
ものと同一であり、また化合物Ｆは表３に記載したもの
と同一である。
【０２２１】以上の如く、本発明化合物は優れた経口抗
菌剤としての性格を有するものである。
【０２２２】本発明化合物の急性毒性値〔ＬＤ50（マウ
ス、経口）〕はいずれも２ｇ／ｋｇ以上であった。
【０２２３】本発明化合物を抗菌剤として使用する際に
は、通常１日１００ｍｇ〜５ｇを１〜４回にわけて経口
あるいは非経口的に投与することができる。なお、その
投与量は年齢、症状により増減される。
【０２２４】製剤としては、錠剤、顆粒剤、散剤、カプ
セル剤、シロップ剤、液剤などが挙げられる。これら
は、公知の製剤担体を加え、常法により製造することが
できる。
【０２２５】
【実施例】
【０２２６】次に実施例を示し、本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【０２２７】なお、本発明化合物を製造する際の出発物
質は製造例として掲げた。
【０２２８】本文中の簡略表示は次のとおりである。
【０２２９】Ｔｒ：（Ｃ6 Ｈ5 ）3 Ｃ− 基 ＢＨ：（Ｃ6 Ｈ5 ）2 ＣＨ− 基 Ｍｅ：メチル基
【０２３０】製造例１ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル−１−オキシド
【０２３１】
【化７８】
【０２３２】７−チエニルアセトアミド−３−ハイドロ
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リル３０ｇ（０．０５８モル）のテトラハイドロフラン
６００ｍｌ溶液を氷冷下に攪拌し、Ｎ，Ｎ′−カルボニ
ルジイミダゾール１１．２５ｇ（０．０６９モル）を加
え、さらに氷冷下で３時間攪拌した。反応混合物に酢酸
エチル１リットルを加え、水４００ｍｌで洗浄した。有
機層を氷冷下に攪拌し５０％ジメチルアミン水溶液１２
ｇ（０．０７５モル）を加え１時間反応させた。反応液
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して、７−チエ
ニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルと７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルカルバモイルオキシメチル−２−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルの混合物２４ｇを得た。
【０２３３】この混合物のテトラハイドロフラン４００
ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸２０ｇ（０．１１６
モル）を溶かしたテトラハイドロフラン１００ｍｌ溶液
を数回に分けて加え、氷冷下１時間半攪拌した。この反
応混合物を減圧濃縮し、残留物をエーテルで洗浄した。
再度、減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、目的物を７．５ｇ得た。（収率２１％）
【０２３４】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８４（３Ｈ，ｓ），２．９２（３Ｈ，ｓ），３．２
３，３．８８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．８
８（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），
４．７８，５．３４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８Ｈｚ），
６．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，８Ｈｚ），６．９
０〜７．１０（２Ｈ，ｍ），６．９７（１Ｈ，ｓ），
７．２〜７．６（１１Ｈ，ｍ）
【０２３５】製造例２ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル
【０２３６】
【化７９】
【０２３７】前記操作で得た７−チエニルアセトアミド
−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル−１−オキ
シド５ｇ（８．２ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド５０ｍｌ溶液を氷冷下に攪拌し、三塩化リン２．
５ｇ（１８ミリモル）を加え、３０分攪拌した。酢酸エ
チル５００ｍｌを加え、水、次いで飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムを加えた。有機層を減圧濃縮
後、アセトンとイソプロピルエーテルで固化し、ろ取し
て目的物３．８ｇ（収率７９％）を得た。
【０２３８】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８２（３Ｈ，ｓ），２．９０（３Ｈ，ｓ），３．４
０，３．５５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．８
４（２Ｈ，ｓ），４．８１，５．０６（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１２Ｈｚ），４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），
５．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，８Ｈｚ），６．２
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｓ），
６．９８〜７．０２（２Ｈ，ｍ），７．２５〜７．４３
（１１Ｈ，ｍ）
【０２３９】製造例３ ７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
塩酸塩
【０２４０】
【化８０】
【０２４１】五塩化リン２．８ｇ（１３ミリモル）、ピ
リジン１．０４ｇ（１３ミリモル）の塩化メチレン８０
ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、前記操作で得た７−チエ
ニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリル１．６ｇ（２．７ミリモル）を加え、同温度で１
時間攪拌した。−２０℃まで冷却後、１，３−プロパン
ジオール１ｍｌを加え、同温度で１時間攪拌した。メタ
ノール１０ｍｌを加え、室温まで上昇させた後、水５０
ｍｌを加え洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮後、残留物をエーテルとイソプロピル
エーテルで固化して目的物１．０ｇ（収率７４％）を得
た。
【０２４２】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８３（３Ｈ，ｓ），２．９０（３Ｈ，ｓ），３．４
３，３．５８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．８
０，５．０６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），４．８
（１Ｈ，ｍ），４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），
６．９８（１Ｈ，ｓ），７．２５〜７．５０（１０Ｈ，
ｍ）
【０２４３】上記操作で得た塩酸塩１．０ｇを酢酸エチ
ルに溶かし、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和し、
有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、７−アミノ−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル０．９ｇを得た。
【０２４４】製造例４ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０２４５】
【化８１】
【０２４６】（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸１．
９ｇ（２．８ミリモル）と１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベン
ズトリアゾール０．４ｇ（２．９ミリモル）、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド０．６ｇ（２．９ミリモル）の
ジメチルホルムアミド溶液２０ｍｌを室温で３０分攪拌
後、前記操作で得た７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリル１．３ｇ（２．８ミリモル）を加え
３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル３００ｍｌを加
え、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムグラフィーにて
精製を行い、目的物１．４ｇ（収率４５％）を得た。
【０２４７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８２（３Ｈ，ｓ），２．９１（３Ｈ，ｓ），３．３
６，３．４８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．８
１，５．１４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．０
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），６．０８（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝４Ｈｚ，８Ｈｚ），６．４３（１Ｈ，ｓ），６．８
０（１Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｓ），７．１８〜
７．５０（４２Ｈ，ｍ）
【０２４８】製造例５ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル−１−オキシド
【０２４９】
【化８２】
【０２５０】製造例１と同様にして上記化合物を得た。
（収率９％）
【０２５１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．０〜１．１８（３Ｈ，ｍ），３．８０（３／２Ｈ，
ｓ），３．８６（３／２Ｈ，ｓ），３．１８〜３．５
（３Ｈ，ｍ），３．８０〜３．９０（２Ｈ，ｍ），３．
８５（２Ｈ，ｓ），４．４４〜４．４６（１Ｈ，ｍ），
４．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ），５．２４〜５．
３８（１Ｈ，ｍ），６．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ，８Ｈｚ），６．９〜７．０２（４Ｈ，ｍ），７．２
３〜７．５０（１１Ｈ，ｍ）
【０２５２】製造例６ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル
【０２５３】
【化８３】
【０２５４】製造例２と同様にして上記化合物を得た。
（収率６６％）
【０２５５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．０〜１．１５（３Ｈ，ｍ），２．８（３／２Ｈ，
ｓ），２．８７（３／２Ｈ，ｓ），３．１８〜３．３５
（２Ｈ，ｍ），３．４０，３．５５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１８Ｈｚ），３．８６（２Ｈ，ｓ），４．８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），５．０５〜５．１５（１Ｈ，ｍ），５．８７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｓ），６．９５〜
７．０２（２Ｈ，ｍ），７．２〜７．５（１１Ｈ，ｍ）
【０２５６】製造例７ ７−アミノ−３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリル塩酸塩
【０２５７】
【化８４】
【０２５８】製造例３と同様にして上記化合物を得た。
（収率８１％）
【０２５９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．０〜１．１５（３Ｈ，ｍ），２．７８（３／２Ｈ，
ｓ），２．８５（３／２Ｈ，ｓ），３．１〜３．３５
（２Ｈ，ｍ），３．４０，３．６２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１８Ｈｚ），４．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．９８（１Ｈ，
ｍ），５．１７〜５．２３（１Ｈ，ｍ），６．９３（１
Ｈ，ｓ），７．１５〜７．４０（１０Ｈ，ｍ）
【０２６０】製造例８ ７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０２６１】
【化８５】
【０２６２】製造例４と同様にして上記化合物を得た。
（収率７２％）
【０２６３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．１〜１．２（３Ｈ，ｍ），２．７９（３／２Ｈ，
ｓ），２．８７（３／２Ｈ，ｓ），３．１８〜３．３５
（３Ｈ，ｍ），３．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），
４．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．０６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．０７〜５．１５（１Ｈ，
ｍ），６．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ），
６．４３（１Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｓ），６．９
５（１Ｈ，ｓ），７．１〜７．４（４０Ｈ，ｍ），７．
４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【０２６４】製造例９ ７−チエニルアセトアミド−３−（１−モルホリニル）
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル−１−オキシド
【０２６５】
【化８６】
【０２６６】製造例１と同様にして上記化合物を得た。
（収率５３％）
【０２６７】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ３．３〜３．４（４Ｈ，ｍ），３．５〜３．６（４Ｈ，
ｍ），３．６４，４．０３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈ
ｚ），４．６２，５．１７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈ
ｚ），４．９５〜５．００（１Ｈ，ｍ）， ５．９５〜
６．００（１Ｈ，ｍ），６．９８〜７．０５（３Ｈ，
ｍ），７．１〜７．６（１１Ｈ，ｍ），８．４７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【０２６８】製造例１０ ７−チエニルアセトアミド−３−（１−モルホリニル）
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル
【０２６９】
【化８７】
【０２７０】製造例２と同様にして上記化合物を得た。
（収率５２％）
【０２７１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ３．３〜３．５（４Ｈ，ｍ），３．５５〜３．７０（４
Ｈ，ｍ），３．４０，３．５８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
９Ｈｚ），３．８７（２Ｈ，ｓ），４．８２，５．０９
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ），４．９７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，
８Ｈｚ），６．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９
４（１Ｈ，ｓ），６．９５〜７．０５（２Ｈ，ｍ），
７．２５〜７．４５（１１Ｈ，ｍ）
【０２７２】製造例１１ ７−アミノ−３−（１−モルホリニル）カルボニルオキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル塩酸塩
【０２７３】
【化８８】
【０２７４】製造例３と同様にして上記化合物を得た。
（収率６２％）
【０２７５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ３．３〜３．５（５Ｈ，ｍ），３．５〜３．８（５Ｈ，
ｍ），４．９８，５．２４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈ
ｚ），５．０〜５．１（１Ｈ，ｍ），５．１４〜５．１
７（１Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｓ），７．２〜７．
５（１０Ｈ，ｍ）
【０２７６】製造例１２ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−（１−モルホリニル）カルボニルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０２７７】
【化８９】
【０２７８】製造例４と同様にして上記化合物を得た。
（収率５９％）
【０２７９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ３．２６，３．５０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），
３．３〜３．７（８Ｈ，ｍ），４．８２，５．１１（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ），５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈ
ｚ），６．４４（１Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），６．９６（１Ｈ，ｓ），７．１５〜７．５（４１
Ｈ，ｍ）
【０２８０】製造例１３ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセタミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０２８１】
【化９０】
【０２８２】五塩化りん（３．４ｇ）とピリジン（１．
３ｇ）のジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液に氷冷下で
７−チエニルアセタミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリル（２ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（６ｍｌ）とジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液を加
え、同温度で３０分間攪拌する。次いで反応液にドライ
アイス−メタノール（−５０℃）冷却下１，３−ブタン
ジオール（４ｍｌ）を加え、同温度で５０分間攪拌す
る。反応液に同温度でメタノール（４ｍｌ）を加え、ド
ライアイス−メタノール浴をはずし、室温に戻るまで放
置する。反応液に水、ジクロロメタンを加え、ジクロロ
メタン層を分取し、さらに水層をジクロロメタンで抽出
する。ジクロロメタン層を水、飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶
媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸エチルに溶解させ、
希炭酸水素ナトリウム水溶液（原料に対し１．１当量の
炭酸水素ナトリウムを含む）で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下に留去する。残渣を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍｌ）に溶解さ
せ、これに（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸（１．５３
ｇ）、１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンズトリアゾール
（０．５５ｇ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド
（０．７８ｇ）を加え室温で２時間４０分攪拌する。反
応液に酢酸エチル、水を加え、酢酸エチル層を分取し、
さらに水層を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を合
し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後硫酸マ
グネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下に留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセタミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（１．４６ｇ，４
８．２％）を得る。
【０２８３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８３（３Ｈ，ｓ），２．８９（３Ｈ，ｓ），３．３
６，３．５０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．８Ｈｚ），
４．０４（３Ｈ，ｓ），４．８４，５．１０（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ），５．９２〜５．９６（１Ｈ，ｍ），６．
７６（１Ｈ，ｓ），６．９４（１Ｈ，ｓ），７．２０〜
７．４５（２５Ｈ，ｍ）
【０２８４】製造例１４ ７−〔（Ｚ）−２−（５−トリチルアミノ−１，２，４
−チアジアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノア
セタミド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０２８５】
【化９１】
【０２８６】製造例１３と同様にして、上記化合物を得
た。（収率７１％）
【０２８７】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） ２．６５〜２．８７（６Ｈ，ｍ），３．４７，３．７２
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．５Ｈｚ），４．０７（３
Ｈ，ｓ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），
５．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），６．９３（１
Ｈ，ｓ），７．２５〜７．４５（２５Ｈ，ｍ）
【０２８８】製造例１５ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾ−ル−
４−イル）−２−モノフルオロメトキシイミノアセタミ
ド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０２８９】
【化９２】
【０２９０】製造例１３と同様にして、上記化合物を得
た。（収率６４％）
【０２９１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８２（３Ｈ，ｓ），２．８６（３Ｈ，ｓ），３．４
３，３．５６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．７Ｈｚ），
４．８２，５．０９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．９Ｈ
ｚ），５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．７
２，５．８６（２Ｈ，ＡＢｑ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，５
５Ｈｚ），５．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，
８．４Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｓ），６．９３（１
Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），
７．２８〜７．４５（２５Ｈ，ｍ）
【０２９２】製造例１６ ７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−２−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル
【０２９３】
【化９３】
【０２９４】７−ホルムアミド−３−ヒドロキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（４．
２４ｇ）のテトラヒドロフラン（８０ｍｌ）溶液にＮ，
Ｎ′−カルボニルジイミダゾール（１．６２ｇ）を氷冷
下加え、同温度で１時間２５分間攪拌する。次いでこれ
にピペリジン（０．８５ｇ）のテトラヒドロフラン（１
０ｍｌ）溶液を加え同温度で１時間２０分間、さらに室
温で１時間攪拌する。これにピペリジン（０．１７ｇ）
を加え、室温で１１時間１０分間攪拌し、反応液を減圧
下濃縮する。残渣を酢酸エチルに溶解させ、１規定塩
酸、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下に留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
すると、７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）
カルボニルオキシメチル−２−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル（２．３ｇ，４３．０％）を得た。
【０２９５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２０〜１．４０（６Ｈ，ｍ），３．３０〜３．４０
（４Ｈ，ｍ），４．５７，４．６６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１２．８Ｈｚ），５．１３（１Ｈ，ｓ），５．２２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），５．７０〜５．７５
（１Ｈ，ｍ），６．４４（１Ｈ，ｓ），６．８９（１
Ｈ，ｓ），７．２５〜７．４０（１０Ｈ，ｍ），８．２
３（１Ｈ，ｓ）
【０２９６】製造例１７ ７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル−１−オキサイド
【０２９７】
【化９４】
【０２９８】７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニ
ル）カルボニルオキシメチル−２−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル（３．４ｇ）の酢酸エチル（２０
ｍｌ）溶液にｍ−クロロ過安息香酸（１．５３ｇ）を氷
冷下加え、同温度で５５分間攪拌する。次いでこれにｍ
−クロロ過安息香酸（０．１５ｇ）を加え氷冷下３５分
間攪拌する。析出結晶をろ取する。母液は減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
析出結晶とあわせて７−ホルムアミド−３−（１−ピペ
リジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル−１−オキサイド（１．５
３ｇ，４３．７％）を得た。
【０２９９】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） １．３５〜１．５５（６Ｈ，ｍ），３．２３〜３．３０
（４Ｈ，ｍ），３．６５，４．０１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１８．７Ｈｚ），４．５８，５．１１（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
３．７Ｈｚ），６．０５（１Ｈ，ｍ），６．９３（１
Ｈ，ｓ），７．２５〜７．５５（１０Ｈ，ｍ），８．１
５（１Ｈ，ｓ），８．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈ
ｚ）
【０３００】製造例１８ ７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル
【０３０１】
【化９５】
【０３０２】７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニ
ル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル−１−オキサイド（２．０７ｇ）
のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２５ｍｌ）溶液に三
塩化リン（１ｍｌ）をドライアイス−エタノールで冷却
下（−６０℃）加え、３５分間攪拌する。ドライアイス
−エタノール冷却下に反応液に酢酸エチル、水を順次加
え、次いで室温まで戻す。酢酸エチル層を分取し、水層
はさらに酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を合し、
水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、７−ホ
ルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニルオキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（１．８７ｇ，９３．０％）を得た。
【０３０３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．３５〜１．５５（６Ｈ，ｍ），３．２０〜３．３５
（４Ｈ，ｍ），３．３５，３．４６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１８．７Ｈｚ），４．７６，５．０３（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ），４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
３．５Ｈｚ），５．８０〜５．８５（１Ｈ，ｍ），６．
８６（１Ｈ，ｓ），７．１４〜７．４０（１０Ｈ，
ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），８．１
５（１Ｈ，ｓ）
【０３０４】製造例１９ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセタミド〕−
３−（１−ピペリジニル）カルボニルオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０３０５】
【化９６】
【０３０６】７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニ
ル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル（１．８７ｇ）のテトラヒドロフ
ラン−メタノール（１：１、２０ｍｌ）溶液に３６％塩
酸（２ｍｌ）を加え室温で２時間１０分攪拌する。次い
で溶媒を減圧下に留去し、残渣に酢酸エチル、水を加え
る。酢酸エチル層を分取し、水層はさらに酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層を合し、これを飽和塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで
溶媒を減圧下に留去する。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（１８ｍｌ）に溶解し、これに（Ｚ）−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２−ト
リチルオキシイミノ酢酸（２．３５ｇ）、１−ヒドロキ
シ−１Ｈ−ベンズトリアゾール（０．５６ｇ）、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（０．７９ｇ）を加え、室温
で１時間５分攪拌する。反応液に酢酸エチル、水を加
え、酢酸エチル層を分取し、水層はさらに酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層を合し、水、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥し、次い
で溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、７−〔（Ｚ）−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチル
オキシイミノアセタミド〕−３−（１−ピペリジニル）
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル（１．４ｇ，３３．７％）を得た。
【０３０７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．４２〜１．６４（６Ｈ，ｍ），３．２５〜３．４３
（４Ｈ，ｍ），３．２６，３．４８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１８．６Ｈｚ），４．８２，５．１２（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ），５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ），６．０５〜６．１２（１Ｈ，ｍ），６．
４４（１Ｈ，ｓ），６．９６（１Ｈ，ｓ），７．１５〜
７．４３（４０Ｈ，ｍ）
【０３０８】製造例２０ ７−ホルムアミド−３−（１−アゼチジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル
【０３０９】
【化９７】
【０３１０】製造例１６と同様にして、上記化合物を得
た。（収率５８％）
【０３１１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．１５〜２．２５（２Ｈ，ｍ），３．９０〜４．００
（４Ｈ，ｍ），４．５５，４．６１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１２．７Ｈｚ），５．１３（１Ｈ，ｓ），５．２１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），５．６９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，９．２Ｈｚ），６．４４（１Ｈ，
ｓ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），６．９
０（１Ｈ，ｓ），７．２８〜７．４０（１０Ｈ，ｍ），
８．２２（１Ｈ，ｓ）
【０３１２】製造例２１ ７−ホルムアミド−３−（１−アゼチジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル−１−オキサイド
【０３１３】
【化９８】
【０３１４】製造例１７と同様にして、上記化合物を得
た。（収率４４％）
【０３１５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．１５〜２．２５（２Ｈ，ｍ），３．２０，３．８２
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．９Ｈｚ），３．９０〜４．
０５（４Ｈ，ｍ），４．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），４．７２，５．２４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．
３Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，
ｓ），７．２０〜７．５０（１０Ｈ，ｍ），８．２１
（１Ｈ，ｓ）
【０３１６】製造例２２ ７−ホルムアミド−３−（１−アゼチジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル
【０３１７】
【化９９】
【０３１８】製造例１８と同様にして、上記化合物を得
た。（収率９７％）
【０３１９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．１５〜２．２５（２Ｈ，ｍ），３．４４，３．５７
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．７Ｈｚ），３．８５〜４．
１０（４Ｈ，ｍ），４．８３，５．０６（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ），４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ，９．２Ｈｚ），６．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈ
ｚ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．２５〜７．４５（１
０Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｓ）
【０３２０】製造例２３ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセタミド〕−
３−（１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０３２１】
【化１００】
【０３２２】製造例１９と同様にして、上記化合物を得
た。（収率９４％）
【０３２３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．１５〜２．２７（２Ｈ，ｍ），３．２６，３．５０
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．５Ｈｚ），３．８５〜４．
１０（４Ｈ，ｍ），４．８２，５．０８（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ），５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ），６．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ，８．８Ｈｚ），６．４７（１Ｈ，ｓ），６．９９
（１Ｈ，ｓ），７．１５〜７．５３（４０Ｈ，ｍ）
【０３２４】製造例２４ ７−ホルムアミド−３−〔Ｎ−（２−ハイドロキシエチ
ル）−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル〕−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルと７−ホルムア
ミド−３−〔Ｎ−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メ
チルカルバモイルオキシメチル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルの混合物
【０３２５】
【化１０１】
【０３２６】製造例１６と同様にして、上記化合物を得
た。（収率５１％）
【０３２７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．９０〜２．９７（３Ｈ，ｍ），３．２４〜３．３５
（２Ｈ，ｍ），３．４９，３．５９（１０／１２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），３．６１〜３．７０（２Ｈ，
ｍ），４．５７〜４．７６(1４／１２Ｈ，ｍ），４．８
６〜４．９０，５．０９〜５．１８（１０／１２Ｈ，
ｍ），４．９９（５／１２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．
１８（７／１２Ｈ，ｓ），５．２４（７／１２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ），５．６５〜５．６８（７／１２Ｈ，
ｍ），５．９３（５／１２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈ
ｚ），６．４７〜６．５０（７／１２Ｈ，ｍ），６．９
１（７／１２Ｈ，ｓ），６．９９（５／１２Ｈ，ｓ），
７．１５〜７．２０（１０Ｈ，ｍ），８．２２（１Ｈ，
ｓ）
【０３２８】製造例２５ ７−ホルムアミド−３−〔Ｎ−（２−ハイドロキシエチ
ル）−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル〕−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル−１−オキシド
【０３２９】
【化１０２】
【０３３０】製造例１７と同様にして、上記化合物を得
た。（収率４９％）
【０３３１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８７（３／２Ｈ，ｓ），２．９０（３／２Ｈ，
ｓ），３．２２〜３．２９（１Ｈ，ｍ），３．３６〜
３．４１（１Ｈ，ｍ），３．５９〜３．６２（１Ｈ，
ｍ），３．６９〜３．７１（１Ｈ，ｍ），３．９４，
４．０９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝２０Ｈｚ），４．４６〜
４．５６（１Ｈ，ｍ），４．７７〜４．８１（１Ｈ，
ｍ），５．２３〜５．２９（１Ｈ，ｍ），６．０８〜
６．１０（１Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｓ），８．２
２（１Ｈ，ｓ）
【０３３２】製造例２６ ７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−
〔Ｎ−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メチルカルバ
モイルオキシメチル〕−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル
【０３３３】
【化１０３】
【０３３４】製造例１９と同様にして、上記化合物を得
た。（収率１２％）
【０３３５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．９４〜２．９７（３Ｈ，ｍ），３．２４〜３．３０
（３Ｈ，ｍ），３．４３〜３．５２（３Ｈ，ｍ），４．
８０〜４．８３（１Ｈ，ｍ），５．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），５．１０〜５．１５（１Ｈ，ｍ），６．１
１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈｚ），６．４４（１
Ｈ，ｓ），６．９６（１Ｈ，ｓ），７．２〜７．４（４
０Ｈ，ｍ）
【０３３６】製造例２７ ７−ホルムアミド−３−Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−
メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル−１−オキシド
【０３３７】
【化１０４】
【０３３８】７−ホルムアミド−３−（１−イミダゾリ
ル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル−１−オキシド（５．４ｇ）のテ
トラヒドロフラン（９０ｍｌ）及び水（１８ｍｌ）混合
液に、ザルコシナミド塩酸塩（１．９ｇ）と、ピリジン
（１．２３ｍｌ）を加え、ついで室温で１５時間、４５
℃で１２時間攪拌した。反応混合液を濃縮し残渣に水と
酢酸エチルを加えた。酢酸エチル層を１Ｎ塩酸、水、飽
和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し目的物（７５０ｍｇ）を得た。（収率１５．０
％）
【０３３９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．７８（３Ｈ，ｍ），３．７８（２Ｈ，ｍ），３．５
〜４．１（２Ｈ，ｍ），４．９５（１Ｈ，ｍ），４．５
〜５．１（２Ｈ，ｍ），６．０３（１Ｈ，ｍ），６．９
（１Ｈ，ｍ），７．２〜７．５（１０Ｈ，ｍ），８．１
４（１Ｈ，ｓ），８．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【０３４０】製造例２８ ７−ホルムアミド−３−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−メチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリル
【０３４１】
【化１０５】
【０３４２】製造例１８と同様にして、上記化合物を得
た。（収率６６％）
【０３４３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．９４（３Ｈ，ｓ），３．４〜４．３（４Ｈ，ｍ），
４．８７，５．１５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），
５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），５．９６（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝４Ｈｚ，８Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），６．９４（１Ｈ，ｓ），７．２〜７．４５（１０
Ｈ，ｍ），８．２６（１Ｈ，ｓ）
【０３４４】製造例２９ ７−〔（Ｚ）−２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル
【０３４５】
【化１０６】
【０３４６】７−ホルムアミド−３−Ｎ−シアノメチル
−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリル（４３０ｍｇ）のメタ
ノール（６ｍｌ）及びテトラヒドロフラン（６ｍｌ）の
混合液に氷冷下、濃塩酸（０．８ｍｌ）を滴下し、室温
で２時間攪拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチルを加え
水、飽和重ソウ水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネ
シウムで乾燥し濃縮した。
【０３４７】得られた残渣（４１０ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（８ｍｌ）溶液に、（Ｚ）−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２−ト
リチルオキシイミノ酢酸（６１０ｍｇ）、ジシクロヘキ
シルカルボジイミド（１９７ｍｇ）、１−ヒドロキシ−
１Ｈ−ベンズトリアゾール（１２３ｍｇ）を加えて室温
で１０時間攪拌した。反応混合液に水、酢酸エチルを加
え、酢酸エチル層を水、１Ｎ塩酸、飽和重ソウ水、飽和
食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し目
的物（４６０ｍｇ）を得た。（収率４４．５％）
【０３４８】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８７（０．６Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．９６（０．４
Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．０８〜３．４８（２Ｈ，ｍ），
３．８〜４．３（２Ｈ，ｍ），４．７〜５．２（２Ｈ，
ｍ），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．１０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ），６．４５（１
Ｈ，ｓ），６．９６（１Ｈ，ｓ），７．１〜７．５（４
０Ｈ，ｍ）
【０３４９】製造例３０ ７−ホルムアミド−３−（３−ハイドロキシ−１−ピロ
リジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルおよび前記の２−セフェム
体
【０３５０】
【化１０７】
【０３５１】製造例１６と同様にして、上記化合物を得
た。（収率２８％）
【０３５２】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．９（２Ｈ，ｍ），３．２〜３．６（４Ｈ，ｍ），
４．４〜４．８（３Ｈ，ｍ），５．０１（０．３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．１７（０．７Ｈ，ｓ），５．２
３（０．７Ｈ，ｓ），５．７０（０．７Ｈ，ｍ），５．
９４（０．３Ｈ，ｍ），６．４８（１Ｈ，ｍ），６．９
１（０．７Ｈ，ｓ），６．９５（０．３Ｈ，ｓ），７．
２５〜７．４５（１０Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｍ）
【０３５３】製造例３１ ７−ホルムアミド−３−（３−ハイドロキシ−１−ピロ
リジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル−１−オキシド
【０３５４】
【化１０８】
【０３５５】製造例１７と同様にして、上記化合物を得
た。（収率６８％）
【０３５６】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） １．６〜１．９５（２Ｈ，ｍ），３．１〜３．４（４
Ｈ，ｍ），３．８４（２Ｈ，ｍ），４．８６（２Ｈ，
ｍ），４．９８（２Ｈ，ｍ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝９．８Ｈｚ，５Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｓ），
７．２４〜７．５３（１０Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，
ｓ），８．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ）
【０３５７】製造例３２ ７−ホルムアミド−３−（３−ハイドロキシ−１−ピロ
リジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル
【０３５８】
【化１０９】
【０３５９】製造例１８と同様にして、上記化合物を得
た。（収率７８％）
【０３６０】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．１６（２Ｈ，ｍ），３．３〜３．７（６Ｈ，ｍ），
４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．８〜５．２
（２Ｈ，ｍ），５．４８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），５．９３
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，５Ｈｚ），６．４８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．２
〜７．４（１Ｈ，ｓ），８．２４（１Ｈ，ｓ），
【０３６１】製造例３３ ７−〔（Ｚ）−２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−（３−ハイドロキシ−１−ピロリジニル）カルボ
ニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル
【０３６２】
【化１１０】
【０３６３】製造例１９と同様にして、上記化合物を得
た。（収率６％）
【０３６４】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．９７（２Ｈ，ｍ），３．１〜３．５（６Ｈ，ｍ），
４．２６（１Ｈ，ｂ），４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），４．７〜５．２（２Ｈ，ｍ），６．０５（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，５Ｈｚ），６．４６（１Ｈ，ｓ），
６．９４（１Ｈ，ｓ），７．１〜７．５（４０Ｈ，ｍ）
【０３６５】製造例３４ ７−ホルムアミド−３−〔（（Ｓ）−（＋）−２−ハイ
ドロキシメチル−１−ピロリジニル）カルボニルオキシ
メチル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルおよび前記の２−セフェム体
【０３６６】
【化１１１】
【０３６７】製造例１６と同様にして、上記化合物を得
た。（収率１６％）
【０３６８】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．７〜２．１（４Ｈ，ｍ），３．２〜４．０（４．４
Ｈ，ｍ），４．６５（１Ｈ，ｍ），４．６〜５．３
（１．２Ｈ，ｍ），４．８６，５．１５（０．８Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．０１（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５Ｈｚ），５．１８（０．６Ｈ，ｓ），５．２５（０．
６Ｈ，ｍ），５．７２（０．６Ｈ，ｍ），５．９４
（０．４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，５Ｈｚ），６．４５
（０．６Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，ｓ），７．２〜
７．５（１０Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｓ）
【０３６９】製造例３５ ７−ホルムアミド−３−（（Ｓ）−（＋）−２−ハイド
ロキシメチル−１−ピロリジニル）カルボニルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル−
１−オキシド
【０３７０】
【化１１２】
【０３７１】製造例１７と同様にして、上記化合物を得
た。（収率５９％）
【０３７２】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．５〜２．１（４Ｈ，ｍ），３．２〜４．０（６Ｈ，
ｍ），４．５３（１Ｈ，ｍ），４．８０，５．３４（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．２５（１Ｈ，ｍ），
６．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，１５Ｈｚ），７．
９７（１Ｈ，ｓ），７．２〜７．５（１０Ｈ，ｍ），
８．２７（１Ｈ，ｓ）
【０３７３】製造例３６ ７−ホルムアミド−３−〔（（Ｓ）−（＋）−２−ハイ
ドロキシメチル−１−ピロリジニル）カルボニルオキシ
メチル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル
【０３７４】
【化１１３】
【０３７５】製造例１８と同様にして、上記化合物を得
た。（収率７４％）
【０３７６】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3,δ） １．８０〜２．１０（４Ｈ，ｍ），３．２７〜３．５６
（６Ｈ，ｍ），３．９０（１Ｈ，ｍ），４．９７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．０１（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１４Ｈｚ），５．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ，８．９Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｓ），７．２３〜
７．４４（１０Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｓ）
【０３７７】製造例３７ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセタミド〕−
３−〔（Ｓ）−（＋）−２−ハイドロキシメチルピロリ
ジノ〕カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリル
【０３７８】
【化１１４】
【０３７９】製造例１９と同様にして、上記化合物を得
た。
【０３８０】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．８０〜２．００（４Ｈ，ｍ），３．２１〜３．６０
（６Ｈ，ｍ），３．９０（１Ｈ，ｍ），５．０２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．０８（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１４Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ，８．８Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｓ），６．９５
（１Ｈ，ｓ），７．２０〜７．４０（４０Ｈ，ｍ）
【０３８１】製造例３８ ７−〔（Ｚ）−２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルと７−
〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−（１−
ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−２−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルの混合物
【０３８２】
【化１１５】
【０３８３】２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（２０ｇ）、
１−ハイドロキシ−１Ｈ−ベンズトリアゾール（６
ｇ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（９．２ｇ）を
テトラヒドロフラン（２００ｍｌ）に溶かし室温で１時
間１５分攪拌する（Ａ液）。
【０３８４】一方、７−アミノ−３−ハイドロキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（１０．３ｇ）をア
セトニトリル（５００ｍｌ）に懸濁させ、室温で、Ｎ−
メチル−Ｎ−（トリメチルシリル）トリフルオロアセタ
ミド（２４．８ｍｌ）を加える。室温で２０分間攪拌す
る（Ｂ液）。
【０３８５】次に、Ａ液をろ過し溶媒を減圧下留去し得
られた残渣をｎ−ヘキサン、イソプロピルエーテルで粉
末状結晶にする。これをテトラヒドロフラン（５０ｍ
ｌ）に溶かしＢ液に室温で加え１時間１５分攪拌する。
【０３８６】次に反応液をろ過し、母液にジフェニルジ
アゾメタン（１１．６ｇ）、メタノール（８．６ｇ）を
加え室温で２時間攪拌する。反応液を減圧下留去し、得
られた残渣をテトラヒドロフラン（１２０ｍｌ）に溶か
し室温でＮ，Ｎ′−カルボニルジイミダゾール（４．９
ｇ）を加え、同温で２時間攪拌する。
【０３８７】次に反応液にピロリジン（３．４９ｇ）を
加え２時間２０分攪拌する。反応液を減圧下で留去し得
られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2 ２５
０ｇ、ベンゼン：酢酸エチル＝８：１）で精製すると目
的物（６．９４ｇ）が得られた。（収率２０％）
【０３８８】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ） １．８０〜１．９５（４Ｈ，ｍ），３．２５〜３．３０
（４Ｈ，ｍ），４．６０（６／５Ｈ，ｓ），４．８２，
５．１０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ），５．０５
（２／５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．１８（３／５Ｈ，
ｓ），５．２５（３／５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．８
５（３／５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈｚ），６．１５
（２／５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈｚ），６．２２
（３／５Ｈ，ｓ），６．４２（３／５Ｈ，ｓ），６．４
４（２／５Ｈ，ｓ），７．０１，７．０３（１Ｈ，
ｓ），７．２５〜７．４０（４０Ｈ，ｍ）
【０３８９】製造例３９ ７−〔（Ｚ）−２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル−１−オ
キシド
【０３９０】
【化１１６】
【０３９１】製造例３８で得られた混合物（３．７ｇ）
のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液に氷冷下、ｍ−
クロロ安息香酸（８３４ｍｇ）を加え、同温で１．５時
間攪拌する。反応液を減圧下留去し、得られた残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2 ５０ｇ、ベンゼン：
酢酸エチル＝６：１）で精製すると目的物（１．４４
ｇ）が得られた。（収率３８％）
【０３９２】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ） １．８３〜１．９０（４Ｈ，ｍ），３．００，３．６２
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．２１〜３．２５
（２Ｈ，ｍ），３．３５〜３．３９（２Ｈ，ｍ），４．
４１〜４．４３（１Ｈ，ｍ），４．７２，５．３２（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈｚ），６．４２（１Ｈ，ｓ），６．９
３（１Ｈ，ｓ），７．３５〜７．４０（４０Ｈ，ｍ）
【０３９３】製造例４０ ７−〔（Ｚ）−２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０３９４】
【化１１７】
【０３９５】製造例３９で得られた化合物（１．４４
ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍｌ）溶液
に−３０℃で、三塩化リン（０．４３ｍｌ）を加え、同
温で３０分間攪拌する。
【０３９６】反応液を−７８℃に冷やした酢酸エチルに
注ぎ、水を加える。酢酸エチル層を分取し、水、飽和食
塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を
減圧下留去し、得られた残渣を酢酸エチルに溶かしこれ
をイソプロピルエーテルに加える。沈殿物をろ取しイソ
プロピルエーテルで洗浄すると目的物（８９５ｍｇ）が
得られた。（収率６３％）
【０３９７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ） １．８４〜１．８７（４Ｈ，ｍ），３．２８，３．５０
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．２０〜３．２４
（２Ｈ，ｍ），３．３５〜３．３８（２Ｈ，ｍ），４．
８２，５．１０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ），５．
０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．０９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈｚ），６．４２（１Ｈ，ｓ），
６．９４（１Ｈ，ｓ），７．３５〜７．４０（４０Ｈ，
ｍ）
【０３９８】実施例１ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−カルボン酸ナトリウム塩
【０３９９】
【化１１８】
【０４００】製造例４で得た２−〔（（Ｚ）−２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオキ
シイミノアセトアミド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリル１．４ｇ（１．３ミリモル）をトリフルオ
ロ酢酸３ｍｌ、アニソール２ｍｌの混合液に加え、１時
間攪拌した。イソプロピルエーテル１００ｍｌを加え、
生じた沈殿を濾別して集め、次にギ酸１０ｍｌ中に加え
室温で２時間反応した。ギ酸を減圧留去後エチルエーテ
ルを加え生じた沈殿を濾集した。これを逆相カラムクロ
マトグラフィーによって精製をし、目的物２４０ｍｇ
（収率３９％）を得た。
【０４０１】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．７（６Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．４２，３．６９（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），４．６７，４．９１（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ），５．２２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｓ）
【０４０２】実施例２ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４０３】
【化１１９】
【０４０４】製造例８で得た化合物を、実施例１と同様
に処理して上記化合物を得た。（収率１５％）
【０４０５】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） １．０５〜１．１５（２７／１０Ｈ，ｍ），１．２５〜
１．３５（３／１０Ｈ，ｍ），２．７２（３／１０Ｈ，
ｂｒ．ｓ），２．９０（２７／１０Ｈ，ｂｒ．ｓ），
３．０５〜３．１５（２／１０Ｈ，ｍ），３．２５〜
３．４０（１８／１０Ｈ，ｍ），３．４〜３．５（１
Ｈ，ｍ），３．７〜３．７８（１Ｈ，ｍ），４．７０〜
４．７８（１Ｈ，ｍ），４．９０〜５．００（１Ｈ，
ｍ），５．２４〜５．２７（１Ｈ，ｍ），５．８５〜
５．９０（１Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｓ）
【０４０６】実施例３ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
（１−モルホリニル）カルボニルオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４０７】
【化１２０】
【０４０８】製造例１２で得た化合物を実施例１と同様
に処理をして上記化合物を得た。（収率１５％）
【０４０９】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ３．４２，３．７２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），
３．４５〜３．６０（４Ｈ，ｍ），３．７０〜３．８０
（４Ｈ，ｍ），４．７５，４．９５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１３Ｈｚ），５．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈ
ｚ），５．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），７．０
１（１Ｈ，ｓ）
【０４１０】実施例４ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセタミド〕−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム塩
【０４１１】
【化１２１】
【０４１２】製造例１３で得た７−〔（Ｚ）−２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセタミド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（１．４６ｇ）のアニソール（１０ｍｌ）溶
液にトリフルオロ酢酸（２０ｍｌ）を氷冷下滴下し、同
温度で２時間２０分攪拌する。反応液を減圧下濃縮し、
残渣をメタノールに溶解し、ジイソプロピルエーテルを
加え結晶を析出させる。析出結晶をろ取しメタノールに
溶解させ、これに酢酸ナトリウム（６００ｍｇ）を溶解
させ、さらにジイソプロピルエーテルを加え結晶析出さ
せる。析出結晶をろ取しジイソプロピルエーテルで洗浄
後風乾させる。得られた結晶を逆相カラムクロマトグラ
フィーで精製し７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−メトキシイミノアセタミド〕−
３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ナトリウム（７１ｍｇ，８．
５％）を得た。
【０４１３】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．６５〜２．８０（６Ｈ，ｍ），３．２６，３．５２
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．１Ｈｚ），３．８３（３
Ｈ，ｓ），４．５２，４．７５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
２．６Ｈｚ），５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），５．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．８
５（１Ｈ，ｓ）
【０４１４】実施例５ ７−〔（Ｚ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノアセタミ
ド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４１５】
【化１２２】
【０４１６】製造例１４の化合物を実施例４と同様に処
理をして、上記化合物を得た。（収率２７％）
【０４１７】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．６８（６Ｈ，ｓ），３．２１，３．４６（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１８．０Ｈｚ），３．８９（３Ｈ，ｓ），
４．５０，４．７２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．３Ｈ
ｚ），５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ），５．６
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ）
【０４１８】実施例６ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−モノフルオロメトキシイミノアセタミド〕−
３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４１９】
【化１２３】
【０４２０】製造例１５の化合物を、実施例４と同様に
処理して上記化合物を得た。（収率１０％）
【０４２１】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．６２〜２．７３（６Ｈ，ｍ），３．２２，３．４８
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．０Ｈｚ），４．４９，４．
７２（２Ｈ，ＡＢｑ，ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，１．６Ｈ
ｚ），５．０２〜５．０４（１Ｈ，ｍ），５．６３〜
５．６６（１Ｈ，ｍ），５．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５
５．２Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｓ）
【０４２２】実施例７ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（１
−ピペリジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４２３】
【化１２４】
【０４２４】製造例１９の化合物を実施例１と同様に処
理して上記化合物を得た。（収率２８％）
【０４２５】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） １．２５〜１．４７（６Ｈ，ｍ），３．１７〜３．２９
（４Ｈ，ｍ），３．２５，３．５１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１７．９Ｈｚ），４．５５，４．７８（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．６Ｈｚ），５．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈ
ｚ），６．８２（１Ｈ，ｓ）
【０４２６】実施例８ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（１
−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４２７】
【化１２５】
【０４２８】製造例２３の化合物を実施例１と同様に処
理をし上記化合物を得た。（収率２５％）
【０４２９】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．００〜２．１０（２Ｈ，ｍ），３．２１，３．４７
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．９Ｈｚ），３．７５〜３．
８７（４Ｈ，ｍ），４．５１，４．７０（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ），５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ），５．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ）
【０４３０】実施例９ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
〔Ｎ−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メチルカルバ
モイルオキシメチル〕−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム塩
【０４３１】
【化１２６】
【０４３２】製造例２６の化合物を実施例１と同様に処
理をして上記化合物を得た。（収率８．８％）
【０４３３】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．７９〜２．８２（３Ｈ，ｍ），３．２８〜３．３０
（３Ｈ，ｍ），３．５６〜３．５８（３Ｈ，ｍ），４．
５７〜４．７５（２Ｈ，ｍ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），５．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．
８４（１Ｈ，ｓ）
【０４３４】実施例１０ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−シアノメチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４３５】
【化１２７】
【０４３６】製造例２９の化合物を実施例１と同様にし
て上記化合物を得た。（収率２１％）
【０４３７】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．８５（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．２８，３．５５（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．１〜４．２５（２
Ｈ，ｍ），４．５〜４．９（２Ｈ，ｍ），５．０６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），６．７７（１Ｈ，ｓ）
【０４３８】実施例１１ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
〔（３−ハイドロキシ−１−ピロリジニル）カルボニル
オキシメチル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩
【０４３９】
【化１２８】
【０４４０】製造例３３の化合物を実施例１と同様にし
て上記化合物を得た。（収率１７％）
【０４４１】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．０５（２Ｈ，ｍ），３．２５〜３．８（６Ｈ，
ｍ），４．４〜４．５（１Ｈ，ｍ），４．６〜４．９５
（２Ｈ，ｍ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，
ｓ）
【０４４２】実施例１２ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−
（（ｓ）−（＋）−２−ハイドロキシメチル−Ｈ−ピロ
リジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム塩
【０４４３】
【化１２９】
【０４４４】製造例３７の化合物を実施例１と同様にし
て上記化合物を得た。
【０４４５】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） １．７０〜１．８４（４Ｈ，ｍ），３．１９〜３．８２
（７Ｈ，ｍ），４．６７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈ
ｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．７
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．８３（１Ｈ，
ｓ）
【０４４６】実施例１３ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０４４７】
【化１３０】
【０４４８】製造例４０の化合物を実施例１と同様にし
て上記化合物を得た。（収率１７％）
【０４４９】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） １．６８〜１．７３（４Ｈ，ｍ），３．１５〜３．２３
（４Ｈ，ｍ），３．２５，３．５２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１８Ｈｚ），４．５２，４．７５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），
５．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，
ｓ）
【０４５０】実施例１４ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチル
【０４５１】
【化１３１】
【０４５２】実施例１で得た７−〔（Ｚ）−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−ハイドロキシイミ
ノアセトアミド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム８０ｍｇ（０．１６２ミリモル）のジメチルホルムア
ミド２ｍｌ溶液中にヨードメチルピバレート３７ｍｇ
（０．１６ミリモル）を加え１時間攪拌した。反応液に
酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗、飽和食塩水洗後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物に
イソプロピルエーテルを加え固化して目的物２１ｍｇ
（収率２３％）を得た。
【０４５３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２４（９Ｈ，ｓ），２．９２（６Ｈ，ｂｒ．ｓ），
３．５０，３．６１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），
４．８９，５．１７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ），
５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．８５，５．９
７（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），５．９３（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，
ｓ），７．２６（２Ｈ，ｓ）
【０４５４】実施例１５ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ２−エチルブタノイルオキシメ
チル
【０４５５】
【化１３２】
【０４５６】実施例１の化合物とヨードメチル ２−エ
チルブチレートを反応させ上記化合物を得た。（収率６
３％）
【０４５７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ０．９（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．５〜１．７
（４Ｈ，ｍ），２．２５〜２．３５（１Ｈ，ｍ），２．
９３（６Ｈ，ｂｒ. ｓ），３．４９，３．６０（２Ｈ，
ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．９１，５．１５（２Ｈ，
ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．０Ｈｚ），５．８４〜５．９５（３Ｈ，ｍ），７．
０７（１Ｈ，ｓ）
【０４５８】実施例１６ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（イソブチロイルオキシ）
エチル
【０４５９】
【化１３３】
【０４６０】実施例１の化合物と１−ヨードエチルイソ
ブチレートを反応させ上記化合物を得た。（収率１０
％）
【０４６１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．１８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５６（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），２．５５〜２．６５（１Ｈ，
ｍ），２．９２（６Ｈ，ｓ），３．５０，３．５１（合
わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．６１，３．６２
（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．９０，４．
９５（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．０５，
５．０７（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．１
２，５．１８（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），
５．８８〜５．９５（１Ｈ，ｍ），７．００，７．１０
（合わせて１Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．０９（１
Ｈ，ｓ）
【０４６２】実施例１７ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（２−エチルブタノイルオ
キシ）エチル
【０４６３】
【化１３４】
【０４６４】実施例１の化合物と１−ヨードエチル ２
−エチルブチレートを反応させ上記化合物を得た。（収
率１５％）
【０４６５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９１（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５〜１．７５（７Ｈ，ｍ），
２．２〜２．３（１Ｈ，ｍ），２．９２（６Ｈ，ｓ），
３．４８，３．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．
６０，３．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．９
０，４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．０７
（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．１４，５．１５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１４Ｈｚ），５．８８〜５．９５（１Ｈ，ｍ），
７．００〜７．１０（１Ｈ，ｍ），７．０８（１Ｈ，
ｓ）
【０４６６】実施例１８ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−カルボン酸 １−（ｔｅｒｔ−ブチルアセトキ
シ）エチル
【０４６７】
【化１３５】
【０４６８】実施例１の化合物と１−ヨードエチル ｔ
ｅｒｔ−ブチルアセテートを反応させ上記化合物を得
た。（収率４．５％）
【０４６９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．０４（９Ｈ，ｓ），１．５６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．
５Ｈｚ），２．２〜２．３（２Ｈ，ｍ），２．９３（６
Ｈ，ｓ），３．４８，３．５０（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１８Ｈｚ），３．６０，３．６１（合わせて１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．９１，４．９８（合わせて１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．０３〜５．１０（１Ｈ，
ｍ），５．１２，５．１７（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
２Ｈｚ），５．８６〜５．９３（１Ｈ，ｍ），６．９７
〜７．１２（１Ｈ，ｍ），７．１２（１Ｈ，ｓ）
【０４７０】実施例１９ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（エトキシカルボニルオキ
シ）エチル
【０４７１】
【化１３６】
【０４７２】実施例１の化合物と１−ヨードエチルエチ
ルカーボネートを反応させ上記化合物を得た。
【０４７３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．３３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５８〜１．６
３（３Ｈ，ｍ），２．９３（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．５
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．６１，３．６２
（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．２〜４．３
２（２Ｈ，ｍ），４．９１，５．１７（１Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１４Ｈｚ），４．９９，５．２２（１Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１４Ｈｚ），５．０５（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５
Ｈｚ），５．１０（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），
５．９〜５．９８（１Ｈ，ｍ），６．９２（０．５Ｈ，
ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．０４（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝
５．５Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｓ）
【０４７４】実施例２０ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（イソプロピルオキシカル
ボニルオキシ）エチル
【０４７５】
【化１３７】
【０４７６】実施例１の化合物と１−ヨードエチルイソ
プロピルカーボネートを反応させ、上記化合物を得た。
（収率３０％）
【０４７７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２６〜１．３７（６Ｈ，ｍ），１．５８〜１．６２
（３Ｈ，ｍ），２．９３（６Ｈ，ｓ），３．５０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９Ｈｚ），３．６０，３．６１（合わせ
て１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９Ｈｚ），４．９〜５．２４（３
Ｈ，ｍ），５．０４，５．０７（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈ
ｚ），６．９２，７．０２（合わせて１Ｈ，ｑ，Ｊ＝
５．５Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｓ）
【０４７８】
【実施例２１】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸 １−（シクロヘキシ
ルカルボニルオキシ）エチル
【０４７９】
【化１３８】
【０４８０】実施例１の化合物と１−ヨードエチルシク
ロヘキシルカーボネートを反応させて上記化合物を得
た。（収率１９％）
【０４８１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．１〜１．６（６Ｈ，ｍ），１．５８〜１．６３（３
Ｈ，ｍ），１．６６〜 ２．００（４Ｈ，ｍ），２．９
３（６Ｈ，ｓ），３．５２，３．４０（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１８Ｈｚ），４．６〜４．７（１Ｈ，ｍ），４．８
９，４．９７（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
５．０５〜５．１０（１Ｈ，ｍ），５．１２，５．１７
（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．８３〜６．
９４（１Ｈ，ｍ），６．８９，６．９８（合わせて１
Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５ Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｓ）
【０４８２】
【実施例２２】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオ
キシメチル
【０４８３】
【化１３９】
【０４８４】実施例２の化合物とヨードメチルピバレー
トを反応させ上記化合物を得た。（収率３４％）
【０４８５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２４（９Ｈ，
ｓ），２．８９（６／３Ｈ，ｓ），２．９０（３／３
Ｈ，ｓ），３．２５〜３．３５（２Ｈ，ｍ），３．４
７，３．４８（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），
３．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．８９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ），５．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５
Ｈｚ），５．１〜５．２（１Ｈ，ｍ），５．８２，５．
９７（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．９２（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｓ）
【０４８６】
【実施例２３】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−（１−モルホリニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシ
メチル
【０４８７】
【化１４０】
【０４８８】実施例３の化合物とヨードメチルピバレー
トを反応させ上記化合物を得た。（収率２４％）
【０４８９】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） ３．４５〜３．５０（５Ｈ，ｍ），３．５８〜３．７０
（５Ｈ，ｍ），４．８９，５．１８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．８４，５．９７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ），７．０
８（１Ｈ，ｓ）
【０４９０】
【実施例２４】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−メトキシイミノアセタミド〕−
３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチル
【０４９１】
【化１４１】
【０４９２】実施例４の化合物とヨードメチルピバレー
トを反応させ上記化合物を得た。（収率６５％）
【０４９３】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．２３（９Ｈ，ｓ），２．９２（６Ｈ，ｓ），３．５
０，３．６０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．７Ｈｚ），
４．０９（３Ｈ，ｓ），４．８４，５．１６（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ），５．８５〜５．９５（２Ｈ，ｍ），５．９９
〜６．０３（１Ｈ，ｍ），６．９２（１Ｈ，ｓ），７．
４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）
【０４９４】
【実施例２５】７−〔（Ｚ）−２−（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−メトキシイ
ミノアセタミド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロ
イルオキシメチル
【０４９５】
【化１４２】
【０４９６】実施例５の化合物とヨードメチルピバレー
トを反応させ上記化合物を得た。（収率７０％）
【０４９７】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．１３（９Ｈ，ｓ），２．９２（６Ｈ，ｓ），３．５
０，３．５９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．６Ｈｚ），
４．１２（３Ｈ，ｓ），４．８４，５．１９（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），５．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ），５．８５〜５．９４（２Ｈ，ｍ），６．
１２〜６．１６（１Ｈ，ｍ），６．４２（１Ｈ，ｓ）
【０４９８】
【実施例２６】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−モノフルオロメトキシアセタミ
ド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメ
チル
【０４９９】
【化１４３】
【０５００】実施例６の化合物とヨードメチルピバレー
トを反応させ上記化合物を得た。（収率７０％）
【０５０１】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．１４（９Ｈ，ｓ），２．９１（６Ｈ，ｓ），３．５
０，３．６０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．４Ｈｚ），
４．８５，５．１６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．２Ｈ
ｚ），５．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６
５〜６．００（３Ｈ，ｍ），５．８６，５．９３（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．９８（１Ｈ，ｓ）
【０５０２】
【実施例２７】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセタアミ
ド〕−３−（１−ピペリジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシ
メチル
【０５０３】
【化１４４】
【０５０４】実施例７の化合物とヨードメチルピバレー
トを反応させ、上記化合物を得た。（収率５９％）
【０５０５】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．１３（９Ｈ，ｓ），１．４８〜１．６６（６Ｈ，
ｍ），３．３７〜３．４６（４Ｈ，ｍ），３．５４，
３．６９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．４Ｈｚ），４．７
７，５．１３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），
５．２０ （１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．８４，
５．９３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝６ Ｈｚ），５．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，ｓ）
【０５０６】
【実施例２８】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセタミ
ド〕−３−（１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシ
メチル
【０５０７】
【化１４５】
【０５０８】実施例８の化合物とヨードメチルピバレー
トを反応させ上記化合物を得た。（収率５４％）
【０５０９】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） ２．２４〜２．３０（２Ｈ，ｍ），３．４７，３．６０
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．４Ｈｚ），３．９５〜４．
１０（４Ｈ，ｍ），４．８７，５．１２（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ），５．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．１Ｈｚ），５．９１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝５．６Ｈ
ｚ），５．９０ 〜５．９３（１Ｈ，ｍ），７．０７
（１Ｈ，ｓ）
【０５１０】
【実施例２９】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセタミ
ド〕−３−（１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−（イソプロピ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル
【０５１１】
【化１４６】
【０５１２】実施例８の化合物と１−ヨードエチルイソ
プロピルカーボネートを反応させ上記化合物を得た。
（収率２７％）
【０５１３】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．３０〜１．３５（６Ｈ，ｍ），２．２２〜２．３１
（２Ｈ，ｍ），３．４５〜３．６５（２Ｈ，ｍ），４．
００〜４．０６（４Ｈ，ｍ），４．８９〜５．２０（４
Ｈ，ｍ），５．９０〜５．９３（１Ｈ，ｍ），６．９２
（１／２Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．０３（１／２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｓ）
【０５１４】
【実施例３０】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−Ｎ−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メチ
ルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸 ピバロイルオキシメチル
【０５１５】
【化１４７】
【０５１６】実施例９の化合物とヨードメチルピバレー
トとを反応させ上記化合物を得た。（収率５７％）
【０５１７】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．２１〜１．２５（９Ｈ，ｍ），２．９７（３Ｈ，
ｓ），３．４１〜３．４５（２Ｈ，ｍ），３．４６〜
３．６０（２Ｈ，ｍ），３．７１〜３．７７（２Ｈ，
ｍ），４．８２〜４．９５（２Ｈ，ｍ），５．０５〜
５．０８（１Ｈ，ｍ），５．８６，５．９５（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．８８〜５．９１（１Ｈ，
ｍ），７．００（１Ｈ，ｓ）
【０５１８】
【実施例３１】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−Ｎ−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メチ
ルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸 １−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエ
チル
【０５１９】
【化１４８】
【０５２０】実施例９の化合物と１−ヨードエチルシク
ロヘキシカーボネートを反応させ上記化合物を得た。
（収率２８％）
【０５２１】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．４〜１．６（６Ｈ，ｍ），１．６２〜１．７２（３
Ｈ，ｍ），１．８３〜 １．９２（４Ｈ，ｍ），２．９
３（３Ｈ，ｓ），３．３８〜３．４１（２Ｈ，ｍ），
３．４２〜３．５０（２Ｈ，ｍ），３．７０〜３．７５
（２Ｈ，ｍ），４．５７〜４．６１（１Ｈ，ｍ），４．
９９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．０５〜５．１４
（２Ｈ，ｍ），５．８２〜５．８６（１Ｈ，ｍ），６．
８５，６．９６（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．９
９（１Ｈ，ｓ）
【０５２２】
【実施例３２】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−メチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロ
イルオキシメチル
【０５２３】
【化１４９】
【０５２４】実施例１０の化合物とヨードメチルピバレ
ートとを反応させ上記化合物を得た。（収率７０％）
【０５２５】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．１〜１．２５（９Ｈ，ｍ），３．０１（３Ｈ，
ｓ），３．４〜３．６５（２Ｈ，ｍ），４．２〜４．３
（２Ｈ，ｍ），４．８〜５．２５（３Ｈ，ｍ），５．８
〜６．０（３Ｈ，ｍ），６．９０（ １Ｈ，ｂｒ．
ｓ），７．３０（２Ｈ，ｓ）
【０５２６】
【実施例３３】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−〔（Ｓ）−（＋）−２−ハイドロキシメチル
−１−ピロリジニル〕カルボニルオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチル
【０５２７】
【化１５０】
【０５２８】実施例１２の化合物とヨードメチルピバレ
ートを反応させ上記化合物を得た。
【０５２９】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．８３〜２．００（４Ｈ，ｍ），３．３０〜３．８７
（７Ｈ，ｍ），５．０１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８ Ｈｚ），５．
８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．９１〜５．９
４（２Ｈ ，ｍ），６．７６（１Ｈ，ｓ）
【０５３０】
【実施例３４】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシ
メチル
【０５３１】
【化１５１】
【０５３２】実施例１３の化合物とヨードメチルピバレ
ートを反応させ上記化合物を得た。（収率２８％）
【０５３３】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．１６〜１．２１（９Ｈ，ｍ），１．８０〜１．８５
（４Ｈ，ｍ），３．３０〜３．３９（４Ｈ，ｍ），３．
５０〜３．６０（２Ｈ，ｍ），４．８０〜４．９０，
５．０５，５．１３（２Ｈ，ｍ），５．０２〜５．０４
（１Ｈ，ｍ），５．７５〜５．８０（２Ｈ，ｍ），５．
８５〜５．９１（１Ｈ，ｍ），６．９８（１Ｈ，ｓ）
【０５３４】
【実施例３５】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−アセトキシ
エチル
【０５３５】
【化１５２】
【０５３６】実施例１の化合物と１−ブロモエチルアセ
テートを反応させ上記化合物を得た。（収率１４％）
【０５３７】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．５５〜１．５８（３Ｈ，ｍ），２．１１（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），２．９２〜２．９５（３Ｈ，
ｓ），３．４７〜３．６５（２Ｈ，ｍ），４．８３〜
５．２４（３Ｈ，ｍ），５．８３〜５．９４（１Ｈ，
ｍ），６．９８〜７．１５（２Ｈ，ｍ）
【０５３８】
【実施例３６】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−（１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−（シクロヘキ
シルオキシカルボニルオキシ）エチル
【０５３９】
【化１５３】
【０５４０】実施例８の化合物と１−ヨードエチルシク
ロヘキシルカーボネートを反応させて上記化合物を得
た。（収率２７％）
【０５４１】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．２４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．７５〜
１．８０（１０Ｈ，ｍ），２．２５〜２．３２（２Ｈ，
ｍ），３．４５〜３．６５（２Ｈ，ｍ），４．００〜
４．０６（４Ｈ，ｍ），４．９１，４．９８（１Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ），５．０３〜５．０７（１
Ｈ，ｍ），５．１０〜５．１３（１Ｈ，ｍ），５．０
９，５．１８（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ），
５．９０〜５．９３（１Ｈ，ｍ），６．９３（１／２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．０３（１／２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｓ）
【０５４２】
【実施例３７】７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド〕−３−（１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−アセトキシエ
チル
【０５４３】
【化１５４】
【０５４４】実施例８の化合物と１−ブロモエチルアセ
テートを反応させ上記化合物を得た。
【０５４５】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．５４〜１．５６（３Ｈ，ｍ），２．１０〜２．２１
（３Ｈ，ｍ），２．２０〜２．３５（２Ｈ，ｍ），３．
４５〜３．６５（２Ｈ，ｍ），３．９５〜４．０８（４
Ｈ，ｍ），４．８５〜４．９５（１Ｈ，ｍ），５．０５
〜５．１（２Ｈ，ｍ），５．８７〜５．９５（１Ｈ，
ｍ），６．９７ 〜７．１７（２Ｈ，ｍ）
【０５４６】製造例４１ ７−フェニルアセトアミド−３−ｐ−ニトロフェノキシ
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル
【０５４７】
【化１５５】
【０５４８】７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（１５．８ｇ、０．０３１ｍｏｌ）と、ｐ−ニトロフ
ェニルクロロホルメート（６．１９ｇ、０．０３１ｍｏ
ｌ）のテトラヒドロフラン（１６０ｍｌ）懸濁液にピリ
ジン（２．４３ｇ、０．０３１ｍｏｌ）を氷冷下に滴下
し、同温度で２５分間かくはんした。
【０５４９】反応液を酢酸エチルと水の混液に注ぎ、酢
酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を飽和塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次い
で溶媒を減圧下に留去した。残渣にジイソプロピルエー
テルを加えて破砕し、ろ取風乾して７−フェニルアセト
アミド−３−ｐ−ニトロフェノキシカルボニルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
（１８．８ｇ、収率９０．２％）を得た。
【０５５０】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ３．４０，３．６０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．５Ｈ
ｚ），３．６１，３．６６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．
６Ｈｚ），４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
４．９７，５．２４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．２Ｈ
ｚ），５．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，８．８
Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．
９２（１Ｈ，ｓ），７．２４〜７．４２（１７Ｈ，
ｍ），８．２３〜８．２８（２Ｈ，ｍ），
【０５５１】製造例４２ ７−フェニルアセトアミド−３−ｐ−ニトロフェノキシ
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸
【０５５２】
【化１５６】
【０５５３】７−フェニルアセトアミド−３−ｐ−ニト
ロフェノキシカルボニルオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリル（６．７９ｇ、０．０１
ｍｏｌ）のジクロロメタン（１４ｍｌ）溶液にトリフル
オロ酢酸（１７ｍｌ）を氷冷下に滴下し、５０分間かく
はんした。反応液をジイソプロピルエーテルに注ぎ、生
じた沈殿をろ取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後風
乾して７−フェニルアセトアミド−３−ｐ−ニトロフェ
ノキシカルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（４．５０ｇ、収率８７．７％）を得た。
【０５５４】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，δ） ３．４９，３．５７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．０Ｈ
ｚ），３．６０，３．７１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．
１Ｈｚ），４．９５，５．２４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
２．５Ｈｚ），５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ），５．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，８．６
Ｈｚ），７．１９〜７．２８（５Ｈ，ｍ），７．５３〜
７．５８（２Ｈ，ｍ），８．２８〜８．３５（２Ｈ，
ｍ），９．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
【０５５５】製造例４３ ７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム
【０５５６】
【化１５７】
【０５５７】７−フェニルアセトアミド−３−ｐ−ニト
ロフェノキシカルボニルオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸（５．１３ｇ、０．０１ｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン（３６ｍｌ）と水（４ｍｌ）の溶液に、
ジメチルアミン（５０％水溶液１．８ｇ、０．０２ｍｏ
ｌ）を氷冷下に滴下し、同温度で１０分間かくはんし
た。反応液を酢酸エチルと１規定塩酸の混液に注ぎ、有
機層を分取した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧下に留去した。残渣をメタノールに懸濁させ、酢酸ナ
トリウム（９８４ｍｇ、０．０１２ｍｏｌ）のメタノー
ル溶液を加え、得られた透明な溶液を減圧下に濃縮し
た。析出物が現われた時点で濃縮をやめ、２−プロパノ
ールを加え、析出物をろ取後風乾して７−フェニルアセ
トアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム（２．
２５ｇ、収率５１．０％）を得た。
【０５５８】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．７４（６Ｈ，ｓ），３．２１，３．４７（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１７．９Ｈｚ），３．５１，３．５７（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．５１，４．７４
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ），４．９２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），５．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．６Ｈｚ），７．１８〜７．２８（５Ｈ，ｍ）
【０５５９】製造例４４ ７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル
【０５６０】
【化１５８】
【０５６１】７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム（２．２ｇ、５ｍｍｏｌ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）溶液にイソ
プロピル−１−ヨードエチルカーボネート（１．２９
ｇ，５ｍｍｏｌ）を氷冷下に加え、同温度で３０分間か
くはんした。反応液を酢酸エチルと水の混液に注ぎ、酢
酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を水、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製して、７−フェニルア
セトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−（イソプ
ロポキシカルボニルオキシ）エチル（１．４３ｇ、収率
５２．１％）を得た。
【０５６２】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２２〜１．２９（６Ｈ，ｍ），１．２６（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），２．８５（６Ｈ，ｓ），３．３
５，３．４８（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．４Ｈｚ），
３．３６，３．４９（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．４Ｈ
ｚ），３．５５（２Ｈ，ｓ），４．７５〜４．８８（３
Ｈ，ｍ），５．０４，５．１０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
３．９Ｈｚ），５．７１〜５．７６（１Ｈ，ｍ），６．
７７〜６．８２（１Ｈ，ｍ），６．９１（０．５Ｈ，
ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．９４（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ），７．１９〜７．２９（５Ｈ，ｍ）
【０５６３】実施例３８ ７−ホルムアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル
【０５６４】
【化１５９】
【０５６５】トリクロロメチルクロロホルメート０．３
ｍｌ（２．５ｍｍｏｌ）のテトラハイドロフラン１０ｍ
ｌ溶液に、７−ホルムアミド−３−ハイドロキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル２．１２ｇ（５ｍｍｏｌ）とピリジン０．３９５ｇ
（５ｍｍｏｌ）からなるテトラハイドロフラン１５ｍｌ
溶液を氷冷下で加えた。７０分後、ジメチルアミン０．
４５ｇ（５ｍｍｏｌ）を含むテトラハイドロフラン（１
ｍｌ）溶液を滴下して加え、２５分間攪拌した。酢酸エ
チル５０ｍｌを加え、有機層を水洗、硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮して得られた残滓をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製して目的物（１．１ｇ、収
率４４％）を得た。
【０５６６】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．８２（３Ｈ，ｓ），２．８８（３Ｈ，ｓ）３．４
２，３．５７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．４Ｈｚ），
４．８２，５．０９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．９Ｈ
ｚ），４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．９
１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，９．３Ｈｚ），６．
６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，
ｓ），７．２５〜７．４５（１０Ｈ，ｍ），８．２０
（１Ｈ，ｓ）
【０５６７】実施例３９ ７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸
【０５６８】
【化１６０】
【０５６９】７−ホルムアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ナトリウム塩（５．０ｇ、１４．２５ｍｍｏｌ）
をメタノール４５ｍｌに溶かし、室温で濃塩酸（１０ｍ
ｌ）を含むメタノール（３０ｍｌ）溶液を加えた。３時
間攪拌後、減圧濃縮し、水（５０ｍｌ）を加え氷冷下で
１Ｎ苛性ソーダ溶液を用いてｐＨ２．８に調整した。析
出した沈殿をろ取して集め、目的物（１．８２ｇ、収率
４２％）を得た。
【０５７０】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ２．８１（３Ｈ，ｓ），２．８２（３Ｈ，ｓ），３．４
５，３．５８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．１Ｈｚ），
４．６０，４．９８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．０Ｈ
ｚ），４．７７〜４．８０（１Ｈ，ｍ），４．９７〜
５．００（１Ｈ，ｍ）
【０５７１】実施例４０ ７β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−アセトキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニルオキ
シ）エチルエステル 塩酸塩
【０５７２】
【化１６１】
【０５７３】７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−カルボン酸 １−
（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチルエステル
塩酸塩（２２ｇ、４７ｍｍｏｌ）をテトラハイドロフラ
ン（４４０ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシ
リルアセトアミド（３５ｍｌ）を加えた。
【０５７４】これに、２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−（Ｚ）−アセトキシイミノ酢酸クロライ
ド塩酸塩（１５．８ｇ）を氷冷下で少しずつ加えた。
【０５７５】室温に戻し、３０分攪拌した。反応液に酢
酸エチル（６００ｍｌ）、水（４０ｍｌ）、飽和食塩水
（２５ｍｌ）を加え、有機層を集めた。さらに食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧濃
縮し、目的物（３１．５ｇ、収率９９％）を得た。
【０５７６】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．２７〜１．２９（６Ｈ，ｍ），１．５４（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），２．２３（３Ｈ，ｓ），２．９
２（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），３．６０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ，１８Ｈｚ），４．８１〜５．１６（３Ｈ，ｍ），
５．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１２Ｈｚ），５．
９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１５Ｈｚ），６．８５
（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１０Ｈｚ），６．９４
（０．５Ｈｚ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１０Ｈｚ），７．１
９（１Ｈ，ｓ）
【０５７７】実施例４１ ７β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニルオ
キシ）エチルエステル 塩酸塩
【０５７８】
【化１６２】
【０５７９】実施例４０によって得た７β−〔２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−アセト
キシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−カルボン酸 １
−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチルエステル
（１０．８ｇ、１５．９ｍｍｏｌ）をメタノール（１０
８リットル）に溶解し、氷冷下で濃塩酸（８．６ｍｌ）
を滴下して加えた。滴下終了後、室温で３時間攪拌し、
酢酸エチル（５４０ｍｌ）を加え、有機層を水で洗浄処
理した。有機層は硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
し、残滓にイソプロピルエーテルを加えて生じた固体を
ろ取し目的物を得た。（８ｇ、収率８０％）
【０５８０】本実施例で得た化合物は、実施例２０で得
た化合物とＨＰＬＣ、ＴＬＣにて一致した。
【０５８１】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．２７〜１．２９（６Ｈ，ｍ），１．５４（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），２．９１（３Ｈ，ｓ），２．９
３（３Ｈ，ｓ），３．５７，３．６７（１Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１４．７Ｈｚ），３．５７，３．６９（１Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ），４．７８〜４．９（２Ｈ，
ｍ），５．０６（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），
５．１７（０．５Ｈｚ，ｄ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ），５．
１９（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．２２（０．５
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．９１（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５Ｈｚ），５．９５（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
６．８５（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．９４
（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，
ｓ）
【０５８２】実施例４２ ７β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−アセトキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
−カルボン酸
【０５８３】
【化１６３】
【０５８４】７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
（０．２ｇ、０．６６ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（４ｍ
ｌ）に懸濁し、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルアセトア
ミド（０．４９ｍｌ）を加えて溶解した。
【０５８５】これに、２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−（Ｚ）−アセトキシイミノ酢酸クロライ
ド塩酸塩（０．１８９ｇ、０．６６４ｍｍｏｌ）を氷冷
下で少しずつ加えた。
【０５８６】室温に戻し３０分攪拌後、メタノール
（０．２ｍｌ）を加え減圧濃縮して得られた残滓を逆相
カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物（１３８
ｍｇ、収率４１％）を得た。
【０５８７】実施例４３ ７β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−アセトキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニルオキ
シ）エチルエステル
【０５８８】
【化１６４】
【０５８９】実施例４２によって得た７β−〔２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−アセト
キシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−カルボン酸
（２．１７ｇ、４．２４ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（３０
ｍｌ）に溶解し、ジシクロヘキシルアミン（１．３５ｍ
ｌ）を加え生じた沈殿をろ取した。こうして得られたジ
シクロヘキシルアミン塩（１．７ｇ、２．４５ｍｍｏ
ｌ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１０ｍｌ）に
溶解した。氷冷下、１−ヨードエチルイソプロピルカー
ボネート（７５８ｍｇ、２．９４ｍｍｏｌ）を加え、１
時間攪拌した。酢酸エチルを反応液に加え、水で洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮後、イソプロピル
エーテルを加えて生じた固体をろ取して目的物を得た。
本方法によって得られた化合物は実施例４０で得られた
化合物とＨＰＬＣ、ＴＬＣで一致した。
【０５９０】実施例４４ ７β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−カルボン酸 ナトリウム塩
【０５９１】
【化１６５】
【０５９２】７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
（０．５ｇ、１．６６ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（１０ｍ
ｌ）に懸濁し、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルアセトア
ミド（１．２３ｍｌ）を加えて溶解した。
【０５９３】これに、２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−（Ｚ）−アセトキシイミノ酢酸クロライ
ド塩酸塩（０．５２ｇ、１．８３ｍｍｏｌ）を氷冷下で
少しずつ加えた。
【０５９４】室温に戻し３０分攪拌後、メタノール
（０．５ｍｌ）、酢酸エチル（１０ｍｌ）を加え生じた
沈殿をろ取した。これを、メタノール（５ｍｌ）に溶解
し、濃塩酸（０．５ｍｌ）を加え３０分攪拌した。濃縮
後、炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整して、逆
相カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物（３４
９ｍｇ、収率５０％）を得た。
【０５９５】本化合物は実施例１において得られた化合
物と、ＮＭＲスペクトル、ＨＰＬＣ、ＴＬＣ等の物理化
学的性質において同一化合物であった。
【０５９６】製造例４５ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０５９７】
【化１６６】
【０５９８】７−ホルムアミド−３−モノメチルカルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリル（３．５４ｇ）にテトラヒドロフラン（４
０ｍｌ）、メタノール（４０ｍｌ）を加える。次いで、
室温で濃塩酸（３．６ｍｌ）を加え、同温で３時間攪拌
する。反応液を減圧下留去し、得られた残渣を酢酸エチ
ルで希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。得られた残渣
に、別途に２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）酢酸（４．９ｇ）、
ジシクロヘキシルカルボジイミド（１．５２ｇ）、１−
ヒドロキシ−１Ｈ−ベンズトリアゾール（１．０ｇ）を
テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に加え３０分間攪拌し
た溶液を室温にて加える。同温で一晩攪拌した後、反応
液を濾過し、濾液を酢酸エチル水で希釈する。さらに１
Ｎ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥、溶媒を留去する。得られた残渣をカラ
ムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2 、ベンゼン：酢酸エチ
ル＝６：１）で精製すると表記化合物（５．３９ｇ、収
率６６％）を得た。
【０５９９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ２．７５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．２５，３．５
２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．４０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．７７，５．０７（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），６．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈｚ），
６．４３（１Ｈ，ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｓ），７．２
１〜７．３９（４０Ｈ，ｍ）
【０６００】製造例４６ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕
−３−Ｎ−（２−メトキシエチル）カルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０６０１】
【化１６７】
【０６０２】製造例４５と同様にして上記化合物を得
た。（収率５３％）
【０６０３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ３．３２〜３．３８（５Ｈ，ｍ），３．４２（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．２５，３．４９（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．７８，５．０５（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），６．１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，９Ｈｚ），
６．４２（１Ｈ，ｓ），６．９４（１Ｈ，ｓ），７．３
〜７．４（４０Ｈ，ｍ）
【０６０４】製造例４７ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシアセトアミド〕−３−
Ｎ−（２−モノフルオロエチル）カルバモイルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
【０６０５】
【化１６８】
【０６０６】製造例４５と同様にして上記化合物を得
た。
【０６０７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） ３．１〜３．４（４Ｈ，ｍ），４．２〜４．４（２Ｈ，
ｍ），４．８５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．
９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），６．０４（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，８．９Ｈｚ），６．４４（１
Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．１〜７．５（４
０Ｈ，ｍ）
【０６０８】製造例４８ ７−〔（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−トリチルオキシアセトアミド〕−３−
Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）カルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリル
【０６０９】製造例４５と同様にして上記化合物を得
た。
【０６１０】
【化１６９】
【０６１１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） ３．２１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），３．５２〜
３．５８（２Ｈ，ｍ），４．８８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝
１４Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），
６．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，８．８Ｈ
ｚ），６．４５（１Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｓ），
７．１３〜７．４７（４０Ｈ，ｍ）
【０６１２】実施例４５ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−カ
ルボン酸ナトリウム塩
【０６１３】
【化１７０】
【０６１４】製造例４５で得られた化合物（５．３５
ｇ）のアニソール（２５ｍｌ）溶液に氷冷下トリフルオ
ロ酢酸（２０ｍｌ）を加え、次いで同温で１時間攪拌す
る。反応液にイソプロピルエーテルを加え沈澱物を濾取
する。得られた粉末状固体にギ酸（３５ｍｌ）を加え、
室温で１時間攪拌する。反応液を減圧下留去し、残渣を
メタノールで希釈する。この溶液に酢酸ナトリウム
（１．０ｇ）を加えメタノールを留去する。得られた残
渣を酢酸エチルで希釈しイソプロピルエーテルで粉末状
にする。これを液体クロマトグラフィーで精製すると表
記化合物（３２６ｍｇ、収率１４％）が得られた。
【０６１５】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．５４（３Ｈ，ｓ），３．２１，３．５１（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．６０，４．７０（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），５．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ），５．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
６．８３（１Ｈ，ｓ）
【０６１６】実施例４６ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−（２−メトキシエチル）カルバモイルオキシメチル−
３−セフェム−カルボン酸ナトリウム塩
【０６１７】
【化１７１】
【０６１８】製造例４６の化合物を用い、実施例４５と
同様にして上記化合物を得た。（収率４６％）
【０６１９】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ３．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．２０（３Ｈ，
ｓ），３．２６，３．５３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈ
ｚ），３．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．５５，
４．７６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．０９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、５．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｓ）
【０６２０】実施例４７ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−（２−モノフルオロエチル）カルバモイルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩
【０６２１】
【化１７２】
【０６２２】製造例４７の化合物を使って実施例４５と
同様に処理し上記化合物を得た。
【０６２３】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ３．２〜３．５（４Ｈ，ｍ），４．２〜４．４（２Ｈ，
ｍ），４．６５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．
０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．８０（１Ｈ，ｓ）
【０６２４】実施例４８ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−（２，２，２−トリフルオロエチル）カルバモイルオ
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム
塩
【０６２５】
【化１７３】
【０６２６】製造例４８の化合物を用い実施例４５と同
様にして上記化合物を得た。
【０６２７】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ３．３９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．６６〜
３．７３（２Ｈ，ｍ），４．７１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝
１３Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．８１（１
Ｈ，ｓ）
【０６２８】実施例４９ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸 ピバロイルオキシメチル
【０６２９】
【化１７４】
【０６３０】実施例４５で得られた化合物（１０６ｍ
ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２ｍｌ）溶液に
氷冷下ヨードメチルピバレート（５１ｍｇ）を加え、次
いで同温で１時間攪拌する。反応液に酢酸エチル、水を
加え酢酸エチル層を分取し、飽和食塩水で洗浄、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。得られ
た残渣を酢酸エチルに溶かしイソプロピルエーテルを加
え沈澱物を濾取し、イソプロピルエーテルで洗浄すると
表記化合物（４４ｍｇ、収率３５％）が得られた。
【０６３１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．１３〜１．１５（９Ｈ，ｍ），２．７０（３Ｈ，
ｓ），３．４２〜３．５９（２Ｈ，ｍ），４．７２〜
４．７６（１Ｈ，ｍ），４．９５〜５．０５（２Ｈ，
ｍ），５．７８〜５．８１（１Ｈ，ｍ），５．８１〜
５．８９（２Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，ｓ）
【０６３２】実施例５０ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニルオキ
シ）エチル
【０６３３】
【化１７５】
【０６３４】実施例４９と同様にして上記化合物を得
た。（収率５５％）
【０６３５】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．２５〜１．３５（９Ｈ，ｍ），１．５１〜１．５７
（３Ｈ，ｍ），２．７０（３Ｈ，ｓ），３．４８〜３．
７０（２Ｈ，ｍ），４．７５〜４．９０（１Ｈ，ｍ），
５．０２〜５．０９（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），
５．１６〜５．２１（１Ｈ，ｍ），５．９０〜５．９５
（１Ｈ，ｍ），６．７５（１Ｈ，ｓ），６．８４〜６．
９５（１Ｈ，ｍ）
【０６３６】実施例５１ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−（２−メトキシエチル）カルバモイルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチ
ル
【０６３７】
【化１７６】
【０６３８】実施例４６で得られた化合物を用い実施例
４９と同様にして上記化合物を得た。
【０６３９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２６〜１．２８（９Ｈ，ｍ），３．３６〜３．４０
（５Ｈ，ｍ），３．４７〜３．５０（３Ｈ，ｍ），３．
６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．８４，５．１０
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、５．０４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），５．８６〜５．９６（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．９１〜５．９４（１Ｈ，
ｍ），７．０５（１Ｈ，ｓ）
【０６４０】実施例５２ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−（２−モノフルオロエチル）カルバモイルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシ
メチル
【０６４１】
【化１７７】
【０６４２】実施例４７で得られた化合物を用い実施例
４９と同様にして上記化合物を得た。
【０６４３】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．２２（９Ｈ，ｓ），３．３〜３．４（２Ｈ，ｍ），
３．６３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．３５〜
４．５０（２Ｈ，ｍ），４．９６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝
１３Ｈｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．８３〜５．９４（３Ｈ，ｍ），６．７６（１Ｈ，
ｓ）
【０６４４】実施例５３ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−Ｎ
−（２，２，２−トリフルオロエチル）カルバモイルオ
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイ
ルオキシメチル
【０６４５】
【化１７８】
【０６４６】実施例４８で得た化合物を用い実施例４９
と同様にして上記化合物を得た。
【０６４７】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．２１（９Ｈ，ｓ）、３．６１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝
１８Ｈｚ），３．７４〜３．８１（２Ｈ，ｍ），５．０
０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．１９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．８３〜５．９４（３Ｈ，
ｍ），６．７６（１Ｈ，ｓ）
【０６４８】実施例５４ ７−ホルムアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム塩
【０６４９】
【化１７９】
【０６５０】７−ホルムアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（１３９ｇ）を塩化メチレ
ン（１．４リットル）に溶解後、アニソール（６９．５
ｍｌ）及びトリフルオロ酢酸（３４８ｍｌ）を加え、３
０分間攪拌する。反応後、溶媒を減圧留去後、少量の酢
酸エチルに溶解後、ジイソプロピルエーテルとジエチル
エーテルの混液でトリチュレートし、析出する結晶を濾
取する。ついでこれをメタノール（５００ｍｌ）に溶解
した後、酢酸ナトリウム（３４．５ｇ）及びイソプロピ
ルアルコール（５００ｍｌ）を加え、析出する結晶を濾
取する。ジイソプロピルエーテルで洗浄後、風乾して目
的物（８０．２ｇ、収率８２％）を得た。
【０６５１】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．７５（６Ｈ，ｓ）３．３０，３．５３（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１８．１Ｈｚ），４．５３，４．８１（２Ｈ，
ＡＢｑ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝４．８Ｈｚ），５．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），８．０８（１Ｈ，ｓ）
【０６５２】実施例５５ ７−ホルムアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−
（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル
【０６５３】
【化１８０】
【０６５４】実施例５４で得た化合物（８４ｇ）をジメ
チルホルムアミド（４２０ｍｌ）に溶解後、氷冷下、ヨ
ード−１−イソプロポキシカルボニルオキシエタン（６
１．７ｇ）を加え２時間攪拌する。反応後、水−酢酸エ
チルの混液に投じ、有機層を分取する。水、１０％チオ
硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去後、カラムク
ロマトに付し、目的物（４４．７ｇ、収率４０％）を得
た。
【０６５５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２９〜１．３４（６Ｈ，ｍ），１．５７〜１．５９
（３Ｈ，ｍ） ２．９１（６Ｈ，ｓ）、３．４６〜３．６２（２Ｈ，
ｍ）、４．８６〜５．２２（４Ｈ，ｍ）、５．８８〜
５．９５（１Ｈ，ｍ）、６．３９（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．３Ｈｚ） ６．４７（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ） ６．８８〜６．９２（０．５Ｈ，ｍ） ６．９８〜７．０２（０．５Ｈ，ｍ）、８．２７（０．
５Ｈ，ｓ）、８．２８（０．５Ｈ，ｓ）
【０６５６】実施例５６ ７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−（イソプ
ロポキシカルボニルオキシ）エチル塩酸塩
【０６５７】
【化１８１】
【０６５８】実施例５５で得た化合物（４４．２ｇ）
を、メタノール（４４０ｍｌ）とテトラヒドロフラン
（２２０ｍｌ）との混液に溶解後、濃塩酸（４５ｍｌ）
を加え、室温で５時間攪拌する。反応後、溶媒を減圧留
去後、水−酢酸エチルの混液に投じ、重曹水でｐＨ６．
５に調整する。有機層を分取後、飽和食塩水で洗浄す
る。硫酸ナトリウムで乾燥後、塩酸の酢酸エチル溶液を
加える。溶媒を減圧留去後、目的物（４７ｇ、収率１０
０％）を得た。
【０６５９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２３〜１．３０（６Ｈ，ｍ）、１．５４〜１．５７
（３Ｈ，ｍ），２．９０（６Ｈ，ｓ），３．４９，３．
８１（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ），３．５０，
３．８０（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ），４．８
６〜５．２９（５Ｈ，ｍ）、６．８３〜６．８６（１
Ｈ，ｍ）
【０６６０】実施例５７ ７−（４−ブロモ−３−オキソブチリルアミノ）−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニ
ルオキシ）エチル
【０６６１】
【化１８２】
【０６６２】ジケテン（０．９２ｍｌ）を塩化メチレン
（１０ｍｌ）に溶かし、−３０℃に冷却し攪拌した。こ
れに臭素（０．６６ｍｌ）を含む塩化メチレン溶液（３
ｍｌ）を滴下し、４−ブロモ−３−オキソ酪酸ブロミド
を調整した。
【０６６３】一方、７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 １−（イソプロピルオキシカルボニルオキシ）エ
チルエステル（５．０５ｇ）を、ビストリメチルシリル
アセトアミド（５．８ｍｌ）と共に、塩化メチレン（６
０ｍｌ）に溶解し、−３０℃にて前記４−ブロモ−３−
オキソ酪酸ブロミド溶液を滴下した。ついで氷冷で１時
間攪拌後、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、減圧濃縮した。これをシリカゲル
カラムクロマト（１５０ｇ）に付して、目的物（４．８
ｇ、収率６８．９％）を得た。
【０６６４】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．２８〜１．３４（６Ｈ，ｍ），１．５９（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．９２（６Ｈ，ｓ），３．４９，
３．８８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），３．５１〜
３．７５（２Ｈ，ｍ），４．０３〜４．０７（２Ｈ，
ｍ），４．８５〜５．２７（４Ｈ，ｍ），５．８０〜
５．９０（１Ｈ，ｍ），６．９１（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝
５Ｈｚ），７．００（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝５Ｈｚ）
【０６６５】実施例５８ ７−（４−ブロモ−３−オキソ−２−ヒドロキシイミノ
ブチリルアミノ）−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸１−（イ
ソプロポキシカルボニルオキシ）エチル
【０６６６】
【化１８３】
【０６６７】実施例５７で得た化合物（４．５ｇ）を酢
酸（４５ｍｌ）に溶解し、氷冷下、亜硝酸ナトリウム
（０．５８ｇ）を加え、次いで室温で１時間攪拌した。
反応液に酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。これをシ
リカゲルクロマト（１００ｇ）に付して表記化合物
（３．７６ｇ、収率７９．６％）を得た。
【０６６８】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．３０〜１．３４（６Ｈ，ｍ），１．５６〜１．６１
（３Ｈ，ｍ），２．９３（６Ｈ，ｓ），３．５０〜３．
６８（３Ｈ，ｍ），４．５４（２Ｈ，ｓ），４．８７〜
５．３０（４Ｈ，ｍ），５．８４〜５．９０（１Ｈ，
ｍ），６．９２（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），
７．０１（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），９．４０
〜９．４５（１Ｈ，ｍ）
【０６６９】実施例５９ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（イソプロピルオキシカル
ボニルオキシ）エチル
【０６７０】
【化１８４】
【０６７１】実施例５８で得た化合物（１．０ｇ）をジ
メチルアセトアミド（１５ｍｌ）に溶解し、チオ尿素
（０．２４４ｇ）を加え５℃で１２時間攪拌した。反応
液に酢酸エチル（２００ｍｌ）を加え、水、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水し減圧濃縮し
た。これを酢酸エチル（１０ｍｌ）に溶解し、イソプロ
ピルエーテル（１５０ｍｌ）に攪拌下、滴下し、析出す
る沈澱物を濾取乾燥して表記化合物（０．６ｇ、収率６
２．３％）を得た。
【０６７２】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．２６〜１．３７（６Ｈ，ｍ），１．５８〜１．６２
（３Ｈ，ｍ），２．９３（６Ｈ，ｓ），３．５０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９Ｈｚ），３．６０，３．６１（合わせ
て１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９Ｈｚ），４．９〜５．２４（３
Ｈ，ｍ），５．０４，５．０７（合わせて１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈ
ｚ），６．９２，７．０２（合わせて１Ｈ，ｑ，Ｊ＝
５．５Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｓ）
【０６７３】実施例６０ ７−（４−クロロ−３−オキソブチリルアミノ）−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニ
ルオキシ）エチル
【０６７４】
【化１８５】
【０６７５】ジケテン（２１ｍｌ）を塩化メチレン（６
０ｍｌ）に溶かし−３０℃に冷却し、これに塩素ガスを
淡黄色になるまでふきこんだ。過剰の塩素をチッ素ガス
で追い出し、さらに減圧下塩化メチレンを留去した。残
渣を蒸留して、沸点７５〜８５℃（８ｍｍ／Ｈｇ）の４
−クロロ−３−オキソ酪酸クロリド（７．１ｇ）を得
た。
【０６７６】一方、７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 １−（イソプロピルオキシカルボニルオキシ）エ
チルエステル（３ｇ）を、塩化メチレン（４５ｍｌ）に
溶解し、氷冷下Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（０．９８ｍ
ｌ）を加え攪拌した。これに前記４−クロロ−３−オキ
ソ酪酸クロリド（１．２ｇ）の塩化メチレン（１５ｍ
ｌ）溶液を−３０℃にて滴下した。ついで氷冷で１時間
攪拌後、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥し減圧濃縮した。これをシリカゲルクロ
マト（７０ｇ）に付して表記化合物（０．５９ｇ、収率
２５．１％）を得た。
【０６７７】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．２９〜１．３３（６Ｈ，ｍ），１．５８（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），１．５９（１．５Ｈ×２，ｓ），
１．５８（１．５Ｈ，ｓ），１．５９（１．５Ｈ，
ｓ），２．９２（６Ｈ，ｓ），３．４６〜４．２６（６
Ｈ，ｍ），４．８５〜５．３５（４Ｈ，ｍ），５．８０
〜５．８７（１Ｈ，ｍ），６．９０（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．９９（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝５Ｈｚ），
７．５３（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．６１
（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【０６７８】実施例６１ ７−（４−クロロ−３−オキソ−２−ヒドロキシイミノ
ブチリルアミノ）−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸１−（イ
ソプロポキシカルボニルオキシ）エチル
【０６７９】
【化１８６】
【０６８０】実施例６０で得た化合物（０．５ｇ）を塩
化メチレン（５ｍｌ）に溶解し、室温下塩化アセチル
（０．０９２ｍｌ）、亜硝酸イソアミル（０．１６７ｍ
ｌ）を加え、同温度で５．５時間攪拌した。反応液を
水、飽和食塩水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し
減圧濃縮した。これをシリカゲルクロマトに付して表記
化合物（０．４８ｇ、収率７７．３％）を得た。
【０６８１】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） １．２９〜１．３４（６Ｈ，ｍ），１．５９（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），２．９３（３Ｈ，ｓ），３．５
１〜３．６６（２Ｈ，ｍ），４．７８（２Ｈ，ｓ），
４．８２〜４．９８（１．５Ｈ，ｍ），５．１４〜５．
３１（１．５Ｈ，ｍ），５．０５〜５．０８（１Ｈ，
ｍ），５．８４〜５．９０（１Ｈ，ｍ），６．９１
（０．５Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），７．００（０．５
Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），９．３５〜９．４０（１
Ｈ，ｍ）
【０６８２】実施例６２ ７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニ
ルオキシ）エチル
【０６８３】
【化１８７】
【０６８４】実施例６１で得た化合物（０．４８ｇ）を
ジメチルアセトアミド（７ｍｌ）に溶解し、チオ尿素
（０．１２６ｇ）を加え５℃で１６時間攪拌した。反応
液に酢酸エチル（８０ｍｌ）を加え、水、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水し減圧濃縮した。
これを酢酸エチル（５ｍｌ）に溶解し、イソプロピルエ
ーテル（７０ｍｌ）に攪拌下滴下し、析出する沈澱物を
濾取乾燥して表記化合物（０．２５２ｇ、収率５０．６
％）を得た。このものは実施例５９で得られた化合物と
ＮＭＲ，ＨＰＬＣにおいて、一致した。
【０６８５】実施例６３ ７−ホルムアミド−３−ｐ−ニトロフェノキシカルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ベン
ズヒドリルエステル
【０６８６】
【化１８８】
【０６８７】７−ホルムアミド−３−ハイドロキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（１０６ｇ）と、ｐ−ニトロフェニルクロロホルメ
ート（５０．４ｇ）とを、氷冷下、テトラハイドロフラ
ン（７００ｍｌ）中で攪拌した。この懸濁液にピリジン
（１９．８ｇ）を５分間かけて滴下加えた。３５分後、
酢酸エチル（１リットル）と水（１リットル）からなる
混液に投入し、有機層を水（０．５リットル）で２回、
飽和食塩水で１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を約４００ｍｌまで減圧留去した。残滓をイソプロ
ピルエーテル（２リットル）中にゆっくり投入して、生
じた結晶を濾取し目的物（１３３ｇ）を得た。（収率９
０％）
【０６８８】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ３．６７，３．７７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），
４．９１，５．１１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
５．２１（１Ｈ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．９１（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，８．５Ｈｚ），６．９１（１
Ｈ，ｓ），７．２〜７．５（１２Ｈ，ｍ），８．１４
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），８．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９Ｈｚ），９．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【０６８９】実施例６４ ７−ホルムアミド−３−ｐ−ニトロフェノキシカルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
【０６９０】
【化１８９】
【０６９１】実施例６３で得た化合物（１３３ｇ）をジ
クロロメタン（２６５ｍｌ）に攪拌懸濁し、氷冷下、ト
リフルオロ酢酸（２００ｍｌ）を２５分間かけ滴下して
加えた。１０分後、イソプロピルエーテル（２．５リッ
トル）中に投入し、生じた結晶を濾取し、さらにイソプ
ロピルエーテルで洗浄して目的物（１０３ｇ）を得た。
（収率９７．４％）
【０６９２】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ３．６２，３．７２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），
４．９４，５．２３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．６Ｈ
ｚ），５．１５（１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．８１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｓ），
８．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），９．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【０６９３】実施例６５ ７−チエニルアセトアミド−３−ｐ−ニトロフェノキシ
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ベンズヒドリルエステル
【０６９４】
【化１９０】
【０６９５】７−チエニルアセトアミド−３−ハイドロ
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ベンズヒ
ドリルエステル（１．６ｇ）と、ｐ−ニトロフェニルク
ロロホルメート（０．６ｇ）とを用い実施例６３と同様
にして目的物（２．３ｇ、定量的）を得た。
【０６９６】ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ，δ） ３．４３，３．６２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），
４．８５（２Ｈ，ｓ）４．９７，５．２４（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１３Ｈｚ），５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５
Ｈｚ），５．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，９Ｈ
ｚ），６．９３（１Ｈ，ｓ），６．９７〜７．０２（２
Ｈ，ｍ），７．２４〜７．３８（１１Ｈ，ｍ），７．４
２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ）
【０６９７】実施例６６ ７−チエニルアセトアミド−３−ｐ−ニトロフェノキシ
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸
【０６９８】
【化１９１】
【０６９９】実施例６５で得た化合物（１．４ｇ）、ト
リフルオロ酢酸（１ｍｌ）及びアニソール（２ｍｌ）
を、氷冷下３０分間攪拌した。イソプロピルエーテル
（５０ｍｌ）を加え、生じた沈殿を濾取して目的物（９
００ｍｇ、収率８５％）を得た。
【０７００】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） ３．５７，３．７３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），
３．８０（２Ｈ，ｓ）５．０６，５．３３（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５
Ｈｚ），５．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），６．
９〜７．０（２Ｈ，ｍ），７．２３〜７．２８（１Ｈ，
ｍ），７．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．２９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【０７０１】実施例６７ ７−ホルムアミド−３−フェノキシカルボニルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸 ベンズヒドリル
エステル
【０７０２】
【化１９２】
【０７０３】ｐ−ニトロフェニルクロロホルメートの代
りに、フェニルクロロホルメートを用いて実施例６３と
同様にして、目的物を得た。（収率９０％）
【０７０４】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ３．６６，３．７５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），
４．８５，５．０５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ），
５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），５．９１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，８Ｈｚ），６．９０（１
Ｈ，ｓ），７．１７〜７．５０（１５Ｈ，ｍ）８．１４
（１Ｈ，ｓ），９．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【０７０５】実施例６８ ７−ホルムアミド−３−フェノキシカルボニルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸
【０７０６】
【化１９３】
【０７０７】実施例６７で得た化合物を用いて、実施例
６４と同様に処理して、目的物を得た。（収率９０％）
【０７０８】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ３．６１，３．７２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），
４．８９，５．１９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，８Ｈｚ），７．
２０〜７．４５（５Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｓ），
９．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【０７０９】実施例６９ ７−ホルムアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ナトリ
ウム塩
【０７１０】
【化１９４】
【０７１１】実施例６４で得た化合物（１０３ｇ）をメ
タノール（６００ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ジメチルア
ミン（２２ｇ）を含むテトラハイドロフラン（４４ｍ
ｌ）を５分間かけて滴下した。１時間後、酢酸ナトリウ
ム（２４ｇ）を加え、減圧下濃縮をした。残滓に、イソ
プロピルアルコール（０．８リットル）を加え、続い
て、イソプロピルエーテル（１．５リットル）を加え、
生じた沈澱を濾過して集めた。得られた固体をメタノー
ル（０．５リットル）に溶解し、結晶が析出した後、イ
ソプロピルエーテル（１．５リットル）を加え濾過して
目的物（７２ｇ）を得た。（収率８４％）
【０７１２】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ２．７９（６Ｈ，ｓ），３．２２，３．４６（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ），４．６８，４．９４（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ），４．９６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ，９Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｓ），８．９
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【０７１３】実施例７０ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
【０７１４】
【化１９５】
【０７１５】実施例６６で得た化合物（１００ｍｇ）を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）に溶解し、氷
冷下５０％ジメチルアミン水溶液（５０ｍｇ）を加え１
５分間反応させた。酢酸エチル（５０ｍｌ）と水（３０
ｍｌ）を加え、有機層を分離し、水洗、飽和食塩水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し、残滓に
イソプロピルエーテルを加え、生じた固体を濾過して目
的物（６０ｍｇ、収率７５％）を得た。
【０７１６】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ） ２．８２（３Ｈ，ｓ），２．８４（３Ｈ，ｓ），３．４
８，３．６０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１９Ｈｚ），３．７
８（２Ｈ，ｓ）４．４８，４．９９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１１Ｈｚ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈ
ｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，８Ｈ
ｚ），６．９２〜７．００（２Ｈ，ｍ），７．３８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），９．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）
【０７１７】実施例７１ ７−ホルムアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェムカルボン酸 ナトリウム塩
【０７１８】
【化１９６】
【０７１９】実施例６８で得た化合物を用いて、実施例
６９と同様にして目的物を得た。（収率３５％）
【０７２０】本実施例で得た化合物は、ＨＰＬＣ（高速
液体クロマトグラフィー）、ＴＬＣ（薄層クロマトグラ
フィー）、ＮＭＲスペクトルなど全ての物理化学的性質
において実施例６９と同一の化合物であった。
【０７２１】製造例４９ ７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸 第３級ブチル−１−オキ
シド
【０７２２】
【化１９７】
【０７２３】７−フェニルアセトアミド−３−ブロモメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸第３級ブチル−１
−オキシド（７６．１ｇ、０．１５８ｍｏｌ）のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（３５０ｍｌ）溶液に、トリフ
ルオロ酢酸アンモニウム（４１．３ｇ、０．３１６ｍｏ
ｌ）とヨウ化ナトリウム（２３．６ｇ、０．１５８ｍｏ
ｌ）を加え、室温でかくはんした。かくはん開始４時間
３５分後に、トリフルオロ酢酸アンモニウム（１０．３
ｇ、０．０７９ｍｏｌ）を、８時間５分後にヨウ化ナト
リウム（１１．８ｇ、０．０７９ｍｏｌ）をそれぞれ反
応液に加え、室温でかくはんを計２４時間２５分間続け
た。反応液を酢酸エチルと水の混液に注ぎ、酢酸エチル
層を分取した。水層はさらに酢酸エチルで２回抽出し
た。酢酸エチル層を合し、水、飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶
媒を減圧下留去し、７−フェニルアセトアミド−３−ヒ
ドロキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸第３級
ブチル−１−オキシド（６３．５ｇ、収率９６．１％）
を得た。
【０７２４】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．５８（９Ｈ，ｓ），３．１７，３．９４（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１８．７Ｈｚ），３．００（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ），３．６２（２Ｈ，ｓ），４．１３，４．４７（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），４．４２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ，９．７Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．７Ｈｚ），７．２４〜７．３０（５Ｈ，ｍ）
【０７２５】製造例５０ ７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
第３級ブチル−１−オキシド
【０７２６】
【化１９８】
【０７２７】７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸第３級ブチル
−１−オキシド（６３．５ｇ、０．１５１ｍｏｌ）のテ
トラヒドロフラン（５００ｍｌ）溶液に、Ｎ，Ｎ′−カ
ルボニルジイミダゾール（２４．５ｇ、０．１５１ｍｏ
ｌ）を氷冷下加え、同温度で５０分間かくはんした。反
応液を酢酸エチルと水の混液に注ぎ、酢酸エチル層を分
取した。酢酸エチル層は、水、飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤
をろ過で除き、ろ液に５０％ジメチルアミン水溶液（１
３．６ｇ、０．１５１ｍｏｌ）を氷冷下加え、同温度で
３時間４５分間かくはんした。反応液を酢酸エチルと１
規定塩酸の混液に注ぎ、酢酸エチル層を分取し、水層は
さらに酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を合し、
水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下に留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
第３級ブチル−１−オキシド（１５．８ｇ、収率２１．
２％）を得た。
【０７２８】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．１３（９Ｈ，ｓ），２．８８（３Ｈ，ｓ），２．８
９（３Ｈ，ｓ），３．１７，３．８０（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１９．０Ｈｚ），３．６２（２Ｈ，ｓ），４．４２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．７０，５．３１
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ），６．０３（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，９．９Ｈｚ），６．７７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ），７．２５〜７．３６
（５Ｈ，ｍ）
【０７２９】製造例５１ ７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
第３級ブチル
【０７３０】
【化１９９】
【０７３１】７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸第３級ブチル−１−オキシド（１５．８
ｇ、０．０３２２ｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（１２０ｍｌ）溶液に、三塩化リン（８．４ｍｌ、
０．０９６３ｍｏｌ）をドライアイス−メタノール冷却
下、液温が−１５℃を越えないように５分間をかけて滴
下し、その後ドライアイス−メタノールで冷却しながら
２０分間かくはんした。反応液を酢酸エチルで希釈した
後、ドライアイス−メタノールで冷却しつつ、液温が−
１０℃を越えないように水を少しずつ加えた。酢酸エチ
ル層を分取し、水層はさらに酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を合し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順
次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減
圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製して、７−フェニルアセトアミド−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸第３級ブチル（９．３ｇ、収率６
０．８％）を得た。
【０７３２】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．４８（９Ｈ，ｓ），２．８８（３Ｈ，ｓ），２．８
９（３Ｈ，ｓ），３．３４，３．５０（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１８．５Ｈｚ），３．６３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
３．６Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ），４．７７，５．０９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．
６Ｈｚ），５．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，
９．２Ｈｚ），６．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈ
ｚ），７．２４〜７．３６（５Ｈ，ｍ）
【０７３３】製造例５２ ７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム
【０７３４】
【化２００】
【０７３５】７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸第３級ブチル（９．２ｇ）のアニソール
（４．５ｍｌ）およびジクロロメタン（５０ｍｌ）溶液
にトリフルオロ酢酸（９ｍｌ）を氷冷下適下した。４時
間３０分後さらにトリフルオロ酢酸（１８ｍｌ）を同温
度で適下し、最初の適下時から合計で６時間２０分間に
亘って、同温度でかくはんを続けた。反応液を減圧下濃
縮後、ジイソプロピルエーテルを加え、上澄液を傾斜法
で除いた。残渣をメタノールに溶解させ、さらに酢酸ナ
トリウム（１．０５ｇ）を加え、均一系となるまでかく
はんした。これにジイソプロピルエーテルを加え、析出
物をろ取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、減圧下
乾燥した。このものをＯＤＳで精製し、７−フェニルア
セトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム
（２．２ｇ、収率２５．８％）を得た。
【０７３６】ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ，δ） ２．７４（６Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．２１，３．４７（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．９Ｈｚ），３．５１，３．５７
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．５１，４．
７４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ），４．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），５．４８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝４．６Ｈｚ），７．１８〜７．２８（５Ｈ，ｍ）
【０７３７】製造例５３ ７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル
【０７３８】
【化２０１】
【０７３９】７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ナトリウム（２．２ｇ、０．００５ｍｏ
ｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）溶液
に、イソプロピル−１−ヨードエチルカーボネート
（１．２９ｇ、０．００５ｍｏｌ）を氷冷下一気に加
え、同温度で３０分間かくはんを続けた。反応液を酢酸
エチルと水の混液に注ぎ、酢酸エチル層を分取した。酢
酸エチル層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下に
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、７−フェニルアセトアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジ
メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニルオキシ）
エチル（１．４３ｇ、収率５２．１％）を得た。
【０７４０】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δ） １．２２〜１．２９（６Ｈ，ｍ），１．２６（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝４．９Ｈｚ），２．８５（６Ｈ，ｂｒ．ｓ），
３．３５，３．４８（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．４Ｈ
ｚ），３．３６，３．４９（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．
４Ｈｚ），３．５５（２Ｈ，ｓ），４．７５〜４．８８
（３Ｈ，ｍ），５．０４，５．１０（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１３．９Ｈｚ），５．７１〜５．７６（１Ｈ，ｍ），
６．７７〜６．８２（１Ｈ，ｍ），６．９１（０．５
Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．９４（０．５Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．１９〜７．２９（５Ｈ，ｍ）
【０７４１】実施例７２ ７β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−カルボン酸（イソプロポキシカルボニルオキシ）
メチルエステル塩酸塩
【０７４２】
【化２０２】
【０７４３】実施例６３の化合物と、ヨードメチルイソ
プロピルカーボネートとを反応させて、上記化合物を得
た。（収率５１％）
【０７４４】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．２９（６Ｈ，ｍ），２．９０（３Ｈ，ｓ），２．９
２（３Ｈ，ｓ），３．５５，３．７１（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１８Ｈｚ），４．７８，５．１３（２Ｈ，ＡＢｑ，
Ｊ＝１４Ｈｚ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．９０〜５．９
７（２Ｈ，ｍ），６．８４（１Ｈ，ｓ）
【０７４５】実施例７３ ７β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−カルボン酸 （５−メチル−２−オキソ−１，３
−ジオキソレン−４−イル）メチルエステル 塩酸塩
【０７４６】
【化２０３】
【０７４７】実施例６３の化合物と（５−メチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルアイ
オダイドとを反応させて、上記化合物を得た。（収率４
９％）
【０７４８】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） ２．２（３Ｈ，ｓ），２．８７（３Ｈ，ｓ），２．９２
（３Ｈ，ｓ），３．５２，３．６９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ
＝１８Ｈｚ），４．８〜５．１８（４Ｈ，ｍ），５．２
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）
【０７４９】実施例７４ ７−アミノ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １（イソプロ
ポキシカルボニルオキシ）エチル（塩酸塩）
【０７５０】
【化２０４】
【０７５１】五塩化リン（６２５ｍｇ、３ｍｍｏｌ）の
ジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液に、ピリジン（２３７
ｍｇ、３ｍｍｏｌ）を室温で加え、同温度で２０分間か
くはんした。この液を氷冷し、これに７−フェニルアセ
トアミド−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−（イソプロ
ポキシカルボニルオキシ）エチル（５４９ｍｇ、１ｍｍ
ｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液を同温度下で
加え、１時間１０分かくはんを続けた。反応液をドライ
アイス−メタノールで冷却し、１，４ブタンジオール
（１ｍｌ）とメタノール（１ｍｌ）を加え３０分間かく
はんした後に、さらに同温度下に水を加えた。反応液を
さらに水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。水層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ６．５に調整し、酢酸
エチルで抽出した。後者の酢酸エチル層を飽和塩化ナト
リウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
乾燥剤をろ取し、得られたろ液に塩化水素酢酸エチル溶
液を加え、溶媒を減圧下に留去して、７−アミノ−３−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニ
ルオキシ）エチル（塩酸塩）（９０ｍｇ、収率１９．３
％）を得た。
【０７５２】ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ，δ） １．２１〜１．３０（６Ｈ，ｍ）１．５２〜１．５５
（３Ｈ，ｍ），２．８６〜３．０２（６Ｈ，ｍ），３．
７０，３．７８（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８．１Ｈｚ），
３．７７，３．８２（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．７Ｈ
ｚ），４．８１〜４．９２（１Ｈ，ｍ），４．９０，
５．１０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），５．１
１〜５．２３（０．５Ｈ，ｍ），５．２８〜５．３３
（０．５Ｈ，ｍ），６．８２〜６．８８（０．５Ｈ，
ｍ），６．９１〜６．９７（０．５Ｈ，ｍ）
【化２０５】
【化２０６】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平3−169512 (32)優先日 平３(1991)４月12日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 小松 雄毅 茨城県つくば市梅園２−16−１ (72)発明者 鎌田 厚 茨城県つくば市春日４−19−13 (72)発明者 鶴岡 明彦 茨城県つくば市天久保２−23−５ (72)発明者 町田 善正 茨城県つくば市下広岡500−81

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ａは−ＣＨ＝または−Ｎ＝を示し、Ｒ1 は水酸
    基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級アルコキシ基ま
    たは保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ2 及びＲ3 は
    同一または異なって低級アルキル基、水酸基置換低級ア
    ルキル基、カルバモイル置換低級アルキル基、またはシ
    アノ置換低級アルキル基を示すか、Ｒ2 は水素原子であ
    ってＲ3 は低級アルコキシ基又はハロゲン原子で置換さ
    れてもよい低級アルキル基を示すか、あるいは式： 【化２】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基または水酸基置換低級アルキル基で置換さ
    れていてもよい。Ｒ4 はカルボキシル基または保護基で
    保護されたカルボキシル基を示す。）で表される７−ア
    シル−３−置換カルバモイルオキシセフェム化合物また
    はその医薬として許容される塩。
  2. 【請求項２】 Ａが−ＣＨ＝で表わされる請求項１記載
    の化合物。
  3. 【請求項３】 Ｒ1 が水酸基である請求項１記載の化合
    物。
  4. 【請求項４】 式 【化３】 が 【化４】 −ＮＨＣＨ3 または−Ｎ（ＣＨ3)2 である請求項１記載
    の化合物。
  5. 【請求項５】 Ｒ4 がカルボキシル基、又は１−（イソ
    プロピルオキシカルボニルオキシ）エチル基、１−（エ
    トキシカルボニルオキシ）エチル基、１−（シクロヘキ
    シルオキシカルボニルオキシ）エチル基、ピバロイルオ
    キシメチル基およびイソプロピルオキシカルボニルオキ
    シメチル基から選ばれる基で保護されたカルボキシル基
    である請求項１記載の化合物。
  6. 【請求項６】 一般式（２）： 【化５】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は同一または異なって低級アルキ
    ル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバモイル置換低
    級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示す
    か、Ｒ2 は水素原子であってＲ3 は低級アルコキシ基又
    はハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基を示
    すか、あるいは式： 【化６】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基、または水酸基置換低級アルキル基で置換
    されていてもよい。Ｒ4 はカルボキシル基または保護基
    で保護されたカルボキシル基を示す。）で表される化合
    物あるいはそれらの塩と、一般式（３） 【化７】 （式中、Ａは−ＣＨ＝または−Ｎ＝を示し、Ｒ1 は水酸
    基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級アルコキシ基ま
    たは保護基で保護された水酸基、Ｒ6 はアミノ基または
    保護基で保護されたアミノ基を示す。）で表わされる化
    合物またはその反応性酸誘導体またはそれらの塩を反応
    させ、必要により、アミノ基、カルボキシル基または水
    酸基の保護基を離脱し、あるいはカルボキシル基を保護
    基で保護することを特徴とする、一般式（１） 【化８】 （式中、Ａ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は前記と同じ
    意味を示す。）で表わされる化合物またはその医薬とし
    て許容される塩の製造方法。
  7. 【請求項７】 一般式（４）： 【化９】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は同一または異なって低級アルキ
    ル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバモイル置換低
    級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示す
    か、Ｒ2 は水素原子であってＲ3 は低級アルコキシ基又
    はハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基を示
    すか、あるいは式： 【化１０】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基、または水酸基置換低級アルキル基で置換
    されていてもよい。Ｒ4 はカルボキシル基または保護基
    で保護されたカルボキシル基、そしてＸはハロゲン原子
    を示す。）で表わされる化合物またはその塩を、チオ尿
    素と反応させ、必要によりカルボキシル基の保護基を離
    脱し、あるいはカルボキシル基を保護基で保護すること
    を特徴とする、一般式（５）： 【化１１】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は前記と同じ意味を示
    す。）で表される化合物またはその塩の製造方法。
  8. 【請求項８】 一般式（６）： 【化１２】 （式中、R2 a 及びR3 a は同一または異なって低級アルキ
    ル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバモイル置換低
    級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示す
    か、あるいは式： 【化１３】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基または水酸基置換低級アルキル基で置換さ
    れていてもよい。Ｒ4 はカルボキシル基または保護基で
    保護されたカルボキシル基Ｒ5 はアミノ基または保護さ
    れたアミノ基を示す。）で表わされる化合物及びその
    塩。
  9. 【請求項９】 一般式（４）： 【化１４】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は同一または異なって低級アルキ
    ル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバモイル置換低
    級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示す
    か、Ｒ2 は水素原子でＲ3 は低級アルコキシ基又はハロ
    ゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基を示すか、
    あるいは式： 【化１５】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基置換低級アルキル基で置換されていてもよ
    い。Ｒ4 はカルボキシル基または保護基で保護されたカ
    ルボキシル基、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される
    化合物またはその塩。
  10. 【請求項１０】 一般式（７）： 【化１６】 （式中、Ｒ4 はカルボキシル基または保護基で保護され
    たカルボキシル基、Ｒ5はアミノ基または保護されたア
    ミノ基を示す。）で表される化合物と式： 【化１７】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は同一または異なって低級アルキ
    ル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバモイル置換低
    級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示す
    か、Ｒ2 は水素原子であってＲ3 は低級アルコキシ基又
    はハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基を示
    すか、あるいは式： 【化１８】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基または水酸基置換低級アルキル基で置換さ
    れていてもよい。）で表わされる化合物またはその塩を
    反応させることを特徴とする、一般式（８）： 【化１９】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は前記と同じ意味
    を示す。）で表わされる化合物またはその塩の製造方
    法。
  11. 【請求項１１】 一般式（９）： 【化２０】 （式中、Ｒ5 はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｙ
    は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子またはニト
    ロ基を示す。）で表される化合物またはその塩と式： 【化２１】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は同一または異なって低級アルキ
    ル基、水酸基置換低級アルキル基、カルバモイル置換低
    級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示す
    か、Ｒ2 は水素原子でＲ3 は低級アルコキシ基又はハロ
    ゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基を示すか、
    あるいは式： 【化２２】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基または水酸基置換低級アルキル基で置換さ
    れていてもよい。）で表わされる化合物またはその塩と
    反応させることを特徴とする、一般式(10)： 【化２３】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ5 および 【化２４】 は前記と同じ意味を示す。）で表わされる化合物または
    その塩の製造方法。
  12. 【請求項１２】 一般式（９）： 【化２５】 （式中、Ｒ5 はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｙ
    は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子またはニト
    ロ基を示す。）で表される化合物およびその塩。
  13. 【請求項１３】次に列記する化合物から選択された請求
    項１記載の化合物及びその薬理学的に許容される塩。 （１）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セ
    フェム−４−カルボン酸 １−（イソプロピルオキシカ
    ルボニルオキシ）エチル （２）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セ
    フェム−４−カルボン酸 １−（エトキシカルボニルオ
    キシ）エチル （３）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セ
    フェム−４−カルボン酸 １−（シクロヘキシカルボニ
    ルオキシ）エチル （４）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セ
    フェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチル （５）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セ
    フェム−４−カルボン酸 （イソプロポキシカルボニル
    オキシ）メチル （６）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −（１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３−
    セフェム−４−カルボン酸 １−（イソプロピルオキシ
    カルボニルオキシ）エチル （７）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −（１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３−
    セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチル （８）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
    −４−カルボン酸 １−（イソプロポキシカルボニルオ
    キシ）エチル （９）７−〔（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４
    −イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕−３
    −Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
    −４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチル
  14. 【請求項１４】 一般式（１）： 【化２６】 （式中、Ａは−ＣＨ＝または−Ｎ＝を示し、Ｒ1 は水酸
    基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級アルコキシ基ま
    たは保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ2 及びＲ3 は
    同一または異なって低級アルキル基、水酸基置換低級ア
    ルキル基、カルバモイル置換低級アルキル基、またはシ
    アノ置換低級アルキル基を示すか、Ｒ2 は水素原子でＲ
    3 は低級アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されても
    よい低級アルキル基を示すか、あるいは式： 【化２７】 で示される基は、窒素原子１個を含有する４〜６員複素
    環式基またはモルホリノ基を示し、それらは低級アルキ
    ル基、水酸基または水酸基置換低級アルキル基で置換さ
    れていてもよい。Ｒ4 はカルボキシル基または保護基で
    保護されたカルボキシル基を示す。）で表される７−ア
    シル−３−置換カルバモイルオキシセフェム化合物また
    はその医薬として許容される塩を有効成分として成る抗
    菌剤。
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