JPH0553798B2 - - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 41
- 239000012453 solvate Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 16
- -1 cephem compound Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 9
- ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 1-Hydroxybenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(O)N=NC2=C1 ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical class [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 18
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical group C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- XNPOFXIBHOVFFH-UHFFFAOYSA-N N-cyclohexyl-N'-(2-(4-morpholinyl)ethyl)carbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NCCN1CCOCC1 XNPOFXIBHOVFFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VGRXAHXMIDCTNV-UHFFFAOYSA-N (6-chlorobenzotriazol-1-yl) 4-chlorobenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C2=CC(Cl)=CC=C2N=N1 VGRXAHXMIDCTNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 14
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 8
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 8
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 7beta-aminocephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C([O-])=O)N2C(=O)[C@@H]([NH3+])[C@@H]12 HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 0.000 description 6
- 125000000066 S-methyl group Chemical group [H]C([H])([H])S* 0.000 description 6
- YGBFLZPYDUKSPT-MRVPVSSYSA-N cephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C(O)=O)N2C(=O)C[C@H]21 YGBFLZPYDUKSPT-MRVPVSSYSA-N 0.000 description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 6
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 6
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003782 beta lactam antibiotic agent Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002132 β-lactam antibiotic Substances 0.000 description 3
- 229940124586 β-lactam antibiotics Drugs 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001399 1,2,3-triazolyl group Chemical group N1N=NC(=C1)* 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISCMYZGMRHODRP-UHFFFAOYSA-N 3-(iminomethylideneamino)-n,n-dimethylpropan-1-amine Chemical compound CN(C)CCCN=C=N ISCMYZGMRHODRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVIAYEIXYQCDAN-UHFFFAOYSA-N 7-amino-3-methyl-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound S1CC(C)=C(C(O)=O)N2C(=O)C(N)C12 NVIAYEIXYQCDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GPRBEKHLDVQUJE-VINNURBNSA-N cefotaxime Chemical compound N([C@@H]1C(N2C(=C(COC(C)=O)CS[C@@H]21)C(O)=O)=O)C(=O)/C(=N/OC)C1=CSC(N)=N1 GPRBEKHLDVQUJE-VINNURBNSA-N 0.000 description 1
- 229960004261 cefotaxime Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/59—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3 with hetero atoms directly attached in position 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、式
〔式中、R1は水素又は金属塩を、R2は水素、ハ
ロゲン、アセトキシメチル又は−CH2−S−R3
(式中、R3は、低級アルキルで置換されていても
よい1〜4の複素原子を含む5又は6員複素環を
示す)を示す〕 で表わされるセフエム化合物の製造法の改良に関
する。 さらに詳しくは、触媒としての4−ジメチルア
ミノピリジンと縮合剤の存在下に、2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メトキ
シイミノ酢酸と1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルとを反応させ、反応性アミドの用いた溶媒との
溶媒化物(solvate)を得、その得られた反応性
アミドを、7−アミノセフエム誘導体と反応させ
て式()で表わされる化合物を得ることにより
成る式()で表わされる化合物の新規改良製造
法に関わる。 〔従来技術〕 半合成β−ラクタム抗生物質の色々の製法が、
種々の文献や特許で報告されている。即ち、種々
のβ−ラクタム抗生物質が7−アミノデオキシセ
フアロスポラン酸(7−ADCA)、又は7−アミ
ノセフアロスポラン酸(7−ACA)の誘導体を、
有機産の反応性誘導体で縮合して、ペプチド結合
を形成し、当該β−ラクタム抗生物質を得ること
により製造されている。 式()で表わされる化合物の製法も、数通り
知られている。例えば、R基を導入した式()
で表わされるアミノ基保護有機酸 (式中、Rはアミノ保護基を示す) を、その反応性誘導体に変え、この反応性誘導体
を7−ACA、7−ADCA又はその誘導体用のア
シル化剤として用いている。その際、酸ハライ
ド、反応性エステル、あるいは反応性アミドのよ
うな反応性誘導体が通常用いられる。 有機酸()の酸ハライドの種々の製法および
それらの酸ハライドをアシル化剤として用いるこ
とは、特開昭52−102293、特開昭53−34795、特
開昭5−68796、特開昭54−52096、特開昭54−
157596並びに英国特許No.2025933に開示されてい
る。上記の方法によれば、有機酸()をチオニ
ルクロライド(SOCl2)、五塩化リン(PCl5)、又
はオキシ三塩化リン(POCl3)を用いて、その酸
ハライドに変え、該ハライドを用いて、7−
ADCAあるいは7−ACAをアシル化し、得られ
たアシル化された化合物の保護基Rを脱離し、式
()で表わされる化合物を得ている。しかしな
がら、かかる方法では、反応条件が複雑であるの
みならず、アミノ基の保護工程及び脱保護工程を
必要とする上に、酸ハライドが不安定である。 有機酸()の反応性エステルを合成し、該反
応性エステルを用いて、7−ACA、7−ADCA
或いはそれらの誘導体をアシル化する、式()
の化合物の製法は、特開昭52−102293、特開昭54
−95993及び特開昭56−152488に開示されている。 これらの方法によれば、まず、化合物()の
2−ピリジンチオエステル、2−ベンゾチアゾー
ルエステル又は1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルエステルを製造し、これらのエステルを用いて
7−ACA、7−ADCAあるいはこれらの誘導体
をアシル化することにより、式()で表わされ
る化合物を製造している。しかしながら、エステ
ルを製造する際に、副反応が起こるとともに、ア
シル化反応が長時間を要し、収率が低い。化合物
()を、酸アミド又は、混合無水物法により製
造する方法もあるが、それらの方法も上記したよ
うな問題点を有する。かかる方法においては、ま
ず2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
syn−メトキシイミノ酢酸のアミ基を、R基で保
護した後に、酸ハライドや反応性エステル等のよ
うな、反応性誘導体を製造し、しかる後に、アシ
ル化反応を行い、該保護基を除去している。化合
物()の1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエ
ステルおよびアミドを用いる方法が特開昭54−
95593に開示されている。本発明では式()の
エステルと、式()のアミドがほぼ同一の割合
で生成される。 しかしながら、式()の反応性エステルは、
極めて不安定で、式()の酸と、1−ヒドロキ
シベンゾトリアゾールに分解される。従つて、こ
れらの生成を分離し、アシル化剤として用いるの
は、かなりの困難を伴う。 〔発明の要約〕 式()で表わされる有機酸(式中、Rは水素
である)は、触媒量の4−ジメチルアミノピリジ
ン()と縮合剤の存在下で、式()の1−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾールと有機溶媒中で反応
させると、以下に定義する式()で表わさるれ
反応性アミドの溶媒化物が、選択的に高収率で得
られ、且つこの反応性アミドの溶媒化物は、室温
で、以下に定義する式()で表わされる化合物
と反応し、単利も容易に行えて、式()で表わ
される化合物が、高収率で得られることが、驚く
べきことに予想外にも見出された。 〔発明の詳細な説明〕 本発明は、式() で表わされる化合物を、触媒量の4−ジメチルア
ミノピリジンと縮合剤の存在下で、式() で表わされる化合物と有機溶媒中で反応させ、式
()の化合物の用いた溶媒との、溶媒化物を得、
この得られた式()の化合物の溶媒化物を、室
温で、式() 〔式中、R1は水素又は金属塩を、R2は水素、ハ
ロゲン、アセトキシメチル又は−CH2−S−R3
(式中、R3は低級アルキルで置換されていてもよ
い1〜4の複素原子を含む5又は6員複素環を示
す)を示す〕 で表わされる化合物と反応させることからなる、
式() (式中、R1及びR2は、前記定義通りである) で表わされる化合物の高収率の新規製造法に関す
る。 本発明の目的化合物は、下記の方法により製造
される。 (式中、R1及びR2及びR4は上記に定義した通り
であり、R2で表わされるハロゲンとしては、ブ
ロム又はクロムを意味する。) R2の表わす−CH2−S−R3において、R3によ
つて示される低級アルキルによつて置換されてい
てもよい1〜4の複素原子を含む5又は6員複素
環としては、例えば1,2,3−トリアゾリル、
5−メチル−1,3,4−チアジアゾリル、1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル及び2,
5−ジヒドロ−2−メチル−6−ヒドロキシ−5
−オキソ−as−トリアジン−3−イル等があげら
れる。 本発明者らは、式()で表わされる化合物を
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N
−ジメチルアセトアミド(DMA)またはN−メ
チル−2−ピロリドン(NMP)のような溶媒中
で、式()の化合物の縮合剤の存在下で、式
()で表わされる化合物と反応させると、式
()で表わされる化合物が、式()の化合物
の溶媒化物として選択的に得られること、及び該
溶媒化物は、次のアシル化工程で式()の化合
物の均一に反応し、式()で表わされる化合物
が、極めて高い収率で得られることを見出した。 本発明で用いられる縮合剤は、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、N−シクロヘキシル−N′−
モルホリノエチルカルボジイミド、N−エチル−
N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイ
ミド及び1−(p−クロロベンゼンスルホニルオ
キシ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾールの
ような慣用される縮合剤であり、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミドが最も好ましい縮合剤である。
有機酸()1モルに対して、縮合剤は約0.1〜
2.0モル量用いられるが、ほぼ等モル量の縮合剤
が好ましい。 触媒()は、有機酸()に対し、約0.5〜
5重量%量用いるのが好ましい。反応は通常室温
で1〜1.5時間程で行える。 又、反応性アミド()は、より反応性に富む
溶媒化物の系で、ほぼ定量的に、製造され、且つ
沈澱として、容易に単離できる。沈澱固体は、反
応混合物から濾取できる。 次に、アシル化反応は、好ましくは塩基の水溶
液と、有機溶媒の混合溶媒中で行うのがよい。本
反応で用いられる塩基としては、例えば、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基、或いはトリメチ
ルアミン、トリエチルアミンのような有機塩基が
挙げられる。好ましくは、炭酸水素ナトリウムが
用いられる。 本方法で用いられる有機溶媒は、アセトニトリ
ル、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミド、又はジオキサン等である。
アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、及びN,N−ジメチルホルムアミドが特に好
ましい有機溶媒である。 本発明の方法においては、式()で表わされ
る化合物を、塩基溶液に溶解し、そこに有機溶媒
を加える。ここに、反応性アミド()の溶媒化
物の結晶を加え、室温で約1〜5時間撹拌する。
反応は、定量的に進む。反応後、有機溶媒は真空
留去する。得られた水相は、PHを約4.0に調整し、
反応中に生成した1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールを分離してから、水相を、塩化ナトリウムで
飽和して後、この飽和水相に、酢酸エチルを撹拌
しながらゆつくり加え、PHを等電点に調整する
と、式()で示される化合物が、沈澱として得
られる。 好ましくは、式()で示される化合物の量に
対し、約10〜30倍量の水と有機溶媒を用いるのが
よい。水と有機溶媒の比は2:1〜1:2が好ま
しい。 〔作用・効果〕 本発明は、公知方法に比べ、次のような利点を
有する。 1 少量の触媒を用いて、反応性アミド()が
極めて反応性に富み、かつ安定な使用溶媒の溶
媒化物として、ほぼ定量的に極めて高収率に得
られる。 2 反応性アミド()の溶媒化物は、種々の有
機溶媒に極めて溶け易く、この溶媒化物による
アシル化反応は、短い反応時間で均一に進む。 3 酸ハライドや、混合無水物と異なり、反応性
アミド()の溶媒化物は室温で非常に安定で
あるため、反応性アミド()の溶媒化物は市
場で入手可能である。 4 本方法は、室温で行なうことができる。 5 有機酸化合物()のアミノ基が、たとえ保
護されていなくとも、反応は、副反応を起こす
ことなく、定量的に進む。従つて、化合物
()のアミノ基の保護工程や脱保護工程を要
しない。 6 反応終結後、目的化合物は容易に反応液から
分離できる。従つて、これらの方法は、公知方
法に比べ、簡単な製造設備で実施でき、かつ複
雑な手順が一切含まれない。かくして、本発明
によつて式()で表わされる化合物の新規に
して、経済的な製造方法が提供される。 以下、実施例を挙げるが、これは専ら、本発明
をより詳細に説明するためのものである。 実施例 1 N,N−ジメチルホルムアミド100mlに2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メ
トキシイミノ酢酸10.05gと1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール6.76gを完全に溶解し、この溶液
に4−ジメチルアミノピリジン0.3gを添加し、
得られた液を常温で10分間撹拌した。ここに、
N,N−ジメチルホルムアミド30mlにジシクロヘ
キシルカルボジイミド10.3gを溶かした溶液を、
10分間にわたつて滴下した。得られた混合液を常
温で1時間撹拌して、沈澱を析出させた。沈澱を
濾取し、N,N−ジメチルホルムアミドで洗浄し
た。濾液と洗浄液を合わせて、常温で2時間撹拌
し、続いて0℃で2時間撹拌して、沈澱を生成さ
せた。沈澱は、N,N−ジメチルホルムアミドで
洗浄後、乾燥して反応性アミドである1−〔α−
syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−アセチル〕ベンゾトリアゾー
ル−3−オキサイドのDMF溶媒化物を得た。 収量:17.6g(90%) IR(KBr、cm-1): 1730(アミドカルボニル) NMR(DMSO−d6、δ、ppm): 2.27(3H、s、−N−CH3) 2.90(3H、s、−N−CH3) 3.90(3H、s、−OCH3) 7.07(1H、s、チアゾール−H) 7.13(2H、s、−NH2) 7.5〜8.5(4H、m、ベンゾトリアゾール−H) 7.97(1H、s、
ロゲン、アセトキシメチル又は−CH2−S−R3
(式中、R3は、低級アルキルで置換されていても
よい1〜4の複素原子を含む5又は6員複素環を
示す)を示す〕 で表わされるセフエム化合物の製造法の改良に関
する。 さらに詳しくは、触媒としての4−ジメチルア
ミノピリジンと縮合剤の存在下に、2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メトキ
シイミノ酢酸と1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルとを反応させ、反応性アミドの用いた溶媒との
溶媒化物(solvate)を得、その得られた反応性
アミドを、7−アミノセフエム誘導体と反応させ
て式()で表わされる化合物を得ることにより
成る式()で表わされる化合物の新規改良製造
法に関わる。 〔従来技術〕 半合成β−ラクタム抗生物質の色々の製法が、
種々の文献や特許で報告されている。即ち、種々
のβ−ラクタム抗生物質が7−アミノデオキシセ
フアロスポラン酸(7−ADCA)、又は7−アミ
ノセフアロスポラン酸(7−ACA)の誘導体を、
有機産の反応性誘導体で縮合して、ペプチド結合
を形成し、当該β−ラクタム抗生物質を得ること
により製造されている。 式()で表わされる化合物の製法も、数通り
知られている。例えば、R基を導入した式()
で表わされるアミノ基保護有機酸 (式中、Rはアミノ保護基を示す) を、その反応性誘導体に変え、この反応性誘導体
を7−ACA、7−ADCA又はその誘導体用のア
シル化剤として用いている。その際、酸ハライ
ド、反応性エステル、あるいは反応性アミドのよ
うな反応性誘導体が通常用いられる。 有機酸()の酸ハライドの種々の製法および
それらの酸ハライドをアシル化剤として用いるこ
とは、特開昭52−102293、特開昭53−34795、特
開昭5−68796、特開昭54−52096、特開昭54−
157596並びに英国特許No.2025933に開示されてい
る。上記の方法によれば、有機酸()をチオニ
ルクロライド(SOCl2)、五塩化リン(PCl5)、又
はオキシ三塩化リン(POCl3)を用いて、その酸
ハライドに変え、該ハライドを用いて、7−
ADCAあるいは7−ACAをアシル化し、得られ
たアシル化された化合物の保護基Rを脱離し、式
()で表わされる化合物を得ている。しかしな
がら、かかる方法では、反応条件が複雑であるの
みならず、アミノ基の保護工程及び脱保護工程を
必要とする上に、酸ハライドが不安定である。 有機酸()の反応性エステルを合成し、該反
応性エステルを用いて、7−ACA、7−ADCA
或いはそれらの誘導体をアシル化する、式()
の化合物の製法は、特開昭52−102293、特開昭54
−95993及び特開昭56−152488に開示されている。 これらの方法によれば、まず、化合物()の
2−ピリジンチオエステル、2−ベンゾチアゾー
ルエステル又は1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルエステルを製造し、これらのエステルを用いて
7−ACA、7−ADCAあるいはこれらの誘導体
をアシル化することにより、式()で表わされ
る化合物を製造している。しかしながら、エステ
ルを製造する際に、副反応が起こるとともに、ア
シル化反応が長時間を要し、収率が低い。化合物
()を、酸アミド又は、混合無水物法により製
造する方法もあるが、それらの方法も上記したよ
うな問題点を有する。かかる方法においては、ま
ず2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
syn−メトキシイミノ酢酸のアミ基を、R基で保
護した後に、酸ハライドや反応性エステル等のよ
うな、反応性誘導体を製造し、しかる後に、アシ
ル化反応を行い、該保護基を除去している。化合
物()の1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエ
ステルおよびアミドを用いる方法が特開昭54−
95593に開示されている。本発明では式()の
エステルと、式()のアミドがほぼ同一の割合
で生成される。 しかしながら、式()の反応性エステルは、
極めて不安定で、式()の酸と、1−ヒドロキ
シベンゾトリアゾールに分解される。従つて、こ
れらの生成を分離し、アシル化剤として用いるの
は、かなりの困難を伴う。 〔発明の要約〕 式()で表わされる有機酸(式中、Rは水素
である)は、触媒量の4−ジメチルアミノピリジ
ン()と縮合剤の存在下で、式()の1−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾールと有機溶媒中で反応
させると、以下に定義する式()で表わさるれ
反応性アミドの溶媒化物が、選択的に高収率で得
られ、且つこの反応性アミドの溶媒化物は、室温
で、以下に定義する式()で表わされる化合物
と反応し、単利も容易に行えて、式()で表わ
される化合物が、高収率で得られることが、驚く
べきことに予想外にも見出された。 〔発明の詳細な説明〕 本発明は、式() で表わされる化合物を、触媒量の4−ジメチルア
ミノピリジンと縮合剤の存在下で、式() で表わされる化合物と有機溶媒中で反応させ、式
()の化合物の用いた溶媒との、溶媒化物を得、
この得られた式()の化合物の溶媒化物を、室
温で、式() 〔式中、R1は水素又は金属塩を、R2は水素、ハ
ロゲン、アセトキシメチル又は−CH2−S−R3
(式中、R3は低級アルキルで置換されていてもよ
い1〜4の複素原子を含む5又は6員複素環を示
す)を示す〕 で表わされる化合物と反応させることからなる、
式() (式中、R1及びR2は、前記定義通りである) で表わされる化合物の高収率の新規製造法に関す
る。 本発明の目的化合物は、下記の方法により製造
される。 (式中、R1及びR2及びR4は上記に定義した通り
であり、R2で表わされるハロゲンとしては、ブ
ロム又はクロムを意味する。) R2の表わす−CH2−S−R3において、R3によ
つて示される低級アルキルによつて置換されてい
てもよい1〜4の複素原子を含む5又は6員複素
環としては、例えば1,2,3−トリアゾリル、
5−メチル−1,3,4−チアジアゾリル、1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル及び2,
5−ジヒドロ−2−メチル−6−ヒドロキシ−5
−オキソ−as−トリアジン−3−イル等があげら
れる。 本発明者らは、式()で表わされる化合物を
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N
−ジメチルアセトアミド(DMA)またはN−メ
チル−2−ピロリドン(NMP)のような溶媒中
で、式()の化合物の縮合剤の存在下で、式
()で表わされる化合物と反応させると、式
()で表わされる化合物が、式()の化合物
の溶媒化物として選択的に得られること、及び該
溶媒化物は、次のアシル化工程で式()の化合
物の均一に反応し、式()で表わされる化合物
が、極めて高い収率で得られることを見出した。 本発明で用いられる縮合剤は、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、N−シクロヘキシル−N′−
モルホリノエチルカルボジイミド、N−エチル−
N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイ
ミド及び1−(p−クロロベンゼンスルホニルオ
キシ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾールの
ような慣用される縮合剤であり、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミドが最も好ましい縮合剤である。
有機酸()1モルに対して、縮合剤は約0.1〜
2.0モル量用いられるが、ほぼ等モル量の縮合剤
が好ましい。 触媒()は、有機酸()に対し、約0.5〜
5重量%量用いるのが好ましい。反応は通常室温
で1〜1.5時間程で行える。 又、反応性アミド()は、より反応性に富む
溶媒化物の系で、ほぼ定量的に、製造され、且つ
沈澱として、容易に単離できる。沈澱固体は、反
応混合物から濾取できる。 次に、アシル化反応は、好ましくは塩基の水溶
液と、有機溶媒の混合溶媒中で行うのがよい。本
反応で用いられる塩基としては、例えば、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基、或いはトリメチ
ルアミン、トリエチルアミンのような有機塩基が
挙げられる。好ましくは、炭酸水素ナトリウムが
用いられる。 本方法で用いられる有機溶媒は、アセトニトリ
ル、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミド、又はジオキサン等である。
アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、及びN,N−ジメチルホルムアミドが特に好
ましい有機溶媒である。 本発明の方法においては、式()で表わされ
る化合物を、塩基溶液に溶解し、そこに有機溶媒
を加える。ここに、反応性アミド()の溶媒化
物の結晶を加え、室温で約1〜5時間撹拌する。
反応は、定量的に進む。反応後、有機溶媒は真空
留去する。得られた水相は、PHを約4.0に調整し、
反応中に生成した1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールを分離してから、水相を、塩化ナトリウムで
飽和して後、この飽和水相に、酢酸エチルを撹拌
しながらゆつくり加え、PHを等電点に調整する
と、式()で示される化合物が、沈澱として得
られる。 好ましくは、式()で示される化合物の量に
対し、約10〜30倍量の水と有機溶媒を用いるのが
よい。水と有機溶媒の比は2:1〜1:2が好ま
しい。 〔作用・効果〕 本発明は、公知方法に比べ、次のような利点を
有する。 1 少量の触媒を用いて、反応性アミド()が
極めて反応性に富み、かつ安定な使用溶媒の溶
媒化物として、ほぼ定量的に極めて高収率に得
られる。 2 反応性アミド()の溶媒化物は、種々の有
機溶媒に極めて溶け易く、この溶媒化物による
アシル化反応は、短い反応時間で均一に進む。 3 酸ハライドや、混合無水物と異なり、反応性
アミド()の溶媒化物は室温で非常に安定で
あるため、反応性アミド()の溶媒化物は市
場で入手可能である。 4 本方法は、室温で行なうことができる。 5 有機酸化合物()のアミノ基が、たとえ保
護されていなくとも、反応は、副反応を起こす
ことなく、定量的に進む。従つて、化合物
()のアミノ基の保護工程や脱保護工程を要
しない。 6 反応終結後、目的化合物は容易に反応液から
分離できる。従つて、これらの方法は、公知方
法に比べ、簡単な製造設備で実施でき、かつ複
雑な手順が一切含まれない。かくして、本発明
によつて式()で表わされる化合物の新規に
して、経済的な製造方法が提供される。 以下、実施例を挙げるが、これは専ら、本発明
をより詳細に説明するためのものである。 実施例 1 N,N−ジメチルホルムアミド100mlに2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メ
トキシイミノ酢酸10.05gと1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール6.76gを完全に溶解し、この溶液
に4−ジメチルアミノピリジン0.3gを添加し、
得られた液を常温で10分間撹拌した。ここに、
N,N−ジメチルホルムアミド30mlにジシクロヘ
キシルカルボジイミド10.3gを溶かした溶液を、
10分間にわたつて滴下した。得られた混合液を常
温で1時間撹拌して、沈澱を析出させた。沈澱を
濾取し、N,N−ジメチルホルムアミドで洗浄し
た。濾液と洗浄液を合わせて、常温で2時間撹拌
し、続いて0℃で2時間撹拌して、沈澱を生成さ
せた。沈澱は、N,N−ジメチルホルムアミドで
洗浄後、乾燥して反応性アミドである1−〔α−
syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−アセチル〕ベンゾトリアゾー
ル−3−オキサイドのDMF溶媒化物を得た。 収量:17.6g(90%) IR(KBr、cm-1): 1730(アミドカルボニル) NMR(DMSO−d6、δ、ppm): 2.27(3H、s、−N−CH3) 2.90(3H、s、−N−CH3) 3.90(3H、s、−OCH3) 7.07(1H、s、チアゾール−H) 7.13(2H、s、−NH2) 7.5〜8.5(4H、m、ベンゾトリアゾール−H) 7.97(1H、s、
【式】)
融点:156〜059℃(分解)
実施例 2
溶媒として、N,N−ジメチルホルムアミドの
代わりにN−メチル−2−ピロリドンを用いて、
実施例と同様な方法で反応を行い、1−〔α−
syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセチル〕−ベンゾトリアゾー
ル−3−オキサイドのNMP溶媒化物を得た。 収量:17.72g(85%) IR並びにNMRデータは実施例1と同様であつ
た。 実施例 3 縮合剤として、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドの代わりに、N−シクロヘキシル−N′−モル
ホリノエチルカルボジイミドを用いて実施例1と
同様な方法で反応を行い、1−〔α−syn−メト
キシイミノ−α−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−アセチル〕−ベンゾトリアゾール−3−オ
キサイドのDMF溶媒化物を得た。 収量:17.2g(88%) IR並びにNMRデータは実施例1と同様であつ
た。 実施例 4 N,N−ジメチルアセトアミド100mlに2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メ
トキシイミノ酢酸10.05gと1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール6.76gを溶解し、この溶液に、4
−ジメチルアミノピリジン0.3gを加え、10分間
撹拌した。この溶液に、N,N−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド10.3gをN,N−ジメチルアセ
トアミド30mlに溶かした溶液を10分間にわたつて
滴下し、混合液を常温で10分間撹拌し、析出した
沈澱を濾取した。 沈澱をN,N−ジメチルアセトアミドで洗浄
し、濾液と洗浄液を合わせて、常温で2時間撹拌
し、続いて0℃で2時間撹拌して、沈澱を生成さ
せた。得られた沈澱を濾取した後、乾燥して、1
−〔α−syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−アセチル〕−ベンゾトリ
アゾール−3−オキサイドのDMA溶媒化物を得
た。 収量:18.2g(91%) IR(KBr、cm-1): 1730(アミドカルボニル) 1655(DMA カルボニル) NMR(DMSO−d6.δ、ppm): 2.05(3H、s、
代わりにN−メチル−2−ピロリドンを用いて、
実施例と同様な方法で反応を行い、1−〔α−
syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセチル〕−ベンゾトリアゾー
ル−3−オキサイドのNMP溶媒化物を得た。 収量:17.72g(85%) IR並びにNMRデータは実施例1と同様であつ
た。 実施例 3 縮合剤として、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドの代わりに、N−シクロヘキシル−N′−モル
ホリノエチルカルボジイミドを用いて実施例1と
同様な方法で反応を行い、1−〔α−syn−メト
キシイミノ−α−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−アセチル〕−ベンゾトリアゾール−3−オ
キサイドのDMF溶媒化物を得た。 収量:17.2g(88%) IR並びにNMRデータは実施例1と同様であつ
た。 実施例 4 N,N−ジメチルアセトアミド100mlに2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メ
トキシイミノ酢酸10.05gと1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール6.76gを溶解し、この溶液に、4
−ジメチルアミノピリジン0.3gを加え、10分間
撹拌した。この溶液に、N,N−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド10.3gをN,N−ジメチルアセ
トアミド30mlに溶かした溶液を10分間にわたつて
滴下し、混合液を常温で10分間撹拌し、析出した
沈澱を濾取した。 沈澱をN,N−ジメチルアセトアミドで洗浄
し、濾液と洗浄液を合わせて、常温で2時間撹拌
し、続いて0℃で2時間撹拌して、沈澱を生成さ
せた。得られた沈澱を濾取した後、乾燥して、1
−〔α−syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−アセチル〕−ベンゾトリ
アゾール−3−オキサイドのDMA溶媒化物を得
た。 収量:18.2g(91%) IR(KBr、cm-1): 1730(アミドカルボニル) 1655(DMA カルボニル) NMR(DMSO−d6.δ、ppm): 2.05(3H、s、
【式】)
2.30(3H、s、−N−CH3)
2.95(3H、s、−N−CH3)
3.95(3H、s、−OCH3)
7.10(1H、s、チアゾール−H)
7.20(2H、s、−NH2)
7.4〜8.4(4H、m、ベンゾトリアゾール−H)
融点:157〜160℃(分解)
実施例 5
水100mlとアセトニトリル200mlの混液に、7−
アミノセフアロスポラン酸5.44gを添加した上に
炭酸ナトリウム2.4gを加え、混合液を室温で10
分間撹拌して、完全に溶解させた。この得られた
液に実施例1で製造した1−〔α−syn−メトキ
シイミノ−α−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−アセチル〕−ベンゾトリアゾール−3−オキ
サイドのDMA溶媒化物7.87gを加え、該混合液
を常温で4時間撹拌して、反応を完結させた。ア
セトニトリルを混合液から真空留去した後、溶液
を0〜5℃まで冷却し、2規定塩酸でPHを4.0に
調整し、1時間撹拌して、沈澱を析出させた。混
合液を濾過し濾液を塩化ナトリウムで飽和した
後、酢酸エチル120mlを加えた。激しく撹拌しな
がら、2規定塩酸でPHを2.5に調整して、淡黄色
沈澱を生成させた。1時間撹拌後、濾過し、続い
て乾燥して7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセト
アミド〕セフアロスポラン酸(セフオタキシム)
を得た。 収量:8.65g(95%) IR(KBr、cm-1): 1780(α−ラクタムカルボニル) NMR(D2O/NaHCO3、δ、ppm): 2.08(3H、s、
アミノセフアロスポラン酸5.44gを添加した上に
炭酸ナトリウム2.4gを加え、混合液を室温で10
分間撹拌して、完全に溶解させた。この得られた
液に実施例1で製造した1−〔α−syn−メトキ
シイミノ−α−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−アセチル〕−ベンゾトリアゾール−3−オキ
サイドのDMA溶媒化物7.87gを加え、該混合液
を常温で4時間撹拌して、反応を完結させた。ア
セトニトリルを混合液から真空留去した後、溶液
を0〜5℃まで冷却し、2規定塩酸でPHを4.0に
調整し、1時間撹拌して、沈澱を析出させた。混
合液を濾過し濾液を塩化ナトリウムで飽和した
後、酢酸エチル120mlを加えた。激しく撹拌しな
がら、2規定塩酸でPHを2.5に調整して、淡黄色
沈澱を生成させた。1時間撹拌後、濾過し、続い
て乾燥して7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセト
アミド〕セフアロスポラン酸(セフオタキシム)
を得た。 収量:8.65g(95%) IR(KBr、cm-1): 1780(α−ラクタムカルボニル) NMR(D2O/NaHCO3、δ、ppm): 2.08(3H、s、
【式】)
3.53(2H、d、C2−H)
4.02(3H、s、−OCH3)
4.84(2H、d、3−CH2−)
5.20(1H、d、C6−H)
5.82(1H、d、C7−H)
6.97(1H、s、チアゾール−H)
実施例 6
アセトニトリルの代わりに、テトラヒドロフラ
ンを用いて、実施例5と同様な方法で反応を行
い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕
セフアロスポラン酸を得た。 収量:8.44g(93%) 実施例 7 アセトニトリルの代わりにアセトンを用いて実
施例5と同様な方法で反応を行い、7−〔〔2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−
メトキシイミノ〕アセトアミド〕セフアロスポラ
ン酸を得た。 収量:8.26g(91%) IR並びにNMRデータは実施例5と同様であつ
た。 実施例 8 水100mlとN,N−ジメチルホルムアミド40ml
の混液に、7−アミノセフアロスポラン酸5.44g
を加えた上に、炭酸水素ナトリウム2.4gを添加
して、混合液を室温で10分間撹拌して、10℃以下
に冷却した。ここへ、N,N−ジメチルホルムア
ミド40mlに、1−〔α−syn−メトキシイミノ−
α−(2−アミノチアゾール−4−イル)−アセチ
ル〕−ベンゾトリアゾール−3−オキサイドの
DMF溶媒化物7.87gを溶解させた溶液を、10分
間にわたつて滴下した。該溶液を室温で4時間撹
拌し、反応を終結させた。N,N−ジメチルホル
ムアミドを酢酸エチル150mlで抽出して後、水相
を塩化ナトリウムで飽和した。溶液を5℃まで冷
却し、2規定塩酸で、PHを4.0に調整した後、濾
過して不純物を除去した。2規定塩酸で濾液のPH
を2.5に調整して、淡黄色沈澱を生成させた。混
合液を1時間撹拌した後、濾過し、沈澱を水で洗
浄して、乾燥し、7−〔〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−syn−メトキシイミノ〕
アセトアミド〕セフアロスポラン酸を得た。 収量:7.98g(88%) IR並びにNMRデータは、実施例5と同様であ
つた。 実施例 9 N,N−ジメチルホルムアミドの代わりに、
N,N−ジメチルアセトアミドを用いて、実施例
8と同様な方法で、反応を行い、7−〔〔2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メ
トキシイミノ〕アセトアミド〕セフアロスポラン
酸を得た。 収量:7.96g(88%) IR並びにNMRデータは実施例5と同様であつ
た。 実施例 10 実施例4で製造されたDMA溶媒化物8.10gを
用いて、実施例5と同様な方法で3時間反応を行
つて、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミ
ド〕セフアロスポラン酸を得た。 収量:8.92g(98%) IR並びにNMRデータは実施例5と同様であつ
た。 実施例 11 水35mlに、7−アミノ〔3−(1−メチル−1H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル〕−3−
セフエム−4−カルボン酸3.28gを加えた上に、
炭酸水素ナトリウム2.0gを加え、混合液を室温
で撹拌して、溶解させた。この溶液にアセトニト
リル40mlを加えた後、10℃まで冷却した。ここに
実施例1で製造した1−〔α−syn−メトキシイ
ミノ−α−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
アセチル〕ベンゾトリアゾール−3−オキサイド
のDMF溶媒化物4.68gを加えて後、室温で5時
間撹拌して溶解させ、反応を終結させた。アセト
ニトリルを真空蒸留して得た水相に、さらに水40
mlを加えた。混合液は2規定塩酸でPHを3.8に調
整し、1時間撹拌後、濾過して、沈澱を除去し
た。濾液を塩化ナトリウムで飽和し、2規定塩酸
でPHを2.7に調整して、沈澱を析出させた。混合
液を5℃で2時間撹拌し、濾過し、乾燥させて、
7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3
−〔(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル〕
チオメチル〕−3−セフエム−4−カルボン酸
(セフメノキシム)を得た。 収量:4.65g(91%) IR(KBr、cm-1): 1780(β−ラクタムカルボニル) NMR(D2O/NaHCO3、δ): 3.84(2H、d、C2−H) 4.01(3H、s、−OCH3) 4.05(3H、s、=N−CH3) 5.20(1H、d、C6−H) 5.77(1H、d、C7−H) 7.01(1H、s、チアゾール−H) 実施例 12 アセトニトリルの代わりに、酢酸エチル40mlを
用いて実施例11と同様な方法で反応を行い、7−
〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3−
〔(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル〕
チオメチル〕−3−セフエム−4−カルボン酸を
得た。 収量:4.60g(40%) IR並びにNMRデータは実施例11と同様であつ
た。 実施例 13 実施例4で製造されたDMA溶媒化物4.05gを
用いて、実施例11と同様な方法で3時間反応を行
つて、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミ
ド〕−3−〔(1−メチル−1H−テトラゾール−5
−イル〕チオメチル〕−3−セフエム−4−カル
ボン酸を得た。 収量:4.97g(94%) IR並びにNMRデータは実施例11と同様であつ
た。 実施例 14 水40mlとテトラヒドロフラン30mlの混液中に、
7−アミノ−3−(2,5−ジヒドロ−2−メチ
ル−6−ヒドロキシ−5−オキソ−as−トリアジ
ン−3−イル)チオメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸3.71gを加えた上に、炭酸水素ナトリ
ウム2.79gを添加して、PH8.0〜8.2の澄明な液を
得た。この溶液に1−〔α−syn−メトキシイミ
ノ−α−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セチル〕ベンゾトリアゾール−3−オキサイドの
DMF溶媒化物4.68gを加えて、5℃で1時間撹
拌して、次に温度を25℃まで上げた後、5時間撹
拌した。テトラヒドロフランを溶液から真空留去
した後、水30mlを加えてから、2規定塩酸で溶液
のPHを4.2に調整して、30分間撹拌し、濾過して、
生成した不溶物は除去した。濾液は、塩化ナトリ
ウムで飽和し、2規定塩酸でPHを2.9〜3.0に調整
して、沈澱を析出させた。混合液を同じPHに保つ
て、2時間撹拌した後、濾過し、乾燥を行い、7
−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3−
〔(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチ
ル−5−オキソ−as−トリアジン−3−イル)チ
オメチル〕−3−セフエム−4−カルボン酸を得
た。 収量:4.70g(85%) IR(KBr、cm-1): 1780(β−ラクタムカルボニル) NMR(D2O−/NaHCO3、δ): 3.20(2H、s、C2−H) 3.62(3H、s、=N−CH3) 3.95(3H、s、−OCH3) 4.21(2H、d、−S−CH2−) 5.17(1H、d、C6−H) 5.72(1H、d、C7−H) 6.95(1H、s、チアゾール−H) 実施例 15 テトラヒドロフランの代わりに、アセトニトリ
ル40mlを用いて、実施例14と同様な方法で反応を
行い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミ
ド〕−3−〔(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ
−2−メチル−5−オキソ−as−トリアジン−3
−イル)チオメチル〕−3−セフエム−4−カル
ボン酸を得た。 収量:4.50g(81%) IR並びにNMRデータは実施例14と同様であつ
た。 実施例 16 実施例4で製造されたDMA溶媒化物4.05gを
用いて、実施例14と同様な方法で4時間反応を行
い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕
−3−〔(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2
−メチル−5−オキソ−as−トリアジン−3−イ
ル)チオメチル〕−3−セフエム−4−カルボン
酸を得た。 収量:5.27g(91%) IR並びにNMRデータは実施例14と同様であつ
た。 実施例 17 水20mlとテトラヒドロフラン20mlの混液に、7
−アミノ−3−セフエム−4−カルボン酸1.88g
を加えた上に、炭酸水素ナトリウム2.80gを添加
した。この溶液を5℃まで冷却し、1−〔α−
syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−アセチル〕−ベンゾトリアゾー
ル−3−オキサイドのDMF溶媒化物3.91gを10
分間にわたつて添加した。この混合液を5℃で1
時間続いて25℃で2時間撹拌した。テトラヒドロ
フランを真空留去した後、水15mlを加え、混合液
を5℃まで冷却した。溶液を2規定塩酸でPH4.2
に調整し、30分間撹拌して、濾過して、生成した
不溶物を除去した。濾液は、塩化ナトリウムで飽
和し、2規定塩酸でPHを2.8に調整して、沈澱を
析出させた。この混合液を同じPHに保つたまま氷
冷下で2時間撹拌し、濾過した。沈澱を飽和塩化
ナトリウム溶液で洗浄し、次いで、冷水で洗浄し
て後、乾燥して、7−〔〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−syn−メトキシイミノ〕
アセトアミド〕−3−セフエム−4−カルボン酸
を得た。 収量:3.48g(91%) IR(KBr、cm-1): 1780、1695、1655 NMR(DMSO−d6、δ): 3.60(2H、幅広、C2−H) 3.84(3H、s、−OCH3) 5.12(1H、d、C6−H) 5.84(1H、d、C7−H) 6.52(1H、s、3−H) 6.76(1H、s、チアゾール−H) 7.26(2H、幅広、−NH2) 9.65(1H、d、−NH−CO) 実施例 18 テトラヒドロフランの代わりに、アセトン20ml
を用いて、実施例17と同様な方法で反応を行い、
7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3
−セフエム−4−カルボン酸を得た。 収量:3.40g(90%) IR並びにNMRデータは実施例17と同様であつ
た。 実施例 19 実施例4で製造されたDMA溶媒化物4.05gを
用いて、実施例17と同様な方法で3時間反応を行
い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕
−3−セフエム−4−カルボン酸を得た。 収量:5.27g(94%) IR並びにNMRデータは実施例17と同様であつ
た。
ンを用いて、実施例5と同様な方法で反応を行
い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕
セフアロスポラン酸を得た。 収量:8.44g(93%) 実施例 7 アセトニトリルの代わりにアセトンを用いて実
施例5と同様な方法で反応を行い、7−〔〔2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−
メトキシイミノ〕アセトアミド〕セフアロスポラ
ン酸を得た。 収量:8.26g(91%) IR並びにNMRデータは実施例5と同様であつ
た。 実施例 8 水100mlとN,N−ジメチルホルムアミド40ml
の混液に、7−アミノセフアロスポラン酸5.44g
を加えた上に、炭酸水素ナトリウム2.4gを添加
して、混合液を室温で10分間撹拌して、10℃以下
に冷却した。ここへ、N,N−ジメチルホルムア
ミド40mlに、1−〔α−syn−メトキシイミノ−
α−(2−アミノチアゾール−4−イル)−アセチ
ル〕−ベンゾトリアゾール−3−オキサイドの
DMF溶媒化物7.87gを溶解させた溶液を、10分
間にわたつて滴下した。該溶液を室温で4時間撹
拌し、反応を終結させた。N,N−ジメチルホル
ムアミドを酢酸エチル150mlで抽出して後、水相
を塩化ナトリウムで飽和した。溶液を5℃まで冷
却し、2規定塩酸で、PHを4.0に調整した後、濾
過して不純物を除去した。2規定塩酸で濾液のPH
を2.5に調整して、淡黄色沈澱を生成させた。混
合液を1時間撹拌した後、濾過し、沈澱を水で洗
浄して、乾燥し、7−〔〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−syn−メトキシイミノ〕
アセトアミド〕セフアロスポラン酸を得た。 収量:7.98g(88%) IR並びにNMRデータは、実施例5と同様であ
つた。 実施例 9 N,N−ジメチルホルムアミドの代わりに、
N,N−ジメチルアセトアミドを用いて、実施例
8と同様な方法で、反応を行い、7−〔〔2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−syn−メ
トキシイミノ〕アセトアミド〕セフアロスポラン
酸を得た。 収量:7.96g(88%) IR並びにNMRデータは実施例5と同様であつ
た。 実施例 10 実施例4で製造されたDMA溶媒化物8.10gを
用いて、実施例5と同様な方法で3時間反応を行
つて、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミ
ド〕セフアロスポラン酸を得た。 収量:8.92g(98%) IR並びにNMRデータは実施例5と同様であつ
た。 実施例 11 水35mlに、7−アミノ〔3−(1−メチル−1H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル〕−3−
セフエム−4−カルボン酸3.28gを加えた上に、
炭酸水素ナトリウム2.0gを加え、混合液を室温
で撹拌して、溶解させた。この溶液にアセトニト
リル40mlを加えた後、10℃まで冷却した。ここに
実施例1で製造した1−〔α−syn−メトキシイ
ミノ−α−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
アセチル〕ベンゾトリアゾール−3−オキサイド
のDMF溶媒化物4.68gを加えて後、室温で5時
間撹拌して溶解させ、反応を終結させた。アセト
ニトリルを真空蒸留して得た水相に、さらに水40
mlを加えた。混合液は2規定塩酸でPHを3.8に調
整し、1時間撹拌後、濾過して、沈澱を除去し
た。濾液を塩化ナトリウムで飽和し、2規定塩酸
でPHを2.7に調整して、沈澱を析出させた。混合
液を5℃で2時間撹拌し、濾過し、乾燥させて、
7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3
−〔(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル〕
チオメチル〕−3−セフエム−4−カルボン酸
(セフメノキシム)を得た。 収量:4.65g(91%) IR(KBr、cm-1): 1780(β−ラクタムカルボニル) NMR(D2O/NaHCO3、δ): 3.84(2H、d、C2−H) 4.01(3H、s、−OCH3) 4.05(3H、s、=N−CH3) 5.20(1H、d、C6−H) 5.77(1H、d、C7−H) 7.01(1H、s、チアゾール−H) 実施例 12 アセトニトリルの代わりに、酢酸エチル40mlを
用いて実施例11と同様な方法で反応を行い、7−
〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3−
〔(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル〕
チオメチル〕−3−セフエム−4−カルボン酸を
得た。 収量:4.60g(40%) IR並びにNMRデータは実施例11と同様であつ
た。 実施例 13 実施例4で製造されたDMA溶媒化物4.05gを
用いて、実施例11と同様な方法で3時間反応を行
つて、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミ
ド〕−3−〔(1−メチル−1H−テトラゾール−5
−イル〕チオメチル〕−3−セフエム−4−カル
ボン酸を得た。 収量:4.97g(94%) IR並びにNMRデータは実施例11と同様であつ
た。 実施例 14 水40mlとテトラヒドロフラン30mlの混液中に、
7−アミノ−3−(2,5−ジヒドロ−2−メチ
ル−6−ヒドロキシ−5−オキソ−as−トリアジ
ン−3−イル)チオメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸3.71gを加えた上に、炭酸水素ナトリ
ウム2.79gを添加して、PH8.0〜8.2の澄明な液を
得た。この溶液に1−〔α−syn−メトキシイミ
ノ−α−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セチル〕ベンゾトリアゾール−3−オキサイドの
DMF溶媒化物4.68gを加えて、5℃で1時間撹
拌して、次に温度を25℃まで上げた後、5時間撹
拌した。テトラヒドロフランを溶液から真空留去
した後、水30mlを加えてから、2規定塩酸で溶液
のPHを4.2に調整して、30分間撹拌し、濾過して、
生成した不溶物は除去した。濾液は、塩化ナトリ
ウムで飽和し、2規定塩酸でPHを2.9〜3.0に調整
して、沈澱を析出させた。混合液を同じPHに保つ
て、2時間撹拌した後、濾過し、乾燥を行い、7
−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3−
〔(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチ
ル−5−オキソ−as−トリアジン−3−イル)チ
オメチル〕−3−セフエム−4−カルボン酸を得
た。 収量:4.70g(85%) IR(KBr、cm-1): 1780(β−ラクタムカルボニル) NMR(D2O−/NaHCO3、δ): 3.20(2H、s、C2−H) 3.62(3H、s、=N−CH3) 3.95(3H、s、−OCH3) 4.21(2H、d、−S−CH2−) 5.17(1H、d、C6−H) 5.72(1H、d、C7−H) 6.95(1H、s、チアゾール−H) 実施例 15 テトラヒドロフランの代わりに、アセトニトリ
ル40mlを用いて、実施例14と同様な方法で反応を
行い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミ
ド〕−3−〔(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ
−2−メチル−5−オキソ−as−トリアジン−3
−イル)チオメチル〕−3−セフエム−4−カル
ボン酸を得た。 収量:4.50g(81%) IR並びにNMRデータは実施例14と同様であつ
た。 実施例 16 実施例4で製造されたDMA溶媒化物4.05gを
用いて、実施例14と同様な方法で4時間反応を行
い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕
−3−〔(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2
−メチル−5−オキソ−as−トリアジン−3−イ
ル)チオメチル〕−3−セフエム−4−カルボン
酸を得た。 収量:5.27g(91%) IR並びにNMRデータは実施例14と同様であつ
た。 実施例 17 水20mlとテトラヒドロフラン20mlの混液に、7
−アミノ−3−セフエム−4−カルボン酸1.88g
を加えた上に、炭酸水素ナトリウム2.80gを添加
した。この溶液を5℃まで冷却し、1−〔α−
syn−メトキシイミノ−α−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−アセチル〕−ベンゾトリアゾー
ル−3−オキサイドのDMF溶媒化物3.91gを10
分間にわたつて添加した。この混合液を5℃で1
時間続いて25℃で2時間撹拌した。テトラヒドロ
フランを真空留去した後、水15mlを加え、混合液
を5℃まで冷却した。溶液を2規定塩酸でPH4.2
に調整し、30分間撹拌して、濾過して、生成した
不溶物を除去した。濾液は、塩化ナトリウムで飽
和し、2規定塩酸でPHを2.8に調整して、沈澱を
析出させた。この混合液を同じPHに保つたまま氷
冷下で2時間撹拌し、濾過した。沈澱を飽和塩化
ナトリウム溶液で洗浄し、次いで、冷水で洗浄し
て後、乾燥して、7−〔〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−syn−メトキシイミノ〕
アセトアミド〕−3−セフエム−4−カルボン酸
を得た。 収量:3.48g(91%) IR(KBr、cm-1): 1780、1695、1655 NMR(DMSO−d6、δ): 3.60(2H、幅広、C2−H) 3.84(3H、s、−OCH3) 5.12(1H、d、C6−H) 5.84(1H、d、C7−H) 6.52(1H、s、3−H) 6.76(1H、s、チアゾール−H) 7.26(2H、幅広、−NH2) 9.65(1H、d、−NH−CO) 実施例 18 テトラヒドロフランの代わりに、アセトン20ml
を用いて、実施例17と同様な方法で反応を行い、
7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕−3
−セフエム−4−カルボン酸を得た。 収量:3.40g(90%) IR並びにNMRデータは実施例17と同様であつ
た。 実施例 19 実施例4で製造されたDMA溶媒化物4.05gを
用いて、実施例17と同様な方法で3時間反応を行
い、7−〔〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−syn−メトキシイミノ〕アセトアミド〕
−3−セフエム−4−カルボン酸を得た。 収量:5.27g(94%) IR並びにNMRデータは実施例17と同様であつ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式() で表わされる化合物を、触媒量の式() で表わされる化合物と、縮合剤との存在下で、式
() で表わされる1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
と反応させることにより、式()表わされる反
応性アミドの用いた溶媒との溶媒化物: 溶媒化物() を得、この式()で表わされる反応性アミドの
溶媒化物で式() 〔式中、R1は水素又は金属塩を、R2は水素、ハ
ロゲン、アセトキシメチル又は−CH2−S−R3
(式中、R3は低級アルキルで置換されていてもよ
い1〜4の複素原子を含む5又は6員複素環を示
す)を示す〕 で表わされる化合物をアシル化して、式() (式中、R1、R2は前記定義の通りである) で表わされる化合物を得ることからなる式()
の化合物の製造法。 2 式()で表わされる反応性アミドの溶媒化
物が、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロ
リドンからなる群から選択された溶媒から製造さ
れる溶媒化物である特許請求の範囲第1項記載の
製造法。 3 縮合剤が、N,N−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド、N−シクロヘキシル−N′−モルホリ
ノエチルカルボジイミド、N−エチル−N′−(ジ
メチルアミノプロピルカルボジイミド又は1−
(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−ク
ロロ−1H−ベンゾトリアゾールからなる群から
選択された縮合剤である特許請求の範囲第1項又
は第2項記載の製造法。 4 アシル化反応を室温で、アセトニトリル、ア
セトン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド又
はこれらの混液からなる群から選択された有機溶
媒と水との混合溶媒中で行う特許請求の範囲第1
項、第2項又は第3項記載の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019840005935A KR870001332B1 (ko) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 세펨 유도체의 간단한 제조방법 |
KR84-5935 | 1984-09-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6178791A JPS6178791A (ja) | 1986-04-22 |
JPH0553798B2 true JPH0553798B2 (ja) | 1993-08-10 |
Family
ID=19235543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59239297A Granted JPS6178791A (ja) | 1984-09-27 | 1984-11-12 | セフエム誘導体の製造法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0175814B1 (ja) |
JP (1) | JPS6178791A (ja) |
KR (1) | KR870001332B1 (ja) |
AT (1) | ATE53034T1 (ja) |
DE (1) | DE3482325D1 (ja) |
ES (1) | ES8602811A1 (ja) |
IN (1) | IN165298B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GR890100706A (el) * | 1989-10-31 | 1992-03-20 | Han Mi Pharma Ind Co Ltd | Μέ?οδος παρασκευής παραγώγων κεφέμης. |
KR950014571B1 (ko) * | 1991-11-18 | 1995-12-08 | 제일제당주식회사 | 세펨 유도체의 제조방법 |
AT398764B (de) * | 1992-01-28 | 1995-01-25 | Lek Tovarna Farmacevtskih | Verfahren zur herstellung von ceftriaxondinatrium-salzhemiheptahydrat |
AT399877B (de) * | 1992-02-20 | 1995-08-25 | Biochemie Gmbh | Neues verfahren zur herstellung von ceftriaxon |
KR100197788B1 (ko) * | 1995-06-30 | 1999-06-15 | 김충환 | 세펨 유도체의 제조방법 |
CA2216259A1 (en) * | 1996-09-25 | 1998-03-25 | Eisai Chemical Co., Ltd. | Production process of cephem compound |
IT1286494B1 (it) * | 1996-11-19 | 1998-07-15 | Hichem Pharma S P A | Procedimento per la preparazione di derivati cefalosporanici |
WO1998045290A1 (fr) * | 1997-04-04 | 1998-10-15 | Tokuyama Corporation | Derives de 2-aminothiazoleacetamide |
CN102702230B (zh) * | 2012-05-30 | 2014-09-10 | 华北制药河北华民药业有限责任公司 | 一种头孢噻肟酸的制备方法 |
CN105622634A (zh) * | 2016-03-04 | 2016-06-01 | 中山福运生物科技有限公司 | 一种头孢唑肟酸的生产方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5495593A (en) * | 1977-12-24 | 1979-07-28 | Hoechst Ag | Manufacture of penicillin and cephalosporin |
JPS57163386A (en) * | 1981-08-13 | 1982-10-07 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephalosporin derivative and its production |
-
1984
- 1984-09-27 KR KR1019840005935A patent/KR870001332B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1984-10-19 AT AT84112657T patent/ATE53034T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-10-19 EP EP84112657A patent/EP0175814B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-10-19 DE DE8484112657T patent/DE3482325D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1984-11-12 JP JP59239297A patent/JPS6178791A/ja active Granted
- 1984-11-14 ES ES537633A patent/ES8602811A1/es not_active Expired
-
1986
- 1986-06-10 IN IN508/DEL/86A patent/IN165298B/en unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5495593A (en) * | 1977-12-24 | 1979-07-28 | Hoechst Ag | Manufacture of penicillin and cephalosporin |
JPS57163386A (en) * | 1981-08-13 | 1982-10-07 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephalosporin derivative and its production |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IN165298B (ja) | 1989-09-09 |
KR860002515A (ko) | 1986-04-26 |
ES537633A0 (es) | 1985-12-01 |
EP0175814A2 (en) | 1986-04-02 |
EP0175814A3 (en) | 1987-06-24 |
DE3482325D1 (de) | 1990-06-28 |
ATE53034T1 (de) | 1990-06-15 |
JPS6178791A (ja) | 1986-04-22 |
KR870001332B1 (ko) | 1987-07-18 |
ES8602811A1 (es) | 1985-12-01 |
EP0175814B1 (en) | 1990-05-23 |
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