JPH06234747A - ビフェニル誘導体 - Google Patents
ビフェニル誘導体Info
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- JPH06234747A JPH06234747A JP5316795A JP31679593A JPH06234747A JP H06234747 A JPH06234747 A JP H06234747A JP 5316795 A JP5316795 A JP 5316795A JP 31679593 A JP31679593 A JP 31679593A JP H06234747 A JPH06234747 A JP H06234747A
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- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
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- C07D233/66—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
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- C07D235/24—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
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-
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- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
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-
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- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/12—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/04—Ortho-condensed systems
-
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】一般式(I)
〔式中、Aは下記式の基、
R1はアルキル、アルケニルなど、R2はH、ハロゲン
など、R3はH、アルキルなど、Zは単結合、アルキレ
ンなど、Bはカルボキシ、保護されたカルボキシ又はテ
トラゾール−5−イルを示す〕を有するビフェニル誘導
体及びその薬理上許容される塩。 【効果】上記化合物は、すぐれたアンジオテンシンIIに
よる血圧上昇の抑制効果を有し、血圧降下剤として有用
である。
など、R3はH、アルキルなど、Zは単結合、アルキレ
ンなど、Bはカルボキシ、保護されたカルボキシ又はテ
トラゾール−5−イルを示す〕を有するビフェニル誘導
体及びその薬理上許容される塩。 【効果】上記化合物は、すぐれたアンジオテンシンIIに
よる血圧上昇の抑制効果を有し、血圧降下剤として有用
である。
Description
【0001】
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、すぐれたアンジオテン
シンII(以下、AIIと略す。)拮抗作用、血圧降下作用
を有するビフェニル誘導体に関する。
シンII(以下、AIIと略す。)拮抗作用、血圧降下作用
を有するビフェニル誘導体に関する。
【0003】
【従来の技術】生体の血圧の恒常性を保つ重要な機構の
一つに、レニン−アンジオテンシン系が知られており、
血圧が低下したり、体液中のナトリウムイオン濃度が薄
くなると、この系が活性化され、アンジオテンシノーゲ
ンが酵素レニンおよびアンジオテンシン変換酵素(以
下、ACEと略す)により順次分解され、アンジオテン
シンI(以下、AIと略す)を経て、AIIになる。AII
は強力な血管収縮性とともに、体液やナリウムイオンを
貯留するホルモン、アルドステロンの分泌を促進するの
で、この系の活性化は血圧を上昇させる。それ故に、こ
の系を抑えるレニン阻害剤、ACE阻害剤およびAII拮
抗剤は血圧降下剤として有用であり、また循環器系の改
善をもたらすことから、心疾患治療薬としても有用であ
る。現在実用化されているのはACE阻害剤だけである
が、レニン阻害剤、AII拮抗剤も盛んに研究されてい
る。その内、AII拮抗剤は古くからサララシン等のペプ
チド型の拮抗剤が知られているが、最近非ペプチド型の
拮抗剤が見出されている(例えば、特開昭56-71073号、
特開昭56-71074号、特開昭57-98270号、特開昭62-24068
3号、特開昭63-23868号および特開平1-287071号)。ま
た、比較的強い作用を示すAII拮抗剤の多くは、その構
造成分として、(2’−カルボキシビフェニル−4−イ
ル)メチル基または[2’−(テトラゾールー5ーイ
ル)ビフェニル−4−イル)メチル基を有している(例
えば、特開昭63-23868号、特開平3-501020号、特開平3-
58942 号、特開平3-63264 号、特開平3-95181 号等)。
しかし、その作用は十分なものではなく、臨床上の効果
を得るためには、さらに強力なAII拮抗薬が望まれてい
た。
一つに、レニン−アンジオテンシン系が知られており、
血圧が低下したり、体液中のナトリウムイオン濃度が薄
くなると、この系が活性化され、アンジオテンシノーゲ
ンが酵素レニンおよびアンジオテンシン変換酵素(以
下、ACEと略す)により順次分解され、アンジオテン
シンI(以下、AIと略す)を経て、AIIになる。AII
は強力な血管収縮性とともに、体液やナリウムイオンを
貯留するホルモン、アルドステロンの分泌を促進するの
で、この系の活性化は血圧を上昇させる。それ故に、こ
の系を抑えるレニン阻害剤、ACE阻害剤およびAII拮
抗剤は血圧降下剤として有用であり、また循環器系の改
善をもたらすことから、心疾患治療薬としても有用であ
る。現在実用化されているのはACE阻害剤だけである
が、レニン阻害剤、AII拮抗剤も盛んに研究されてい
る。その内、AII拮抗剤は古くからサララシン等のペプ
チド型の拮抗剤が知られているが、最近非ペプチド型の
拮抗剤が見出されている(例えば、特開昭56-71073号、
特開昭56-71074号、特開昭57-98270号、特開昭62-24068
3号、特開昭63-23868号および特開平1-287071号)。ま
た、比較的強い作用を示すAII拮抗剤の多くは、その構
造成分として、(2’−カルボキシビフェニル−4−イ
ル)メチル基または[2’−(テトラゾールー5ーイ
ル)ビフェニル−4−イル)メチル基を有している(例
えば、特開昭63-23868号、特開平3-501020号、特開平3-
58942 号、特開平3-63264 号、特開平3-95181 号等)。
しかし、その作用は十分なものではなく、臨床上の効果
を得るためには、さらに強力なAII拮抗薬が望まれてい
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、長年に
亙り、一連のビフェニル誘導体を合成し、これらの薬理
作用を検討してきた。その結果、(2’−オキザロビフ
ェニル−4−イル)メチルまたは[2’−[(テトラゾ
ールー5ーイル)カルボニルビフェニル−4−イル]メ
チル誘導体が優れたAII拮抗作用を有する化合物がある
こと、さらにこれらが血圧降下剤および心疾患治療剤と
して有用であることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
亙り、一連のビフェニル誘導体を合成し、これらの薬理
作用を検討してきた。その結果、(2’−オキザロビフ
ェニル−4−イル)メチルまたは[2’−[(テトラゾ
ールー5ーイル)カルボニルビフェニル−4−イル]メ
チル誘導体が優れたAII拮抗作用を有する化合物がある
こと、さらにこれらが血圧降下剤および心疾患治療剤と
して有用であることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0005】
【0006】
【発明を解決するための手段】本発明のビフェニルイミ
ダゾール誘導体は、一般式、
ダゾール誘導体は、一般式、
【0007】
【化3】
【0008】を有する。
【0009】上記式中、Aは、式
【0010】
【化4】
【0011】(上記式中、R1 は、C1 −C6 アルキル
基、C2 −C6 アルケニル基、C3 −C6 シクロアルキ
ル基または式 R4 −Y−R5 (式中、R4 は、水素原
子、C1 −C6 アルキル基またはC3 −C6 シクロアル
キル基を示し、R5 は、単結合またはC1 −C4 アルキ
レン基を示し、Yは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ
基(NH)を示す。)を示し、R2 は、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1 −C6 アルキル基、C2 −C6 アルケニ
ル基、C3 −C6 シクロアルキル基、水酸基、アミノ
基、モノー(C1 −C6 アルキル)アミノ基、ジー(C
1 −C6 アルキル)アミノ基、ホルミル基、C1 −C6
アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ基、C1
−C6 アルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、置換され
たC1 −C6 アルキル基(該置換基は、1乃至7個のハ
ロゲン原子、水酸基、アミノ基、モノー(C1 −C6 ア
ルキル基)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキル基)ア
ミノ基、ホルミル基、C1 −C6アルキルカルボニル
基、C1 −C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ
基、シアノ基またはニトロ基を示す。)、置換されたC
2 −C6 アルケニル基(該置換基は、1乃至3個のハロ
ゲン原子、水酸基、アミノ基、モノー(C1 −C6 アル
キル基)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキル基)アミ
ノ基、ホルミル基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、
C1 −C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基、
シアノ基またはニトロ基を示す。)または置換されたC
3 −C6 シクロアルキル基(該置換基は、1乃至3個の
ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、モノー(C1 −C6
アルキル基)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキル基)
アミノ基、ホルミル基、C1−C6 アルキルカルボニル
基、C1 −C6 アルコキシ基、C1 −C6アルキルチオ
基、シアノ基もしくはニトロ基を示す。)を示し、R3
は、水素原子、C1 −C6 アルキル基、カルボキシ基、
保護されたカルボキシ基、カルバモイル基またはテトラ
ゾール−5−イル基を示し、Xは、式 −CH= 基、
式 −N= 基または式 −C(CO2 R6 )= (式
中、R6 は、水素原子またはカルボキシ基の保護基を示
す。)を有する基を示し、Zは、単結合、C1 −C4 ア
ルキレン基またはビニレン基を示す。)を示し、Bは、
カルボキシ基、保護されたカルボキシ基またはテトラゾ
ール−5−イル基を示す。
基、C2 −C6 アルケニル基、C3 −C6 シクロアルキ
ル基または式 R4 −Y−R5 (式中、R4 は、水素原
子、C1 −C6 アルキル基またはC3 −C6 シクロアル
キル基を示し、R5 は、単結合またはC1 −C4 アルキ
レン基を示し、Yは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ
基(NH)を示す。)を示し、R2 は、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1 −C6 アルキル基、C2 −C6 アルケニ
ル基、C3 −C6 シクロアルキル基、水酸基、アミノ
基、モノー(C1 −C6 アルキル)アミノ基、ジー(C
1 −C6 アルキル)アミノ基、ホルミル基、C1 −C6
アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ基、C1
−C6 アルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、置換され
たC1 −C6 アルキル基(該置換基は、1乃至7個のハ
ロゲン原子、水酸基、アミノ基、モノー(C1 −C6 ア
ルキル基)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキル基)ア
ミノ基、ホルミル基、C1 −C6アルキルカルボニル
基、C1 −C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ
基、シアノ基またはニトロ基を示す。)、置換されたC
2 −C6 アルケニル基(該置換基は、1乃至3個のハロ
ゲン原子、水酸基、アミノ基、モノー(C1 −C6 アル
キル基)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキル基)アミ
ノ基、ホルミル基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、
C1 −C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基、
シアノ基またはニトロ基を示す。)または置換されたC
3 −C6 シクロアルキル基(該置換基は、1乃至3個の
ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、モノー(C1 −C6
アルキル基)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキル基)
アミノ基、ホルミル基、C1−C6 アルキルカルボニル
基、C1 −C6 アルコキシ基、C1 −C6アルキルチオ
基、シアノ基もしくはニトロ基を示す。)を示し、R3
は、水素原子、C1 −C6 アルキル基、カルボキシ基、
保護されたカルボキシ基、カルバモイル基またはテトラ
ゾール−5−イル基を示し、Xは、式 −CH= 基、
式 −N= 基または式 −C(CO2 R6 )= (式
中、R6 は、水素原子またはカルボキシ基の保護基を示
す。)を有する基を示し、Zは、単結合、C1 −C4 ア
ルキレン基またはビニレン基を示す。)を示し、Bは、
カルボキシ基、保護されたカルボキシ基またはテトラゾ
ール−5−イル基を示す。
【0012】R1 、R2 、R3 、R4 等のC1 −C6 ア
ルキル基は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、sec −ブチル、t−ブチル、イソブ
チル、ペンチル、2−メチルブチル、3−メチルブチ
ル、2,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、2−メチル
ペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、
3,3−ジメチルブチル、2−エチルブチル基であり
得、好適には、R1 は、C2 −C5 アルキル基(特に、
エチル、プロピルまたはブチル基)であり、R2 および
R3 は、メチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、
イソブチル、または3,3−ジメチルブチル基であり、
R3 はC1 −C4 アルキル基(特に、メチルまたはエチ
ル基)である。
ルキル基は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、sec −ブチル、t−ブチル、イソブ
チル、ペンチル、2−メチルブチル、3−メチルブチ
ル、2,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、2−メチル
ペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、
3,3−ジメチルブチル、2−エチルブチル基であり
得、好適には、R1 は、C2 −C5 アルキル基(特に、
エチル、プロピルまたはブチル基)であり、R2 および
R3 は、メチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、
イソブチル、または3,3−ジメチルブチル基であり、
R3 はC1 −C4 アルキル基(特に、メチルまたはエチ
ル基)である。
【0013】R2 のまたはR2 に含まれるモノー(C1
−C6 アルキル)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキ
ル)アミノ基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、C1
−C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基及び置
換されたC1 −C6 アルキル基のC1 −C6 アルキル部
分は、上述のC1 −C6 アルキル基と同様のものであ
り、好適には、C1 −C4 アルキル基(特に、メチルま
たはエチル基)である。
−C6 アルキル)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキ
ル)アミノ基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、C1
−C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基及び置
換されたC1 −C6 アルキル基のC1 −C6 アルキル部
分は、上述のC1 −C6 アルキル基と同様のものであ
り、好適には、C1 −C4 アルキル基(特に、メチルま
たはエチル基)である。
【0014】R2 の置換されたC1 −C6 アルキル基
(該置換基は、1乃至7個のハロゲン原子、水酸基、ア
ミノ基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ジ
ー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル基、C
1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ
基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基またはニトロ
基を示す。)の具体的な基は、例えば、トリフルオロメ
チル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピ
ル、ヒドロキシメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒ
ドロキシエチル、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル、
1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−1−メチル
プロピル、1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル、1−
エチル−1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−
2,2−ジメチルプロピル、2−エチル−1−ヒドロキ
シブチル、2−エチル−1−ヒドロキシペンチル、アミ
ノメチル、1−アミノエチル、2−アミノエチル、1−
アミノ−1−メチルエチル、1−アミノプロピル、1−
アミノ−1−メチルプロピル、1−アミノ−2−メチル
プロピル、1−アミノ−1−エチルプロピル、N−メチ
ルアミノメチル、N−エチルアミノメチル、N,N−ジ
メチルアミノメチル、N,N−ジエチルアミノメチル、
ホルミルメチル、ホルミルエチル、2−オキソプロピ
ル、2−オキソブチル、3−オキソブチル、2−オキソ
イソブチル、2−オキソペンチル、2−オキソネオペン
チル、メトキシメチル、1−メトキシエチル、2−メト
キシエチル、1−メトキシ−1−メチルエチル、1−メ
トキシプロピル、1−メトキシ−1−メチルプロピル、
1−メトキシ−2−メチルプロピル、1−エチル−1−
メトキシプロピル、1−メトキシ−2,2−ジメチルプ
ロピル、2−エチル−1−メトキシブチル、メチルチオ
メチル、エチルチオメチル、1−メチルチオエチル、2
−メチルチオエチル、シアノメチル、1−シアノエチ
ル、2−シアノエチル、ニトロメチル、1−ニトロエチ
ルまたは2−ニトロエチル基であり、好適には、トリフ
ルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヒドロキシメチ
ル、1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル、1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−
2−メチルプロピル、1−ヒドロキシ−2,2−ジメチ
ルプロピル、アミノメチル、N−メチルアミノメチル、
N,N−ジメチルアミノメチル、N,N−ジエチルアミ
ノメチル、2−オキソプロピル、2−オキソブチル、2
−オキソネオペンチル、メトキシメチルまたは1−メト
キシ−1−メチルエチル基である。
(該置換基は、1乃至7個のハロゲン原子、水酸基、ア
ミノ基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ジ
ー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル基、C
1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ
基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基またはニトロ
基を示す。)の具体的な基は、例えば、トリフルオロメ
チル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピ
ル、ヒドロキシメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒ
ドロキシエチル、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル、
1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−1−メチル
プロピル、1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル、1−
エチル−1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−
2,2−ジメチルプロピル、2−エチル−1−ヒドロキ
シブチル、2−エチル−1−ヒドロキシペンチル、アミ
ノメチル、1−アミノエチル、2−アミノエチル、1−
アミノ−1−メチルエチル、1−アミノプロピル、1−
アミノ−1−メチルプロピル、1−アミノ−2−メチル
プロピル、1−アミノ−1−エチルプロピル、N−メチ
ルアミノメチル、N−エチルアミノメチル、N,N−ジ
メチルアミノメチル、N,N−ジエチルアミノメチル、
ホルミルメチル、ホルミルエチル、2−オキソプロピ
ル、2−オキソブチル、3−オキソブチル、2−オキソ
イソブチル、2−オキソペンチル、2−オキソネオペン
チル、メトキシメチル、1−メトキシエチル、2−メト
キシエチル、1−メトキシ−1−メチルエチル、1−メ
トキシプロピル、1−メトキシ−1−メチルプロピル、
1−メトキシ−2−メチルプロピル、1−エチル−1−
メトキシプロピル、1−メトキシ−2,2−ジメチルプ
ロピル、2−エチル−1−メトキシブチル、メチルチオ
メチル、エチルチオメチル、1−メチルチオエチル、2
−メチルチオエチル、シアノメチル、1−シアノエチ
ル、2−シアノエチル、ニトロメチル、1−ニトロエチ
ルまたは2−ニトロエチル基であり、好適には、トリフ
ルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヒドロキシメチ
ル、1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル、1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−
2−メチルプロピル、1−ヒドロキシ−2,2−ジメチ
ルプロピル、アミノメチル、N−メチルアミノメチル、
N,N−ジメチルアミノメチル、N,N−ジエチルアミ
ノメチル、2−オキソプロピル、2−オキソブチル、2
−オキソネオペンチル、メトキシメチルまたは1−メト
キシ−1−メチルエチル基である。
【0015】R1 およびR2 のC2 −C6 アルケニル基
およびR2 の置換されたC2 −C6アルケニル基のC2
−C6 アルケニル部分は、例えば、エテニル、アリル,
1−プロペニル,イソプロペニル、1−ブテニル,2−
ブテニル,2−メチル−1−プロペニル,1−ペンテニ
ル,2−ペンテニル,3−メチル−2−ブテニル,1−
ヘキセニル基であり得、好適には、R1 は、C3 −C4
アルケニル基(特に、1−プロペニルまたは1−ブテニ
ル基である)であり、R2 は、C3 −C4 アルケニル基
(特に、イソプロペニルまたは2−メチル−1−プロペ
ニル基)である。
およびR2 の置換されたC2 −C6アルケニル基のC2
−C6 アルケニル部分は、例えば、エテニル、アリル,
1−プロペニル,イソプロペニル、1−ブテニル,2−
ブテニル,2−メチル−1−プロペニル,1−ペンテニ
ル,2−ペンテニル,3−メチル−2−ブテニル,1−
ヘキセニル基であり得、好適には、R1 は、C3 −C4
アルケニル基(特に、1−プロペニルまたは1−ブテニ
ル基である)であり、R2 は、C3 −C4 アルケニル基
(特に、イソプロペニルまたは2−メチル−1−プロペ
ニル基)である。
【0016】R2 の置換されたC2 −C6 アルケニル基
(該置換基は、1乃至3個のハロゲン原子、水酸基、ア
ミノ基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ジ
ー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル基、C
1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ
基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基またはニトロ
基を示す。)の具体的な基は、例えば、2,2−ジフル
オロエテニル、2,2−ジクロルエテニル、3−ヒドロ
キシ−1−プロペニル、3−ヒドロキシ−2−メチル−
1−プロペニル、3−アミノ−1−プロペニル、3−ア
ミノ−2−メチル−1−プロペニル、3−メチルアミノ
−1−プロペニル、3−メチルアミノ−2−メチル−1
−プロペニル、3−ジメチルアミノ−1−プロペニル、
3−ジメチルアミノ−2−メチル−1−プロペニル、3
−ホルミル−1−プロペニル、3−ホルミル−2−メチ
ル−1−プロペニル、3−オキソ−1−ブテニル、3−
オキソ−1−ペンテニル、3−メトキシ−1−プロペニ
ル、3−メトキシ−2−メチル−1−プロペニル、3−
メチルチオ−1−プロペニル、3−メチルチオ−2−メ
チル−1−プロペニル、3−シアノ−1−プロペニル、
3−シアノ−2−メチル−1−プロペニル、3−ニトロ
−1−プロペニルまたは2−メチル−3−ニトロ−1−
プロペニル基であり、好適には、2,2−ジフルオロエ
テニル、2,2−ジクロルエテニル、3−ヒドロキシ−
1−プロペニル、3−ヒドロキシ−2−メチル−1−プ
ロペニル、3−メトキシ−1−プロペニルまたは3−メ
トキシ−2−メチル−1−プロペニル基である。
(該置換基は、1乃至3個のハロゲン原子、水酸基、ア
ミノ基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ジ
ー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル基、C
1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ
基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基またはニトロ
基を示す。)の具体的な基は、例えば、2,2−ジフル
オロエテニル、2,2−ジクロルエテニル、3−ヒドロ
キシ−1−プロペニル、3−ヒドロキシ−2−メチル−
1−プロペニル、3−アミノ−1−プロペニル、3−ア
ミノ−2−メチル−1−プロペニル、3−メチルアミノ
−1−プロペニル、3−メチルアミノ−2−メチル−1
−プロペニル、3−ジメチルアミノ−1−プロペニル、
3−ジメチルアミノ−2−メチル−1−プロペニル、3
−ホルミル−1−プロペニル、3−ホルミル−2−メチ
ル−1−プロペニル、3−オキソ−1−ブテニル、3−
オキソ−1−ペンテニル、3−メトキシ−1−プロペニ
ル、3−メトキシ−2−メチル−1−プロペニル、3−
メチルチオ−1−プロペニル、3−メチルチオ−2−メ
チル−1−プロペニル、3−シアノ−1−プロペニル、
3−シアノ−2−メチル−1−プロペニル、3−ニトロ
−1−プロペニルまたは2−メチル−3−ニトロ−1−
プロペニル基であり、好適には、2,2−ジフルオロエ
テニル、2,2−ジクロルエテニル、3−ヒドロキシ−
1−プロペニル、3−ヒドロキシ−2−メチル−1−プ
ロペニル、3−メトキシ−1−プロペニルまたは3−メ
トキシ−2−メチル−1−プロペニル基である。
【0017】R1 、R2 およびR4 のC3 −C6 シクロ
アルキル基またはR2 の置換されたC3 −C6 シクロア
ルキル基のシクロアルキル部分は、例えば、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
基であり得、好適には、R1およびR4 は、シクロプロ
ピル基であり、R2 は、シクロペンチルまたはシクロヘ
キシル基である。
アルキル基またはR2 の置換されたC3 −C6 シクロア
ルキル基のシクロアルキル部分は、例えば、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
基であり得、好適には、R1およびR4 は、シクロプロ
ピル基であり、R2 は、シクロペンチルまたはシクロヘ
キシル基である。
【0018】R2 の置換されたC3 −C6 シクロアルキ
ル基(該置換基は、1乃至3個のハロゲン原子、水酸
基、アミノ基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ
基、ジー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル
基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アル
コキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基または
ニトロ基を示す。)の具体的な基は、例えば、1−クロ
ルシクロペンチル、1−クロルシクロヘキシル、1−ヒ
ドロキシシクロプロピル、1−ヒドロキシシクロブチ
ル、1−ヒドロキシシクロペンチル、3−ヒドロキシシ
クロペンチル、1−ヒドロキシシクロヘキシル、4−ヒ
ドロキシシクロヘキシル、1−ヒドロキシシクロヘプチ
ル、1−アミノシクロペンチル、1−アミノシクロヘキ
シル、1−(メチルアミノ)シクロペンチル、1−(メ
チルアミノ)シクロヘキシル、1−(ジメチルアミノ)
シクロペンチル、1−(ジメチルアミノ)シクロヘキシ
ル、1−ホルミルシクロペンチル、1−ホルミルシクロ
ヘキシル、1−アセチルシクロペンチル、1−アセチル
シクロヘキシル、1−メトキシシクロプロピル、1−メ
トキシシクロブチル、1−メトキシシクロペンチル、1
−メトキシシクロヘキシル、1−メチルチオシクロペン
チル、1−メチルチオシクロヘキシル、1−シアノシク
ロペンチル、1−シアノシクロヘキシル、1−ニトロシ
クロペンチルまたは1−ニトロシクロヘキシル基であ
り、好適には、1−ヒドロキシシクロペンチル、1−ヒ
ドロキシシクロヘキシル、1−メトキシシクロペンチル
または1−メトキシシクロヘキシル基である。
ル基(該置換基は、1乃至3個のハロゲン原子、水酸
基、アミノ基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ
基、ジー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル
基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アル
コキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基または
ニトロ基を示す。)の具体的な基は、例えば、1−クロ
ルシクロペンチル、1−クロルシクロヘキシル、1−ヒ
ドロキシシクロプロピル、1−ヒドロキシシクロブチ
ル、1−ヒドロキシシクロペンチル、3−ヒドロキシシ
クロペンチル、1−ヒドロキシシクロヘキシル、4−ヒ
ドロキシシクロヘキシル、1−ヒドロキシシクロヘプチ
ル、1−アミノシクロペンチル、1−アミノシクロヘキ
シル、1−(メチルアミノ)シクロペンチル、1−(メ
チルアミノ)シクロヘキシル、1−(ジメチルアミノ)
シクロペンチル、1−(ジメチルアミノ)シクロヘキシ
ル、1−ホルミルシクロペンチル、1−ホルミルシクロ
ヘキシル、1−アセチルシクロペンチル、1−アセチル
シクロヘキシル、1−メトキシシクロプロピル、1−メ
トキシシクロブチル、1−メトキシシクロペンチル、1
−メトキシシクロヘキシル、1−メチルチオシクロペン
チル、1−メチルチオシクロヘキシル、1−シアノシク
ロペンチル、1−シアノシクロヘキシル、1−ニトロシ
クロペンチルまたは1−ニトロシクロヘキシル基であ
り、好適には、1−ヒドロキシシクロペンチル、1−ヒ
ドロキシシクロヘキシル、1−メトキシシクロペンチル
または1−メトキシシクロヘキシル基である。
【0019】R2 のハロゲン原子は、例えば、弗素、塩
素、臭素、沃素原子であり得、好適には、弗素、塩素ま
たは臭素原子であり、さらに好適には、弗素または塩素
原子である。
素、臭素、沃素原子であり得、好適には、弗素、塩素ま
たは臭素原子であり、さらに好適には、弗素または塩素
原子である。
【0020】R5 およびZのC1 −C4 アルキレン基
は、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テト
ラメチレン、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、
イソブチリデン基であり得、好適には、C1 −C2 アル
キレン基(特に、メチレン基)である。
は、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テト
ラメチレン、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、
イソブチリデン基であり得、好適には、C1 −C2 アル
キレン基(特に、メチレン基)である。
【0021】R3 、R6 またはBにおけるカルボキシ基
の保護基は、有機合成化学において一般に広く知られて
いる保護基または薬理学的に生体内においてカルボキシ
基に変換し得るエステル残基を意味する。そのような保
護基としては、前述したC1−C6 アルキル基、C1 −
C6 ハロゲノアルキル基(例えば、トリフルオロメチ
ル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,2−ト
リクロルエチル、2−フルオロエチル、2−クロルエチ
ル、2−ヨードエチル、3−クロルプロピル、4−フル
オロブチル、6−ヨードヘキシル等、好適には、2,
2,2−トリクロルエチル、2−クロルエチル)、C1
−C6 ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシ
エチル、2,3−ジヒドロキシプロピル、3−ヒドロキ
シプロピル、3,4−ジヒドロキシブチル、4−ヒドロ
キシブチル等、好適には、2−ヒドロキシエチル)、C
1 −C6 アルコキシアルキル基もしくは(C1 −C6 ア
ルコキシ)C1 −C6 アルコキシアルキル基(例えば、
メトキシメチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエ
チル、2−メトキシエトキシメチル等、好適には、メト
キシメチル)、フェナシル基、(C1 −C6 アルコキシ
カルボニル)C1 −C6アルキル基(例えば、メトキシ
カルボニルメチル等)、C1 −C6 シアノアルキル基
(例えば、シアノメチル、2−シアノエチル等)、C1
−C6 アルキルチオメチル基(例えば、メチルチオメチ
ル、エチルチオメチル等)、C6 −C10アリールチオメ
チル基(例えば、フェニルチオメチル、ナフチルチオメ
チル等)、ハロゲンで置換されてもよい(C1 −C6 ア
ルキルスルホニル)C1 −C6 アルキル基(例えば、2
−メタンスルホニルエチル、2−トリフルオロメタンス
ルホニルエチル基等)、(C6 −C13アリールスルホニ
ル)C1 −C6 アルキル基(例えば、2−ベンゼンスル
ホニルエチル、2−トルエンスルホニルエチル基等)、
C7 −C13アラルキル基(例えば、ベンジル、ジフェニ
ルメチル、ナフチルメチル基等)、C6 −C10アリール
基(例えば、フェニル、ナフチル基等)、(C1−C6
アルカノイルオキシ)C1 −C6 アルキル基(例えば、
ホルミルオキシメチル、アセトキシメチル、プロピオニ
ルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキ
シメチル、ヘキサノイルオキシメチル、1−ホルミルオ
キシエチル、1−アセトキシエチル、1−プロピオニル
オキシエチル、1−ブチリルオキシエチル、1−ピバロ
イルオキシエチル、1−バレリルオキシエチル、1−イ
ソバレリルオキシエチル、1−ヘキサノイルオキシエチ
ル、2−ホルミルオキシエチル、2−アセトキシエチ
ル、2−プロピオニルオキシエチル、2−ブチリルオキ
シエチル、2−ピバロイルオキシエチル、2−バレリル
オキシエチル、2−イソバレリルオキシエチル、2−ヘ
キサノイルオキシエチル、1−ホルミルオキシプロピ
ル、1−アセトキシプロピル、1−プロピオニルオキシ
プロピル、1−ブチリルオキシプロピル、1−ピバロイ
ルオキシプロピル、1−バレリルオキシプロピル、1−
イソバレリルオキシプロピル、1−ヘキサノイルオキシ
プロピル、1−アセトキシブチル、1−プロピオニルオ
キシブチル、1−ブチリルオキシブチル、1−ピバロイ
ルオキシブチル、1−アセトキシペンチル、1−プロピ
オニルオキシペンチル、1−ブチリルオキシペンチル、
1−ピバロイルオキシペンチル、1−ピバロイルオキシ
ヘキシル基等、好適には、ホルミルオキシメチル、アセ
トキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオ
キシメチル、ピバロイルオキシメチル、1−ホルミルオ
キシエチル、1−アセトキシエチル、1−プロピオニル
オキシエチル、1−ブチリルオキシエチル、1−ピバロ
イルオキシエチル、さらに好適には、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、1−アセトキシエチル、
1−プロピオニルオキシエチル、1−ブチリルオキシエ
チル、1−ピバロイルオキシエチル基、特に好適には、
ピバロイルオキシメチル、1−ピバロイルオキシエチル
基)、(C6 −C7 シクロアルカンカルボニルオキシ)
C1 −C6 アルキル基(例えば、シクロペンタンカルボ
ニルオキシメチル、シクロヘキサンカルボニルオキシメ
チル、1−シクロペンタンカルボニルオキシエチル、1
−シクロヘキサンカルボニルオキシエチル、1−シクロ
ペンタンカルボニルオキシプロピル、1−シクロヘキサ
ンカルボニルオキシプロピル、1−シクロペンタンカル
ボニルオキシブチル、1−シクロヘキサンカルボニルオ
キシブチル基、好適には、シクロペンタンカルボニルオ
キシメチル、シクロヘキサンカルボニルオキシメチル、
1−シクロペンタンカルボニルオキシエチル、1−シク
ロヘキサンカルボニルオキシエチル基)、(C1 −C6
アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C6 アルキル基
(例えば、メトキシカルボニルオキシメチル、エトキシ
カルボニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシ
メチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、ブト
キシカルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボニル
オキシメチル、ペンチルオキシカルボニルオキシメチ
ル、ヘキシルオキシカルボニルオキシメチル、1−メト
キシカルボニルオキシエチル、1−エトキシカルボニル
オキシエチル、1−プロポキシカルボニルオキシエチ
ル、1−イソプロポキシカルボニルオキシエチル、1−
ブトキシカルボニルオキシエチル、1−イソブトキシカ
ルボニルオキシエチル、1−ペンチルオキシカルボニル
オキシエチル、1−ヘキシルオキシカルボニルオキシエ
チル、2−メトキシカルボニルオキシエチル、2−エト
キシカルボニルオキシエチル、2−プロポキシカルボニ
ルオキシエチル、2−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチル、2−ブトキシカルボニルオキシエチル、2−イ
ソブトキシカルボニルオキシエチル、2−ペンチルオキ
シカルボニルオキシエチル、2−ヘキシルオキシカルボ
ニルオキシエチル、1−メトキシカルボニルオキシプロ
ピル、1−エトキシカルボニルオキシプロピル、1−プ
ロポキシカルボニルオキシプロピル、1−イソプロポキ
シカルボニルオキシプロピル、1−ブトキシカルボニル
オキシプロピル、1−イソブトキシカルボニルオキシプ
ロピル、1−ペンチルオキシカルボニルオキシプロピ
ル、1−ヘキシルオキシカルボニルオキシプロピル、1
−メトキシカルボニルオキシブチル、1−エトキシカル
ボニルオキシブチル、1−プロポキシカルボニルオキシ
ブチル、1−イソプロポキシカルボニルオキシブチル、
1−ブトキシカルボニルオキシブチル、1−イソブトキ
シカルボニルオキシブチル、1−メトキシカルボニルオ
キシペンチル、1−エトキシカルボニルオキシペンチ
ル、1−メトキシカルボニルオキシヘキシル、1−エト
キシカルボニルオキシヘキシル基等、好適には、メトキ
シカルボニルオキシメチル、エトキシカルボニルオキシ
メチル、プロポキシカルボニルオキシメチル、イソプロ
ポキシカルボニルオキシメチル、ブトキシカルボニルオ
キシメチル、イソブトキシカルボニルオキシメチル、1
−メトキシカルボニルオキシエチル、1−エトキシカル
ボニルオキシエチル、1−プロポキシカルボニルオキシ
エチル、1−イソプロポキシカルボニルオキシエチル、
1−ブトキシカルボニルオキシエチル、1−イソブトキ
シカルボニルオキシエチル、1−メトキシカルボニルオ
キシプロピル、1−エトキシカルボニルオキシプロピ
ル、1−プロポキシカルボニルオキシプロピル、1−イ
ソプロポキシカルボニルオキシプロピル、1−ブトキシ
カルボニルオキシプロピル、1−イソブトキシカルボニ
ルオキシプロピル、1−メトキシカルボニルオキシブチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシブチル、1−プロポ
キシカルボニルオキシブチル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシブチル、1−ブトキシカルボニルオキシブ
チル、1−イソブトキシカルボニルオキシブチル基、さ
らに好適には、メトキシカルボニルオキシメチル、エト
キシカルボニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオ
キシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、
ブトキシカルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボ
ニルオキシメチル、1−メトキシカルボニルオキシエチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−プロポ
キシカルボニルオキシエチル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチル、1−ブトキシカルボニルオキシエ
チル、1−イソブトキシカルボニルオキシエチル基、特
に好適には、メトキシカルボニルオキシメチル、エトキ
シカルボニルオキシメチル、イソプロポキシカルボニル
オキシメチル、1−メトキシカルボニルオキシエチル、
1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−イソプロポ
キシカルボニルオキシエチル基)、(C5 −C6 シクロ
アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C6 アルキル基
(例えば、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル、1
−シクロペンチルオキシカルボニルオキシエチル、1−
シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエチル、1−シ
クロペンチルオキシカルボニルオキシプロピル、1−シ
クロヘキシルオキシカルボニルオキシプロピル、1−シ
クロペンチルオキシカルボニルオキシブチル、1−シク
ロヘキシルオキシカルボニルオキシブチル基、好適に
は、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチル、シ
クロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル、1−シク
ロペンチルオキシカルボニルオキシエチル、1−シクロ
ヘキシルオキシカルボニルオキシエチル基)、[5−
(C6 −C10アリール−もしくは5−(C1 −C6 アル
キル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル]メチル基[例えば、(5−フェニル−2−オキソ−
1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、[5−(4
−メチルフェニル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレ
ン−4−イル]メチル、[5−(4−メトキシフェニ
ル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル]
メチル、[5−(4−フルオロフェニル)−2−オキソ
−1,3−ジオキソレン−4−イル]メチル、[5−
(4−クロロフェニル)−2−オキソ−1,3−ジオキ
ソレン−4−イル]メチル、(5−メチル−2−オキソ
−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、(5−エ
チル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)
メチル、(5−プロピル−2−オキソ−1,3−ジオキ
ソレン−4−イル)メチル、(5−イソプロピル−2−
オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、
(5−ブチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4
−イル)メチル基等、好適には、5−フェニル−2−オ
キソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、(5
−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル)メチル、(5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオ
キソレン−4−イル)メチル基、特に好適には、(5−
メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル)メチル基]またはフタリジル基があげられる。な
お、上記保護基に含まれるアリール環上には、置換基を
有してもよく、それらは、前述したC1 −C6 アルキ
ル、C1 −C6 アルコキシまたはハロゲンである。
の保護基は、有機合成化学において一般に広く知られて
いる保護基または薬理学的に生体内においてカルボキシ
基に変換し得るエステル残基を意味する。そのような保
護基としては、前述したC1−C6 アルキル基、C1 −
C6 ハロゲノアルキル基(例えば、トリフルオロメチ
ル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,2−ト
リクロルエチル、2−フルオロエチル、2−クロルエチ
ル、2−ヨードエチル、3−クロルプロピル、4−フル
オロブチル、6−ヨードヘキシル等、好適には、2,
2,2−トリクロルエチル、2−クロルエチル)、C1
−C6 ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシ
エチル、2,3−ジヒドロキシプロピル、3−ヒドロキ
シプロピル、3,4−ジヒドロキシブチル、4−ヒドロ
キシブチル等、好適には、2−ヒドロキシエチル)、C
1 −C6 アルコキシアルキル基もしくは(C1 −C6 ア
ルコキシ)C1 −C6 アルコキシアルキル基(例えば、
メトキシメチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエ
チル、2−メトキシエトキシメチル等、好適には、メト
キシメチル)、フェナシル基、(C1 −C6 アルコキシ
カルボニル)C1 −C6アルキル基(例えば、メトキシ
カルボニルメチル等)、C1 −C6 シアノアルキル基
(例えば、シアノメチル、2−シアノエチル等)、C1
−C6 アルキルチオメチル基(例えば、メチルチオメチ
ル、エチルチオメチル等)、C6 −C10アリールチオメ
チル基(例えば、フェニルチオメチル、ナフチルチオメ
チル等)、ハロゲンで置換されてもよい(C1 −C6 ア
ルキルスルホニル)C1 −C6 アルキル基(例えば、2
−メタンスルホニルエチル、2−トリフルオロメタンス
ルホニルエチル基等)、(C6 −C13アリールスルホニ
ル)C1 −C6 アルキル基(例えば、2−ベンゼンスル
ホニルエチル、2−トルエンスルホニルエチル基等)、
C7 −C13アラルキル基(例えば、ベンジル、ジフェニ
ルメチル、ナフチルメチル基等)、C6 −C10アリール
基(例えば、フェニル、ナフチル基等)、(C1−C6
アルカノイルオキシ)C1 −C6 アルキル基(例えば、
ホルミルオキシメチル、アセトキシメチル、プロピオニ
ルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキ
シメチル、ヘキサノイルオキシメチル、1−ホルミルオ
キシエチル、1−アセトキシエチル、1−プロピオニル
オキシエチル、1−ブチリルオキシエチル、1−ピバロ
イルオキシエチル、1−バレリルオキシエチル、1−イ
ソバレリルオキシエチル、1−ヘキサノイルオキシエチ
ル、2−ホルミルオキシエチル、2−アセトキシエチ
ル、2−プロピオニルオキシエチル、2−ブチリルオキ
シエチル、2−ピバロイルオキシエチル、2−バレリル
オキシエチル、2−イソバレリルオキシエチル、2−ヘ
キサノイルオキシエチル、1−ホルミルオキシプロピ
ル、1−アセトキシプロピル、1−プロピオニルオキシ
プロピル、1−ブチリルオキシプロピル、1−ピバロイ
ルオキシプロピル、1−バレリルオキシプロピル、1−
イソバレリルオキシプロピル、1−ヘキサノイルオキシ
プロピル、1−アセトキシブチル、1−プロピオニルオ
キシブチル、1−ブチリルオキシブチル、1−ピバロイ
ルオキシブチル、1−アセトキシペンチル、1−プロピ
オニルオキシペンチル、1−ブチリルオキシペンチル、
1−ピバロイルオキシペンチル、1−ピバロイルオキシ
ヘキシル基等、好適には、ホルミルオキシメチル、アセ
トキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオ
キシメチル、ピバロイルオキシメチル、1−ホルミルオ
キシエチル、1−アセトキシエチル、1−プロピオニル
オキシエチル、1−ブチリルオキシエチル、1−ピバロ
イルオキシエチル、さらに好適には、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、1−アセトキシエチル、
1−プロピオニルオキシエチル、1−ブチリルオキシエ
チル、1−ピバロイルオキシエチル基、特に好適には、
ピバロイルオキシメチル、1−ピバロイルオキシエチル
基)、(C6 −C7 シクロアルカンカルボニルオキシ)
C1 −C6 アルキル基(例えば、シクロペンタンカルボ
ニルオキシメチル、シクロヘキサンカルボニルオキシメ
チル、1−シクロペンタンカルボニルオキシエチル、1
−シクロヘキサンカルボニルオキシエチル、1−シクロ
ペンタンカルボニルオキシプロピル、1−シクロヘキサ
ンカルボニルオキシプロピル、1−シクロペンタンカル
ボニルオキシブチル、1−シクロヘキサンカルボニルオ
キシブチル基、好適には、シクロペンタンカルボニルオ
キシメチル、シクロヘキサンカルボニルオキシメチル、
1−シクロペンタンカルボニルオキシエチル、1−シク
ロヘキサンカルボニルオキシエチル基)、(C1 −C6
アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C6 アルキル基
(例えば、メトキシカルボニルオキシメチル、エトキシ
カルボニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシ
メチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、ブト
キシカルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボニル
オキシメチル、ペンチルオキシカルボニルオキシメチ
ル、ヘキシルオキシカルボニルオキシメチル、1−メト
キシカルボニルオキシエチル、1−エトキシカルボニル
オキシエチル、1−プロポキシカルボニルオキシエチ
ル、1−イソプロポキシカルボニルオキシエチル、1−
ブトキシカルボニルオキシエチル、1−イソブトキシカ
ルボニルオキシエチル、1−ペンチルオキシカルボニル
オキシエチル、1−ヘキシルオキシカルボニルオキシエ
チル、2−メトキシカルボニルオキシエチル、2−エト
キシカルボニルオキシエチル、2−プロポキシカルボニ
ルオキシエチル、2−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチル、2−ブトキシカルボニルオキシエチル、2−イ
ソブトキシカルボニルオキシエチル、2−ペンチルオキ
シカルボニルオキシエチル、2−ヘキシルオキシカルボ
ニルオキシエチル、1−メトキシカルボニルオキシプロ
ピル、1−エトキシカルボニルオキシプロピル、1−プ
ロポキシカルボニルオキシプロピル、1−イソプロポキ
シカルボニルオキシプロピル、1−ブトキシカルボニル
オキシプロピル、1−イソブトキシカルボニルオキシプ
ロピル、1−ペンチルオキシカルボニルオキシプロピ
ル、1−ヘキシルオキシカルボニルオキシプロピル、1
−メトキシカルボニルオキシブチル、1−エトキシカル
ボニルオキシブチル、1−プロポキシカルボニルオキシ
ブチル、1−イソプロポキシカルボニルオキシブチル、
1−ブトキシカルボニルオキシブチル、1−イソブトキ
シカルボニルオキシブチル、1−メトキシカルボニルオ
キシペンチル、1−エトキシカルボニルオキシペンチ
ル、1−メトキシカルボニルオキシヘキシル、1−エト
キシカルボニルオキシヘキシル基等、好適には、メトキ
シカルボニルオキシメチル、エトキシカルボニルオキシ
メチル、プロポキシカルボニルオキシメチル、イソプロ
ポキシカルボニルオキシメチル、ブトキシカルボニルオ
キシメチル、イソブトキシカルボニルオキシメチル、1
−メトキシカルボニルオキシエチル、1−エトキシカル
ボニルオキシエチル、1−プロポキシカルボニルオキシ
エチル、1−イソプロポキシカルボニルオキシエチル、
1−ブトキシカルボニルオキシエチル、1−イソブトキ
シカルボニルオキシエチル、1−メトキシカルボニルオ
キシプロピル、1−エトキシカルボニルオキシプロピ
ル、1−プロポキシカルボニルオキシプロピル、1−イ
ソプロポキシカルボニルオキシプロピル、1−ブトキシ
カルボニルオキシプロピル、1−イソブトキシカルボニ
ルオキシプロピル、1−メトキシカルボニルオキシブチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシブチル、1−プロポ
キシカルボニルオキシブチル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシブチル、1−ブトキシカルボニルオキシブ
チル、1−イソブトキシカルボニルオキシブチル基、さ
らに好適には、メトキシカルボニルオキシメチル、エト
キシカルボニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオ
キシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、
ブトキシカルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボ
ニルオキシメチル、1−メトキシカルボニルオキシエチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−プロポ
キシカルボニルオキシエチル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチル、1−ブトキシカルボニルオキシエ
チル、1−イソブトキシカルボニルオキシエチル基、特
に好適には、メトキシカルボニルオキシメチル、エトキ
シカルボニルオキシメチル、イソプロポキシカルボニル
オキシメチル、1−メトキシカルボニルオキシエチル、
1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−イソプロポ
キシカルボニルオキシエチル基)、(C5 −C6 シクロ
アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C6 アルキル基
(例えば、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル、1
−シクロペンチルオキシカルボニルオキシエチル、1−
シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエチル、1−シ
クロペンチルオキシカルボニルオキシプロピル、1−シ
クロヘキシルオキシカルボニルオキシプロピル、1−シ
クロペンチルオキシカルボニルオキシブチル、1−シク
ロヘキシルオキシカルボニルオキシブチル基、好適に
は、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチル、シ
クロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル、1−シク
ロペンチルオキシカルボニルオキシエチル、1−シクロ
ヘキシルオキシカルボニルオキシエチル基)、[5−
(C6 −C10アリール−もしくは5−(C1 −C6 アル
キル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル]メチル基[例えば、(5−フェニル−2−オキソ−
1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、[5−(4
−メチルフェニル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレ
ン−4−イル]メチル、[5−(4−メトキシフェニ
ル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル]
メチル、[5−(4−フルオロフェニル)−2−オキソ
−1,3−ジオキソレン−4−イル]メチル、[5−
(4−クロロフェニル)−2−オキソ−1,3−ジオキ
ソレン−4−イル]メチル、(5−メチル−2−オキソ
−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、(5−エ
チル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)
メチル、(5−プロピル−2−オキソ−1,3−ジオキ
ソレン−4−イル)メチル、(5−イソプロピル−2−
オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、
(5−ブチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4
−イル)メチル基等、好適には、5−フェニル−2−オ
キソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル、(5
−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル)メチル、(5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオ
キソレン−4−イル)メチル基、特に好適には、(5−
メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ
ル)メチル基]またはフタリジル基があげられる。な
お、上記保護基に含まれるアリール環上には、置換基を
有してもよく、それらは、前述したC1 −C6 アルキ
ル、C1 −C6 アルコキシまたはハロゲンである。
【0022】好適な保護基としては、C1 −C4 アルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、メチル、
エチル、メトキシ、エトキシ、フルオロもしくはクロロ
で置換されたベンジル基、ジフェニルメチル基、ナフチ
ルメチル基、(C1 −C5 アルカノイルオキシ)C1 −
C4 アルキル基、(C6 −C7 シクロアルカンカルボニ
ルオキシ)C1 −C4 アルキル基、(C1 −C4 アルコ
キシカルボニルオキシ)C1 −C4 アルキル基、(C5
−C6 シクロアルコキシカルボニルオキシ)C1 −C4
アルキル基、[5−フェニル−もしくは5−(C1 −C
4 アルキル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4
−イル]メチル基またはフタリジル基であり、さらに好
適には、C1 −C4 アルキル基、ベンジル基、(C1 −
C5 アルカノイルオキシ)C1 −C2 アルキル基、(C
6 −C7 シクロアルカンカルボニルオキシ)C1 −C2
アルキル基、(C1 −C4 アルコキシカルボニルオキ
シ)C1 −C2 アルキル基、(C5 −C6 シクロアルコ
キシカルボニルオキシ)C1 −C2 アルキル基、[5−
フェニル−もしくは5−(C1 −C2 アルキル)−2−
オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル]メチル基ま
たはフタリジル基であり、さらにより好適には、(C2
−C5 アルカノイルオキシ)C1 −C2 アルキル基、
(C1 −C4 アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C2
アルキル基、(C5 −C6 シクロアルコキシカルボニル
オキシ)C1 −C2 アルキル基または(5−メチル−2
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル]メチル基
であり、特に好適には、アセトキシメチル基、ピバロイ
ルオキシメチル基、エトキシカルボニルオキシメチル
基、1−(エトキシカルボニルオキシ)エチル基、イソ
プロポキシカルボニルオキシメチル基、1−(イソプロ
ポキシカルボニルオキシ)エチル基、シクロヘキシルオ
キシカルボニルオキシメチル基、1−(シクロヘキシル
オキシカルボニルオキシ)エチル基または(5−メチル
−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチ
ル基である。
ル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、メチル、
エチル、メトキシ、エトキシ、フルオロもしくはクロロ
で置換されたベンジル基、ジフェニルメチル基、ナフチ
ルメチル基、(C1 −C5 アルカノイルオキシ)C1 −
C4 アルキル基、(C6 −C7 シクロアルカンカルボニ
ルオキシ)C1 −C4 アルキル基、(C1 −C4 アルコ
キシカルボニルオキシ)C1 −C4 アルキル基、(C5
−C6 シクロアルコキシカルボニルオキシ)C1 −C4
アルキル基、[5−フェニル−もしくは5−(C1 −C
4 アルキル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4
−イル]メチル基またはフタリジル基であり、さらに好
適には、C1 −C4 アルキル基、ベンジル基、(C1 −
C5 アルカノイルオキシ)C1 −C2 アルキル基、(C
6 −C7 シクロアルカンカルボニルオキシ)C1 −C2
アルキル基、(C1 −C4 アルコキシカルボニルオキ
シ)C1 −C2 アルキル基、(C5 −C6 シクロアルコ
キシカルボニルオキシ)C1 −C2 アルキル基、[5−
フェニル−もしくは5−(C1 −C2 アルキル)−2−
オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル]メチル基ま
たはフタリジル基であり、さらにより好適には、(C2
−C5 アルカノイルオキシ)C1 −C2 アルキル基、
(C1 −C4 アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C2
アルキル基、(C5 −C6 シクロアルコキシカルボニル
オキシ)C1 −C2 アルキル基または(5−メチル−2
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル]メチル基
であり、特に好適には、アセトキシメチル基、ピバロイ
ルオキシメチル基、エトキシカルボニルオキシメチル
基、1−(エトキシカルボニルオキシ)エチル基、イソ
プロポキシカルボニルオキシメチル基、1−(イソプロ
ポキシカルボニルオキシ)エチル基、シクロヘキシルオ
キシカルボニルオキシメチル基、1−(シクロヘキシル
オキシカルボニルオキシ)エチル基または(5−メチル
−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチ
ル基である。
【0023】本発明の化合物(I)は、常法に従って酸
と処理することまたは化合物(I)において、R3 およ
び/またはB等がカルボキシ基またはテトラゾリル基で
ある場合には、塩基で処理することにより、それぞれ相
当する薬理上許容し得る塩に変えることができる。この
ような酸付加塩の例としては、塩酸,臭化水素酸,硫
酸,リン酸等の無機酸,マレイン酸,フマル酸,酒石
酸,クエン酸等の有機酸等による付加塩があげられ、塩
基による塩としては、水酸化ナトリウム,水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム,水酸
化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、グアニ
ジン,トリエチルアミン,ジシクロヘキシルアミン等の
有機塩基による塩があげられる。
と処理することまたは化合物(I)において、R3 およ
び/またはB等がカルボキシ基またはテトラゾリル基で
ある場合には、塩基で処理することにより、それぞれ相
当する薬理上許容し得る塩に変えることができる。この
ような酸付加塩の例としては、塩酸,臭化水素酸,硫
酸,リン酸等の無機酸,マレイン酸,フマル酸,酒石
酸,クエン酸等の有機酸等による付加塩があげられ、塩
基による塩としては、水酸化ナトリウム,水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム,水酸
化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、グアニ
ジン,トリエチルアミン,ジシクロヘキシルアミン等の
有機塩基による塩があげられる。
【0024】更に、化合物(I)の分子内に不斉炭素が
存在する場合は、ラセミ体および光学活性体を包含す
る。
存在する場合は、ラセミ体および光学活性体を包含す
る。
【0025】一般式(I)を有する化合物において、好
適には、 (1)Aが式(IIa) を有し、(i) R1 がC2 −C4 アル
キル基、C3 −C5 アルケニル基、(C1 −C3 アルコ
キシ)−(C1 −C2 アルキレン)基、(C1 −C3 ア
ルキルチオ)−(C1 −C2 アルキレン)基またはC1
−C3 アルキルチオ基である化合物、(ii)R2 が、水素
原子、ハロゲン原子、C1 −C6 アルキル基、C3 −C
6 アルケニル基またはハロゲン原子もしくは水酸基で置
換されたC1 −C6 アルキル基である化合物、(iii)R3
カルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カルバモイ
ル基またはテトラゾール−5−イル基である化合物、(i
v) Zが単結合、メチレン基またはビニレン基である化
合物、 (2)Aが式(IIb) を有し、(i) R1 がC2 −C4 アル
キル基、シクロプロピル基、(C1 −C3 アルコキシ)
−(C1 −C2 アルキレン)基、(C1 −C3 アルキル
チオ)−(C1 −C2 アルキレン)基、C1 −C3 アル
コキシ基またはC1 −C3 アルキルチオ基である化合
物、(ii)R2 が、水素原子、ハロゲン原子またはC1 −
C4 アルキル基である化合物、(iii)R3 が、水素原
子、C1 −C4 アルキル基、カルボキシ基、保護された
カルボキシ基またはテトラゾール−5−イル基である化
合物、(iv) Xが、式 −CH=基、式 −N=基 ま
たは式 −C(CO2 R6 )=(式中、R6 は、水素原
子またはカルボキシ基の保護基を示す。)である化合
物、(v)Zが単結合、メチレン基またはビニレン基であ
る化合物、 (3)Aが式(IIc) を有し、(i) R1 がC2 −C4 アル
キル基、(C1 −C3 アルコキシ)−エチル基または
(C1 −C3 アルキルチオ)エチル基である化合物、(i
i)R2 が、水素原子、ハロゲン原子またはC1 −C4 ア
ルキル基である化合物、(iii)R3 が、水素原子、C1
−C4 アルキル基、カルボキシ基、保護されたカルボキ
シ基またはテトラゾール−5−イル基である化合物、(i
v) Xが、式 −CH=基または式 −N=基である化
合物、(v)Zが単結合、メチレン基またはビニレン基で
ある化合物、 (4)保護されたカルボキシ基の保護基が、(C2 −C
5 アルカノイルオキシ)C1 −C2 アルキル基、(C1
−C4 アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C2アルキ
ル基、(C5 −C6 シクロアルコキシカルボニルオキ
シ)C1 −C2 アルキル基または(5−メチル−2−オ
キソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル基であ
る化合物、 (5)Bが、カルボキシ基またはテトラゾール−5−イ
ル基である化合物、をあげることができる。
適には、 (1)Aが式(IIa) を有し、(i) R1 がC2 −C4 アル
キル基、C3 −C5 アルケニル基、(C1 −C3 アルコ
キシ)−(C1 −C2 アルキレン)基、(C1 −C3 ア
ルキルチオ)−(C1 −C2 アルキレン)基またはC1
−C3 アルキルチオ基である化合物、(ii)R2 が、水素
原子、ハロゲン原子、C1 −C6 アルキル基、C3 −C
6 アルケニル基またはハロゲン原子もしくは水酸基で置
換されたC1 −C6 アルキル基である化合物、(iii)R3
カルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カルバモイ
ル基またはテトラゾール−5−イル基である化合物、(i
v) Zが単結合、メチレン基またはビニレン基である化
合物、 (2)Aが式(IIb) を有し、(i) R1 がC2 −C4 アル
キル基、シクロプロピル基、(C1 −C3 アルコキシ)
−(C1 −C2 アルキレン)基、(C1 −C3 アルキル
チオ)−(C1 −C2 アルキレン)基、C1 −C3 アル
コキシ基またはC1 −C3 アルキルチオ基である化合
物、(ii)R2 が、水素原子、ハロゲン原子またはC1 −
C4 アルキル基である化合物、(iii)R3 が、水素原
子、C1 −C4 アルキル基、カルボキシ基、保護された
カルボキシ基またはテトラゾール−5−イル基である化
合物、(iv) Xが、式 −CH=基、式 −N=基 ま
たは式 −C(CO2 R6 )=(式中、R6 は、水素原
子またはカルボキシ基の保護基を示す。)である化合
物、(v)Zが単結合、メチレン基またはビニレン基であ
る化合物、 (3)Aが式(IIc) を有し、(i) R1 がC2 −C4 アル
キル基、(C1 −C3 アルコキシ)−エチル基または
(C1 −C3 アルキルチオ)エチル基である化合物、(i
i)R2 が、水素原子、ハロゲン原子またはC1 −C4 ア
ルキル基である化合物、(iii)R3 が、水素原子、C1
−C4 アルキル基、カルボキシ基、保護されたカルボキ
シ基またはテトラゾール−5−イル基である化合物、(i
v) Xが、式 −CH=基または式 −N=基である化
合物、(v)Zが単結合、メチレン基またはビニレン基で
ある化合物、 (4)保護されたカルボキシ基の保護基が、(C2 −C
5 アルカノイルオキシ)C1 −C2 アルキル基、(C1
−C4 アルコキシカルボニルオキシ)C1 −C2アルキ
ル基、(C5 −C6 シクロアルコキシカルボニルオキ
シ)C1 −C2 アルキル基または(5−メチル−2−オ
キソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル基であ
る化合物、 (5)Bが、カルボキシ基またはテトラゾール−5−イ
ル基である化合物、をあげることができる。
【0026】さらに好適には、 (6)Aが式(IIa) を有し、(i) R1 がエチル、プロピ
ル、ブチル、1−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテ
ニル、メトキシメチル、エトキシメチル、メチルチオメ
チル、エチルチオメチル、メチルチオまたはエチルチオ
基である化合物、(ii)R2 が、塩素原子、臭素原子、メ
チル、エチル、イソプロピル、イソプロペニル、トリフ
ルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヒドロキシメチ
ル、1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル、1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−
1−メチルプロピル、1−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピルまたは1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピル
基である化合物、(iii)R3 カルボキシ基、保護された
カルボキシ基、カルバモイル基またはテトラゾール−5
−イル基である化合物、(iv) Zが単結合またはメチレ
ン基である化合物、 (7)Aが式(IIb) を有し、(i) R1 がエチル、プロピ
ル、シクロプロピル、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、メチルチオまたはエチルチオ基である化合物、(ii)
R2 が、水素原子、弗素原子、塩素原子、メチル、エチ
ルまたはイソプロピル基である化合物、(iii)R3 が、
水素原子、メチル、エチル、カルボキシ、保護されたカ
ルボキシまたはテトラゾール−5−イル基である化合
物、(iv) Xが、式 −CH=基、式 −N=基 また
は式 −C(CO2 R6 )=(式中、R6 は、水素原子
またはカルボキシ基の保護基を示す。)である化合物、
(v)Zが単結合またはメチレン基ある化合物、 (8)Aが式(IIc) を有し、(i) R1 がエチル、プロピ
ル、ブチル、2−メトキシエチルまたは2−メチルチオ
エチル基である化合物、(ii)R2 が、水素原子、弗素原
子、塩素原子、メチル、エチルまたはイソプロピル基で
ある化合物、(iii)R3 が、水素原子、メチル、エチ
ル、カルボキシ、保護されたカルボキシ基またはテトラ
ゾール−5−イル基である化合物、(iv) Xが、式 −
CH=基または式 −N=基である化合物、(v)Zが単
結合またはメチレン基である化合物、 (9)保護されたカルボキシ基の保護基が、アセトキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、エトキシカルボニル
オキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−イソプ
ロポキシカルボニルオキシエチル、シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシメチル、1−シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシエチルまたは(5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル基である
化合物、をあげることができる。
ル、ブチル、1−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテ
ニル、メトキシメチル、エトキシメチル、メチルチオメ
チル、エチルチオメチル、メチルチオまたはエチルチオ
基である化合物、(ii)R2 が、塩素原子、臭素原子、メ
チル、エチル、イソプロピル、イソプロペニル、トリフ
ルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヒドロキシメチ
ル、1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル、1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−
1−メチルプロピル、1−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピルまたは1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピル
基である化合物、(iii)R3 カルボキシ基、保護された
カルボキシ基、カルバモイル基またはテトラゾール−5
−イル基である化合物、(iv) Zが単結合またはメチレ
ン基である化合物、 (7)Aが式(IIb) を有し、(i) R1 がエチル、プロピ
ル、シクロプロピル、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、メチルチオまたはエチルチオ基である化合物、(ii)
R2 が、水素原子、弗素原子、塩素原子、メチル、エチ
ルまたはイソプロピル基である化合物、(iii)R3 が、
水素原子、メチル、エチル、カルボキシ、保護されたカ
ルボキシまたはテトラゾール−5−イル基である化合
物、(iv) Xが、式 −CH=基、式 −N=基 また
は式 −C(CO2 R6 )=(式中、R6 は、水素原子
またはカルボキシ基の保護基を示す。)である化合物、
(v)Zが単結合またはメチレン基ある化合物、 (8)Aが式(IIc) を有し、(i) R1 がエチル、プロピ
ル、ブチル、2−メトキシエチルまたは2−メチルチオ
エチル基である化合物、(ii)R2 が、水素原子、弗素原
子、塩素原子、メチル、エチルまたはイソプロピル基で
ある化合物、(iii)R3 が、水素原子、メチル、エチ
ル、カルボキシ、保護されたカルボキシ基またはテトラ
ゾール−5−イル基である化合物、(iv) Xが、式 −
CH=基または式 −N=基である化合物、(v)Zが単
結合またはメチレン基である化合物、 (9)保護されたカルボキシ基の保護基が、アセトキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、エトキシカルボニル
オキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−イソプ
ロポキシカルボニルオキシエチル、シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシメチル、1−シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシエチルまたは(5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル基である
化合物、をあげることができる。
【0027】特に好適には、 (10)Aが式(IIa) を有し、(i) R1 がエチル、プロ
ピルまたはブチル基である化合物、(ii)R2 が、塩素原
子、イソプロピル、イソプロペニル、トリフルオロメチ
ル、ペンタフルオロエチル、1−ヒドロキシエチルまた
は1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基であり、R3 カ
ルボキシ基、保護されたカルボキシ基またはテトラゾー
ル−5−イル基である化合物、(iii)R2 が、1−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピルまたは1−ヒドロキシ−
2,2−ジメチルプロピル基であり、、R3 が、カルバ
モイル基である化合物、(iv) Zが単結合である化合
物、 (11)Aが式(IIb) を有し、(i) R1 がエチル、プロ
ピル、シクロプロピル、エトキシ、メチルチオまたはエ
チルチオ基である化合物、(ii)R2 が、水素原子または
メチル基である化合物、(iii)R3 が、水素原子、メチ
ル、カルボキシ、保護されたカルボキシまたはテトラゾ
ール−5−イル基である化合物、(iv) Xが、式 −C
H=基、式 −N=基 または式 −C(CO2 R6 )
=(式中、R6 は、水素原子またはカルボキシ基の保護
基を示す。)である化合物、(v)Zが単結合である化合
物、 (12)Aが式(IIc) を有し、(i) R1 がエチル、プロ
ピル、ブチル、2−メトキシエチルまたは2−メチルチ
オエチル基である化合物、(ii)R2 が、水素原子または
メチル基である化合物、(iii)R3 が、カルボキシ、保
護されたカルボキシ基またはテトラゾール−5−イル基
である化合物、(iv) Xが、式 −CH=基である化合
物、(v)Zが単結合である化合物、 (13)保護されたカルボキシ基の保護基が、アセトキ
シメチル、ピバロイルオキシメチル、エトキシカルボニ
ルオキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−イソプ
ロポキシカルボニルオキシエチル、シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシメチル、1−シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシエチル、(5−メチル−2−オキソ−
1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル基である化合
物、をあげることができる。
ピルまたはブチル基である化合物、(ii)R2 が、塩素原
子、イソプロピル、イソプロペニル、トリフルオロメチ
ル、ペンタフルオロエチル、1−ヒドロキシエチルまた
は1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基であり、R3 カ
ルボキシ基、保護されたカルボキシ基またはテトラゾー
ル−5−イル基である化合物、(iii)R2 が、1−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピルまたは1−ヒドロキシ−
2,2−ジメチルプロピル基であり、、R3 が、カルバ
モイル基である化合物、(iv) Zが単結合である化合
物、 (11)Aが式(IIb) を有し、(i) R1 がエチル、プロ
ピル、シクロプロピル、エトキシ、メチルチオまたはエ
チルチオ基である化合物、(ii)R2 が、水素原子または
メチル基である化合物、(iii)R3 が、水素原子、メチ
ル、カルボキシ、保護されたカルボキシまたはテトラゾ
ール−5−イル基である化合物、(iv) Xが、式 −C
H=基、式 −N=基 または式 −C(CO2 R6 )
=(式中、R6 は、水素原子またはカルボキシ基の保護
基を示す。)である化合物、(v)Zが単結合である化合
物、 (12)Aが式(IIc) を有し、(i) R1 がエチル、プロ
ピル、ブチル、2−メトキシエチルまたは2−メチルチ
オエチル基である化合物、(ii)R2 が、水素原子または
メチル基である化合物、(iii)R3 が、カルボキシ、保
護されたカルボキシ基またはテトラゾール−5−イル基
である化合物、(iv) Xが、式 −CH=基である化合
物、(v)Zが単結合である化合物、 (13)保護されたカルボキシ基の保護基が、アセトキ
シメチル、ピバロイルオキシメチル、エトキシカルボニ
ルオキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチ
ル、1−エトキシカルボニルオキシエチル、1−イソプ
ロポキシカルボニルオキシエチル、シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシメチル、1−シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシエチル、(5−メチル−2−オキソ−
1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル基である化合
物、をあげることができる。
【0028】一般式(I)における好適な化合物とし
て、次の表1−3に示す化合物を具体的に例示すること
ができる。なお、表1−3の化合物は、それぞれ式(I
−1)−(I−3)の構造式を有する。
て、次の表1−3に示す化合物を具体的に例示すること
ができる。なお、表1−3の化合物は、それぞれ式(I
−1)−(I−3)の構造式を有する。
【0029】
【化5】
【0030】
【表1】 ────────────────────────────────── 化合物 R1 R2 Z−R3 B 番号(No.) ────────────────────────────────── 1-1 Et C(Me2)OH CO2H CO2H 1-2 Pr C(Me2)OH CO2H CO2H 1-3 Bu C(Me2)OH CO2H CO2H 1-4 Pr CH2OH CO2H CO2H 1-5 Bu CH2OH CO2H CO2H 1-6 Pr CH(Me)OH CO2H CO2H 1-7 Bu CH(Me)OH CO2H CO2H 1-8 Pr CH(Me2) CO2H CO2H 1-9 Bu CH(Me2) CO2H CO2H 1-10 Pr C(=CH2)Me CO2H CO2H 1-11 Bu C(=CH2)Me CO2H CO2H 1-12 Pr Et CO2H CO2H 1-13 Bu Et CO2H CO2H 1-14 Pr Me CO2H CO2H 1-15 Bu Me CO2H CO2H 1-16 Pr Cl CO2H CO2H 1-17 Bu Cl CO2H CO2H 1-18 Pr CF3 CO2H CO2H 1-19 Bu CF3 CO2H CO2H 1-20 Pr C2F5 CO2H CO2H 1-21 Bu C2F5 CO2H CO2H 1-22 Pr CH(Pri)OH CONH2 CO2H 1-23 Bu CH(Pri)OH CONH2 CO2H 1-24 Pr CH(But)OH CONH2 CO2H 1-25 Bu CH(But)OH CONH2 CO2H 1-26 Pr C(Me2)OH CO2Et CO2H 1-27 Pr C(Me2)OH CO2Pom CO2H 1-28 Pr C(Me2)OH CO2Mod CO2H 1-29 Pr C(Me2)OH CO2CH2OCO2Et CO2H 1-30 Pr C(Me2)OH CO2CH2OCO2Pri CO2H 1-31 Pr C(Me2)OH CO2CH(Me)OCO2Et CO2H 1-32 Pr C(Me2)OH CO2CH(Me)OCO2Pri CO2H 1-33 MeCH=CH- C(Me2)OH CO2H CO2H 1-34 EtCH=CH- C(Me2)OH CO2H CO2H 1-35 MeCH=CHCH2- C(Me2)OH CO2H CO2H 1-36 MeOCH2 C(Me2)OH CO2H CO2H 1-37 EtOCH2 C(Me2)OH CO2H CO2H 1-38 MeSCH2 C(Me2)OH CO2H CO2H 1-39 EtSCH2 C(Me2)OH CO2H CO2H 1-40 Pr C(Me2)OH Tz CO2H 1-41 Bu C(Me2)OH Tz CO2H 1-42 Pr C(Me2)OH CO2H Tz 1-43 Bu C(Me2)OH CO2H Tz 1-44 Pr C(Me2)OH CH2CO2H CO2H 1-45 Pr Pri CH2CO2H CO2H 1-46 Pr C(Me2)OH CH=CHCO2H CO2H 1-47 Pr Pri CH=CHCO2H CO2H 1-48 MeNHCH2 C(Me2)OH CO2H CO2H 1-49 EtNHCH2 C(Me2)OH CO2H CO2H 1-50 Pr C(Me2)OH CO2Et Tz ──────────────────────────────────
【0031】
【表2】 ──────────────────────────────────── 化合物 R1 R2 −Z−R3 X B 番号(No). ──────────────────────────────────── 2-1 Et 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-2 Pr 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-3 Bu 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-4 Prc 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-5 Et 4-Me H =N- CO2H 2-6 Pr 4-Me H =N- CO2H 2-7 Prc 4-Me H =N- CO2H 2-8 Et 6-Me H =N- CO2H 2-9 Pr 6-Me H =N- CO2H 2-10 Prc 6-Me H =N- CO2H 2-11 Et 4-Me 6-Et =N- CO2H 2-12 Et H H =N- CO2H 2-13 Pr H H =N- CO2H 2-14 Et H 6-CO2H =N- CO2H 2-15 Pr H 6-CO2H =N- CO2H 2-16 Et 4-Me 6-CO2H =N- CO2H 2-17 Pr 4-Me 6-CO2H =N- CO2H 2-18 Et H 6-CH2CO2H =N- CO2H 2-19 Pr H 6-CH2CO2H =N- CO2H 2-20 Et H 6-CH=CHCO2H =N- CO2H 2-21 Pr H 6-CH=CHCO2H =N- CO2H 2-22 Et H 6-CO2H =CH- CO2H 2-23 Pr H 6-CO2H =CH- CO2H 2-24 Et 4-Me 6-CO2H =CH- CO2H 2-25 Pr 4-Me 6-CO2H =CH- CO2H 2-26 Et H H =C(CO2H)- CO2H 2-27 Pr H H =C(CO2H)- CO2H 2-28 Et H H =C(CO2Pom)- CO2H 2-29 Pr H H =C(CO2Pom)- CO2H 2-30 Et H H =C(CO2Mod)- CO2H 2-31 Pr H H =C(CO2Mod)- CO2H 2-32 Et H H =C(CO2CH2OCO2Et)- CO2H 2-33 Pr H H =C(CO2CH2OCO2Et)- CO2H 2-34 Et H H =C(CO2CH2OCO2Hec)- CO2H 2-35 Pr H H =C(CO2CH2OCO2Hec)- CO2H 2-36 Et H H =C(CO2CH(Me)OCO2Et)- CO2H 2-37 Pr H H =C(CO2CH(Me)OCO2Et)- CO2H 2-38 Et H H =C(CO2CH(Me)OCO2Hec)- CO2H 2-39 Pr H H =C(CO2CH(Me)OCO2Hec)- CO2H 2-40 EtO 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-41 PrO 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-42 MeS 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-43 EtS 4-Me 6-Me =N- CO2H 2-44 EtO H H =C(CO2H)- CO2H 2-45 EtO H H =C(CO2Pom)- CO2H 2-46 EtO H H =C(CO2Mod)- CO2H 2-47 EtO H H =C(CO2CH2OCO2Et)- CO2H 2-48 EtO H H =C(CO2CH2OCO2Hec)- CO2H 2-49 EtO H H =C(CO2CH(Me)OCO2Et)- CO2H 2-50 EtO H H =C(CO2CH(Me)OCO2Hec)- CO2H 2-51 Et 4-Me 6-Me =N- Tz 2-52 Et H H =C(CO2H)- Tz 2-53 Bu H 5-CO2H =CH- CO2H 2-54 Bu H 6-CO2H =CH- CO2H ────────────────────────────────────
【0032】
【表3】 ────────────────────────────────── 化合物 R1 R2 −Z−R3 X B 番号(No.) ────────────────────────────────── 3-1 Et H 5-CO2H =CH- CO2H 3-2 Pr H 5-CO2H =CH- CO2H 3-3 Bu H 5-CO2H =CH- CO2H 3-4 Et H 5-Tz =CH- CO2H 3-5 Pr H 5-Tz =CH- CO2H 3-6 Bu H 5-Tz =CH- CO2H 3-7 Et 4-Me 5-CO2H =CH- CO2H 3-8 Pr 4-Me 5-CO2H =CH- CO2H 3-9 Bu 4-Me 5-CO2H =CH- CO2H 3-10 Pr 4-Et 5-CO2H =CH- CO2H 3-11 Pr 4-Pri 5-CO2H =CH- CO2H 3-12 Pr 4-CH2OH 5-CO2H =CH- CO2H 3-13 Pr 4-CH(Me)OH 5-CO2H =CH- CO2H 3-14 Pr 4-C(Me2)OH 5-CO2H =CH- CO2H 3-15 Pr H 5-CO2H =N- CO2H 3-16 Pr 2-Me 5-CO2H =N- CO2H 3-17 Pr 4-Me 5-CO2H =N- CO2H 3-18 Prc H 5-CO2H =CH- CO2H 3-19 MeOCH2CH2 H 5-CO2H =CH- CO2H 3-20 Pr H 5-CO2H =CH- Tz 3-21 Pr H 5-CH2CO2H =CH- CO2H 3-22 Pr H 5-CH=CHCO2H =CH- CO2H 3-23 Pr H 5-CO2Pom =CH- CO2H 3-24 Pr H 5-CO2Mod =CH- CO2H 3-25 Pr H 5-CO2Et =CH- Tz 3-26 Bu H 4-CO2H =CH- CO2H ────────────────────────────────── 上記表において、略号は以下の基を示す。
【0033】Bu :ブチル基 But :t-ブチル基 Et :エチル基 Hec : シクロヘキシル基 Me :メチル基 Mod :(5- メチル-2- オキソ-1,3- ジオキソレン-4- イ
ル)メチル基 Pom :ピバロイルオキシメチル基 Pr :プロピル基 Prc :シクロプロピル基 Pri :イソプロピル基 Tz:テトラゾール−5−イル基。
ル)メチル基 Pom :ピバロイルオキシメチル基 Pr :プロピル基 Prc :シクロプロピル基 Pri :イソプロピル基 Tz:テトラゾール−5−イル基。
【0034】また、上記表において、好適には、例示化
合物番号No.1−1、1−2、1−3、1−4、1−
6、1−7、1−8、1−9、1−10、1−11、1
−16、1−17、1−18、1−19、1−20、1
−21、1−22、1−23、1−24、1−25、1
−27、1−28、1−29、1−30、1−31、1
−32、1−36、1−37、1−38、1−39、1
−40、1−41、2−1、2−2、2−3、2−4、
2−8、2−9、2−10、2−12、2−13、2−
14、2−15、2−26、2−27、2−28、2−
29、2−30、2−31、2−32、2−33、2−
34、2−35、2−36、2−37、2−38、2−
39、2−40、2−44、2−45、2−46、2−
47、2−48、2−49、2−50、3−1、3−
2、3−3、3−4、3−5、3−6、3−8、3−1
1、3−12、3−13、3−14、3−16、3−2
3および3−24の化合物である。
合物番号No.1−1、1−2、1−3、1−4、1−
6、1−7、1−8、1−9、1−10、1−11、1
−16、1−17、1−18、1−19、1−20、1
−21、1−22、1−23、1−24、1−25、1
−27、1−28、1−29、1−30、1−31、1
−32、1−36、1−37、1−38、1−39、1
−40、1−41、2−1、2−2、2−3、2−4、
2−8、2−9、2−10、2−12、2−13、2−
14、2−15、2−26、2−27、2−28、2−
29、2−30、2−31、2−32、2−33、2−
34、2−35、2−36、2−37、2−38、2−
39、2−40、2−44、2−45、2−46、2−
47、2−48、2−49、2−50、3−1、3−
2、3−3、3−4、3−5、3−6、3−8、3−1
1、3−12、3−13、3−14、3−16、3−2
3および3−24の化合物である。
【0035】さらに好適には、例示化合物番号No.1
−2、1−3、1−6、1−7、1−8、1−9、1−
22、1−23、1−24、1−25、1−27、1−
28、1−29、1−30、1−31、1−32、1−
40、1−41、2−1、2−2、2−3、2−4、2
−26、2−27、2−28、2−29、2−30、2
−31、2−32、2−33、2−34、2−35、2
−40、2−44、2−45、2−46、2−47、2
−48、3−1、3−2、3−3、3−4、3−5およ
び3−6の化合物である。
−2、1−3、1−6、1−7、1−8、1−9、1−
22、1−23、1−24、1−25、1−27、1−
28、1−29、1−30、1−31、1−32、1−
40、1−41、2−1、2−2、2−3、2−4、2
−26、2−27、2−28、2−29、2−30、2
−31、2−32、2−33、2−34、2−35、2
−40、2−44、2−45、2−46、2−47、2
−48、3−1、3−2、3−3、3−4、3−5およ
び3−6の化合物である。
【0036】特に好適には、例示化合物番号No.1−
2、1−6、1−8、1−22、1−24、1−27、
1−28、1−40、2−1、2−2、2−26、2−
28、2−30、2−44、2−45、2−46、3−
2および3−5の化合物である。
2、1−6、1−8、1−22、1−24、1−27、
1−28、1−40、2−1、2−2、2−26、2−
28、2−30、2−44、2−45、2−46、3−
2および3−5の化合物である。
【0037】本発明の一般式(I)を有する化合物は、
以下の方法に従って容易に製造される。
以下の方法に従って容易に製造される。
【0038】
【化6】
【0039】
【化7】
【0040】
【化8】
【0041】
【化9】
【0042】上記式中、A及びBは、前述したものと同
意義を示し、A1 は、式
意義を示し、A1 は、式
【0043】
【化10】
【0044】(上記式中、Zは、前述したものと同意義
を示し、R1a、R2a、R3aおよびX1は、それぞれ前述
したR1 、R2 、R3 およびXにおける1級アミノ基、
2級アミノ基、カルボキシ基またはテトラゾール−5−
イル基が保護されている他、R1 、R2 、R3 およびX
と同意義を示す。)を有する基を示し、A2 は、式
を示し、R1a、R2a、R3aおよびX1は、それぞれ前述
したR1 、R2 、R3 およびXにおける1級アミノ基、
2級アミノ基、カルボキシ基またはテトラゾール−5−
イル基が保護されている他、R1 、R2 、R3 およびX
と同意義を示す。)を有する基を示し、A2 は、式
【0045】
【化11】
【0046】(上記式中、R1a、R2a、X1 およびZ
は、前述したものと同意義を示す。)を有する基を示
し、A3 は、式
は、前述したものと同意義を示す。)を有する基を示
し、A3 は、式
【0047】
【化12】
【0048】(上記式中、R1 、R2 、XおよびZは、
前述したものと同意義を示す。)を有する基を示し、B
1 は、保護されたカルボキシ基または保護されたテトラ
ゾール−5−イル基を示し、R7 は、アミノ基の保護基
を示し、Vは、ハロゲン原子(好適には、塩素、臭素ま
たは沃素原子)を示す。また、R3a、X1 およびB1 の
カルボキシ基の保護基は、前述したR3 、XおよびBに
おけるカルボキシ基の保護基と同様のものである。
前述したものと同意義を示す。)を有する基を示し、B
1 は、保護されたカルボキシ基または保護されたテトラ
ゾール−5−イル基を示し、R7 は、アミノ基の保護基
を示し、Vは、ハロゲン原子(好適には、塩素、臭素ま
たは沃素原子)を示す。また、R3a、X1 およびB1 の
カルボキシ基の保護基は、前述したR3 、XおよびBに
おけるカルボキシ基の保護基と同様のものである。
【0049】R1aおよびR2aの1級アミノ基および2級
アミノ基の保護基またはR7 のアミノ基の保護基は、例
えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル基のよう
なアラルキル基、ホルミル、トリフルオロアセチルのよ
うな脂肪族アシル基、ベンジルオキシカルボニル、p−
ブロムベンジルオキシカルボニル基のようなアラルキル
オキシカルボニル基またはt−ブトキシカルボニル基の
ようなアルコキシカルボニル基であり得、好適には、ベ
ンジル、トリチル、トリフルオロアセチル、ベンジルオ
キシカルボニルまたはt−ブトキシカルボニル基であ
り、さらに好適には、ベンジル、ベンジルオキシカルボ
ニルまたはt−ブトキシカルボニル基である。
アミノ基の保護基またはR7 のアミノ基の保護基は、例
えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル基のよう
なアラルキル基、ホルミル、トリフルオロアセチルのよ
うな脂肪族アシル基、ベンジルオキシカルボニル、p−
ブロムベンジルオキシカルボニル基のようなアラルキル
オキシカルボニル基またはt−ブトキシカルボニル基の
ようなアルコキシカルボニル基であり得、好適には、ベ
ンジル、トリチル、トリフルオロアセチル、ベンジルオ
キシカルボニルまたはt−ブトキシカルボニル基であ
り、さらに好適には、ベンジル、ベンジルオキシカルボ
ニルまたはt−ブトキシカルボニル基である。
【0050】R3aおよびB1 のテトラゾ−ル−5−イル
基の保護基は、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、
トリチル基のようなアラルキル基であり得、好適には、
トリチル基である。
基の保護基は、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、
トリチル基のようなアラルキル基であり得、好適には、
トリチル基である。
【0051】A法は、化合物(I) を製造する方法であ
る。第A1工程は、一般式(V) を有する化合物を製造す
る工程で、不活性溶剤中、一般式(III) を有する化合物
と一般式(IV)を有する化合物を塩基の存在下、反応させ
ることにより達成される。
る。第A1工程は、一般式(V) を有する化合物を製造す
る工程で、不活性溶剤中、一般式(III) を有する化合物
と一般式(IV)を有する化合物を塩基の存在下、反応させ
ることにより達成される。
【0052】使用される不活性溶剤は、反応に関与しな
ければ、特に制限されず、例えば、ベンゼン,トルエン
のような炭化水素類、テトラヒドロフラン,ジオキサン
のようなエーテル類、メタノール,エタノール,t−ブ
タノールのようなアルコール類、N,N−ジメチルアセ
トアミド,N,N−ジメチルホルムアミド,N−メチル
−2−ピロリジノン、ヘキサメチルホスホルトリアミド
のようなアミド類、アセトン,2−ブタノンのようなケ
トン類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類またはこれらの混
合溶剤であり得、好適にはエーテル類、アミド類、ケト
ン類、ニトリル類またはスルホキシド類である。
ければ、特に制限されず、例えば、ベンゼン,トルエン
のような炭化水素類、テトラヒドロフラン,ジオキサン
のようなエーテル類、メタノール,エタノール,t−ブ
タノールのようなアルコール類、N,N−ジメチルアセ
トアミド,N,N−ジメチルホルムアミド,N−メチル
−2−ピロリジノン、ヘキサメチルホスホルトリアミド
のようなアミド類、アセトン,2−ブタノンのようなケ
トン類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類またはこれらの混
合溶剤であり得、好適にはエーテル類、アミド類、ケト
ン類、ニトリル類またはスルホキシド類である。
【0053】使用される塩基は、好適には、炭酸ナトリ
ウム,炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水素
化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウムのよう
なアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、リチウム
メトキシドのようなアルコキシアルカリ金属、メチルリ
チウム、ブチルリチウムのようなアルキルリチウム類、
リチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのような
リチウムアミド類、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム
のようなアルカリ金属重炭酸塩であり、さらに好適に
は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水素化物、リチ
ウムアミド類またはアルコキシアルカリ金属である。
ウム,炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水素
化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウムのよう
なアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、リチウム
メトキシドのようなアルコキシアルカリ金属、メチルリ
チウム、ブチルリチウムのようなアルキルリチウム類、
リチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのような
リチウムアミド類、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム
のようなアルカリ金属重炭酸塩であり、さらに好適に
は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水素化物、リチ
ウムアミド類またはアルコキシアルカリ金属である。
【0054】反応温度は、原料化合物(III) および(I
V)、溶剤並びに塩基の種類により異なるが、通常−10
℃乃至100℃(好適には0℃乃至80℃)であり、反
応時間は、反応温度等により異なるが、30分間乃至2
4時間(好適には1乃至16時間)である。反応終了
後、本反応の目的化合物(V) は、常法に従って、反応混
合物から採取される。例えば、溶剤を減圧留去後、残留
物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機溶媒
で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶媒を留
去することにより得ることができ、必要ならば、常法、
例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等でさらに
精製することができる。
V)、溶剤並びに塩基の種類により異なるが、通常−10
℃乃至100℃(好適には0℃乃至80℃)であり、反
応時間は、反応温度等により異なるが、30分間乃至2
4時間(好適には1乃至16時間)である。反応終了
後、本反応の目的化合物(V) は、常法に従って、反応混
合物から採取される。例えば、溶剤を減圧留去後、残留
物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機溶媒
で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶媒を留
去することにより得ることができ、必要ならば、常法、
例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等でさらに
精製することができる。
【0055】第A2工程は、所望により行う工程であ
り、 反応(a):R3a、X1 およびB1 に含まれるカルボキ
シ基の保護基を、選択的にまたは非選択的に除去する反
応、 反応(b):R3aおよびB1 に含まれるテトラゾリル基
の保護基を除去する反応、 反応(c):R1aおよびR2aに含まれる1級アミノ基お
よび2級アミノ基の保護基を除去する反応、 を含み、適宜順序を変えて行われる。
り、 反応(a):R3a、X1 およびB1 に含まれるカルボキ
シ基の保護基を、選択的にまたは非選択的に除去する反
応、 反応(b):R3aおよびB1 に含まれるテトラゾリル基
の保護基を除去する反応、 反応(c):R1aおよびR2aに含まれる1級アミノ基お
よび2級アミノ基の保護基を除去する反応、 を含み、適宜順序を変えて行われる。
【0056】反応(a):反応(a)におけるカルボキ
シ保護基を除去する反応は、保護基の種類により異な
り、有機合成化学でよく知られている方法で行われる。
シ保護基を除去する反応は、保護基の種類により異な
り、有機合成化学でよく知られている方法で行われる。
【0057】カルボキシ基の保護基がベンジルのような
アラルキルの場合には、不活性溶媒(好適には、メタノ
ール、エタノールのようなアルコール類または酢酸のよ
うなカルボン酸類)中、接触還元触媒(好適には、パラ
ジウム−炭素または酸化白金)の存在下、水素圧が常圧
乃至5気圧のもとで接触還元することにより、相当する
保護基が除去される。
アラルキルの場合には、不活性溶媒(好適には、メタノ
ール、エタノールのようなアルコール類または酢酸のよ
うなカルボン酸類)中、接触還元触媒(好適には、パラ
ジウム−炭素または酸化白金)の存在下、水素圧が常圧
乃至5気圧のもとで接触還元することにより、相当する
保護基が除去される。
【0058】カルボキシ基の保護基がt−ブチルまたは
ジフェニルメチル基である場合には、不活性溶剤(好適
には、メタノール、エタノールのようなアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
水または水と上記有機溶剤との混合溶剤)中、酸(好適
には、塩化水素,硫酸のような鉱酸またはトリフルオロ
酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよ
うな有機酸)と反応させることにより、相当する保護基
が除去される。
ジフェニルメチル基である場合には、不活性溶剤(好適
には、メタノール、エタノールのようなアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
水または水と上記有機溶剤との混合溶剤)中、酸(好適
には、塩化水素,硫酸のような鉱酸またはトリフルオロ
酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよ
うな有機酸)と反応させることにより、相当する保護基
が除去される。
【0059】さらに、カルボキシ基の保護基がエステル
残基である場合には、不活性溶剤(好適には、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類、水または水と上
記有機溶剤との混合溶剤)中、塩基(好適には、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
アルカリ金属水酸化物または炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩)と、反応させ、加水
分解によって、相当する保護基が除去される。反応温度
および反応時間は、除去する方法、溶媒等により異なる
が、通常0℃乃至100℃(好適には、室温乃至80
℃)および30分間乃至24時間(好適には、1時間乃
至20時間)である。反応終了後、接触還元による保護
基の除去による場合は、触媒を濾別し、溶媒を留去する
ことにより、生成物を得ることができ、酸による保護基
の除去の場合には、反応系中に析出する結晶を濾取する
ことまたは反応混合物を濃縮することにより生成物を得
ることができ、アルカリ加水分解による保護基の除去の
場合には、有機溶媒を留去し、酸で中和することによ
り、水溶媒中に析出する結晶を濾取すること、または酸
で反応液を酸性にし、水不混和性有機溶剤で抽出し、溶
剤を留去することによって生成物を得ることができる。
必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精
製される。また、反応条件を選択することによって、R
3a、X1 とB1 に含まれる保護基を選択して除去するこ
とができる。
残基である場合には、不活性溶剤(好適には、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類、水または水と上
記有機溶剤との混合溶剤)中、塩基(好適には、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
アルカリ金属水酸化物または炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩)と、反応させ、加水
分解によって、相当する保護基が除去される。反応温度
および反応時間は、除去する方法、溶媒等により異なる
が、通常0℃乃至100℃(好適には、室温乃至80
℃)および30分間乃至24時間(好適には、1時間乃
至20時間)である。反応終了後、接触還元による保護
基の除去による場合は、触媒を濾別し、溶媒を留去する
ことにより、生成物を得ることができ、酸による保護基
の除去の場合には、反応系中に析出する結晶を濾取する
ことまたは反応混合物を濃縮することにより生成物を得
ることができ、アルカリ加水分解による保護基の除去の
場合には、有機溶媒を留去し、酸で中和することによ
り、水溶媒中に析出する結晶を濾取すること、または酸
で反応液を酸性にし、水不混和性有機溶剤で抽出し、溶
剤を留去することによって生成物を得ることができる。
必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精
製される。また、反応条件を選択することによって、R
3a、X1 とB1 に含まれる保護基を選択して除去するこ
とができる。
【0060】反応(b):反応(b)におけるR3aおよ
びB1 に含まれるテトラゾリル基の保護基を除去する反
応は、保護基の種類によって異なるが、有機合成化学に
おいて一般に広く知られている方法によって行われる。
びB1 に含まれるテトラゾリル基の保護基を除去する反
応は、保護基の種類によって異なるが、有機合成化学に
おいて一般に広く知られている方法によって行われる。
【0061】保護基がトリチル基の場合には、溶剤(好
適には、水;ギ酸,酢酸のような有機酸類;テトラヒド
ロフラン,ジオキサン等のエーテル類;メタノール,エ
タノール等のアルコール類及びこれらの混合溶剤)中、
酸で処理することにより達成される。使用される酸は、
ギ酸,酢酸,蓚酸,メタンスルホン酸,p−トルエンス
ルホン酸,トリフルオロ酢酸のような有機酸及び塩酸,
臭化水素酸,硫酸,リン酸のような無機酸であり得、好
適には、酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸である。
適には、水;ギ酸,酢酸のような有機酸類;テトラヒド
ロフラン,ジオキサン等のエーテル類;メタノール,エ
タノール等のアルコール類及びこれらの混合溶剤)中、
酸で処理することにより達成される。使用される酸は、
ギ酸,酢酸,蓚酸,メタンスルホン酸,p−トルエンス
ルホン酸,トリフルオロ酢酸のような有機酸及び塩酸,
臭化水素酸,硫酸,リン酸のような無機酸であり得、好
適には、酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸である。
【0062】反応温度は、通常0乃至120℃(好適に
は、10乃至100℃)であり、反応時間は30分間乃
至24時間(好適には、1乃至16時間)である。
は、10乃至100℃)であり、反応時間は30分間乃
至24時間(好適には、1乃至16時間)である。
【0063】保護基が、ベンジルまたはジフェニルメチ
ル基の場合には、前述のA法の第A2工程の反応(a)
において、カルボキシ保護基がアラルキル基である場合
の除去方法で説明したパラジウム、酸化白金等を触媒と
する接触還元による方法により除去できる。
ル基の場合には、前述のA法の第A2工程の反応(a)
において、カルボキシ保護基がアラルキル基である場合
の除去方法で説明したパラジウム、酸化白金等を触媒と
する接触還元による方法により除去できる。
【0064】反応終了後、本反応の目的化合物は、常法
に従って、反応混合物から採取することができ、例え
ば、前述したA法の第A2工程の反応(a)と同様の操
作により行われる。
に従って、反応混合物から採取することができ、例え
ば、前述したA法の第A2工程の反応(a)と同様の操
作により行われる。
【0065】反応(c):反応(c)におけるR1aおよ
びR2aに含まれる1級アミノ基および2級アミノ基の保
護基を除去する反応は、保護基の種類によって異なる
が、有機合成化学において一般に広く知られている方法
によって行われる。
びR2aに含まれる1級アミノ基および2級アミノ基の保
護基を除去する反応は、保護基の種類によって異なる
が、有機合成化学において一般に広く知られている方法
によって行われる。
【0066】保護基がベンジルのようなアラルキルまた
はベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシ
カルボニルの場合には、不活性溶媒(好適には、メタノ
ール、エタノールのようなアルコール類または酢酸のよ
うなカルボン酸類)中、接触還元触媒(好適には、パラ
ジウム−炭素または酸化白金)の存在下、水素圧が常圧
乃至5気圧のもとで接触還元することにより、相当する
保護基が除去される。本反応は、1乃至5等量の塩酸を
添加すると、反応が促進されることがある。
はベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシ
カルボニルの場合には、不活性溶媒(好適には、メタノ
ール、エタノールのようなアルコール類または酢酸のよ
うなカルボン酸類)中、接触還元触媒(好適には、パラ
ジウム−炭素または酸化白金)の存在下、水素圧が常圧
乃至5気圧のもとで接触還元することにより、相当する
保護基が除去される。本反応は、1乃至5等量の塩酸を
添加すると、反応が促進されることがある。
【0067】保護基がt−ブトキシカルボニル基である
場合には、不活性溶剤(好適には、メタノール、エタノ
ールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類、ジクロルメタン、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類、水または水と上記
有機溶剤との混合溶剤)中、酸(好適には、塩化水素,
硫酸のような鉱酸またはトリフルオロ酢酸、メタンスル
ホン酸、p−トルエンスルホン酸、蟻酸、酢酸のような
有機酸)と反応させることにより、相当する保護基が除
去される。
場合には、不活性溶剤(好適には、メタノール、エタノ
ールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類、ジクロルメタン、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類、水または水と上記
有機溶剤との混合溶剤)中、酸(好適には、塩化水素,
硫酸のような鉱酸またはトリフルオロ酢酸、メタンスル
ホン酸、p−トルエンスルホン酸、蟻酸、酢酸のような
有機酸)と反応させることにより、相当する保護基が除
去される。
【0068】保護基がホルミル、トリフルオロアセチル
のような脂肪族アシルの場合には、不活性溶媒(好適に
は、メタノール、エタノールのようなアルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、水
または水と上記有機溶剤との混合溶剤)中、アルカリ
(好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
なアルカリ水酸化物または炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのようなアルカリ炭酸塩)と反応させ、加水分解する
ことにより、相当する保護基が除去される。
のような脂肪族アシルの場合には、不活性溶媒(好適に
は、メタノール、エタノールのようなアルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、水
または水と上記有機溶剤との混合溶剤)中、アルカリ
(好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
なアルカリ水酸化物または炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのようなアルカリ炭酸塩)と反応させ、加水分解する
ことにより、相当する保護基が除去される。
【0069】反応温度および反応時間は、除去する方
法、溶媒等により異なるが、通常0℃乃至100℃(好
適には、室温乃至80℃)および30分間乃至24時間
(好適には、1時間乃至16時間)である。反応終了
後、接触還元による保護基の除去による場合は、触媒を
濾別し、溶媒を留去することにより、生成物を得ること
ができ、酸による保護基の除去の場合には、反応系中に
析出する目的化合物の塩を濾取することまたは反応混合
物を濃縮することにより目的化合物の塩を得ることがで
き、アルカリ加水分解による保護基の除去の場合には、
反応系中に析出する生成物を濾取することまたは水不混
和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去することによって生
成物を得ることができる。必要ならば、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等で精製される。
法、溶媒等により異なるが、通常0℃乃至100℃(好
適には、室温乃至80℃)および30分間乃至24時間
(好適には、1時間乃至16時間)である。反応終了
後、接触還元による保護基の除去による場合は、触媒を
濾別し、溶媒を留去することにより、生成物を得ること
ができ、酸による保護基の除去の場合には、反応系中に
析出する目的化合物の塩を濾取することまたは反応混合
物を濃縮することにより目的化合物の塩を得ることがで
き、アルカリ加水分解による保護基の除去の場合には、
反応系中に析出する生成物を濾取することまたは水不混
和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去することによって生
成物を得ることができる。必要ならば、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等で精製される。
【0070】B法は、化合物(I) において、R3 がカル
バモイル基である化合物(Ia)を別途に製造する方法であ
る。第B1工程は、一般式(Va)を有する化合物を製造す
る工程で、一般式(IIIa)を有する化合物と化合物(IV)を
反応させることにより達成され、本工程は、前記A法第
A1工程と同様に行われる。
バモイル基である化合物(Ia)を別途に製造する方法であ
る。第B1工程は、一般式(Va)を有する化合物を製造す
る工程で、一般式(IIIa)を有する化合物と化合物(IV)を
反応させることにより達成され、本工程は、前記A法第
A1工程と同様に行われる。
【0071】第B2工程は、所望により行う工程であ
り、 反応(a):A2 に含まれるシアノ基をカルバモイル基
に変換する反応 反応(b):B1 およびX1 に含まれるカルボキシ基の
保護基を除去する反応、 反応(c):B1 に含まれるテトラゾリル基の保護基を
除去する反応、 反応(d):R1aおよびR2aに含まれる1級アミノ基お
よび2級アミノ基の保護基を除去する反応、 を含み、適宜順序を変えて行われる。
り、 反応(a):A2 に含まれるシアノ基をカルバモイル基
に変換する反応 反応(b):B1 およびX1 に含まれるカルボキシ基の
保護基を除去する反応、 反応(c):B1 に含まれるテトラゾリル基の保護基を
除去する反応、 反応(d):R1aおよびR2aに含まれる1級アミノ基お
よび2級アミノ基の保護基を除去する反応、 を含み、適宜順序を変えて行われる。
【0072】反応(a):反応(a)におけるシアノ基
をカルバモイル基に変換する反応は、不活性溶剤(好適
には、メタノール、エタノールのようなアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
水または水と上記有機溶剤との混合溶剤)中、塩基(好
適には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物または炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩)と、
反応させることによって行われる。反応温度および反応
時間は、通常0℃乃至100℃(好適には、室温乃至8
0℃)および30分間乃至24時間(好適には、1時間
乃至16時間)である。
をカルバモイル基に変換する反応は、不活性溶剤(好適
には、メタノール、エタノールのようなアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
水または水と上記有機溶剤との混合溶剤)中、塩基(好
適には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物または炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩)と、
反応させることによって行われる。反応温度および反応
時間は、通常0℃乃至100℃(好適には、室温乃至8
0℃)および30分間乃至24時間(好適には、1時間
乃至16時間)である。
【0073】反応終了後、反応液を中和し、析出する生
成物を濾取することまたは中和した後、酢酸エチルのよ
うな水不混和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去すること
によって生成物を得ることができる。必要ならば、再結
晶、カラムクロマトグラフィー等で精製される。
成物を濾取することまたは中和した後、酢酸エチルのよ
うな水不混和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去すること
によって生成物を得ることができる。必要ならば、再結
晶、カラムクロマトグラフィー等で精製される。
【0074】本工程の反応(b)、反応(c)および反
応(d)の反応は、それぞれ前記A法第A2工程の反応
(a)、反応(b)および反応(c)の反応と同様に行
われる。
応(d)の反応は、それぞれ前記A法第A2工程の反応
(a)、反応(b)および反応(c)の反応と同様に行
われる。
【0075】C法は、化合物(I) において、Aが前記式
(IIb) を有する基である化合物(Ib)を製造する方法であ
る。第C1工程は、一般式(VII) を有する化合物を製造
する工程で、一般式(VI)を有する化合物と化合物(IV)を
反応させることにより達成され、本工程は、前記A法第
A1工程と同様に行われる。
(IIb) を有する基である化合物(Ib)を製造する方法であ
る。第C1工程は、一般式(VII) を有する化合物を製造
する工程で、一般式(VI)を有する化合物と化合物(IV)を
反応させることにより達成され、本工程は、前記A法第
A1工程と同様に行われる。
【0076】第C2工程は、R7 のアミノ基の保護基を
除去して、一般式(VIII)を有する化合物を製造する工程
で、本工程は、前記A法第A2工程の反応(c)と同様
に行われる。また、反応条件を選択することによって、
R2aに含まれる1級アミノ基および2級アミノ基の保護
基と区別して除去することができる。
除去して、一般式(VIII)を有する化合物を製造する工程
で、本工程は、前記A法第A2工程の反応(c)と同様
に行われる。また、反応条件を選択することによって、
R2aに含まれる1級アミノ基および2級アミノ基の保護
基と区別して除去することができる。
【0077】第C3工程は、一般式(IX)を有する化合物
を製造する工程で、化合物(VIII)のニトロ基を還元する
ことにより達成され、有機合成化学において一般に広く
知られている方法によって行われる。接触還元による方
法は、不活性溶媒(好適には、メタノール、エタノール
のようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのよう
なエステル類または酢酸のようなカルボン酸類、特に好
適には、アルコール類)中、接触還元触媒(好適には、
白金、白金−炭素またはラネーニッケル等)の存在下、
水素圧が常圧乃至5気圧のもとで接触還元することによ
り行われる。
を製造する工程で、化合物(VIII)のニトロ基を還元する
ことにより達成され、有機合成化学において一般に広く
知られている方法によって行われる。接触還元による方
法は、不活性溶媒(好適には、メタノール、エタノール
のようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのよう
なエステル類または酢酸のようなカルボン酸類、特に好
適には、アルコール類)中、接触還元触媒(好適には、
白金、白金−炭素またはラネーニッケル等)の存在下、
水素圧が常圧乃至5気圧のもとで接触還元することによ
り行われる。
【0078】反応温度および反応時間は、通常0℃乃至
60℃(好適には、10℃乃至40℃)および30分間
乃至24時間(好適には、1時間乃至8時間)である。
60℃(好適には、10℃乃至40℃)および30分間
乃至24時間(好適には、1時間乃至8時間)である。
【0079】反応終了後、触媒を濾去し、溶剤を減圧で
留去することによって生成物を得ることができる。必要
ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製さ
れる。
留去することによって生成物を得ることができる。必要
ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製さ
れる。
【0080】塩化第一錫を還元剤として用いる方法は、
不活性溶媒(好適には、メタノール、エタノールのよう
なアルコール類等)中、ニトロ化合物を還元剤と反応さ
せることにより行われる。反応温度および反応時間は、
通常室温乃至150℃(好適には、50℃乃至100
℃)および1時間乃至24時間(好適には、2時間乃至
8時間)である。反応終了後、反応液を濃縮し、残留物
に酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤と水酸化ナト
リウム水溶液のようなアルカリ水溶液を加え、攪拌し
て、生成した不溶性の酸化錫を濾去し、有機溶剤を分離
して、溶剤を減圧で留去することによって生成物を得る
ことができる。必要ならば、再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等で精製される。
不活性溶媒(好適には、メタノール、エタノールのよう
なアルコール類等)中、ニトロ化合物を還元剤と反応さ
せることにより行われる。反応温度および反応時間は、
通常室温乃至150℃(好適には、50℃乃至100
℃)および1時間乃至24時間(好適には、2時間乃至
8時間)である。反応終了後、反応液を濃縮し、残留物
に酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤と水酸化ナト
リウム水溶液のようなアルカリ水溶液を加え、攪拌し
て、生成した不溶性の酸化錫を濾去し、有機溶剤を分離
して、溶剤を減圧で留去することによって生成物を得る
ことができる。必要ならば、再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等で精製される。
【0081】また、第C1工程の後に、第C3工程の還
元反応を行い、次いで第C2工程のアミノ基の保護基の
除去反応を行うこともできる。
元反応を行い、次いで第C2工程のアミノ基の保護基の
除去反応を行うこともできる。
【0082】第C4工程は、一般式(X) を有する化合物
を製造する工程で、不活性溶剤中、一般式(IX)を有する
化合物を一般式 R1aC(OR8 )3 (XIV) (式中、R1aは、前述したものと同意義を示し、R8
は、C1 −C6 アルキル基、好適には、メチルまたはエ
チル基を示す。)を有する化合物と反応させることによ
り達成される。
を製造する工程で、不活性溶剤中、一般式(IX)を有する
化合物を一般式 R1aC(OR8 )3 (XIV) (式中、R1aは、前述したものと同意義を示し、R8
は、C1 −C6 アルキル基、好適には、メチルまたはエ
チル基を示す。)を有する化合物と反応させることによ
り達成される。
【0083】使用される不活性溶剤は、反応に関与しな
ければ、特に制限されず、例えば、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジクロル
メタン1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化
水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類で
あり得、好適には炭化水素類またはハロゲン化炭化水素
類である。反応温度は、原料化合物(IX)および(XIV) 、
溶剤並びに塩基の種類により異なるが、通常0℃乃至1
20℃(好適には、20℃乃至100℃)であり、反応
時間は、反応温度等により異なるが、30分間乃至24
時間(好適には、1乃至8時間)である。また、反応系
中に、触媒量の塩化水素、p−トルエンスル酸、酢酸の
ような酸を添加すると反応が促進されることがある。
ければ、特に制限されず、例えば、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジクロル
メタン1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化
水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類で
あり得、好適には炭化水素類またはハロゲン化炭化水素
類である。反応温度は、原料化合物(IX)および(XIV) 、
溶剤並びに塩基の種類により異なるが、通常0℃乃至1
20℃(好適には、20℃乃至100℃)であり、反応
時間は、反応温度等により異なるが、30分間乃至24
時間(好適には、1乃至8時間)である。また、反応系
中に、触媒量の塩化水素、p−トルエンスル酸、酢酸の
ような酸を添加すると反応が促進されることがある。
【0084】反応終了後、本反応の目的化合物(X) は、
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、析
出する生成物を濾取することまたは溶剤を減圧留去後、
残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機
溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶媒
を留去することにより得ることができ、必要ならば、常
法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等でさ
らに精製することができる。なお、第C3工程の反応系
中に、化合物(XIV) を共存させると、第C4工程の反応
も同時に進行することもある。
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、析
出する生成物を濾取することまたは溶剤を減圧留去後、
残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機
溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶媒
を留去することにより得ることができ、必要ならば、常
法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等でさ
らに精製することができる。なお、第C3工程の反応系
中に、化合物(XIV) を共存させると、第C4工程の反応
も同時に進行することもある。
【0085】第C5工程は、所望により行う工程であ
り、 反応(a):R3a、X1 およびB1 に含まれるカルボキ
シ基の保護基を、選択的にまたは非選択的に除去する反
応、 反応(b):R3aおよびB1 に含まれるテトラゾリル基
の保護基を除去する反応、 反応(c):R1aおよびR2aに含まれる1級アミノ基お
よび2級アミノ基の保護基を除去する反応、 を含み、第A2工程の相当する反応と同様に行われる。
り、 反応(a):R3a、X1 およびB1 に含まれるカルボキ
シ基の保護基を、選択的にまたは非選択的に除去する反
応、 反応(b):R3aおよびB1 に含まれるテトラゾリル基
の保護基を除去する反応、 反応(c):R1aおよびR2aに含まれる1級アミノ基お
よび2級アミノ基の保護基を除去する反応、 を含み、第A2工程の相当する反応と同様に行われる。
【0086】A法−C法の原料化合物(III)、(IIIa)お
よび(VI)は、公知化合物であるか、公知の方法で製造さ
れ[例えば、ヨーロッパ特許公開第503785号、ヨーロッ
パ特許公開第459136号、ジャーナル・オブ・メディシナ
ル・ケミストリー, 第34巻,2525頁(1991 年):J. Med.
Chem., 34, 2525(1991) 、同第34巻,2919頁(1991 年)
、同第35巻,3714頁(1992 年) 等]、原料化合物(IV)
は、以下のD法およびE法により製造される。
よび(VI)は、公知化合物であるか、公知の方法で製造さ
れ[例えば、ヨーロッパ特許公開第503785号、ヨーロッ
パ特許公開第459136号、ジャーナル・オブ・メディシナ
ル・ケミストリー, 第34巻,2525頁(1991 年):J. Med.
Chem., 34, 2525(1991) 、同第34巻,2919頁(1991 年)
、同第35巻,3714頁(1992 年) 等]、原料化合物(IV)
は、以下のD法およびE法により製造される。
【0087】
【化13】
【0088】
【化14】
【0089】上記式中、Vは、前述したものと同意義を
示し、R9 は、カルボキシ基の保護基を示し、R10は、
テトラゾリル基の保護基を示す。R9 のカルボキシ基の
保護基は、前述したR3aおよびB1 におけるものと同様
のものであり、R10のテトラゾリル基の保護基は、前述
したR3aおよびB1 におけるものと同様のものである。
示し、R9 は、カルボキシ基の保護基を示し、R10は、
テトラゾリル基の保護基を示す。R9 のカルボキシ基の
保護基は、前述したR3aおよびB1 におけるものと同様
のものであり、R10のテトラゾリル基の保護基は、前述
したR3aおよびB1 におけるものと同様のものである。
【0090】D法は、化合物(IV)において、B1 が保護
されたカルボキシ基である化合物(IVa) を製造する方法
である。第D1工程は、一般式(XVI) を有する化合物を
製造する工程で、不活性溶剤(好適には、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン,ジオキサンのようなエーテル類等)中、一
般式(XV)を有する化合物を1乃至3当量(好適には、
1.5乃至2当量)の還元剤(例えば、水素化ジイソブ
チルアルミニウム、リチウムトリエトキシアルミノハイ
ドライドのような金属水素化物、ラネーニッケルー蟻
酸、第一塩化錫等、好適には、水素化ジイソブチルアル
ミニウム)と反応させることにより行われる。
されたカルボキシ基である化合物(IVa) を製造する方法
である。第D1工程は、一般式(XVI) を有する化合物を
製造する工程で、不活性溶剤(好適には、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン,ジオキサンのようなエーテル類等)中、一
般式(XV)を有する化合物を1乃至3当量(好適には、
1.5乃至2当量)の還元剤(例えば、水素化ジイソブ
チルアルミニウム、リチウムトリエトキシアルミノハイ
ドライドのような金属水素化物、ラネーニッケルー蟻
酸、第一塩化錫等、好適には、水素化ジイソブチルアル
ミニウム)と反応させることにより行われる。
【0091】反応温度および反応時間は、−80℃乃至
60℃(好適には、−30℃乃至室温)および10分間
乃至8時間(好適には、30分間乃至4時間)である。
反応生成物は、必要に応じて、過剰の還元剤をアルコー
ル等を加えて分解した後、希塩酸および酢酸エチルのよ
うな水不混和性有機溶剤を加えて攪拌した後、有機溶剤
を分離して、溶媒を留去することにより得ることができ
る。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー
等で精製される。
60℃(好適には、−30℃乃至室温)および10分間
乃至8時間(好適には、30分間乃至4時間)である。
反応生成物は、必要に応じて、過剰の還元剤をアルコー
ル等を加えて分解した後、希塩酸および酢酸エチルのよ
うな水不混和性有機溶剤を加えて攪拌した後、有機溶剤
を分離して、溶媒を留去することにより得ることができ
る。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー
等で精製される。
【0092】第D2工程は、一般式(XVII)を有する化合
物を製造する工程で、不活性溶剤中、化合物(XVI) をシ
アン化合物(好適には、シアン化ナトリウム、シアン化
カリウムのようなアルカリ金属シアン化物、シアン化ト
リメチルシリルのようなシアン化トリC1 −C6 アルキ
ルシリル等)と反応させ、シアン化トリC1 −C6 アル
キルシリルを用いる場合は、得られた相当するO−トリ
アルキルシリル誘導体を、次いで酸と処理することによ
り行われる。
物を製造する工程で、不活性溶剤中、化合物(XVI) をシ
アン化合物(好適には、シアン化ナトリウム、シアン化
カリウムのようなアルカリ金属シアン化物、シアン化ト
リメチルシリルのようなシアン化トリC1 −C6 アルキ
ルシリル等)と反応させ、シアン化トリC1 −C6 アル
キルシリルを用いる場合は、得られた相当するO−トリ
アルキルシリル誘導体を、次いで酸と処理することによ
り行われる。
【0093】アルカリ金属シアン化物を用いる場合、そ
の使用量は1乃至3当量(好適には、1.2乃至2当
量)であり、使用される不活性溶剤は、例えば、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン,ジオキサンのようなエ
ーテル類、ジクロルメタン、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素、メタノール、エタノールのようなアル
コール、水または上記有機溶剤と水の混合溶剤であり、
反応温度および反応時間は、−10℃乃至80℃(好適
には、0℃乃至30℃)および1時間乃至24時間(好
適には、2乃至16時間)である。また、本反応は、亜
硫酸水素ナトリウムを添加すると促進される。反応終了
後、生成物は、酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤
で抽出し、抽出液を留去することにより得ることができ
る。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー
等で精製される。
の使用量は1乃至3当量(好適には、1.2乃至2当
量)であり、使用される不活性溶剤は、例えば、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン,ジオキサンのようなエ
ーテル類、ジクロルメタン、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素、メタノール、エタノールのようなアル
コール、水または上記有機溶剤と水の混合溶剤であり、
反応温度および反応時間は、−10℃乃至80℃(好適
には、0℃乃至30℃)および1時間乃至24時間(好
適には、2乃至16時間)である。また、本反応は、亜
硫酸水素ナトリウムを添加すると促進される。反応終了
後、生成物は、酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤
で抽出し、抽出液を留去することにより得ることができ
る。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー
等で精製される。
【0094】シアン化トリC1 −C6 アルキルシリルを
用いる場合、シアン化トリC1 −C6 アルキルシリルと
化合物(XVI) の反応において、シアン化トリC1 −C6
アルキルシリルの使用量は1乃至2当量(好適には、
1.05乃至1.2当量)であり、好適には、触媒量の
沃化亜鉛の存在下に行われる。使用される不活性溶剤
は、例えば、エチルエーテル、テトラヒドロフラン,ジ
オキサンのようなエーテル類、ジクロルメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素であり、反応温度お
よび反応時間は、−10℃乃至80℃(好適には、10
℃乃至40℃)および30分間乃至24時間(好適に
は、1乃至16時間)である。反応終了後、生成した目
的化合物(XVII)のO−トリアルキルシリル誘導体は、反
応液を濃縮し、酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤
で抽出し、抽出液を重曹水のような弱アルカリ水で洗浄
し、溶剤を留去することにより得ることができる。さら
に必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製
される。脱O−トリアルキルシリル化反応は、不活性溶
剤(好適には、メタノール、エタノールのようなアルコ
ール類等)中、触媒量の酸(例えば、p−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸、塩酸等)と処理することに
より行われる。
用いる場合、シアン化トリC1 −C6 アルキルシリルと
化合物(XVI) の反応において、シアン化トリC1 −C6
アルキルシリルの使用量は1乃至2当量(好適には、
1.05乃至1.2当量)であり、好適には、触媒量の
沃化亜鉛の存在下に行われる。使用される不活性溶剤
は、例えば、エチルエーテル、テトラヒドロフラン,ジ
オキサンのようなエーテル類、ジクロルメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素であり、反応温度お
よび反応時間は、−10℃乃至80℃(好適には、10
℃乃至40℃)および30分間乃至24時間(好適に
は、1乃至16時間)である。反応終了後、生成した目
的化合物(XVII)のO−トリアルキルシリル誘導体は、反
応液を濃縮し、酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤
で抽出し、抽出液を重曹水のような弱アルカリ水で洗浄
し、溶剤を留去することにより得ることができる。さら
に必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製
される。脱O−トリアルキルシリル化反応は、不活性溶
剤(好適には、メタノール、エタノールのようなアルコ
ール類等)中、触媒量の酸(例えば、p−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸、塩酸等)と処理することに
より行われる。
【0095】反応温度および反応時間は、−20℃乃至
60℃(好適には、室温付近)および10分間乃至5時
間(好適には、30分間乃至2時間)である。反応終了
後、生成物は、反応液を濃縮し、酢酸エチルのような水
不混和性有機溶剤で抽出し、抽出液を重曹水のような弱
アルカリ水で洗浄し、溶剤を留去することにより得るこ
とができる。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等で精製される。また、O−トリアルキルシリ
ル誘導体も第D3工程の原料として使用できる。
60℃(好適には、室温付近)および10分間乃至5時
間(好適には、30分間乃至2時間)である。反応終了
後、生成物は、反応液を濃縮し、酢酸エチルのような水
不混和性有機溶剤で抽出し、抽出液を重曹水のような弱
アルカリ水で洗浄し、溶剤を留去することにより得るこ
とができる。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等で精製される。また、O−トリアルキルシリ
ル誘導体も第D3工程の原料として使用できる。
【0096】第D3工程は、一般式(XVIII) を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶剤(好適には、酢酸、
プロピオン酸のような脂肪酸類、ジオキサンのようなエ
ーテル類、水等)中、化合物(XVII)または化合物(XVII)
のO−トリアルキルシリル誘導体を酸(好適には、濃硫
酸、濃塩酸等)と処理することにより行われる。反応温
度および反応時間は、50℃乃至120℃(好適には、
80℃乃至100℃)および8時間乃至3日間(好適に
は、16乃至40時間)である。
合物を製造する工程で、不活性溶剤(好適には、酢酸、
プロピオン酸のような脂肪酸類、ジオキサンのようなエ
ーテル類、水等)中、化合物(XVII)または化合物(XVII)
のO−トリアルキルシリル誘導体を酸(好適には、濃硫
酸、濃塩酸等)と処理することにより行われる。反応温
度および反応時間は、50℃乃至120℃(好適には、
80℃乃至100℃)および8時間乃至3日間(好適に
は、16乃至40時間)である。
【0097】反応生成物は、反応液を濃縮し、水酸化ナ
トリウム水溶液のようなアルカリ水溶液で塩として抽出
した後、抽出水溶液を塩酸のような酸で酸性にして、酢
酸エチルのような水不混和性有機溶剤で抽出し、溶媒を
留去することにより得ることができる。さらに必要なら
再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製される。
トリウム水溶液のようなアルカリ水溶液で塩として抽出
した後、抽出水溶液を塩酸のような酸で酸性にして、酢
酸エチルのような水不混和性有機溶剤で抽出し、溶媒を
留去することにより得ることができる。さらに必要なら
再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製される。
【0098】第D4工程は、一般式(XIX) を有する化合
物を製造する工程で、化合物(XVIII) をエステル化する
ことにより達成され、有機合成化学でよく知られている
方法で行われる。例えば、不活性溶剤(例えば、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ドのようなアミド類、ジクロルメタンのようなハロゲン
化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのような
ケトン類、アセトニトリルのようなニトリル類、好適に
は、アミド類またはケトン類)中、塩基の存在(例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような
アルカリ金属重炭酸塩、水素化リチウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、
トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、ジイソプロ
ピルエチルアミンのような第三級アミン、好適には、金
属炭酸塩または第三級アミン)下、カルボン酸(XVIII)
を式 R9 −W (XXIV) [式中、R9 は、前述したものと同意義を示し、Wは塩
素原子,臭素原子,沃素原子のようなハロゲン原子また
は式−OSO3 R9 (式中、R9 は、前述したものと同
意義を示す。)を有する基を示す。]を有する化合物と
反応させることによって行われる。反応温度、反応時間
等の反応条件および反応生成物の採取方法は、前記A法
第A1工程の反応条件および方法と同じである。
物を製造する工程で、化合物(XVIII) をエステル化する
ことにより達成され、有機合成化学でよく知られている
方法で行われる。例えば、不活性溶剤(例えば、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ドのようなアミド類、ジクロルメタンのようなハロゲン
化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのような
ケトン類、アセトニトリルのようなニトリル類、好適に
は、アミド類またはケトン類)中、塩基の存在(例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような
アルカリ金属重炭酸塩、水素化リチウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、
トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、ジイソプロ
ピルエチルアミンのような第三級アミン、好適には、金
属炭酸塩または第三級アミン)下、カルボン酸(XVIII)
を式 R9 −W (XXIV) [式中、R9 は、前述したものと同意義を示し、Wは塩
素原子,臭素原子,沃素原子のようなハロゲン原子また
は式−OSO3 R9 (式中、R9 は、前述したものと同
意義を示す。)を有する基を示す。]を有する化合物と
反応させることによって行われる。反応温度、反応時間
等の反応条件および反応生成物の採取方法は、前記A法
第A1工程の反応条件および方法と同じである。
【0099】また、エステル残基がC1 −C6 アルキル
基の場合には、カルボン酸(XVIII)をメタノール、エタ
ノール、プロパノール、ヘキサノールのようなC1 −C
6 アルコール中、塩化水素,硫酸のような酸触媒の存在
下、0℃乃至100℃で1時間乃至24時間反応させる
ことによっても行われる。目的化合物は常法、例えば、
A法の第A1工程と同様な方法で採取される。
基の場合には、カルボン酸(XVIII)をメタノール、エタ
ノール、プロパノール、ヘキサノールのようなC1 −C
6 アルコール中、塩化水素,硫酸のような酸触媒の存在
下、0℃乃至100℃で1時間乃至24時間反応させる
ことによっても行われる。目的化合物は常法、例えば、
A法の第A1工程と同様な方法で採取される。
【0100】第D5工程は、一般式(XX)を有する化合物
を製造する工程で、不活性溶剤中、化合物(XIX) を酸化
剤(好適には、二酸化マンガン、酸化銀のような金属酸
化物;ピリジンー三酸化硫黄錯体、無水トリフルオロ酢
酸、オキザリルクロライドのような酸無水物もしくは酸
クロライドとジメチルスルホキシドの組合せ)と反応さ
せることにより行われる。
を製造する工程で、不活性溶剤中、化合物(XIX) を酸化
剤(好適には、二酸化マンガン、酸化銀のような金属酸
化物;ピリジンー三酸化硫黄錯体、無水トリフルオロ酢
酸、オキザリルクロライドのような酸無水物もしくは酸
クロライドとジメチルスルホキシドの組合せ)と反応さ
せることにより行われる。
【0101】金属酸化物を用いる場合、使用される不活
性溶剤は、好適には、ジクロルメタン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素類、ヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような炭化水素類、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン,ジオキサンのようなエーテル
類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、アセ
トン、メチルエチルケトンのようなケトン類であり、反
応温度および反応時間は、0℃乃至100℃(好適に
は、10℃乃至60℃)および30分間乃至24時間
(好適には、1乃至20時間)である。反応終了後、生
成物は、不溶物を濾去した後、溶剤を留去することによ
り得ることができる。さらに必要なら再結晶、カラムク
ロマトグラフィー等で精製される。
性溶剤は、好適には、ジクロルメタン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素類、ヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような炭化水素類、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン,ジオキサンのようなエーテル
類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、アセ
トン、メチルエチルケトンのようなケトン類であり、反
応温度および反応時間は、0℃乃至100℃(好適に
は、10℃乃至60℃)および30分間乃至24時間
(好適には、1乃至20時間)である。反応終了後、生
成物は、不溶物を濾去した後、溶剤を留去することによ
り得ることができる。さらに必要なら再結晶、カラムク
ロマトグラフィー等で精製される。
【0102】ピリジンー三酸化硫黄錯体、酸無水物また
は酸クロライドとジメチルスルホキシドを酸化剤として
用いる場合、好適には、塩基(好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリンのような有機アミン等)の
存在下に行われる。使用される不活性溶剤は、好適に
は、ジクロルメタン、クロロホルムのようなハロゲン化
炭化水素類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
のような炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン,ジオキサンのようなエーテル類、酢酸エチル、酢
酸ブチルのようなエステル類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類であり、反応温度および反応時
間は、−70℃乃至60℃(好適には、−50℃乃至3
0℃)および30分間乃至16時間(好適には、1乃至
8時間)である。反応終了後、生成物は、反応液を濃縮
し、酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤で抽出し、
抽出液を水で洗浄し、溶剤を留去することにより得るこ
とができる。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等で精製される。所望により、カルボン酸の保
護基R9 を変換したい場合は、化合物(XX)の保護基をA
法第A2工程の反応(a)の方法により除去し、得られ
たカルボン酸を再度、D法第D4工程の方法または下記
の方法により、保護することによって行われる。
は酸クロライドとジメチルスルホキシドを酸化剤として
用いる場合、好適には、塩基(好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリンのような有機アミン等)の
存在下に行われる。使用される不活性溶剤は、好適に
は、ジクロルメタン、クロロホルムのようなハロゲン化
炭化水素類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
のような炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン,ジオキサンのようなエーテル類、酢酸エチル、酢
酸ブチルのようなエステル類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類であり、反応温度および反応時
間は、−70℃乃至60℃(好適には、−50℃乃至3
0℃)および30分間乃至16時間(好適には、1乃至
8時間)である。反応終了後、生成物は、反応液を濃縮
し、酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤で抽出し、
抽出液を水で洗浄し、溶剤を留去することにより得るこ
とができる。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等で精製される。所望により、カルボン酸の保
護基R9 を変換したい場合は、化合物(XX)の保護基をA
法第A2工程の反応(a)の方法により除去し、得られ
たカルボン酸を再度、D法第D4工程の方法または下記
の方法により、保護することによって行われる。
【0103】即ち、A法第A2工程の反応(a)を行う
ことにより得られたカルボン酸を、不活性溶剤(好適に
は、ジクロルメタン、クロロホルムのようなハロゲン化
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水
素類等)中、ハロゲン化剤(例えば五塩化リン,塩化チ
オニル,塩化オキザリル等)と−10℃乃至100℃
(好適には、0℃乃至80℃)で30分間乃至5時間処
理し、相当する酸ハライドに導いた後、塩基(例えば、
トリエチルアミンのような有機アミン等)の存在下、相
当するアルコール体(t−ブチルエステルを製造する際
は、t−ブトキシカリウムが望ましい。)と室温付近で
30分間乃至10時間反応することによって行われる。
目的化合物は常法、例えば、A法の第A1工程と同様な
方法で採取される。
ことにより得られたカルボン酸を、不活性溶剤(好適に
は、ジクロルメタン、クロロホルムのようなハロゲン化
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水
素類等)中、ハロゲン化剤(例えば五塩化リン,塩化チ
オニル,塩化オキザリル等)と−10℃乃至100℃
(好適には、0℃乃至80℃)で30分間乃至5時間処
理し、相当する酸ハライドに導いた後、塩基(例えば、
トリエチルアミンのような有機アミン等)の存在下、相
当するアルコール体(t−ブチルエステルを製造する際
は、t−ブトキシカリウムが望ましい。)と室温付近で
30分間乃至10時間反応することによって行われる。
目的化合物は常法、例えば、A法の第A1工程と同様な
方法で採取される。
【0104】第D6工程は、化合物(IVa) を製造する工
程で、不活性溶剤(好適には、ジクロルメタン、1,2
−ジクロルエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類)中、触媒(好適には、過酸化ベンゾイル、アゾ
ビスイソブチロニトリル等)の存在下、化合物(XX)をハ
ロゲン化剤(好適には、N−クロルスクシンイミド、N
−ブロモスクシンイミド、1,3−ジブロモ−5,5−
ジメチルヒダントイン等)と反応させることにより行わ
れる。
程で、不活性溶剤(好適には、ジクロルメタン、1,2
−ジクロルエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類)中、触媒(好適には、過酸化ベンゾイル、アゾ
ビスイソブチロニトリル等)の存在下、化合物(XX)をハ
ロゲン化剤(好適には、N−クロルスクシンイミド、N
−ブロモスクシンイミド、1,3−ジブロモ−5,5−
ジメチルヒダントイン等)と反応させることにより行わ
れる。
【0105】反応温度および反応時間は、0℃乃至10
0℃(好適には、20℃乃至80℃)および10分間乃
至24時間(好適には、30分間乃至16時間)であ
る。
0℃(好適には、20℃乃至80℃)および10分間乃
至24時間(好適には、30分間乃至16時間)であ
る。
【0106】また、本反応は、タングステンランプ等の
照射下で著しく加速されることがある。反応終了後、生
成物は、反応混合物を水洗し、無水硫酸マグネシウム等
で乾燥して、溶剤を留去することにより得ることができ
る。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー
等で精製される。
照射下で著しく加速されることがある。反応終了後、生
成物は、反応混合物を水洗し、無水硫酸マグネシウム等
で乾燥して、溶剤を留去することにより得ることができ
る。さらに必要なら再結晶、カラムクロマトグラフィー
等で精製される。
【0107】E法は、化合物(IV)において、B1 が保護
されたテトラゾリル基である化合物(IVb) を製造する方
法である。第E1工程は、一般式(XXI) を有する化合物
を製造する工程で、化合物(XVII)に含まれるシアノ基を
テトラゾリル基に変換することにより達成され、以下の
3つの方法によって行われる。
されたテトラゾリル基である化合物(IVb) を製造する方
法である。第E1工程は、一般式(XXI) を有する化合物
を製造する工程で、化合物(XVII)に含まれるシアノ基を
テトラゾリル基に変換することにより達成され、以下の
3つの方法によって行われる。
【0108】(E−1−1)アルカリ金属アジドとの反
応 本反応は、不活性溶剤(好適には、ジオキサン、1,2
−ジメトキシエタンのようなエーテル類、メタノール,
エタノールのようなアルコール類、N,N−ジメチルホ
ルムアミド,N,N−ジメチルアセトアミドのようなア
ミド類又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類)中、0.5乃至2当量(好適には、1乃至1.2当
量)のアンモニウムハライド(例えば、フッ化アンモニ
ウム、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、好適に
は、塩化アンモニウム)の存在下、相当するシアノ化合
物を1乃至5当量(好適には、1乃至3当量)のアルカ
リ金属アジド(例えば、リチウムアジド、ナトリウムア
ジド、カトリウムアジド、好適には、ナトリウムアジ
ド)と反応させることにより行われる。反応温度および
反応時間は、通常70℃乃至150℃(好適には90℃
乃至120℃)および10時間乃至7日間(好適には1
日乃至5日間)である。反応終了後、反応混合物に水と
酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤を加え、有機溶
剤層を分離し、溶剤を留去することによって生成物を得
ることができる。必要ならば、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等で精製される。
応 本反応は、不活性溶剤(好適には、ジオキサン、1,2
−ジメトキシエタンのようなエーテル類、メタノール,
エタノールのようなアルコール類、N,N−ジメチルホ
ルムアミド,N,N−ジメチルアセトアミドのようなア
ミド類又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類)中、0.5乃至2当量(好適には、1乃至1.2当
量)のアンモニウムハライド(例えば、フッ化アンモニ
ウム、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、好適に
は、塩化アンモニウム)の存在下、相当するシアノ化合
物を1乃至5当量(好適には、1乃至3当量)のアルカ
リ金属アジド(例えば、リチウムアジド、ナトリウムア
ジド、カトリウムアジド、好適には、ナトリウムアジ
ド)と反応させることにより行われる。反応温度および
反応時間は、通常70℃乃至150℃(好適には90℃
乃至120℃)および10時間乃至7日間(好適には1
日乃至5日間)である。反応終了後、反応混合物に水と
酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤を加え、有機溶
剤層を分離し、溶剤を留去することによって生成物を得
ることができる。必要ならば、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等で精製される。
【0109】(E−2−1)トリアルキルまたはトリア
リール錫アジドとの反応 本反応は、不活性溶剤(好適には、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ヘプタンのような炭化水素類、ジクロル
エタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、
ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、
N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類又はジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類)中、相当するシアノ化合物を1
乃至3当量(好適には、1乃至2当量)のトリ(C1 −
C6 アルキル)錫アジド(好適には、トリメチル錫アジ
ド、トリブチル錫アジド等)またはトリアリール錫アジ
ド(好適には、トリフェニル錫アジド、トリトリル錫ア
ジド等)と反応させ、得られた錫付加体を上記溶剤、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、水または
含水アルコール類中、酸(好適には、塩酸、硫酸等)、
塩基(好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
ようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムのようなアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩
等)またはアルカリ金属フッ化物(好適には、フッ化ナ
トリウム、フッ化化カリウム等)と処理することにより
行われる。
リール錫アジドとの反応 本反応は、不活性溶剤(好適には、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ヘプタンのような炭化水素類、ジクロル
エタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、
ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、
N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類又はジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類)中、相当するシアノ化合物を1
乃至3当量(好適には、1乃至2当量)のトリ(C1 −
C6 アルキル)錫アジド(好適には、トリメチル錫アジ
ド、トリブチル錫アジド等)またはトリアリール錫アジ
ド(好適には、トリフェニル錫アジド、トリトリル錫ア
ジド等)と反応させ、得られた錫付加体を上記溶剤、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、水または
含水アルコール類中、酸(好適には、塩酸、硫酸等)、
塩基(好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
ようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムのようなアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩
等)またはアルカリ金属フッ化物(好適には、フッ化ナ
トリウム、フッ化化カリウム等)と処理することにより
行われる。
【0110】反応温度および反応時間は、前段の反応で
は、通常60℃乃至150℃(好適には、80℃乃至1
20℃)および8時間乃至7日間(好適には、1日乃至
5日間)であり、後段の処理では、通常室温付近および
30分間乃至24時間(好適には、1時間乃至6時間)
である。反応終了後、反応混合物に水と酢酸エチルのよ
うな水不混和性有機溶剤を加え、有機溶剤層を分離し、
溶剤を留去することによって生成物を得ることができ
る。必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等
で精製される。
は、通常60℃乃至150℃(好適には、80℃乃至1
20℃)および8時間乃至7日間(好適には、1日乃至
5日間)であり、後段の処理では、通常室温付近および
30分間乃至24時間(好適には、1時間乃至6時間)
である。反応終了後、反応混合物に水と酢酸エチルのよ
うな水不混和性有機溶剤を加え、有機溶剤層を分離し、
溶剤を留去することによって生成物を得ることができ
る。必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等
で精製される。
【0111】(E−1−3)トリアルキルまたはトリア
リール錫ハライドおよびアルカリ金属アジドとの反応 本反応は、トリアルキルまたはトリアリール錫アジドの
代わりに、1乃至3当量(好適には、1乃至2当量)の
トリアルキルまたはトリアリール錫ハライド(好適に
は、トリメチル錫クロライド、トリエチル錫クロライ
ド、トリブチル錫クロライド、トリフェニル錫クロライ
ド等)および1乃至3当量(好適には、1至2当量)の
アルカリ金属アジド(好適には、ナトリウムアジド、カ
リウムアジド等)を用いる他、上記反応(E−1−2)
と同様に行われる。
リール錫ハライドおよびアルカリ金属アジドとの反応 本反応は、トリアルキルまたはトリアリール錫アジドの
代わりに、1乃至3当量(好適には、1乃至2当量)の
トリアルキルまたはトリアリール錫ハライド(好適に
は、トリメチル錫クロライド、トリエチル錫クロライ
ド、トリブチル錫クロライド、トリフェニル錫クロライ
ド等)および1乃至3当量(好適には、1至2当量)の
アルカリ金属アジド(好適には、ナトリウムアジド、カ
リウムアジド等)を用いる他、上記反応(E−1−2)
と同様に行われる。
【0112】第E2工程は、一般式(XXII)を有する化合
物を製造する工程で、化合物(XXI)に含まれるテトラゾ
リル基を保護化することにより達成され、不活性溶剤
(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミドのようなアミド類、ジクロルメタ
ン、1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類、アセトニトリルのようなニトリル類、好適には、ア
ミド類またはケトン類)中、塩基の存在[例えば、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのようなアルカ
リ金属重炭酸塩、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、ピリジ
ン、1,6−ルチジンのようなピリジン類、トリエチル
アミン、N−メチルモルホリン、ジイソプロピルエチル
アミンのような第三級アミン、好適には、金属炭酸塩、
ピリジン類(溶剤を兼ねて大過剰使用できる。)または
第三級アミン]下、化合物(XXI) を式 R10−W (XXV) (式中、R10およびWは、前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物と反応させることによって行われ
る。反応温度、反応時間等の反応条件および反応生成物
の採取方法は、前記A法第A1工程の反応条件および方
法と同じである。
物を製造する工程で、化合物(XXI)に含まれるテトラゾ
リル基を保護化することにより達成され、不活性溶剤
(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミドのようなアミド類、ジクロルメタ
ン、1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類、アセトニトリルのようなニトリル類、好適には、ア
ミド類またはケトン類)中、塩基の存在[例えば、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのようなアルカ
リ金属重炭酸塩、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、ピリジ
ン、1,6−ルチジンのようなピリジン類、トリエチル
アミン、N−メチルモルホリン、ジイソプロピルエチル
アミンのような第三級アミン、好適には、金属炭酸塩、
ピリジン類(溶剤を兼ねて大過剰使用できる。)または
第三級アミン]下、化合物(XXI) を式 R10−W (XXV) (式中、R10およびWは、前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物と反応させることによって行われ
る。反応温度、反応時間等の反応条件および反応生成物
の採取方法は、前記A法第A1工程の反応条件および方
法と同じである。
【0113】第E3工程は、一般式(XXIII) を有する化
合物を製造する工程で、化合物(XXII)を酸化することに
より達成され、前記D法の第D5工程と同様に反応する
ことにより行われる。
合物を製造する工程で、化合物(XXII)を酸化することに
より達成され、前記D法の第D5工程と同様に反応する
ことにより行われる。
【0114】第E4工程は、化合物(IVb) を製造する工
程で、化合物(XXIII) をハロゲン化することにより達成
され、前記D法の第D6工程と同様に反応することによ
り行われる。
程で、化合物(XXIII) をハロゲン化することにより達成
され、前記D法の第D6工程と同様に反応することによ
り行われる。
【0115】
【発明の効果】本発明の前記一般式(I)を有する化合
物は、以下に示すようにアンジオテンシンIIによる血圧
上昇を強く抑制し、血圧降下剤、心疾患治療剤等の循環
器系疾患の予防、治療薬としてきわめて有用である。
物は、以下に示すようにアンジオテンシンIIによる血圧
上昇を強く抑制し、血圧降下剤、心疾患治療剤等の循環
器系疾患の予防、治療薬としてきわめて有用である。
【0116】アンジオテンシンIIによる昇圧の抑制試験 各化合物の生理活性の評価は、ラットにアンジオテンシ
ンIIを静脈内投与した時に生ずる昇圧反応を50%抑制
するのに必要な化合物の投与量(ID50)を測定するこ
とにより行った。すなわち、まず、チオブタバルビター
ルナトリウム(イナクチン:登録商標、100mg/kg腹
腔内投与)で麻酔した雄のウィスター今道ラット(体
重:300〜400g)の大腿動脈及び大腿静脈にそれ
ぞれ血圧測定用、薬物注入用のカニューレを挿入、設置
した。次に、血圧をモニターしながら、アンジオテンシ
ンIIを50ng/kg、約10分毎に静脈内投与し昇圧反応
(約50mmHgの血圧増加)を観察した。反応高が一定に
なった後、被検薬をアンジオテンシンII投与の2分前に
静脈内投与し、被検薬の抑制効果を検討した。被検薬の
投与量を漸増し、アンジオテンシンII昇圧の抑制率
(%)より、ID50を決定した。尚、アンジオテンシン
IIは0.5 %牛血清アルブミン(BSA)に、被検薬は1
00%ジメチルスルホキシド(DMSO)に溶解して使用し
た。このようにして求められたID50を表4に示す。
ンIIを静脈内投与した時に生ずる昇圧反応を50%抑制
するのに必要な化合物の投与量(ID50)を測定するこ
とにより行った。すなわち、まず、チオブタバルビター
ルナトリウム(イナクチン:登録商標、100mg/kg腹
腔内投与)で麻酔した雄のウィスター今道ラット(体
重:300〜400g)の大腿動脈及び大腿静脈にそれ
ぞれ血圧測定用、薬物注入用のカニューレを挿入、設置
した。次に、血圧をモニターしながら、アンジオテンシ
ンIIを50ng/kg、約10分毎に静脈内投与し昇圧反応
(約50mmHgの血圧増加)を観察した。反応高が一定に
なった後、被検薬をアンジオテンシンII投与の2分前に
静脈内投与し、被検薬の抑制効果を検討した。被検薬の
投与量を漸増し、アンジオテンシンII昇圧の抑制率
(%)より、ID50を決定した。尚、アンジオテンシン
IIは0.5 %牛血清アルブミン(BSA)に、被検薬は1
00%ジメチルスルホキシド(DMSO)に溶解して使用し
た。このようにして求められたID50を表4に示す。
【0117】
【表4】 ────────────────────── 試験化合物 ID50(mg/kg, i.v.) ────────────────────── 実施例1の化合物 0.0065 実施例2の化合物 0.026 実施例6の化合物 0.020 実施例7の化合物 0.021 実施例8の化合物 0.060 実施例9の化合物 0.053 実施例10の化合物 0.022 実施例11の化合物 0.017 実施例12の化合物 0.042 実施例13の化合物 0.048 実施例14の化合物 0.0096 実施例16の化合物 0.024 実施例20の化合物 0.026 ────────────────────── 。
【0118】化合物(I)およびその薬理上許容される
塩類を循環器系疾患の治療剤として用いる場合、それ自
体あるいは適宜の薬理学的に許容される担体、賦形剤、
希釈剤等と混合し、散剤、顆粒剤、錠剤、カプセル剤、
注射剤等の医薬組成物として経口的または非経口的に投
与することができる。投与量は対象疾患の状態、投与方
法により異なるが、経口投与では通常1回量1乃至1000
mg、とりわけ約5乃至300mgが、静脈内投与では1回
量薬0.1 乃至100mg、とりわけ約0.5 乃至30mgが好
ましく、これらの薬用量を症状に応じて1日1乃至3回
投与するのが望ましい。以下に実施例及び参考例を示し
て本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこ
れらに限定されるものではない。
塩類を循環器系疾患の治療剤として用いる場合、それ自
体あるいは適宜の薬理学的に許容される担体、賦形剤、
希釈剤等と混合し、散剤、顆粒剤、錠剤、カプセル剤、
注射剤等の医薬組成物として経口的または非経口的に投
与することができる。投与量は対象疾患の状態、投与方
法により異なるが、経口投与では通常1回量1乃至1000
mg、とりわけ約5乃至300mgが、静脈内投与では1回
量薬0.1 乃至100mg、とりわけ約0.5 乃至30mgが好
ましく、これらの薬用量を症状に応じて1日1乃至3回
投与するのが望ましい。以下に実施例及び参考例を示し
て本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこ
れらに限定されるものではない。
【0119】
【実施例】 実施例14−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1−
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸 (例示化合
物番号1−2) (a)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチ
ル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル288mgの
N,N−ジメチルアセトアミド3ml溶液に、氷冷下、カ
リウム t −ブトキシド140mgを加え、5分間攪拌し
たのち、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニ
ル−2−イル)グリオキシル酸メチル433mgのN,N
−ジメチルアセトアミド5ml溶液を加えた。混合物を室
温で4時間攪拌したのち、反応液に酢酸エチルと水を加
え、有機溶剤層を分離し、芒硝で乾燥後、溶剤を留去し
た。残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:1)を溶媒系
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、
シロップ状の目的化合物447mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.98
(3H, t, J=7.5Hz),1.26(3H, t, J=7Hz), 1.64(6H, s),
1.75(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.65(2H, t,J=7.5Hz), 3.
31(3H, s), 4.27(2H, q, J=7Hz), 5.51(2H, s), 5.68(1
H, s),6.99(2H, d, J=8.5Hz), 7.27(2H, d, J=8.5Hz),
7.42(1H, d, J=7Hz), 7.51(1H,t, J=7Hz), 7.65(1H, t,
J=7Hz), 7.81(1H, d, J=7Hz) 。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸 実施例1(a)で得た化合物447mgのジオキサン5ml
溶液に、水酸化リチウム1水和物247mgの水3ml溶液
を加え、室温で5時間攪拌した。反応液中のジオキサン
を減圧留去し、残留溶液に1N塩酸 5.9mlを加え、析出
する結晶を濾取し、風乾して、目的物310mgを得た。 融点:163℃(軟化),183−185℃(溶融)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.56(6H, s), 1.59(2H, sextet, J
=7.5Hz), 2.61(2H, t, J=7.5Hz), 5.71(2H,s), 7.07(2
H, d, J=8Hz), 7.25(2H, d, J=8Hz), 7.46(1H, d, J=7H
z), 7.54(1H,t, J=7Hz), 7.66-7.72(2H, m) 。
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸 (例示化合
物番号1−2) (a)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチ
ル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル288mgの
N,N−ジメチルアセトアミド3ml溶液に、氷冷下、カ
リウム t −ブトキシド140mgを加え、5分間攪拌し
たのち、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニ
ル−2−イル)グリオキシル酸メチル433mgのN,N
−ジメチルアセトアミド5ml溶液を加えた。混合物を室
温で4時間攪拌したのち、反応液に酢酸エチルと水を加
え、有機溶剤層を分離し、芒硝で乾燥後、溶剤を留去し
た。残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:1)を溶媒系
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、
シロップ状の目的化合物447mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.98
(3H, t, J=7.5Hz),1.26(3H, t, J=7Hz), 1.64(6H, s),
1.75(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.65(2H, t,J=7.5Hz), 3.
31(3H, s), 4.27(2H, q, J=7Hz), 5.51(2H, s), 5.68(1
H, s),6.99(2H, d, J=8.5Hz), 7.27(2H, d, J=8.5Hz),
7.42(1H, d, J=7Hz), 7.51(1H,t, J=7Hz), 7.65(1H, t,
J=7Hz), 7.81(1H, d, J=7Hz) 。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸 実施例1(a)で得た化合物447mgのジオキサン5ml
溶液に、水酸化リチウム1水和物247mgの水3ml溶液
を加え、室温で5時間攪拌した。反応液中のジオキサン
を減圧留去し、残留溶液に1N塩酸 5.9mlを加え、析出
する結晶を濾取し、風乾して、目的物310mgを得た。 融点:163℃(軟化),183−185℃(溶融)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.56(6H, s), 1.59(2H, sextet, J
=7.5Hz), 2.61(2H, t, J=7.5Hz), 5.71(2H,s), 7.07(2
H, d, J=8Hz), 7.25(2H, d, J=8Hz), 7.46(1H, d, J=7H
z), 7.54(1H,t, J=7Hz), 7.66-7.72(2H, m) 。
【0120】実施例22−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)
メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 (例示化合物番
号1−3) (a)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4
−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸エチル 2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)イミダゾール−5−カルボン酸エチル509mg、カ
リウム t −ブトキシド247mgおよび(4′−ブロモ
メチルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル7
33mgを用いて、実施例1(a)と同様の方法によりシ
ロップ状の目的化合物878mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.91
(3H, t, J=7.5Hz),1.27(3H, t, J=7Hz), 1.39(2H, sext
et, J=7.5Hz), 1.64(6H, s), 1.62-1.75(2H, m), 2.67
(2H, t, J=7.5Hz), 3.31(3H, s), 4.27(2H, q, J=7Hz),
5.51(2H, s), 5.69(1H, s), 6.99(2H, d, J=8Hz), 7.2
7(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J=7Hz), 7.51(1H, t, J
=7Hz), 7.65(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H, d, J=7Hz) 。 (b)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イ
ル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 実施例2(a)で得た化合物878mgおよび水酸化リチ
ウム1水和物364mgを用いて、実施例1(b)と同様
の方法により、粉末状の目的化合物571mgを得た。 融点:140℃(軟化),165−170℃(溶融)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
82(3H, t, J=7.5Hz),1.28(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.47
-1.60(2H, m), 1.55(6H, s), 2.63(2H, t, J=7.5Hz),
6.71(2H, s), 7.08(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H, d, J=8H
z), 7.46(1H, d,J=7Hz), 7.55(1H, t, J=7Hz), 7.67-7.
72(2H, m)。
ル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)
メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 (例示化合物番
号1−3) (a)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4
−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸エチル 2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)イミダゾール−5−カルボン酸エチル509mg、カ
リウム t −ブトキシド247mgおよび(4′−ブロモ
メチルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル7
33mgを用いて、実施例1(a)と同様の方法によりシ
ロップ状の目的化合物878mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.91
(3H, t, J=7.5Hz),1.27(3H, t, J=7Hz), 1.39(2H, sext
et, J=7.5Hz), 1.64(6H, s), 1.62-1.75(2H, m), 2.67
(2H, t, J=7.5Hz), 3.31(3H, s), 4.27(2H, q, J=7Hz),
5.51(2H, s), 5.69(1H, s), 6.99(2H, d, J=8Hz), 7.2
7(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J=7Hz), 7.51(1H, t, J
=7Hz), 7.65(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H, d, J=7Hz) 。 (b)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イ
ル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 実施例2(a)で得た化合物878mgおよび水酸化リチ
ウム1水和物364mgを用いて、実施例1(b)と同様
の方法により、粉末状の目的化合物571mgを得た。 融点:140℃(軟化),165−170℃(溶融)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
82(3H, t, J=7.5Hz),1.28(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.47
-1.60(2H, m), 1.55(6H, s), 2.63(2H, t, J=7.5Hz),
6.71(2H, s), 7.08(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H, d, J=8H
z), 7.46(1H, d,J=7Hz), 7.55(1H, t, J=7Hz), 7.67-7.
72(2H, m)。
【0121】実施例34−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1−
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル (例
示化合物番号1−26) (a)1−〔(2′−t −ブトキシオキザリルビフェニ
ル−4−イル)メチル〕4−(1−ヒドロキシ−1−メ
チルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カルボ
ン酸エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル2.18g、カリ
ウム t −ブトキシド1.12gおよび参考例9で得た
(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)グリオキ
シル酸t −ブチル3.75gを用いて、実施例1(a)と同
様の方法により、ガム状の目的化合物3.73gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.98
(3H, t, J=7.5Hz),1.16(9H, s), 1.23(2H, t, J=7Hz),
1.64(6H, s), 1.76(2H, sextet, J=7.5Hz),2.63(2H, t,
J=7.5Hz), 4.25(2H, q, J=7Hz), 5.50(2H, s), 5.73(1
H, s), 7.00(2H, d, J=8Hz), 7.30(2H, d, J=8Hz), 7.4
0(1H, d, J=7Hz), 7.48(1H, t, J=7Hz), 7.60(1H, t, J
=7Hz), 7.71(1H, d, J=7Hz) 。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル 実施例3(a)で得た化合物570mgを4N塩化水素−
ジオキサン溶液6mlに溶かし、室温で4時間攪拌した。
反応液を減圧濃縮し、残留物をエチルエーテル中で結晶
体粉末とし、目的化合物の塩酸塩448mgを得た。 融点:156−158℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
89(3H, t, J=7.5Hz),1.17(3H, t, J=7Hz), 1.50-1.65(2
H, m), 1.61(6H, s), 2.96(2H, t, J=7.5Hz),4.24(2H,
q, J=7Hz), 5.65(2H, s), 7.17(2H, d, J=8Hz), 7.29(2
H, d, J=8Hz),7.46(1H, d, J=7Hz), 7.57(1H, t, J=7H
z), 7.68-7.74(2H, m)。
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル (例
示化合物番号1−26) (a)1−〔(2′−t −ブトキシオキザリルビフェニ
ル−4−イル)メチル〕4−(1−ヒドロキシ−1−メ
チルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カルボ
ン酸エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル2.18g、カリ
ウム t −ブトキシド1.12gおよび参考例9で得た
(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)グリオキ
シル酸t −ブチル3.75gを用いて、実施例1(a)と同
様の方法により、ガム状の目的化合物3.73gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.98
(3H, t, J=7.5Hz),1.16(9H, s), 1.23(2H, t, J=7Hz),
1.64(6H, s), 1.76(2H, sextet, J=7.5Hz),2.63(2H, t,
J=7.5Hz), 4.25(2H, q, J=7Hz), 5.50(2H, s), 5.73(1
H, s), 7.00(2H, d, J=8Hz), 7.30(2H, d, J=8Hz), 7.4
0(1H, d, J=7Hz), 7.48(1H, t, J=7Hz), 7.60(1H, t, J
=7Hz), 7.71(1H, d, J=7Hz) 。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル 実施例3(a)で得た化合物570mgを4N塩化水素−
ジオキサン溶液6mlに溶かし、室温で4時間攪拌した。
反応液を減圧濃縮し、残留物をエチルエーテル中で結晶
体粉末とし、目的化合物の塩酸塩448mgを得た。 融点:156−158℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
89(3H, t, J=7.5Hz),1.17(3H, t, J=7Hz), 1.50-1.65(2
H, m), 1.61(6H, s), 2.96(2H, t, J=7.5Hz),4.24(2H,
q, J=7Hz), 5.65(2H, s), 7.17(2H, d, J=8Hz), 7.29(2
H, d, J=8Hz),7.46(1H, d, J=7Hz), 7.57(1H, t, J=7H
z), 7.68-7.74(2H, m)。
【0122】実施例44−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1−
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸ピバロイル
オキシメチル・塩酸塩 (例示化合物番号1−27の塩酸
塩) (a)1−〔(2′−t −ブトキシオキザリルビフェニ
ル−4−イル)メチル〕−4−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カル
ボン酸ピバロイルオキシメチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸ピバロイルオキシメ
チル1.64g,カリウム t −ブトキシド617mgおよび
参考例9で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−
イル)グリオキシル酸t −ブチル2.25gを用いて、実施
例1(a)と同様の方法により、ガム状の目的化合物9
36mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.00
(3H, t, J=7.5Hz),1.15(9H, s), 1.17(3H, s), 1.62(6
H, s), 1.82(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.64(2H, t, J=7.
5Hz), 5.37(1H, s), 5.48(2H, s), 5.84(2H, s), 7.03
(2H, d, J=8Hz), 7.30(2H, d, J=8Hz), 7.39(1H, d, J
=7Hz), 7.48(1H, t, J=7Hz), 7.60(1H, t, J=7Hz), 7.7
1(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸ピバロイ
ルオキシメチル・塩酸塩 実施例4(a)で得た化合物936mgを、実施例3
(b)と同様の方法で、4N塩化水素−ジオキサン10
mlで処理して、無定形粉末の目的化合物655mgを得
た。 融点:85℃(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.10(9H, s), 1.48-1.62(2H, m),
1.58(6H, s), 2.90(2H, t, J=7.5Hz), 5.64(2H, s), 5.
88(2H, s), 7.17(2H, d, J=8Hz), 7.28(2H, d, J=8Hz),
7.46(1H,d, J=7Hz), 7.57(1H, t, J=7Hz), 7.68-7.74
(2H, m) 。
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸ピバロイル
オキシメチル・塩酸塩 (例示化合物番号1−27の塩酸
塩) (a)1−〔(2′−t −ブトキシオキザリルビフェニ
ル−4−イル)メチル〕−4−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カル
ボン酸ピバロイルオキシメチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸ピバロイルオキシメ
チル1.64g,カリウム t −ブトキシド617mgおよび
参考例9で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−
イル)グリオキシル酸t −ブチル2.25gを用いて、実施
例1(a)と同様の方法により、ガム状の目的化合物9
36mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.00
(3H, t, J=7.5Hz),1.15(9H, s), 1.17(3H, s), 1.62(6
H, s), 1.82(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.64(2H, t, J=7.
5Hz), 5.37(1H, s), 5.48(2H, s), 5.84(2H, s), 7.03
(2H, d, J=8Hz), 7.30(2H, d, J=8Hz), 7.39(1H, d, J
=7Hz), 7.48(1H, t, J=7Hz), 7.60(1H, t, J=7Hz), 7.7
1(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸ピバロイ
ルオキシメチル・塩酸塩 実施例4(a)で得た化合物936mgを、実施例3
(b)と同様の方法で、4N塩化水素−ジオキサン10
mlで処理して、無定形粉末の目的化合物655mgを得
た。 融点:85℃(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.10(9H, s), 1.48-1.62(2H, m),
1.58(6H, s), 2.90(2H, t, J=7.5Hz), 5.64(2H, s), 5.
88(2H, s), 7.17(2H, d, J=8Hz), 7.28(2H, d, J=8Hz),
7.46(1H,d, J=7Hz), 7.57(1H, t, J=7Hz), 7.68-7.74
(2H, m) 。
【0123】実施例54−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1−
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸(5−メチ
ル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メ
チル・塩酸塩 (例示化合物番号1−28の塩酸塩) (a)1−〔2′−t −ブトキシオキザリルビフェニル
−4−イル)メチル〕−4−(1−ヒドロキシ−1−メ
チルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カルボ
ン酸(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン
−4−イル)メチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸(5−メチル−2−
オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル31
5mgと参考例9で得た(4′−ブロモメチルビフェニル
−2−イル)グリオキシル酸t −ブチル364mgのN,
N−ジメチルアセトアミド10ml溶液を、粉末状炭酸カ
リウム268mgを含む60℃に加温したN,N−ジメチ
ルアセトアミド3ml中に攪拌しながら、滴加した。滴加
後、60℃で 1.5時間攪拌した。反応液に酢酸エチルと
水を加え、有機溶剤層を分離し、水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶剤を減圧留去した。残留物を酢酸
エチル−ヘキサン(1:1)を溶媒系とするシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、結晶性の化合物を得
た。これをさらにイソプロピルエーテルで洗浄して、目
的化合物195mgを得た。 融点:154−156℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.00
(3H, t, J=7.5Hz),1.18(9H, s), 1.62(6H, s), 1.78(2
H, sextet, J=7.5Hz), 2.08(3H, s), 2.66(2H, t, J=7.
5Hz), 4.92(2H, s), 5.43(2H, s), 5.55(1H, s), 6.96
(2H, d, J=8Hz), 7.30(2H, d, J=8Hz), 7.44(1H, d, J
=7Hz), 7.49(1H, t, J=7Hz), 7.63(1H, t, J=7Hz), 7.7
1(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸(5−メ
チル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)
メチル・塩酸塩 実施例5(a)で得た化合物360mgを、実施例3
(b)と同様の方法で、4N塩化水素−ジオキサン5ml
で処理して、無定形粉末の目的化合物308mgを得た。 融点:80℃以上(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
89(3H, t, J=7.5Hz),1.50-1.62(2H, m), 1.59(9H, s),
2.12(6H, s), 2.95(2H, t, J=7.5Hz), 5.15(2H, s), 5.
63(2H, s), 7.15(2H, d, J=8Hz), 7.27(2H, d, J=8Hz),
7.48(1H,d, J=7Hz), 7.57(1H, t, J=7Hz), 7.68-7.76
(2H, m) 。
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸(5−メチ
ル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メ
チル・塩酸塩 (例示化合物番号1−28の塩酸塩) (a)1−〔2′−t −ブトキシオキザリルビフェニル
−4−イル)メチル〕−4−(1−ヒドロキシ−1−メ
チルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カルボ
ン酸(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン
−4−イル)メチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸(5−メチル−2−
オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチル31
5mgと参考例9で得た(4′−ブロモメチルビフェニル
−2−イル)グリオキシル酸t −ブチル364mgのN,
N−ジメチルアセトアミド10ml溶液を、粉末状炭酸カ
リウム268mgを含む60℃に加温したN,N−ジメチ
ルアセトアミド3ml中に攪拌しながら、滴加した。滴加
後、60℃で 1.5時間攪拌した。反応液に酢酸エチルと
水を加え、有機溶剤層を分離し、水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶剤を減圧留去した。残留物を酢酸
エチル−ヘキサン(1:1)を溶媒系とするシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、結晶性の化合物を得
た。これをさらにイソプロピルエーテルで洗浄して、目
的化合物195mgを得た。 融点:154−156℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.00
(3H, t, J=7.5Hz),1.18(9H, s), 1.62(6H, s), 1.78(2
H, sextet, J=7.5Hz), 2.08(3H, s), 2.66(2H, t, J=7.
5Hz), 4.92(2H, s), 5.43(2H, s), 5.55(1H, s), 6.96
(2H, d, J=8Hz), 7.30(2H, d, J=8Hz), 7.44(1H, d, J
=7Hz), 7.49(1H, t, J=7Hz), 7.63(1H, t, J=7Hz), 7.7
1(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕
−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸(5−メ
チル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)
メチル・塩酸塩 実施例5(a)で得た化合物360mgを、実施例3
(b)と同様の方法で、4N塩化水素−ジオキサン5ml
で処理して、無定形粉末の目的化合物308mgを得た。 融点:80℃以上(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
89(3H, t, J=7.5Hz),1.50-1.62(2H, m), 1.59(9H, s),
2.12(6H, s), 2.95(2H, t, J=7.5Hz), 5.15(2H, s), 5.
63(2H, s), 7.15(2H, d, J=8Hz), 7.27(2H, d, J=8Hz),
7.48(1H,d, J=7Hz), 7.57(1H, t, J=7Hz), 7.68-7.76
(2H, m) 。
【0124】実施例64−ヒドロキシメチル−1−〔(2′−オキザロビフェ
ニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール
−5−カルボン酸 (例示化合物番号1−4) (a)4−アセトキシメチル−1−〔(2′−メトキサ
リルビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイ
ミダゾール−5−カルボン酸エチル 4−アセトキシメチル−2−プロピルイミダゾール−5
−カルボン酸エチル387mgのN,N−ジメチルアセト
アミド5ml溶液に、炭酸カリウム210mgついで参考例
8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)
グリオキシル酸メチル583mgを加え、室温で16時間
攪拌した。反応液に酢酸エチルと水を加え、有機溶剤層
を分離し、水および食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥したのち、溶剤を減圧留去した。残留物を、
酢酸エチル−ヘキサン(2:1)を溶媒系とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、最初に溶出した
画分から、ガム状の目的化合物696mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.98
(3H, t, J=7.5Hz),1.31(3H, t, J=7Hz), 1.77(2H, sext
et, J=7.5Hz), 2.12(3H, s), 2.65(2H, t,J=7.5Hz), 3.
30(3H, s), 4.26(2H, q, J=7Hz), 5.33(2H, s), 5.61(2
H, s),7.04(2H, d, J=8Hz), 7.27(2H, d, J=8Hz), 7.42
(1H, d, J=7Hz), 7.51(1H, t,J=7Hz), 7.64(1H, t, J=7
Hz), 7.82(1H, d, J=7Hz)。 次に溶出した画分から、ガム状の目的化合物の異性体で
ある5−アセトキシメチル−1−〔(2′−メトキサリ
ルビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミ
ダゾール−4−カルボン酸エチル156mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.96
(3H, t, J=7.5Hz),1.41(3H, t, J=7Hz), 1.75(2H, sext
et, J=7.5Hz), 1.92(3H, s), 2.63(2H, t,J=7.5Hz), 3.
41(3H, s), 4.42(2H, q, J=7Hz), 5.25(2H, s), 5.43(2
H, s),6.99(2H, d, J=8Hz), 7.29(2H, d, J=8Hz), 7.40
(1H, d, J=7Hz), 7.52(1H, t,J=7Hz), 7.64(1H, t, J=7
Hz), 7.80(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−ヒドロキシメチル−1−〔2′−オキザロビ
フェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾ
ール−5−カルボン酸 実施例6(a)で得た4−アセトキシメチル−1−
〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチ
ル696mgのジオキサン 8.9ml溶液に、1Nカ性ソーダ
水溶液 8.2mlを加え、16時間室温で攪拌した。反応
後、ジオキサンを減圧留去し、残留水溶液に1N塩酸
8.2mlを加え、析出する結晶を濾取して、目的化合物4
28mgを得た。 融点:223−225℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.61(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.64
(2H, t, J=7.5Hz), 4.66(2H, s), 5.68(2H, s), 7.09(2
H, d, J=8Hz), 7.27(2H, d, J=8Hz), 7.45(1H, d, J=7H
z), 7.54(1H,t, J=7Hz), 7.65-7.73(2H, m) 。
ニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール
−5−カルボン酸 (例示化合物番号1−4) (a)4−アセトキシメチル−1−〔(2′−メトキサ
リルビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイ
ミダゾール−5−カルボン酸エチル 4−アセトキシメチル−2−プロピルイミダゾール−5
−カルボン酸エチル387mgのN,N−ジメチルアセト
アミド5ml溶液に、炭酸カリウム210mgついで参考例
8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)
グリオキシル酸メチル583mgを加え、室温で16時間
攪拌した。反応液に酢酸エチルと水を加え、有機溶剤層
を分離し、水および食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥したのち、溶剤を減圧留去した。残留物を、
酢酸エチル−ヘキサン(2:1)を溶媒系とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、最初に溶出した
画分から、ガム状の目的化合物696mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.98
(3H, t, J=7.5Hz),1.31(3H, t, J=7Hz), 1.77(2H, sext
et, J=7.5Hz), 2.12(3H, s), 2.65(2H, t,J=7.5Hz), 3.
30(3H, s), 4.26(2H, q, J=7Hz), 5.33(2H, s), 5.61(2
H, s),7.04(2H, d, J=8Hz), 7.27(2H, d, J=8Hz), 7.42
(1H, d, J=7Hz), 7.51(1H, t,J=7Hz), 7.64(1H, t, J=7
Hz), 7.82(1H, d, J=7Hz)。 次に溶出した画分から、ガム状の目的化合物の異性体で
ある5−アセトキシメチル−1−〔(2′−メトキサリ
ルビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミ
ダゾール−4−カルボン酸エチル156mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.96
(3H, t, J=7.5Hz),1.41(3H, t, J=7Hz), 1.75(2H, sext
et, J=7.5Hz), 1.92(3H, s), 2.63(2H, t,J=7.5Hz), 3.
41(3H, s), 4.42(2H, q, J=7Hz), 5.25(2H, s), 5.43(2
H, s),6.99(2H, d, J=8Hz), 7.29(2H, d, J=8Hz), 7.40
(1H, d, J=7Hz), 7.52(1H, t,J=7Hz), 7.64(1H, t, J=7
Hz), 7.80(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−ヒドロキシメチル−1−〔2′−オキザロビ
フェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾ
ール−5−カルボン酸 実施例6(a)で得た4−アセトキシメチル−1−
〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチ
ル696mgのジオキサン 8.9ml溶液に、1Nカ性ソーダ
水溶液 8.2mlを加え、16時間室温で攪拌した。反応
後、ジオキサンを減圧留去し、残留水溶液に1N塩酸
8.2mlを加え、析出する結晶を濾取して、目的化合物4
28mgを得た。 融点:223−225℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.61(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.64
(2H, t, J=7.5Hz), 4.66(2H, s), 5.68(2H, s), 7.09(2
H, d, J=8Hz), 7.27(2H, d, J=8Hz), 7.45(1H, d, J=7H
z), 7.54(1H,t, J=7Hz), 7.65-7.73(2H, m) 。
【0125】実施例7〔4′−〔4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
−2−プロピル−5−(テトラゾール−5−イル)イミ
ダゾール−1−イルメチル〕ビフェニル−2−イル〕グ
リオキシル酸 (例示化合物番号1−40) (a)〔4′−〔4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−2−プロピル−5−(2−トリチルテトラゾー
ル−5−イル)イミダゾール−1−イルメチル〕ビフェ
ニル−2−イル〕グリオキシル酸メチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピル−2−(2−トリチルテトラゾール−5−イル)イ
ミダゾール479mg、カリウム t −ブトキシド123
mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニ
ル−2−イル)グリオキシル酸メチル366mgを用い
て、実施例1(a)と同様の方法により、ガム状の目的
化合物527mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.97
(3H, t, J=7.5Hz),1.57(9H, s), 1.74(2H, sextet, J=
7.5Hz), 2.65(2H, t, J=7.5Hz), 3.14(3H, s), 5.32(1
H, s), 5.43(2H, s), 6.74(2H, d, J=8Hz), 7.00-7.03
(6H, m), 7.12(2H, d, J=8Hz), 7.26-7.37(10H, m), 7.
51(1H, t, J=7Hz), 7.64(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H, d,
J=7Hz) 。 (b)〔4′−〔4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−2−プロピル−5−(テトラゾール−5−イ
ル)イミダゾール−1−イルメチル〕ビフェニル−2−
イル〕グリオキシル酸メチル 実施例7(a)で得た化合物527mgの酢酸 3.5ml溶液
に水 1.5mlを加え、70℃で 1.5時間攪拌した。反応
後、水2mlを加え、氷冷し、沈澱物を濾去した。濾液を
減圧濃縮し、トルエンとの共沸留去により、残存する酢
酸を除去したのち、エチルエーテル−酢酸エチル中よ
り、結晶性の目的化合物206mgを得た。 融点:131−132℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
90(3H, t, J=7.5Hz),1.47(6H, s), 1.59(2H, sextet, J
=7.5Hz), 2.80(2H, t, J=7.5Hz), 3.16(3H, s), 5.67(2
H, s), 7.08(2H, d, J=8Hz), 7.21(2H, d, J=8Hz), 7.4
7(1H, d, J=7Hz), 7.58(1H, t, J=7Hz), 7.70-7.77(2H,
m) 。 (c)4′−〔4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−2−プロピル−5−(テトラゾール−5−イル)
イミダゾール−1−イルメチル〕ビフェニル−2−イ
ル〕グリオキシル酸 実施例7(b)で得た化合物180mgおよび水酸化リチ
ウム・1水和物77mgを用いて、実施例1(b)と同様
の方法により、目的化合物95mgを得た。 融点:169−170℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO−d6)
δppm :0.87(3H, t, J=7.5Hz),1.43(6H, s), 1.53(2H,
sextet, J=7.5Hz), 2.81(2H, t, J=7.5Hz), 5.55(2H,
s), 7.12(2H, d, J=8Hz), 7.22(2H, d, J=8Hz), 7.42(1
H, d, J=7Hz), 7.56(1H,t, J=7Hz), 7.66-7.75(2H, m)
。
−2−プロピル−5−(テトラゾール−5−イル)イミ
ダゾール−1−イルメチル〕ビフェニル−2−イル〕グ
リオキシル酸 (例示化合物番号1−40) (a)〔4′−〔4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−2−プロピル−5−(2−トリチルテトラゾー
ル−5−イル)イミダゾール−1−イルメチル〕ビフェ
ニル−2−イル〕グリオキシル酸メチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピル−2−(2−トリチルテトラゾール−5−イル)イ
ミダゾール479mg、カリウム t −ブトキシド123
mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニ
ル−2−イル)グリオキシル酸メチル366mgを用い
て、実施例1(a)と同様の方法により、ガム状の目的
化合物527mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.97
(3H, t, J=7.5Hz),1.57(9H, s), 1.74(2H, sextet, J=
7.5Hz), 2.65(2H, t, J=7.5Hz), 3.14(3H, s), 5.32(1
H, s), 5.43(2H, s), 6.74(2H, d, J=8Hz), 7.00-7.03
(6H, m), 7.12(2H, d, J=8Hz), 7.26-7.37(10H, m), 7.
51(1H, t, J=7Hz), 7.64(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H, d,
J=7Hz) 。 (b)〔4′−〔4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−2−プロピル−5−(テトラゾール−5−イ
ル)イミダゾール−1−イルメチル〕ビフェニル−2−
イル〕グリオキシル酸メチル 実施例7(a)で得た化合物527mgの酢酸 3.5ml溶液
に水 1.5mlを加え、70℃で 1.5時間攪拌した。反応
後、水2mlを加え、氷冷し、沈澱物を濾去した。濾液を
減圧濃縮し、トルエンとの共沸留去により、残存する酢
酸を除去したのち、エチルエーテル−酢酸エチル中よ
り、結晶性の目的化合物206mgを得た。 融点:131−132℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
90(3H, t, J=7.5Hz),1.47(6H, s), 1.59(2H, sextet, J
=7.5Hz), 2.80(2H, t, J=7.5Hz), 3.16(3H, s), 5.67(2
H, s), 7.08(2H, d, J=8Hz), 7.21(2H, d, J=8Hz), 7.4
7(1H, d, J=7Hz), 7.58(1H, t, J=7Hz), 7.70-7.77(2H,
m) 。 (c)4′−〔4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−2−プロピル−5−(テトラゾール−5−イル)
イミダゾール−1−イルメチル〕ビフェニル−2−イ
ル〕グリオキシル酸 実施例7(b)で得た化合物180mgおよび水酸化リチ
ウム・1水和物77mgを用いて、実施例1(b)と同様
の方法により、目的化合物95mgを得た。 融点:169−170℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO−d6)
δppm :0.87(3H, t, J=7.5Hz),1.43(6H, s), 1.53(2H,
sextet, J=7.5Hz), 2.81(2H, t, J=7.5Hz), 5.55(2H,
s), 7.12(2H, d, J=8Hz), 7.22(2H, d, J=8Hz), 7.42(1
H, d, J=7Hz), 7.56(1H,t, J=7Hz), 7.66-7.75(2H, m)
。
【0126】実施例84−イソプロペニル−1−〔(2′−オキザロビフェニ
ル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール−
5−カルボン酸 (例示化合物番号1−10) (a)4−イソプロペニル−1−〔(2′−メトキサリ
ルビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミ
ダゾール−5−カルボン酸エチル 4−イソプロペニル−2−プロピルイミダゾール−5−
カルボン酸エチル445mg、カリウム t −ブトキシド
247mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチルビ
フェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル733mgを
用いて、実施例1(a)と同様の方法により、シロップ
状の目的化合物570mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.00
(3H, t, J=7.5Hz),1.29(3H, t, J=7Hz), 1.78(2H, sext
et, J=7.5Hz), 2.16(3H, s), 2.66(2H, t,J=7.5Hz), 3.
32(3H, s), 4.23(2H, q, J=7Hz), 5.29(2H, s), 5.57(2
H, s),7.07(2H, d, J=8Hz), 7.29(2H, d, J=8Hz), 7.44
(1H, d, J=7Hz), 7.52(1H, t,J=7Hz), 7.66(1H, t, J=7
Hz), 7.84(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−イソプロペニル−1−〔(2′−オキザロビ
フェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾ
ール−5−カルボン酸 実施例8(a)で得た化合物279mgのジオキサン3ml
溶液と水酸化リチウム1水和物123mgの水3ml溶液を
混ぜ、80℃で5時間攪拌した。ジオキサンを減圧留去
し、残留水溶液に1N塩酸2.94mlを加え、析出する結晶
を濾取して、目的化合物214mgを得た。 融点:150−151℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
90(3H, t, J=7.5Hz),1.63(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.07
(6H, s),2.60(2H, t, J=7.5Hz), 5.21(1H, s), 5.30(1
H, s), 5.58(2H, s), 7.10(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H,
d, J=8Hz), 7.46(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz),
7.66-7.72(2H, m)。
ル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール−
5−カルボン酸 (例示化合物番号1−10) (a)4−イソプロペニル−1−〔(2′−メトキサリ
ルビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミ
ダゾール−5−カルボン酸エチル 4−イソプロペニル−2−プロピルイミダゾール−5−
カルボン酸エチル445mg、カリウム t −ブトキシド
247mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチルビ
フェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル733mgを
用いて、実施例1(a)と同様の方法により、シロップ
状の目的化合物570mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.00
(3H, t, J=7.5Hz),1.29(3H, t, J=7Hz), 1.78(2H, sext
et, J=7.5Hz), 2.16(3H, s), 2.66(2H, t,J=7.5Hz), 3.
32(3H, s), 4.23(2H, q, J=7Hz), 5.29(2H, s), 5.57(2
H, s),7.07(2H, d, J=8Hz), 7.29(2H, d, J=8Hz), 7.44
(1H, d, J=7Hz), 7.52(1H, t,J=7Hz), 7.66(1H, t, J=7
Hz), 7.84(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−イソプロペニル−1−〔(2′−オキザロビ
フェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾ
ール−5−カルボン酸 実施例8(a)で得た化合物279mgのジオキサン3ml
溶液と水酸化リチウム1水和物123mgの水3ml溶液を
混ぜ、80℃で5時間攪拌した。ジオキサンを減圧留去
し、残留水溶液に1N塩酸2.94mlを加え、析出する結晶
を濾取して、目的化合物214mgを得た。 融点:150−151℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
90(3H, t, J=7.5Hz),1.63(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.07
(6H, s),2.60(2H, t, J=7.5Hz), 5.21(1H, s), 5.30(1
H, s), 5.58(2H, s), 7.10(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H,
d, J=8Hz), 7.46(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz),
7.66-7.72(2H, m)。
【0127】実施例94−イソプロピル−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5
−カルボン酸 (例示化合物番号1−8) (a)4−イソプロピル−1−〔(2′−メトキサリル
ビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダ
ゾール−5−カルボン酸エチル 4−イソプロピル−2−プロピルイミダゾール−5−カ
ルボン酸エチル448mg、カリウム t −ブトキシド2
47mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフ
ェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル733mgを用
いて、実施例1(a)と同様の方法により、シロップ状
の目的化合物760mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.96
(3H, t, J=7.5Hz),1.29(6H, d, J=7Hz), 1.31(3H, t, J
=7Hz), 1.67(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.65(2H, t, J=6.
5Hz), 3.29(3H, s), 3.61(1H, septet, J=7.5Hz), 4.24
(2H, q, J=7Hz), 5.56(2H, s), 7.01(2H, d, J=8Hz),
7.25(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d,J=7Hz), 7.50(1H, t,
J=7Hz), 7.63(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−イソプロピル−1−〔(2′−オキザロビフ
ェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾー
ル−5−カルボン酸 実施例9(a)で得た化合物760mgおよび水酸化リチ
ウム1水和物335gを用いて、実施例8(b)と同様
の方法により、粉末状の目的化合物527mgを得た。 融点:177−178℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.21(6H, d, J=7.5Hz), 1.60(2H,
sextet, J=7.5Hz), 2.60(2H, t, J=7.5Hz),3.64(1H, se
ptet, J=7.5Hz), 5.62(2H, s), 7.06(2H, d, J=8Hz),
7.26(2H, d,J=8Hz), 7.45(1H, d, J=7Hz), 7.53(1H, t,
J=7Hz), 7.65-7.72(2H, m)。
−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5
−カルボン酸 (例示化合物番号1−8) (a)4−イソプロピル−1−〔(2′−メトキサリル
ビフェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダ
ゾール−5−カルボン酸エチル 4−イソプロピル−2−プロピルイミダゾール−5−カ
ルボン酸エチル448mg、カリウム t −ブトキシド2
47mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフ
ェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル733mgを用
いて、実施例1(a)と同様の方法により、シロップ状
の目的化合物760mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.96
(3H, t, J=7.5Hz),1.29(6H, d, J=7Hz), 1.31(3H, t, J
=7Hz), 1.67(2H, sextet, J=7.5Hz), 2.65(2H, t, J=6.
5Hz), 3.29(3H, s), 3.61(1H, septet, J=7.5Hz), 4.24
(2H, q, J=7Hz), 5.56(2H, s), 7.01(2H, d, J=8Hz),
7.25(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d,J=7Hz), 7.50(1H, t,
J=7Hz), 7.63(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−イソプロピル−1−〔(2′−オキザロビフ
ェニル−4−イル)メチル〕−2−プロピルイミダゾー
ル−5−カルボン酸 実施例9(a)で得た化合物760mgおよび水酸化リチ
ウム1水和物335gを用いて、実施例8(b)と同様
の方法により、粉末状の目的化合物527mgを得た。 融点:177−178℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
88(3H, t, J=7.5Hz),1.21(6H, d, J=7.5Hz), 1.60(2H,
sextet, J=7.5Hz), 2.60(2H, t, J=7.5Hz),3.64(1H, se
ptet, J=7.5Hz), 5.62(2H, s), 7.06(2H, d, J=8Hz),
7.26(2H, d,J=8Hz), 7.45(1H, d, J=7Hz), 7.53(1H, t,
J=7Hz), 7.65-7.72(2H, m)。
【0128】実施例104−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−1−
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサミド (例示
化合物番号1−22) (a)4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−
1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メ
チル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボニトリ
ル 4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−2−プ
ロピルイミダゾール−5−カルボニトリル160mgの
N,N−ジメチルアセトアミド 3.5mg溶液に、炭酸カリ
ウム107mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチ
ルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル309
mgを加え、混合物を室温で3時間攪拌した。反応液に酢
酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥したのち、溶剤を減圧留去した。残
留物を酢酸エチル−ヘキサン(2:1)のシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付して、結晶性の目的化合物
180mgを得た。 融点:113℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.94
(3H, d, J=6.5Hz),0.97(3H, t, J=7.5Hz), 1.00(3H, d,
J=6.5Hz), 1.75(2H, sextet, J=7.5Hz),2.07-2.20(1H,
m), 2.64(2H, t, J=7.5Hz), 3.36(3H, s), 4.55(1H,
d, J=6Hz),5.24(2H, s), 7.13(2H, d, J=8Hz), 7.33(2
H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J=7Hz),7.52(1H, t, J=7H
z), 7.65(1H, d, J=7Hz), 7.82(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−
1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサミド 実施例10(a)で得た化合物170mgの熱エタノール
3ml溶液に、1Nカ性ソーダ水溶液4mlを加え、 2.5時
間還流下、攪拌した。エタノールを減圧留去し、残留水
溶液に酢酸エチルを加え、1N塩酸4mlを加えたのち、
酢酸エチル層を分離した。抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去して、結晶性の目的化合物
140mgを得た。 融点150℃(軟化),165−170℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
69(3H, d, J=6.5Hz),0.85(3H, t, J=7.5Hz), 1.01(3H,
d, J=6.5Hz), 1.58(2H, sextet, J=7.5Hz),2.01-2.16(2
H, m), 2.54(2H, t, J=7.5Hz), 4.32(1H, d, J=8.5Hz),
5.54(1H,d, J=16.5Hz), 5.79(1H, d, J=16.5Hz), 6.21
(1H, br.s), 7.06(2H, d, J=8Hz),7.25(2H, d, J=8Hz),
7.41(1H, br.s), 7.45(1H, d, J=7Hz), 7.53(1H, t, J
=7Hz), 7.64-7.71(2H, m), 8.49(1H, br.s) 。
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサミド (例示
化合物番号1−22) (a)4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−
1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メ
チル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボニトリ
ル 4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−2−プ
ロピルイミダゾール−5−カルボニトリル160mgの
N,N−ジメチルアセトアミド 3.5mg溶液に、炭酸カリ
ウム107mgおよび参考例8で得た(4′−ブロモメチ
ルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル309
mgを加え、混合物を室温で3時間攪拌した。反応液に酢
酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥したのち、溶剤を減圧留去した。残
留物を酢酸エチル−ヘキサン(2:1)のシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付して、結晶性の目的化合物
180mgを得た。 融点:113℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.94
(3H, d, J=6.5Hz),0.97(3H, t, J=7.5Hz), 1.00(3H, d,
J=6.5Hz), 1.75(2H, sextet, J=7.5Hz),2.07-2.20(1H,
m), 2.64(2H, t, J=7.5Hz), 3.36(3H, s), 4.55(1H,
d, J=6Hz),5.24(2H, s), 7.13(2H, d, J=8Hz), 7.33(2
H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J=7Hz),7.52(1H, t, J=7H
z), 7.65(1H, d, J=7Hz), 7.82(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)−
1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサミド 実施例10(a)で得た化合物170mgの熱エタノール
3ml溶液に、1Nカ性ソーダ水溶液4mlを加え、 2.5時
間還流下、攪拌した。エタノールを減圧留去し、残留水
溶液に酢酸エチルを加え、1N塩酸4mlを加えたのち、
酢酸エチル層を分離した。抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去して、結晶性の目的化合物
140mgを得た。 融点150℃(軟化),165−170℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
69(3H, d, J=6.5Hz),0.85(3H, t, J=7.5Hz), 1.01(3H,
d, J=6.5Hz), 1.58(2H, sextet, J=7.5Hz),2.01-2.16(2
H, m), 2.54(2H, t, J=7.5Hz), 4.32(1H, d, J=8.5Hz),
5.54(1H,d, J=16.5Hz), 5.79(1H, d, J=16.5Hz), 6.21
(1H, br.s), 7.06(2H, d, J=8Hz),7.25(2H, d, J=8Hz),
7.41(1H, br.s), 7.45(1H, d, J=7Hz), 7.53(1H, t, J
=7Hz), 7.64-7.71(2H, m), 8.49(1H, br.s) 。
【0129】実施例114−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピル)−
1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサミド
(例示化合物番号1−24) (a)4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピ
ル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イ
ル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボ
ニトリル 4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピル)−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボニトリル170
mg、実施例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−
2−イル)グリオキシル酸メチル307mgおよび炭酸カ
リウム106mgを用いて、実施例10(a)と同様の方
法により、結晶性の目的化合物257mgを得た。 融点:128−130℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.97
(3H, t, J=7.5Hz),0.99(9H, s), 1.75(2H, sextet, J=
7.5Hz), 2.64(2H, t, J=7.5Hz), 2.76(1H,d, J=7Hz),
3.35(3H, s), 4.45(1H, d, J=7Hz), 5.23(2H, s), 7.13
(2H, d, J=8Hz), 7.33(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J
=7Hz), 7.53(1H, t, J=7Hz), 7.66(1H, t, J=7Hz), 7.8
2(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピ
ル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)
メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサ
ミド 実施例11(a)で得た化合物246mgを用いて、実施
例10(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水溶
液6mlで加水分解して、結晶性の目的化合物182mgを
得た。 融点:198−200℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
85(3H, t, J=7.5Hz),0.89(9H, s), 1.58(2H, sextet, J
=7.5Hz), 2.56(2H, t, J=7.5Hz), 4.51(1H, s), 5.48(1
H, d, J=16.5Hz), 5.81(1H, d, J=16.5Hz), 6.22(1H, b
r.s), 7.05(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H, d, J=8Hz), 7.39
(1H, br.s), 7.44(1H, d, J=7Hz),7.52(1H, d, J=7Hz),
7.64-7.71(2H, m), 8.68(1H,br.s) 。
1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチ
ル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサミド
(例示化合物番号1−24) (a)4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピ
ル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イ
ル)メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボ
ニトリル 4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピル)−
2−プロピルイミダゾール−5−カルボニトリル170
mg、実施例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−
2−イル)グリオキシル酸メチル307mgおよび炭酸カ
リウム106mgを用いて、実施例10(a)と同様の方
法により、結晶性の目的化合物257mgを得た。 融点:128−130℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.97
(3H, t, J=7.5Hz),0.99(9H, s), 1.75(2H, sextet, J=
7.5Hz), 2.64(2H, t, J=7.5Hz), 2.76(1H,d, J=7Hz),
3.35(3H, s), 4.45(1H, d, J=7Hz), 5.23(2H, s), 7.13
(2H, d, J=8Hz), 7.33(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J
=7Hz), 7.53(1H, t, J=7Hz), 7.66(1H, t, J=7Hz), 7.8
2(1H, d, J=7Hz)。 (b)4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチルプロピ
ル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)
メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5−カルボキサ
ミド 実施例11(a)で得た化合物246mgを用いて、実施
例10(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水溶
液6mlで加水分解して、結晶性の目的化合物182mgを
得た。 融点:198−200℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
85(3H, t, J=7.5Hz),0.89(9H, s), 1.58(2H, sextet, J
=7.5Hz), 2.56(2H, t, J=7.5Hz), 4.51(1H, s), 5.48(1
H, d, J=16.5Hz), 5.81(1H, d, J=16.5Hz), 6.22(1H, b
r.s), 7.05(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H, d, J=8Hz), 7.39
(1H, br.s), 7.44(1H, d, J=7Hz),7.52(1H, d, J=7Hz),
7.64-7.71(2H, m), 8.68(1H,br.s) 。
【0130】実施例122−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピ
ル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)
メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミド (例示化合
物番号1−23) (a)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2−メチル
プロピル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−
4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボニトリル 2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピ
ル)イミダゾール−5−カルボニトリル178mg、参考
例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イ
ル)グリオキシル酸メチル322mgおよび炭酸カリウム
111mgを用いて、実施例10(a)と同様の方法によ
り、シロップ状の目的化合物245mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.91
(3H, t, J=7.5Hz).0.94(3H, d, J=6.5Hz), 1.00(3H, d,
J=6.5Hz), 1.37(2H, sextet, J=7.5Hz),1.70(2H, quin
tet, J=8Hz), 2.07-2.19(1H, m), 2.66(2H, t, J=8Hz),
3.36(3H,s), 4.54(1H, d, J=6Hz), 5.23(2H, s), 7.13
(2H, d, J=8Hz), 7.33(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J=
7Hz), 7.52(1H, t, J=7Hz), 7.66(1H, t, J=7Hz), 7.82
(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2−メチル
プロピル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミド 実施例12(a)で得た化合物245mgを、実施例10
(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水溶液6ml
で加水分解して、粉末状の目的化合物187mgを得た。 融点:144−146℃(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
69(3H, d, J=6.5Hz),0.81(3H, t, J=7.5Hz), 1.01(3H,
d, J=6.5Hz), 1.26(2H, sextet, J=7.5Hz),1.52(2H, qu
intet, J=7.5Hz), 1.99-2.16(1H, m), 2.57(2H, t, J=
7.5Hz), 4.33(1H, d, J=8.5Hz), 5.55(1H, d, J=16.5H
z), 5.78(1H, d, J=16.5Hz), 6.22(1H,br.s), 7.07(2H,
d, J=8Hz), 7.25(2H, d, J=8Hz), 7.45(1H, d, J=7H
z), 7.54(1H, t, J=7Hz), 7.50(1H, br.s), 7.64-7.72
(2H, m), 8.50(1H, br.s)。
ル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)
メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミド (例示化合
物番号1−23) (a)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2−メチル
プロピル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−
4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボニトリル 2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピ
ル)イミダゾール−5−カルボニトリル178mg、参考
例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イ
ル)グリオキシル酸メチル322mgおよび炭酸カリウム
111mgを用いて、実施例10(a)と同様の方法によ
り、シロップ状の目的化合物245mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.91
(3H, t, J=7.5Hz).0.94(3H, d, J=6.5Hz), 1.00(3H, d,
J=6.5Hz), 1.37(2H, sextet, J=7.5Hz),1.70(2H, quin
tet, J=8Hz), 2.07-2.19(1H, m), 2.66(2H, t, J=8Hz),
3.36(3H,s), 4.54(1H, d, J=6Hz), 5.23(2H, s), 7.13
(2H, d, J=8Hz), 7.33(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J=
7Hz), 7.52(1H, t, J=7Hz), 7.66(1H, t, J=7Hz), 7.82
(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2−メチル
プロピル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミド 実施例12(a)で得た化合物245mgを、実施例10
(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水溶液6ml
で加水分解して、粉末状の目的化合物187mgを得た。 融点:144−146℃(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
69(3H, d, J=6.5Hz),0.81(3H, t, J=7.5Hz), 1.01(3H,
d, J=6.5Hz), 1.26(2H, sextet, J=7.5Hz),1.52(2H, qu
intet, J=7.5Hz), 1.99-2.16(1H, m), 2.57(2H, t, J=
7.5Hz), 4.33(1H, d, J=8.5Hz), 5.55(1H, d, J=16.5H
z), 5.78(1H, d, J=16.5Hz), 6.22(1H,br.s), 7.07(2H,
d, J=8Hz), 7.25(2H, d, J=8Hz), 7.45(1H, d, J=7H
z), 7.54(1H, t, J=7Hz), 7.50(1H, br.s), 7.64-7.72
(2H, m), 8.50(1H, br.s)。
【0131】実施例132−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチル
プロピル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミド (例
示化合物番号1−25) (a)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジ
メチルプロピル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボニ
トリル 2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチル
プロピル)イミダゾール−5−カルボニトリル340m
g、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−
2−イル)グリオキシル酸メチル340mgおよび炭酸カ
リウム117mgを用いて、実施例10(a)と同様の方
法により、シロップ状の目的化合物335mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.91
(3H, t, J=7.5Hz),0.99(9H, s), 1.36(2H, sextet, J=
7.5Hz), 1.69(2H, quintet, J=7.5Hz), 2.66(2H, t, J=
7.5Hz), 3.36(3H, s), 4.46(1H, s), 5.23(2H, s), 7.1
3(2H, d, J=8Hz), 7.33(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J
=7Hz), 7.52(1H, t, J=7Hz), 7.63(1H, t, J=7Hz), 7.8
2(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジ
メチルプロピル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミ
ド 実施例13(a)で得た化合物335mgを用いて、実
施例10(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水
溶液7mlで加水分解して、結晶性粉末の目的化合物25
6mgを得た。 融点:192−194℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
81(3H, t, J=7.5Hz),1.26(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.51
(2H, quintet, J=7.5Hz), 2.59(2H, t, J=7.5Hz), 4.51
(1H, s), 5.48(1H, d, J=16.5Hz), 5.80(1H, d, J=16.5
Hz), 6.22(1H,br.s), 7.06(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H,
d, J=8Hz), 7.42(1H, br.s), 7.44(1H,d, J=7Hz), 7.53
(1H, t, J=7Hz), 7.64-7.72(2H, m), 8.69(1H,br.s)。
プロピル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミド (例
示化合物番号1−25) (a)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジ
メチルプロピル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボニ
トリル 2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジメチル
プロピル)イミダゾール−5−カルボニトリル340m
g、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−
2−イル)グリオキシル酸メチル340mgおよび炭酸カ
リウム117mgを用いて、実施例10(a)と同様の方
法により、シロップ状の目的化合物335mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.91
(3H, t, J=7.5Hz),0.99(9H, s), 1.36(2H, sextet, J=
7.5Hz), 1.69(2H, quintet, J=7.5Hz), 2.66(2H, t, J=
7.5Hz), 3.36(3H, s), 4.46(1H, s), 5.23(2H, s), 7.1
3(2H, d, J=8Hz), 7.33(2H, d, J=8Hz), 7.42(1H, d, J
=7Hz), 7.52(1H, t, J=7Hz), 7.63(1H, t, J=7Hz), 7.8
2(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−ブチル−4−(1−ヒドロキシ−2,2−ジ
メチルプロピル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボキサミ
ド 実施例13(a)で得た化合物335mgを用いて、実
施例10(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水
溶液7mlで加水分解して、結晶性粉末の目的化合物25
6mgを得た。 融点:192−194℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
81(3H, t, J=7.5Hz),1.26(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.51
(2H, quintet, J=7.5Hz), 2.59(2H, t, J=7.5Hz), 4.51
(1H, s), 5.48(1H, d, J=16.5Hz), 5.80(1H, d, J=16.5
Hz), 6.22(1H,br.s), 7.06(2H, d, J=8Hz), 7.26(2H,
d, J=8Hz), 7.42(1H, br.s), 7.44(1H,d, J=7Hz), 7.53
(1H, t, J=7Hz), 7.64-7.72(2H, m), 8.69(1H,br.s)。
【0132】実施例142−エトキシメチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 (例示化
合物番号1−37) (a)2−エトキシメチル−4−(1−ヒドロキシ−1
−メチルエチル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン
酸エチル 2−エトキシメチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル)イミダゾール−5−カルボン酸エチル400
mg、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−
2−イル)グリオキシル酸メチル546mgおよびカリウ
ム t −ブトキシド184mgを用いて、実施例1(a)
と同様の方法により、シロップ状の目的化合物680mg
を得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.16
(3H, t, J=7.0Hz),1.28(3H, t, J=7.0Hz), 1.64(6H,
s), 3.31(3H, s), 3.54(2H, q, J=7.0Hz),4.29(3H, q,
J=7.0Hz), 4.57(2H, s), 5.55(1H, s), 5.66(2H, s),
7.02(2H, d,J=8.0Hz), 7.26(2H, d, J=8.0Hz), 7.41(1
H, d, J=7.5Hz), 7.51(1H, t, J=7.5Hz), 7.64(1H, t,
J=7.5Hz), 7.81(1H, d, J=7.5Hz) 。 (b)2−エトキシメチル−4−(1−ヒドロキシ−1
−メチルエチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 実施例14(a)で得た化合物680mgを用いて、実施
例1(b)と同様の方法により、水酸化リチウム1水和
物224mgで加水分解して、粉末状の目的化合物423
mgを得た。 融点:138−140℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
04(3H, t, J=7.0Hz),1.56(6H, s), 3.45(2H, q, J=7.0H
z), 4.47(2H, s), 5.71(2H, s), 7.09(2H, d,J=8.0Hz),
7.24(2H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=7.5Hz), 7.55
(1H, t, J=8.0Hz), 7.66-7.73(2H, m) 。
ルエチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 (例示化
合物番号1−37) (a)2−エトキシメチル−4−(1−ヒドロキシ−1
−メチルエチル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン
酸エチル 2−エトキシメチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル)イミダゾール−5−カルボン酸エチル400
mg、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−
2−イル)グリオキシル酸メチル546mgおよびカリウ
ム t −ブトキシド184mgを用いて、実施例1(a)
と同様の方法により、シロップ状の目的化合物680mg
を得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.16
(3H, t, J=7.0Hz),1.28(3H, t, J=7.0Hz), 1.64(6H,
s), 3.31(3H, s), 3.54(2H, q, J=7.0Hz),4.29(3H, q,
J=7.0Hz), 4.57(2H, s), 5.55(1H, s), 5.66(2H, s),
7.02(2H, d,J=8.0Hz), 7.26(2H, d, J=8.0Hz), 7.41(1
H, d, J=7.5Hz), 7.51(1H, t, J=7.5Hz), 7.64(1H, t,
J=7.5Hz), 7.81(1H, d, J=7.5Hz) 。 (b)2−エトキシメチル−4−(1−ヒドロキシ−1
−メチルエチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 実施例14(a)で得た化合物680mgを用いて、実施
例1(b)と同様の方法により、水酸化リチウム1水和
物224mgで加水分解して、粉末状の目的化合物423
mgを得た。 融点:138−140℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
04(3H, t, J=7.0Hz),1.56(6H, s), 3.45(2H, q, J=7.0H
z), 4.47(2H, s), 5.71(2H, s), 7.09(2H, d,J=8.0Hz),
7.24(2H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=7.5Hz), 7.55
(1H, t, J=8.0Hz), 7.66-7.73(2H, m) 。
【0133】実施例154−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−(メ
チルアミノメチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニ
ル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸
・塩酸塩 (例示化合物番号1−48の塩酸塩) (a)2−(N−t −ブトキシカルボニル−N−メチル
アミノメチル)−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸メチル 2−(N−t −ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ
メチル)−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
イミダゾール−5−カルボン酸エチル265mg、実施例
8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)
グリオキシル酸メチル310mgおよびカリウム t −ブ
トキシド92mgを用いて、実施例1(a)と同様の方法
により、シロップ状の目的化合物380mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.28
(3H, t, J=7.5Hz),1.34(9H, s), 1.63(6H, s), 2.85(3
H, s), 3.32(3H, s), 4.27(2H, q, J=7.5Hz), 4.56(2H,
br.s), 5.60(1H, br.s), 5.63(2H, br.s), 6.93(2H,
d, J=8.0Hz),7.25(2H, d, J=8.0Hz), 7.39(1H, d, J=8.
0Hz), 7.50(1H, t, J=8.0Hz), 7.64(1H, t, J=8.0Hz),
7.80(1H, d, J=8.0Hz)。 (b)2−(N−t −ブトキシカルボニル−N−メチル
アミノメチル)−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イ
ル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 実施例15(a)で得た化合物380mgのジオキサン5
mg溶液に、水酸化リチウム1水和物81mgの水5ml溶液
を加え、室温で 2.5時間攪拌した。ジオキサンを減圧留
去したのち、1N塩酸1.93mlを加え、析出する目的物を
濾取し、無定形粉末の目的化合物339mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
31(9H, br.s), 1.55(6H, s), 2.77(3H, br.s), 4.43(2
H, br.s), 5.69(2H, br.s), 7.03(2H, d, J=8.0Hz), 7.
25(2H, d, J=8.0Hz), 7.44(1H, d, J=8.0Hz), 7.55(1H,
t, J=7.0Hz), 7.66-7.72(2H, m)。 (c)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2
−(メチルアミノメチル)−1−〔(2′−オキザロビ
フェニル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カル
ボン酸・塩酸塩 実施例15(b)で得た化合物339mgを、実施例3
(b)と同様の方法により、4N塩化水素−ジオキサン
溶液3mlで脱t −ブトキシカルボニル化して、目的化合
物260mgを得た。 融点:172−175℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
60(6H, s), 2.66(3H,br.s), 4.27(2H, br.s), 5.75(2H,
s), 7.12(2H, d, J=8.0Hz), 7.28(2H, d, J=8.0Hz),
7.48(1H, d, J=7.5Hz), 7.57(1H, t, J=7.5Hz), 7.68-
7.74(2H, m)。
チルアミノメチル)−1−〔(2′−オキザロビフェニ
ル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸
・塩酸塩 (例示化合物番号1−48の塩酸塩) (a)2−(N−t −ブトキシカルボニル−N−メチル
アミノメチル)−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−1−〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−
イル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸メチル 2−(N−t −ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ
メチル)−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
イミダゾール−5−カルボン酸エチル265mg、実施例
8で得た(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)
グリオキシル酸メチル310mgおよびカリウム t −ブ
トキシド92mgを用いて、実施例1(a)と同様の方法
により、シロップ状の目的化合物380mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.28
(3H, t, J=7.5Hz),1.34(9H, s), 1.63(6H, s), 2.85(3
H, s), 3.32(3H, s), 4.27(2H, q, J=7.5Hz), 4.56(2H,
br.s), 5.60(1H, br.s), 5.63(2H, br.s), 6.93(2H,
d, J=8.0Hz),7.25(2H, d, J=8.0Hz), 7.39(1H, d, J=8.
0Hz), 7.50(1H, t, J=8.0Hz), 7.64(1H, t, J=8.0Hz),
7.80(1H, d, J=8.0Hz)。 (b)2−(N−t −ブトキシカルボニル−N−メチル
アミノメチル)−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イ
ル)メチル〕イミダゾール−5−カルボン酸 実施例15(a)で得た化合物380mgのジオキサン5
mg溶液に、水酸化リチウム1水和物81mgの水5ml溶液
を加え、室温で 2.5時間攪拌した。ジオキサンを減圧留
去したのち、1N塩酸1.93mlを加え、析出する目的物を
濾取し、無定形粉末の目的化合物339mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
31(9H, br.s), 1.55(6H, s), 2.77(3H, br.s), 4.43(2
H, br.s), 5.69(2H, br.s), 7.03(2H, d, J=8.0Hz), 7.
25(2H, d, J=8.0Hz), 7.44(1H, d, J=8.0Hz), 7.55(1H,
t, J=7.0Hz), 7.66-7.72(2H, m)。 (c)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2
−(メチルアミノメチル)−1−〔(2′−オキザロビ
フェニル−4−イル)メチル〕イミダゾール−5−カル
ボン酸・塩酸塩 実施例15(b)で得た化合物339mgを、実施例3
(b)と同様の方法により、4N塩化水素−ジオキサン
溶液3mlで脱t −ブトキシカルボニル化して、目的化合
物260mgを得た。 融点:172−175℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
60(6H, s), 2.66(3H,br.s), 4.27(2H, br.s), 5.75(2H,
s), 7.12(2H, d, J=8.0Hz), 7.28(2H, d, J=8.0Hz),
7.48(1H, d, J=7.5Hz), 7.57(1H, t, J=7.5Hz), 7.68-
7.74(2H, m)。
【0134】実施例162−エチル−5,7−ジメチル−3−(2′−オキザロ
ビフェニル−4−イル)メチル−3H−イミダゾ〔4,
5−b〕ピリジン (例示化合物番号2−1) (a)2−エチル−3−(2′−メトキサリルビフェニ
ル−4−イル)メチル−5,7−ジメチル−3H−イミ
ダゾ〔4,5−b〕ピリジン 2−エチル−5,7−ジメチル−3H−イミダゾ〔4,
5−b〕ピリジン350mg、参考例8で得た(4′−ブ
ロモメチルビフェニル−4−イル)グリオキシル酸メチ
ル828mgおよびカリウム t −ブトキシド247mgを
用いて、実施例1(a)と同様の方法により、シロップ
状の目的化合物684mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.37
(3H, t, J=7.5Hz),2.57(3H, s), 2.64(3H, s), 2.84(2
H, q, J=7.5Hz), 3.24(3H, s), 5.50(2H, s), 6.90(1H,
s), 7.18(2H, d, J=8Hz), 7.24(2H, d, J=8Hz), 7.41
(1H, d, J=7Hz), 7.50(1H, t, J=7Hz), 7.63(1H, t, J=
7Hz), 7.80(1H, d,J=7Hz)。 (b)2−エチル−5,7−ジメチル−3−(2′−オ
キザロビフェニル−4−イル)メチル−3H−イミダゾ
〔4,5−b〕ピリジン 実施例16(a)で得た化合物684mgを、実施例1
(b)と同様の方法により、水酸化リチウム1水和物2
01mgで加水分解して、粉末状の目的化合物460mgを
得た。 融点:209−210℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
28(3H, t, J=7.5Hz),2.55(6H, s), 2.83(2H, q, J=7.5H
z), 5.53(2H, s), 6.99(1H, s), 7.19-7.26(4H, m), 7.
44(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz), 7.61-7.71(2
H, m) 。
ビフェニル−4−イル)メチル−3H−イミダゾ〔4,
5−b〕ピリジン (例示化合物番号2−1) (a)2−エチル−3−(2′−メトキサリルビフェニ
ル−4−イル)メチル−5,7−ジメチル−3H−イミ
ダゾ〔4,5−b〕ピリジン 2−エチル−5,7−ジメチル−3H−イミダゾ〔4,
5−b〕ピリジン350mg、参考例8で得た(4′−ブ
ロモメチルビフェニル−4−イル)グリオキシル酸メチ
ル828mgおよびカリウム t −ブトキシド247mgを
用いて、実施例1(a)と同様の方法により、シロップ
状の目的化合物684mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.37
(3H, t, J=7.5Hz),2.57(3H, s), 2.64(3H, s), 2.84(2
H, q, J=7.5Hz), 3.24(3H, s), 5.50(2H, s), 6.90(1H,
s), 7.18(2H, d, J=8Hz), 7.24(2H, d, J=8Hz), 7.41
(1H, d, J=7Hz), 7.50(1H, t, J=7Hz), 7.63(1H, t, J=
7Hz), 7.80(1H, d,J=7Hz)。 (b)2−エチル−5,7−ジメチル−3−(2′−オ
キザロビフェニル−4−イル)メチル−3H−イミダゾ
〔4,5−b〕ピリジン 実施例16(a)で得た化合物684mgを、実施例1
(b)と同様の方法により、水酸化リチウム1水和物2
01mgで加水分解して、粉末状の目的化合物460mgを
得た。 融点:209−210℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
28(3H, t, J=7.5Hz),2.55(6H, s), 2.83(2H, q, J=7.5H
z), 5.53(2H, s), 6.99(1H, s), 7.19-7.26(4H, m), 7.
44(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz), 7.61-7.71(2
H, m) 。
【0135】実施例172−〔N−〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)
メチル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸 (例示化合
物番号3−2) (a)2−〔N−〔(2′−メトキサリルビフェニル−
4−イル)メチル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸
エチル 2−(プロピルアミノ)ニコチン酸エチル0.80gのテト
ラヒドロフラン6mlおよびヘキサメチルホスホルアミド
2ml混合溶液に、窒素ガス雰囲気下、−5〜0℃で1M
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド−テトラヒド
ロフラン溶液4.65mlを加え、10分間、混合液を−5〜
0℃で攪拌した。この溶液に、参考例8で得た(4′−
ブロモメチルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メ
チル1.28gのテトラヒドロフラン8ml溶液を加えたの
ち、混合溶液を10〜15℃で4時間攪拌した。反応液
に酢酸エチルを加え、酢酸エチル溶液を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥したのち、溶剤を減圧留去した。
残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:4)を溶媒系とす
るシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、ガム
状の目的化合物0.70gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.80
(3H, t, J=7.5Hz),1.39(3H, t, J=7.5Hz), 1.60(2H, se
xtet, J=7.5Hz), 3.24(3H, s), 3.26(2H, t, J=7.5Hz),
4.35(2H, q, J=7.5Hz), 4.76(2H, s), 6.70(1H, dd, J
=5, 7.5Hz),7.24(2H, d, J=8Hz), 7.38(2H, d, J=8Hz),
7.44(1H, d, J=7Hz), 7.48(1H, t,J=7Hz), 7.63(1H,
t, J=7Hz), 7.91(1H, dd, J=1.5, 7.5Hz), 8.23(1H, d
d,J=1.5, 5Hz) 。 (b)2−〔N−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸 実施例17(a)で得た化合物0.70gのジオキサン5ml
溶液に、水酸化リチウム1水和物350mgの水10ml溶
液を加え、70℃で4時間攪拌した。反応後、ジオキサ
ンを減圧留去し、残留水溶液に1N塩酸8.33ml加え、析
出する結晶を濾取し、目的化合物0.57gを得た。 融点:179−180℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
76(3H, t, J=7.5Hz),1.53(2H, sextet, J=7.5Hz), 3.26
(2H, t, J=7.5Hz), 4.73(2H, s), 6.81(1H,dd, J=4.5,
8Hz), 7.21(2H, d, J=8Hz), 7.34(2H, d, J=8Hz), 7.48
(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz), 7.66-7.72(2H,
m), 7.90(1H, dd, J=2, 8Hz), 8.25(1H, dd, J=2, 4.5H
z)。
メチル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸 (例示化合
物番号3−2) (a)2−〔N−〔(2′−メトキサリルビフェニル−
4−イル)メチル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸
エチル 2−(プロピルアミノ)ニコチン酸エチル0.80gのテト
ラヒドロフラン6mlおよびヘキサメチルホスホルアミド
2ml混合溶液に、窒素ガス雰囲気下、−5〜0℃で1M
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド−テトラヒド
ロフラン溶液4.65mlを加え、10分間、混合液を−5〜
0℃で攪拌した。この溶液に、参考例8で得た(4′−
ブロモメチルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メ
チル1.28gのテトラヒドロフラン8ml溶液を加えたの
ち、混合溶液を10〜15℃で4時間攪拌した。反応液
に酢酸エチルを加え、酢酸エチル溶液を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥したのち、溶剤を減圧留去した。
残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:4)を溶媒系とす
るシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、ガム
状の目的化合物0.70gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.80
(3H, t, J=7.5Hz),1.39(3H, t, J=7.5Hz), 1.60(2H, se
xtet, J=7.5Hz), 3.24(3H, s), 3.26(2H, t, J=7.5Hz),
4.35(2H, q, J=7.5Hz), 4.76(2H, s), 6.70(1H, dd, J
=5, 7.5Hz),7.24(2H, d, J=8Hz), 7.38(2H, d, J=8Hz),
7.44(1H, d, J=7Hz), 7.48(1H, t,J=7Hz), 7.63(1H,
t, J=7Hz), 7.91(1H, dd, J=1.5, 7.5Hz), 8.23(1H, d
d,J=1.5, 5Hz) 。 (b)2−〔N−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸 実施例17(a)で得た化合物0.70gのジオキサン5ml
溶液に、水酸化リチウム1水和物350mgの水10ml溶
液を加え、70℃で4時間攪拌した。反応後、ジオキサ
ンを減圧留去し、残留水溶液に1N塩酸8.33ml加え、析
出する結晶を濾取し、目的化合物0.57gを得た。 融点:179−180℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
76(3H, t, J=7.5Hz),1.53(2H, sextet, J=7.5Hz), 3.26
(2H, t, J=7.5Hz), 4.73(2H, s), 6.81(1H,dd, J=4.5,
8Hz), 7.21(2H, d, J=8Hz), 7.34(2H, d, J=8Hz), 7.48
(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz), 7.66-7.72(2H,
m), 7.90(1H, dd, J=2, 8Hz), 8.25(1H, dd, J=2, 4.5H
z)。
【0136】実施例182−〔N−(2−メトキシエチル)−N−〔(2′−オ
キザロビフェニル−4−イル)メチル〕アミノ〕ニコチ
ン酸 (例示化合物番号3−19) (a)2−〔N−〔(2′−メトキサリルビフェニル−
4−イル)メチル〕−N−(2−メトキシエチル)アミ
ノ〕ニコチン酸エチル 2−〔(2−メトキシエチル)アミノ〕ニコチン酸エチ
ル750mg、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフ
ェニル−4−イル)グリオキシル酸メチル1.17gお
よび1Mリチウムビス(トリメチルシリル)アミド−テ
トラヒドロフラン溶液4.00mlを用いて、実施例1
7(a)と同様の方法により、シロップ状の目的化合物
535mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.38
(3H, t, J=7.5Hz),3.25(3H, s), 3.27(3H, s), 3.52-3.
61(4H, m), 4.33(2H, q, J=7.5Hz), 4.81(2H, s), 6.73
(1H, dd, J=4.5, 8Hz), 7.24(2H, d, J=8Hz), 7.38(2H,
d, J=8Hz), 7.44(1H, d, J=7Hz), 7.48(1H, t, J=7H
z), 7.62(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H,d, J=7Hz), 7.92(1
H, dd, J=2, 8Hz), 8.24(1H, dd, J=2, 4.5Hz) 。 (b)2−〔N−(2−メトキシエチル)−N−
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕ア
ミノ〕ニコチン酸 実施例18(a)で得た化合物535mgのジオキサン
4.5ml溶液と1Nカ性ソーダ水溶液 4.5mlを混ぜ、50
℃で19時間攪拌した。反応後、ジオキサンを減圧留去
し、残留水溶液に1N塩酸 4.5mlを加え、析出する結晶
を濾取して、目的化合物306mgを得た。 融点:173℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :3.
16(3H, s), 3.40-3.52(4H, m), 4.78(2H, s), 6.83(1H,
dd, J=4.5, 7.5Hz), 7.21(2H, d, J=8Hz),7.34(2H, d,
J=8Hz), 7.48(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz),
7.66-7.72(2H, m), 7.90(1H, dd, J=1.5, 7.5Hz), 8.24
(1H, dd, J=1.5, 4.5Hz)。
キザロビフェニル−4−イル)メチル〕アミノ〕ニコチ
ン酸 (例示化合物番号3−19) (a)2−〔N−〔(2′−メトキサリルビフェニル−
4−イル)メチル〕−N−(2−メトキシエチル)アミ
ノ〕ニコチン酸エチル 2−〔(2−メトキシエチル)アミノ〕ニコチン酸エチ
ル750mg、参考例8で得た(4′−ブロモメチルビフ
ェニル−4−イル)グリオキシル酸メチル1.17gお
よび1Mリチウムビス(トリメチルシリル)アミド−テ
トラヒドロフラン溶液4.00mlを用いて、実施例1
7(a)と同様の方法により、シロップ状の目的化合物
535mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.38
(3H, t, J=7.5Hz),3.25(3H, s), 3.27(3H, s), 3.52-3.
61(4H, m), 4.33(2H, q, J=7.5Hz), 4.81(2H, s), 6.73
(1H, dd, J=4.5, 8Hz), 7.24(2H, d, J=8Hz), 7.38(2H,
d, J=8Hz), 7.44(1H, d, J=7Hz), 7.48(1H, t, J=7H
z), 7.62(1H, t, J=7Hz), 7.81(1H,d, J=7Hz), 7.92(1
H, dd, J=2, 8Hz), 8.24(1H, dd, J=2, 4.5Hz) 。 (b)2−〔N−(2−メトキシエチル)−N−
〔(2′−オキザロビフェニル−4−イル)メチル〕ア
ミノ〕ニコチン酸 実施例18(a)で得た化合物535mgのジオキサン
4.5ml溶液と1Nカ性ソーダ水溶液 4.5mlを混ぜ、50
℃で19時間攪拌した。反応後、ジオキサンを減圧留去
し、残留水溶液に1N塩酸 4.5mlを加え、析出する結晶
を濾取して、目的化合物306mgを得た。 融点:173℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :3.
16(3H, s), 3.40-3.52(4H, m), 4.78(2H, s), 6.83(1H,
dd, J=4.5, 7.5Hz), 7.21(2H, d, J=8Hz),7.34(2H, d,
J=8Hz), 7.48(1H, d, J=7Hz), 7.54(1H, t, J=7Hz),
7.66-7.72(2H, m), 7.90(1H, dd, J=1.5, 7.5Hz), 8.24
(1H, dd, J=1.5, 4.5Hz)。
【0137】実施例194−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1−
〔〔2′−(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフ
ェニル−4−イル〕メチル〕−2−プロピルイミダゾー
ル−5−カルボン酸エチル (例示化合物番号1−50) (a)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔〔2′−(2−トリチルテトラゾール−5−イルカ
ルボニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル190mg、カ
リウム t −ブトキシド93mgおよび参考例13で得た
4′−ブロモメチル−2−(2−トリチルテトラゾール
−5−イルカルボニル)ビフェニル470mgを用いて、
実施例1(a)と同様の方法により、無定形粉末状の目
的化合物218mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.89
(3H, t, J=7.5Hz),1.12(3H, t, J=7.0Hz), 1.63(6H,
s), 1.60-1.70(2H, m), 2.52(2H, t, J=8.0Hz), 4.14(2
H, q, J=7.0Hz), 5.35(2H, s), 5.74(1H, s), 6.76(2H,
d, J=8.5Hz),6.92(5H, d, J=7.5Hz), 7.07(2H, d, J=
8.5Hz), 7.25-7.38(11H, m), 7.45(1H,t, J=7.0Hz), 7.
59(1H, t, J=7.5Hz), 7.70(1H, d, J=8.5Hz) 。 (b)4−(ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1−
〔〔2′−(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフ
ェニル−4−イル〕メチル〕−2−プロピルイミダゾー
ル−5−カルボン酸エチル 実施例19(a)で得た化合物216mgを用いて、実施
例7(b)と同様の方法で脱トリチル化して、無定形粉
末状の目的化合物151mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.86
(3H, t, J=7.5Hz),1.20(3H, t, J=7.5Hz), 1.53-1.65(2
H, m), 1.65(6H, s), 2.68(2H, t, J=8.0Hz), 4.26(2H,
q, J=7.5Hz), 5.41(2H, s), 6.80(2H, d, J=8.0Hz),
7.24(2H, d,J=8.0Hz), 7.41-7.49(2H, m), 7.58(1H, t,
J=7.0Hz), 7.77(1H, d, J=6.5Hz)。
〔〔2′−(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフ
ェニル−4−イル〕メチル〕−2−プロピルイミダゾー
ル−5−カルボン酸エチル (例示化合物番号1−50) (a)4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1
−〔〔2′−(2−トリチルテトラゾール−5−イルカ
ルボニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロ
ピルイミダゾール−5−カルボン酸エチル190mg、カ
リウム t −ブトキシド93mgおよび参考例13で得た
4′−ブロモメチル−2−(2−トリチルテトラゾール
−5−イルカルボニル)ビフェニル470mgを用いて、
実施例1(a)と同様の方法により、無定形粉末状の目
的化合物218mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.89
(3H, t, J=7.5Hz),1.12(3H, t, J=7.0Hz), 1.63(6H,
s), 1.60-1.70(2H, m), 2.52(2H, t, J=8.0Hz), 4.14(2
H, q, J=7.0Hz), 5.35(2H, s), 5.74(1H, s), 6.76(2H,
d, J=8.5Hz),6.92(5H, d, J=7.5Hz), 7.07(2H, d, J=
8.5Hz), 7.25-7.38(11H, m), 7.45(1H,t, J=7.0Hz), 7.
59(1H, t, J=7.5Hz), 7.70(1H, d, J=8.5Hz) 。 (b)4−(ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1−
〔〔2′−(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフ
ェニル−4−イル〕メチル〕−2−プロピルイミダゾー
ル−5−カルボン酸エチル 実施例19(a)で得た化合物216mgを用いて、実施
例7(b)と同様の方法で脱トリチル化して、無定形粉
末状の目的化合物151mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.86
(3H, t, J=7.5Hz),1.20(3H, t, J=7.5Hz), 1.53-1.65(2
H, m), 1.65(6H, s), 2.68(2H, t, J=8.0Hz), 4.26(2H,
q, J=7.5Hz), 5.41(2H, s), 6.80(2H, d, J=8.0Hz),
7.24(2H, d,J=8.0Hz), 7.41-7.49(2H, m), 7.58(1H, t,
J=7.0Hz), 7.77(1H, d, J=6.5Hz)。
【0138】実施例204−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−〔〔2′
−(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル−
4−イル〕メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5−
カルボン酸 (例示化合物番号1−42) 実施例19(b)で得た化合物151mgおよび水酸化リ
チウム1水和物36mgを用いて、実施例1(b)と同様
の方法により、結晶性粉末の目的化合物97mgを得た。 融点:166−169℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
87(3H, t, J=7.5Hz),1.45-1.56(2H, m), 1.56(6H, s),
2.58(2H, t, J=7.5Hz), 5.61(2H, s), 6.94(2H, d, J=
8.5Hz), 7.19(2H, d, J=8.5Hz), 7.49-7.58(2H, m), 7.
67-7.75(2H,m)。
−(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル−
4−イル〕メチル〕−2−プロピルイミダゾール−5−
カルボン酸 (例示化合物番号1−42) 実施例19(b)で得た化合物151mgおよび水酸化リ
チウム1水和物36mgを用いて、実施例1(b)と同様
の方法により、結晶性粉末の目的化合物97mgを得た。 融点:166−169℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
87(3H, t, J=7.5Hz),1.45-1.56(2H, m), 1.56(6H, s),
2.58(2H, t, J=7.5Hz), 5.61(2H, s), 6.94(2H, d, J=
8.5Hz), 7.19(2H, d, J=8.5Hz), 7.49-7.58(2H, m), 7.
67-7.75(2H,m)。
【0139】実施例212−エチル−5,7−ジメチル−3−〔2′−(テトラ
ゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル−4−イル〕
メチル−3H−イミダゾ〔4,5−b〕ピリジン (例示
化合物番号2−51) (a)2−エチル−5,7−ジメチル−3−〔2′−
(2−トリチルテトラゾール−5−イルカルボニル)ビ
フェニル−4−イル〕メチル−3H−イミダゾ〔4,5
−b〕ピリジン 2−エチル−5,7−ジメチル−3H−イミダゾ〔4,
5−b〕ピリジン130mg、参考例9で得た4′−ブロ
モメチル−2−(2−トリチルテトラゾール−5−イル
カルボニル)ビフェニル522mgおよびカリウム t −
ブトキシド87mgを用いて、実施例1(a)と同様の方
法により、無定形粉末状の目的化合物144mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.23
(3H, t, J=7.5Hz),2.56(3H, s), 2.63(3H, s), 2.66(2
H, q, J=7.5Hz), 5.34(2H, s), 6.87-6.95(7H, m), 6.9
6(2H, d, J=8Hz), 7.23-7.40(10H, m), 7.37(1H, d, J=
7Hz), 7.46(1H, t, J=7Hz), 7.58(1H, t, J=7Hz), 7.71
(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−エチル−5,7−ジメチル−3−〔2′−
(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル−4
−イル〕メチル−3H−イミダゾ〔4,5−b〕ピリジ
ン 実施例21(a)で得た化合物137mgを、実施例7
(b)と同様の方法により、脱トリチル化して、粉末状
の目的化合物68mgを得た。 融点:174−177℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
20(3H, t, J=7.5Hz),2.52(6H, s), 2.73(2H, q, J=7.5H
z), 5.44(2H, s), 7.03(1H, s), 7.04(2H, d,J=8Hz),
7.17(2H, d, J=8Hz), 7.49-7.58(2H, m), 7.67-7.75(2
H, m), 8.31(1H,s)。
ゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル−4−イル〕
メチル−3H−イミダゾ〔4,5−b〕ピリジン (例示
化合物番号2−51) (a)2−エチル−5,7−ジメチル−3−〔2′−
(2−トリチルテトラゾール−5−イルカルボニル)ビ
フェニル−4−イル〕メチル−3H−イミダゾ〔4,5
−b〕ピリジン 2−エチル−5,7−ジメチル−3H−イミダゾ〔4,
5−b〕ピリジン130mg、参考例9で得た4′−ブロ
モメチル−2−(2−トリチルテトラゾール−5−イル
カルボニル)ビフェニル522mgおよびカリウム t −
ブトキシド87mgを用いて、実施例1(a)と同様の方
法により、無定形粉末状の目的化合物144mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.23
(3H, t, J=7.5Hz),2.56(3H, s), 2.63(3H, s), 2.66(2
H, q, J=7.5Hz), 5.34(2H, s), 6.87-6.95(7H, m), 6.9
6(2H, d, J=8Hz), 7.23-7.40(10H, m), 7.37(1H, d, J=
7Hz), 7.46(1H, t, J=7Hz), 7.58(1H, t, J=7Hz), 7.71
(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−エチル−5,7−ジメチル−3−〔2′−
(テトラゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル−4
−イル〕メチル−3H−イミダゾ〔4,5−b〕ピリジ
ン 実施例21(a)で得た化合物137mgを、実施例7
(b)と同様の方法により、脱トリチル化して、粉末状
の目的化合物68mgを得た。 融点:174−177℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
20(3H, t, J=7.5Hz),2.52(6H, s), 2.73(2H, q, J=7.5H
z), 5.44(2H, s), 7.03(1H, s), 7.04(2H, d,J=8Hz),
7.17(2H, d, J=8Hz), 7.49-7.58(2H, m), 7.67-7.75(2
H, m), 8.31(1H,s)。
【0140】実施例222−ブチル−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕ベンズイミダゾール−5および6−カル
ボン酸 (例示化合物番号2−53および2−54) (a)2−ブチル−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−5およ
び6−カルボン酸メチル 2−ブチルベンズイミダゾール−5−カルボン酸メチル
404mg、参考例8で得た4′−ブロモメチルビフェニ
ル−2−グリオキシル酸メチル637mgおよびカリウム
t −ブトキシド200mgを用いて、実施例1(a)と
同様の方法により、ガム状の目的化合物620mgを得
た。NMRスペクトルより生成物はベンズイミダゾール
環の5および6位にメトキシカルボニル基を有する化合
物の1:1の混合物であることがわかった。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.96
(3H, t, J=7.5Hz),1.47(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.88(2
H, quintet, J=7.5Hz), 2.89(2H, t, J=7.5Hz), 3.24
及び3.76(計3H, 各s), 3.90及び3.93(計3H, 各s), 5.
41及び5.45(計2H, 各s), 7.08-7.49(10.5H, m), 8.48
(0.5H, s)。 (b)2−ブチル−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−5および6
−カルボン酸 実施例22(a)で得た化合物620mgを、実施例1
(b)と同様の方法により、水酸化リチウム・1水和物
269mgで加水分解して、粉末状の目的化合物511mg
を得た。NMRスペクトルから、この物質は、ベンズイ
ミダゾール環5および6位にカルボキシ基を有する化合
物の1:1混合物であった。 融点:160−180℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
89(3H, t, J=7.5Hz),1.39(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.75
(2H, quintet, J=7.5Hz), 2.91(2H, t, J=7.5Hz), 5.62
及び5.67(計2H, 各s), 7.14-7.87(10H, m),8.16-8.20
(1H, m)。
イル)メチル〕ベンズイミダゾール−5および6−カル
ボン酸 (例示化合物番号2−53および2−54) (a)2−ブチル−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−5およ
び6−カルボン酸メチル 2−ブチルベンズイミダゾール−5−カルボン酸メチル
404mg、参考例8で得た4′−ブロモメチルビフェニ
ル−2−グリオキシル酸メチル637mgおよびカリウム
t −ブトキシド200mgを用いて、実施例1(a)と
同様の方法により、ガム状の目的化合物620mgを得
た。NMRスペクトルより生成物はベンズイミダゾール
環の5および6位にメトキシカルボニル基を有する化合
物の1:1の混合物であることがわかった。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.96
(3H, t, J=7.5Hz),1.47(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.88(2
H, quintet, J=7.5Hz), 2.89(2H, t, J=7.5Hz), 3.24
及び3.76(計3H, 各s), 3.90及び3.93(計3H, 各s), 5.
41及び5.45(計2H, 各s), 7.08-7.49(10.5H, m), 8.48
(0.5H, s)。 (b)2−ブチル−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−5および6
−カルボン酸 実施例22(a)で得た化合物620mgを、実施例1
(b)と同様の方法により、水酸化リチウム・1水和物
269mgで加水分解して、粉末状の目的化合物511mg
を得た。NMRスペクトルから、この物質は、ベンズイ
ミダゾール環5および6位にカルボキシ基を有する化合
物の1:1混合物であった。 融点:160−180℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
89(3H, t, J=7.5Hz),1.39(2H, sextet, J=7.5Hz), 1.75
(2H, quintet, J=7.5Hz), 2.91(2H, t, J=7.5Hz), 5.62
及び5.67(計2H, 各s), 7.14-7.87(10H, m),8.16-8.20
(1H, m)。
【0141】実施例232−エチル−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4−
イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カルボン酸
(例示化合物番号2−26) (a)2−〔N−t −ブトキシカルボニル−N−
〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メチ
ル〕アミノ〕−3−ニトロ安息香酸エチル 2−t −ブトキシカルボニルアミノ−3−ニトロ安息香
酸エチル 1.01 g、参考例8で得た(4′−ブロモメチ
ルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル 1.2g
および55%油性水素化ナトリウム155mgを用いて、
実施例1(a)と同様の方法により、ガム状の目的化合
物1.43gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.35
(9H, s), 1.36(3H, t,J=7Hz), 3.31(3H, s), 4.26(2H,
q, J=7Hz), 4.45(1H, q, J=14.5Hz), 4.93(1H,d, J=14.
5Hz), 7.15-7.27(4H, m), 7.41-7.51(3H, m), 7.63(1H,
t, J=7Hz),7.79(1H, d, J=7Hz), 7.88(1H, d, J=8Hz),
8.07(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−エチル−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カ
ルボン酸エチル 実施例23(a)で得た化合物1.06gを4N塩化水素−
酢酸エチル溶液10mlに溶かし、4時間室温で放置し
た。反応液を減圧濃度したのち、ガム状残留物をエタノ
ール20mlとオルトプロピオン酸トリエチル10mlに溶
かし、この溶液に5%白金・炭素150mgを加えた。混
合物を常圧の水素圧下、室温で2時間攪拌したのち、一
夜室温に放置した。触媒を濾去したのち、反応液を減圧
濃縮し、残留物を酢酸エチルと重曹水に溶かし、振り混
ぜた。酢酸エチル層を分離し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶剤を減圧濃縮後、残留物を酢酸エチル−ヘキ
サン(1:1)のカラムクロマトグラフィーに付して、
結晶性の目的化合物343mgを得た。 融点:118−119℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.28
(3H, t, J=7.5Hz),1.48(3H, t, J=7Hz), 2.91(2H, q, J
=7.5Hz), 3.17(3H, s), 4.26(2H, q, J=7Hz), 5.84(2H,
s), 6.93(2H, d, J=8.5Hz), 7.18(2H, d, J=8.5Hz),
7.22-7.98(7H, m)。 (c)2−エチル−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カルボ
ン酸 実施例23(b)で得た化合物300mgを、実施例17
(b)と同様の方法により、水酸化リチウム・1水和物
134mgで加水分解して、粉末状の目的化合物264mg
を得た。 融点:278−281℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
33(3H, t, J=7.5Hz),2.87(2H, q, J=7.5Hz), 5.90(2H,
s), 6.92(2H, d, J=8Hz), 7.19(2H, d, J=8Hz), 7.27(1
H, t, J=7Hz), 7.42(1H, d, J=7Hz), 7.53(1H, t, J=7H
z), 7.64-7.70(3H, m), 7.86(1H, d, J=8Hz) 。
イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カルボン酸
(例示化合物番号2−26) (a)2−〔N−t −ブトキシカルボニル−N−
〔(2′−メトキサリルビフェニル−4−イル)メチ
ル〕アミノ〕−3−ニトロ安息香酸エチル 2−t −ブトキシカルボニルアミノ−3−ニトロ安息香
酸エチル 1.01 g、参考例8で得た(4′−ブロモメチ
ルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸メチル 1.2g
および55%油性水素化ナトリウム155mgを用いて、
実施例1(a)と同様の方法により、ガム状の目的化合
物1.43gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.35
(9H, s), 1.36(3H, t,J=7Hz), 3.31(3H, s), 4.26(2H,
q, J=7Hz), 4.45(1H, q, J=14.5Hz), 4.93(1H,d, J=14.
5Hz), 7.15-7.27(4H, m), 7.41-7.51(3H, m), 7.63(1H,
t, J=7Hz),7.79(1H, d, J=7Hz), 7.88(1H, d, J=8Hz),
8.07(1H, d, J=7Hz)。 (b)2−エチル−1−〔(2′−メトキサリルビフェ
ニル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カ
ルボン酸エチル 実施例23(a)で得た化合物1.06gを4N塩化水素−
酢酸エチル溶液10mlに溶かし、4時間室温で放置し
た。反応液を減圧濃度したのち、ガム状残留物をエタノ
ール20mlとオルトプロピオン酸トリエチル10mlに溶
かし、この溶液に5%白金・炭素150mgを加えた。混
合物を常圧の水素圧下、室温で2時間攪拌したのち、一
夜室温に放置した。触媒を濾去したのち、反応液を減圧
濃縮し、残留物を酢酸エチルと重曹水に溶かし、振り混
ぜた。酢酸エチル層を分離し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶剤を減圧濃縮後、残留物を酢酸エチル−ヘキ
サン(1:1)のカラムクロマトグラフィーに付して、
結晶性の目的化合物343mgを得た。 融点:118−119℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.28
(3H, t, J=7.5Hz),1.48(3H, t, J=7Hz), 2.91(2H, q, J
=7.5Hz), 3.17(3H, s), 4.26(2H, q, J=7Hz), 5.84(2H,
s), 6.93(2H, d, J=8.5Hz), 7.18(2H, d, J=8.5Hz),
7.22-7.98(7H, m)。 (c)2−エチル−1−〔(2′−オキザロビフェニル
−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カルボ
ン酸 実施例23(b)で得た化合物300mgを、実施例17
(b)と同様の方法により、水酸化リチウム・1水和物
134mgで加水分解して、粉末状の目的化合物264mg
を得た。 融点:278−281℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
33(3H, t, J=7.5Hz),2.87(2H, q, J=7.5Hz), 5.90(2H,
s), 6.92(2H, d, J=8Hz), 7.19(2H, d, J=8Hz), 7.27(1
H, t, J=7Hz), 7.42(1H, d, J=7Hz), 7.53(1H, t, J=7H
z), 7.64-7.70(3H, m), 7.86(1H, d, J=8Hz) 。
【0142】実施例242−エトキシ−1−〔(2′−オキザロビフェニル−4
−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カルボン酸
(例示化合物番号2−44) (a)2−エトキシ−1−〔(2′−メトキサリルビフ
ェニル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−
カルボン酸エチル 実施例23(b)と同様の方法により、実施例23
(a)で得た化合物1.48gおよび、オルトプロピオン酸
トリエチルの代りにテトラエチルオルトカーボネート7
mlを用いて、ガム状の目的化合物252mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.32
(3H, t, J=7.5Hz),1.50(3H, t, J=7Hz), 3.06(3H, s),
4.31(2H, q, J=7Hz), 4.67(2H, q, J=7.5Hz), 5.71(2H,
s), 7.08(2H, d, J=8Hz), 7.18(2H, d, J=8Hz), 7.29-
8.19(7H, m)。 (b)2−エトキシ−1−〔(2′−オキザロビフェニ
ル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カル
ボン酸 実施例24(a)で得た化合物252mgを用いて、実施
例17(b)と同様の方法により、水酸化リチウム・1
水和物136mgで加水分解して、粉末状の目的化合物1
86mgを得た。 融点:158−161℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
42(3H, t, J=7.5Hz),4.61(2H, q, J=7.5Hz), 5.67(2H,
s), 7.04(2H, d, J=8Hz), 7.10-7.97(9H, m)。
−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カルボン酸
(例示化合物番号2−44) (a)2−エトキシ−1−〔(2′−メトキサリルビフ
ェニル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−
カルボン酸エチル 実施例23(b)と同様の方法により、実施例23
(a)で得た化合物1.48gおよび、オルトプロピオン酸
トリエチルの代りにテトラエチルオルトカーボネート7
mlを用いて、ガム状の目的化合物252mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.32
(3H, t, J=7.5Hz),1.50(3H, t, J=7Hz), 3.06(3H, s),
4.31(2H, q, J=7Hz), 4.67(2H, q, J=7.5Hz), 5.71(2H,
s), 7.08(2H, d, J=8Hz), 7.18(2H, d, J=8Hz), 7.29-
8.19(7H, m)。 (b)2−エトキシ−1−〔(2′−オキザロビフェニ
ル−4−イル)メチル〕ベンズイミダゾール−7−カル
ボン酸 実施例24(a)で得た化合物252mgを用いて、実施
例17(b)と同様の方法により、水酸化リチウム・1
水和物136mgで加水分解して、粉末状の目的化合物1
86mgを得た。 融点:158−161℃。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :1.
42(3H, t, J=7.5Hz),4.61(2H, q, J=7.5Hz), 5.67(2H,
s), 7.04(2H, d, J=8Hz), 7.10-7.97(9H, m)。
【0143】実施例252−〔N−〔〔2′−(テトラゾール−5−イルカルボ
ニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−N−プロピル
アミノ〕ニコチン酸エチル (例示化合物番号3−25) (a)2−〔N−〔〔2′−(2−トリチルテトラゾー
ル−5−イルカルボニル)ビフェニル−4−イル〕メチ
ル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸エチル 2−プロピルアミノニコチン酸エチル640mg、参考例
13で得た4′−ブロモメチル−2−(2−トリチルテ
トラゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル1.8gお
よび1Mリチウムビス(トリメチルシリル)アミド−テ
トラヒドロフラン溶液3.69mlを用いて、実施例18
(a)と同様の方法により、泡状固体の目的化合物48
3mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.73
(3H, t, J=7Hz), 1.33(3H, t, J=7Hz), 1.48(2H, sexte
t, J=7Hz), 3.13(2H, t, J=7Hz), 4.30(2H, q,J=7Hz),
4.63(2H, s), 6.68(1H, dd, J=4.5, 7.5Hz), 6.83-6.92
(5H, m), 6.96(2H, d, J=8.5Hz), 7.05(2H, d, J=8.5H
z), 7.23-7.44(12H, m), 7.58(1H, t,J=7.5Hz), 7.71(1
H, d, J=6.5Hz), 7.91(1H, dd, J=2, 8Hz), 8.20(1H, d
d, J=2, 4.5Hz)。 (b)2−〔N−〔〔2′−(テトラゾール−5−イル
カルボニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−N−プ
ロピルアミノ〕ニコチン酸エチル 実施例25(a)で得た化合物483mgを、実施例7
(b)と同様の方法で脱トリチル化して、ガム状の目的
化合物320mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.79
(3H, t, J=7Hz), 1.39(3H, t, J=7Hz), 1.54(2H, sexte
t, J=7Hz), 3.15(2H, t, J=7Hz), 4.37(2H, q,J=7Hz),
4.58(2H, s), 6.80(1H, dd, J=5.5, 7.5Hz), 7.06(2H,
d, J=8.5Hz),7.16(2H, d, J=8.5Hz), 7.44-7.52(2H,
m), 7.61(1H, t, J=7Hz), 7.85(1H, d,J=7Hz), 8.03(1
H, dd, J=2, 7.5Hz), 8.25(1H, dd,J=2, 5Hz) 。
ニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−N−プロピル
アミノ〕ニコチン酸エチル (例示化合物番号3−25) (a)2−〔N−〔〔2′−(2−トリチルテトラゾー
ル−5−イルカルボニル)ビフェニル−4−イル〕メチ
ル〕−N−プロピルアミノ〕ニコチン酸エチル 2−プロピルアミノニコチン酸エチル640mg、参考例
13で得た4′−ブロモメチル−2−(2−トリチルテ
トラゾール−5−イルカルボニル)ビフェニル1.8gお
よび1Mリチウムビス(トリメチルシリル)アミド−テ
トラヒドロフラン溶液3.69mlを用いて、実施例18
(a)と同様の方法により、泡状固体の目的化合物48
3mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.73
(3H, t, J=7Hz), 1.33(3H, t, J=7Hz), 1.48(2H, sexte
t, J=7Hz), 3.13(2H, t, J=7Hz), 4.30(2H, q,J=7Hz),
4.63(2H, s), 6.68(1H, dd, J=4.5, 7.5Hz), 6.83-6.92
(5H, m), 6.96(2H, d, J=8.5Hz), 7.05(2H, d, J=8.5H
z), 7.23-7.44(12H, m), 7.58(1H, t,J=7.5Hz), 7.71(1
H, d, J=6.5Hz), 7.91(1H, dd, J=2, 8Hz), 8.20(1H, d
d, J=2, 4.5Hz)。 (b)2−〔N−〔〔2′−(テトラゾール−5−イル
カルボニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−N−プ
ロピルアミノ〕ニコチン酸エチル 実施例25(a)で得た化合物483mgを、実施例7
(b)と同様の方法で脱トリチル化して、ガム状の目的
化合物320mgを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.79
(3H, t, J=7Hz), 1.39(3H, t, J=7Hz), 1.54(2H, sexte
t, J=7Hz), 3.15(2H, t, J=7Hz), 4.37(2H, q,J=7Hz),
4.58(2H, s), 6.80(1H, dd, J=5.5, 7.5Hz), 7.06(2H,
d, J=8.5Hz),7.16(2H, d, J=8.5Hz), 7.44-7.52(2H,
m), 7.61(1H, t, J=7Hz), 7.85(1H, d,J=7Hz), 8.03(1
H, dd, J=2, 7.5Hz), 8.25(1H, dd,J=2, 5Hz) 。
【0144】実施例262−〔N−〔〔2′−(テトラゾール−5−イルカルボ
ニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−N−プロピル
アミノ〕ニコチン酸 (例示化合物番号3−20) 実施例25(b)で得た化合物310mgを、実施例18
(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水溶液6ml
で加水分解して、無定形粉末状の目的化合物128mgを
得た。 融点:107−109℃(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
74(3H, t, J=7Hz),1.44(2H, sextet, J=7Hz), 3.12(2H,
t, J=7Hz), 4.59(2H, s), 7.81(1H, dd,J=4.5, 8Hz),
7.13(2H, d, J=8.5Hz), 7.19(2H, d, J=8.5Hz), 7.54-
7.61(2H, m), 7.74(1H, t, J=7.5Hz), 7.80(1H, d, J=8
Hz), 7.89(1H, dd, J=2, 8Hz),8.22(1H, dd, J=2, 5H
z)。
ニル)ビフェニル−4−イル〕メチル〕−N−プロピル
アミノ〕ニコチン酸 (例示化合物番号3−20) 実施例25(b)で得た化合物310mgを、実施例18
(b)と同様の方法により、1Nカ性ソーダ水溶液6ml
で加水分解して、無定形粉末状の目的化合物128mgを
得た。 融点:107−109℃(軟化)。 NMRスペクトル,270MHz(DMSO-d6) δppm :0.
74(3H, t, J=7Hz),1.44(2H, sextet, J=7Hz), 3.12(2H,
t, J=7Hz), 4.59(2H, s), 7.81(1H, dd,J=4.5, 8Hz),
7.13(2H, d, J=8.5Hz), 7.19(2H, d, J=8.5Hz), 7.54-
7.61(2H, m), 7.74(1H, t, J=7.5Hz), 7.80(1H, d, J=8
Hz), 7.89(1H, dd, J=2, 8Hz),8.22(1H, dd, J=2, 5H
z)。
【0145】参考例14′−メチルビフェニル−2−カルボキシアルデヒド 4′−メチルビフェニル−2−カルボニトリル22.8gの
トルエン200ml溶液に、窒素ガス雰囲気下、−30°
〜−20℃で 1.5M水素化ジイソブチルアルミニウムの
トルエン溶液118mlを滴加したのち、混合液を室温で
2時間攪拌した。反応液を氷冷し、酢酸エチル200ml
および6N塩酸60mlを順次加えたのち、酢酸エチル層
を分離した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち、溶媒を減圧留去して、油状の目
的化合物23.1gを得た。 NMRスペクトル,60MHz(CDCl3) δppm :2.39(3
H, s), 7.2-7.7(7H, m), 7.95-8.15(1H, m), 10.07(1H,
s) 。
トルエン200ml溶液に、窒素ガス雰囲気下、−30°
〜−20℃で 1.5M水素化ジイソブチルアルミニウムの
トルエン溶液118mlを滴加したのち、混合液を室温で
2時間攪拌した。反応液を氷冷し、酢酸エチル200ml
および6N塩酸60mlを順次加えたのち、酢酸エチル層
を分離した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち、溶媒を減圧留去して、油状の目
的化合物23.1gを得た。 NMRスペクトル,60MHz(CDCl3) δppm :2.39(3
H, s), 7.2-7.7(7H, m), 7.95-8.15(1H, m), 10.07(1H,
s) 。
【0146】参考例2αーヒドロキシ−(4′−メチルビフェニル−2−イ
ル)アセトニトリル 参考例1で得た化合物23.1gのジクロルメタン250ml
溶液に室温でトリメチルシリルシアナイド18mlを滴加
し、ついでヨウ化亜鉛 0.2gを加えた。混合物を30℃
で3時間、50℃で2時間攪拌したのち、溶剤を減圧留
去し、残留物を酢酸エチルに溶かし、重曹水および食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を減圧
留去して、油状の目的物のO−トリメチルシリル誘導体
35.0gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.09
(9H, s), 2.43(3H,s),5.47(1H, s), 7.20(2H, d, J=7.5
Hz), 7.26(2H, d, J=7.5Hz), 7.11-7.50(3H, m), 7.79-
7.82(1H, m) 。 これをメタノール300mlに溶かし、p−トルエンスル
ホン酸1水和物 1.5gを加え、室温で30分間攪拌し
た。反応液を濃縮した後、残留物を酢酸エチルに溶か
し、重曹水および食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶剤を留去して、油状の目的化合物26.1gを
得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.41
(3H, s), 2.89(1H, d,J=6Hz), 5.49(1H, d, J=6Hz), 7.
25(4H, s), 7.26-7.33(1H, m), 7.42-7.49(2H,m), 7.78
-7.81(1H, m)。
ル)アセトニトリル 参考例1で得た化合物23.1gのジクロルメタン250ml
溶液に室温でトリメチルシリルシアナイド18mlを滴加
し、ついでヨウ化亜鉛 0.2gを加えた。混合物を30℃
で3時間、50℃で2時間攪拌したのち、溶剤を減圧留
去し、残留物を酢酸エチルに溶かし、重曹水および食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を減圧
留去して、油状の目的物のO−トリメチルシリル誘導体
35.0gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :0.09
(9H, s), 2.43(3H,s),5.47(1H, s), 7.20(2H, d, J=7.5
Hz), 7.26(2H, d, J=7.5Hz), 7.11-7.50(3H, m), 7.79-
7.82(1H, m) 。 これをメタノール300mlに溶かし、p−トルエンスル
ホン酸1水和物 1.5gを加え、室温で30分間攪拌し
た。反応液を濃縮した後、残留物を酢酸エチルに溶か
し、重曹水および食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶剤を留去して、油状の目的化合物26.1gを
得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.41
(3H, s), 2.89(1H, d,J=6Hz), 5.49(1H, d, J=6Hz), 7.
25(4H, s), 7.26-7.33(1H, m), 7.42-7.49(2H,m), 7.78
-7.81(1H, m)。
【0147】参考例3α−ヒドロキシ−(4′−メチルビフェニル−2−イ
ル)アセトニトリル 参考例1で得た化合物8.00gのエチルエーテル10ml溶
液に、0〜5℃で青酸カリ 6.0gの水6ml溶液を滴加
し、ついで亜硫酸水素ナトリウム14gの水35ml溶液
を滴加した。混合物を5〜10℃で3時間、20℃で3
0分間攪拌した後、生成物を酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:4)を溶
媒系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
て、油状の目的化合物 7.7gを得た。本化合物のNMR
スペクトルは、参考例2で得られた化合物のスペクトル
と一致した。
ル)アセトニトリル 参考例1で得た化合物8.00gのエチルエーテル10ml溶
液に、0〜5℃で青酸カリ 6.0gの水6ml溶液を滴加
し、ついで亜硫酸水素ナトリウム14gの水35ml溶液
を滴加した。混合物を5〜10℃で3時間、20℃で3
0分間攪拌した後、生成物を酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:4)を溶
媒系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
て、油状の目的化合物 7.7gを得た。本化合物のNMR
スペクトルは、参考例2で得られた化合物のスペクトル
と一致した。
【0148】参考例4α−ヒドロキシ−(4′−メチルビフェニル−2−イ
ル)酢酸メチル 参考例2で得た化合物26.1gを、酢酸150mlと濃塩酸
150ml中、120℃の油浴上で16時間攪拌したの
ち、反応液を減圧濃縮した。残留する酢酸をトルエンと
の共沸留去により、できるだけ除去したのち、生成物を
カ性ソーダ12gの水200ml溶液に抽出し、水溶液を
エチルエーテルで洗浄した。アルカリ性水溶液に、酸性
になるまで濃塩酸を加え、析出するα−ヒドロキシ−
(4′−メチルビフェニル−2−イル)酢酸を酢酸エチ
ルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶剤を留
去した。残留物をメタノール300mlに溶かし、氷冷
下、濃硫酸13mlを滴加したのち、溶液を室温で16時
間放置した。反応液を減圧濃縮後、残留物を酢酸エチル
と水に溶かし、有機溶剤層を分離し、重曹水および水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を留去し
た。残留物を、酢酸エチル−ヘキサン(1:4)を溶媒
系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
て、結晶性の目的化合物19.5gを得た。 融点:74−76℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.40
(3H, s), 3.38(1H, d,J=4Hz), 3.69(3H, s), 5.26(1H,
d, J=4Hz), 7.23(2H, d, J=7Hz), 7.31-7.37(6H, m) 。
ル)酢酸メチル 参考例2で得た化合物26.1gを、酢酸150mlと濃塩酸
150ml中、120℃の油浴上で16時間攪拌したの
ち、反応液を減圧濃縮した。残留する酢酸をトルエンと
の共沸留去により、できるだけ除去したのち、生成物を
カ性ソーダ12gの水200ml溶液に抽出し、水溶液を
エチルエーテルで洗浄した。アルカリ性水溶液に、酸性
になるまで濃塩酸を加え、析出するα−ヒドロキシ−
(4′−メチルビフェニル−2−イル)酢酸を酢酸エチ
ルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶剤を留
去した。残留物をメタノール300mlに溶かし、氷冷
下、濃硫酸13mlを滴加したのち、溶液を室温で16時
間放置した。反応液を減圧濃縮後、残留物を酢酸エチル
と水に溶かし、有機溶剤層を分離し、重曹水および水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を留去し
た。残留物を、酢酸エチル−ヘキサン(1:4)を溶媒
系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
て、結晶性の目的化合物19.5gを得た。 融点:74−76℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.40
(3H, s), 3.38(1H, d,J=4Hz), 3.69(3H, s), 5.26(1H,
d, J=4Hz), 7.23(2H, d, J=7Hz), 7.31-7.37(6H, m) 。
【0149】参考例5(4′−メチルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸
メチル 参考例4で得た化合物10.6gのジクロルメタン200ml
溶液に、二酸化マンガン40gを加え、室温で16時間
攪拌したのち、不溶物を濾去し、濾液を減圧留去して、
結晶性の目的化合物9.16gを得た。 融点:81−84℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.46
(3H, s), 3.39(3H, s), 7.24-7.32(4H, m), 7.50-7.58
(2H, m), 7.70(1H, t, J=8Hz), 7.89(1H, d, J=8Hz)。
メチル 参考例4で得た化合物10.6gのジクロルメタン200ml
溶液に、二酸化マンガン40gを加え、室温で16時間
攪拌したのち、不溶物を濾去し、濾液を減圧留去して、
結晶性の目的化合物9.16gを得た。 融点:81−84℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.46
(3H, s), 3.39(3H, s), 7.24-7.32(4H, m), 7.50-7.58
(2H, m), 7.70(1H, t, J=8Hz), 7.89(1H, d, J=8Hz)。
【0150】参考例6(4′−メチルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸 参考例5で得た化合物9.16gのメタノール90ml溶液
に、カ性ソーダ1.73gの水90ml溶液を加え、室温で2
時間攪拌した。反応後、メタノールを減圧留去し、残留
水溶液に3N塩酸14.4mlを加え、pH2とし、析出する目
的物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶剤を減圧留去して、結晶性の
目的化合物8.75gを得た。 融点:111−112℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.36
(3H, s), 7.13-7.22(4H, m), 7.46-7.52(2H, m), 7.65
(1H, t, J=7Hz), 7.80(1H, d, J=7Hz) 。
に、カ性ソーダ1.73gの水90ml溶液を加え、室温で2
時間攪拌した。反応後、メタノールを減圧留去し、残留
水溶液に3N塩酸14.4mlを加え、pH2とし、析出する目
的物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶剤を減圧留去して、結晶性の
目的化合物8.75gを得た。 融点:111−112℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.36
(3H, s), 7.13-7.22(4H, m), 7.46-7.52(2H, m), 7.65
(1H, t, J=7Hz), 7.80(1H, d, J=7Hz) 。
【0151】参考例7(4′−メチルビフェニル−2−イル)グリオキシル酸
tert−ブチル 参考例6で得た化合物6.35gのジクロルメタン40ml溶
液に、ジメチルホルムアミド2滴を加え、ついで室温で
オキザリルクロライド15mlを滴加した。混合液を室温
で1時間、35℃で3時間攪拌した後、反応液を減圧濃
縮し、残留物をベンゼンと混ぜ、再度減圧濃縮すること
を2回繰り返した。結晶性残留物をテトラヒドロフラン
30mlに溶かし、−40〜−30℃で、カリウム t −
ブトキシド4.00gのテトラヒドロフラン60ml溶液を滴
加した。混合液を室温で2時間攪拌後、反応液にエチル
エーテル−ヘキサン(2:1)と水を加え、有機溶剤層
を分離した。抽出液を、水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶剤を減圧留去し、残留物を酢酸エチル−ヘ
キサン(1:9)のシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付して、油状の目的化合物5.06gを得た。この物質
は室温で放置しておくと結晶化した。 融点:50−51℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.16
(9H, s), 2.38(3H, s), 7.20-7.26(4H, m), 7.39-7.45
(2H, m), 7.47-7.61(1H, m), 7.73-7.68(1H, m)。
tert−ブチル 参考例6で得た化合物6.35gのジクロルメタン40ml溶
液に、ジメチルホルムアミド2滴を加え、ついで室温で
オキザリルクロライド15mlを滴加した。混合液を室温
で1時間、35℃で3時間攪拌した後、反応液を減圧濃
縮し、残留物をベンゼンと混ぜ、再度減圧濃縮すること
を2回繰り返した。結晶性残留物をテトラヒドロフラン
30mlに溶かし、−40〜−30℃で、カリウム t −
ブトキシド4.00gのテトラヒドロフラン60ml溶液を滴
加した。混合液を室温で2時間攪拌後、反応液にエチル
エーテル−ヘキサン(2:1)と水を加え、有機溶剤層
を分離した。抽出液を、水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶剤を減圧留去し、残留物を酢酸エチル−ヘ
キサン(1:9)のシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付して、油状の目的化合物5.06gを得た。この物質
は室温で放置しておくと結晶化した。 融点:50−51℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.16
(9H, s), 2.38(3H, s), 7.20-7.26(4H, m), 7.39-7.45
(2H, m), 7.47-7.61(1H, m), 7.73-7.68(1H, m)。
【0152】参考例8(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)グリオキ
シル酸メチル 参考例5で得た化合物3.66g,N−ブロモスクシンイミ
ド2.56gおよびベンゾイルパーオキシド 0.1gを含む四
塩化炭素100mlけん濁液を、200Wタングステンラ
ンプで照射下、3時間攪拌しながら、還流した。反応液
を重曹水および食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶剤を留去し、結晶性の残留物をイソプロピ
ルエーテルで洗浄して、目的化合物3.68gを得た。 融点:93−96℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :3.36
(3H, s), 4.53(2H, s), 7.29(2H, d, J=7Hz), 7.44-7.5
5(4H, m), 7.62-7.68(1H, m), 7.84(1H, d, J=6.5Hz)。
シル酸メチル 参考例5で得た化合物3.66g,N−ブロモスクシンイミ
ド2.56gおよびベンゾイルパーオキシド 0.1gを含む四
塩化炭素100mlけん濁液を、200Wタングステンラ
ンプで照射下、3時間攪拌しながら、還流した。反応液
を重曹水および食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶剤を留去し、結晶性の残留物をイソプロピ
ルエーテルで洗浄して、目的化合物3.68gを得た。 融点:93−96℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :3.36
(3H, s), 4.53(2H, s), 7.29(2H, d, J=7Hz), 7.44-7.5
5(4H, m), 7.62-7.68(1H, m), 7.84(1H, d, J=6.5Hz)。
【0153】参考例9(4′−ブロモメチルビフェニル−2−イル)グリオキ
シル酸t −ブチル 参考例7で得た化合物1.78g,N−ブロモスクシンイミ
ド1.12gおよびベンゾイルパーオキシド50mgの四塩化
炭素50mlけん濁液を、参考例8と同様に処理して、シ
ロップ状の目的化合物2.25gを得た。この物質は室温に
放置すると結晶化した。 融点:100−102℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.18
(3H, s), 4.52(2H, s), 7.27(1H, d, J=7Hz), 7.32(1H,
d, J=7Hz), 7.41-7.52(4H, m), 7.62(1H, t,J=7Hz),
7.73(1H, d, J=7Hz)。
シル酸t −ブチル 参考例7で得た化合物1.78g,N−ブロモスクシンイミ
ド1.12gおよびベンゾイルパーオキシド50mgの四塩化
炭素50mlけん濁液を、参考例8と同様に処理して、シ
ロップ状の目的化合物2.25gを得た。この物質は室温に
放置すると結晶化した。 融点:100−102℃。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :1.18
(3H, s), 4.52(2H, s), 7.27(1H, d, J=7Hz), 7.32(1H,
d, J=7Hz), 7.41-7.52(4H, m), 7.62(1H, t,J=7Hz),
7.73(1H, d, J=7Hz)。
【0154】参考例104′−メチル−2−〔α−ヒドロキシ(テトラゾール−
5−イル)メチル〕ビフェニル 参考例2で得た化合物4.73gおよびトリブチル錫アジド
20.8gのトルエン60mg溶液を、100℃で20時間攪
拌した。反応液にカ性ソーダ4.05gの水200ml溶液を
加え、室温で1時間攪拌したのち、ヘキサンで3回洗浄
した。アルカリ性水溶液に濃塩酸 8.5mlを加え、酸性に
した。析出する化合物を酢酸エチルで抽出し、芒硝で乾
燥後、溶剤を留去して、無定形固体の目的化合物3.57g
を得た。本化合物はさらに精製することなしに、次の反
応工程に供した。
5−イル)メチル〕ビフェニル 参考例2で得た化合物4.73gおよびトリブチル錫アジド
20.8gのトルエン60mg溶液を、100℃で20時間攪
拌した。反応液にカ性ソーダ4.05gの水200ml溶液を
加え、室温で1時間攪拌したのち、ヘキサンで3回洗浄
した。アルカリ性水溶液に濃塩酸 8.5mlを加え、酸性に
した。析出する化合物を酢酸エチルで抽出し、芒硝で乾
燥後、溶剤を留去して、無定形固体の目的化合物3.57g
を得た。本化合物はさらに精製することなしに、次の反
応工程に供した。
【0155】参考例114′−メチル−2−〔α−ヒドロキシ−(2−トリチル
テトラゾール−5−イル)メチル〕ビフェニル 参考例10で得た化合物5.62gおよびトリチルクロライ
ド3.92gのピリジン100ml溶液を100℃で 4.5時間
攪拌した。反応液を減圧濃縮したのち、残留物を酢酸エ
チルに溶かし、水、 0.5%炭酸カリウム水溶液および食
塩水で順次洗浄し、芒硝で乾燥し、溶剤を減圧留去し
た。残留物をヘキサン−酢酸エチル(2:1)を溶媒系
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、
無定形固体の目的化合物2.68gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.37
(3H, s), 6.20(1H, s), 7.05-7.38(22H, m), 7.55-7.59
(1H, m) 。
テトラゾール−5−イル)メチル〕ビフェニル 参考例10で得た化合物5.62gおよびトリチルクロライ
ド3.92gのピリジン100ml溶液を100℃で 4.5時間
攪拌した。反応液を減圧濃縮したのち、残留物を酢酸エ
チルに溶かし、水、 0.5%炭酸カリウム水溶液および食
塩水で順次洗浄し、芒硝で乾燥し、溶剤を減圧留去し
た。残留物をヘキサン−酢酸エチル(2:1)を溶媒系
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、
無定形固体の目的化合物2.68gを得た。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.37
(3H, s), 6.20(1H, s), 7.05-7.38(22H, m), 7.55-7.59
(1H, m) 。
【0156】参考例124′−メチル−2−(2−トリチルテトラゾール−5−
イルカルボニル)ビフェニル 参考例11で得た化合物2.48gのジクロルメタン50ml
溶液に、二酸化マンガン8gを加え、混合物を室温で1
6時間攪拌した。不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した
のち、残留物をヘキサン−酢酸エチル(3:1)を溶媒
系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
て、結晶性の目的化合物1.20gを得た。 融点:145−147℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.25
(3H, s), 6.82-6.92(9H, m), 7.24-7.40(11H, m), 7.46
(1H, t, J=7.5Hz), 7.59(1H, t, J=7.5Hz),7.74(1H, d,
J=8.5Hz)。
イルカルボニル)ビフェニル 参考例11で得た化合物2.48gのジクロルメタン50ml
溶液に、二酸化マンガン8gを加え、混合物を室温で1
6時間攪拌した。不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した
のち、残留物をヘキサン−酢酸エチル(3:1)を溶媒
系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
て、結晶性の目的化合物1.20gを得た。 融点:145−147℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :2.25
(3H, s), 6.82-6.92(9H, m), 7.24-7.40(11H, m), 7.46
(1H, t, J=7.5Hz), 7.59(1H, t, J=7.5Hz),7.74(1H, d,
J=8.5Hz)。
【0157】参考例134′−ブロモメチル−2−(2−トリチルテトラゾール
−5−イルカルボニル)ビフェニル 参考例12で得た化合物400mg,N−ブロモスクシン
イミド150mgおよびベンゾイルパーオキシド20mgを
用いて、参考例8と同様に処理して、結晶性粉末の目的
化合物465mgを得た。 融点:161−163℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :4.34
(2H, s), 6.84-6.87(5H, m), 6.98(2H, d, J=8.0Hz),
7.10(2H, d, J=8.0Hz), 7.24-7.39(11H, m),7.48(1H,
t, J=7.5Hz), 7.61(1H, t, J=7.5Hz), 7.74(1H, d, J=
6.0Hz)。
−5−イルカルボニル)ビフェニル 参考例12で得た化合物400mg,N−ブロモスクシン
イミド150mgおよびベンゾイルパーオキシド20mgを
用いて、参考例8と同様に処理して、結晶性粉末の目的
化合物465mgを得た。 融点:161−163℃(分解)。 NMRスペクトル,270MHz(CDCl3) δppm :4.34
(2H, s), 6.84-6.87(5H, m), 6.98(2H, d, J=8.0Hz),
7.10(2H, d, J=8.0Hz), 7.24-7.39(11H, m),7.48(1H,
t, J=7.5Hz), 7.61(1H, t, J=7.5Hz), 7.74(1H, d, J=
6.0Hz)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/44 ABN 7431−4C C07D 213/60 233/68 233/70 233/88 233/90 A 233/92 235/04 239/42 Z 8615−4C 401/10 257 7602−4C 403/10 257 7602−4C 471/04 107 7019−4C (72)発明者 下地 康雄 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 小池 博之 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 佐田 登志夫 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 【化1】 (式中、 Aは、式 【化2】 (上記式中、 R1 は、C1 −C6 アルキル基、C2 −C6 アルケニル
基、C3 −C6 シクロアルキル基または式 R4 −Y−
R5 (式中、R4 は、水素原子、C1 −C6 アルキル基
またはC3 −C6 シクロアルキル基を示し、R5 は、単
結合またはC1 −C4 アルキレン基を示し、Yは、酸素
原子、硫黄原子またはイミノ基(NH)を示す。)を示
し、 R2 は、水素原子、ハロゲン原子、C1 −C6 アルキル
基、C2 −C6 アルケニル基、C3 −C6 シクロアルキ
ル基、水酸基、アミノ基、モノー(C1 −C6 アルキ
ル)アミノ基、ジー(C1 −C6 アルキル)アミノ基、
ホルミル基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −
C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ
基、ニトロ基、置換されたC1 −C6 アルキル基(該置
換基は、1乃至7個のハロゲン原子、水酸基、アミノ
基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ジー
(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル基、C1
−C6アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ
基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基またはニトロ
基を示す。)、置換されたC2 −C6 アルケニル基(該
置換基は、1乃至3個のハロゲン原子、水酸基 アミノ
基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ジー
(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル基、C1
−C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アルコキシ
基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基またはニトロ
基を示す。)または置換されたC3 −C6 シクロアルキ
ル基(該置換基は、1乃至3個のハロゲン原子、水酸
基、アミノ基、モノー(C1 −C6 アルキル基)アミノ
基、ジー(C1 −C6 アルキル基)アミノ基、ホルミル
基、C1 −C6 アルキルカルボニル基、C1 −C6 アル
コキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基、シアノ基もしく
はニトロ基を示す。)を示し、 R3 は、水素原子、C1 −C6 アルキル基、カルボキシ
基、保護されたカルボキシ基、カルバモイル基またはテ
トラゾール−5−イル基を示し、 Xは、式 −CH= 基、式 −N= 基または式 −
C(CO2 R6 )= (式中、R6 は、水素原子または
カルボキシ基の保護基を示す。)を有する基を示し、 Zは、単結合、C1 −C4 アルキレン基またはビニレン
基を示す。)を示し、 Bは、カルボキシ基、保護されたカルボキシ基またはテ
トラゾール−5−イル基を示す。)を有するビフェニル
誘導体およびその薬理上許容される塩。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010023895A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 昭和電工株式会社 | 無電解めっき用センシタイジング液および無電解めっき方法 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5616599A (en) * | 1991-02-21 | 1997-04-01 | Sankyo Company, Limited | Angiotensin II antagosist 1-biphenylmethylimidazole compounds and their therapeutic use |
TW215434B (ja) * | 1992-03-07 | 1993-11-01 | Hoechst Ag | |
NZ282485A (en) * | 1994-03-16 | 1997-06-24 | Sankyo Co | Treatment of ocular hypertension using imidazole derivatives |
KR100238012B1 (ko) * | 1995-07-31 | 2000-01-15 | 이구택 | 용접성 및 성형성이 우수한 확관 용기용 냉연 강판의 제조 방법 |
JPH0959277A (ja) * | 1995-08-17 | 1997-03-04 | Green Cross Corp:The | 6−アミノメチル置換キノリン安息香酸類の製造方法 |
KR100241305B1 (ko) * | 1995-11-30 | 2000-03-02 | 이구택 | 내 염산부식성이 우수한 고가공용 고강도 냉연강판의 제조 방법 |
KR100240986B1 (ko) * | 1995-12-05 | 2000-03-02 | 이구택 | 2차 가공취성이 우수한 심가공용 고장력 냉간압연강판의 제조방법 |
KR100411670B1 (ko) * | 1999-06-29 | 2003-12-18 | 주식회사 포스코 | 고성형성 소부경화형 고강도 냉연강판 및 그 제조방법 |
KR100433248B1 (ko) * | 1999-12-28 | 2004-05-27 | 주식회사 포스코 | 가공성 및 내벤트성이 우수한 고가공용 고강도 냉연강판및 그 제조방법 |
US20040102502A1 (en) * | 2000-10-25 | 2004-05-27 | Toshifumi Watanabe | Preventing/remedies for portal hypertension |
KR100470640B1 (ko) * | 2000-11-24 | 2005-03-07 | 주식회사 포스코 | 고강도 소부경화형 냉연강판 및 그 제조방법 |
KR100584755B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2006-05-30 | 주식회사 포스코 | 소부경화성을 갖는 프레스성형성이 우수한고강도냉연강판의 제조방법 |
WO2005051929A1 (en) * | 2003-11-28 | 2005-06-09 | Ranbaxy Laboratories Limited | Conversion of aromatic nitriles into tetrazoles |
MX2007005129A (es) * | 2004-10-27 | 2007-09-11 | Daiichi Sankyo Co Ltd | Compuesto de benceno que tiene 2 o mas sustituyentes. |
WO2007047838A2 (en) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Dr. Reddy's Laboratories Ltd. | Process for preparing olmesartan medoxomil |
KR100711359B1 (ko) * | 2005-12-14 | 2007-04-27 | 주식회사 포스코 | 면내이방성이 우수한 소부경화형 박강판 및 그 제조방법 |
CN101921265B (zh) * | 2009-11-25 | 2012-07-04 | 北京理工大学 | 联苯酰胺四唑类化合物、合成方法及用途 |
RU2538964C1 (ru) * | 2010-12-17 | 2015-01-10 | Мицубиси Танабе Фарма Корпорейшн | Соединение с последовательной арициклической структурой, обладающее активностью ингибирования ацилкофермента а: диацилглицеринацилтрансферазы (dgat1) |
ES2690315T3 (es) | 2012-06-15 | 2018-11-20 | Mitsubishi Tanabe Pharma Corporation | Compuestos de imidazol y triazol como inhibidores de DGAT-1 |
CN104402873A (zh) * | 2014-12-02 | 2015-03-11 | 千辉药业(安徽)有限责任公司 | 一种奥美沙坦酯中间体的制备方法 |
KR102142628B1 (ko) * | 2019-07-30 | 2020-09-14 | 현대오트론 주식회사 | 레졸버 센서의 구동신호를 구현하기 위한 방법 및 이를 위한 장치 |
Family Cites Families (70)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4335040A (en) * | 1966-10-06 | 1982-06-15 | Livingston Labs. | Therapeutic product and method |
JPS55313A (en) * | 1978-06-13 | 1980-01-05 | Kissei Pharmaceut Co Ltd | Imidazole derivative |
DK531479A (da) * | 1979-01-19 | 1980-07-20 | Pfizer | Fremgangsmaade til fremstilling af imidazolderivater og salte deraf |
JPS5671073A (en) * | 1979-11-12 | 1981-06-13 | Takeda Chem Ind Ltd | Imidazole derivative |
JPS5671074A (en) * | 1979-11-12 | 1981-06-13 | Takeda Chem Ind Ltd | 1,2-disubstituted-4-halogenoimidazole-5-acetic acid derivative |
JPS6019908B2 (ja) * | 1980-04-30 | 1985-05-18 | カネボウ株式会社 | 1,3−ジオキソレン−2−オン誘導体 |
IE802177L (en) * | 1980-10-21 | 1981-05-12 | Takeda Chemical Industries Ltd | Imidazol-5-ylacetic acid derivatives |
US4812462A (en) * | 1986-04-01 | 1989-03-14 | Warner-Lambert Company | 4,5,6,7-tetrahydro-1H-imidazo[4,5-c]pyridine-6-carboxylic acid analogs having antihypertensive activity |
US4816463A (en) * | 1986-04-01 | 1989-03-28 | Warner-Lambert Company | Substituted diimidazo [1,5-a: 4',5'-d]pyridines having antihypertensive activity |
US5138069A (en) * | 1986-07-11 | 1992-08-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Angiotensin II receptor blocking imidazoles |
CA1334092C (en) * | 1986-07-11 | 1995-01-24 | David John Carini | Angiotensin ii receptor blocking imidazoles |
US4874867A (en) * | 1987-05-22 | 1989-10-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrazole intermediates to antihypertensive compounds |
US4820843A (en) * | 1987-05-22 | 1989-04-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrazole intermediates to antihypertensive compounds |
US4870186A (en) * | 1987-05-22 | 1989-09-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrazole intermediates to antihypertensive compounds |
US5043349A (en) * | 1988-01-07 | 1991-08-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Substituted pyrrole angiotensin II antagonists |
US5081127A (en) * | 1988-01-07 | 1992-01-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Substituted 1,2,3-triazole angiotensin II antagonists |
US5189048A (en) * | 1988-01-07 | 1993-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Substituted 1,2,3 triazole angiotensin II antagonists |
US5210079A (en) * | 1988-01-07 | 1993-05-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Treatment of chronic renal failure with imidazole angiotensin-II receptor antagonists |
US5015651A (en) * | 1988-01-07 | 1991-05-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Treatment of hypertension with 1,2,4-angiotensin II antagonists |
US4880804A (en) * | 1988-01-07 | 1989-11-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Angiotensin II receptor blocking benzimidazoles |
CA1338238C (en) * | 1988-01-07 | 1996-04-09 | David John Carini | Angiotensin ii receptor blocking imidazoles and combinations thereof with diuretics and nsaids |
US5093346A (en) * | 1988-01-07 | 1992-03-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Substituted 1,2,4-triazole angiotensin II antagonists |
US5354867A (en) * | 1988-12-06 | 1994-10-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Angiotensin II receptor blocking imidazoles |
US4916129A (en) * | 1989-01-19 | 1990-04-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Combination β-blocking/angiotensin II blocking antihypertensives |
DE3928177A1 (de) * | 1989-04-08 | 1991-02-28 | Thomae Gmbh Dr K | Benzimidazole, diese verbindungen enthaltende arzneimittel und verfahren zu ihrer herstellung |
EP0400835A1 (en) * | 1989-05-15 | 1990-12-05 | Merck & Co. Inc. | Substituted benzimidazoles as angiotensin II antagonists |
GB8911854D0 (en) * | 1989-05-23 | 1989-07-12 | Ici Plc | Heterocyclic compounds |
IE64514B1 (en) * | 1989-05-23 | 1995-08-09 | Zeneca Ltd | Azaindenes |
IL94390A (en) * | 1989-05-30 | 1996-03-31 | Merck & Co Inc | The 6-membered trans-nitrogen-containing heterocycles are compressed with imidazo and pharmaceutical preparations containing them |
US5064825A (en) * | 1989-06-01 | 1991-11-12 | Merck & Co., Inc. | Angiotensin ii antagonists |
US5312828A (en) * | 1989-06-14 | 1994-05-17 | Finkelstein Joseph A | Substituted imidazoles having angiotensin II receptor blocking activity |
WO1991000277A1 (en) * | 1989-06-30 | 1991-01-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Substituted imidazoles |
SG50669A1 (en) * | 1989-06-30 | 1998-07-20 | Du Pont | Fused-ring aryl subtituted imidazoles |
JPH0830013B2 (ja) * | 1989-07-28 | 1996-03-27 | 財団法人相模中央化学研究所 | ビアリール化合物の製造方法 |
IE70593B1 (en) * | 1989-09-29 | 1996-12-11 | Eisai Co Ltd | Biphenylmethane derivative the use of it and pharmacological compositions containing same |
CA2032289A1 (en) * | 1989-12-29 | 1991-06-30 | Joseph A. Finkelstein | Substituted 5-(alkyl) carboxamide imidazoles |
US5140037A (en) * | 1990-03-20 | 1992-08-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Treatment of central nervous system disorders with imidazole angiotensin-ii receptor antagonists |
US5039814A (en) * | 1990-05-02 | 1991-08-13 | Merck & Co., Inc. | Ortho-lithiation process for the synthesis of 2-substituted 1-(tetrazol-5-yl)benzenes |
FR2663028B1 (fr) * | 1990-06-08 | 1994-10-14 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de benzimidazole, leur procede de preparation, les nouveaux intermediaires obtenus, leur application a titre de medicaments et les compositions pharmaceutiques les renfermant. |
AU7820091A (en) * | 1990-06-08 | 1991-12-12 | Roussel-Uclaf | New benzimidazole derivatives, their preparation process, the new intermediates obtained, their use as medicaments and the pharmaceutical compositions containing them |
WO1991019715A1 (en) * | 1990-06-15 | 1991-12-26 | G.D. Searle & Co. | 1H-SUBSTITUTED-IMIDAZO[4,5-d]PYRIDAZINE COMPOUNDS FOR TREATMENT OF CARDIOVASCULAR DISORDERS |
IL98319A (en) * | 1990-07-05 | 1997-04-15 | Roussel Uclaf | Sulphurous derivatives of imidazole, their preparation process, and pharmaceutical compositions containing them |
US5137902A (en) * | 1990-07-13 | 1992-08-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | 4-alkylimidazole derivatives and anti-hypertensive use thereof |
DE4023215A1 (de) * | 1990-07-21 | 1992-01-23 | Hoechst Ag | Substituierte azole, verfahren zu deren herstellung, sie enthaltende mittel und deren verwendung |
GB9017480D0 (en) * | 1990-08-09 | 1990-09-26 | Ici Plc | Chemical process |
US5089626A (en) * | 1990-08-23 | 1992-02-18 | Merck & Co., Inc. | Process for preparing an angiotensin II antagonist |
IL99246A0 (en) * | 1990-09-10 | 1992-07-15 | Abbott Lab | Angiotensin ii receptor antagonists and pharmaceutical compositions containing them |
US5126342A (en) * | 1990-10-01 | 1992-06-30 | Merck & Co., Inc. | Imidazole angiotensin ii antagonists incorporating acidic functional groups |
US5260322A (en) * | 1990-10-08 | 1993-11-09 | Merck & Co., Inc. | Angiotension II antagonists in the treatment of hyperuricemia |
DE4036645A1 (de) * | 1990-11-16 | 1992-05-21 | Hoechst Ag | Substituierte azole, verfahren zu deren herstellung, deren enthaltende mittel und deren verwendung |
DE4036706A1 (de) * | 1990-11-17 | 1992-05-21 | Hoechst Ag | Verfahren zur behandlung der cardialen sowie der vasculaeren hypertrophie und hyperplasie |
CA2058198A1 (en) * | 1991-01-04 | 1992-07-05 | Adalbert Wagner | Azole derivatives, process for their preparation, and their use |
IE914572A1 (en) * | 1991-01-17 | 1992-07-29 | Zeneca Ltd | Chemical process |
CA2229000C (en) * | 1991-02-21 | 2002-04-09 | Sankyo Company, Limited | 1-biphenylimidazole derivatives, their preparation and their therapeutic use |
EP0505098A1 (en) * | 1991-03-19 | 1992-09-23 | Merck & Co. Inc. | Imidazole derivatives bearing acidic functional groups as angiotensin II antagonists |
US5236928A (en) * | 1991-03-19 | 1993-08-17 | Merck & Co., Inc. | Imidazole derivatives bearing acidic functional groups at the 5-position, their compositions and methods of use as angiotensin II antagonists |
US5177097A (en) * | 1991-07-24 | 1993-01-05 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Acyl amidine and acyl, guanidine substituted biphenyl derivatives |
TW209213B (ja) * | 1991-08-21 | 1993-07-11 | Yamanouchi Pharma Co Ltd | |
US5252753A (en) * | 1991-11-01 | 1993-10-12 | Ortho Pharmaceutical Corporation | Process for the preparation of certain substituted biphenyl tetrazoles and compounds thereof |
US5310928A (en) * | 1991-11-18 | 1994-05-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing biphenyltetrazole compounds |
EP0550313A1 (fr) * | 1991-12-30 | 1993-07-07 | Synthelabo | Nouveaux dérivés de 2-(tétrazol-5-yl)-(1,1'-biphényle), leur préparation et leur utilisation comme intermédiaires de synthèse |
TW215434B (ja) * | 1992-03-07 | 1993-11-01 | Hoechst Ag | |
US5219856A (en) * | 1992-04-06 | 1993-06-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Angiotensin-II receptor blocking, heterocycle substituted imidazoles |
DE69329982T2 (de) * | 1992-06-02 | 2001-09-27 | Sankyo Co., Ltd. | 4-Carboxyimidazolderivate als Angiotensin-II-Antagonisten und ihre therapeutische Verwendung |
JPH0673029A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-03-15 | Takeda Chem Ind Ltd | テトラゾール誘導体の製造法 |
US5484955A (en) * | 1992-07-06 | 1996-01-16 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Tri-higher alkyl tin azide and its use |
JPH0687833A (ja) * | 1992-07-21 | 1994-03-29 | Sankyo Co Ltd | ビニルイミダゾール誘導体 |
US5310929A (en) * | 1992-08-06 | 1994-05-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Prodrugs of imidazole carboxylic acids as angiotensin II receptor antagonists |
US5266583A (en) * | 1992-09-01 | 1993-11-30 | Merck & Co., Inc. | Angitotensin II antagonist |
AU5449194A (en) * | 1992-10-26 | 1994-05-24 | Merck & Co., Inc. | Combinations of angiotensin-ii receptor antagonists and diuretics |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2010023895A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 昭和電工株式会社 | 無電解めっき用センシタイジング液および無電解めっき方法 |
JP2010053435A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Showa Denko Kk | 無電解めっき用センシタイジング液および無電解めっき方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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