JP2000260691A - ステージおよび露光装置並びに定盤の製造方法 - Google Patents
ステージおよび露光装置並びに定盤の製造方法Info
- Publication number
- JP2000260691A JP2000260691A JP11060906A JP6090699A JP2000260691A JP 2000260691 A JP2000260691 A JP 2000260691A JP 11060906 A JP11060906 A JP 11060906A JP 6090699 A JP6090699 A JP 6090699A JP 2000260691 A JP2000260691 A JP 2000260691A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- plate
- surface plate
- ceramic
- ceramics
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
軽量化および低価格化を実現する。 【解決手段】 定盤24の表面31aを移動する可動体
25を有するステージ18であって、定盤24が本体部
30と表面31aを形成する表面部31とを有し、本体
部30と表面部31とは異なる材質で構成する。
Description
平面内を移動するステージ、およびこのステージによっ
て精密移動および位置決めされるマスク、基板を用いて
露光処理を行う露光装置、並びに上記定盤を製造するた
めの製造方法に関するものである。
られる各種露光装置(ステッパー等)、転写マスクの描
画装置、マスクパターンの位置座標測定装置、あるいは
その他の位置決め装置では、対象物を保持して直交する
二軸(X、Y軸)方向に精密に移動するステージが用い
られている。
観斜視図である。ステージ1は、略直方体形状の定盤2
と、該定盤2の表面に沿ったX方向に移動するXステー
ジ3とY方向に移動するYステージ4とから構成されて
いる。Yステージ4は、X方向に沿って延在するように
配置され、定盤2の端縁にY方向に延在するように設け
られたYガイド5をガイドにしてY駆動用リニアモータ
6によって駆動される。
このYステージ4をガイドにしてX駆動用リニアモータ
7によって駆動される。また、Xステージ3およびYス
テージ4の底部には、エアガイド機構を構成するエアパ
ッド8,9がそれぞれ設けられている。そのため、Xス
テージ3およびYステージ4は、定盤2に対して微小隙
間をもって浮上走行し、該定盤2との間で摩擦力が作用
しない構成になっている。
板やウエハ等の基板を保持する可動テーブル10が設け
られている。この可動テーブル10は、Xステージ3お
よびYステージ4がそれぞれX方向、Y方向に移動する
ことで定盤2の表面に沿った二次元方向に自在に移動で
きるようになっている。
交する方向に長尺ミラー11,12がそれぞれ設置され
ている。各長尺ミラー11,12には、レーザ干渉計
(不図示)からレーザ光が射出され、その反射光と入射
光との干渉に基づいて各長尺ミラー11,12とレーザ
干渉計との間の距離、すなわち可動テーブル10の位置
が高分解能、高精度に検出される構成になっている。
石材によって形成されている。石材は、金属(特に鉄系
の鋳物)やセラミックスに比べて剛性が低く、強度が小
さい。そのため、石材に対して金属やセラミックスと同
等の剛性、強度を取ろうとすると重量増が避けられな
い。さらに、石材は、加工上の自由度が小さいため、実
際に使用する場合は石の固まりの状態で設置されること
がほとんどである。
リブ構造を採用して軽量化を図ることができず、重量化
の問題を回避できなかった。この問題を解決するため
に、定盤2を鋳物で形成するとともにその表面にニッケ
ル・リン・メッキを施したり、定盤2をアルミニウム系
の材料で形成するとともにその表面にアルマイト処理を
施すことで、表面の酸化防止と硬度アップを図るという
方策が採られていた。
動テーブル10の移動中にエアが遮断されてしまうこと
がある。この際、可動テーブル10と定盤2とが接触し
て定盤2に傷が付く虞がある。また、可動テーブル10
と定盤2との間に小さな粉塵等が存在した状態で稼働テ
ーブル10が移動した場合も定盤2に傷が付く虞があ
る。このとき、上記金属素材を使うどちらの場合も、定
盤2の表面に傷が付くと、上記金属素材の表面が盛り上
がってしまう。この状態でXステージおよびYステージ
4が定盤2の表面に沿って移動すると、定盤2の盛り上
がりとエアパッド8,9との間に擦れが発生することに
なる。
なわれたり、エアガイド機構の動特性が変動すること
で、可動テーブル10に対する制御性能が著しく低下し
てしまうことがあった。さらに、その状態で長時間の使
用を続けると、エアパッド8,9が徐々に傷いて致命傷
にまで到るケースや、極端なときにはエアパッド8,9
がかじることでステージ1が作動不能になってしまうこ
とがあり、長期的な安定性という観点ではこのような難
点を抱えていた。加えて、定盤2に対してメッキやアル
マイト処理を施すには大きさに限界があり、露光装置に
使われるような大型形状には適用できなかった。
の性能維持の面から石材で構成されている。この場合、
定盤2が小さな粉塵等で表面に傷が付いても表面の組織
が欠落するのみで、金属のように表面組織が盛り上がる
ことがない。欠落した小さな組織もエアパッド8,9の
静圧により、エアパッド8,9の外に吹き飛ばされる。
そのため、エアパッド8,9に致命傷を与えたり、エア
ギャップの小さくなったところが局所的に発生してかじ
り易くなるということもない。
ックスを用いることが検討されている。セラミックス
は、石材よりも硬く、且つ耐摩耗性に優れているため、
供給エアのON/OFF時に徐々にガイド部が傷ついた
り、摩耗することでエアガイド機構の性能が変動する度
合いが極端に小さい。また、石材は吸水性を有している
ため、裏面側に肉抜き加工を施した場合、表面側と裏面
側とで表面積が異なり、両面の吸水量が同一にならない
等の理由から、石材の定盤にはこの吸水性に起因する平
面度変化が発生するが、セラミックスにはこのような不
都合も発生しない。
たような従来のステージおよび露光装置並びに定盤の製
造方法には、以下のような問題が存在する。セラミック
スは、単体で大きな体積を有するものを製造することが
不可能であり、また、複雑な形状に構成することが困難
であるという特性も有している。そのため、定盤2を全
てセラミックスで製作した例は、1軸のみのステージで
あったり、非常にストロークが小さいステージであった
りと、肉抜きをしなくても重量的に問題とならないよう
な小型のものに限られていた。
ものが製造可能になった場合でも、製造設備に掛かるコ
ストや歩留まりに代表される量産性の悪さを考慮する
と、最終的に非常に高価なものとなり、工業製品に適用
できる価格にならないといった問題点がある。
製作するICチップやLCDパネルを増やすために、こ
れらウエハやガラスプレートの大型化を求める要望が今
後さらに強まることが予想される。そうなると、必然的
に露光装置も大型化し、これに伴って大きなエアガイド
用の定盤が必要になってくる。大型の定盤は、上述した
ように、コストもさることながらその運搬も大きな問題
となる。すなわち、石材で定盤を製造すると、必要な強
度を得るために非常に厚いものとなり、装置全体として
運搬不能の重量になってしまう。さらに、石材は、脆い
ため、運搬中に欠けが発生したり、万一強い衝撃が加わ
った場合には割れてしまうという問題点があった。
れたもので、長期間に亙って性能を維持することが可能
で、且つ高剛性、軽量化および低価格化が実現するステ
ージ、およびこのステージを備えた露光装置並びに定盤
の製造方法を提供することを目的とする。
めに本発明は、実施の形態を示す図1ないし図6に対応
付けした以下の構成を採用している。本発明のステージ
は、定盤(24)の表面(31a、34a)を移動する
可動体(25)を有するステージ(18)であって、定
盤(24)は、本体部(30)と表面(31a、34
a)を形成する表面部(31、34)とを有し、本体部
(30)と表面部(31、34)とは異なる材質である
ことを特徴とするものである。
移動する表面部(31、34)のみ、表面組織が欠落す
る材質のもの、例えばセラミックスを選択して使用する
ことができる。そのため、長期間に亙ってステージ(1
8)の性能を維持できるとともに、表面部(31、3
4)を構成する材質で定盤(24)全体を構成する必要
がなくなり、コスト増を回避できる。また、表面(31
a、34a)における特性を考慮することなく本体部
(30)の材質を選択できるので、例えば、本体部(3
0)の材質を鉄系の鋳物とすることで、リブ構造を取る
ことが可能になり、高剛性を得るとともに軽量化も図れ
る形状に容易に製造することができる。
ジ(16)に保持されたマスク(M)のパターンを基板
ステージ(18)に保持された基板(P)に露光する露
光装置(13)において、マスクステージ(16)と基
板ステージ(18)との少なくとも一方のステージとし
て、請求項1から8のいずれかに記載されたステージ
(18)が設置されることを特徴とするものである。
テージ(16)および基板ステージ(18)の少なくと
もどちらか一方に設置された請求項1から8のいずれか
に記載されたステージ(18)を用いて、マスクステー
ジ(16)に保持されたマスク(M)のパターンを基板
ステージ(18)に保持された基板(P)に露光するこ
とができる。
ミックスを熔射するノズル(36)を定盤(24)の表
面(31a、34a)に対向配置し、定盤(24)とノ
ズル(36)とを表面(31a、34a)に沿った一方
向に相対移動させてセラミックスを熔射した後に、定盤
(24)とノズル(36)とを表面(31a、34a)
に沿った前記一方向と略直交する方向に相対移動させる
ことを順次繰り返すことを特徴とするものである。
ズル(36)および定盤(24)の一方向および該一方
向と直交する方向への相対移動を組み合わせることで、
一方向に沿って形成されたセラミックス層を直交方向に
亙って形成できるので、定盤(24)の表面(31a、
34a)にセラミックス層を形成することができる。
光装置並びに定盤の製造方法の実施の形態を、図1およ
び図2を参照して説明する。ここでは、本発明のステー
ジを、露光装置においてウエハ等の基板を保持する基板
ステージに設置する場合の例を用いて説明する。これら
の図において、従来例として示した図7と同一の構成要
素には同一符号を付し、その説明を省略する。
る。露光装置13は、マスク(レチクル)Mに形成され
たパターン(例えば、半導体素子パターン)を、感光剤
が塗布された略円形のウエハ(基板)W上へ投影転写す
るものであって、光源14、照明光学系15、マスクス
テージ16、投影光学系17および基板ステージ(ステ
ージ)18から概略構成されている。ここで、投影光学
系17の光軸に平行にZ軸が、光軸に垂直な面内におい
て、図2の紙面に平行にX軸が、光軸に垂直な面内にお
いて図2の紙面に垂直にY軸がそれぞれ設定されている
ものとする。
するものであり、超高圧水銀ランプ等で構成されてい
る。光源14から射出されたビームBは、反射ミラー1
9で反射されて照明光学系15に入射する。
ーレンズ、ビームBを均一化するためのオプチカルイン
テグレータ(フライアイレンズ等)、ビームBをオプチ
カルインテグレータに入射させるインプットレンズ、オ
プチカルインテグレータから射出したビームBをマスク
M上に集光するためのリレーレンズ、コンデンサーレン
ズ等を有している。照明光学系15から射出されたビー
ムBは、反射ミラー20によって反射されて、ウエハW
上に露光すべきパターンを有しマスクステージ16上に
保持されたマスクMに入射する。なお、図示省略するも
のの、マスクステージ16には移動鏡が設けられてい
て、位置計測装置である不図示のレーザ干渉系からのレ
ーザ光の照射によりマスクステージ16の位置が検出さ
れるようになっている。
存在するパターンの像をウエハW上に結像させるもので
ある。基板ステージ18は、ウエハWを保持するもので
あって、互いに直交する方向(X、Y、Zの三次元方
向)へ移動自在とされている。この基板ステージ18上
には、移動鏡18aが設けられている。移動鏡18aに
は、位置計測装置である不図示のレーザ干渉計からレー
ザ光21が射出され、その反射光と入射光との干渉に基
づいて移動鏡18aとレーザ干渉計との間の距離、すな
わち基板ステージ18(ひいてはウエハW)の位置が検
出される構成になっている。
は、投影光学系17を介してウエハWに結像する。そし
て、ウエハW上の露光領域には、マスクMの照明領域に
あるパターン像が形成される。そして、基板ステージ1
8の位置を検出しつつ、基板ステージ18を介してウエ
ハWを二次元的に移動させながら順次露光を行うことに
よって、ウエハWの露光領域にマスクMのパターンを逐
次転写することができる。
ある。基板ステージ18は、ベース22、防振・除振装
置23、定盤24、可動プレート(可動体)25、Xガ
イド26、X駆動用リニアモータ27、Yガイド28お
よびY駆動用リニアモータ29、29を主体として構成
されている(なお、この図においては、便宜上移動鏡等
は省略してある)。防振・除振装置23は、空気式ダン
パやピエゾダンパなどを有し、定盤24に加わる振動を
防振、除振するものであって、ベース22と定盤24と
の間に配置されている。
定盤本体30の上面に貼設されたセラミックス板(表面
部)31とから構成されている。定盤本体30は、イン
バー鋳鉄やニレジスト鋳鉄等の低熱膨張鋳物により形成
されており、十分な剛性を有し、且つ防振・除振装置2
3を組み込むために肉抜きを施したリブ構造を裏面側に
有している。また、定盤本体30としてアルミニウムを
用いてもよい。アルミニウムを定盤本体30として用い
た場合には、定盤24の軽量化がより期待できる。
クスによって平面視矩形状の板状に形成されており、そ
の表面31aに沿って可動プレート25が移動する構成
になっている。また、セラミックス板31は、定盤本体
30とほぼ同一の線膨張係数を有している。これら定盤
本体30およびセラミックス板31は、当接面において
エポキシ系接着剤(不図示)によって貼着されている。
7の駆動によりX方向に自在に移動するものである。Y
ガイド28は、セラミックス板31の表面31aに沿っ
たY方向に延在する長尺形状を成しており、Xガイド2
6と一体的に構成されることで該Xガイド26の移動に
よりX方向に移動するようになっている。可動プレート
25は、ウエハWを保持するホルダ(不図示)を有し、
Y駆動用リニアモータ29、29の駆動によってYガイ
ド28をガイドにしてY方向に自在に移動するものであ
る。
ガイド28の両端には、これらを一体的に支持するプレ
ート32、32がセラミックス板31に対向するように
設けられている。そして、各プレート32、32の底面
には、セラミックス板31の表面31aに臨むように非
接触ベアリングであるエアパッド(不図示)が配設され
ている。また、可動プレート25には、Y駆動用リニア
モータ29、29およびYガイド28を挟んでプレート
33が該可動プレート25に一体的に設けられている。
このプレート33の底面にも、セラミックス板31の表
面31aに臨むようにエアパッド(不図示)が配設され
ている。
盤24を製造する手順について説明する。まず、セラミ
ックス板31の裏面もしくは定盤本体30の上面、また
は双方にエポキシ系接着剤を薄く塗布する。次に、セラ
ミックス板31と定盤本体30とを当接させた後、人手
または所定の押圧機構により所定の圧力でセラミックス
板31を押圧し、これらを貼着する。このとき、接着層
の厚さが20μm程度になるような圧力で押圧する。接
着層が薄いため、定盤24としての剛性が劣化すること
はない。そして、接着剤が硬化した後に、セラミックス
板31の表面31aを研削・研磨して所定の面精度を出
す。
るとともに、防振・除振装置23、可動プレート25、
Xガイド26、X駆動用リニアモータ27、Yガイド2
8およびY駆動用リニアモータ29、29を組み込むこ
とにより基板ステージ18が得られる。
定盤本体30とセラミックス板31とに分割されている
ので、それぞれを異なる材質で形成することで、剛性を
受け持つ機能および可動プレート25との間で擦れを発
生させない機能とに分離することができる。そのため、
各機能に応じた特性を持つ材質を適宜選択することがで
きるようになり、汎用性を高めることができる。
ミックス板31で形成されており、表面31aに傷が付
いても盛り上がることがないので、エアガイド機構との
間に擦れが発生せず、したがってエアガイド機構が損傷
することなく長期間に亙ってその性能を維持することが
できる。また、セラミックス板31は、定盤24全体で
はなく、その表面のみを構成する板状なので容易に製造
することができ、コストを低減させることができる。さ
らに、セラミックスは、非磁性体であるので、非接触ベ
アリングとして磁気ベアリングを用いた際には、該磁気
ベアリングに悪影響を及ぼさないため好適である。ま
た、定盤本体30が金属材である鋳物で構成され、加工
性に優れているため、肉抜きやリブ構造を容易に形成で
き、軽量化および高剛性を両立させることができる。
を鋳物で形成された定盤本体30に貼設することで鋳物
単体時よりも強度が増し、捻り変形やたわみ変形量を小
さくできるという効果も生じる。また、セラミックス材
も鋳物も素材としての吸水率はほぼ零なので、石材のよ
うに湿度変化によって膨潤することで平面度が変化する
ことも防止できる。
本体30とセラミックス板31とがほぼ同一の線膨張係
数を有しているので、これらに熱変化が生じても定盤本
体30とセラミックス板31との間に、熱変化に伴う圧
縮力または引張り力が作用せず、定盤24として歪みが
発生することを未然に防ぐことができる。そのため、本
実施の形態の露光装置13では、定盤24の歪みによっ
て投影像に悪影響が及ぶことなく、結像特性を高精度に
維持することができる。
ラミックス板31が接着剤によって定盤本体30と貼着
されているので、定盤24が変形した際にも接着層が微
小滑りを起こすことで減衰効果が高まり、特に定盤24
のねじり共振等に対して有効である。
形態を示す図である(なお、この図においては、便宜
上、駆動用リニアモータ、Xガイド、Yガイドおよび可
動プレート等を省略してある)。この図において、図1
および図2に示す第1の実施の形態の構成要素と同一の
要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
第2の実施の形態と上記の第1の実施の形態とが異なる
点は、定盤24の構成である。
体30と二枚に分割されたセラミックス板(表面部)3
4、34とから構成されている。各セラミックス板3
4、34は、上記と同様に、エポキシ系接着剤によって
定盤本体30の上面に貼着されている。また、セラミッ
クス板34、34同士は、それぞれの突き合わせ面が研
削され、やはりエポキシ系接着剤によって突き合わせ面
に隙間が生じないように貼着されている。また、セラミ
ックス板34、34の接続部は、平坦になるように加工
されている。他の構成は、上記第1の実施の形態と同様
である。
は、上記第1の実施の形態と同様の作用・効果が得られ
ることに加えて、大きさが二倍になると価格が二倍では
なく、それ以上になってしまうという現状を踏まえた場
合、分割したセラミックス板34、34を貼り合わせて
使用することにより、一層の低価格化を実現することが
できる。
実施の形態を示す図であり、この形態では、分割したセ
ラミックス板34、34を四枚貼り合わせて定盤本体3
0に貼着している。このように、一定の大きさを有する
セラミックス板をあらかじめ複数枚用意しておき、定盤
本体30の大きさに合わせて敷き詰めて、定盤24の表
面34aを形成することで任意の大きさを有するステー
ジに適宜対応することができるとともに、より低価格の
ステージ18、ひいては露光装置13を実現することが
できる。
形態を示す図である。この図において、図4に示す第3
の実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符
号を付し、その説明を省略する。第4の実施の形態と上
記の第3の実施の形態とが異なる点は、セラミックス3
4…34を互いに離間するように配置したことである。
短辺の長さLが、可動プレート25の移動ストロークよ
りも大きい場合は、この図に示すように、各セラミック
ス板34…34毎に、エアパッド35が各セラミックス
板34…34からはみ出さないように配置することが可
能になる。したがって、本実施の形態のステージでは、
隣り合うセラミックス板34同士を接着剤で貼り合わせ
たり、接続部を平坦化するために別途加工を施す必要が
なくなり、製造工数の削減および一層の低価格化に寄与
できる。この場合、セラミックス板34およびエアパッ
ド35の数は、本実施の形態のように四ヶ所に限定され
るものではなく、三ヶ所やそれ以上であってもよいこと
は言うまでもない。
形態を示す図である(なお、この図においては、便宜
上、定盤本体30のみを図示している)。この図におい
て、図1および図2に示す第1の実施の形態の構成要素
と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省
略する。第5の実施の形態と上記の第1の実施の形態と
が異なる点は、定盤24の製造方法である。
成された定盤本体30にセラミックスを熔射することで
製造される。具体的な製造方法は、まず、図6(a)に
示すように、定盤本体30をXY平面に沿って載置する
とともに、セラミックスをプラズマ熔射等で熔射するノ
ズル36を定盤本体30の表面に対向配置して、ノズル
36を定盤本体30の表面に沿って+Y方向(一方向)
に相対移動させる。これにより、ノズル36の幅に相当
するセラミックスが定盤本体30上に帯状に熔射され
る。
30をノズル36に対して+X方向(直交する方向)
に、ノズル36の幅よりも若干短い距離相対移動させる
とともに、ノズル36を定盤本体30に対して−Y方向
に相対移動させる。そして、これらの一連の動作を順次
繰り返すことにより、定盤本体30の表面に厚さ約20
0μmのセラミックス層が形成された定盤24が得られ
る。この後、定盤24の表面を研削・研磨することで約
100μmの平滑なセラミックス層を有する定盤24が
完成する。なお、ノズル36と定盤本体30とが上記方
向に相対移動すれば、移動するのはノズル36のみや定
盤本体30のみでもよい。
積の定盤24でも容易にセラミックス層を形成できるだ
けでなく、メッキ等の処理と違い金属表面を覆う層を1
0倍程度厚くできるため、一旦セラミックスを熔射すれ
ば、その後は上記の実施の形態と同様に取り扱うことが
でき、基板ステージ18としては上記の形態と同様の効
果が得られる。なお、この熔射に用いるセラミックス材
は、アルミナセラミックス、窒化珪素、タングステンカ
ーバイト等が適用できる。
クス層や接着層の厚さは単に一例を示したものであり、
本発明のステージを限定するものではない。また、定盤
24の表面をセラミックス材で形成する構成としたが、
これに限られるものではなく、例えばセラミックス材と
同等の性能を有する結晶化ガラスなどの他の素材を用い
る構成であってもよい。結晶化ガラスを用いた場合、製
造時の収縮率が小さく、また炉の温度もセラミックスよ
りも低く済む等の効果が得られる。
基板ステージ18に適用した構成としたが、マスクMを
保持するマスクステージ16に適用できることはもちろ
んのこと、露光装置13以外にも転写マスクの描画装
置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機
器にも適用可能である。
ックス板31、34を定盤本体30に接着剤で貼着する
構成としたが、これに限られるものではなく、例えば、
定盤下部からのネジ締結や、定盤上部からのネジ締結で
あってもよい。上部からのネジ締結の場合、締結後、ネ
ジ頭部の座グリ穴にセラミックスのキャップを装着する
ことが好ましい。
1、34や熔射したセラミックスを研削、研磨する手段
としては、サーフェイスグラインダーの他、レベルメー
タを使って二点間の傾きを取り、盛り上がっているとこ
ろを研磨してゆく、いわゆる部分研磨機を用いることも
可能である。
駆動装置としては、2次元に磁石を配置した磁石ユニッ
トと、2次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対
向させ、電磁力によりステージを駆動する平面モータを
用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニッ
トとのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニット
と電機子ユニットとの他方を定盤本体30に設ければよ
い。
バイス用のガラスプレートや、半導体デバイス用の半導
体ウエハ、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、ある
いは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版
(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。
Wとを静止した状態でマスクMのパターンを露光し、ウ
エハWを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リ
ピート方式の露光装置(ステッパー)でも、マスクMと
ウエハWとを同期移動してマスクMのパターンを露光す
るステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装
置(スキャニング・ステッパー)にも適用することがで
きる。
プレイデバイス製造用や、半導体製造用の露光装置や、
薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはマスクM
などを製造するための露光装置などにも広く適用でき
る。
から発生する輝線(g線(436nm)、i線(365
nm))、KrFエキシマレーザ(248nm)、Ar
Fエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157
nm)、X線や電子銃などを用いることができる。ま
た、YAGレーザや半導体レーザ等の高周波などを用い
ることもできる。
ず等倍および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学
系17としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用い
る場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過す
る材料を用い、F2レーザを用いる場合は反射屈折系ま
たは屈折系の光学系にする。さらに、投影光学系17を
用いることなく、マスクMとウエハWとを密接させてマ
スクMのパターンを露光するプロキシミティ露光装置に
も適用することができる。
リニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いた
エア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を
用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ス
テージ16,18は、ガイドに沿って移動するタイプで
もよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであっても
よい。
力は、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃が
してもよい。マスクステージ16の移動により発生する
反力は、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃
がしてもよい。
15および投影光学系17をそれぞれ露光装置本体に組
み込んでその光学調整をするとともに、多数の機械部品
からなるマスクステージ16や基板ステージ18を露光
装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調
整(電気調整、動作確認等)をすることにより本実施の
形態の露光装置13を製造することができる。なお、露
光装置13の製造は、温度およびクリーン度等が管理さ
れたクリーンルームで行うことが望ましい。
ス等のデバイスは、各デバイスの機能・性能設計を行う
ステップ、この設計ステップに基づいたマスクMを製作
するステップ、ウエハW、ガラス基板等を製作するステ
ップ、前述した実施の形態の露光装置13によりマスク
MのパターンをウエハW、ガラス基板に露光するステッ
プ、各デバイスを組み立てるステップ、検査ステップ等
を経て製造されるものである。
テージは、定盤が本体部と表面部とを有しており、これ
ら本体部と表面部とが異なる材質である構成となってい
る。これにより、このステージでは、剛性を受け持つ機
能および可動体との間で擦れを発生させない機能とに分
離することができるため、各機能に応じた特性を持つ材
質を適宜選択することができるようになり、単一材で発
生した重量化、コストアップ、剛性不足等の不具合を解
消できるようになり、汎用性を高めることができるとい
う効果が得られる。
材で形成され、表面部がセラミックス材で形成される構
成となっている。これにより、このステージでは、エア
ガイド機構との間に擦れが発生せず、したがってエアガ
イド機構が損傷することなく長期間に亙ってその性能を
維持することができるとともに、セラミックスが非磁性
体であるので、エアパッド機構に磁気ベアリングを用い
た際には、該磁気ベアリングに悪影響を及ぼさないとい
う効果が得られる。また、本体部が金属材である鋳物で
構成され、加工性に優れているため、肉抜きやリブ構造
を容易に形成でき、軽量化および高剛性を両立させるこ
とができるという優れた効果が得られる。さらに、セラ
ミックス材も金属材も素材としての吸水率はほぼ零なの
で、石材のように湿度変化によって膨潤することで平面
度が変化することも防止できる。
したセラミックス材で表面部が形成される構成となって
いる。これにより、このステージでは、大面積の定盤で
も容易にセラミックス層を形成できるだけでなく、メッ
キ等の処理と違い金属表面を覆う層を厚くできるという
効果が得られる。
されたセラミックス板で表面部が形成される構成となっ
ている。これにより、このステージでは、大面積の定盤
であっても容易に製造することができ、コストを低減さ
せることができるとともに、金属材単体時よりも強度が
増し、捻り変形やたわみ変形量を小さくできるという効
果も生じる。
板が複数に分割されて貼設される構成となっている。こ
れにより、このステージでは、一枚のセラミックス板を
用いる場合に比べて一層の低価格化が実現できるととも
に、一定の大きさを有するセラミックス板をあらかじめ
複数枚用意しておき、本体部の大きさに合わせて敷き詰
めることで任意の大きさを有するステージに容易に対応
できるという効果が得られる。
板の長さが可動体の移動ストロークよりも大きい構成と
なっている。これにより、このステージでは、セラミッ
クス板同士を接着剤で貼り合わせたり、接続部を平坦化
するために別途加工を施す必要がなくなり、製造工数の
削減および一層の低価格化に寄与できるという効果が得
られる。
板が接着剤により本体部に貼着される構成となってい
る。これにより、このステージでは、定盤のねじり共振
等、定盤が変形した際にも接着層が微小滑りを起こすこ
とで減衰効果が高まるという優れた効果を奏するもので
ある。
部とほぼ同一の線膨張係数を有する構成となっている。
これにより、このステージでは、表面部および本体部に
熱変化が生じても本体部と表面部との間に圧縮力または
引張り力が作用せず、定盤として歪みが発生することを
未然に防ぐことができるという効果が得られる。
ジと基板ステージとの少なくとも一方のステージとし
て、請求項1から8のいずれかに記載されたステージが
設置される構成となっている。これにより、この露光装
置では、低価格化および軽量化が実現できるとともに、
長期間に亙ってステージ性能を維持することができ、結
像特性を高精度に維持できるという効果が得られる。
とノズルとを定盤の表面に沿った一方向に相対移動させ
てセラミックスを熔射した後に、定盤とノズルとを一方
向と略直交する方向に相対移動させることを順次繰り返
す構成となっている。これにより、この定盤の製造方法
では、大面積の定盤であっても容易、且つ厚くセラミッ
クス層を形成できるという効果が得られる。
て、定盤本体にセラミックス板が貼設された基板ステー
ジの外観斜視図である。
図である。
て、定盤本体に二枚のセラミックス板が貼設された基板
ステージの外観斜視図である。
て、定盤本体に四枚のセラミックス板が貼設された基板
ステージの外観斜視図である。
て、定盤本体に四枚のセラミックス板が互いに離間して
貼設された基板ステージの外観斜視図である。
て、定盤上にセラミックスを熔射する手順を説明するた
めの説明図である。
視図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 定盤の表面を移動する可動体を有するス
テージであって、 前記定盤は、本体部と前記表面を形成する表面部とを有
し、前記本体部と前記表面部とは異なる材質であること
を特徴とするステージ。 - 【請求項2】 請求項1記載のステージにおいて、 前記本体部は金属材で形成され、前記表面部はセラミッ
クス材で形成されていることを特徴とするステージ。 - 【請求項3】 請求項2記載のステージにおいて、 前記表面部は、前記本体部に熔射したセラミックス材に
より形成されることを特徴とするステージ。 - 【請求項4】 請求項2記載のステージにおいて、 前記表面部は、前記本体部に貼設されたセラミックス板
により形成されることを特徴とするステージ。 - 【請求項5】 請求項4記載のステージにおいて、 前記セラミックス板は、複数に分割されて貼設されるこ
とを特徴とするステージ。 - 【請求項6】 請求項4または5記載のステージにおい
て、 前記セラミックス板の長さは、前記可動体の移動ストロ
ークよりも大きいことを特徴とするステージ。 - 【請求項7】 請求項4から6のいずれかに記載された
ステージにおいて、 前記セラミックス板は、前記本体部に接着剤により貼着
されることを特徴とするステージ。 - 【請求項8】 請求項1から7のいずれかに記載のステ
ージにおいて、 前記表面部は、前記本体部とほぼ同一の線膨張係数を有
することを特徴とするステージ。 - 【請求項9】 マスクステージに保持されたマスクのパ
ターンを基板ステージに保持された基板に露光する露光
装置において、 前記マスクステージと前記基板ステージとの少なくとも
一方のステージとして、請求項1から8のいずれかに記
載されたステージが設置されることを特徴とする露光装
置。 - 【請求項10】 セラミックスを熔射するノズルを定盤
の表面に対向配置し、前記定盤と前記ノズルとを前記表
面に沿った一方向に相対移動させて前記セラミックスを
熔射した後に、前記定盤と前記ノズルとを前記表面に沿
った前記一方向と略直交する方向に相対移動させること
を順次繰り返すことを特徴とする定盤の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06090699A JP4341101B2 (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | ステージ装置及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06090699A JP4341101B2 (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | ステージ装置及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000260691A true JP2000260691A (ja) | 2000-09-22 |
JP4341101B2 JP4341101B2 (ja) | 2009-10-07 |
Family
ID=13155886
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06090699A Expired - Lifetime JP4341101B2 (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | ステージ装置及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4341101B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006247474A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 位置制御ステージ装置及び基板処理装置 |
JP2008133913A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Kyocera Corp | スライダ |
JP2009117803A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-28 | Canon Inc | 駆動装置及び露光装置、デバイスの製造方法 |
KR100951355B1 (ko) * | 2003-07-02 | 2010-04-08 | 삼성전자주식회사 | 도포 장치 |
US8035805B2 (en) | 2007-10-17 | 2011-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method |
-
1999
- 1999-03-08 JP JP06090699A patent/JP4341101B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100951355B1 (ko) * | 2003-07-02 | 2010-04-08 | 삼성전자주식회사 | 도포 장치 |
JP2006247474A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 位置制御ステージ装置及び基板処理装置 |
JP2008133913A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Kyocera Corp | スライダ |
JP2009117803A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-28 | Canon Inc | 駆動装置及び露光装置、デバイスの製造方法 |
US8035805B2 (en) | 2007-10-17 | 2011-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4341101B2 (ja) | 2009-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100855527B1 (ko) | 유지장치, 유지방법, 노광장치 및 디바이스 제조방법 | |
JP5348630B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
WO2001027978A1 (fr) | Substrat, dispositif a etage, procede d'attaque d'etage, systeme d'exposition et procede d'exposition | |
JP5910992B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
TWI405041B (zh) | Stage device and exposure device | |
JP2002198284A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
JP2001307983A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP5348629B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
TW200302507A (en) | Stage device and exposure device | |
JP2002343850A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
JP7192841B2 (ja) | 物体保持装置、処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
WO1999066542A1 (fr) | Procede et dispositif d'exposition | |
JP4341101B2 (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP5807841B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
US20040145751A1 (en) | Square wafer chuck with mirror | |
US9081308B2 (en) | Driving apparatus and exposure apparatus and device fabrication method | |
TW200849451A (en) | Stage device and exposure device | |
JP2002217082A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP2001023896A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP5772196B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体装置の組立方法。 | |
US6809323B2 (en) | Isolated frame caster | |
JP6197909B2 (ja) | 移動体装置 | |
WO2000079574A1 (fr) | Dispositif a etage et systeme d'exposition | |
JP2004241670A (ja) | 組立構造体、ステージ装置および露光装置 | |
TW514983B (en) | Stage device and exposure device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081030 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081104 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090324 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090514 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090616 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090629 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150717 Year of fee payment: 6 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150717 Year of fee payment: 6 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150717 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |