JPH025758B2 - - Google Patents
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- JPH025758B2 JPH025758B2 JP53026468A JP2646878A JPH025758B2 JP H025758 B2 JPH025758 B2 JP H025758B2 JP 53026468 A JP53026468 A JP 53026468A JP 2646878 A JP2646878 A JP 2646878A JP H025758 B2 JPH025758 B2 JP H025758B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/36—Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、実質的に無水条件下、７−アミノセ
フアロスポラン酸から導かれた７−アシル化セフ
アロスポラン酸のアセトキシ基を硫黄求核試薬に
よつて置換し、セフアロスポリン化合物を製造す
る方法に関する。
フアロスポラン酸から導かれた７−アシル化セフ
アロスポラン酸のアセトキシ基を硫黄求核試薬に
よつて置換し、セフアロスポリン化合物を製造す
る方法に関する。
［従来技術と発明が解決すべき課題］
硫黄求核試薬によるセフアロスポリンのアセト
キシ基の置換反応は公知である［米国特許第
3278531号］。該特許および他の刊行物［J.D.
Cocker，J.Chem.Soc），1965，5015］によれば、
この反応は水性媒質中でしか進行しない。実際の
置換反応には、セフアロスポラン酸の塩が、硫黄
求核試薬あるいはその塩と共に、PH５〜８の水溶
液中で用いられている。水性媒質の組合せ、高温
（35〜70℃）、および中性に近い値から塩基性に至
るPH範囲は、殆どのセフアロスポリン核に対し
て、一般的に有害である。そして、この方法で得
られた生成物は純度が低いためにしばしば広範な
精製過程を必要とし、そのまま医薬として使用す
ることはできない。また、水溶液中におけるセフ
アロスポラン酸の置換を低PH値（PH２〜３）にお
いて実施すると、副生成物としてラクトンが形成
され目的化合物の収率を著しく低下させるという
欠点があつた。
キシ基の置換反応は公知である［米国特許第
3278531号］。該特許および他の刊行物［J.D.
Cocker，J.Chem.Soc），1965，5015］によれば、
この反応は水性媒質中でしか進行しない。実際の
置換反応には、セフアロスポラン酸の塩が、硫黄
求核試薬あるいはその塩と共に、PH５〜８の水溶
液中で用いられている。水性媒質の組合せ、高温
（35〜70℃）、および中性に近い値から塩基性に至
るPH範囲は、殆どのセフアロスポリン核に対し
て、一般的に有害である。そして、この方法で得
られた生成物は純度が低いためにしばしば広範な
精製過程を必要とし、そのまま医薬として使用す
ることはできない。また、水溶液中におけるセフ
アロスポラン酸の置換を低PH値（PH２〜３）にお
いて実施すると、副生成物としてラクトンが形成
され目的化合物の収率を著しく低下させるという
欠点があつた。
［課題を解決するための手段］
本発明は７−ACAを出発物質として得られる
７−アシル化セフアロスポラン酸誘導体の３位ア
セトキシ基（他の３−アシルオキシ基も同様）の
硫黄求核試薬による置換反応を実質的な無水条件
下、低極性の有機溶媒、とりわけ、１，２−ジク
ロロエタン中で実施することにより上記した課題
を解決するものである。このような条件下におけ
る反応には、ラクトンの形成による煩わしさがな
い。また、生成物が沈澱するので容易に単離する
ことができ、その収率は高く、高純度であること
から、クロマトグラフイー等による精製を要する
ことなく、実用に供することができる。
７−アシル化セフアロスポラン酸誘導体の３位ア
セトキシ基（他の３−アシルオキシ基も同様）の
硫黄求核試薬による置換反応を実質的な無水条件
下、低極性の有機溶媒、とりわけ、１，２−ジク
ロロエタン中で実施することにより上記した課題
を解決するものである。このような条件下におけ
る反応には、ラクトンの形成による煩わしさがな
い。また、生成物が沈澱するので容易に単離する
ことができ、その収率は高く、高純度であること
から、クロマトグラフイー等による精製を要する
ことなく、実用に供することができる。
即ち、本発明の目的は、セフアマンドール
（Cefamandole）およびセフアマンドール・ナフ
エート（Cefamandole nafate）の７−ACAから
の製造における改良法を提供することである。
（Cefamandole）およびセフアマンドール・ナフ
エート（Cefamandole nafate）の７−ACAから
の製造における改良法を提供することである。
本発明は、７−アミノセフアロスポラン酸をア
シル化して一般式（）： （式中、Ｑはヒドロキシまたはホルミルオキシ
を表わす） で示されるセフアロスポラン酸を得、該酸（）
と、式（）： で示されるチオール化合物とを反応させて一般式
（）： （式中、Ｑは上記の定義に従う） で示されるセフアロスポリン化合物を製造する方
法において、式（）で示されるセフアロスポラ
ン酸と式（）で示されるチオール化合物との反
応を１，２−ジクロロエタンを溶媒として実質
上、無水条件下に行うことを特徴とする方法を提
供するものである。
シル化して一般式（）： （式中、Ｑはヒドロキシまたはホルミルオキシ
を表わす） で示されるセフアロスポラン酸を得、該酸（）
と、式（）： で示されるチオール化合物とを反応させて一般式
（）： （式中、Ｑは上記の定義に従う） で示されるセフアロスポリン化合物を製造する方
法において、式（）で示されるセフアロスポラ
ン酸と式（）で示されるチオール化合物との反
応を１，２−ジクロロエタンを溶媒として実質
上、無水条件下に行うことを特徴とする方法を提
供するものである。
本発明方法によつて得られるセフアマンドール
およびセフアマンドール・ナフエートはクロマト
精製を行わずに、そのまま抗菌剤として有用であ
る。従つて、本発明方法は、これらの薬理活性物
質の大量生産に適している。
およびセフアマンドール・ナフエートはクロマト
精製を行わずに、そのまま抗菌剤として有用であ
る。従つて、本発明方法は、これらの薬理活性物
質の大量生産に適している。
本発明方法における７−アミノセフアロスポラ
ン酸（７−ACA）の７位アミノ基をアシル化す
る方法およびその生成物である７−（２−ヒドロ
キシまたは２−ホルミルオキシ−２−フエニルア
セトアミド）セフアロスポラン酸（）は公知で
あり、求核試薬である１−メチル−1H−テトラ
ゾール−５−チオール（）も文献記載の公知化
合物である。
ン酸（７−ACA）の７位アミノ基をアシル化す
る方法およびその生成物である７−（２−ヒドロ
キシまたは２−ホルミルオキシ−２−フエニルア
セトアミド）セフアロスポラン酸（）は公知で
あり、求核試薬である１−メチル−1H−テトラ
ゾール−５−チオール（）も文献記載の公知化
合物である。
このように、本発明方法は、７−ACAから式
（）の化合物を製造する方法によつて限定され
るものではない。従つて、実施例１のように７−
ACAを出発物質として一連の反応工程を行つて
もよいが、実施例２のように７−ACAから化合
物式（）を別途調製し、化合物（）から化合
物（）を導く工程を実施することもできる。い
ずれの方法でも目的物質を高純度かつ高収率で得
ることができるが、実施例１記載の連続的な方法
は、工程の簡略化の点で好ましい。
（）の化合物を製造する方法によつて限定され
るものではない。従つて、実施例１のように７−
ACAを出発物質として一連の反応工程を行つて
もよいが、実施例２のように７−ACAから化合
物式（）を別途調製し、化合物（）から化合
物（）を導く工程を実施することもできる。い
ずれの方法でも目的物質を高純度かつ高収率で得
ることができるが、実施例１記載の連続的な方法
は、工程の簡略化の点で好ましい。
本明細書中、「実質的に無水条件下」という語
句は、反応混液中の含水率が１重量％以下である
ことを意味する。含水率が0.5重量％以下であれ
ばさらに好ましい。市販の原料化合物および溶媒
は十分に乾燥されていないので、アルミナ、シリ
カゲル、無水硫酸カルシウムなどの乾燥剤の使用
および共沸などの常法に従つて水分を除去する。
本発明方法に用い得る有機溶媒としては、種々の
ものが考えられるが最終生成物の収率ならびに純
度という点から１，２−ジクロロエタンが最適で
ある。また、１，２−ジクロロエタン単独使用に
限定されるものでなく、同様の性質の有機溶媒を
混合することもできる。あるいは、他の溶媒とし
て、非極性〜低極性の水分含有量１重量％以下の
炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類およびカルボ
ン酸類を用いることができる。そのような溶媒の
例としてベンゼン、四塩化炭素および氷酢酸を挙
げることができる。
句は、反応混液中の含水率が１重量％以下である
ことを意味する。含水率が0.5重量％以下であれ
ばさらに好ましい。市販の原料化合物および溶媒
は十分に乾燥されていないので、アルミナ、シリ
カゲル、無水硫酸カルシウムなどの乾燥剤の使用
および共沸などの常法に従つて水分を除去する。
本発明方法に用い得る有機溶媒としては、種々の
ものが考えられるが最終生成物の収率ならびに純
度という点から１，２−ジクロロエタンが最適で
ある。また、１，２−ジクロロエタン単独使用に
限定されるものでなく、同様の性質の有機溶媒を
混合することもできる。あるいは、他の溶媒とし
て、非極性〜低極性の水分含有量１重量％以下の
炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類およびカルボ
ン酸類を用いることができる。そのような溶媒の
例としてベンゼン、四塩化炭素および氷酢酸を挙
げることができる。
本発明反応は、広い温度範囲で実施し得る。反
応温度としては、一般に50〜140℃が用いられる
が、70〜120℃で反応を実施した方が良い結果が
得られる。本発明反応は高圧で実施してもよいが
利点は認められない。操作の容易さから、常圧で
行なうのが最も好ましい。
応温度としては、一般に50〜140℃が用いられる
が、70〜120℃で反応を実施した方が良い結果が
得られる。本発明反応は高圧で実施してもよいが
利点は認められない。操作の容易さから、常圧で
行なうのが最も好ましい。
原料反応体の使用量は重要ではないが、一般に
は、３−アセトキシメチルセフアロスポリン化合
物１モルに対して1.0〜5.0モル当量のテトラゾー
ルチオールを用いるのが好ましい。
は、３−アセトキシメチルセフアロスポリン化合
物１モルに対して1.0〜5.0モル当量のテトラゾー
ルチオールを用いるのが好ましい。
以下に実施例を挙げ本発明を詳しく説明する。
実施例 １
１，２−ジクロロエタン中における３−［（１−
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル］−７−（２−ホルミルオキシ−２−フエ
ニルアセトアミド）−３−セフエム−４−カル
ボン酸の製造 １ アシル化 ７−ACA（７−アミノセフアロスポラン酸）
13.62ｇ（0.05M）を１，２−ジクロロエタン
100mlに懸濁してトリメチルシリルアセトアミ
ド26.25ｇ（0.200M）を加え、40℃に加熱して
固体を溶解し、得られた溶液を20℃に冷却し
た。２−ホルミルオキシ−２−フエニルセチル
クロリド10.92ｇ（0.055M）を１，２−ジクロ
ロエタン25mlに溶解した溶液を20分間にわたつ
て滴下すると温度が30℃に昇温した。混液を２
時間撹拌し、１，２−ジクロロエタン100mlを
加えて各100mlの水で３回洗浄した。洗浄液を
合して各50mlの１，２−ジクロロエタンで２回
抽出し、40mlの水で洗浄した。１，２−ジクロ
ロエタン層を合し、活性炭（Draco Ｇ−60と
して市販されているもの）2.0ｇと共に20分間
撹拌し、Hyfloとして市販されているケイソウ
土を通して濾過した。目的の７−（２−ホルミ
ルオキシ−２−フエニルアセトアミド）セフア
ロスポラン酸を含む溶液の総容積は375mlであ
つた。これをそのまま次工程に用いた。
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル］−７−（２−ホルミルオキシ−２−フエ
ニルアセトアミド）−３−セフエム−４−カル
ボン酸の製造 １ アシル化 ７−ACA（７−アミノセフアロスポラン酸）
13.62ｇ（0.05M）を１，２−ジクロロエタン
100mlに懸濁してトリメチルシリルアセトアミ
ド26.25ｇ（0.200M）を加え、40℃に加熱して
固体を溶解し、得られた溶液を20℃に冷却し
た。２−ホルミルオキシ−２−フエニルセチル
クロリド10.92ｇ（0.055M）を１，２−ジクロ
ロエタン25mlに溶解した溶液を20分間にわたつ
て滴下すると温度が30℃に昇温した。混液を２
時間撹拌し、１，２−ジクロロエタン100mlを
加えて各100mlの水で３回洗浄した。洗浄液を
合して各50mlの１，２−ジクロロエタンで２回
抽出し、40mlの水で洗浄した。１，２−ジクロ
ロエタン層を合し、活性炭（Draco Ｇ−60と
して市販されているもの）2.0ｇと共に20分間
撹拌し、Hyfloとして市販されているケイソウ
土を通して濾過した。目的の７−（２−ホルミ
ルオキシ−２−フエニルアセトアミド）セフア
ロスポラン酸を含む溶液の総容積は375mlであ
つた。これをそのまま次工程に用いた。
２ 置換
１）で得た溶液を30℃において336ｇまで留
去した。溶液の構成成分は、１，２−ジクロロ
エタン250ml、７−（２−ホルミルオキシ−２−
フエニルアセトアミド）セフアロスポラン酸22
ｇと推定した。１−メチル−1H−テトラゾー
ル−５−チオール6.39ｇ（55mM）を１，２−
ジクロロエタン250mlに溶かした溶液を混液に
加えて加熱還流すると、以前の洗浄の際に残つ
た水が冷却器で共沸して反応容器の方へ逆流し
始めたので、これを防ぐために受器を使用し
た。12時間還流した後にTLCに付すと、ほぼ
正常の反応が確認された。混液を室温に冷却
し、結晶種を植えて生成物、３−［（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル］
−７−（２−ホルミルオキシ−２−フエニルア
セトアミド）−３−セフエム−４−カルボン酸
を沈澱させた。２時間後に生成物を濾取して
１，２−ジクロロエタン63mlで洗浄した。標題
の化合物を収量13.90ｇ（７−ACAを基準とし
て56.7％）で得た。生成物のTLCは単一化合物
を示した。生成物の特性はNMRによつて確認
した。得られた生成物のNMRデータを以下に
示す。
去した。溶液の構成成分は、１，２−ジクロロ
エタン250ml、７−（２−ホルミルオキシ−２−
フエニルアセトアミド）セフアロスポラン酸22
ｇと推定した。１−メチル−1H−テトラゾー
ル−５−チオール6.39ｇ（55mM）を１，２−
ジクロロエタン250mlに溶かした溶液を混液に
加えて加熱還流すると、以前の洗浄の際に残つ
た水が冷却器で共沸して反応容器の方へ逆流し
始めたので、これを防ぐために受器を使用し
た。12時間還流した後にTLCに付すと、ほぼ
正常の反応が確認された。混液を室温に冷却
し、結晶種を植えて生成物、３−［（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル］
−７−（２−ホルミルオキシ−２−フエニルア
セトアミド）−３−セフエム−４−カルボン酸
を沈澱させた。２時間後に生成物を濾取して
１，２−ジクロロエタン63mlで洗浄した。標題
の化合物を収量13.90ｇ（７−ACAを基準とし
て56.7％）で得た。生成物のTLCは単一化合物
を示した。生成物の特性はNMRによつて確認
した。得られた生成物のNMRデータを以下に
示す。
NMR（DMSO−d6）：
δ3.52（ｓ，２，２−ＣＨ 2）、
3.88（ｓ，３，テトラゾールの−ＣＨ 3）、
4.10（ｓ，２，３−ＣＨ 2S−）、
4.92（ｄ，１，C6−Ｈ）、
5.62（ｑ，１，C7−Ｈ，Ｊ＝５，９Hz）、
6.06（ｓ，１，＞ＣＨCONH−）、
7.26（ｓ，５，フエニル−Ｈ）、
8.28（ｓ，１，−OCOＨ）
実施例 ２
３−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル］−７−（２−ホルミルオキシ
−２−フエニルアセトアミド）−３−セフエム
−４−カルボン酸の製造 実施例１と同様にして７−ACAから調製した
７−（２−ホルミルオキシ−２−フエニルアセト
アミド）セフアロスポラン酸2.33ｇ（5.37mM）
および１−メチル−1H−テトラゾール−５−チ
オール0.64ｇ（5.5mM）を１，２−ジクロロエタ
ン25mlに加えて12時間還流し、室温に冷却して再
び過熱還流し、溶媒10mlを留去した。四塩化炭素
10mlを還流温度付近（77℃）において滴下し、室
温に冷却して１時間撹拌した。生成物を濾取して
40％四塩化炭素−１，２−ジクロロエタン14mlで
洗浄し、50℃において真空乾燥させると淡い色の
固体2.12ｇ（80.4％）が得られた。本生成物の
NMRデータは、実施例１で得られた生成物の
NMRデータと一致した。
イル）チオメチル］−７−（２−ホルミルオキシ
−２−フエニルアセトアミド）−３−セフエム
−４−カルボン酸の製造 実施例１と同様にして７−ACAから調製した
７−（２−ホルミルオキシ−２−フエニルアセト
アミド）セフアロスポラン酸2.33ｇ（5.37mM）
および１−メチル−1H−テトラゾール−５−チ
オール0.64ｇ（5.5mM）を１，２−ジクロロエタ
ン25mlに加えて12時間還流し、室温に冷却して再
び過熱還流し、溶媒10mlを留去した。四塩化炭素
10mlを還流温度付近（77℃）において滴下し、室
温に冷却して１時間撹拌した。生成物を濾取して
40％四塩化炭素−１，２−ジクロロエタン14mlで
洗浄し、50℃において真空乾燥させると淡い色の
固体2.12ｇ（80.4％）が得られた。本生成物の
NMRデータは、実施例１で得られた生成物の
NMRデータと一致した。
実施例 ３
１，２−ジクロルエタン中における３−［（１−
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル］−７−（２−ホルミルオキシ−２−フエ
ニルアセトアミド）−３−セフエム−４−カル
ボン酸の製造 実施例１と同様にして得た７−（２−ホルミル
オキシ−２−フエニルアセトアミド）セフアロス
ポラン酸2.17ｇ（5.0mM）および１−メチル−
1H−テトラゾール−５−チオール0.87ｇ
（7.5mM）を１，２−ジクロルエタン25mlに加え
て６時間還流した。３時間および６時間経過時に
おいて、TLC用のサンプルを取り出した。混液
をさらに１時間加熱し、一夜冷却した。溶媒を留
去し、残渣にジエチルエーテルを加えるとゴム状
の物質が得られ、次いで固化した。生成物を濾取
してジエチルエーテルで洗浄し、乾燥させた。
NMR値は、以下に示すように実施例１の結果と
一致した。収量1.90ｇ（77.4％）。
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル］−７−（２−ホルミルオキシ−２−フエ
ニルアセトアミド）−３−セフエム−４−カル
ボン酸の製造 実施例１と同様にして得た７−（２−ホルミル
オキシ−２−フエニルアセトアミド）セフアロス
ポラン酸2.17ｇ（5.0mM）および１−メチル−
1H−テトラゾール−５−チオール0.87ｇ
（7.5mM）を１，２−ジクロルエタン25mlに加え
て６時間還流した。３時間および６時間経過時に
おいて、TLC用のサンプルを取り出した。混液
をさらに１時間加熱し、一夜冷却した。溶媒を留
去し、残渣にジエチルエーテルを加えるとゴム状
の物質が得られ、次いで固化した。生成物を濾取
してジエチルエーテルで洗浄し、乾燥させた。
NMR値は、以下に示すように実施例１の結果と
一致した。収量1.90ｇ（77.4％）。
NMR（DMSO−d6）：
δ3.52（ｓ，２，２−ＣＨ 2）、3.88（ｓ，３，テト
ラゾールの−ＣＨ 3）、4.10（ｓ，２，３−ＣＨ
2S）、4.92（ｄ，１，C6−Ｈ）、5.62（ｑ，１，C7−
Ｈ，Ｊ＝５，９Hz）、6.06（ｓ，１，＞ＣＨCONH
−）、7.26（ｓ，５，フエニル−Ｈ）、8.28（ｓ，
１，−OCOＨ）。
ラゾールの−ＣＨ 3）、4.10（ｓ，２，３−ＣＨ
2S）、4.92（ｄ，１，C6−Ｈ）、5.62（ｑ，１，C7−
Ｈ，Ｊ＝５，９Hz）、6.06（ｓ，１，＞ＣＨCONH
−）、7.26（ｓ，５，フエニル−Ｈ）、8.28（ｓ，
１，−OCOＨ）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ７−アミノセフアロスポラン酸をアシル化し
て一般式（）： （式中、Ｑはヒドロキシまたはホルミルオキシ
を表わす） で示されるセフアロスポラン酸を得、該酸（）
と、式（）： で示されるチオール化合物とを反応させて一般式
（）： （式中、Ｑは上記の定義に従う） で示されるセフアロスポリン化合物を製造する方
法において、式（）で示されるセフアロスポラ
ン酸と式（）で示されるチオール化合物との反
応を１，２−ジクロロエタンを溶媒として実質
上、無水条件下に行うことを特徴とする方法。 ２ 反応温度が50〜140℃である請求項１記載の
方法。 ３ 反応温度が70〜120℃である請求項１記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US77501877A | 1977-03-07 | 1977-03-07 | |
| US05/862,871 US4144391A (en) | 1977-03-07 | 1977-12-27 | Cephalosporin displacement reaction |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53130689A JPS53130689A (en) | 1978-11-14 |
| JPH025758B2 true JPH025758B2 (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=27118982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2646878A Granted JPS53130689A (en) | 1977-03-07 | 1978-03-07 | Novel process for preparing cephalospoline |
Country Status (30)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS53130689A (ja) |
| AT (1) | AT366696B (ja) |
| AU (1) | AU515428B2 (ja) |
| BG (1) | BG31379A3 (ja) |
| CA (1) | CA1083141A (ja) |
| CH (1) | CH637964A5 (ja) |
| CS (1) | CS205115B2 (ja) |
| CY (1) | CY1196A (ja) |
| DD (1) | DD137356A5 (ja) |
| DE (1) | DE2809058A1 (ja) |
| DK (1) | DK97378A (ja) |
| EG (1) | EG13454A (ja) |
| ES (1) | ES467637A1 (ja) |
| FI (1) | FI69309C (ja) |
| FR (1) | FR2383189A1 (ja) |
| GB (1) | GB1597036A (ja) |
| GR (1) | GR68893B (ja) |
| HK (1) | HK49083A (ja) |
| HU (1) | HU179967B (ja) |
| IE (1) | IE46437B1 (ja) |
| IL (1) | IL54181A (ja) |
| IT (1) | IT1093504B (ja) |
| MX (1) | MX5142E (ja) |
| NL (1) | NL190703C (ja) |
| NZ (1) | NZ186610A (ja) |
| PH (1) | PH14596A (ja) |
| PL (1) | PL122152B1 (ja) |
| PT (1) | PT67732A (ja) |
| SE (1) | SE437991B (ja) |
| YU (1) | YU51478A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5543043A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-26 | Sankyo Co Ltd | Preparation of 3-substituted thiomethylcephalosporin derivative |
| US4576937A (en) * | 1984-02-29 | 1986-03-18 | Smithkline Beckman Corporation | 7-D-Mandelamido-3(1-sulfomethyltetrazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid monosodium salt |
| GB8519606D0 (en) * | 1985-08-05 | 1985-09-11 | Fujisawa Pharmaceutical Co | 3 7-d substituted-3-cephem compounds |
| JP2503500B2 (ja) * | 1986-04-14 | 1996-06-05 | 萬有製薬株式会社 | 新規セフアロスポリン誘導体及びその製造法 |
| JPS62281881A (ja) * | 1986-09-08 | 1987-12-07 | Sankyo Co Ltd | ３−置換チオメチルセフアロスポリン誘導体の製法 |
| EP2539348A4 (en) * | 2010-02-26 | 2013-07-24 | Gary Igor Dmitrienko | CEPHALOSPORIN DERIVATIVES AS BETA LACTAMASE HEMMER AND COMPOSITIONS THEREFOR AND METHOD FOR THEIR USE |
| GB201818410D0 (en) * | 2018-11-12 | 2018-12-26 | Imperial Innovations Ltd | Compounds |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5116436B1 (ja) * | 1971-05-31 | 1976-05-24 | ||
| JPS5143785A (en) * | 1974-10-11 | 1976-04-14 | Yamanouchi Pharma Co Ltd | Shinsefuarosuhorinkanrenkagobutsuno goseiho |
| JPS612674B2 (ja) * | 1974-06-20 | 1986-01-27 | Meiji Seika Co | |
| CA1100129A (en) * | 1974-08-02 | 1981-04-28 | William H.W. Lunn | Cephalosporin compounds |
| FI761035A (ja) * | 1975-04-21 | 1976-10-22 | Erba Carlo Spa |
-
1978
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- 1978-03-02 CA CA298,070A patent/CA1083141A/en not_active Expired
- 1978-03-02 CY CY1196A patent/CY1196A/xx unknown
- 1978-03-02 IL IL54181A patent/IL54181A/xx unknown
- 1978-03-02 NZ NZ186610A patent/NZ186610A/xx unknown
- 1978-03-02 DE DE19782809058 patent/DE2809058A1/de active Granted
- 1978-03-02 PT PT67732A patent/PT67732A/pt unknown
- 1978-03-02 AT AT0150778A patent/AT366696B/de not_active IP Right Cessation
- 1978-03-03 PH PH20847A patent/PH14596A/en unknown
- 1978-03-03 GR GR55608A patent/GR68893B/el unknown
- 1978-03-03 HU HU78EI784A patent/HU179967B/hu unknown
- 1978-03-03 DK DK97378A patent/DK97378A/da not_active Application Discontinuation
- 1978-03-03 CH CH236178A patent/CH637964A5/de not_active IP Right Cessation
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- 1978-03-03 FR FR7806158A patent/FR2383189A1/fr active Granted
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- 1978-03-07 JP JP2646878A patent/JPS53130689A/ja active Granted
- 1978-03-07 PL PL1978205135A patent/PL122152B1/pl unknown
- 1978-03-07 BG BG7838941A patent/BG31379A3/xx unknown
- 1978-03-07 EG EG149/78A patent/EG13454A/xx active
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-
1983
- 1983-10-27 HK HK490/83A patent/HK49083A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
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