JPH01203393A

JPH01203393A - 新規セフアロスポリン系化合物

Info

Publication number: JPH01203393A
Application number: JP63025600A
Authority: JP
Inventors: Kenji Sakagami; 坂上　健司; Kunio Atsumi; 渥見　國夫; Takashi Yoshida; 隆吉田; Masayuki Shibahara; 聖至柴原
Original assignee: Meiji Seika Kaisha Ltd
Current assignee: Meiji Seika Kaisha Ltd
Priority date: 1988-02-08
Filing date: 1988-02-08
Publication date: 1989-08-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はβ−ラクタム系抗菌剤として有用な新規セファ
ロスポリン系化合物、並びにその医薬として許容される
塩及びエステル類に関する。さらに詳細には、本発明は
抗菌活性を有する新規なセファロスポリン系化合物及び
その医薬として許容される塩及びエステル、並びにその
製造法に関する。

（従来の技術及び解決すべき問題点）セファロスポリン系抗生物質はダラム陽性菌、ダラム陰
性菌に対し広い抗菌活性を示し、すでに種々の半合成セ
ファロスポリン系化合物が市販され、各種の感染性疾病
の治療剤として臨床的に用いられている。

しかしながら、これらの化合物の中で緑膿菌や変形菌に
対して抗菌活性を示す治療剤は数少ない。

また、これらの化合物は耐性菌により産生されるβ−ラ
クタマーゼに対して不安定であり、現在臨床上問題とさ
れている耐性菌に対する抗菌活性が低い等の欠点がある
（Ｗ、Ｅ、Ｗｉｃｋ　”Ｃｅｐｈａｌｏｓｐｏｒｉｎｓ
ａｎｄ　Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｎｓ、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
　ａｎｄ　Ｂｉｏｌｏｇｙ”　、　Ｅ。

Ｈ，Ｆｌｙｎｎ　ｍ＋　Ａｃａｃｌｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓ
ｓ＋　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、　Ｎ、Ｙ、。

１９７２、第１１章）。

（問題点を解決するための手段）本発明者らは後記の一般式（Ｉ）で示される新ｍセファ
ロスポリン系化合物を合成することに成功し、それらが
きわめて広範囲の抗菌スペクトルを有し、ダラム陽性菌
のみならず、ダラム陰性菌及びさらに耐性菌に対しても
強い抗菌活性を示すことを見い出して本発明を完成した
。

すなわち、本発明は、次式（Ｉ）〔式中、Ｒ１はアミノ基又は保護されたアミノ基であり
、ｎｔは水素原子、塩生成カチオン又はカルボキシル基
保ｉＩ基であり、Ｒ３は基−Ｃ１ｌｔＹ　（式中、Ｙは
置換基を有していてもよい複素環チオ基である）を示す
〕で表わされる新規セファロスポリン系化合物、並びに
その医薬として許容される塩及びエステルを提供するも
のである。

本明細書における用語の若干例について説明すると次の
とおりである。

「低級」なる語は、特にことわらない限り炭素原子１〜
６個を意味するものとする。

アミノ基の保護基とは、第３級ブトキシカルボニル基の
ごときアルコキシカルボニル基又はホルミル基、クロロ
アセチル基、トリチル基のごときアシル基などであって
、酸加水分解等により容易に脱離できる通常のアミノ保
護基である。Ｒ２が塩生成カチオンである場合、式（Ｉ
）の化合物の塩類（カルボン酸塩）としては、アルカリ
金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等が挙げ
られる。またＲＲがカルボキシル保護基である場合、か
−る保護基としては、アリール基、低級アルキル基、低
級アルコキシメチル基、低級アルキルチオメチル基、低
級アルカノイルオキシメチル基等、の通常、セファロス
ポリン類のカルボン酸基の保護に用いられるカルボキシ
ル保護基が挙げられる。

さらに式（Ｉ）の化合物が舌ステルの形である場合には
、Ｒ２は生体内で加水分解して除去し得る代謝上不安定
なエステル形成基も包含して、種々な置換されたアルキ
ル基の型のカルボキシル保護基も含まれる。このような
保護基の例としては、低級アルコキシカルボニルオキシ
アルキル基、低級アルキルカルボニルオキシアルキル基
、及び置換基を有してもよい（２−オキソ−１，３−ジ
オキソレン−４−イル）メチル基などが挙げられる。

Ｒ３が基−ｃｏｚｙである場合におけるＹの「置換基を
有していてもよい複素環チオ基」の複素環基とは、Ｏ，
Ｓ又はＮから選ばれた１〜４個の異種原子を含有する５
〜６員項であって、窒素原子はオキシド化されていても
よい。これらの複素環基としては、例えばピリジル基、
Ｎ−オキシドピリジル基、ピリダジニル基、Ｎ−オキシ
ドピリダジニル基、ピラゾリル基、ジアゾリル基、チア
ゾリル基、チアジアゾリル基、オキサジアゾリル基、ト
リアゾリル基、テトラゾリル基等であり得る。又、これ
らの複素環基上には、例えば炭素数１〜３のアルキル基
、炭素数１〜３のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリハ
ロゲノ置換低級アルキル基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、アミン基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素
数１〜３のジアルキルアミノ低級アルキル基又はカルボ
キシメチル基などの置換基を有してもよい。複素環基に
これらの置換基が置換する場合、置換基の数は通常は１
〜２個である。

本発明の化合物は例えばつぎの方法で製造し得る。

すなわち、次式（ＩＩ）〔式中、Ｒ２及びｎｊは前記と同じ意義である〕で示さ
れる化合物、もしくはそのアミノ基における反応性誘導
体又はそれらの塩に、すでに特願昭５８−１４２５８８
号（特開昭６０−３４９５７号公報）に開示した次式（
Ｉ）の化合物又はその類似体である式（ＩＶ）の化合物
、すなわち〔式中、Ｒ１は前記と同じ意義であり、Ｒ４は低級アル
キル基である〕で示される化合物、もしくはそのカルボ
キシル基における反応性誘導体又はそれらの塩を反応せ
しめ、次式（Ｖ）又は（Ｖｌ）ＣＯ□Ｒ１〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は前記と同意義である
〕で示される化合物を夫々に生成し、基Ｒ１又はＲ２が
保護基を含む又はである場合には、各脱保護工程を行い
、その後に後記する炭酸水素ナトリウムの如き塩基を作
用せしめると、イミド形成の閉環反応が起り且つ同時に
基Ｒ４がアルコールＲ’０１１として脱離し、これによ
り本発明の次式（Ｉａ）の化合物を製造できる。

上記の式（Ｉｆ）の化合物のアミノ基における反応性誘
導体の適当な例としては、化合物（■）とアルデヒド、
ケトンのなどのようなカルボニル化合物との反応によっ
て生成したシッフ塩基型のイミノ又はその互変異性であ
るエナミン型異性体；化合物（ＩＩ）とビス（トリメチ
ルシリル）アセトアミドなどのようなシリル化合物との
反応によって得られたシリル誘導体；化合物（ｎ）と三
塩化リン又はホスゲンとの反応によって生成した誘導体
などが挙げられる。

式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）の化合物のカルボキシル基に
おける反応性誘導体の適当な例としては、酸ハロゲン化
物、酸アジド、酸無水物、又は活性エステル、活性アミ
ド、などが挙げられる。この酸ハロゲン化物の例として
は、酸塩化物、酸臭化物が挙げられ、酸無水物の例とし
ては、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、アルキル
炭酸ジアルキルリン酸、ジフェニルリン酸、メタンスル
ホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の混成酸無水物が挙
げられる。また、活性エステルの例としては、シアノメ
チルエステル、置換フェニルエステル、置換ベンジルエ
ステル、置換チエニルエステル等が挙げられ、活性アミ
ドの例としては、イミダゾール、４−置換イミダゾール
、ジメチルピラゾール、トリアゾール、テトラゾール等
の酸アミドが挙げられる。

上記の式（［）の化合物と式（Ｉｆｆ）又は（ＩＶ）の
化合物との縮合反応は、通常、水、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような慣用溶媒又
はこの反応に悪影響を与えない他の有機溶媒中で行われ
る。これらの溶媒は水と混合して使用してもよい。この
反応において、化合物（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）を遊離酸
の形又は塩の形で使用する場合には、特に縮合剤の存在
下に反応を行うのが望ましい。この目的に適する縮合剤
としては、例えば、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド、Ｎ、Ｎ’−ジエチルカルボジイミド、Ｎ−シ
クロヘキシル−Ｎ′−モルホリノエチルカルボジイミド
Ｎ、Ｎ’−カルボニル（２−メチルイミダゾール）、オ
キシ塩化リン、三塩化リン、あるいはＤＭＦと塩化チオ
ニル、ホスゲン又はオキシ塩化リンなどとの反応で得ら
れるいわゆるヴイルスマイヤー試薬、などが挙げられる
。

また式（Ｖ）又は（Ｖｌ）の化合物からの脱保護工程後
に行うべき閉環反応（イミド形成）に用いる前記の塩基
の例としては、炭酸水素アルカリ金属（たとえば炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウムなど）、炭酸アルカリ
金属（たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、
炭酸アルカリ土類金属（たとえば炭酸カルシウムなど）
、トリ（低級）アルキルアミン（たとえばトリメチルア
ミン、トリエチルアミンなど）、ピリジン、Ｎ−（低級
）アルキルモルホリン、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルベ
ンジルアミンなどが挙げられる。この際の反応の反応温
度は特に限定されず、反応は通常は冷却下ないし加温下
に行われる。

（発明の効果）式（Ｉ）の本発明化合物はいずれも新規化合物であり、
そのうち、後記の実施例１で得た本発明化合物の最小発
育阻止濃度（ＭｒＣ，ｍｃｇ／ｍ１）　（寒天希釈法に
よって測定した）は第１表に示したとおりである。本発
明化合物は広範囲な菌に対して強力な抗菌活性を有して
おり、本発明の化合物は医薬として有用である。

一第１［以下、原料化合物の調製を示す参考例と、本発明化合物
の製造を示す実施例とにより本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない、これ
らの例において、Ｔｒｉ　はトリチル基を、またｐｈは
フェニル基を表わす、なお、参考例及び実施例でＮＭＲ
は、日立社製Ｒ−９０８型の機器を使用し測定した。

Ｉ主■上２−オキソ−２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４
−イル）酢酸アリルエステル２．２６　ｇを塩化メチレ
ン２０ｍ２に溶解し、カルボエトキシメチレントリフェ
ニルホスホラン２．２１　ｇを加えた。得られた混合物
を室温で２０時間撹拌し濃縮乾固した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで分離精製した。２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４〜イル）−３−エトキシカル
ボニルアクリル酸アリルエステルのＺ−異性体の９６０
　ｍｇ及びＥ−異性体の１．２３ｇを得た。

（ａ）　　Ｚ−異性体（ＮＭＲ，δ値、　ＣＤＣｌ５）
　：　１．２５（３ｕ。

ｔ、　Ｊ＝７．２１１ｚ）、　４．１６（２１１，ｑ、
　Ｊ＝７．２１１ｚ）、　４．７５（２１１゜ｂ、　ｄ
）、　５．１６〜５．４５（２１１，ｍ）、５．７５〜
６．１２（ＩＩＩ、　ｓ）。

６．４２（ＩＩＩ、　ｓ）、　６．５２（ＩＩＩ、　ｓ
）、　６．６９（ＩＩＩ、　ｂ、　ｓ）。

７．５２（Ｉ５１１，ｂ、５）（ｂ）　　Ｅ−異性体（Ｎｌ’ｌＲ，δ値、ＣＤＣｈ）
　：１．２５（３１１，ｔ。

Ｊ＝７．２１１ｚ）、　４．１６（２１１，ｑ、　Ｊ＝
７．２ｆｌｚ）、　４．６９（２Ｈ，ｂ。

ｄ）、　５．１２〜５．４０（２１１，ｍ）、５．７０
〜６．１２（ＩＩＩ、　ｍ）、６．４５（ＩＩＩ、　ｂ
、　ｓ）、　６．８２（Ｉ８，ｓ）＋　６．８５（Ｉ１
！、　ｓ）。

７．３０（Ｉ５１１，ｂ、ｓ）炙豆災叉２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イル）−３
−エトキシカルボニルアクリル酸アリルエステル（Ｚ−
異性体”）　５２４　ｍｇを塩化メチレン２０ｍに溶解
しテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）
５０■を加えた。その混合物を室温で１０分間撹拌する
。次に２−エチルへキサン酸ナトリウム塩２００■を加
え室温で１時間撹拌する。水冷下に、５％塩酸でｐｏ＝
ｚ、ｏに調整し有機層を水洗する。硫酸マグネシウムで
乾燥し濃縮乾固した。イソプロピルエーテルで結晶化し
、２−（２−１−ジチルアミノチアゾール−４−イル）
−３−エトキシカルボニルアクリル酸エステル（Ｚ−異
性体）３２０■を得た。

（ＮＭＲ，δ値、ＣＤＣ１ｚ）：１．２０（３Ｈ，ｔ、
Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　４．１０（２Ｈ，Ｑ＋　Ｊ＝７．
２Ｈｚ）、　６．５５（Ｉ８，ｓ）、　６．６２（Ｉ）
１．　ｓ）＋　７．２０（Ｉ６Ｈ，ｂ、　ｓ）交鬼炎ユ参考例１と同様に反応及び処理を行なって２−オキソ−
２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル４．３ｇ及びアリルオキシカルボニルメチレント
リフェニルホスホラン５．３ｇより、３−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）〜３−エトキシカルボ
ニルアクリル酸アリルエステルのＺ−異性体の２．３ｇ
及びＥ−異性体の２．６ｇを得た。

（ａ）　　Ｚ−異性体（Ｎト１１１．δ値、ＣＤＣ１ｘ
）　　：　１．３０（３＋１゜ｔ、　Ｊ＝７．２１１ｚ
）、　４．３０（２１１，ｑ、　Ｊ＝７．２１１ｚ）、
　４．６０（２１１゜ｂ、　ｄ）、　５．１２〜６．１
０（ＩＩＩ、　ｍ）、　６．４２（ＩＩＩ、　ｓ）、６
．５２（ｌｔｌ、　ｓ）、　６．６０（Ｉ８，ｂ、　ｓ
）、　７．２５（Ｉ５１１，ｂ、　５）（ｂ）　　Ｅ−
異性体（ＮＭＲ，δ値、ＣＤＣ１３）　：１．３０（３
ｈ、　ｔ。

Ｊ＝７．２１１ｚ）、　　４．２２（２ＪＩ、　ｑ、　
　Ｊ＝７．２１１ｚ）、　　４．６０（２１１，ｂ。

ｄ）、　５．００〜５．３５（２１１，ｍ）、５．６５
〜６．２０（ＩＩＩ、　ｍ）、６゜８６（Ｉｌｌ、　　
ｓ）、　６．８７（ｉｌｌ、　　ｓ）＋　７．３０（Ｉ
ｌｌ、　　ｂ、　ｓ）貴ＩＬ先参考例２と同様に反応及び処理を行なって３−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−３−エトキシカ
ルボニルアクリル酸アリルエステル（Ｚ−異性体）５２
４ｍｇより、３−（２−１−ジチルアミノチアゾール−
４−イル）−３−エトキシカルボニルアクリル酸（Ｚ−
異性体）４１０■を得た。

（ＮＭＲ，δ値、ＣＤＣ１ｚ）：１．１２（３１１，ｔ
、　Ｊ□７．２Ｈｚ）、３．９２（２１ｆ、　ｑ＋　Ｊ
＝７．２１１ｚ）、　６．４０（ＩＩＩ、　ｓ）、６．
５２（Ｉｌｌ、、ｂ、　ｓ）。

６．６２　（ＩＩｌ、　ｓ）、　７．３０（Ｉ５１１，
ｂ、　ｓ）（イ）縮合反応参考例２で得られた２−（２−）ジチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−３−エトキシカルボニルアクリル酸（
Ｚ−異性体）　２７０　ｍｇ及び７−アミ／−３−（Ｉ
−メーＦ−ルーＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル３７２　ｍｇを塩化メチレン２０ｄに溶解し一２
０°Ｃに冷却した。

ピリジン０．２１ｎ１を加え、次に縮合剤としてオキシ
塩化リン１３０■を含む塩化メチレン２ｒＲ１溶液を滴
下した。

一２０’Ｃ〜０°Ｃで２時間撹拌後、飽和食塩水洗浄、
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した後
に、残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、７
−（２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イル）
−３−エトキシカルボニルアクリルアミド〕−３−（Ｉ
−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル（Ｚ−異性体）２２０■を得た。

（ＮＭＲ，δ値、ＣＤＣｌ１）　　：　１．２５（３Ｈ
，ｔｔ　Ｊ＝７．２Ｈｚ）＋３．６８　（２Ｈ，ｂ、　
ｓ）、　３．７８　（３Ｈ，ｓ）、　４．１５　（２Ｈ
，Ｑ。

Ｊ＝７．２Ｈｚ）、４．２０．４．３２　（２Ｍ、　Ａ
Ｂｑ、　Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．０５（ＩＩＩ、　ｄ、
　Ｊ＝５．１Ｑｌｚ）、　５．９２　（ＩＨ，ｄｄ、　
Ｊ＝５．８Ｈｚ及びＪ＝９Ｈｚ）、　６．４０　（ＩＢ
、　ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　６．５２　（Ｉ８，ｓ）。

６．６２　（ＩＢ、　ｓ）、　７．２５　（Ｉ５Ｈ，ｂ
、　５）（Ｄ）脱係１１及びイミド閉環反応前項（イ）で得られた？−（２−（２−）ジチルアミノ
チアゾール−４−イル）−３−エトキシカルボニルアク
リルアミド）−３−（Ｉ−メチル−ＩＨ−テトラゾール
−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル（Ｚ−異性体）　２００　ｍ
ｇをアニソール０　、２　ｍｌに溶解し氷冷した。トリ
フロロ酢酸２ｒｎ１を加え同温度で１時間撹拌した（ト
リチル基の脱離反応）。

イソプロピルエーテル２０ｍ１を反応液に加え粉末化す
る。沈澱物を濾取しイソプロピルエーテルで洗浄する。

炭酸水素ナトリウム水で溶解しｐＨ＝７．５に調整して
反応を行なった（イミド閉環反応）。

ダイヤイオンＨＰ　−２０を反応液に加えて吸着させる
。

吸着物を５％メタノール水で溶出液を凍結乾燥し７−（
２−アミノチアゾール−４−イルマレイミド）−３−（
Ｉ−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチ
ル−３＝セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩の４０
■を得た。

（ＮＭＲ，δ値、ＣＤＣ１：Ｉ）：３．４０．３．６２
（２Ｈ、ＡＢｑ、Ｊ＝１７．２Ｈｚ）、　４．００（３
Ｈ，ｓ）、　４．０５．４．３５（２Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ
＝１４．０Ｈｚ）、　５．０７　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝５
．４Ｈｚ）、　５．６９（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝５．４Ｈｚ
）、　５．６２（ＩＨ，ｓ）、７．５６（ＩＨ，ｓ）実
恭順Ｒよ実施例１（イ）と同様な反応を行うことにより、３−（
２−）ジチルアミノチアゾール−４−イル）−３−エト
キシカルボニルアクリル酸（Ｚ−異性体）　４００　ｍ
ｇ及び７−アミノ−３−（Ｉ−メチル−ＩＨ−テトラゾ
ール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル２７４　ｍｇより、？−
（３−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
３−エトキシカルボニルアクリルアミド）−３−（Ｉ−
メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（Ｚ−異性体）３３０ｍｇヲ得た。

（ＮＭＲ，δ値、ＣＤＣｈ）：１．３２（３１１，ｔ　
、Ｊ＝７．６！Ｉｚ）、３．７０（２１１，ｂ、　　ｓ
）、　　３．８０　　（３１１，ｓ）、　　４．２２．
　４．４０（２１１，八Ｂｑ。

Ｊ＝１２．０１１ｚ）、　４．３５　（２１１，ｄ、　
Ｊ＝７．６１１ｚ）、　４．９５　（ＩＩＩ、ｄ。

Ｊ＝５．２１１ｚ）、　５．９２　（ｉｌｌ、　ｄｄ、
　Ｊ＝９．８１１ｚ及びＪ□５．２１１ｚ）。

６．３２　（ＩＩＩ、　ｄ、　Ｊ＝９．８１１ｚ）、　
６．４２（ｌＩｌ、　ｓ）、　６．４５（ＩＩＩ。

ｓ）、　６．７２（ｉｌｌ、　ｂ、　ｓ）、　６．８８
　（Ｉ１１，ｓ）、　７．２０　（Ｉ５Ｈ。

ｂ、　５）（Ｕ）脱保護及びイミド閉環反応実施例１　（ＴＩ）と同様に反応することにより、前項
（イ）で得られた？−（３−（２−）ジチルアミノアゾ
ール−４−イル）−３−エトキシカルボニルアクリルア
ミド）−３−（Ｉ−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル（Ｚ−異性体）２００■より、７−
　（２−アミノチアゾール−４−イルマレイミド）−３
−（Ｉ−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩３
２■を得た。

この物の物性は実施例１　（＋１）で得られた物質とす
べて一致した。

手続ネ市正書（自発）昭和６３年　７月１５日

Claims

【特許請求の範囲】１、次式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中、Ｒ＾１はアミノ基又は保護されたアミノ基であ
り、Ｒ＾２は水素原子、塩生成カチオン又はカルボキシ
ル基保護基であり、Ｒ＾３は基−ＣＨ＿２Ｙ（式中、Ｙ
は置換基を有していてもよい複素環チオ基である）を示
す〕で表わされる新規セファロスポリン系化合物又はそ
の塩又はエステル。