JPH0523890B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0523890B2
JPH0523890B2 JP58001576A JP157683A JPH0523890B2 JP H0523890 B2 JPH0523890 B2 JP H0523890B2 JP 58001576 A JP58001576 A JP 58001576A JP 157683 A JP157683 A JP 157683A JP H0523890 B2 JPH0523890 B2 JP H0523890B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
ceramic
guide
base
ceramics
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58001576A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59129633A (ja
Inventor
Kazuo Takahashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP58001576A priority Critical patent/JPS59129633A/ja
Priority to DE19843400265 priority patent/DE3400265A1/de
Priority to GB08400314A priority patent/GB2133930B/en
Priority to FR848400158A priority patent/FR2539066B1/fr
Publication of JPS59129633A publication Critical patent/JPS59129633A/ja
Priority to US06/936,972 priority patent/US4766465A/en
Publication of JPH0523890B2 publication Critical patent/JPH0523890B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/44Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
    • B23Q1/56Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
    • B23Q1/60Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
    • B23Q1/62Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides
    • B23Q1/621Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides a single sliding pair followed perpendicularly by a single sliding pair
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C29/00Bearings for parts moving only linearly
    • F16C29/02Sliding-contact bearings
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C33/00Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
    • F16C33/02Parts of sliding-contact bearings
    • F16C33/04Brasses; Bushes; Linings
    • F16C33/043Sliding surface consisting mainly of ceramics, cermets or hard carbon, e.g. diamond like carbon [DLC]
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70816Bearings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C2322/00Apparatus used in shaping articles
    • F16C2322/39General buildup of machine tools, e.g. spindles, slides, actuators
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C29/00Bearings for parts moving only linearly
    • F16C29/008Systems with a plurality of bearings, e.g. four carriages supporting a slide on two parallel rails
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/046Electron beam treatment of devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/102Mask alignment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)
  • Transmission Devices (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は可動ステージをガイドに沿つて移動す
るステージ装置、特には投影露光装置、電子線描
画装置、もしくはワイヤーボンダ等の半導体製造
装置に適用されるステージ装置に関する。
[従来の技術] 従来のステージ装置は、Al系、Ti系、あるい
はMg系の軽合金や他の金属材料を使用して可動
ステージ部分や伝達機構を構成している。
[発明が解決しようとしている問題点] しかしながら、これらの金属材料は、剛性、温
度変化による変形、耐摩耗性、及び防錆等の面で
問題がある。特に、ステージ装置を真空雰囲気中
で使用する場合には、潤滑材の使用が制限される
ので、耐摩耗性が更に悪化する。
また、半導体製造分野で使用するような高精度
ステージ装置の精度維持は、金属材料の経時変化
を考えると、非常に難しい問題である。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたも
ので、その目的は、上述の従来技術の問題点を解
決すると共に、可動ステージの高速で且つ高精度
な移動を可能にし、例えば真空雰囲気中でも支障
なく使用可能なステージ装置を提供することにあ
る。
[問題点を解決するための手段] この目的を達成するため、本発明のステージ装
置は、基盤と、該基盤上に載置される第1ステー
ジと、該第1ステージを該基盤に対して第1の方
向に移動させるための第1ガイド部材と、物体を
載置するための第2ステージと、該第2ステージ
を該第1ステージに対して第1の方向とは異なる
第2の方向に移動させるための第2ガイド部材と
を有し、前記基盤、第1ステージ、第1ガイド部
材、第2ステージ、第2ガイド部材の材質をセラ
ミツクスとしたことを特徴としている。
これにより、可動部分の軽量化を図ると共に、
耐摩耗性を向上させて、可動ステージの高速で且
つ高精度な移動を可能にしている。更には、剛性
不足や温度変化による変形、防錆、及び経時変化
等の面での問題も解決している。
[実施例] 以下、本発明を図に示した一実施例を用いて詳
細に説明する。
第1図において、1はアルミナセラミツクス製
のチヤツクで、その上に載置されたシリコンウエ
ハあるいは試料を真空吸着する。図には描いてい
ないが、ウエハチヤツク1には真空吸着用の開口
及び真空ポンプにつながるダクトが設けられてい
る。2はアルミナセラミツクス製のXステージ
で、チヤツク1をX方向に移送する。3はアルミ
ナセラミツクス製もしくは更に摺動面にテフロン
(登録商標)のコートを施した摺動部材で、Xス
テージ2の内側面に設けられる。4はXステージ
2に送り力を与えるためのセラミツクス製のボー
ルナツトで、結合部材を介してXステージ2に結
合されており、セラミツクス製またはルビー、サ
フアイアなど非金属のボールを内蔵する。
5はセラミツクス製の送り用ボールネジで、ボ
ールナツト4と螺合する。6はボールネジ5を保
持するためのセラミツクス製ハウジングで、その
内部にはボールネジ5を受けるためにルビー、サ
フアイアなどの非金属で構成された軸受けを収容
している。7はセラミツクス製の動力伝達用カツ
プリングで、カツプリング7の一方はボールネジ
5につながり、他方はXステージを駆動するモー
タ8の駆動軸につながる。9はXステージ2の移
動を規制するためのセラミツクス製直線案内摺動
ガイドで、摺動ガイド9の片面は転動ガイド(第
2図参照)に当接し、他面は摺動部材3に当接す
る。
次に、10はセラミツクス製のYステージで、
Xステージ2の突出部2′,2′を支持すると共
に、X方向摺動ガイド9が結合されている。11
はセラミツクス製または更にテフロン(登録商
標)のコートを施した摺動部材で、Yステージ1
0の内側に設けられる。12はYステージ10の
移動を規制するためのセラミツクス製の直線案内
摺動ガイドで、セラミツクス製基盤18に結合さ
れる。13及び14は、セラミツクス製でY方向
送り用のボールネジ15を保持するためのセラミ
ツクス製ハウジングで、ハウジング13,14内
にはセラミツクス材あるいはルビー、サフアイア
などの非金属材で構成された軸受けが収容されて
いる。なお、図には描かれていないが、ボールナ
ツトがボールネジ15に螺合すると共に、Yステ
ージ10の内側に固定される。
16は動力伝達用のカツプリングで、セラミツ
クスで製作され、Yステージ10を駆動するモー
タ17に結合する。19〜22はラツピングを行
つて平面に鏡面仕上げ施したセラミツクス製の摺
動面で、摺動面19,20はXステージ2の下側
突出部2′,2′を支持し、摺動面21,22はY
ステージ10の下側突出部10′,10′を各々支
持する。
第2図及び第3図は、それぞれステージ2,1
0を支持するための構造を示しており、第2図に
おいて、24はセラミツクスあるいは非金属材で
作られたコロもしくは針状軸受(リテーナーはテ
フロン材)であり、第3図において、25は空気
軸受けを利用する場合のセラミツクス製のエアー
パツドで、エアーパツド25には不図示の空圧ダ
クトがつながつている。尚、これらの部材の内、
摺動面と転動部を除いた部分に、用途に応じて従
来の合金製部材を使用することもできる。
以上の構成で、Yステージ10に固定されたモ
ータ8を駆動すれば、カツプリング7を介してボ
ールネジ5が回転し、ボールネジ5と螺合するボ
ールナツト4を前後に送ることで、これに固定さ
れたXステージ2をX方向に前後動させ得る。X
ステージ2は平面19と20上を移動することで
水平面内をZ方向に微動することなく変位し、ま
たY方向の変動はガイド9で規制される。他方、
基盤18に固定されたモータ17を駆動すれば、
カツプリング16を介してボールネジ15が回転
し、Yステージ10をY方向に前後動させ得る。
Yステージ10は平面上21と22上を移動し、
ガイド12で規制されて正確にY方向へ変位す
る。
この実施例で、結合用カツプリング7,16と
してセラミツクスを使用したのは、高剛性且つ低
慣性で、送り装置からの振動伝達を軽減できるか
らである。また、ステージ全体をセラミツクス材
料で構成すれば、セラミツクス自体が非磁性体で
あるから、非磁性ステージを必要とする電子線描
画装置に使用することもできる他、化学薬品等の
付着する可能性がある他分野の精密送り装置、精
密測定装置に適用することも可能である。また錆
ないという利点を生かして、薬液中での使用も可
能であり、あるいは真空中の使用も可能であるか
ら、宇宙開発への応用も考えられる。
[発明の効果] 上述した如く、本発明によれば、ステージ装置
の可動部分の軽量化をその剛性を低下させること
なく行えると共に、セラミツクス材の低熱伝導
率、低熱膨張係数により周囲雰囲気温度の変化に
対して変動しにくい高精度なステージ装置の提供
が可能となる。また、本発明によれば、耐摩耗性
を向上させることができ、金属のようなリンギン
グ等の問題も生じ難く、無潤滑の摺動面や転動面
を達成できるので、例えば真空雰囲気中でも利用
可能なステージ装置の提供が可能となる。更に、
本発明によれば、ステージ装置の経時変化を極め
て微少にすることができるので、高いステージ精
度を長期間維持することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のステージ装置の一実施例を示
す斜視図、第2図は第1図の実施例の要部を示す
断面図、第3図は本発明の他の実施例を示す断面
図である。 図中、2はXステージ、4はボールナツト、5
はボールネジ、9はXガイド、10はYステー
ジ、12はYガイド、18は基盤である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 基盤と、該基盤上に載置される第1ステージ
    と、該第1ステージを該基盤に対して第1の方向
    に移動させるための第1ガイド部材と、物体を載
    置するための第2ステージと、該第2ステージを
    該第1ステージに対して第1の方向とは異なる第
    2の方向に移動させるための第2ガイド部材とを
    有し、前記基盤、第1ステージ、第2ガイド部
    材、第2ステージ、第2ガイド部材の材質をセラ
    ミツクスとしたことを特徴とするステージ装置。
JP58001576A 1983-01-08 1983-01-08 ステージ装置 Granted JPS59129633A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58001576A JPS59129633A (ja) 1983-01-08 1983-01-08 ステージ装置
DE19843400265 DE3400265A1 (de) 1983-01-08 1984-01-05 Tragvorrichtung fuer praezisionsbewegungen
GB08400314A GB2133930B (en) 1983-01-08 1984-01-06 Workpiece carriages
FR848400158A FR2539066B1 (fr) 1983-01-08 1984-01-06 Dispositif de support pour mouvements fins
US06/936,972 US4766465A (en) 1983-01-08 1986-11-26 Carry device for fine movement

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58001576A JPS59129633A (ja) 1983-01-08 1983-01-08 ステージ装置

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP89190A Division JPH02225857A (ja) 1990-01-06 1990-01-06 ボールネジ装置
JP4245194A Division JP2705785B2 (ja) 1994-03-14 1994-03-14 ステージ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59129633A JPS59129633A (ja) 1984-07-26
JPH0523890B2 true JPH0523890B2 (ja) 1993-04-06

Family

ID=11505340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58001576A Granted JPS59129633A (ja) 1983-01-08 1983-01-08 ステージ装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4766465A (ja)
JP (1) JPS59129633A (ja)
DE (1) DE3400265A1 (ja)
FR (1) FR2539066B1 (ja)
GB (1) GB2133930B (ja)

Families Citing this family (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3620969A1 (de) * 1985-06-24 1987-01-02 Canon Kk Praezisionszufuehrmechanismus
WO1987000114A1 (en) * 1985-06-26 1987-01-15 Collin Stuart Camp Machine tool
DE3538091A1 (de) * 1985-10-25 1987-04-30 Npsk Poluprovodnikova Technika Einrichtung fuer die koordinatenpositionierung
DE3732566A1 (de) * 1986-09-26 1988-04-07 Fraunhofer Ges Forschung Feinpositioniermodul
DD297758A7 (de) * 1987-03-13 1992-01-23 Elektromat Gmbh,De Positionierungseinrichtung fuer die herstellung von halbleiterbauelementen
US4979195A (en) * 1988-09-22 1990-12-18 Fujitsu Limited Vertical stepper
EP0418200A1 (de) * 1989-09-11 1991-03-20 Hans Rudolf Weber Linearführung
JPH03131442A (ja) * 1989-10-12 1991-06-05 Nippon Tungsten Co Ltd X―yステージ
US5061039A (en) * 1990-06-22 1991-10-29 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Dual axis translation apparatus and system for translating an optical beam and related method
US5279309A (en) * 1991-06-13 1994-01-18 International Business Machines Corporation Signaling device and method for monitoring positions in a surgical operation
IL104608A0 (en) * 1992-02-13 1993-06-10 Hughes Aircraft Co Apparatus for programmed plasma etching tool motion to modify solid layer thickness profiles
CA2082113C (en) * 1992-11-04 2000-02-29 Donald T. Waite Atmospheric precipitation collector and method of employing same
JP2568798B2 (ja) * 1992-12-17 1997-01-08 株式会社ハタ研削 ボンディングステージ
JPH06183561A (ja) * 1992-12-18 1994-07-05 Canon Inc 移動ステージ装置
JP3021264B2 (ja) * 1993-12-13 2000-03-15 アネルバ株式会社 基板加熱・冷却機構
US5528118A (en) * 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
JP3537194B2 (ja) * 1994-10-17 2004-06-14 オリンパス株式会社 光学顕微鏡
JP3709896B2 (ja) * 1995-06-15 2005-10-26 株式会社ニコン ステージ装置
JP3634483B2 (ja) * 1996-02-13 2005-03-30 キヤノン株式会社 ステージ装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
US6012697A (en) * 1996-04-12 2000-01-11 Nikon Corporation Stage and supporting mechanism for supporting movable mirror on stage
US5699602A (en) * 1996-07-05 1997-12-23 Smooth Ocean Enterprise Co., Ltd. Apparatus for adusting position of a machining unit on a chip carrier maker
JP3077605B2 (ja) 1996-10-18 2000-08-14 日新電機株式会社 ホルダ駆動装置
JP3437406B2 (ja) * 1997-04-22 2003-08-18 キヤノン株式会社 投影露光装置
JPH11211732A (ja) 1998-01-27 1999-08-06 Hitachi Constr Mach Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
US6131896A (en) * 1998-02-11 2000-10-17 Ciena Corporation Optical assembly workstation having an elevated work surface movable relative to a principal work surface
DE19858428C2 (de) * 1998-12-17 2002-09-12 Leica Microsystems Koordinaten-Messanordnung
JP4378762B2 (ja) * 1999-05-19 2009-12-09 株式会社ニコン ステージ装置
WO2000079574A1 (fr) * 1999-06-18 2000-12-28 Nikon Corporation Dispositif a etage et systeme d'exposition
US6690763B2 (en) * 2001-04-28 2004-02-10 Oceaneering International, Inc. Device for micro-manipulation of small samples
JP4198334B2 (ja) * 2001-06-01 2008-12-17 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 Xyステージを用いた処理方法及び装置
US7347862B2 (en) * 2002-05-02 2008-03-25 Layer James H Apparatus for positioning a medical instrument relative to a patient
JP2004264371A (ja) * 2003-02-21 2004-09-24 Tadahiro Omi 液晶パネル用露光装置
JP4200794B2 (ja) * 2003-03-14 2008-12-24 株式会社ニコン ステージ、および該ステージを備えた生物顕微鏡
JP2005010120A (ja) * 2003-06-23 2005-01-13 Internatl Business Mach Corp <Ibm> ポジショニングステージ
GB2406533B (en) * 2003-10-02 2005-11-02 Leica Microsys Lithography Ltd Stage for a workpiece
US7168694B2 (en) * 2004-01-22 2007-01-30 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Multi-axis workpiece chuck
CN100590746C (zh) * 2004-06-15 2010-02-17 Thk株式会社 Xy引导台
ATE514802T1 (de) * 2006-03-29 2011-07-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vakuumtransportvorrichtung mit beweglicher führungsschiene
KR100774753B1 (ko) * 2006-09-29 2007-11-08 현대자동차주식회사 다차종 도어 장착설비용 2축 방향 플로팅 지그장치
DE102006061067A1 (de) * 2006-12-22 2008-06-26 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Tischtrieb für Mikroskope
JP4889112B2 (ja) * 2007-02-27 2012-03-07 セイコーインスツル株式会社 自動薄切装置
US20080224109A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-18 Hong Wen-Cheng Puller device
DE202007006226U1 (de) * 2007-04-27 2008-09-04 Robert Bosch Gmbh Bausatz für ein Handhabungssystem
DE102008011638B4 (de) * 2008-02-28 2016-03-10 Leica Instruments (Singapore) Pte. Ltd. Balanciervorrichtung für Operations-Mikroskop
US7959141B2 (en) * 2008-12-23 2011-06-14 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Stage apparatus
JP5107984B2 (ja) * 2009-09-18 2012-12-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ ステージ装置
US20110170808A1 (en) * 2010-01-13 2011-07-14 Tung-Hsin Chen Platform with automatic lubrication mechanism
WO2012040705A2 (en) * 2010-09-24 2012-03-29 Rudolph Technologies, Inc. Support for semiconductor substrate
CN102649232B (zh) * 2011-02-28 2014-07-02 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 直线运动平台
DE102011053181A1 (de) * 2011-09-01 2013-03-07 Union Werkzeugmaschinen Gmbh Chemnitz Schlittenführung für einen Maschinenschlitten einer Werkzeugmaschine
DE102011085327B4 (de) * 2011-10-27 2013-06-06 Eitzenberger Luftlagertechnik Gmbh Positioniervorrichtung, Kreuztisch und Hubeinheit
CN102642077B (zh) * 2012-04-13 2015-07-22 精进百思特电动(上海)有限公司 一种超声波端子焊接机
CN102672406A (zh) * 2012-05-14 2012-09-19 柳州双英汽车配件制造有限公司 用于座椅骨架点焊的四向旋转定位装置
CN102729023B (zh) * 2012-07-04 2015-05-20 吴江市博众精工科技有限公司 一种翻转模组
CN103231246B (zh) * 2013-03-18 2016-04-06 宁波市凯博数控机械有限公司 一种立式数控钻铣机床
CN103464651A (zh) * 2013-09-12 2013-12-25 苏州晓炎自动化设备有限公司 一种滑动机构
CN104440291B (zh) * 2013-09-13 2017-07-11 珠海格力电器股份有限公司 定位夹具及其控制方法
CN103978339B (zh) * 2014-05-30 2016-03-30 唐山开元特种焊接设备有限公司 钻井平台桩腿对接焊柔性组对工装
CN104249263A (zh) * 2014-09-16 2014-12-31 芜湖市华益阀门制造有限公司 一种单斜面零件钻孔夹具用三自由度调节支座
CN104259729A (zh) * 2014-09-16 2015-01-07 芜湖市华益阀门制造有限公司 一种多功能柱体方体焊接专用平台用调节平台
CN104889747A (zh) * 2015-05-16 2015-09-09 宁波麦科斯机器人科技有限公司 电子滑台
CN105014442B (zh) * 2015-07-10 2017-07-25 浙江诸暨东港液压机械有限公司 一种空气干燥器阀座斜孔加工智能夹具及装夹方法
CN105179473B (zh) * 2015-08-31 2017-09-26 中国航空工业集团公司北京航空精密机械研究所 细长杆件球柔性同轴调整装置
CN105197846B (zh) * 2015-10-13 2018-02-16 博众精工科技股份有限公司 一种顶升机构
CN105922036B (zh) * 2016-06-30 2018-04-13 何淑琼 电磁阀阀盖加工设备的阀盖换位装置
CN106002402B (zh) * 2016-06-30 2018-06-15 江苏射阳港港口股份有限公司 电磁阀阀盖加工设备的第一阀盖换位机构
CN106064344A (zh) * 2016-07-29 2016-11-02 无锡研奥电子科技有限公司 数控两轴工作台系统
CN106041604A (zh) * 2016-07-29 2016-10-26 无锡研奥电子科技有限公司 工作台系统
CN106271324B (zh) * 2016-09-20 2018-03-02 陕西理工学院 一种焊接支架
CN108015690A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 中车大同电力机车有限公司 一种djg4构架二工序夹紧装置
CN108406170B (zh) * 2017-11-01 2020-06-30 淮安溢邦林峰机械制造有限公司 一种具备夹取机构的焊接机
CN107891385B (zh) * 2017-11-08 2019-08-30 弗埃斯工业技术(苏州)有限公司 料件球状固定装置
CN108493294B (zh) * 2018-03-13 2020-01-14 中南大学 应用于光电子封装的冗余驱动平面运动平台
CN108818340B (zh) * 2018-05-05 2020-06-05 芜湖杰诺科技有限公司 一种三通阀加工用固定装置
JP7011535B2 (ja) 2018-06-07 2022-01-26 株式会社日立ハイテク ステージ装置、及び荷電粒子線装置
CN109205288B (zh) * 2018-07-30 2021-05-11 张家港市欧微自动化研发有限公司 一种硅片装载设备及其装载方法
CN109027560B (zh) * 2018-09-13 2020-09-15 深圳市三阶微控实业有限公司 一种高精度xy移动平台及其实现方法
CN109940329A (zh) * 2019-03-19 2019-06-28 富华中元江苏重机科技有限公司 一种中间罐车电机定位吊耳焊接用工装
CN111347368A (zh) * 2020-05-04 2020-06-30 仙居颜飘机械科技有限公司 一种开关柜侧板安装用压紧机构
CN111853196B (zh) * 2020-07-28 2021-09-03 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种紧凑型三维运动机构
WO2022141449A1 (zh) * 2020-12-31 2022-07-07 深圳先进技术研究院 二维平面位移微型控制平台
CN115592370A (zh) * 2021-07-09 2023-01-13 三赢科技(深圳)有限公司(Cn) 拆卸装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5290900A (en) * 1976-01-27 1977-07-30 Toshiba Ceramics Co Stool
JPS5413352A (en) * 1977-07-01 1979-01-31 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Reiforcement of optical transmission glass fiber
JPS5645021A (en) * 1979-09-19 1981-04-24 Hitachi Ltd Moving apparatus
JPS5761437A (en) * 1980-10-02 1982-04-13 Nissan Motor Co Ltd Slide base of machine tool
JPS58206310A (ja) * 1982-05-25 1983-12-01 Mitsubishi Electric Corp 電気加工装置
JPS5919718A (ja) * 1982-07-22 1984-02-01 Toto Ltd 対偶機構

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2728840A (en) * 1952-03-22 1955-12-27 Gen Electric Specimen heating means
GB954843A (en) * 1961-05-25 1964-04-08 Ass Elect Ind Improvements relating to electron microscope specimen holders
GB1008545A (en) * 1961-09-29 1965-10-27 Euratom Analyzing device for electron beam micro-probe
FR1587573A (ja) * 1968-10-25 1970-03-20
DE1911908C3 (de) * 1969-03-08 1980-08-28 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Einrichtung zum meßbaren Verschieben eines Objektes
US3628717A (en) * 1969-11-12 1971-12-21 Ibm Apparatus for positioning and bonding
DE2236529C3 (de) * 1972-07-21 1976-01-02 Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen Drehvorrichtung hoher Genauigkeit für optische Geräte, insbesondere Elektronenmikroskope
US3903536A (en) * 1973-11-19 1975-09-02 Gerhard Westerberg Device for generating masks for microcircuits
US4042119A (en) * 1975-06-30 1977-08-16 International Business Machines Corporation Workpiece positioning apparatus
JPS529455A (en) * 1975-07-14 1977-01-25 Tokyo Optical Co Ltd Device for returning a microscope supporting-apparatus to a center pos ition
US4126376A (en) * 1977-02-24 1978-11-21 Jenoptik Jena G.M.B.H Manipulation device for precision adjustments including a double microscope having adjustable optical axes
JPS5551119A (en) * 1978-10-12 1980-04-14 Toshiba Corp Linear bearing device
DE3014645C2 (de) * 1980-04-16 1982-12-02 MTU Motoren- und Turbinen-Union München GmbH, 8000 München Metall-Keramik-Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
US4385839A (en) * 1980-07-31 1983-05-31 Baird Corporation Automatic alignment system
JPS5783329A (en) * 1980-11-01 1982-05-25 Nissan Motor Co Ltd Structure of slide surface of machine tool
JPS5867026A (ja) * 1981-10-19 1983-04-21 Hitachi Ltd ステップアンドリピート方式の露光装置
US4492356A (en) * 1982-02-26 1985-01-08 Hitachi, Ltd. Precision parallel translation system
JPS58135548U (ja) * 1982-03-10 1983-09-12 三和テッキ株式会社 ボ−ルねじ装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5290900A (en) * 1976-01-27 1977-07-30 Toshiba Ceramics Co Stool
JPS5413352A (en) * 1977-07-01 1979-01-31 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Reiforcement of optical transmission glass fiber
JPS5645021A (en) * 1979-09-19 1981-04-24 Hitachi Ltd Moving apparatus
JPS5761437A (en) * 1980-10-02 1982-04-13 Nissan Motor Co Ltd Slide base of machine tool
JPS58206310A (ja) * 1982-05-25 1983-12-01 Mitsubishi Electric Corp 電気加工装置
JPS5919718A (ja) * 1982-07-22 1984-02-01 Toto Ltd 対偶機構

Also Published As

Publication number Publication date
FR2539066B1 (fr) 1993-08-27
FR2539066A1 (fr) 1984-07-13
DE3400265C2 (ja) 1992-10-01
JPS59129633A (ja) 1984-07-26
DE3400265A1 (de) 1984-07-12
GB2133930B (en) 1987-01-14
US4766465A (en) 1988-08-23
GB2133930A (en) 1984-08-01
GB8400314D0 (en) 1984-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0523890B2 (ja)
US6193199B1 (en) Sample stage including a slider assembly
EP0196711A1 (en) A positioning device comprising pre-stressed contactless bearings
JPH0352220B2 (ja)
JPH05235077A (ja) 半導体デバイスボンディング用の極座標運動ボンディングヘッド
JP2705785B2 (ja) ステージ装置
JPH02225857A (ja) ボールネジ装置
JPH11190339A (ja) 静圧流体軸受
Garratt et al. Technology transfer in the development of a nano-topographic instrument
JP2899250B2 (ja) 半導体製造装置
JP3492859B2 (ja) ウエハー形状測定装置
JP2773783B2 (ja) 回転並進ステージ装置
JP2004151102A (ja) ウエハー形状測定装置
JPH07192984A (ja) 薄板固定装置
JPH02262091A (ja) 位置決め装置
JPS61112216A (ja) 非接触駆動形平面移動台
JP3553350B2 (ja) Xyステージ
JPS60223119A (ja) 2軸方向非接触駆動形精密移動台
JPH01216120A (ja) 検査装置
JPH08250558A (ja) ウェーハプローバ
JP3512789B2 (ja) ウエハー形状測定装置
JPS6022605A (ja) 精密移送装置
JP2000260691A (ja) ステージおよび露光装置並びに定盤の製造方法
JP2895673B2 (ja) 電子顕微鏡等の試料装置
JPS59101834A (ja) 精密平面移動装置