KR100951355B1 - 도포 장치 - Google Patents
도포 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100951355B1 KR100951355B1 KR1020030044582A KR20030044582A KR100951355B1 KR 100951355 B1 KR100951355 B1 KR 100951355B1 KR 1020030044582 A KR1020030044582 A KR 1020030044582A KR 20030044582 A KR20030044582 A KR 20030044582A KR 100951355 B1 KR100951355 B1 KR 100951355B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- nozzle
- pedestal
- photosensitive liquid
- moving device
- arm
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
Description
Claims (7)
- 기판이 장착되는 받침대,상기 받침대 위의 기판에 감광액을 도포하는 노즐,상기 노즐에 감광액을 공급하는 감광액 공급 장치,상기 기판을 따라 이동하며 감광액을 도포하는 방향을 스캔 방향이라 할 때, 상기 노즐을 상기 스캔 방향을 따라 이동시키는 노즐 이동 장치,상기 스캔 방향과 반대 방향으로 받침대를 이동시키는 받침대 이동 장치를 포함하고,상기 받침대 이동 장치는 상기 받침대에 부착된 받침대 아암 및 상기 받침대 아암의 일단부에 형성되어 있으며 상기 기판이 스캔 방향과 반대 방향으로 이동되도록 상기 받침대 아암과 연결되어 있는 받침대 가이드 레일을 포함하는 도포 장치.
- 제1항에서,상기 노즐과 상기 받침대는 동시에 서로 반대 방향으로 이동하는 도포 장치.
- 제2항에서,상기 노즐 이동 장치는 상기 노즐이 부착된 노즐 아암 및 상기 노즐 아암의 일단부에 형성되어 있으며 상기 노즐이 상기 기판을 따라 이동되도록 상기 노즐 아암과 연결되어 있는 노즐 가이드 레일을 포함하는 도포 장치.
- 삭제
- 제3항에서,상기 노즐 이동 장치 및 받침대 이동 장치는 선형 모터를 이용하여 구동하는 도포 장치.
- 제3항에서,상기 노즐 이동 장치 및 받침대 이동 장치는 에어 구동 방식을 이용하여 구동하는 도포 장치.
- 제3항에서,상기 노즐 이동 장치 및 받침대 이동 장치는 자기 부상 방식을 이용하여 구동하는 도포 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030044582A KR100951355B1 (ko) | 2003-07-02 | 2003-07-02 | 도포 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030044582A KR100951355B1 (ko) | 2003-07-02 | 2003-07-02 | 도포 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050004414A KR20050004414A (ko) | 2005-01-12 |
KR100951355B1 true KR100951355B1 (ko) | 2010-04-08 |
Family
ID=37219083
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030044582A KR100951355B1 (ko) | 2003-07-02 | 2003-07-02 | 도포 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100951355B1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100727001B1 (ko) * | 2006-05-04 | 2007-06-14 | 주식회사 디엠에스 | 인라인 타입 코팅장치 |
KR102310002B1 (ko) * | 2014-12-15 | 2021-10-07 | 주식회사 케이씨텍 | 약액 도포 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1012710A (ja) | 1996-06-21 | 1998-01-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
KR19980042825A (ko) * | 1997-11-27 | 1998-08-17 | 히가시데쓰로 | 도포막 형성장치 |
JP2000260691A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-09-22 | Nikon Corp | ステージおよび露光装置並びに定盤の製造方法 |
-
2003
- 2003-07-02 KR KR1020030044582A patent/KR100951355B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1012710A (ja) | 1996-06-21 | 1998-01-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
KR100521701B1 (ko) | 1996-11-27 | 2006-01-12 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 도포막형성장치및도포막형성방법 |
KR19980042825A (ko) * | 1997-11-27 | 1998-08-17 | 히가시데쓰로 | 도포막 형성장치 |
JP2000260691A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-09-22 | Nikon Corp | ステージおよび露光装置並びに定盤の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20050004414A (ko) | 2005-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI436449B (zh) | 旋轉頭、基板處理裝置及方法 | |
US9007561B2 (en) | Immersion lithography apparatus with hydrophilic region encircling hydrophobic region which encircles substrate support | |
US8479753B2 (en) | Liquid processing apparatus and method | |
KR101423308B1 (ko) | 습식 판형상 물체 처리 장치 및 방법 | |
AU2016387354B2 (en) | Methods and apparatus for generating magnetic fields | |
KR0129582B1 (ko) | 다중 기판 전달 장치 | |
CN114653660B (zh) | 一种磁性夹块及半导体基材清洗装置 | |
KR100951355B1 (ko) | 도포 장치 | |
KR101145775B1 (ko) | 스핀 헤드, 기판 처리 장치, 그리고 상기 스핀 헤드에서 기판을 지지하는 방법 | |
US20060191556A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP2001232268A (ja) | 膜形成装置 | |
JP3798589B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JP3731634B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4037813B2 (ja) | 現像処理装置及び現像処理方法 | |
JP7160872B2 (ja) | 基板処理装置およびその駆動方法 | |
JP2001135610A (ja) | 基板処理装置及び運転方法 | |
JPH1022248A (ja) | 位置決め装置およびそれを備えた基板処理装置 | |
JP5467583B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
KR101206932B1 (ko) | 등속 이송장치의 이물 제거장치 | |
JP2018142593A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP4004496B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2023046818A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2004055685A (ja) | 塗布処理装置及び塗布処理方法 | |
JP2000091213A (ja) | 塗布装置 | |
JP2006156906A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130228 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140303 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150227 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180302 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190304 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200227 Year of fee payment: 11 |