JPS59101834A - 精密平面移動装置 - Google Patents

精密平面移動装置

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JPS59101834A
JPS59101834A JP57211408A JP21140882A JPS59101834A JP S59101834 A JPS59101834 A JP S59101834A JP 57211408 A JP57211408 A JP 57211408A JP 21140882 A JP21140882 A JP 21140882A JP S59101834 A JPS59101834 A JP S59101834A
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JP
Japan
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block
movement
voltage
displacement
linear bearing
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Application number
JP57211408A
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English (en)
Inventor
Motoya Taniguchi
素也 谷口
Minoru Ikeda
稔 池田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体生産用露光装置に係シ、特に半導体ウェ
ハなどの試料をのせたテーブルを高精度に移動位置決め
するに好適な精密平面移動装置に関するものである。
〔従来技術〕
半導体集積回路の微細化によシ、1μm以下のパターン
を形成することが要求されている。このためには高精度
の露光装置が必要とされるが、この露光装置に不可欠の
ものが高精度の移動、位置決め装置である。従って、従
来よシ高精度の移動、位置決め装置が提案されて来たが
、これ等はテーブルの粗送り機構と微少送)機構とが別
々であシ、構造が複雑で、かつ大型である欠点な有して
いた。更に、垂送り機構では高精度の位置決めはできず
、微少送シ機構では高精度位置決めが可能であっても、
その微少送シ量が極めて小さい欠点を有していた。また
、微少送n*構は一般には粗送シ機構上に載置される構
造のものが多く、従って装置全体が高くなり、取扱に不
便である欠点を有していた。
第1図にこれ等の欠点を有する従来技術の移動装置の一
例を示す。
基本的構造としては示矢X方向およびY方向に移動する
2つの粗動テープ/X/1と、その粗動チープツシ1に
載架され、同じく示矢X方向およびY方向に微動する2
つの微動テーブル2から構成されている。すなわち、基
板に形成される2本の直線軸受案内7には粗動Xテープ
)V 5が載架されている。そして、この粗動Xテーブ
ル6は、基板上に設置されたサーボモータ5およ示矢X
方向に粗送シされる。粗動xfテーブルの上面には2本
の直線軸受案内7Iが形成され、この直線軸受案内7′
には粗動Yテーブル4が載架されている。粗動Yテープ
)V4は、粗動x7−−プル上忙設置されたサーボ七−
夕5′およびボールネジ6′によル直線軸受案内7′に
沿って示矢Y方向忙粗送りされる。
粗動Y7″−プル4の上面側には微動Xテープ、ル8が
配設され、この微動Xテーブル8と粗動Yテーブル4と
には、示矢芥方向に自由度をもつ平行板バネ11が跨設
されている。微動Yテーブル9は微動Xテーブル8の上
面側に配設され、微動Yチープツシ9と微動Xチープツ
シ8とには、示矢Y方向に自由度をもつ平行板バネ11
が跨設されている。微動Yテーブル9の上面には試料1
0、たとえば半導体クエへなどが載置される。
微動Xチープツシ8および微動Yテーブル9の移動方向
忙直交する端面には、磁性体ブ・口、り12が取着して
いる。そして、この磁性体ブロック12に対峙する位置
には、間隙りを介して電磁石13および13′が配設さ
れている。なお、電磁石16および13′は粗動Yテー
ブル上に取着されている。微動Xテーブル8および微動
Yテープ/l/9は、電磁石13および13’と磁性体
ブロック12の間に生ずる電磁力と平行板バネ11およ
び11′のバネ力との釣合う位置に微小移動することが
できる。
微動Yチープツシ9のXおよびY方向の両側には光学ミ
ラー15が取着している。この光学ミラー15には、た
とえばレーザ光16によるレーザ干渉測長器17が係合
している。そして、この検知信号は、コントローラ14
に入力される。
さて、目標移動量がコントローラ14に与えられると、
まづサーボモータ5および5rが作動し、ポールネジ6
および61によシ粗動Xテーブル3および粗動Yテーブ
ル4を移動し、目標値のわづか手前の位置で停止する。
次に、光学ミラー15とレーザ光16を用いたレーザ干
渉測長器によシ、目標値と測定値との差をコントローラ
14にフィードパ、りしながら、微動Xテーブル8およ
び微動YテープA/9の電磁石13および13′の入力
を制御し、定位置までテーブルを移動する。
これによって目標値に対し±0.1μmの精度で位置決
めすることができる。
以上のごとく、粗動送りと微動送シとを組合せた構造と
しなければならない理由として、粗動テーブルのみでは
士数μ隅程度の位置決め精度しか保証できず、微動テー
ブルのみでは、移動速度がおそく、かつ、そのストロー
クが小さいためである。従って、粗動テーブルと微動テ
ーブルとの二段重ね構造となり、前記したごとく構造が
複雑となる。そして、微動テーブルを載架するため粗動
テーブルの剛性を高める必要があシ、試料のわシには不
必要な大型のものとなる欠点な有している。更に、前記
のごとく、二段重ね構造となるため全体が高くなシ、取
扱が不便になるのみならず、重心位置が粗動チープツシ
の駆動軸から遠ざカリ、上動テープ/l/誤差が拡大さ
れると共に、外部からの振動等の影響が受は易くなるた
め、高精度位置決めが困難と′なる欠点を有していた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、従来技術の欠点をなくし、構造が簡単
で、小形であシ、高速かつ容易に、高精度に移動位置決
めが可能な精密平面移動装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するために、本発明は、第1図に示し
たような2段構造の粗動ステージの上に更に2段構造の
微動ステージを載架するという4段構造を簡素化し、同
−直線軸受案内上を粗、微動可能なXテーブル上に、同
様の機構のYテーブルとの2段構造のテーブルとした。
このX、  Xテーブルを駆動する駆動装置とそれぞれ
のテーブルとの間に、このテーブルに着脱自在であるブ
ロックを設け、潜時において、このブロックに組み込ん
だボールネジ機構とモータ忙よシ粗動送りを与える。そ
して、前記ブロック内にテーブルを微動送シするピエソ
素子による微小変位機構を設け、前記ブロックがテーブ
ルから離脱し、定位置に固定された状態で、前記微小変
位機構を制御し、前記の同一の直線軸受案内に沿ってテ
ーブルに微動送シを与え1、位置決めする構成を有する
粗微動一体形の精密平面移動機構を特徴としている。
〔発明の実′施例〕
以下、本発明の具体的実施例を説明する。
第2図において、示矢X方向に動くXテーブル1日は、
基板22上に形成される軸受7に載架されている。この
軸受7は、精密なころがフ軸受、静圧空気軸受、静圧油
軸受などのような摺動時の摩擦やスティックスリップ(
つまシ、物体を面上ですべらす時、途中でひっかかった
シ滑ったシすることを繰シ返す現象)の非常に少ない軸
受を用いた直線軸受案内から構成されている。
試料10を載置する試料テーブル19は、Xテーブル上
に形成される直線軸受案内7′上に載架され、示矢Y方
向に移動する。
基板22には、サーボモータ5が取着され、サーボモー
タ5には、ボールネジ6が接続している。このボールネ
ジ6には、ナツト36を介して、ブロック20が螺合し
、ブロック20は、基板22上に取着したスライドプレ
ート23上を、ボールネジ6の回転によってX方向にス
ライドするようになっている。回り止め機構は、ブロッ
ク20に収着し、プロ、り20がスライドプレート23
に浴って円滑に移動するようになっている。まだ、ブロ
ック20は第6図に示すように、固定手段、たとえば、
真空チャ、り34によシ、適宜の位置において、スライ
ドプレート26上に固着されるようになっている。
ブロック20は、コ形形状を有したもので、第3.4図
に示すように、Xテーブル18からはシ出したアーム2
5をはさみこむように配置されている。このブロック2
0には、後述するテーブル微動用の直進形微小変位素子
21と、これを基準としてアーム25をクランプするた
めのクランプ用微4・変位素子27が対向して取シつけ
られている。
また、微小変位素子21の先端部には、取付チ。
プ35が接着されてお)、先端チアプロ1が板バネ28
を取付チップ35に供給めされている。さらに、アーム
25からは、支点アーム6oが取着されてお)、微小変
位素子21は、板バネ28と、支点アーム30の先端忙
取シつけ尼支点軸受29を介して、アーム25と結合さ
れている。先端テップ31は、微小変位索子21の変位
をアーム25に伝えるところであシ、アーム25には、
その変位を受けるための超硬製のプレート32が取フっ
けられている。クランプ用変位素子27の先端部とアー
ム25との間にはギャップg(数10μm)を設け、電
圧印加によシ、クランプ用素子27を伸ばすことにより
、弾性支持バネ26を介して、ブロック20とアーム2
5とを一体化することができる。
なお、直進形微小変位素子21、及びクランプ用微小変
位素子27として、電圧印加によシ伸縮する電歪素子(
ピエゾ素子)を用いるとオフ図に示すような、連続的な
変位特性が得られる。
また、第5図は、単層のピエゾ素子の構成を示しており
、一定の電圧Vを入力した時の変位Δtは、Δt : 
dJ3・Vここでtlssは、圧電定数である。しかし
、よシ大きい変位を得るために、第6図のように単層ピ
エゾ素子の分極方向を対向するようにn枚の積層構造と
すると、単層の場合のn倍すなわちΔA=n・Δtが得
られる。このような積層形ピエゾ素子を用いると、数1
0〜数100μmの変位をオフ図の如く取シ出すことが
可能である。
なお、Yテーブル(試料テーブル)の駆動機構について
もXテーブルと同様の構造を有し、各部材には、′すつ
けて対応させている。
試料テーブル19上には、レーザー用の光学ミラーが取
着し、レーザー干渉式測長器17によ)、X、Y方向の
測長を行なっている。
次に、第4図を用いて、テーブルの位置制御方法を説明
する。まず、テーブル18を、所定の位置まで粗動送シ
(すなわち、露光装置においては、露光ステップ移動)
する時は、クランプ用変位素子27に電圧を印加し、ギ
ャップ8以上の変位な発生させ、弾性支持バネ26す介
して、ブロック20とアーム25とを一体化する。この
状態で、サーボモータ5とボールネジ6によシ。
テーブル1日を粗動送シする。サーボモータ5として、
ステッピングモ〜りあるいは、naf−ポモータを使用
した場合のテーブルの位置決め精度は、目標値に対して
玉数μm程度であシ、±0.05μm以下の位置決めは
、通常困難である。なお、粗動時には、ブロック20の
真空チャ、り64は、OFF状態で、ブロック20は、
スライドプレート23上をスライドする。
粗動後、まず、プロ、り20の真空チャック64を作動
し、プロ、り20をスライドプレート23上に真空ロッ
クする。次に、クランプ用変位素子27への電圧1tO
FF L、アーム25と、コの字形プロ、り20との間
にギヤ、プgk発生させることによシ、テーブル18は
直進形微小変位素子(ピエゾ素子)21の伸縮に従って
、直進軸受案内に沿って微動可能となる。この素子21
を伸縮させるために、オフ図のようKIらかじめピエゾ
素子の最大変位LIIlaXの約Zの変位(LO)をオ
フセット量となるように、最大印加電圧VmaXの約2
の電圧■0を印加しておく。なお第6図に示すように、
アーム25とブロック20とのギャップgは、このオフ
セット変位量LOとP≧LOとなるように設定するとよ
い。なぜなら/<L。
の場合、テーブルを十方向K Lo微動すると、アーム
25が、ブロック20に干渉するためである。
このように、粗動後、プロ、り20を、真空チャック3
4によシスライドプレート26上に固定し、このブロッ
ク20を基準としてアーム25に、ピエゾ素子21の変
位な直接与えることにより、ボールネジ6ナツト33と
のバックラッシュや、サーボモータ5からの振動の影響
をうけずに、テープ)v18は、ピエゾ素子21の変位
特性にしたがってなめらかに、かつ高速に微動可能であ
る。
なお、テーブルの位置決め制御方式は1チーボモータ5
、レーザ干渉測長器の選択によシ異なるが、例えば、サ
ーボモータ5として、ステッピングモータ、レーザ測長
器17として、分解能0.01μmで測長し、かつコン
トローラ69からのテーブル目標移動量指令値に、ある
許容誤差範囲に入り友時0信号を出力するレーザインタ
フェース回路40をもつものを使用した時の制御方法を
説明する。
まず、コントローラ39に1目標テーブル移動量Xを与
えると、グランプビエゾドライバ41によシフランプピ
エゾ素子21に電圧を印加し、次に、電磁ソレノイドバ
ルブ66をOFF l、て、フロック20とスライドプ
レート23との固定を解く。
次に、ステッピングモータドライバ67によりモータ5
を目標移動量に相当する量だけ回転させ、テーブル18
を粗動する。テーブル18が停止すると、まず、真空チ
ャ、り34をONシ、つづいて、クランプ用ピエゾ素子
27の電圧をOFFする。そこで、レーザインタフェー
ス40を介して、目標移動量と現在位置(粗動による移
動量〕との位置ずれ方向を読み取シ、その反対の方向に
、微動用ピエゾ素子ドライバ68に電圧を連続入力する
。テーブル18の位置が目標値から、あらかじめレーザ
インタフェース40に設定しておいて許容値±4内に入
ると、レーザインタフェース40からの0信号によシコ
ントローラ69を介してピエゾドライバ380入力を停
止する。
以上のように、テーブル18を粗動、微動することによ
シ、目標値から±0.01μm以下の超精密かつ高速位
置決めが可能となる。
なお、上記の機能をもつレーザインタフェース40のか
わシに、単に、レーザ測長値をBOD出力あるいは、レ
ーデカウント数で出力するレーザインタフェースをもつ
ものである場合は、テーブル18を微小に送る毎に、コ
ントローラ69に、レーザ測長値をとシ込み許容値以内
になるまで、テーブル18を微動する方式でもよいが、
ソフトウェアで位置比較演算すると、位置決め制御時間
が長くなるので、前者の方法の方がすぐれている。
に固定しないで、粗動後クランプピエゾ素子27をOF
F した後すぐ微動制御することも可能である。ただし
、この場合、ボールネジ6とナツト36との間のバラク
ララシーやモータ5からの振動等の影響が、直接微動制
御に影響を及ぼさないことが確認されたらである。しか
しこうすることによシ、チープツシの位置決め速度は増
加する。
さらにまた、真空チャック64のかわシに、電磁チャッ
クを利用したシ、あるいは、静電チャックを利用するこ
とによシ、真空チャック34よシ高い応答性を得ること
が可能であるが、特に電磁チャックの場合、コイルから
の発熱が、系の温度上昇釦影響しない工夫が不可欠であ
る。
また、本実施例では、テーブルの位置検出にレーザ光を
用いたが、これに限定するものではない。
〔発明の効果〕
以上説明したよりに本発明によれば、粗動テーブル上に
微動テーブルを載架することなく、粗微動方式により2
段構成で、小形で高精度平面移動機構が実現できる。ま
た、装置全体の高さを低く押えることができ、重心が低
く、装置の剛性を高く保つことができ、高速、高精度な
位置決めが可能である。さらに、微動送シには、シンプ
ルでコンパクトな直進形微小変位素子として積層形ピエ
ゾ素子を用い、かつレーザフィードバック制御により、
テーブルを高速かつ高精度に、位置決め可能である。
さらに、本発明による装置は、その高速、高精度性を生
かして、縮小露光装置や、FB装置などのXYステージ
へ適用することが可能であシ、また、高安定性、高精度
を生かして、ステップ及リピート形のX線露光装置のX
Yステージへ適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の平面移動装置の構成を示した斜視図、第
2図は本発明の実施例を示す斜視図、牙6図は実施例の
駆動部を示す平面図、第4図は駆動部の断面図、第5図
及び第6図はピエゾ素子の構成を示す説明図、オフ図は
ピエゾ素子の電圧−変位特性を示す図である。 5.5′・・・サーボモータ 6,6I・・・ボールネ
ジ7.7′・・・直線軸受案内 19・・・試料テーブ
ル18・・・Yテーブル   20・・・ブロック21
・・・直進形微小変位素子 15・・・光学ミラー27
・・・クランプ用変位素子 24・・・回りどめ機構2
6・・・スライドプレート25・・・アーム羊  ! 
 図 鼻 早 2 図 /7 7ジ 牛 と 1¥1     手 b 図 羊 7 団

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 基板上の直線軸受案内に載架される第1のテーブ
    ルと、このテーブルの上に形成される直線軸受案内に載
    架され、且つ上記牙1のテーブルと直交する向きに移動
    可能な第2のテーブルと、第1反び第2のテーブルのそ
    れぞれについて、テーブルと接続と分離を行なうクラン
    プ機能を有するブロックと、接続時に、テーブルに、ブ
    ロックとともに長ストローク送シな発生する駆動機構と
    、分離時に1ブロツクを定位置に固定する固定手段と、
    この固定時に、テーブルをブロックを基準に、微小スト
    ロークさせる微小変位発生機構とを備え、前記第1、お
    よび第2のテーブルの粗動と微動送シな同一の前記直線
    軸受案内によって行なうことを特徴とした精密平面移動
    装置。 2、上記微小変位発生!l!構は、単層あるいは、 、
    積層形の電歪素子の電圧制御により微atを制御する微
    動伸縮機構で構成することな特徴とする特許請求範囲第
    1項記載の精密平面移動装置。 3、 上記電圧制御において、ピエゾ素子にあらかじめ
    オフセット電圧を印加し、その電圧レベルから電圧制御
    することによりテーブルの前後移動を可能としたことを
    特徴とする特許請求範囲第2項記載の精密平面移動装置
JP57211408A 1982-12-03 1982-12-03 精密平面移動装置 Pending JPS59101834A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS647317U (ja) * 1987-07-01 1989-01-17
JPS6444803A (en) * 1987-08-12 1989-02-17 Olympus Optical Co Scanning-type tunnel unit
EP2187434A1 (de) * 2008-11-17 2010-05-19 Vistec Electron Beam GmbH Aerostatisch geführtes Tischsystem für die Vakuumanwendung

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS647317U (ja) * 1987-07-01 1989-01-17
JPS6444803A (en) * 1987-08-12 1989-02-17 Olympus Optical Co Scanning-type tunnel unit
EP2187434A1 (de) * 2008-11-17 2010-05-19 Vistec Electron Beam GmbH Aerostatisch geführtes Tischsystem für die Vakuumanwendung
US8496221B2 (en) 2008-11-17 2013-07-30 Vistec Electron Beam Gmbh Aerostatically guided table system for vacuum application

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