JPH0246587B2

JPH0246587B2 -

Info

Publication number: JPH0246587B2
Application number: JP1216008A
Authority: JP
Inventors: Seiji Iimura; Jun Okumura; Takayuki Naito
Original assignee: BURISUTORU MAIYAAZU KENKYUSHO KK
Current assignee: BURISUTORU MAIYAAZU KENKYUSHO KK
Priority date: 1980-09-15
Filing date: 1989-08-24
Publication date: 1990-10-16
Also published as: FI76349C; FI812821L; DK164505C; DK404181A; JPH0285278A; SE452619B; YU44754B; DK8991D0; SE8105452L; YU213181A; IT1209898B; SE8505891L; JPH0245636B2; US4316024A; ES505465A0; GR74670B; DK164505B; DK161521C; IT8149296A0; DK8991A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はセフアロスポリンと呼ばれる抗菌剤の
クラスのある種のものを製造する化学的方法に用
いられるアシル化剤に関する。セホペラゾン（Ｔ―1551）すなわち、７―〔Ｄ
（−）―α―（４―エチル―２，３―ジオキソ―
１―ピペラジニルカルボキサミド）―α―（４―
ヒドロキシフエニル）―アセトアミド〕―３―
〔（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル〕―３―セフエム―４―カルボン酸、
は富山化学工業によつてはじめて報告されそして
たとえば米国特許第4087424号の第85〜86欄中に
化合物No.69として開示されている半合成セフアロ
スポリンである。このものはセフアマンドールお
よびセフアゾリンを含む他のセフアロスポリンよ
りも広範囲の抗菌活性をもつており、psアエルジ
ノサ、Ser.マルセスセンスおよびEnt.クロアカエ
に対して著るしく活性である（文献15参照）。セホペラゾンは日本においては富山化学によつ
て開発されて臨床検討の段階（相）にあり、米
国においてはフアイザーによつて開発されてい
る。有望な製品となる可能性があるため、セホペ
ラゾンの製造について種々の方法が報告された
（文献１〜13参照）。これらは下記の第１表に示す
ようにＡ〜Ｄの４つの方法に分類される。第１表セホペラゾン（CPZ）の公表された製法方法Ａ：３―チオール化７―ACAまたはその均
等物の７―Ｎ―アシル化（文献１〜10）ａ）Ｒ＝NH₂；文献１〜５ｂ）Ｒ＝NCO；文献６ｃ）Ｒ＝PhCH₂CONH，〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓〓文献７〜10 方法Ｂ：３―チオール化７―ｐ―ヒドロキシフエ
ニルグリシルセフアロスポリンのα―Ｎ―アシ
ル化（文献11）方法Ｃ：3′―アセトキシ誘導体の3′―チオール化
（文献12）方法Ｄ：ジオキソピペラジン環への環化（文献
13）文献１） I.サイカワら；薬学雑誌，99929頁（1979
年）２）特開昭51−70788号公報（1976年６月18
日；富山化学）３）特開昭52−106883号公報（1977年９月７
日；富山化学）４）特開昭54−48784号公報（1979年４月17
日；富山化学）５）特開昭54−52090号公報（1979年４月24
日；富山化学）６）特開昭53−18595号公報（1978年２月20
日；富山化学）７）特開昭52−39694号公報（1977年３月28
日；富山化学）８）特開昭52−151187号公報（1977年12月15
日；富山化学）９）特開昭53−44584号公報（1978年４月２
日；富山化学） 10）特開昭53−15394号公報（1978年２月13
日；富山化学） 11）特開昭52−87189号公報（1977年７月20
日；富山化学） 12）特開昭51−113890号公報（1976年10月７
日；富山化学） 13）特開昭52−36684号公報（1977年３月22
日；富山化学） 14） I.サイカワら；薬学雑誌，97，980頁
（1977年） 15） N.マツバラら；Antimicrob.Agents
Chemother.，16，731（1979）。チオールエステルを使用してカルボン酸基を活
性化することによるペプチドの合成はThe
Peptides，Vol.1，Methods of Peptide
Synthesis，Academic Press，N.Y.（1965）の第
105〜108頁およびChemistry of the Amino
Acides，Vol.2，John Wiley and Sons，Inc.N.
Y.（1961）の第1027〜1048頁に回顧されている。セフアロスポリンの分野においては、米国特許
第4198504号の第８欄に記載の如き“活性エステ
ルまたはチオールエステル（たとえばｐ―ニトロ
フエノール、２，４―ジニトロフエノール、チオ
フエノール、チオ酢酸による）”の形体の酸を使
用する第１級アミノ基のアシル化を一般に参照す
るのが普通である。この米国特許はまたα―アミ
ノアリールアセトアミドセフアロスポラン酸の製
造を開示する他の特許の実施例をも紹介し、この
ような化合物を式をもつ酸の活性化誘導体によりアシル化すること
を開示するものとして米国特許第4061748号に言
及している。ダーウエントのFarmdoc abstract78288Bは７
―アミノセフアロスポラン酸と式（式中のＲは水素またはメチルである）と反応さ
せて式をもつセフアゾリン（Ｒがメチルである場合）お
よびセフテゾール（Ｒが水素である場合）を製造
することを報告している。（Farmdoc 75634およびヨーロツパ特許出願第
4570号も参照のこと。）本発明の化合物によれば、７―位の７―側鎖に
アシルアミド基をもち３―位に複素環―チオメチ
ル基をもつセフアロスポリンを単一の反応で製造
する方法が提供される。この方法は該アシル置換
基の一部分として遊離アミノ基をもつ７―アシル
アミドセフアロスポラン酸の溶液（好ましくは６
〜８の範囲のPHをもち、任意に水混和性の不活性
有機溶媒たとえばアセトンを含む）をほぼ等モル
量の、好ましくはややモル過剰のチオールエステ
ル

【式】（―Ｓ―Hetは出発原料の酸の３―アセトキシ基と置換する所望の通常の複素
環チオ基であり、

【式】は出発原料の７―アシルアミドセフアロスポラン酸のアシル置換基の
一部分である該遊離アミノ基の水素と置換する通
常のアシル基である）と、20〜100℃の範囲の温
度で、好ましくは約55℃で、該反応が完了するに
必要な時間反応させることからなる。上記の方法の好ましい具体例は出発原料の酸が
構造式（式中のR¹は水素、ヒドロキシ、メチル、メト
キシまたはクロロである）をもち、チオールエス
テル

【式】が構造式をもち、そして構造されるセフアロスポリンが構
造式（式中のR¹は前記定義のとおりである）をもつ場合の上記の方法；出発原料の酸がｐ―ヒドロキシ―セフアログリ
シンであり、チオールエステル

【式】が構造式をもち、そして構造されるセフアロスポリンが構
造式をもつ場合の上記の方法；出発原料の酸がｐ―ヒドロキシ―セフアログリ
シンであり、チオールエステル

【式】が構造式をもち、そして製造されるセフアロスポリンが構
造式をもつ場合の上記の方法；出発原料の酸がｐ―ヒドロキシ―セフアログリ
シンであり、チオールエステル

【式】が構造式をもち、そして製造されるセフアロスポリンが構
造式をもつ場合の上記の方法；ならびに出発原料の酸がｐ―ヒドロキシ―セフアログリ
シンであり、チオールエステル

【式】が構造式をもち、そして製造されるセフアロスポリンが構
造式をもつ場合の上記の方法である。また、本発明の化合物によれば、７―〔Ｄ（−）
―α―アミノ―α―（ｐ―ヒドロキシフエニル）
アセトアミド〕セフアロスポラン酸(1)と１―メチ
ル―５―テトラゾリル４―エチル―２，３―ジオ
キソピペラジノ―カルボニルチオレート(2)との反
応によりα―Ｎ―アシル化とＣ―3′―チオール化
とを同時に達成するセホペラゾンの新規製造法が
提供される。７―〔Ｄ―（−）―α―アミノ―α―（ｐ―ヒ
ドロキシフエニル）アセトアミド―セフアロスポ
ラン酸(1)とＮ―メチル―テトラゾリル４―エチル
―２，３―ジオキソピペラジニルカルボニルチオ
レート(2)とを、アセトンおよび0.1Mリン酸塩緩
衝液（PH７）の混合物中で50〜60℃において17時
間加熱して反応させ、α―Ｎ―アシル化と3′―チ
オール化との同時反応によつてセホペラゾンを52
％の収率で得た。このようにしてえたセホペラゾ
ンは赤外、紫外、核磁気共鳴およびHPLCのデー
タの比較において、前記第１表の方法Ｂで製造し
た確証されたサンプルと同一であつた。この製造
法で使用した本発明のチオールエステル(2)は新規
化合物である。このものは４―エチル―２，３―
ジオキソピペラジニルカルボニルクロライド(4)と
１―メチルテトラゾール―５―チオール（5a）
との反応により39％の収率で製造された。トリ―
ｎ―ブチル錫チオレート（5b）、これも新規化合
物である、を用いてこの反応を行なつたところ、
(2)の収率は69％に改良された。この方法は下記構造式をもつBS―S679、BB
―S667およびBB―S724などの７―（α―Ｎ―ア
シルアミノ―アリールアセトアミド）―３―（チ
オール化メチル）セフエム類の製造にも適用でき
る。これらの３種の化合物は本発明の一部分を構造
するものではなく、1980年３月24日出願の米国特
許出願継続番号第133176号において我々の同僚お
よび我々のうちの若干によつて開示され且つ特許
請求されているものである。これら３種の化合物
はセホペラゾンと同じ用途をもちこれと同様に使
用される。実施例１（出発原料の製造）１―メチルテトラゾール―５―イル４―エチル
―２，３―ジオキソピペラジン―１―イル―カ
ルボニルチオレート(2) (A) 乾燥THF中の１―メチルテトラゾール―５
―チオール（5a）（209mg、1.8ミリモル）の溶
液に４―エチル―２，３―ジオキソピペラジン
―１―イルカルボニルクロライド(4) ¹⁴⁾（306mg、
1.5ミリモル）を−10℃で加えた。この混合物
を−10℃で30分間かくはんし、室温で放置し
た。生成した沈殿を過により集めてメチレン
クロライドから結晶させ、無色針状結晶(2)166
mg（39％）をえた。融点：221〜224℃ 赤外：ν^KBr _nax1715、1680、1670cm^-1 NMR：δ^DMSO-d6 _ppn1.12（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz）、
3.42（2H，ｑ，Ｊ＝7.5Hz）、3.5〜4.0（4H，
ｍ，4.0（3H，Ｓ）。分析：C₉H₁₂N₆O₃S：計算値：Ｃ，38.02；Ｈ，4.25；Ｎ，29.56；Ｓ，11.28 実測値：Ｃ，38.16，37.82；Ｈ，4.05，
4.14；Ｎ，29.47，29.29；Ｓ，11.18， 11.09 (B) チオール5a（1.16ｇ、10ミリモル）とトリエ
チルアミン（1.6ml、12ミリモル）との四塩化
炭素中の混合物にトリ―ｎ―ブチル錫クロライ
ド（3.25ｇ、10ミリモル）を室温で10分間にわ
たつて滴下状に加え、混合物を一夜かくはんし
た。反応混合物を過して液を５％酢酸水溶
液（20ml）および水（20ml）で洗つた。有機層
を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発させて
トリ―ｎ―ブチル錫誘導体5bをえた。5b（3.9
ｇ）の乾燥テトラヒドロフラン（THF）中の
溶液にクロライド４（2.0ｇ、10ミリモル）を室
温で加え、混合物を同じ温度で５時間かくはん
した。えられた固体を過により集めてメチレ
ンクロライド―エーテルから結晶させ、チオー
ルエステル２の1.95ｇ（5aから69％）をえた。トリ―ｎ―ブチル錫テトラゾロ〔１，５―ｂ〕
ピリダジン―６―メルカプタイド(6) チオール13（12.0ｇ、78.3ミリモル）およびト
リエチルアミド13.5ml（95.8ミリモル）のメチレ
ンクロライド300ml中の氷冷溶液に、同じ溶媒40
ml中のｎ―ブチル錫クロライド（25.4ｇ、78.0ミ
リモル）溶液をかきまぜながら滴下状に加えた。
混合物を室温で一夜かくはんし、５％酢酸水溶液
（２×100ml）および水（４×400ml）で洗つた。
硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を蒸発させて透
明な橙色油として34.7ｇの６をえた。赤外：ν^film _nax2970、2940、2880、1605、1540、
1470、1430cm^-1 実施例２テトラゾロ〔１，５―ｂ〕ピリダジン―６―イ
ル（４―エチル―２，３―ジオキソピペラジン
―１―イル）カルボニルチオレート(7) 方法Ａ：乾燥メチレンクロライド150ml中のメルカプタ
イド６（34.0ｇ、77ミリモル）の氷冷溶液に、同
じ溶媒100ml中の４―エチル―２，３―ジオキソ
ピペラジニルカルボニルクロライド(4)（15.3ｇ、
75ミリモル）を30分間かくはんしながら加えた。
えられた懸濁液を冷却なしに１時間かくはんし
て、結晶沈でん物を過により集めた。アセトン
200mlで洗つた後、淡黄色結晶を減圧下でP₂O₅上
で乾燥して14.5ｇ（60％）の７をえた。融点：209〜216℃（分解）赤外：ν^KBr _nax1705、1685（sh）、1670（ｓ）、1180
cm
^-1 NMR：δ^DMSO-d6 _ppn1.13（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz）、3.43
（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz）、3.65（2H，ｍ）、3.95
（2H，ｍ）、7.97（1H，ｄ，Ｊ＝9.5Hz）、8.82
（1H，ｄ，Ｊ＝9.5Hz）分析：C₁₁H₁₁N₇O₃S：計算値：
Ｃ，41.12；Ｈ，3.45；Ｎ，30.51；Ｓ，9.98 実測値：Ｃ，40.91，41.04，41.00；Ｈ，3.21，3.29，3.29；Ｎ，30.08，29.98，30，19；Ｓ，9.76 9.85（％）。方法Ｂ：メチレンクロライド10ml中のチオール13（306
mg、2.0ミリモル）およびトリエチルアミン（0.3
ml、2.2ミリモル）の溶液に、酸クロライド４
（512mg、2.5ミリモル）を加え、混合物を室温で
1.5時間かくはんした。固体物質を過により集
め、メチレンクロライドで洗つて減圧下にP₂O₅
上で乾燥し、チオールエステル７の580mg（90％）
をえた。１―メチルテトラゾール―５―チオールを等モ
ル量の別のメルカプタンに置き換え、上記方法の
いづれかにより他のチオールエステル出発原料を
製造する。 HP―20は多孔性ポリマーの不溶性ビーズの形
体のマクロ網状吸着剤樹脂である。これらはマク
ロポーラス非イオン性交差結合ポリスチレンポリ
マーである。参考例１セホペラゾン；７―〔Ｄ―（−）―α―（４エ
チル―２，３―ジオキソ―１―ヒペラジニルカ
ルボキザミド）―α―（４―ヒドロキシフエニ
ル）―アセトアミド〕―３―〔（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル〕
―３―セフエム―４―カルボン酸７―〔Ｄ―（−）―ｐ―ヒドロキシフエニルグ
リシルアミド〕―セフアロスポラン酸(1)（209mg、
0.5ミリモル）、重炭酸ナトリウム（84mg、１ミリ
モル）およびチオールエステルすなわち１―メチ
ル―テトラゾール―５―イル４―エチル―２，３
―ジオキソピペラジン―１―イルカルボニルチオ
レート(2)（170mg、0.6ミリモル）の、0.1Mリン
酸塩緩衝液（PH７、５ml）およびアセトン（５
ml）中の混合物を50〜60℃に17時間加熱した。ア
セトンを蒸発により除去した。水性残渣を1N―
HClで酸性にした。生成した沈殿を過により集
め、水（５ml）で洗い、乾燥して169mg（52％）
のセホペラゾンをえた。融点：170〜175℃（分解（文献¹）169〜171℃
（分解）赤外：ν^KBr _nax1780、1710、1670、1610、1520cm
^-1。紫外：λ^pH7Buffer _nax226nｍ（ε，21700）、263nｍ
（ε，12200）。 NMR：δ^DMSO-d6+D2O _ppn1.07（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，
Ｎ−CH₂CＨ ₃）、3.0〜4.4（10H，ｍ，２−Ｈ，
３−CH₂，ピペラジン−CH₂，Ｎ−CH
₂CH₃）、3.90（3H，ｓ，Ｎ−CH₃）、4.93
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６−Ｈ）、5.40（1H，
ｓ，ＣＨ−CO）、5.63（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，
７−Ｈ）、6.68（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz，フエニ
ル−Ｈ）、7.18（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz，フエニ
ル−Ｈ）。参考例２ BB―S679の製造７―〔Ｄ―α―（４―エチル―２，３―ジオキ
ソ―１―ピペラジノカルボキザミド））―α―
（４―ヒドロキシフエニル）アセトアミド〕―
３―（テトラゾロ〔１，５―ｂ〕ピリダジン―
６―イルチオメチル）―３―セフエム―４―カ
ルボン酸ナトリウム（８，BB―S679）７―〔Ｄ―α―アミノ―α―（４―ヒドロキシ
フエニル）アセトアミド〕セフアロスポラン酸
（12.9ｇ、33ミリモル）および重炭酸ナトリウム
（5.9ｇ、37.3ミリモル）のリン酸塩緩衝液
（0.2M、PH7.0）240ml中のかくはん溶液に、チオ
ールエステル７（12.0ｇ、37.3ミリモル）を少し
づつ15分かけて加えた。この混合物を30〜65℃で
１時間加熱し、えられた透明溶液を更に74〜76℃
で2.5時間加熱した。冷却後、この溶液を木炭で
処理し、ケイソウ土（セライト）をとおして過
し、液を氷水中で冷却してから20％（Ｖ／Ｖ）
リン酸でPH２に酸性化した。えられた沈殿を過により分離して減圧下で
P₂O₅上で乾燥し、9.1ｇの黄褐色粉末をえた。この粉末をジメチルホルムアミド70ml中に溶解
し、1Mのナトリウム２―エチルヘキサノエート
（無水エチルアセテート中）14mlと混合して溶液
となし、この溶液をかくはん下のエチルアセテー
ト（2.1）に滴下状に加え、沈殿したセフアロ
スポリンを過により集めた。乾燥後、粗ナトリ
ウム塩を水（約50ml）にとかし、HP―20カラム
（約600ml）上でクロマトグラフ処理して水（2.5
）および50％メタノール（３）で溶出し、濃
縮して凍結乾燥し、淡黄色粉末として5.26ｇ
（22.6％）の８をえた。融点：197〜202℃（分解）赤外：ν^KBr _nax1673、1710、1675、1600、1515cm
^-1。紫外：λ^H2O _nax233.5nｍ（ε，29500）、268nｍ
（ε，15900）、310nｍ（ε，5600） NMR：δ^DMSO-d6 _ppn1.1（3H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz）、3.1
〜3.7（9H，br，ｍ）、3.82（1H，br）、4.38
（1H，br）、4.84（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz）、5.35
〜5.52（2H，ｍ）、6.6（2H，ｄ，Ｊ＝８Hz）、
7.11（2H，ｄ，Ｊ＝８Hz）、7.60（1H，ｄ，Ｊ
＝10Hz）、8.52（1H，ｄ，Ｊ＝10Hz）。 BB―S667の製造７―〔Ｄ―α―（４―エチル―２，３―ジオキ
ソ―１―ピペラジノカルボキサミド）―α―
（３，４―ジヒドロキシフエニル）―アセトア
ミド〕―３―（テトラゾロ〔１，５―ｂ〕ピリ
ダジン―６―イルチオメチル）―３―セフエム
―４―カルボン酸（10，BB―S667）７―〔Ｄ―α―アミノ―α―（３，４―ジヒド
ロキシフエニル）アセトアミド〕セフアロスポラ
ン酸―トリフロロアセテート(9)（551mg、１ミリ
モル）、チオールエステル７（480mg、1.5ミリモ
ル）および重炭酸ナトリウム（252mg、３ミリモ
ル）の0.1Mリン酸緩衝液（PH7.0）10ml中の混合
物を52℃で12時間かくはんした。この溶液をエチ
ルアセテートで抽出し、水層を希塩酸でPH３に調
整した。えられた沈殿を過により集め、水で洗
い、真空中でP₂O₅上で乾燥して325mg（46.5％）
の表記化合物10をえた。赤外：ν^KBr _nax1780、1720、1680、1530、1450、
1390、1190cm^-1。 BB―S724の製造７―〔α―（３―クロロ―４―ヒドロキシフエ
ニル）―α―（４―エチル―２，３―ジオキソ
―１―ピペラジノカルボキサミド）アセトアミ
ド〕―３―（テトラゾロ〔１，５―ｂ〕―ピリ
ダジン―６―イルチオメチル）―３―セフエム
―４―カルボン酸ナトリウム塩（12，BB―
S724）７―〔α―アミノ―α―（３―クロロ―４―ヒ
ドロキシフエニル）アセトアミド〕―３―アセト
キシメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
TFA塩（11，349mg、0.61ミリモル）、テトラゾ
ロ〔１，５―ｂ〕―ピリダジン―６―イル４―エ
チル―２，３―ジオキソピペラジン―１―イル―
カルボニル―チオレート（７，295mg、0.92ミリ
モル）および重炭酸ナトリウム（154mg、1.84ミ
リモル）の、0.1Mリン酸塩緩衝液（PH７、８ml）
およびアセトン（８ml）中の混合物を50〜55℃で
24時間加熱した。アセトンを蒸発により除いた。
水性残渣をエチルアセテート（５ml）で洗い、
6N―HClで酸性化した。えられた沈殿を過に
より集め、343mgの粗生成物をえたが、そのうち
の300mgを重炭酸ナトリウムを加えることによつ
て水中に再溶解させた。この溶液をHP―20（30
ml）上でクロマトグラフ処理し、水、10％
MeOH、30％MeOHおよび50％MeOHで次々に
溶出した。10％MeOH、30％MeOHおよび50％
MeOHの溶出物を一緒にして小容量に濃縮して
凍結乾燥し、203mg（収率47％）の表記化合物12
をえた。融点：＞200℃（分解）。赤外：ν^KBr _nax1760、1710、1660、1600、1500、
1440、1400、1360、1290、1190、1110、1020
cm^-1。紫外：λ^pH7Buffer _nax233nｍ（ε，17500）、267nｍ
（sh）、（ε，9900）、298nｍ（sh）、（ε，
3100）。 NMR：δ^DMSO-d6 _ppn1.08（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz）、4.86
（1H，ｄ，Ｊ＝45Hz）、5.3〜5.6（2H，ｍ）、
6.8〜7.4（3H，ｍ）、7.72（1H，ｄ，Ｊ＝10.5
Hz）、8.55（1H，ｄ，Ｊ＝10.5Hz）。本発明は工業的に利用しうるものである。

Claims

【特許請求の範囲】１下記の構造式を持つ化合物。（上式中、R²は低級アルキル基で、Hetは、低級
アルキル置換されたテトラゾリル基又はテトラゾ
ロピリダジニル基である。）２該化合物が次式の構造式を持つ化合物である
請求項１に記載の化合物。３該化合物が次式の構造式を持つ化合物である
請求項１に記載の化合物。