JPH04178392A - ７―アシル―３―置換カルバモイルオキシセフェム化合物およびその製造法 - Google Patents

７―アシル―３―置換カルバモイルオキシセフェム化合物およびその製造法

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JPH04178392A
JPH04178392A JP2302783A JP30278390A JPH04178392A JP H04178392 A JPH04178392 A JP H04178392A JP 2302783 A JP2302783 A JP 2302783A JP 30278390 A JP30278390 A JP 30278390A JP H04178392 A JPH04178392 A JP H04178392A
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Shigeto Negi
茂人 根木
Motosuke Yamanaka
基資 山中
Kamamasa Katsu
勝　鎌政
Isao Sugiyama
功 杉山
Takeki Komatsu
雄毅 小松
Atsushi Kamata
厚 鎌田
Akihiko Tsuruoka
明彦 鶴岡
Yoshimasa Machida
町田　善正
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Eisai Co Ltd
Original Assignee
Eisai Co Ltd
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｃ産業上の利用分野コ 本発明は医薬として優れた作用を有する新規な抗菌側３
−置換カルバモイルオキシ−３−セフェム誘導体及びそ
の製造方法間する。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課題］特開昭
５３−３４７９４号公報には式 （ここでＹは水素または求核性化合物残基である） で表わされる化合物を含む無置換または低級アルキル基
で置換された３−カルバモイルオキシ−３−セフェム誘
導体が開示されている。
また特公平１−４４７１４号公報には下記−投銭で示さ
れる化合物が開示されている。
Ｒ′ （ここで、Ｒ６はアミノ基またはアシルアミノ基、Ｒ７
はカルボキシル基または保護されたカルボキシル基、 ルキルアミノ（低級）アルキルアミノ基、低級アルキル
で置換されていてもよい１〜４個の窒素原子を含有する
飽和５もしくは６員複素環式（低級）アルキルアミノ基
または低級アルキルもしくはヒドロキシ（低級）アルキ
ルで置換されていてもよい２〜４個の窒素原子を含有す
る飽和５もしくは６員複素環式基、Ｘ’は−３−ま↑ たは−５−１点線は２もしくは３−セフェム環をそれぞ
れ意味する。） しかし、これはいずれも十分な抗菌力が得られていない
。
［課題を解決するための手段１ 現在、幾つかの種類の半合成セファロスポリンが市販さ
れ各種感染性疾病の治療剤としてＤＢ床的に用いられて
いる。しかし、経口投与可能な抗菌剤として満足すべき
ものはなく、今なお新しいセファロスポリンの探求が続
けられている。
本発明者らは鋭意研究の結果、新規な３−二置換力ルバ
モイルオキシ−３−セフェム誘導体が種々の病原菌ムこ
対しすぐれた抗菌活性を有し、さらに薬理学的に保護さ
れた誘導体は消化管からすみやかに吸収され、吸収後た
だちに非エステル体を生じて経口投与用の抗菌剤として
有用であることを見い出し本発明を完成するに到った。
即ち、本発明は下記−投銭〔Ｉ〕で表わされる３−二置
換力ルバモイルオキシ−３−セフェム誘導体及びその医
薬として許容される塩、及びその製造法並びにそれから
なる抗菌剤を提供するものである。
〔式中、Ｘは；　ｃ　−Ｈ基またはｋＮ基を示す。
Ｒ１は水酸基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級アル
コキシ基または保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ２
およびＲ３は同一または異なって低級アルキル基、ヒド
ロキシ置換低級アルキル基、カルバモイル置換低級アル
キル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示すか、あ
るいはヒドロキシ置換低級アルキル基で置換されてもよ
い窒素原子−つを含有する４〜６員複素環式基またはモ
ルホリニル基を示す。Ｒ４はカルボキシル基または保護
基で保護されたカルボキシル基を示す。〕 上記式中、Ｒ’で示される低級アルコキシ基またはフッ
素置換低級アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、モノフルオロ
メトキシ、ジフルオロメトキシ、２−モノフルオロエト
キシ、２，２−ジフルオロエトキシ、２，２．２−　！
−リフルオロエトキシなどの炭素数１〜４のアルコキシ
基またはフッ素置換アルコキシ基が挙げられる。
−投銭〔■］においてＲ２，Ｒ３で示される低級アルキ
ル基、ヒドロキシ置換低級アルキル基、カルバモイル置
換低級アルキル基、シアン置換低級アルキル基としては
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロ
ピル＝２−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル
、カルバモイルメチル、２−カルバモイルエチル、３−
カルバモイルプロピル、２−カルバモイルプロピル、シ
アンメチル、２−シアノエｆ）Ｌｉ、３−シアノプロピ
ル、２−シアノプロピ示される、低級アルキル基、ヒド
ロキシ置換低級アルキル基で置換されてもよい窒素原子
−つを含有する４〜６員複素環弐基またはモルホリニル
基としては次に示す基を挙げることができる。
式中、ＲＩＧは水素、低級アルキル基、ヒドロキシ基、
ヒドロキシ置換低級アルキル基を示し、低級アルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル基、ヒドロキシ置換
低級アルキル基としてはヒドロキシメチル基、２−ヒド
ロキシエチル基などが挙げられる。
Ｒ４のカルボキシル基の保護基としては、メチル、エチ
ル、ｔ−ブチルなどの低級アルキル基：ｐ−メトキシベ
ンジル、ρ−ニトロヘンシル、３，４−ジメトキシヘン
シル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルなどの
置換基を有していてモヨいフェニル基で置換された低級
アルキル基；２．２．２〜トリクロロエチル、２−ヨー
ドエチルなどのハロゲン化低級アルキル基；ピバロイル
オキシメチル、アセトキソメチル、プロピオニルオキシ
メチル、ブチリルオキシメチル、バレリルオキシメチル
、■−アセトキシエチル、２−アセトキシエチル、１−
ピバロイルオキシエチル、２−ピバロイルオキシエチル
などの低級アルカノイルオキシ低級アルキル基；バルミ
トイルオキシエチル、ヘプタベカノイルオキシメチル、
１−バルミトイルオキシエチルなどの高級アルカノイル
オキシ低級アルキル基；メトキシカルボニルオキシメチ
ル、ｌ−ブトキシカルボニルオキシエチル、１−ｔ−ブ
トキシカルボニルオキエチル、１−エトキシカルボニル
オキシエチル、１〜（イソプロポキシカルボニルオキシ
）エチルなどの低級アルコキシカルボニルオキシ低級ア
ルキル基；カルボキシメチル、２−カルボキシエチルな
どのカルボキシ低級アルキル基；３−フタリジルなどの
複素環基；４−グリシルオキシヘンジイルオキシメチル
、４−（Ｎ　−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシルオ
キシフベンゾイルオキシメチルなどの置換基を有してい
てもよいヘンジイルオキソ低級アルキル基；　（５−メ
チル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イルツ
メチルなどの（置換ジオキソレン）低級アルキル基；１
−シクロへキシルアセチルオキシエチルなどのシクロア
ルキル置換低級アルカノイルオキシ低級アルキル基、ｌ
−シクロへキシルオキシカルボニルオキシエチルなどの
シクロアルキルオキシカルボニルオキシ低級アルキル基
等が挙げられる。
要するに、何らかの手段で分解されてカルボン酸となり
得る保護基であればいかなる基でもよい。
また、医薬として許容される塩としては、例えばナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；アンモニウ
ム塩；テトラエチルアンモニウム塩、ベタイン塩などの
４級アンモニウム塩；カルシウム塩、マグネシウム塩な
どのアルカリ土類金属塩；塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化
水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩などの無機酸塩；
酢酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩などの有機カ
ルボン酸塩；メタンスルホン酸塩、ヒドロキシメタンス
ルホン酸塩、ヒドロキシェタンスルホン酸塩、タウリン
塩、ヘンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など
の有機スルホン酸塩；アルギニン塩、リジン塩、セリン
塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩、グリシン塩な
どのアミノ酸塩；トリメチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、ピリジン塩、プロカイン塩、ピコリン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジ
アミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、ジェタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、トリス（ヒドロキシメ
チルアミノ）メタン塩、フェネチルベンジルアミン塩な
どのアミン塩などが挙げられる。
本発明化合物は例えば次に示す方法によって製造するこ
とができる。
（式中Ｒ１＋　は水素、低級アルキル基、ハロゲン置換
低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級
アルコキシ基、フェニル低級アルキル基、チエニル低級
アルキル基、フェニル低級アルコキシ基を示す。Ｒ４は
前記と同様の意味を有する。） で表わされる化合物あるいはそれらの塩とＮ、Ｎ″−カ
ルボニルジイミダゾールを反応させ活性誘導体へと導い
た後、式［Ｖ） 意味を有する。） で表わされる化合物またはその塩と反応させ、必要によ
りスルホキシド化、スルホキシドの還元を行い、Ｒ目の
アシル基もくしはアシルオキシ基を除去して式 様の意味を有する。） で表わされる化合物またはその塩を得、さらに式 （式中、Ｘ及びＲ１は前記と同様の意味を有し、Ｒ５は
アミノ基または保護基で保護されたアミノ基を示す。） で表わされる化合物またはその反応性酸誘導体またはそ
れらの塩と反応させアシル化する。
化合物（ＩＩＩ）は縮合剤〔カーポジイミド（Ｎ。
Ｎ゛−ジシクロへキシルカーポジイミドなど）、カルボ
ニル化合物（カルボニルジイミダゾールなど）、イソキ
サゾリウム塩、アシルアミノ化合物（２−エトキシ−１
−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキシキノリン
など）］の存在下反応させる。またその反応性酸誘導体
としては酸無水物（対称酸無水物、混合酸無水物〔鉱酸
（リン酸、硫酸、炭酸半エステルなど）、有機酸（アル
カン酸、アラルカン酸、スルホン酸など）との混合酸無
水物など〕、酸ハロゲン化物、活性エステル〔Ｎ−ヒド
ロキシ化合物とのエステル（Ｎ−ヒドロキシスクシンイ
ミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステル）
〕、チオールエステル（アラルキルチオールエステル、
異項環チオールエステルなど）、アリールエステル（フ
ェニルエステル、ハロフェニルエステル、ニトロフェニ
ルエステルなど）を用いる。
上記反応はジクロロメタン、クロロホルム、テトラハイ
ドロフラン、アセトン、酢酸エチル、メタノール、エタ
ノール、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の不活性溶
媒中、反応温度−５０〜＋５０°Ｃで行うことができる
。
アミノ基、水酸基、カルボキシル基の保護基を、用いた
保護基の種類に応じて、常法により脱離し、前記−投銭
ＣＩ）で表わされる化合物およびその医薬として許容さ
れる塩を得ることができる。また、Ｒ４がカルボキシル
基、あるいはその塩の時は、必要に応じてアルカリ金属
塩を加え、公知の方法でそのアルコール反応性誘導体で
エステル化を行い式（１）で表わされる化合物およびそ
の医薬として許容される塩を得ることができる。
ｌ豊１ 式 （式中、Ｒ１，Ｒ４、Ｒｓは前記と同様の意味を有する
。） で表わされる化合物またはその塩にＮ、　Ｎ’−カルボ
ニルジイミダゾールを反応させ反応性誘導体に導いた後
、式（Ｖ） 意味を有する。） で表わされる化合物またはその塩と反応させ、必要によ
り、スルホキシド化、スルホキシドの還元を行い、アミ
ノ基、水酸基またはカルボキシル基の保護基を常法によ
り脱離させ、式（１）で表わされる化合物およびその医
薬品として許容される塩を得ることができる。またＲ４
がカルボキシル基あるいはその塩の時は、製法１と同様
にエステル化して式（１）で表わされる化合物およびそ
の医薬品として許容される塩を得ることができる。
アミノ基の保護基としては、例えばホルミル基、アセチ
ル基、クロルアセチル基、ジクロルアセチル基、フェニ
ルアセチル基、チエニルアセチル基、Ｌ−ブトキシカル
ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、トリチル基、
ｐ−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、ベンジ
リデン基、ｐ−ニトロベンジリデン基、蒙−二トロベン
ジリデン基、３，４−メチレンジオキシベンジリデン基
、ｍ−クロルベンジリデン基などがあげられる。
ハイドロキシイミノ基の保護基としてはトリチル基、テ
トラハイドロピラニル基などがあげられる、 次に、本発明化合物の有用性を示すために、下記実施例
で得られた代表的な本発明化合物の各種細菌に対する最
少発育阻止濃度ＣＭＩＣ）測定結果を実験例によって示
す。
表１に試験結果を示す。
上記の如き方法により得られた本発明の化合物は優れた
抗菌活性を有し、特に経口用抗菌剤として有用である。
本発明化合物の急性毒性値［ＬＤｓｏ　（マウス、経口
）］はいずれも２ｇ／ｋｇ以上であった。
本発明化合物を抗菌剤として使用する際には、通常１日
１００ｍｇ〜５ｇを１〜４回にわけて経口あるいは非経
口的に投与することができ。なお、その投与量は年齢、
症状により増減される。
製剤としては、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、シロ
ップ剤、液剤などが挙げられる。これらは、公知の製剤
担体を加え、常法により製造することができる。
［実施例］ 次に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、本発明化合物を製造する際の出発物質は製造例と
して掲げた。
本文中、Ｔｒは（Ｃ，）ｌ、）、Ｃ−基を、ＢＨは（Ｃ
６Ｈ５）　２ＣＨ−基を、Ｍｅはメチル基を示す。
製造例１ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル−１−オキシド７−チエニルアセトアミ
ド−３−ハイドロキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル３０　ｇ　（０，０５８モル）の
テトラハイドロフラン６００ｍ　ｌ溶液を水冷下に撹拌
し、Ｎ、　Ｎ’−カルボニルジイミダゾール１１．２５
　ｇ　（０，０６９モル）を加え、さらに水冷下で３時
間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル１１を加え、水４
００ｍ１で洗浄した。有機層を水冷下に撹拌し５０％ジ
メチルアミン水溶液１２　ｇ　（０，０７５モル）を加
え１時間反応した。反応液を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、濃縮して、７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ、
Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルと７−チエニルアセト
アミド−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチ
ル−２−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルの混
合物２４ｇを得た。
この混合物のテトラハイドロフラン４００ｍ１溶液に、
閘−クロロ過安息香酸２０ｇ（０，１１６モル）をとか
したテトラハイドロフラン１００ｍ１溶液を何回かに分
けて加え、水冷下１時間半撹拌した。
この反応混合物を減圧濃縮し、残留物をエーテルで洗浄
した。再度、減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて精製し、目的物を７．５ｇ得た。（収率２
１％） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３．６） ２．８４（３Ｈ，ｓ）、　　２．９２（３）１．ｓ）、
　　３．２３，３．８８（２Ｂ、ＡＢｑ。
Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　３．８８（２Ｈ，ｓ）、　　４．
４８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝４１（ｚ）。
４．７８，５．３４（２８，ＡＢｑ、Ｊ・８Ｈｚ）、　
　６．１５（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４Ｈｚ。
８Ｈｚ）、　６．９０〜７．１０（２Ｈ，＋ｎ）、　６
．９７（ＬＨ，ｓ）、　　７．２〜７．６（ＩＩＨ，ｍ
） 製造例２ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ、Ｎ−ジメチ　。
ルカルバモイルオキシメチルー３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル ０２ＢＨ 前記操作で得た７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ、Ｎ
−ジメチルカルハモイルオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ヘンズヒドリルー１−オキシド５　ｇ　
（８，２ミリモル）のＮ、Ｎ　−ジメチルホルムアミド
５０ｍ　ｌ溶液を水冷下に撹拌し、三塩化リン２．５ｇ
　（１８ミリモル）を加え、３０分撹拌した。酢酸エチ
ル５００ｍ　ｌを加え、水、飽和食塩水洗後、無水硫酸
マグネシウムを加えた。有機層を減圧濃縮後、アセトン
とイソプロピルエーテルで固化し、濾取して目的物３．
８ｇ（収率７９％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） ２．８２（３Ｂ、ｓ）、　２．９０（３Ｈ，ｓ）、　３
．４０，３．５５（２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．８４（２８，ｓ）、　４．８１
，５．０６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、　４．９
８（１８，ｄ、Ｊ＝４）１ｚ）、　５．８４（ＩＨ，ｄ
ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ。
８Ｈｚ）、　６．２７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　６
．９４（ＩＨ，ｓ）、　６．９８”−７，０２（２Ｈ，
ｍ）、　７．２５〜７．４３（１１Ｈ，ｍ）製造例３ ７−アミノ−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
塩酸塩 ０２ＢＨ 五塩化リン２．８ｇ　（１３ミリモル）、ピリジン１．
０４ｇ　　（１３ミリモル）の塩化メチレン８０ｍ１溶
液を一１０°Ｃに冷却し、前記操作で得た７−チエニル
アセトアミド−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル１．６ｇ（２，７ミリモル）を加え、同温度で１時間
撹拌した。−２０°Ｃまで冷却後、１，３−プロパンジ
オール１ｍｌを加え、同温度で１時間撹拌した。メタノ
ール１０ｍ１を加え、室温まで上昇させた後、水５０ｍ
　ｌを加え洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮後残留物をエーテルとイソプロピルエ
ーテルで固化して目的物１．０　ｇ　’　（収率７４％
）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３　Ｉδ） ２．８３（３Ｈ，ｓ）、　２．９０（３Ｈ，ｓ）、　３
．４３，３．５８（２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１８Ｈｚ）、　４．８０，５．０６（２Ｈ，ＡＢｑ
、Ｊ＝１２Ｈｚ）、　４．８（ＩＨ。
ｍ）、　４．９７（１８，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、　６．９
８（１８，ｓ）、　７．２５〜７．５０（ＩＯＨ，ｍ） 上記操作で得た塩酸塩１．０　ｇを酢酸エチルにとかし
、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和し、有機層を水
洗、飽和食塩水洗いして無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧濃縮して、７−アミノ−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカ
ルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル０．９ｇを得た。
製造例４ ７−　（（Ｚ）　−２−（２−）ジチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルポジ酸ヘンズヒドリル ）１０８　ｔ ｒ （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−）リチルオキシイミノ酢酸１．９　ｇ　（２
，８ミリモル）と１−ヒドロキシトリアゾール０．４　
ｇ（２，９ミリモル）、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド０．６ｇ（２，９ミリモル）のジメチルホルムアミド
溶液２０ｍ　ｌを室温で３０分撹拌後、前記操作で得た
７−アミノ−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４〜カルボン酸ベンズヒドリル
１．３ｇ（２，８ミリモル）を加え３時間撹拌した。反
応液に酢酸エチル　３００ｍ　ｌを加え、水、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグ♀シウムで乾燥し、減圧濃縮
し、シリカゲルカラムグラフィーにて精製を行い、目的
物１．４ｇ　　（収率４５％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ２．８２（３Ｈ，ｓ）、　２．９１（３Ｈ，ｓ）、　３
．３６，３．４８（２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１８１（ｚ）、　４．８１．５．１４（２Ｈ，ＡＢ
ｑ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、　５．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈ
ｚ）、　６．０８（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４Ｈｚ、８Ｈｚ）
。
６．４３（ＬＨ，ｓ）、　６．８０（０１，ｓＬ’　６
．９７（ＬＨ，ｓ）、７．１８〜７．５０（４２Ｈ，ｍ
） 製造例５ ７−チエニルアセトアミド−３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル−１−オキシド ０２ＢＨ 製造例１と同様にして上記化合物を得た。
（収率９％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） １．０〜１．１８（３Ｈ，ｍ）、　　３．８０（３／２
Ｈ，ｓ）、　　３．８６（３／２Ｈ。
ｓ）、　　３．１８〜３．５（３Ｈ，ｍ）、　　３．８
０〜３．９０（２Ｈ，ｍ）。
３．８５（２Ｈ，ｓ）、　　４．４４〜４．４６（ＩＨ
，ｍ）、　　４．７４（ＬＨ，ｄ。
Ｊ＝１３Ｈｚ）、　５．２４〜５．３８（１８，ｍ）、
　　６．０７（１８，ｄｄ、Ｊ＝５ｔＬｚ、８Ｈｚ）、
　　６．９〜７．０２（４Ｈ，ｍ）、　　７．２３〜７
．５０（１１８，ｍ） 製造例６ ツーチエニルアセトアミド−３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルＣＯ□ＢＨ 製造例２と同様にして上記化合物を得た。
（収率６６％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） １．０〜１．１５（３Ｈ，ｍ）、　２．８（３／２Ｈ，
ｓ）、　２．８７（３／２Ｈ。
ｓ）、　　３．１８〜３．３５（２）１．ｍ）、　　３
．４０．３．５５（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８）１ｚ）、
　　３．８６（２）！、ｓ）、　　４．８（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝１４）１ｚ）。
４．９７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　　５．０５〜
５．１５（ＩＨ，ｓ）、　　５．８７（ｌ）ｌ、ｄｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　　６．２８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）、　　６．９３（ＩＨ，ｓ）、　　６．９５〜
７．０２（２Ｎ、ｎ）、　　７．２〜７．５（ＩＩＨ。
ｍ） 製造例７ ツーアミノ−３−Ｎ−ニチルーＮ−メチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリル塩酸塩 ＣＯ□Ｂ）ｌ 製造例３と同様にして上記化合物を得た。
（収率８１％） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） １．０−１．１５（３８，ｍ）、　２．７８（３／２Ｈ
，ｓ）、　２．８５（３／２）１゜ｓ）、　３．１〜３
．３５（２）１．ｍ）、　３．４０．３．６２（２Ｈ，
ＡＢｑ、Ｊ＝１８）ｆｚ）、　４．８７（１Ｎ、ｄ、Ｊ
＝１２）１ｚ）、　４．９２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）ｔｚ
）、　４．９８（ＩＨ，ａ＋）、　５．１７〜５．２３
（ＩＨ，ａ＋）、　６．９３（ＩＨ，ｓ）、７．１５〜
７．４０（ＩＯＨ，ｍ）製造例８ ７−　（２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド）−３−
Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル ｒ 製造例４と同様にして上記化合物を得た。
（収率７２％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） １．１〜１．２（３Ｈ，ｎ＋）、　２．７９（３／２Ｂ
、ｓ）、　２．８７（３／２Ｂ。
ｓ）、　３．１８〜３．３５（３Ｈ，ｍ）、　３．４８
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）。
４．８２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、　５．０６（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．０７〜５．１５（ＩＨ，
ｍ）、　６．０７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）
、　６．４３（ＩＨ，ｓ）、　６．８３（ＩＨ，ｓ）、
　６．９５（１８，ｓ）、　７．１〜７．４（４０Ｈ，
ｍ）、　７．４７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）製造例９ ７−チエニルアセトアミド−３−（１−モルホリニル）
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル−１−オキシド 製造例１と同様にして上記化合物を得た。
（収率５３％） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，δ） ３’、３〜３．４（４Ｈ，ｍ）、　３．５〜３．６（４
Ｈ，ｍ）、　３．６４．４．０３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝
１９Ｈｚ）、　４．６２，５．１７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ
＝１２Ｈｚ）。
４．９５〜５．００（ＩＨ，ｍ）、　５．９５〜６．０
０（ＬＨ，ｍ）、　６．９８〜７．０５（３１（、ｍ）
、　７．１〜７．６（ＩＩＨ，ｍ）、　８．４７（ＬＨ
。
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 製造例１０ ７−チエニルアセトアミド−３−（１−モルホリニル）
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ヘンズヒトリル 製造例２と同様にして上記化合物を得た。
（収率５２％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１ｓ＝δ） ３．３〜３．５（４８，ｍ）、　３．５５〜３．７０（
４Ｈ，ｍ）、　３．４０゜３．５８（２）１．ＡＢｑ、
Ｊ＝１９Ｈｚ）、　３．８７（２８，ｓ）、　４．８２
゜５．０９（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、　４．９
７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。
５．８７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　６．２
５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）。
６．９４（ＬＨ，ｓ）、　６．９５〜７．０５（２Ｈ，
ｍ）、　７．２５〜７．４５（ＩＩＨ，ｍ） 製造例１１ ７−アミノ−３−（ｌ−モルホリニル）カルボニルオキ
メチル−３、−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル塩酸塩 Ｃ０２Ｂ！（ 製造例３と同様にして上記化合物を得た。
（収率６２％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） ３．３〜３．５（５）１．ｍ）、　３．５〜３．８（５
Ｈ，ｍ）、　４．９８，５．２４（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝
１２Ｈｚ）、　５．０〜５−ＨＩＨ＋ｍ）＋　５．１４
〜５．１７（ＬＨ，ｍ）、　６．９４（１）１．ｓ）、
　７’、２〜７．５（１０８，ｍ）製造例１２ ７〜（（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−）リチルオキシイミノアセトアミド）
−３−（１−モルホリニル）カルボニルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル ｒ 製造例４と同様にして上記化合物を得た。
（収率５９％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） ３．２６．３．５０（２Ｈ，＾Ｂｑ、Ｊ＝１９Ｈｚ）、
　３．３〜３．７（８８，ｍ）。
４．８２，５．１１（２Ｎ、ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、
　　５．０５（１）１．ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　６．２
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　　６．４４（
１１，ｓ）。
６．８５（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）、　　６．９６（ＩＨ，ｓ
）、　　７．１５〜７．５（４１Ｈ，ｎ） 製造例１３ ７−　［（Ｚ）−２−（２−）リチルアミノチアゾール
ー４−イル）−２−メトキシイミノアセタミド）−３−
Ｎ、Ｎ〜ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル 五塩化りん（３，４ｇ）とピリジン（１，３ｇ　）のジ
クロロメタン（１００ｍｌ）溶液に水冷下で７−チエニ
ルアセタミド−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（２ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍｌ）
　とジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液を加え、同温度
で３０分間撹拌する。次いで反応液にドライアイス−メ
タノール（−５０°Ｃ）冷却下１．３−ブタンジオール
（４ｍｌ）を加え、同温度で５０分間撹拌する。反応液
に同温度でメタノール（４ｍｌ）を加え、ドライアイス
−メタノール浴をはずし、室温に戻るまで放置する。
反応液に水、ジクロロメタンを加え、ジクロロメタン層
を分取し、さらに水層をジクロロメタンで抽出する。ジ
クロロメタン層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧
下に留去する。残渣を酢酸エチルに溶解させ、粉炭酸水
素ナトリウム水溶液（原料に対し１．１当量の炭酸水素
ナトリウムを含む）で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで溶媒を減圧下に留去する。残渣をＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（１５ｍｌ）に溶解させ、これに（
Ｚ）−，２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノ酢酸（１，５３ｇ）　、１−
ヒドロキン−ＩＨ−ヘンズトリアゾール（０，５５ｇ）
　、ジシクロへキシルカルボジイミド（０，７８ｇ）を
加え室温で２時間４０分撹拌する。反応液に酢酸エチル
、水を加え、酢酸エチル層を分取し、さらに水層を酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層を合し、水、飽和塩化
ナトリウム水溶液で順次洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、７−　（（Ｚ）−
２−（２−１−ジチルアミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシイミノアセタミド）−３−Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル（１，４６ｇ　、４８．２％）を
得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ２．８３（３Ｈ，ｓ）、　　２．８９（３）１．ｓ）、
　　３．３６，３．５０（２Ｈ，八Ｂｑ。
Ｊ＝１８．１Ｅｚ）、　４．０４（３Ｈ，ｓ）、　４．
８４，５．１０（２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１３．７Ｈｚ）、　５．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．
９Ｈｚ）、　５．９２〜５．９６（ｌ）Ｉ、ｍ）、　　
６．７６（ＩＨ，ｓ）、　　６．９４（ＩＨ，ｓ）、　
　７．２０〜７．４５（２５Ｈ，ｍ） 製造例１４ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（５−トリチルアミノ−１，２゜
４−チアジアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ
アセタミド）−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル Ｈ３ 製造例１３と同様にして、上記化合物を得た。
（収率７１％） ＮＭＲ（ＣＤ３０Ｄ、δ） ２．６５〜２．８７（６Ｈ，ｍ）、　３．４７，３．７
２（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８．５　　。
Ｈｚ）、　４．０７（３Ｈ，ｓ）、　５．１８（ｌＨ，
ｄ、Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５．
１Ｈｚ）、　６．９３（ＬＨ，ｓ）、　７．２５〜７．
４５（２５Ｈ，ｍ） 製造例１５ ７−　（（Ｚ）−２−（２−１−ジチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−モノフルオロメトキシイミノアセ
タミド）−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル Ｈ２Ｆ 製造例１３と同様にして、上記化合物を得た。
（収率６４％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） ２．８２（３Ｈ，ｓ）、　２．８６（３Ｈ，ｓ）、　３
．４３，３．５６（２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１８．７Ｈｚ）、　４．８２，５．０９（２Ｎ、Ａ
Ｂｑ、Ｊ＝１３．９Ｈｚ）。
５．０５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．９Ｈｚ）、　５．７２，
５．８６（２Ｈ，ＡＢｑ、ｄ、Ｊ＝３．６Ｈｚ、５５Ｈ
ｚ）、　５．９４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．９Ｈｚ、８．
４Ｈｚ）。
６．８１（ＩＨ，ｓ）、　６．９３（ＩＨ，ｓ）、　７
．０３（１）１．ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、　７．２８〜
７．４５（２５Ｈ，ｍ）製造例１６ ツーホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−２−セフェム−４−カルボン酸ペンズ
ヒドリル ７−ホルムアミド−３−ヒドロキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（４，２４ｇ　）の
テトラヒドロフラン（８０ｍｌ）　溶液にＮ、　Ｎ’−
カルボニルジイミダゾール（１，６２ｇ）を水冷下加え
、同温度で１時間２５分間撹拌する。
次いでこれにピペリジン（０，８５ｇ　）のテトラヒド
ロフラン（１０ｍｌ）溶液を加え同温度で１時間２０分
間、さらに室温で１時間撹拌する。これにピペリジン（
０，１７ｇ）を加え、室温で１１時間１０分間撹拌し、
反応液を微圧下濃縮する。残渣を酢酸エチルに溶解させ
、■規定塩酸、水、飽和塩化す）　ＩＪウム水溶液で順
次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減
圧下に留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製すると、７−ホルムアミド−３＝（１−ピ
ペリジニル）カルボニルオキシメチル−２−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリル（２，３ｇ、　４３．０
％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ） １．２０〜１．４０（６Ｈ，ａ）、　　３．３０〜３．
４０（４Ｈ，ｍ）、　　４．５’、。
４．６６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１２．８Ｈｚ）、　　５
．１３（ＬＨ，ｓ）、　　５．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４
．０Ｈｚ）、５．７０〜５．７５（ＩＨ，ｍ）、　　６
．４４（１）１．ｓ）、　　６．８９（ＩＨ，ｓ）、　
　７．２５〜７．４０（ＩＯＨ，ｍＣ８，２３（ＩＨ，
ｓ） 製造例エフ ７−ホルムアミド−３＝（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４＝カルボン酸ベンズ
ヒドリル−１−オキサイドＣＯ□ＢＨ ７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−２−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（３，４ｇ）の酢酸エチル（２０ｍｌ）溶液に
ｍ−クロロ過安息香酸（１，５３ｇ）を水冷下加え、同
温度で５５分間撹拌する。
次いでこれにｍ−クロロ過安息香酸（０，１５ｇ”）を
加え水冷下３５分間撹拌する。析出結晶を濾取する。母
液は減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製すると、析出結晶とあわせて７−ホルムア
ミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル−１
−オキサイド（１，５３ｇ、　４３．７％）を得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，δ） １．３５〜１．５５（６Ｈ，ｍ）、　３．２３〜３．３
０（４Ｈ，ｍ）、　３．６５゜４．０１（２Ｈ，ＡＢｑ
、Ｊ＝１８．７Ｈｚ）、　４．５Ｂ、５．１１（２Ｈ，
ＡＢｑ。
Ｊ＝１３．６Ｈｚ）、　４．９８　（１８，ｄ、Ｊ＝３
．７Ｈｚ）、　６．０５（ＩＨ。
ｍ）、　６．９３（ＬＨ，ｓ）、　７．２５〜７．５５
（１０１（、ｍ）、　８．１５（ＬＨ，ｓ）、　８．４
３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９．５Ｈｚ）製造例１８ ７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル ＣＯ□ＢＨ ０２８Ｈ ７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル−１−オキサイド（２，０７ｇ　）のＮ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド（２５ｍｌ）溶液に三塩化リン（
１ｍｌ）をドライアイス−エタノールで冷却下（−６０
″Ｃ）加え、３５分間撹拌する。ドライアイス−エタノ
ール冷却下に反応液に酢酸エチル、水を順次加え、次い
で室温まで戻す。酢酸エチル層を分取し、水層はさらに
酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を合し、水、飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後硫酸マグネシウムで
乾燥し、次いで溶媒を減圧上留去する。残渣をシリカゲ
ル力ラムクロマトゲラフイーで精製し、７−ホルムアミ
ド−３−（１−ピペリジニル）カルホニルオキンメチル
ー３−セフェム−４−カルボン酸ヘンヌヒトリル（１，
８７ｇ、　９３．０％）を得た。
Ｎ門Ｒ（ＣＤＣ１３，６） １．３５〜１．５５（６Ｈ，ｍ）、　３．２０〜３．３
５（４ｔ（、ｍ）、　３．３５゜３．４６（２Ｈ，ＡＢ
ｑ、Ｊ＝１８．７Ｈｚ）、　４．７６．５．０３（２８
，ＡＢｑ。
Ｊ＝１３．９Ｈｚ）、　４．９０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝３．
５Ｈｚ）、　５．８０〜５．８５（ＩＨ，ｍ）、　６．
８６（１）１．’ｓ）、　７．１４〜７．４０（ＩＯＨ
，ｍ）。
７．８４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９．２Ｈｚ）、　８．１５　
（ＬＨ，ｓ）製造例１９ ７−　（（Ｚ）−２−（２−）リチルアミノチアゾール
ー４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセタミド）
−３−（１−ピペリジニル）カルボニルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル ＣＯ□ＢＨ ＯＴｒ　　　　　　　　　Ｃ０２ＢＨ ７−ホルムアミド−３−（１−ピペリジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（１，８７ｇ　）のテトラヒドロフラン−メタ
ノール（１：　１．２０ｍ１）溶液に３６％塩酸（２ｍ
ｌ）を加え室温で２時間１０分撹拌する。次いで溶媒を
減圧下に留去し、残渣に酢酸エチル、水を加える。酢酸
エチル層を分取し、水層はさらに酢酸エチルで抽出する
。酢酸エチル層を合し、これを飽和塩化ナトリウム水溶
液で洗浄後硫酸マグふソウムで乾燥し、次いで溶媒を減
圧下に留去する。残渣をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
（１８ｍｌ）に？８解し、これに（Ｚ）−２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キンイミノ酢酸（２゜３５ｇ）　、１−ヒドロキン−Ｉ
Ｈ−ベンズトリアゾール（０，５６ｇ）　、ジシクロへ
キシルカルボジイミド（０，７９ｇ）を加え、室温で１
時間５分撹拌する。反応液に酢酸エチル、水を加え、酢
酸エチル層を分取し、水層はさらに酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を合し、水、飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄後硫酸マグ矛ンウムで乾燥し、次いで溶媒
を減圧下二こ留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
７−　（（Ｚ）−２−（２−）リチルアミノチアゾール
ー４−イル）−２−１−リチルオキシイミノアセタミド
）　−３−（１−ピペリジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（１
，４ｇ　、３３．７％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） １．４２〜１．６４（６Ｈ，ｍ）、　３．２５〜３．４
３（４Ｈ，ｍ）、　３．２６゜３．４８（２Ｈ，ＡＢｑ
、Ｊ＝１８．６Ｈｚ）、　４．８２，５．１２（２Ｈ，
ＡＢｑ。
Ｊ＝１３．９Ｈｚ）、　５．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．
９Ｈｚ）、　６．０５〜６．１２（１）１．ｍ）、　６
．４４（ＬＨ，ｓ）、　６．９６（ＬＨ，ｓ）、　７．
１５〜７．４３（４０Ｈ，ｍ） 製造例２０ ７−ホルムアミド−３−（１−アゼチジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４＝カルボン酸ヘンズ
ヒトリル ＣＯ□Ｂ）ｌ 製造例１６と同様にして、上記化合物を得た。
（収率５８％） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ＋１．δ） ２．１５〜２．２５（２）１．ｍ）、　３．９０〜４．
００（４Ｈ，ｍ）、　４．５５゜４．６１（２Ｈ，ＡＢ
ｑ、Ｊ＝１２．７Ｈｚ）、　５．１３（ＬＨ，’ｓ）、
　５．２１（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　５．６９
（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．０，９．２Ｈｚ）。
６．４４（ＬＨ，ｓ）、　６．８２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９
．２Ｈｚ）、　６．９０（１）１゜ｓ）、　７．２８〜
７．４０（ＩＯＨ，ｍ）、　８．２２（ＩＨ，ｓ）製造
例２１ ７−ホルムアミド−３−（１−アゼチジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル−１−オキサイド↑ ＣＯ□ＢＨ 製造例１７と同様にして、上記化合物を得た。
（収率４４％） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　：ｌ　、δ） ２．１５〜２．２５（２Ｈ，ｍ）、　　３．２０，３．
８２（２Ｈ，八Ｂｑ、Ｊ＝１８．９１（ｚ）、　３．９
０〜４．０５（４Ｈ，ｍ）、　４．４５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝４．８）１２）、　４．７２，５．２４（２Ｈ，ＡＢ
Ｑ、Ｊ＝１４．３Ｈ２）、　６．０７（ｌ）Ｉ。
ｍＬ　６．９３（Ｉｔ（、ｓ）、　７．２０〜７．５０
（１０１（、ｍ）、　８．２１（ＬＨ，ｓ） 製造例２２ ７−ホルムアミド−３−（１−アゼチジニル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４＝カルボン酸ベンズ
ヒドリル Ｃ０２Ｂｌ（ 製造例１８と同様にして、上記化合物を得た。
（収率９７％） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　：ｌ　、δ） ２．１５〜２．２５（２Ｈ，ｍ）、　３．４４，３．５
７（２８，ＡＢｑ、Ｊ＝１８．７Ｈｚ）、　３．８５〜
４．１０（４Ｈ，ｍ）、　４．８３，５．０６（２Ｈ，
ＡＢｑ。
Ｊ＝１３．９１（ｚ）、　４．９９（ＩＨ，ｄ、、Ｉ＝
４．９１１ｚ）　　　５．９３（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝４．９Ｈｚ、、９．２Ｈｚ）、　　６．３９（１ｔ
Ｌｄ、Ｊ＝９．２１（ｚ）、　　６．９５（ＩＩＬｓ）
、　　７．２５〜’、、４５（ｌＯＨ，ｍ）、　　８．
２５（ＩＨ，Ｓ’Ｊ製造例２３ ７−　（（Ｚ）＝２−　（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−トリチルオキンづミノアセタミド
；　−３−（１−アセチジニル）カルボニルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ヘンズヒドリル ０ＴｒＣＯ□ＢＨ 製造例１９と同様にして、上記化合物を得た。
（収率９４％） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） ２．１５〜２．２７（２Ｈ，ｆｆ＋）、　３．２６，３
．５０（２８，ＡＢｑ、Ｊ＝１８．５Ｈｚ）、　３．８
５〜４．１０（４）１．ｍ）、　４．８２，５．０８（
２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１３．８Ｈｚ）、　５．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．
９Ｈｚ）、　６．１１（１１（、ｄｄ。
Ｊ＝４．９Ｈｚ、８．８Ｈｚ）、　６．４７（ＬＨ，ｓ
）、　６．９９（ＩＨ，ｓ）。
７．１５〜７．５３（４０１（、ｍ） 製造例２４ ７〜ホルムアミド−３−（Ｎ−（２−ハイドロキシエチ
ル）−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル〕−３−セ
フェム−４−カルボン酸ヘンズヒドリルと７−ホルムア
ミド−３−（Ｎ−〔２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メ
チルカルバモイルオキシメチル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ヘンズヒドリルの混合物 ＣＯ□ＢＨ 製造例１６と同様にして、上記化合物を得た。
（収率５１％） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２．δ） ２．９０〜２．９７（３Ｈ，ｍ）、　３．２４〜３．３
５（２Ｈ，ｍ）、　３．４９゜３．５９（１０／１２Ｈ
，ＡＢＱ、Ｊ＝１９Ｈ２）、　３．６１〜３．７０（２
Ｈ，ｌ１１）。
４．５７〜４．７６（１４／１２Ｈ，ｍ）、　４．８６
〜４．９０．５．０９〜５．１８（１０／１２Ｈ，ｍ）
、　４．９９（５／１２８．ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．
１８（７／１２８．ｓ）、　５．２４（７／１２Ｈ，ｄ
、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．６５〜５．６８（７／１２Ｈ，
ｍ）、　５．９３（５／１２）１．ｄｄ、Ｊ＝５）１２
．９Ｈｚ）、　６．４７〜６．５０（７／１２１（、ｍ
）、　　６．９１（７／１２）１．ｓ）、　　６．９９
（５／１２Ｈ。
ｓ）、　　７．１５〜７．２０（１０Ｈ，ｍ）、　　８
．２２（Ｉｔ（、ｓ）製造例２５ ７−ホルムアミド−３−ＣＮ−（２−ハイドロキシエチ
ル）−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル〕−３−セ
フェム−４−カルボン酸ヘンズヒドリルー１−オキシド ↑ ０２８Ｈ 製造例１７と同様にして、上記化合物を得た。
（収率４９％） ＮＭＩ？スペクトル（ＣＤＣ１！、δ）２．８７（３／
２ｔ（、ｓ）、　２．９０（３／２Ｈ，ｓ）、　３．２
２〜３．２９（ＩＨ，ｍ）、　３．６９〜３．７１（Ｌ
Ｈ，ｍ）、　３．９４，４．０９（２Ｈ。
ＡＢｑ、Ｊ＝２０Ｈｚ）、　４．４６〜４．５６（ＬＨ
，ｍ）、　４．７７〜４．８１（ＩＨ，ｍ）、　５．２
３〜５．２９（ＬＨ，ｍ）、　６．０８〜６．１０（１
８，ｍ）、　６．９４（ＬＨ，ｓ）、　８．２２（ＬＨ
，ｓ）製造例２６ ７　　　（２ｒリチルオキンイミノー２−　（１−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−１
−（Ｎ　−（２−ハイドロキノエチル）−Ｎ−メチルカ
ルバモイルオキツメチル］−３−セフェム−４−カルホ
ン酸ヘンズヒトリル ＯＴｒ　　　　　　　　　Ｃ０ｚＢ’Ｈ製造例１９と同
様にして、上記化合物を得た。
（収率１２％） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ＋、δ） ２．９４〜２．９７（３Ｈ，ｍ）、　３．２４〜３．３
０（３Ｈ，ｍ）、　３．４３〜３．５２（３Ｈ，ｍ）、
　４．８０〜４．８３（ＩＨ，ｍ）、　５．０６（ＬＨ
。
ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　５．１０〜５．１５（ＩＨ，ｍ
）、　６．１１（ＬＨ，ｄｄ。
Ｊ＝５Ｈｚ、９Ｈｚ）、　６．４４（ＬＨ，ｓ）、　６
．９６（ＬＨ，ｓ）、　７．２〜７．４（４０Ｈ，ｍ） 製造例２７ ツーホルムアミド−３−Ｎ−力ルハモイルメチル−゛−
−メチルカルバモイルオキツメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ヘンズヒトリルー１−オキシト ン ↑ ＣＯＯＢＨ ７−ホルムアミド−３−（１−イミダゾリル）カルボニ
ルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ヘンズ
ヒドリルー１ーオキシド５４ｇのテトラヒドロフラン９
０ｍ　ｌ及び水１８ｍｌ混合液に、ザルコシナミド塩酸
塩１．９ｇと、ピリジン１　、　２３ｍ　ｌを加え、つ
いで室温で１５時間、４５”Ｃで１２時間撹拌した。反
応混合液を濃縮し残渣に水と酢酸エチルを加えた。酢酸
エチル層をＩＮ塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をノリ力ゲル
力ラムクロマトグラフィーにて精製し目的物７５０ｍｇ
を得た。（収率１５．０％） ＮＭＲ　（ＣＤＣ　ｌ　ｚ　、δ） ２、７８（３Ｈ，ｍ）、　３．７８（２Ｎ，ｍ）、　３
．５〜４．１（２Ｈ，ｍ）。
４、９５（ＩＨ，ｍ）、　４．５〜５．］（２Ｈ，ｍ）
、　６．０３（ＩＨ，ｍ）。
６、９（（ＬＨ，ｍ）、　７．２〜７．５（ＩＯＨ，ｍ
）、　８．１４（ＩＨ，ｓ）。
８、４２（１１（、ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） 製造例２８ ７−ホルムアミド−３−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−メチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ヘンズヒドリル ＯＯＢＨ 製造例１８と同様にして、上記化合物を得た。
（収率６６％） ＮＭＲ　（ＣＤＣＩ　：ｌ　、δ） ２、９４（３Ｈ，ｓ）、　３．４−４．３（４Ｈ．ｍ）
、　４．８７，５．１５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ
）、　５．０８（ＬＨ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）、　５．９６
（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４Ｈｚ．８Ｈｚ）、　６．４５（Ｉ
Ｈ，ｂｒ．ｓ）、　６．９４（ｌ）１．ｓ）、　　７．
２〜７．４５（１０４１，ｍ）、　　８．２６（ＩＩＩ
，ｓ）製造例２９ ’ｌ−　（（Ｚ）−２−　トリチルオキンイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４ーイル）アセトア
ミド］３−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−メチルカルバモイル
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ヘンズヒ
ドリル ＣＯＯＢＨ ＯＴｒ　　　　　　ＣＯＯＢＨ ７−ホルムアミド−３−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−メチル
カルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ヘンズヒドリル４３０ｍｇのメタノール６ｍｌ及び
テトラヒドロフラン６ｍｌの混合液に水冷下、濃塩酸０
．８ｍｌを滴下し、室温で２時間撹拌した。反応液を濃
縮し、酢酸工チルを加え水、飽和型ソウ水、飽和食塩水
で順次洗浄し硫酸マグ皐シウムで乾燥し濃縮した。
得られた残渣４１０ｍｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド８ａ＋１溶液に、（Ｚ）−２−（２−）リチルアミノ
チアゾールー４−イル）−２−トリチルオキシイミノ酢
酸６１０ｍｇ　、ジシクロへキシルカルボ、ジイミド１
９７ｍｇ、１−ヒドロキシヘンシトリアゾール１２３ｍ
ｇを加えて室温で１０時間撹拌した。反応混合液に水、
酢酸エチルを加え、酢酸エチル層を水、ＩＮ塩酸、飽和
型ソウ水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにて精製し目的物４６０ｍｇを得た。（収率４４．５
％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） ２．８７（０，６）１．ｂｒ、ｓ）、２．９６（０，４
Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　３．０８〜３．４８（２Ｈ，ｍ）、
　３．８〜４．３（２）１．ｍ）、　４．７〜５．２（
２）ｔ。
Ｒ１）、　５．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　６
．１０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　６．４
５（１）１．ｓ）、６．９６（ＩＨ，ｓ）、７．１〜７
．５（４０Ｈ，ｍ）製造例３０ ７−ホルムアミド−３−（３−ハ４′トロキン＝１−ビ
ロリンニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルおよび前記の２−セフェ
ム体 ＣＯ□ＢＨ 製造例１６と同様にして、上記化合物を得た。
（収率２８％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） １．９（２Ｈ，ｍ）、　３．２〜３．６（４８，ｍ）、
　４．４〜４．８（３１１，ｍ）。
５．０１（０，３Ｈ，ｄ、Ｊ＝５ｆ（ｚ）、　５．１７
（０，７１（、ｓ）、　５．２３（０，７Ｈ，ｓ）、　
５．７０（０，７Ｈ，ｍ）、５．９４（０，３Ｈ，ｍ）
、　６．４８（ＬＨ，Ｒ１）、　６．９１（０，７Ｈ，
Ｓ）、　６．９５（０，３Ｈ，ｓ）、　７．２５〜７．
４５（Ｌｏｔ（、ｍ）、　８．２５（ＬＨ，ｍ）製造例
３１ ７−ホルムアミド−３−（３−ハイドロキン−１−ピロ
リジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル−１−オキシド ＣＯ□ＢＨ 製造例１７と同様にして、上記化合物を得た。
（収率６８％） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｂ、δ） １．６〜１．９５（２Ｈ，ｍ）、　３．１〜３．４（４
８，ｍ）、　３．８４（２Ｈ。
ｍ）、　４．８６（２）１．ｍ）、　４．９８（２Ｈ，
ｍ）、　６．０５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９．８Ｈｚ、５Ｈ
ｚ）、　６．９３（ＬＨ，ｓ）、　７．２４〜７．５３
（ＩＯＨ。
ｍ）、　８．１５（ＩＨ，ｓ）、　８．４２（１８，ｄ
、Ｊ＝９．８Ｈｚ）製造例３２ ７−ホルムアミド−３−（３−ハイドロキシ−１−ピロ
リジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルＣＯ□ＢＨ 製造例１Ｂと同様にして、上記化合物を得た。
（収率７８％） １１１ＭＲ（Ｃ［）Ｃ１０，δ） ２．１６（２Ｈ，ｍ）、　　３．３〜３．７（６Ｌｍ）
、　　４．９９（ｌ）Ｉ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　４．
８〜５．２（２Ｈ，ｍ）、　　５．４８（ＬＨ，ｂｒ、
ｓ）、　　５．９３（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、５Ｈｚ
）、　　６．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９ｔ（ｚ）、　　６
．９５（１１（、ｓ）、　　’＋、２〜７．４（１）１
．ｓ）、８．２４（ＩＨ，ｓ）製造例３３ ７−　（（Ｚ）−２−トリチルオキシイミノ−２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
）　　３　　　（３−ハイドロキシ−１−ピロリジニル
）カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルｒ 製造例１９と同様にして、上記化合物を得た。
（収率６％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） １．９７（２Ｈ，ｍ）、　３．１〜３．５（６Ｈ，ｍ）
、　４．２６（ｌ）Ｉ、ｂ）。
４．９８（１）１．ｄ、Ｊ＝　５Ｈｚ）、　４．７〜５
．２（２Ｈ，ｍ）、　６．０５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈ
ｚ、５ｔ（ｚ）、　　６．４６（ＩＨ，ｓ）、　　６．
９４（（Ｉｔ’ｓ＞。
７．１〜７．５（４０Ｈ，ｍ） 製造例３４ ７−ホルムアミド−３−〔（（Ｓ）　　−（＋）　　−
２−ハイドロキンメチル−１−ピロリジニル）カルボニ
ルオキシメチル］−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルおよび前記の２−セフェム体 製造例１６と同様にして、上記化合物を得た。
（収率１６％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１ｚ、δ） １．７〜２．１（４Ｈ，ｍ）、　３．２〜４．０（４，
４Ｈ，ｍ）、　４．６５（ＩＨ，ｍ）、４．６〜５．３
（１，２Ｈ，ｍ）、　４．８６，５．１５（０，８Ｈ。
ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．０１（０，４Ｈ，ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．１８（０，６Ｈ，ｓ）、　５．２
５（０，６Ｈ，ｍ）、　５．７２（０，６Ｈ，ｍ）。
５．９４（０，４Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、５Ｈｚ）、　
６．４５（０，６Ｈ，ｍ）。
６．９１（ＩＨ，ｓ）、　７．２〜７．５（１０）１．
ｍ）、　８．２５（ＩＨ，ｓ）製造例３５ ７−ホルムアミド−３−（（Ｓ）　　−（＋）　−２−
ハイドロキシメチル−１−ピロリジニル）カルボニルオ
キンメチル−３−セフユム−４−カルホン酸ヘンズヒド
リルー１−オキソド ↑ 製造例１７と同様にして、上記化合物を得た。
（収率５９％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） １．５〜２．１（４Ｈ，ｍ）、　３．２〜４．０（６Ｈ
，ｍ）、　４．５３（ＬＨ。
ｍ）、　　４．８０，５．３４（２Ｈ，八Ｂｑ、Ｊ＝１
４Ｈｚ）、　　５．２５（ＬＨ，ｍ）。
６．１５（１８，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、１５Ｈｚ）、　７
．９７（ＬＨ，ｓ）、　７．２〜７．５（ＩＯＦＩ、ｍ
）、　８．２７（１Ｂ、ｓ）製造例３６ ツーホルムアミド−３−（（（Ｓ）　　＝（＋）　　−
２−ハイドロキシメチル−１−ピロリジニル）カルボニ
ルオキシメチルクー３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル 製造例１８と同様にして、上記化合物を得た。
（収率７４％） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ：ｌ、δ） １．８０〜２．１０（４Ｈ，ｍ）、　３．２７〜３．５
６（６Ｈ，ｍ）、　３．９０（Ｉｆ（、ｍＬ　４．９７
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．８）１ｚ）、　５．０１（２）ｌ
、ＡＢｑ。
Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．９０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．８
Ｈｚ、８．９Ｈｚ）、　６．９４（ＬＨ，ｓ）、　７．
２３〜７．４４（ｍ）、　８．１８（ＩＨ，ｓ）製造例
３７ ７−（（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−１−リチルオキシイミノアセタミド〕
−３−（（Ｓ）　　−（＋）　　−２−ノ＼イドロキシ
メチルビロリジノ〕カルボニルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル 製造例Ｉ９と同様にして、上記化合物を得た。
Ｎ門Ｒ（ＣＤＣｈ、δ） １．８０〜２．０Ｏ（４１（、ｍ）、　３．２１〜３．
６０（６Ｈ，ｍ）、　３．９０（ＬＨ，ｍ）、　　５．
０２（１）１．ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、　　５．０８（
２Ｈ，八Ｂｑ。
Ｊ＝１４Ｈｚ）、　６．０７（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．８
ｆｌｚ、８．８Ｈｚ）、　６．４５（ＩＨ，ｓ）、　６
．９５（ＩＨ，ｓ）、　７．２０−７．４０（４０Ｈ，
ｍ）製造例３８ ７−〔（Ｚ）−２−１−リチルオキシイミノー２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
）−３−（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルと７−
〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−１リチルアミ
ノチアヅール−４−イル）アセトアミド）　−３−（１
−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−２−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルの混合物 ＯＴｒ　　　　　　ＣＯｚＢＨ ２−（２−トリチルアミノチアゾール−４〜イル）−２
−トリチルオキシイミノ酢酸（２０ｇ　）、１−ハイド
ロキシベンゾトリアゾール（６ｇ）、ジシクロへキシル
カルボジイミド（９，２ｇ）をテトラヒドロフラン（２
００ｍｌ）に溶かし室温で１時間１５分撹拌する（Ａ液
）。
一方、７−アミノ−３−ハイドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（１０，３ｇ　）をアセトニトリ
ル（５００ｍｌ）に懸濁させ、室温で、Ｎ−メチル−Ｎ
−（トリメチルシリル）トリフルオロアセタミド（２４
，８＋ｎｌ）を加える。室温で２０分間撹拌するＣＤ液
）。
次に、Ａ液を濾過し溶媒を微圧下留去し得られた残渣を
ｎ−ヘキサン、イソプロピルエーテルで粉末状結晶にす
る。これをテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶かしＢ
液に室温で加え１時間１５分撹拌する。
次に反応液を濾過し、母液にジフェニルジアゾメタン（
１１，６ｇ）　、メタノール（８，６ｇ）を加え室温で
２時間撹拌する。反応液を微圧下留去し、得られた残渣
をテトラヒドロフラン（１２０ｍｌ’、１に溶かし室温
でＮ、Ｎ’−カルボニルジイミダゾール（４，９ｇ　）
を加え、同温で２時間撹拌する。
次に反応液にピロリジン（３゜４９ｇ）を加え２時間２
０分撹拌する。反応液を減圧下で留去し得られた残渣を
カラムクロマトグラフィー（ＳｉＱｚ２５０　ｇ、ベン
ゼン：酢酸エチル−８：１）で精製すると目的物（６，
９４ｇ　）が得らｎ１コ。（収率２０％） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｈ、δ） １．８０〜１．９５（４Ｈ，ｍ）、　３．２５〜３．３
０（４Ｈ，ｍ）、　４．６０（６１５Ｈ，ｓ）、　４．
８２，５．１０（２Ｈ，＾Ｂｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、　５
．０５（２１５Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．１８（３
１５Ｈ，ｓ）、　５．２５（３１５Ｒ，ｄ。
Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８５（３１５８，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ、９１（ｚ）、　６．１５（２１５Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ、９Ｈｚ）、　６．２２（３１５１１，ｓ）、　６
．４２（３１５Ｈ。
ｓ）、　６．４４（２１５Ｈ，ｓ）、　７．’０１．’
、、０３（ＩＨ，ｓ）、　７．２５〜７．４０（４０Ｈ
，ｍ）　　・ 製造例３９ ７−（（Ｚ）−２−）リチルオキシイミノー２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）
−３−（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル−１−オ
キシド↑ 製造例３８で得られた混合物（３，７ｇ）のテトラヒド
ロフラン（４０ｍｌ）溶液に水冷下、ｍ−クロロ安息香
酸（８３４ｍｇ）を加え、同温で１．５時間撹拌する。
反応液を微圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマト
グラフィー（Ｓ’ｉ０ｚ　５０ｇ、ベンゼン：酢酸エチ
ル＝６：１）で精製すると目的物（１，４４ｇ）が得ら
れた。（収率３８％）ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３，
δ） １．８３〜１．９０（４Ｈ，ｍ）、　３．００，３．６
２（２Ｈ，＾Ｂｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．２１〜３．
２５（２１（、ｍ）、　３．３５〜３．３９（２Ｈ，ｍ
）’。
４．４１〜４．４３（１８，ｍ）、　４．７２，５．３
２（２８，ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈ２）、　６．３０（ＩＨ
，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、９）１ｘ）、　６．４２（ＩＨ，
ｓ）。
６．９３（ＩＨ，ｓ）、　７．３５〜７．４０（４０Ｈ
，ｍ）製造例４０ ７−（（Ｚ）−２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）
’−３−（１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル 製造例３９で得られた化合物（１，４４ｇ　）　　のＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍｌ）溶液に一３０
°Ｃで、三塩化リン（０，４３ｍ１）を加え、同温で３
０分間撹拌する。
反応液を一７８°Ｃに冷やした酢酸エチルにあけ水を加
える。酢酸エチル層を分取し、水、飽和食塩水で洗浄、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を微圧下留去し
、得られた残渣を酢酸Ｘチ）Ｌｉに溶かしこれをイソプ
ロピルエーテルに加える。沈殿物を濾取しイソプロピル
エーテルで洗浄すると目的物（８９５ｎ＋ｇ）が得られ
た。（収率６３％） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＩ、、δ） １．８４〜１．８７（４Ｈ，ｍ）、　　３．２８．３．
５０（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８）１ｚ）、　　３．２０
〜３．２４（２Ｈ，ｍ）、　　３．３５〜３．３８（２
Ｈ，ｍ）。
４．８２，５．１０（２Ｈ，八Ｂｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、
　　５．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　６．０９
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、９Ｈｚ）、　　６．４２（
ＩＨ，ｓ）。
６．９４（ＬＨ，ｓ）、　　７．３５〜７．４０（４０
Ｂ、ｍ）実施例１ ７−（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ）”）−３−Ｎ
、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキソメチル−３−セフェ
ム−カルボン酸ナトリウム塩 １　　　　　υ ＯｌＩ　　　　　　　　Ｃ０ｚＮａ 製造例４で得た２−（（Ｚ）　Ｌ２−）リチルアミノチ
アゾール〜４−イル１−２−トリチルオキンイミノアセ
トアミドＥ−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルシボン酸ヘンズすドリ
ル１．４　ｇ　（１，３ミリモル）をトリフルオロ酢酸
３ｍｌ、アニソール２ｍｌの混合液に加え、１時間撹拌
した。イソプロピルエーテル１００ｍ１を加え、生した
沈殿を濾別して集め、次にギ酸１０ｍ１中に加え室温で
２時間反応した。ギ酸を減圧留去後エチルエーテルを加
え生じた沈殿を濾集した。これを逆相カラムクロマトグ
ラフィーによって精製をし、目的物２４０ｍｇ　（収率
３９％）を得た。
ＮＭＲ（Ｄ２０．δ） ２．７（６８，ｂｒ、ｓ）、　３．４２，３．６９（２
Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１９Ｈｚ）。
４．６７．４．９１（２）１．ＡＢｑ、Ｊ＝１２．６Ｈ
ｚ）、　５．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．１Ｅｚ）、　５
．８５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．８）１ｚ）、　７．００（
ＬＨ，ｓ）実施例２ ７−（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ−
エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキツメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 ０）Ｉ　　　　　　　ＣＯ２Ｎａ 製造例８で得た化合物を、実施例１と同様に処理して上
記化合物を得た。（収率１５％）ＮＭＲ（０２０，δ） １．０．５−１．１５（２７／１０１（、ｍ）、　１．
２５〜１．３５（３／１０）ｉ、ｍ）。
２．７２（３／１０１（、ｂｒ、ｓ）、　２．９０（２
７／１０１（、ｂｒ、ｓ）、　３．０５〜３．１５（２
／ＩＯＨ，ｍ）、　３．２５〜３．４０（１８／１０）
１．ｍ）。
３．４〜３．５（ＩＨ，ｍ）、　３．７〜３．７８（１
）１．ＩＩ＋）、　４．７０〜４．７８（ＬＨ，ｍ）、
　４．９０〜５．００（１）１．ｍ）、　５．２４〜５
．２７（ＩＩ（、ｍ）、　５．８５〜５．９０（Ｉｔ（
、ｍ）、　７．０２（Ｉｔ（、ｓ）実施例３ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド］−３−（
１−モル示リニル）カルボニルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 製造例１２で得た化合物を実施例１と同様に処理をして
上記化合物を得た。（収率１５％）ＮＭＲ（ＤｚＯ，δ
） ３．４２．３．７２（２Ｈ，ＡＢＱ、Ｊ＝１８）＋２）
、　３．４５〜３．６０（４Ｈ。
ｍ）、　　３．７０〜３．８０Ｃ４Ｈ，ｍ＞、　　４．
７５．４．９５（２Ｈ，八Ｂｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、　５
．２３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５）１ｚ）、　５．８６（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）、　７．０Ｈ１）１．ｓ）
実施例４ ７−〇（Ｚ）　　　２　　（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−メトキシイミノアセタミド）−３−Ｎ、
Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ナトリウム塩製造例１３で得た７−（
（Ｚ）−２−（２〜トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセタミド）−３−Ｎ、Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（１，４６ｇ）のアニソー
ル（１０ｍｌ）溶液にトリフルオロ酢酸（２０ｍｌ）を
水冷下漬下し、同温度で２時間２０分撹拌する。
反応液を減圧下濃縮し、残渣をメタノールに溶解し、ジ
イソプロピルエーテルを加え結晶を析出させる。析出結
晶を濾取しメタノールに溶解させ、これに酢酸ナトリウ
ム（６００ｍｇ）を溶解させ、さらにジイソプロピルエ
ーテルを加え結晶を析出させる。析出結晶を濾取しジイ
ソプロピルエーテルで洗浄後風乾させる。得られた結晶
を逆相カラムクロマトグラフィーで精製し７−［（Ｚ）
−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−メト
キシイミノアセタミド−３−Ｎ。
Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ナトリウム（７１ｍｇ。
８．５％）を得た。
ＮＭＲ（Ｄｚ帆δ） ２．６５〜２．８０（６１４，ｍ）、　　３．２６．３
．５２（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８．ＩＨｚ）、　　３．
８３（３Ｈ，ｓ）、　　４．５２，４．７５（２）１．
＾Ｂｑ、Ｊ□１２．６Ｈｚ）、　　５．０５（ＬＨ，ｄ
、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、　　５．６６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４
．８Ｈｚ）、　　６．８５（ＬＨ，ｓ） 実施例５ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（５−アミノ−Ｌ２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−メトキシゴミ２ノアセタミ
ド）　　３　　Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 製造例１４の化合物を実施例４と同様に処理をして、上
記化合物を得た。（収率２７％）ＮＭＲ（ＤｚＯ９δ） ２．６８（６）１．ｓ）、　３．２１，３．４６（２Ｈ
，ＡＢｑ、Ｊ＝１８．０）Ｉｚ）。
３．８９（３Ｈ，ｓ）、　４．５０，４．７２（２Ｈ，
ＡＢｑ、Ｊ＝１２．３Ｈｚ）。
５．０１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．７Ｈｚ）、　５．６７（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．７Ｈｚ）実施例６ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−モノフルオロメトキシイミノアセタミド）　
−３−Ｎ、’Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 製造例１５の化合物を、実施例４と同様に処理して上記
化合物を得た。（収率１０％）ＮＭＲ（ＤｚＯ１δ） ２．６２〜２．７３（６Ｈ，ｍ）、　３．２２．３．４
８（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊヨ１８．０Ｈｚ）、　４．４９，
４．７２（２Ｈ，ＡＢｑ、ｄ、Ｊ＝１２．８Ｈｚ、１．
６Ｈｚ）。
５．０２〜５．０４（１Ｂ、ｍ）、　５．６３〜５．６
６（ＬＨ，ｍ）、　５．６１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５５．２
Ｈｚ）、　６．９５（ＩＨ，ｓ）実施例７ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（１
−ピペリジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム塩 製造例１９の化合物を実施例１と同様に処理して上記化
合物を得た。（収率２８％） ＮＭＲ（ＤｚＯ５δ） １．２５〜１．４７（６８，ｍ）、　３．１７〜３．２
９（４ｔ（、ｍ）、　３．２５゜３．５１（２１（、Ａ
Ｂｑ、Ｊ＝１７．９Ｈｚ）、　４．５５，４．７８（２
Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１２．５Ｈｚ）、　５．０７（ＬＨ，
ｄ、Ｊ＝４．６Ｈｚ）、　５．７０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４
．６４１ｚ）、　６．８２（ＬＨ，ｓ）実施例８ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（１
−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ナトリウム塩 製造例２３の化合物を実施例１と同様にして処理をし上
記化合物を得た。（収率２５％）ＮＭＲ（０２帆δ） ２．００−２．１０（２ｔ（、ｍ）、　３．２１〜３．
４７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１７．９）ＩＺ）、　３．７
５〜３．８７（４Ｈ，ｍ）、　４．５１，４．７０（２
Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１７．６）１ｚ）、　５．０５（ＬＨ
，ｄ、Ｊ＝４．８）１ｚ）、　５．６８（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝４．８Ｈｚ）、　６．７８（ＬＨ，ｓ）実施例９ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド−３−（Ｎ
−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メチルカルバモイ
ルオキシメチル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム塩製造例２６の化合物を実施例１と同様に処理を
して上記化合物を得た。（収率８．８％）ＮＭＲ（ＤＺ
Ｏ，δ） ２．７９〜２．８２（３）１．ｍ）、　３．２８〜３．
３０（３）１．ｍ）、　３．５６〜３．５８（３Ｈ，ｍ
）、４．５７，４．７５（２Ｈ，ｍ）、５．０９（１８
゜ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．７３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５
）１ｚ）、　　６．８４（ｉｔ（、ｓ）実施例１０ ７−１：　（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−
Ｎ−シアノメチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 ＯＨＣＯＯＮａ 製造例２製造化２９を実施例１と同様にして上記化合物
を得た。（収率２工％） Ｎ門Ｒ（ＤＺＯ，δ） ２．８５（３）１．ｂｒ、ｓ）、　３．２８，３．５５
（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）。
４．１〜４．２５（２Ｈ，ｍ）、４．５〜４．９（２１
（、ｍ）、　５．０６（ＬＨ。
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．７０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
）、　６．７７（ＬＨ，ｓ）実施例１１ ７〜ＣＣＺ）−２−Ｃ２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｃ（
３−ハイドワキソー１−ピロリジニル）カルボニルオキ
シメチル］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム
塩 ＯＨＣＯＯＮａ 製造例３３の化合物を実施化工と同様にして上記化合物
を得た。（収率１７％） ＮＭＲ（０２０，δ） ２．０５（２Ｈ，ｍ）、　３．２５〜３．８（６）１．
ｍ）、　４．４〜４．５（１Ｂ。
ｍ）、　４．６〜４．９５（２Ｈ，ｍ）、　５．２０（
ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。
５．８３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　６．９６（Ｉ
Ｈ，ｓ）実施例Ｉ２ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（（
Ｓ）　−（＋）−２−ハイドロキシメチルピロリジノ）
カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム塩 製造例３７の化合物を実施例１と同様にして上記化合物
を得た。
ＮＭＲ（ＤＺＯ，δ） １．７０〜１．８４（４［１，ｍ）、　３．１９〜３．
８２（７Ｈ，ｍ）、　４．６７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１
３Ｈｚ）、　５．０８（１）１．ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）
、　５．７０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、　６．８
３（１１（、ｓ）実施例１３ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−（
１−ピロリジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 製造例４０の化合物を実施例１と同様にして上記化合物
を得た。（収率１７％） ＮＭＲ（０２０，δ）） １．６８〜１．７３（４）１．ｍ）、　３．１５〜３．
２３（４１（、ｍ）、　３．２５゜３．５２（２１（、
ＡＢｑ、Ｊ＝１８）１ｚ）、　４．５２，４．７５（２
Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、　　５．１５（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝４）１ｚ＞、　　５．６８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈ
ｚ）。
６．８１（ＬＨ，ｓ） 実施例１４ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ
、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　ピバロイルオキシメチル ′　０ 実施例１で得た？−（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ
ド）−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム８０ｍｇ（
０，１６２ミリモル）のジメチルホルムアミド２ｍｌ溶
液中にヨードメチルビハレー）３７ｍｇ　（０，１６ミ
リモル）を加え１時間撹拌した。反応液に酢酸エチル１
００ｍ１を加え水洗、飽和食塩水洗後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧ｆｉ縮した。残留物にイソプロピ
ルエーテルを加え固化して目的物２１ｍｇ　（収率２３
％）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） １．２４（９Ｈ，ｓ）、　２．９２（６）１．ｂｒ、ｓ
）、　３．５０，３．６１（２Ｈ。
ＡＢｑ、Ｊ＝１９Ｈｚ）、　４．８９，５．１７（２Ｈ
，ＡＢｑ、Ｊ＝１３）１ｚ）。
５．０７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８５，５．
９７（ＩＨ，ＡＢｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　５．９３（
ＯＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚおよび８Ｈｚ）、　７．０８（
ＩＨ，ｓ）、　７．２６（２Ｈ，ｓ）実施例ｌ５ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ
、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　２−エチルブタノイルオキシメチ
ル 実施例１の化合物とヨードメチル２−エチルブチレート
を反応させ上記化合物を得た。（収率６３％） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ） ０．９（６１，ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ）、　１．５〜１．
７（４）１．ｍ）、　２．２５〜２．３５（ＬＨ，＋ｗ
）、　２．９３（６Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　３．４９，３．
６０（２Ｈ。
ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　４．９１，５．１５（２Ｈ
，ＡＢｑ、Ｊ＝１４）１ｚ）。
５．０７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　５．８４〜
５．９５（３Ｈ，ｍ）。
７．０７（ＩＨ，ｓ） 実施例１６′ ７、−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−
Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸　１−（イソブチロイルオキシ）
エチル 実施例１の化合物と１−ヨードエチルイソブチレートを
反応させ上記化合物を得た。（収率１０％） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ） １．１８（６８，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．５６（３Ｈ
，ｄ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）。
２．５５〜２．６５（１）１．ｍ）、’　２．９２（６
）１．ｓ）、　３．５０，３．５１（合わせてＬＨ，ｄ
、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．６Ｌ３．６２（合わせて１８
．ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　４．９０，４．９５（合わせ
てＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．０５，５．０７（
合わせてＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．１２゜５．１８
（合わせてＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．８８〜５
．９５（１８，ｍ）、　７．００，７．１０（合わせて
ｉｆｆ、　ｑ、　Ｊ＝５．５ｔＬｚ）　。
７．０９（ＩＨ，ｓ） 実施例１７ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ
、Ｎ−ジメチル力ルハモイルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　１〜（２−エチルブタノイルオキ
ノ）エチル　　ＩＩ ｌｈ　Ｏ 実施例１の化合物と１−ヨードエチル２−エチルブチレ
ートを反応させ上記化合物を得た。
（収率１５％） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　３．δ） ０．９０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　０．９１（３Ｈ
，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．５〜１．７５（７Ｈ，ｍ）
、　２．２〜２．３（ＩＨ，ｍ）、　２．９２（６Ｈ，
ｓ）。
３．４８，３．５３（１）１．ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　
３．６０，３．６１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　４
．９０，４．９７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．
０７（ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．１４，５．１５（ＬＨ
，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．８８〜５．９５（ｌｔ（
、ｍ）、　７．００〜７．１０（１８，ｍ）、　７．０
８（ＬＨ，ｓ）実施例１８ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）　　３　
　Ｎ、Ｎ　−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸　１−（ｔｅｒｔ−ブチルア
セトキノ）エチルＣＨｌ　０ 実施例１の化合物と１−ヨードエチルｔｅｒｔ　−ブチ
ルアセテートを反応させ上記化合物を得た。
（収率４．５％） Ｎ月Ｆｌ（ＣＤＣｌ２．６） １．０４（９Ｈ，ｓ）、　１．５６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝５
．５Ｈｚ）、　２；２〜２．３（２Ｈ，ｍ）、　２．９
３（６Ｈ，ｓ）、　３．４８，３．５０（合わせてＩＩ
Ｉ。
ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．６０，３．６１（合わせて
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）　。
４．９１，４．９８（合わせてＬＨ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ
）、　５．０３〜５．１０（ＬＨ，ｍ）、　５．１２，
５．１７（合わせてＩＨ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）　。
５．８６〜５．９３（ＬＨ，ｍ）、　６．９７〜７．１
２（ＬＨ，ｍ）、７．１２（１）１．ｓ） 実施例１９ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミ）”）−３−
Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸　１−（エトキシカルボニルオキ
シ）エチル 　　ＩＩ ＣＨ，０ 実施例１の化合物と１−ヨードエチルエチルカーボ２−
トを反応させ上記化合物を得た。
Ｎとｌ？（ＣＤＣｈ、δ） １．３３（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．５８〜１．
６３（３）１．ｍ）、　２．９３（３Ｈ，ｂｒ、ｓ）、
　３．５１（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．６１，
３．６２（合わせてＬＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　４．
２〜４．３２（２Ｈ，ｍ）。
４．９Ｌ　５．１７（ＩＨ，ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、
　４．９９，５．２２（ＬＨ。
ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．０５（０，５Ｈ１ｄ−
Ｊ＝４．５Ｈｚ）＋　５．１０（０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝４
．５Ｈｚ）、　５．９〜５．９８（ＬＨ，ｍ）、　６．
９２（０，５）１．ｑ、Ｊ＝５．５）１ｚ）、　　７．
０４（０，５１（、ｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）。
７．０８　（ＬＨ，ｓ） 実施例２０ ７−　［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）　　３　
　Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸　１−（イソプロピルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル ＣＨ３０ 実施例１の化合物と１−ヨードエチルイソプロピルカー
ボネートを反応させ、上記化合物を得た。（収率３０％
） ＮＭＲ（ＣＤＣｈ、δ） １．２６＋−１，３７（６Ｈ，ｍ）、　１．５８〜１．
６２（３Ｈ，ｍ）、　２．９３（６１（、ｓ）、　３．
５０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１９Ｈｚ）、　３．６０，３．６
１　（合わせて１８．ｄ、Ｊ＝１９Ｈｚ）、　４．９〜
５．２４（３Ｈ，ｍ）。
５．０４，５．０７（合わせてＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
、　５．９３（１）１．ｄｄ。
Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　６．９２，７．０２（合わせ
てＩＨ，ｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　７．０８（ＩＨ，ｓ
） 実施例２１ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ
、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　１−（シクロヘキシルカルボニル
オキシ）エチルＣＨ：ｌ　Ｏ 実施例１の化合物と１−ヨードエチルシクロへキシルカ
ーボネートを反応して上記化合物を得た。（収率１９％
） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３．６） １．１〜１．６（６Ｈ，ｍ）、　１．５８〜１．６３（
３Ｈ，ｍ）、　１．６６〜２．００（４Ｈ，ｍ）、　２
．９３（６Ｈ，ｓ）、　３．５２，３．４０（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ。
Ｊ＝１８Ｈｚ）、　４．６〜４．７（ＬＨ，ｍ）、　４
．８９，４．９７　（合わせてＩＨ，ｄ、Ｊ＝１２）１
ｚ）、　５．０５〜５．１０（ＩＨ，ｍ）、　５．１２
゜５．１７　（合わせてＬＨ，ｄ、Ｊ＝１２）１ｚ）、
　６．８３〜６．９４（ＬＨ。
ｍ）、　６．８９，６．９８（合わせてＩＨ，ｑ、Ｊ＝
５．５Ｈｚ）、　７．１５（ＬＨ，ｓ） 実施例２２ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハ１′トロキシイミノアセトアミＦＥ−３−
Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル−３
−セフェム−４−カルホン酸　ピバロイルオキソメチル ；１ 実施例２の化合物とヨードメチルビバレートを反応させ
上記化合物を得た。（収率３４％）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ：
ｌ、δ） １．１２（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２４（９Ｂ
、ｓ）、　２．８９（６／３Ｈ，ｓ）。
２．９０（３／３Ｈ，ｓ）、　３．２５〜３．３５（２
Ｈ，ｍ）、　３．４７，３．４８（合わせてＩＨ，ｄ、
Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．６１（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ
）。
４．８９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、　５．０６（Ｌ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．１〜５．２（ＩＨ，ｍ）
、　５．８２，５．９７（１８，ＡＢｑ、Ｊ＝５Ｈｚ）
、　５．９２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、８）１ｚ）、
　７．０７（ＩＨ，ｓ）実施例２３ ７−（（２）−２（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３＝　（１
−モルホリニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチル 実施例３の化合物とヨードメチルビバレートを反応させ
上記化合物を得た。（収率２４％）ＮＭＲ（ＣＤＣ１３
，δ） ３．４５〜３．５０（５８，ｍ）、　３．５８〜３．７
０（５Ｈ，ｍ）。
４．８９．５．１８（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、
　５．０７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８４，５
．９７（２１，ＡＢｑ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．９３（１
８，ｄｄ。
Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　７．０８（ＩＨ，ｓ）実施例
２４ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセタミド〕−３−Ｎ、Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸　ピバロイルオキシメチル 実施例４の化合物とヨードメチルビバレートを反応させ
上記化合物を得た。（収率６５％）ＮＭＲ（ＣＤＣ１３
ｌδ） １．２３（９Ｈ，ｓ）、　２．９２（６Ｂ、ｓ）、　３
．５０，３．６０（２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ・１８．７Ｈｚ）、　４．０９（３Ｈ，ｓ）、　４．
８４，５．１６（２Ｈ，八ＢＱ。
Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．０９（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ）、　５．８５〜５．９５（２８，ｍ）、　５．９９
〜６．０３（１）１．ｍ）、　６．９２（１８，ｓ）。
７．４９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）実施例２５ ７−　（（Ｚ）−２−（５−７ミ／−１，２，４−チア
ジアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノアセタミ
ド）−３−Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸　ピバロイルオキシメ
チル 実施例５の化合物とヨードメチルピバレートを反応させ
上記化合物を得た。（収率７０％）ＮＭＲ（ＣＤＣ１３
，δ） １．１３（９Ｈ，ｓ）、　２．９２（６Ｈ，ｓ）、　３
．５０，３．５９（２８，ＡＢｑ。
Ｊ＝１８．６）１ｚ）、　４．１２（３Ｈ，ｓ）、　４
．８４，５．１９（２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１３．７Ｈｚ）、　５．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．
８）１ｚ）、　５．８５〜５．９４（２Ｈ，ａ＋）、　
６．１２〜６．１６（ＩＨ，ｍ）、　６．４２（ＩＨ，
ｓ）実施例２６ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−モノフルオロメトキシアセタミド）−３−Ｎ
、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　ピバロイルオキシメチル ］１ 実施例６の化合物とヨードメチルピバレートを反応させ
上記化合物を得た。（収率７０％）ＮＭＲ（ＣＤＣ１３
，δ） １．１４（９Ｈ，ｓ）、　２．９１（６Ｈ，ｓ）、　３
．５０，３．６０（２Ｆｌ、ＡＢｑ。
Ｊ＝１８．４Ｈｚ）、　４．８５，５．１６（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ、Ｊ＝１４．２Ｈｚ）。
５．１０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、　５．６５〜
６．０Ｏ（３Ｈ，ｍ）。
５．８６，５．９３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）
、　６．９８（ＬＨ，ｓ）実施例２７ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（１
−ピペリジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　ピバロイルオキソメチル 実施例７の化合物とヨードメチルピバレートを反応させ
、上記化合物を得た。（収率５９％）ＮＭＲ（ＣＤ３０
Ｄ、δ） １．１３（９Ｈ，ｓ）、　１．４８〜１．６６（６Ｈ，
ｍ）、　３．３７〜３．４６＜４Ｈ，ｍ）、　３．５４
，３．６９（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８．４Ｈｚ）、　４
．７７゜５．１３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１３．４Ｈｚ）
、　５．２０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．９Ｈｚ）。
５．８４．５．９３　（２Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ＝６）１ｚ
）　、　５．９２　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．９Ｈｚ）　
。
６．７６（ＩＨ，ｓ） 実施例２８ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（１
−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　ピバロイルオキシメチル 実施例８の化合物とヨードメチルピバレートを反応させ
上記化合物を得た。（収率５４％）ＮＭＲ（ＣＯＣＨ３
，δ） ２．２４〜２．３０（２Ｈ，ｍ）、　　３．４７，３．
６０（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８．４Ｈｚ）、　３．９５
〜４．１０（４８，ｍ）、　　４．８７．　５．１２（
２Ｈ，ＡＢｑ。
Ｊ＝１４．１Ｈｚ）、　５．０６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．
１Ｈｚ）、５．９１（２Ｈ，＾Ｂｑ。
Ｊ＝５．６Ｈｚ）、　５．９０〜５．９３（Ｉ）ｌ、ｍ
）、　　７．０６９（１）１．ｓ）実施例２９ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセタミド〕−３−（１
−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸　１−（イソプロピルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル ＯＨＣ０２ＣＨＯ−ＣＯＣＨ（ＣＨ３）　２ＣＨ，。
実施例８の化合物と１−ヨードエチルイソプロピルカー
ボネートを反応させ上記化合物を得た。（収率２７％） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　３　、δ） １．３０〜１．３５（６Ｈ，…）、　　２．２２〜２．
３１（２Ｈ，ｍ）、　　３．４５〜３．６５（２Ｈ，ｍ
）、　　４．００〜４．０６（４ｔ（、ｍ）、　　４．
８９〜５．２０’（４Ｈ，ａ＋）、　　５．９０〜５．
９３（ＬＨ，ｍ）、　　６．９２（１／２Ｈ。
ｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　　７．０３（１／２）１．ｑ
、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　　７．０８（１１，ｓ） 実施例３０ ７−　（（Ｚ）−２−（，２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−
Ｎ　−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メチルカルバ
モイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸　
ピバロイルオキシメチル 実施例９の化合物とヨードメチルピバレートとを反応さ
せ上記化合物を得た。（収率５７％）ＮＭＲ（ＣＤＣ１
３，δ） １．２１〜１．２５（９）１．ｍ）、　２．９７（３Ｈ
，ｓ）、　３．４１〜３．４５（２８，ｍ）、３．４６
〜３．６０（２Ｈ，ｍ）、３．’、１〜３．７７（２Ｈ
＋ｍ）、４．８２〜４．９５（２Ｈ，ｍ）、５．０５〜
５．０８（ｌＨ，ｎ＋）。
５．８６，５．９５（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、５
．８８〜５．９１（ＩＬｍ）、　　７．０（１（ＬＨ，
ｓ） 実施例３１ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ
　−（２−ハイドロキシエチル）−Ｎ−メチルカルバモ
イルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸　１
−ソクロへキシルオキシカルボニルオキシ）エチル Ｈ３０ 実施例９の化合物と１−ヨードエチルシクロへキシルカ
ーボネートを反応させ上記化合物を得た。（収率２８％
） Ｎ門Ｒ（ＣＤＣｈ、δ） １．４〜１．６（６Ｈ，ｍ）、　　１．６２〜１．７２
（３Ｈ，ｍ）、　　１．８３〜１．９２（４）１．ｍ）
、　　２．９３（３Ｈ，ｓ）、　　３．３８〜３．４１
（２８，ｍ）。
３．４２〜３．５０（２Ｈ，ｍ）、３．７０〜３．７５
（２Ｈ，ｍ）、４．５７〜４．６１（ＩＨ，ｍ）、　　
４．９９（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．０５〜５
．１４（２Ｈ，ｗ）、　　５．８２〜５．８６（ＩＨ，
ｍ）、　　６．８５，６．９６（ＩＦＩ、ＡＢｑ、Ｊ＝
５Ｈｚ）、　　６．９９（１８，ｓ）実施例３２ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ
−シアノメチル−Ｎ−メチルカルバモイルオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸　ピバロイルオキシメ
チル 実施例１０の化合物とヨードメチルピバレートとを反応
させ上記化合物を得た。（収率７０％）１１１ＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ２．δ） １．１〜１．２５（９Ｈ，ｍ）、　３．０１（３Ｈ，ｓ
）、　３．４〜３．６５（２Ｈ，ｍ）、　４．２〜４．
３（２Ｈ，ｍ）、　４．８〜５．２５（３８，ｍ）。
５．８〜６．０（３Ｈ，ｍ）、　６．９０（１８，ｂｒ
、ｓ）、　７．３０（２１（、ｓ＞実施例３３ ７−　［（Ｚ　−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）　−３−
（（Ｓ）−（＋）−２−ハイドロキシメチル−１−ピロ
リジニル〕カルボニルオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸　ピバロイルオキシメチル 実施例１２の化合物とヨードメチルピバレートを反応さ
せ上記化合物を得た。
ＮＭＲ（ＣＤ３０Ｄ、δ） １．８３〜２．００（４Ｈ，ｍ）、　３．３０〜３．８
７（７Ｈ，ｍ）、　５．０１（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１４
Ｈｚ）、　５．２０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、　
５．８４（ＬＨ，、ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、　５．９１
〜５．９４（２Ｈ，ｍ）、　６．７６（ＬＨ，ｓ）実施
例３４ ７〜［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド３−３−（１
−ピロリジニル）カルボニルオキソメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチル 実施例１３の化合物とヨードメチルビバレートを反応さ
せ上記化合物を得た。（収率２８％）ＮＭＲ（ＣＤＣ１
３，δ） １．１６〜１．２１（９Ｈ，ｍ）、　１．８０〜１．８
５（４Ｈ，ｍ）、　３．３０〜３．３９（４Ｈ，ｍ）、
　３．５０〜３．６０（２Ｈ，ｍ）、　４．８０〜４．
９０．５．０５，５．１３（２）１．ｍ）、　５．０２
〜５．０４（１）１．ｍ）。
５．７５−５．８０（２ｆ（、ｍ）、　５．８５〜５．
９１（Ｉｔ（、ｍ）、　６．９８（ＬＨ，ｓ） 実施例３５ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノカルボニルオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸１−アセトキノエチル ；）Ｉ ＣＨ，３０ 実施例１の化合物と１−ブロモエチルアセテートを反応
させ上記化合物を得た。（収率１４％）ＮＭＲ（ＣＩＩ
ＣＩ：ｌ、δ） １．５５〜１．５８（３Ｈ，ｍ）、　２．１１（３１（
、ｄ、Ｊ・４．６Ｈｚ）　。
２．９２〜２．９５（３Ｈ，ｓ）、　３．４７〜３．６
５（２Ｈ，ｍ）、　４．８３〜５．２４（３Ｈ，ｍ）、
　５．８３〜５．９４（ＬＨ，ｍ）、　６．９８〜７．
１５（２Ｈ，ｍ） 実施例３６ ７−　Ｃ（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド〕〜３−（
１−アゼチジニル）カルボニルオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸１−（シクロヘキシルオキシカル
ボニルオキシ）エチル Ｃ）１．　０ 実施例８の化合物と１−ヨードエチルシクロへキソルカ
ーボネートを反応して上記化合物を得た。（収率２７％
） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．δ） １．２４（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．７５〜
１．８０（１０８，ｍ）。
２．２５〜２．３２（２）１．ｍ）、　３．４５〜３．
６５（２Ｈ，ｍ）、　４．００〜４．０６（４Ｈ，ｍ）
、　４．９１，４．９８（ＩＮ、ＡＢｑ、Ｊ＝１３．８
Ｈｚ）。
５．０３〜５．０７（ＩＨ，ｍ）、　５．１０〜５．１
３（ＩＩ（、ｍ）、　５．０９゜５．１８（ＩＨ，＾Ｂ
ｑ、Ｊ＝１３．８Ｈｚ）、　５．９０〜５．９３（ＩＨ
，ｍ）。
６．９３（１／２８．ｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　７．０
３（１／２Ｈ，ｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　７．０８（Ｌ
Ｈ，ｓ） 実施例３７ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ハイドロキシイミノアセトアミド）−３−（
１−アゼチジニル）カルボニルオキソメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸１−アセトキシエチル ＯＨＩ Ｃ０２Ｃ）１０〜ＣＣ）Ｉ：１ Ｈ３０ 実施例８の化合物と１−ブロモエチルアセテートを反応
させ上記化合物を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ） １．５４〜１．５６（３）１．ｍ）、　２．１０〜２．
２１（３８，ｍ）、　２．２０〜２．３５（２１（、ｍ
）、　３．４５〜３．６５（２Ｈ，ｍ）、　３．９５〜
４．０８（４）１．ｍ）、　４．８５〜４．９５（１）
１．ｍ）、　５．０５〜５．１（２Ｈ，ｍ）、　５．８
７〜５．９５（Ｉｔ（、ｍ）、　６．９７〜７．１７（
２Ｈ。
ｍ） 特許出願人　　　エーザイ株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １　一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 〔式中、Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼基また
    は▲数式、化学式、表等があります▼基を示す。 Ｒ＾１は水酸基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級ア
    ルコキシ基または保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ
    ＾２およびＲ＾３は同一または異なって低級アルキル基
    、ヒドロキシ置換低級アルキル基、カルバモイル置換低
    級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキル基を示す
    か、あるいは式：▲数式、化学式、表等があります▼で
    示される基は低級ア ルキル基、ヒドロキシ置換低級アルキル基で置換されて
    もよい窒素原子一つを含有する４〜６員複素環式基また
    はモルホリニル基を示す。Ｒ＾４はカルボキシル基また
    は保護基で保護されたカルボキシル基を示す。〕 で表わされる７−アシル−３−置換カルバモイルオキシ
    セフェム化合物又はその医薬として許容される塩。 ２　一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 〔式中、Ｒ＾２およびＲ＾３は同一または異なって低級
    アルキル基、ヒドロキシ置換低級アルキル基、カルバモ
    イル置換低級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキ
    ル基を示すか、あるいは式：▲数式、化学式、表等があ
    ります▼で示される基は低級アル キル基、ヒドロキシ置換低級アルキル基で置換されても
    よい窒素原子一つを含有する４〜６員複素環式基または
    モルホリニル基を示す。 Ｒ＾４はカルボキシル基または保護基で保護されたカル
    ボキシル基を示す。〕 で表わされる化合物あるいはそれらの塩と 式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 〔式中、Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼基また
    は▲数式、化学式、表等があります▼基を示す。 Ｒ＾１は水酸基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級ア
    ルコキシ基または保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ
    ＾５はアミノ基または保護基で保護されたアミノ基を示
    す〕 で表わされる化合物またはその反応性酸誘導体またはそ
    れらの塩を反応させ、必要によりアミノ基、水酸基また
    はカルボキシル基の保護基を脱離することを特徴とする
    請求項１記載の化合物の製造方法。 ３　式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 〔式中、Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼基また
    は▲数式、化学式、表等があります▼基を示す。 Ｒ＾１は水酸基、低級アルコキシ基、フッ素置換低級ア
    ルコキシ基または保護基で保護された水酸基を示す。Ｒ
    ＾４はカルボキシル基または保護基で保護されたカルボ
    キシル基を示す。Ｒ＾５はアミノ基または保護基で保護
    されたアミノ基を示す〕 で表わされる化合物あるいはそれらの塩を、Ｎ，Ｎ′−
    カルボニルジイミダゾールの存在下、式▲数式、化学式
    、表等があります▼〔Ｖ〕 〔式中、Ｒ＾２およびＲ＾３は同一または異なって低級
    アルキル基、ヒドロキシ置換低級アルキル基、カルバモ
    イル置換低級アルキル基、またはシアノ置換低級アルキ
    ル基を示すか、あるいは式：▲数式、化学式、表等があ
    ります▼で示される基は低級アル キル基、ヒドロキシ置換低級アルキル基で置換されても
    よい窒素原子一つを含有する４〜６員複素環式基または
    モルホリニル基を示す。〕で表わされるアミン又はその
    塩と反応させ、必要によりスルホキシド化、スルホキシ
    ドの還元を行い、アミノ基、水酸基またはカルボキシル
    基の保護基を脱離させることを特徴とする請求項１記載
    の化合物の製造方法。
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