JP3135404B2 - ステージ装置とこれを用いたシステム - Google Patents
ステージ装置とこれを用いたシステムInfo
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70716—Stages
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はステージ装置に関するも
のである。
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ステージ装置は、露光装置等のア
ライメント装置として用いられるものが知られている。
ライメント装置として用いられるものが知られている。
【０００３】半導体製造用の露光装置の場合、大容量の
記憶素子等の作製において、極めて高い露光精度、生産
性を向上するためのスループットを高くすることが常に
要求され、ウエハをステップ移動させるステージに対し
ては、高い精度での位置決めやスループットを高くする
ための高速性が要求される。さらには、近年のウエハの
大型化に伴って移動距離、すなわちストロークの大きな
ものが要求される。
記憶素子等の作製において、極めて高い露光精度、生産
性を向上するためのスループットを高くすることが常に
要求され、ウエハをステップ移動させるステージに対し
ては、高い精度での位置決めやスループットを高くする
ための高速性が要求される。さらには、近年のウエハの
大型化に伴って移動距離、すなわちストロークの大きな
ものが要求される。
【０００４】従来、これらの要求をすべて満たす移動ス
テージ装置では移動用の駆動手段としてリニアモータを
用いたものが知られており、広く用いられている。
テージ装置では移動用の駆動手段としてリニアモータを
用いたものが知られており、広く用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の技術の場合、リニアモータは上記の大ストロー
ク、高精度および高速性をすべて満たすものであるが、
その効率の悪さから移動の際に発生する熱量が大きいと
いう問題点がある。この発熱量は、ステージ位置を保持
する状態のときには特に問題とならないが、移動初期の
加速時には極めて大きなものとなる。リニアモータに発
生した熱は、前述のようなＸ線露光装置については、ス
テージを介してステージ上のウエハに伝わることになる
ので、スループットを高くするためにステップ＆リピー
ト動作を頻繁に行う場合にはウエハに伝わる熱量が蓄積
されて熱歪が発生するという問題点がある。
た従来の技術の場合、リニアモータは上記の大ストロー
ク、高精度および高速性をすべて満たすものであるが、
その効率の悪さから移動の際に発生する熱量が大きいと
いう問題点がある。この発熱量は、ステージ位置を保持
する状態のときには特に問題とならないが、移動初期の
加速時には極めて大きなものとなる。リニアモータに発
生した熱は、前述のようなＸ線露光装置については、ス
テージを介してステージ上のウエハに伝わることになる
ので、スループットを高くするためにステップ＆リピー
ト動作を頻繁に行う場合にはウエハに伝わる熱量が蓄積
されて熱歪が発生するという問題点がある。
【０００６】本発明は、上述したような従来の技術に鑑
みてなされたものであって、高速、高精度であり、低発
熱なステージ装置を実現することを目的とする。
みてなされたものであって、高速、高精度であり、低発
熱なステージ装置を実現することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のステージ装置のある形態は、可動ステージを所定範
囲に渡って駆動可能な微移動用の第１駆動手段と、前記
可動ステージを前記所定範囲と実質的に同一範囲に渡っ
て駆動可能な粗移動用の第２駆動手段と、前記第２駆動
手段と可動ステージとを連結し、移動方向に変形可能な
弾性部材とを有することを特徴とするものである。
明のステージ装置のある形態は、可動ステージを所定範
囲に渡って駆動可能な微移動用の第１駆動手段と、前記
可動ステージを前記所定範囲と実質的に同一範囲に渡っ
て駆動可能な粗移動用の第２駆動手段と、前記第２駆動
手段と可動ステージとを連結し、移動方向に変形可能な
弾性部材とを有することを特徴とするものである。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例について図面を参照して説明
する。
する。
【０００９】＜実施例１＞まず、第１実施例について説
明する。
明する。
【００１０】図１は本発明の移動ステージ装置の第１実
施例を示す斜視図、図２（ａ）は図１に示す移動ステー
ジ装置の正面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
施例を示す斜視図、図２（ａ）は図１に示す移動ステー
ジ装置の正面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
【００１１】本実施例は、軌道放射光（ＳＯＲ−Ｘ線）
を利用して、マスク１００上の半導体素子製造用パター
ンをウエハ１０１上のレジストに焼付けを行なうＳＯＲ
−Ｘ線露光装置に設けられ、前記マスク１００に対して
前記ウエハ１０１を位置決めするアライメント装置に適
用したものである。
を利用して、マスク１００上の半導体素子製造用パター
ンをウエハ１０１上のレジストに焼付けを行なうＳＯＲ
−Ｘ線露光装置に設けられ、前記マスク１００に対して
前記ウエハ１０１を位置決めするアライメント装置に適
用したものである。
【００１２】本実施例の移動ステージ装置は、Ｘ方向お
よびＹ方向それぞれに対する最終位置決めのための微動
用の、第１の駆動手段であるＸリニアモータ１０６Ａ，
１０６ＢおよびＹリニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂと、
Ｘ方向およびＹ方向に対する粗動（ステップ）用の第２
の駆動手段であるＸモータ１０８およびＹモータ１０９
Ａ，１０９Ｂとを備えている。
よびＹ方向それぞれに対する最終位置決めのための微動
用の、第１の駆動手段であるＸリニアモータ１０６Ａ，
１０６ＢおよびＹリニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂと、
Ｘ方向およびＹ方向に対する粗動（ステップ）用の第２
の駆動手段であるＸモータ１０８およびＹモータ１０９
Ａ，１０９Ｂとを備えている。
【００１３】前記ウエハ１０１は、Ｘステージ１０４上
に設けられたウエハチャック１０３に吸着保持され、前
記第１および第２の駆動手段の微動および粗動によっ
て、Ｘ線源であるＳＯＲリング１から放射され、マスク
１００を通したＳＲ光へ位置合わせされる。
に設けられたウエハチャック１０３に吸着保持され、前
記第１および第２の駆動手段の微動および粗動によっ
て、Ｘ線源であるＳＯＲリング１から放射され、マスク
１００を通したＳＲ光へ位置合わせされる。
【００１４】前記Ｘステージ１０４は、Ｙステージ１０
５に固定されている前記Ｘモータ１０８にカップリング
１１２および転動軸受１１３からなる軸受ユニット１１
１にて結合されたＸネジ軸１１０と、Ｘナット１１４に
よって連結され、前記Ｘモータ１０８が正，逆転するこ
とで、＋Ｘ，−Ｘ方向に移動される。さらに、前記Ｘス
テージ１０１は、その上側および下側に取付けられたＸ
リニアモータ連結板１１６Ａ、Ｘリニアモータ１０６Ａ
およびＸリニアモータ連結板１１７Ａ、Ｘリニアモータ
１０６Ｂによって、Ｙステージ１０５上にＸ方向に並設
されたＸリニアモータコイル１１７ＡおよびＸリニアモ
ータコイル１１７Ｂと連結され、同様に＋Ｘ，−Ｘ方向
に移動される。また、前記Ｘステージ１０１と前記Ｘナ
ット１１４との間にはＸ板ばね１１５が取付けられて、
両者間に弾性を持たせて連結した構成としている。その
ため、前記Ｘモータ１０８によるステップ動作後の、該
Ｘモータ１０８が停止した状態での最終位置決めの際
は、前記Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂの動力によ
り、前記Ｘ板ばね１１５のばね力に対抗し得る範囲内で
移動可能となる。また、Ｘ板ばね１１５の変位量を検出
するセンサ（歪ゲージあるいはギャップセンサ）が設け
られている。
５に固定されている前記Ｘモータ１０８にカップリング
１１２および転動軸受１１３からなる軸受ユニット１１
１にて結合されたＸネジ軸１１０と、Ｘナット１１４に
よって連結され、前記Ｘモータ１０８が正，逆転するこ
とで、＋Ｘ，−Ｘ方向に移動される。さらに、前記Ｘス
テージ１０１は、その上側および下側に取付けられたＸ
リニアモータ連結板１１６Ａ、Ｘリニアモータ１０６Ａ
およびＸリニアモータ連結板１１７Ａ、Ｘリニアモータ
１０６Ｂによって、Ｙステージ１０５上にＸ方向に並設
されたＸリニアモータコイル１１７ＡおよびＸリニアモ
ータコイル１１７Ｂと連結され、同様に＋Ｘ，−Ｘ方向
に移動される。また、前記Ｘステージ１０１と前記Ｘナ
ット１１４との間にはＸ板ばね１１５が取付けられて、
両者間に弾性を持たせて連結した構成としている。その
ため、前記Ｘモータ１０８によるステップ動作後の、該
Ｘモータ１０８が停止した状態での最終位置決めの際
は、前記Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂの動力によ
り、前記Ｘ板ばね１１５のばね力に対抗し得る範囲内で
移動可能となる。また、Ｘ板ばね１１５の変位量を検出
するセンサ（歪ゲージあるいはギャップセンサ）が設け
られている。
【００１５】さらに、前記Ｘステージ１０４には、Ｙス
テージ１０５に対して、Ｘ静圧軸受加圧系１１８Ａ，１
１８Ｂ、Ｘ予圧磁石１１９Ａ，１１９ＢおよびＸ静圧パ
ッド１２０Ａ，１２０Ｂ、（１１８Ａ，１１９Ａおよび
１２０Ａは不図示）からなる一対の静圧軸受部が設けら
れている。
テージ１０５に対して、Ｘ静圧軸受加圧系１１８Ａ，１
１８Ｂ、Ｘ予圧磁石１１９Ａ，１１９ＢおよびＸ静圧パ
ッド１２０Ａ，１２０Ｂ、（１１８Ａ，１１９Ａおよび
１２０Ａは不図示）からなる一対の静圧軸受部が設けら
れている。
【００１６】一方、Ｙステージ１０５は、ステージ定盤
１０２に固定されている前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９
Ｂに対して、前述と同様な軸受ユニットで結合されたＹ
ねじ軸１２１Ａ，１２１Ｂと、Ｙナット（不図示）にて
連結され、前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが正転，逆
転することで＋Ｙ，−Ｙ方向へ移動される。
１０２に固定されている前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９
Ｂに対して、前述と同様な軸受ユニットで結合されたＹ
ねじ軸１２１Ａ，１２１Ｂと、Ｙナット（不図示）にて
連結され、前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが正転，逆
転することで＋Ｙ，−Ｙ方向へ移動される。
【００１７】さらに、前記Ｙステージ１０５の右側部お
よび左側部には、Ｙリニアモータ連結板１２３Ａ、Ｙリ
ニアモータ１０７ＡおよびＹリニアモータ連結板１２３
Ｂ、Ｙリニアモータ１０７Ｂが取付けられており、該Ｙ
リニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂにて、ステージ定盤１
０２上にＹ方向に並設された一対のＹヨーガイド１２２
Ａ，１２２Ｂに設けられているＹリニアモータコイル１
２４Ａ，１２４Ｂと連結されて、同様に＋Ｙ，−Ｙ方向
に移動可能となっている。
よび左側部には、Ｙリニアモータ連結板１２３Ａ、Ｙリ
ニアモータ１０７ＡおよびＹリニアモータ連結板１２３
Ｂ、Ｙリニアモータ１０７Ｂが取付けられており、該Ｙ
リニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂにて、ステージ定盤１
０２上にＹ方向に並設された一対のＹヨーガイド１２２
Ａ，１２２Ｂに設けられているＹリニアモータコイル１
２４Ａ，１２４Ｂと連結されて、同様に＋Ｙ，−Ｙ方向
に移動可能となっている。
【００１８】また、前記Ｙステージ１０５についても、
前記Ｘステージ１０４と同様に、前記Ｙナットとの間
に、それぞれＹ板ばね（不図示）が取付けられて、両者
間に弾性を持たせて連結した構成としている。そのた
め、Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂによればステップ動作
後の、該Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが停止した状態で
の最終位置決めの際は、前記Ｙリニアモータ１０７Ａ，
１０７Ｂの動力により、前記Ｙ板ばねのばね力に対抗し
得る範囲内で移動可能となる。またＹ板ばねの変位差を
検出するセンサ（歪ゲージあるいはギャップセンサ）が
設けられている。
前記Ｘステージ１０４と同様に、前記Ｙナットとの間
に、それぞれＹ板ばね（不図示）が取付けられて、両者
間に弾性を持たせて連結した構成としている。そのた
め、Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂによればステップ動作
後の、該Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが停止した状態で
の最終位置決めの際は、前記Ｙリニアモータ１０７Ａ，
１０７Ｂの動力により、前記Ｙ板ばねのばね力に対抗し
得る範囲内で移動可能となる。またＹ板ばねの変位差を
検出するセンサ（歪ゲージあるいはギャップセンサ）が
設けられている。
【００１９】さらに、前記Ｙステージ１０５には、前記
Ｙヨーガイド１２２Ａ，１２２Ｂに対して、Ｙ静圧パッ
ド１２５Ａ，１２５Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系１２６Ａ，１
２６ＢおよびＹ予圧磁石１２７Ｂからなる一対の静圧軸
受部が設けられている。
Ｙヨーガイド１２２Ａ，１２２Ｂに対して、Ｙ静圧パッ
ド１２５Ａ，１２５Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系１２６Ａ，１
２６ＢおよびＹ予圧磁石１２７Ｂからなる一対の静圧軸
受部が設けられている。
【００２０】なお、図１に示すＸ軸レーザ干渉計ユニッ
ト１２８およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１２９は、Ｘ
ステージ１０４上のスコヤミラー１３０から反射するレ
ーザ光が入射してそれにより、Ｘステージ１０４のＸ方
向およびＹ方向の位置を計測するためのものである。
ト１２８およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１２９は、Ｘ
ステージ１０４上のスコヤミラー１３０から反射するレ
ーザ光が入射してそれにより、Ｘステージ１０４のＸ方
向およびＹ方向の位置を計測するためのものである。
【００２１】ここで、本実施例の位置決めの原理につい
て、図３を参照して説明する。
て、図３を参照して説明する。
【００２２】上述した本実施例の構成は、図３に示すよ
うに、第２の駆動手段３０２と移動ステージ３００との
間にばね部材３０３を取付けた構成となる。
うに、第２の駆動手段３０２と移動ステージ３００との
間にばね部材３０３を取付けた構成となる。
【００２３】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段３０２にステージをステップす
るための電力等のエネルギを投入する。すると第２の駆
動手段３０２は投入エネルギに応じた推力を発生し、こ
の推力はばね部材３０３を介して移動ステージ３００に
伝わり、移動ステージ３００をステップさせる。この時
第１の駆動手段３０１は出力がスイッチで切断されて全
く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に推力
が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えられ
る。第２の駆動手段３０２は発熱しないか、又は発熱し
ても冷却手段を設けるなどして移動ステージ３００に熱
エネルギを伝えないようになっている。
時、先ず第２の駆動手段３０２にステージをステップす
るための電力等のエネルギを投入する。すると第２の駆
動手段３０２は投入エネルギに応じた推力を発生し、こ
の推力はばね部材３０３を介して移動ステージ３００に
伝わり、移動ステージ３００をステップさせる。この時
第１の駆動手段３０１は出力がスイッチで切断されて全
く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に推力
が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えられ
る。第２の駆動手段３０２は発熱しないか、又は発熱し
ても冷却手段を設けるなどして移動ステージ３００に熱
エネルギを伝えないようになっている。
【００２４】ステップしている間、第２の駆動手段３０
２の制御系は位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々第２の駆動手段３０２の変位を帰還す
るセミクローズドループ制御を行ない、安定なステップ
動作を行なう。
２の制御系は位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々第２の駆動手段３０２の変位を帰還す
るセミクローズドループ制御を行ない、安定なステップ
動作を行なう。
【００２５】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
３０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続す
る側に切り替わって第１の駆動手段３０１が位置決めの
推力を発生するようになる（スイッチを切り替えるトリ
ガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるいは非
常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄与す
るようになる。一方この頃には第２の駆動手段３０２は
ほとんど動かなくなっているが、移動ステージ３００と
第２の駆動手段３０２との間にばね部材３０３があるの
で、そのばねの力に対抗し得る範囲で第１の駆動手段３
０１により移動ステージ３００の位置を制御できる。ま
た制御系はステージ位置を帰還するクローズドループ制
御であり、さらに第１の駆動手段３０１はリニアモータ
であるので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲ
イン（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
３０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続す
る側に切り替わって第１の駆動手段３０１が位置決めの
推力を発生するようになる（スイッチを切り替えるトリ
ガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるいは非
常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄与す
るようになる。一方この頃には第２の駆動手段３０２は
ほとんど動かなくなっているが、移動ステージ３００と
第２の駆動手段３０２との間にばね部材３０３があるの
で、そのばねの力に対抗し得る範囲で第１の駆動手段３
０１により移動ステージ３００の位置を制御できる。ま
た制御系はステージ位置を帰還するクローズドループ制
御であり、さらに第１の駆動手段３０１はリニアモータ
であるので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲ
イン（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
【００２６】この位置決めの時の発熱であるが、第２の
駆動手段３０２はもともと発熱しないか冷却されている
上に、ステップはほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段３０１には移動ステ
ージ３００を振動させる外乱に対抗する力と上述のばね
部材３０３をたわめる力が必要であるが、位置決めの時
の変位量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）
のでこれらの力を発生するための発熱は非常に小さく、
移動ステージ３００には悪影響を及ぼさない。ここで、
第１の駆動手段である、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０
６ＢおよびＹリニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂと、第２
の駆動手段である、Ｘモータ１０８およびＹモータ１０
９Ａ，１０９Ｂとの駆動制御部について説明する。
駆動手段３０２はもともと発熱しないか冷却されている
上に、ステップはほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段３０１には移動ステ
ージ３００を振動させる外乱に対抗する力と上述のばね
部材３０３をたわめる力が必要であるが、位置決めの時
の変位量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）
のでこれらの力を発生するための発熱は非常に小さく、
移動ステージ３００には悪影響を及ぼさない。ここで、
第１の駆動手段である、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０
６ＢおよびＹリニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂと、第２
の駆動手段である、Ｘモータ１０８およびＹモータ１０
９Ａ，１０９Ｂとの駆動制御部について説明する。
【００２７】なお、Ｘ方向とＹ方向とでは同様に考える
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
【００２８】まず、Ｘステージ１０４のＸ方向への移動
距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４お
よび図５（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４お
よび図５（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
【００２９】図４は、本例の駆動制御部を示すブロック
図、図５は図４に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）はＸステージ１０４の駆動
時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ４０３
の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流を示している。
図、図５は図４に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）はＸステージ１０４の駆動
時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ４０３
の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流を示している。
【００３０】本例の駆動制御部は、２つのフィルタ４０
１，４０２と、２つの電流増幅器４０２，４０５と、切
替スイッチ４０３と、比較器４０６とを備えている。
１，４０２と、２つの電流増幅器４０２，４０５と、切
替スイッチ４０３と、比較器４０６とを備えている。
【００３１】前記Ｘモータ１０８に対して、Ｘステージ
１０４の目標位置までの移動量に相当する指令値がフィ
ルタ４０４および電流増幅器４０５を通して供給され
る。これにより、前記Ｘモータ１０８の推力がＸねじ軸
１１０およびＸ板ばね１１５を介してＸステージ１０４
に伝えられて、該Ｘステージ１０４が移動することにな
る。
１０４の目標位置までの移動量に相当する指令値がフィ
ルタ４０４および電流増幅器４０５を通して供給され
る。これにより、前記Ｘモータ１０８の推力がＸねじ軸
１１０およびＸ板ばね１１５を介してＸステージ１０４
に伝えられて、該Ｘステージ１０４が移動することにな
る。
【００３２】前記切替スイッチ４０３は、Ｘリニアモー
タ１０６Ａ，１０６Ｂへの駆動電流印加のオン，オフを
切替えるためのスイッチであり、該切替スイッチ４０３
が接続状態にあるとき、前記指令値がフィルタ４０１お
よび電流増幅器４０２を介して、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへ印加される。
タ１０６Ａ，１０６Ｂへの駆動電流印加のオン，オフを
切替えるためのスイッチであり、該切替スイッチ４０３
が接続状態にあるとき、前記指令値がフィルタ４０１お
よび電流増幅器４０２を介して、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへ印加される。
【００３３】前記比較器４０６は、前記Ｘモータ１０８
によるＸステージ１０４の移動位置と前記目標位置との
偏差が予め定めた許容範囲内であるか否かを判断し、前
記偏差が前記許容範囲内であるとき、前記切替スイッチ
４０３を接続状態にする。前記許容範囲は、Ｘ板ばね１
１５のばね力に応じて設定される。
によるＸステージ１０４の移動位置と前記目標位置との
偏差が予め定めた許容範囲内であるか否かを判断し、前
記偏差が前記許容範囲内であるとき、前記切替スイッチ
４０３を接続状態にする。前記許容範囲は、Ｘ板ばね１
１５のばね力に応じて設定される。
【００３４】本例の駆動制御部の場合、Ｘモータ１０８
によるＸステージ１０４のステップ移動にて、該Ｘステ
ージ１０４が目標位置に対して所定の許容範囲内まで移
動した後、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを駆動し
て最終位置決めを行なう。目標位置に対する許容範囲は
上述したように、Ｘ板ばね１１５のばね力に応じて設定
されているので、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂに
よる最終位置決めのための移動は容易になされる。
によるＸステージ１０４のステップ移動にて、該Ｘステ
ージ１０４が目標位置に対して所定の許容範囲内まで移
動した後、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを駆動し
て最終位置決めを行なう。目標位置に対する許容範囲は
上述したように、Ｘ板ばね１１５のばね力に応じて設定
されているので、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂに
よる最終位置決めのための移動は容易になされる。
【００３５】このとき、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０
６Ｂは前記ばね力に対抗しながらＸステージ１０４を振
動させようとする外乱を吸収する力も出さなければなら
ない。なお、図５（ｃ）において、オフセットがばね力
に対抗する力に、また、切替スイッチ４０３切替え後の
電流波形の振幅が外乱を吸収する力に相当し、これは以
下に示す例についても同様に言えることである。
６Ｂは前記ばね力に対抗しながらＸステージ１０４を振
動させようとする外乱を吸収する力も出さなければなら
ない。なお、図５（ｃ）において、オフセットがばね力
に対抗する力に、また、切替スイッチ４０３切替え後の
電流波形の振幅が外乱を吸収する力に相当し、これは以
下に示す例についても同様に言えることである。
【００３６】次に、Ｘステージ１０４のＸ方向への駆動
時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図６お
よび図７（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図６お
よび図７（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
【００３７】図６は、本例の駆動制御部を示すブロック
図、図７は図６に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）は切替スイッチ６０３の切替えタイミング
を、（ｃ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの印
加電流を示している。
図、図７は図６に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）は切替スイッチ６０３の切替えタイミング
を、（ｃ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの印
加電流を示している。
【００３８】本例の駆動制御部は、前述の図４に示した
例の場合と同様な、２つのフィルタ６０１，６０４と２
つの電流増幅器６０２，６０５と切替スイッチ６０３を
備えるとともに、比較器６０６を備えている。
例の場合と同様な、２つのフィルタ６０１，６０４と２
つの電流増幅器６０２，６０５と切替スイッチ６０３を
備えるとともに、比較器６０６を備えている。
【００３９】本例の場合、所定の駆動電流をＸモータ１
０８に印加することでＸステージ１０４が目標位置付近
に到達する時間を設定時間として予め定める。そして、
前記比較器６０６にて、ステップ移動時の、Ｘモータ１
０８によるＸステージ１０４の駆動時間を前記設定時間
と比較し、駆動時間が設定時間を越えたとき、前記切替
スイッチ６０３を接続状態にすることでＸリニアモータ
１０６Ａ，１０６Ｂへ電流を印加させて最終位置決めを
行なう。
０８に印加することでＸステージ１０４が目標位置付近
に到達する時間を設定時間として予め定める。そして、
前記比較器６０６にて、ステップ移動時の、Ｘモータ１
０８によるＸステージ１０４の駆動時間を前記設定時間
と比較し、駆動時間が設定時間を越えたとき、前記切替
スイッチ６０３を接続状態にすることでＸリニアモータ
１０６Ａ，１０６Ｂへ電流を印加させて最終位置決めを
行なう。
【００４０】つづいて、Ｘステージ１０４が目標位置に
到達するまで常にＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを
駆動している例について図８および図９（ａ），（ｂ）
を参照して説明する。
到達するまで常にＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを
駆動している例について図８および図９（ａ），（ｂ）
を参照して説明する。
【００４１】図８は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図９は図８に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの
印加電流を示している。
図、図９は図８に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの
印加電流を示している。
【００４２】本例の駆動制御部は、前述の図４に示した
例の場合と同様な、２つのフィルタ８０１，８０４と２
つの電流増幅器８０２，８０５を備えるとともに、電流
制限器８０３を備えている。
例の場合と同様な、２つのフィルタ８０１，８０４と２
つの電流増幅器８０２，８０５を備えるとともに、電流
制限器８０３を備えている。
【００４３】リニアモータは、常にステージ位置を帰還
するクローズドループで制御されている。このため、目
標位置との偏差が大きいときは、常に加速する方向に電
流が流れている。この場合も、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流は前記電流制限器８０３によ
って制限されている。そして、前記Ｘステージ１０４が
ほぼ目標位置に達すると、前記Ｘモータ１０８はほとん
ど推力を発生しなくなり、一方、電流制限器８０３によ
り電流制限を受けていたＸリニアモータ１０６Ａ、１０
６Ｂが位置決め動作に寄与するようになる。ステージ位
置はＸリニアモータ１０６Ａ、１０６Ｂにのみ帰還され
るので、目標位置付近では、図８において、Ｘリニアモ
ータ１０６Ａ、１０６Ｂによるクローズドループ制御の
みが存在するのと等価になって、最終位置決めが行なわ
れる。
するクローズドループで制御されている。このため、目
標位置との偏差が大きいときは、常に加速する方向に電
流が流れている。この場合も、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流は前記電流制限器８０３によ
って制限されている。そして、前記Ｘステージ１０４が
ほぼ目標位置に達すると、前記Ｘモータ１０８はほとん
ど推力を発生しなくなり、一方、電流制限器８０３によ
り電流制限を受けていたＸリニアモータ１０６Ａ、１０
６Ｂが位置決め動作に寄与するようになる。ステージ位
置はＸリニアモータ１０６Ａ、１０６Ｂにのみ帰還され
るので、目標位置付近では、図８において、Ｘリニアモ
ータ１０６Ａ、１０６Ｂによるクローズドループ制御の
みが存在するのと等価になって、最終位置決めが行なわ
れる。
【００４４】本例において、Ｘリニアモータ１０６Ａ，
１０６Ｂへ印加される駆動電流は電流制限器８０３によ
って制限され、その推力は、非常に小さなものとなる
が、前記Ｘモータ１０８が停止することで、Ｘ板ばね１
１５のばね力に対抗し得る範囲内で位置決めに寄与する
ことになる。
１０６Ｂへ印加される駆動電流は電流制限器８０３によ
って制限され、その推力は、非常に小さなものとなる
が、前記Ｘモータ１０８が停止することで、Ｘ板ばね１
１５のばね力に対抗し得る範囲内で位置決めに寄与する
ことになる。
【００４５】本例において、Ｘリニアモータ１０６Ａ，
１０６Ｂへの印加電流の最大値は、Ｘステージ１０４を
振動させようとする、外乱を吸収する力に相当する電流
と、Ｘモータ１０８による位置決め誤差（数μｍ程度）
と板ばね１１５のばね定数との積で求められる力に相当
する電流と、の和と同程度に設定されており、その値は
ステップ動作のための電流に比較して無視できるほど小
さいものである。
１０６Ｂへの印加電流の最大値は、Ｘステージ１０４を
振動させようとする、外乱を吸収する力に相当する電流
と、Ｘモータ１０８による位置決め誤差（数μｍ程度）
と板ばね１１５のばね定数との積で求められる力に相当
する電流と、の和と同程度に設定されており、その値は
ステップ動作のための電流に比較して無視できるほど小
さいものである。
【００４６】前述した実施例においては、Ｘステージ１
０４のステップ駆動時および最終位置決め時、常に、Ｘ
板ばね１１５に対して応力が加わることにより、該Ｘ板
ばね１１５に変形が発生することが考えられる。
０４のステップ駆動時および最終位置決め時、常に、Ｘ
板ばね１１５に対して応力が加わることにより、該Ｘ板
ばね１１５に変形が発生することが考えられる。
【００４７】そのため、図１０に示すように、Ｘモータ
１０８に連結されたＸねじ軸１１０と係合するＸナット
１１４とＸステージ１０４との間にクラッチ１３１およ
び駆動プレート１３２を設けて、前記Ｘ板ばね１１５に
対してより大きな応力が加わるステップ移動時には前記
Ｘステージ１０４とＸナット１１４とを固定する。これ
により、前記Ｘ板ばね１１５には、最終位置決め時に応
力が加わるのみとなるので、前記Ｘ板ばね１１５の変形
とともにＸステージ１０４のオーバシュートを抑止する
ことができる。これは、Ｙステージ１０５側についても
同様に言えることである。
１０８に連結されたＸねじ軸１１０と係合するＸナット
１１４とＸステージ１０４との間にクラッチ１３１およ
び駆動プレート１３２を設けて、前記Ｘ板ばね１１５に
対してより大きな応力が加わるステップ移動時には前記
Ｘステージ１０４とＸナット１１４とを固定する。これ
により、前記Ｘ板ばね１１５には、最終位置決め時に応
力が加わるのみとなるので、前記Ｘ板ばね１１５の変形
とともにＸステージ１０４のオーバシュートを抑止する
ことができる。これは、Ｙステージ１０５側についても
同様に言えることである。
【００４８】＜実施例２＞次に、本発明の第２実施例に
ついて図１１〜図１３を参照して説明する。
ついて図１１〜図１３を参照して説明する。
【００４９】図１１は本実施例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図１２は図１１に示す移動ステージ装置の正
面図、図１３は本実施例の第１の駆動手段を示す図であ
り、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図である。
す斜視図、図１２は図１１に示す移動ステージ装置の正
面図、図１３は本実施例の第１の駆動手段を示す図であ
り、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図である。
【００５０】本実施例の移動ステージ装置も、前述の第
１実施例と同様にＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング
１から放射され、マスク１１００を通して入射するＳＲ
光に対してウエハ１１０１の位置決めを行なう。
１実施例と同様にＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング
１から放射され、マスク１１００を通して入射するＳＲ
光に対してウエハ１１０１の位置決めを行なう。
【００５１】本実施例の場合、Ｘ，Ｙ，θ（ωX ，ω
Y ，ωZ ）の各方向についての位置調整を可能とする、
第１の駆動手段である、Ｘインダクションモータ１３０
５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダクションモータ１３０８
Ａ，１３０８Ｂおよびθインダクションモータ１３１１
Ａ，１３１１Ｂと、第２の駆動手段である、Ｘ電動シリ
ンダ１１０６Ａ，１１０６ＢおよびＹ電動シリンダ１１
０９Ａ，１１０９Ｂとを備えている。
Y ，ωZ ）の各方向についての位置調整を可能とする、
第１の駆動手段である、Ｘインダクションモータ１３０
５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダクションモータ１３０８
Ａ，１３０８Ｂおよびθインダクションモータ１３１１
Ａ，１３１１Ｂと、第２の駆動手段である、Ｘ電動シリ
ンダ１１０６Ａ，１１０６ＢおよびＹ電動シリンダ１１
０９Ａ，１１０９Ｂとを備えている。
【００５２】前記ウエハ１１０１は、Ｘアシストベース
１１１１上に載置されたＸＹステージ１１０４に設けら
れているウエハチャック１１０３に吸着保持される。
１１１１上に載置されたＸＹステージ１１０４に設けら
れているウエハチャック１１０３に吸着保持される。
【００５３】前記Ｘアシストベース１１１１は、ステー
ジ定盤１１０２に固設されているシリンダ固定盤１１０
５の底部に固定されたＹ電動シリンダ１１０９Ａ，１１
０９ＢからのＹ電動シリンダロッド１１１０Ａ，１１１
０Ｂによって、それぞれ、Ｙ平行板ばね１１１５Ａ，１
１１５Ｂを介してＹ方向に支持されている。
ジ定盤１１０２に固設されているシリンダ固定盤１１０
５の底部に固定されたＹ電動シリンダ１１０９Ａ，１１
０９ＢからのＹ電動シリンダロッド１１１０Ａ，１１１
０Ｂによって、それぞれ、Ｙ平行板ばね１１１５Ａ，１
１１５Ｂを介してＹ方向に支持されている。
【００５４】また、前記ＸＹステージ１１０４は、その
両側面を、前記シリンダ固定盤１１０５の両側部にそれ
ぞれ固定されたＸ電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ
からのＸ電動シリンダロッド１１０７Ａ，１１０７Ｂに
よって、それぞれ、Ｘ平行板ばね１１０８Ａ，１１０８
Ｂを介して支持されている。
両側面を、前記シリンダ固定盤１１０５の両側部にそれ
ぞれ固定されたＸ電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ
からのＸ電動シリンダロッド１１０７Ａ，１１０７Ｂに
よって、それぞれ、Ｘ平行板ばね１１０８Ａ，１１０８
Ｂを介して支持されている。
【００５５】前記ＸＹステージ１１０４の、Ｘアシスト
ベース１１１１との接触面にはＸ静圧軸受加圧系１１１
６およびＸ予圧磁石１１１８を有するＸ静圧軸受１１１
７が設けられており、さらに、前記Ｘ電動シリンダロッ
ド１１０７Ａ，１１０７Ｂの、前記ＸＹステージ１１０
４との接触部には、それぞれ、Ｙ静圧軸受加圧系１１１
９Ａ，１１１９ＢおよびＹ予圧磁石１１２１Ａ，１１２
１Ｂを有するＹ静圧軸受１１２０Ａ，１１２０Ｂ（１１
１９Ａ，１１２０Ａ，１１２１Ａは不図示）が設けられ
ている。
ベース１１１１との接触面にはＸ静圧軸受加圧系１１１
６およびＸ予圧磁石１１１８を有するＸ静圧軸受１１１
７が設けられており、さらに、前記Ｘ電動シリンダロッ
ド１１０７Ａ，１１０７Ｂの、前記ＸＹステージ１１０
４との接触部には、それぞれ、Ｙ静圧軸受加圧系１１１
９Ａ，１１１９ＢおよびＹ予圧磁石１１２１Ａ，１１２
１Ｂを有するＹ静圧軸受１１２０Ａ，１１２０Ｂ（１１
１９Ａ，１１２０Ａ，１１２１Ａは不図示）が設けられ
ている。
【００５６】また、本実施例の移動ステージ装置におい
ても前記ＸＹステージ１１０４の位置を計測するため
の、スコヤミラー１１１２、Ｘ軸レーザ干渉計ユニット
１１１３およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１１１４を備
えている。
ても前記ＸＹステージ１１０４の位置を計測するため
の、スコヤミラー１１１２、Ｘ軸レーザ干渉計ユニット
１１１３およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１１１４を備
えている。
【００５７】つづいて、本実施例の第１の駆動手段につ
いて説明する。
いて説明する。
【００５８】本実施例の第１の駆動手段である、Ｘイン
ダクションモータ１３０５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダク
ションモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂおよびθインダク
ションモータ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、前記ＸＹステ
ージ１１０４の、ステージ定盤１１０２との接触面に設
けられている。
ダクションモータ１３０５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダク
ションモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂおよびθインダク
ションモータ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、前記ＸＹステ
ージ１１０４の、ステージ定盤１１０２との接触面に設
けられている。
【００５９】Ｘインダクションモータ１３０５Ａ，１３
０５Ｂは、共に同じ構成であり、それぞれ、第１のコイ
ル１３０６Ａ，１３０６Ｂおよび第２のコイル１３０７
Ａ，１３０７Ｂとを有している。同様に、Ｙインダクシ
ョンモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂは、それぞれ、第１
のコイル１３０９Ａ，１３０９Ｂおよび第２のコイル１
３１０Ａ，１３１０Ｂから成り、θインダクションモー
タ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、それぞれ、第１のコイル
１３１２Ａ，１３１２Ｂおよび第２のコイル１３１３
Ａ，１３１３Ｂから成る。
０５Ｂは、共に同じ構成であり、それぞれ、第１のコイ
ル１３０６Ａ，１３０６Ｂおよび第２のコイル１３０７
Ａ，１３０７Ｂとを有している。同様に、Ｙインダクシ
ョンモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂは、それぞれ、第１
のコイル１３０９Ａ，１３０９Ｂおよび第２のコイル１
３１０Ａ，１３１０Ｂから成り、θインダクションモー
タ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、それぞれ、第１のコイル
１３１２Ａ，１３１２Ｂおよび第２のコイル１３１３
Ａ，１３１３Ｂから成る。
【００６０】また、前記ＸＹステージ１１０４のステー
ジ定盤１１０２との接触面には、３箇所に、それぞれ、
加圧気体吹出用のパッド１３０１Ａ，１３０１Ｂ，１３
０１Ｃと、電磁石のコア１３０２Ａ，１３０２Ｂ，１３
０２Ｃおよびコイル１３０３Ａ，１３０３Ｂ，１３０３
Ｃとを備えた静圧軸受部が設けられるとともに、それら
に対応するように３つのギャップセンサ１３０４Ａ，１
３０４Ｂ，１３０４Ｃが設けられており、これらによっ
て、前記ＸＹステージ１１０４のＺ方向に対して所定ギ
ャップに保持される。
ジ定盤１１０２との接触面には、３箇所に、それぞれ、
加圧気体吹出用のパッド１３０１Ａ，１３０１Ｂ，１３
０１Ｃと、電磁石のコア１３０２Ａ，１３０２Ｂ，１３
０２Ｃおよびコイル１３０３Ａ，１３０３Ｂ，１３０３
Ｃとを備えた静圧軸受部が設けられるとともに、それら
に対応するように３つのギャップセンサ１３０４Ａ，１
３０４Ｂ，１３０４Ｃが設けられており、これらによっ
て、前記ＸＹステージ１１０４のＺ方向に対して所定ギ
ャップに保持される。
【００６１】前記Ｘ，Ｙ，θの各インダクションモータ
１３０５Ａ，１３０５Ｂ，１３０８Ａ，１３０８Ｂ，１
３１１Ａ，１３１１Ｂによる最終位置決めは、前記Ｘ，
Ｙの各電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ，１１０９
Ａ，１１０９Ｂによるステップ移動後に行なうものであ
り、何れも同様な動作であるので、Ｘインダクションモ
ータ１３０５Ａについて説明する。
１３０５Ａ，１３０５Ｂ，１３０８Ａ，１３０８Ｂ，１
３１１Ａ，１３１１Ｂによる最終位置決めは、前記Ｘ，
Ｙの各電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ，１１０９
Ａ，１１０９Ｂによるステップ移動後に行なうものであ
り、何れも同様な動作であるので、Ｘインダクションモ
ータ１３０５Ａについて説明する。
【００６２】第１のコイル１３０６Ａに交流電流を印加
し、第２のコイル１３０７Ａに前記第１のコイル１３０
６Ａに印加した交流電流よりも９０°位相を遅らせた交
流電流を印加する。この場合、第１および第２のコイル
１３０６Ａ，１３０７Ａに発生する磁束のピークが−Ｘ
方向に進行し、その際、ステージ定盤１１０２の良導体
にうず電流が生じる。このうず電流と前記第１および第
２のコイル１３０６Ａ，１３０７Ａに交流電流を印加す
ることで生じた磁束との相互作用によって、前記ＸＹス
テージ１１０４が＋Ｘ方向に移動することになる。一
方、−Ｘ方向への移動は、第１および第２のコイル１３
０６Ａ，１３０７Ａに印加する交流電流の位相を前述と
逆転させることで達成できる。
し、第２のコイル１３０７Ａに前記第１のコイル１３０
６Ａに印加した交流電流よりも９０°位相を遅らせた交
流電流を印加する。この場合、第１および第２のコイル
１３０６Ａ，１３０７Ａに発生する磁束のピークが−Ｘ
方向に進行し、その際、ステージ定盤１１０２の良導体
にうず電流が生じる。このうず電流と前記第１および第
２のコイル１３０６Ａ，１３０７Ａに交流電流を印加す
ることで生じた磁束との相互作用によって、前記ＸＹス
テージ１１０４が＋Ｘ方向に移動することになる。一
方、−Ｘ方向への移動は、第１および第２のコイル１３
０６Ａ，１３０７Ａに印加する交流電流の位相を前述と
逆転させることで達成できる。
【００６３】Ｘ，Ｙ方向の位置およびθ方向の角度制御
は、前記Ｘ軸、Ｙ軸およびθ軸（θ軸のみ不図示）の各
レーザ干渉計ユニット１１１３，１１１４による計測位
置と目標位置および角度との偏差を演算して前述の各イ
ンダクションモータにフィードバックすることで行な
う。
は、前記Ｘ軸、Ｙ軸およびθ軸（θ軸のみ不図示）の各
レーザ干渉計ユニット１１１３，１１１４による計測位
置と目標位置および角度との偏差を演算して前述の各イ
ンダクションモータにフィードバックすることで行な
う。
【００６４】本実施例では、Ｚ方向の調整を３つのギャ
ップセンサを設けることで検出しながら行なう構成を示
したが、マスクとウエハとの間にギャップを直接計測す
るオートフォーカス方式のセンサを用いた場合でも同様
に考えることができる。
ップセンサを設けることで検出しながら行なう構成を示
したが、マスクとウエハとの間にギャップを直接計測す
るオートフォーカス方式のセンサを用いた場合でも同様
に考えることができる。
【００６５】＜実施例３＞次に、本発明の第３実施例に
ついて、図１４および図１５を参照して説明する。
ついて、図１４および図１５を参照して説明する。
【００６６】図１４は本実施例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図１５は図１４に示す移動ステージ装置の正
面図である。
す斜視図、図１５は図１４に示す移動ステージ装置の正
面図である。
【００６７】本実施例の場合も、前述の各実施例と同様
に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用し
たものであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング１から放射さ
れ、マスク１４００を通して入射するＳＲ光に対してウ
エハ１４０１の位置決めを行なう。
に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用し
たものであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング１から放射さ
れ、マスク１４００を通して入射するＳＲ光に対してウ
エハ１４０１の位置決めを行なう。
【００６８】本実施例の移動ステージ装置は、第１の駆
動手段として、前述の第１実施例と同様な構成の、Ｘリ
ニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモー
タ１４０７Ａ，１４０７Ｂを備え、第２の駆動手段とし
ては、Ｘ方向に復動可能な２つのＸ非接触エアシリンダ
１４１３Ａ，１４１３ＢとＹ方向についてのＹ非接触エ
アシリンダ１４１５とを備えている。
動手段として、前述の第１実施例と同様な構成の、Ｘリ
ニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモー
タ１４０７Ａ，１４０７Ｂを備え、第２の駆動手段とし
ては、Ｘ方向に復動可能な２つのＸ非接触エアシリンダ
１４１３Ａ，１４１３ＢとＹ方向についてのＹ非接触エ
アシリンダ１４１５とを備えている。
【００６９】前記Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１
４１３ＢとＹ非接触エアシリンダ１４１５の構成の一例
を、それぞれ、図１６，図１７に示す。
４１３ＢとＹ非接触エアシリンダ１４１５の構成の一例
を、それぞれ、図１６，図１７に示す。
【００７０】本実施例の場合、前記Ｘ非接触エアシリン
ダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触エアシリンダ
１４１５によるステップ移動にて、Ｘステージ１４０４
およびＹステージ１４０５がほぼ目標位置に達した後、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリ
ニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂによる最終位置決め
を行なう。その際、本実施例では、第１実施例および第
２実施例のような板ばねを備えていないが、前記Ｘ非接
触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触
エアシリンダ１４１５内の空気によって、ＸおよびＹス
テージ１４０４，１４０５との間に弾性が生じ、該空気
の圧縮／膨張性に対抗し得る範囲で、前記Ｘリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモータ１４０
７Ａ，１４０７Ｂによる位置決めが可能となる。つまり
エアシリンダ内の空気がばねに相当する。
ダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触エアシリンダ
１４１５によるステップ移動にて、Ｘステージ１４０４
およびＹステージ１４０５がほぼ目標位置に達した後、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリ
ニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂによる最終位置決め
を行なう。その際、本実施例では、第１実施例および第
２実施例のような板ばねを備えていないが、前記Ｘ非接
触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触
エアシリンダ１４１５内の空気によって、ＸおよびＹス
テージ１４０４，１４０５との間に弾性が生じ、該空気
の圧縮／膨張性に対抗し得る範囲で、前記Ｘリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモータ１４０
７Ａ，１４０７Ｂによる位置決めが可能となる。つまり
エアシリンダ内の空気がばねに相当する。
【００７１】ここで、本実施例の位置決めの原理につい
て図１８を参照して説明する。
て図１８を参照して説明する。
【００７２】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段１８０６に移動ステージ１８０
５をステップするための空気を供給する。すると第２の
駆動手段１８０６は供給された空気の量に応じた推力を
発生し、移動ステージ１８０５をステップさせる。この
時第１の駆動手段１８０７は出力がスイッチで切断され
て全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に
推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えら
れる。第２の駆動手段１８０６はエアシリンダなので発
熱しない。
時、先ず第２の駆動手段１８０６に移動ステージ１８０
５をステップするための空気を供給する。すると第２の
駆動手段１８０６は供給された空気の量に応じた推力を
発生し、移動ステージ１８０５をステップさせる。この
時第１の駆動手段１８０７は出力がスイッチで切断され
て全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に
推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えら
れる。第２の駆動手段１８０６はエアシリンダなので発
熱しない。
【００７３】ステップしている間、エアシリンダの制御
系はステージ位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々空気の流量やシリンダ内の圧力を帰還
するセミクローズドループ制御を行ない、安定なステッ
プ動作を行なう。また、エアシリンダを加速するには空
気を流入し、減速するには空気を流出させる必要が有る
のので、エアシリンダでステップ中は切替バルブ１８０
３により圧力源と真空源を適当に切替えて空気の流れる
方向を制御している。
系はステージ位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々空気の流量やシリンダ内の圧力を帰還
するセミクローズドループ制御を行ない、安定なステッ
プ動作を行なう。また、エアシリンダを加速するには空
気を流入し、減速するには空気を流出させる必要が有る
のので、エアシリンダでステップ中は切替バルブ１８０
３により圧力源と真空源を適当に切替えて空気の流れる
方向を制御している。
【００７４】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
１８０７の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段１８０７が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。一方この頃にはエアシリンダにはほ
とんど空気の出入りは無くなっているので、空気の圧縮
／膨張性に対抗し得る範囲で第１の駆動手段１８０７の
位置を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還す
るクローズドループ制御であり、また第１の駆動手段１
８０７はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高
い系が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定
な位置制御を行える。
１８０７の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段１８０７が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。一方この頃にはエアシリンダにはほ
とんど空気の出入りは無くなっているので、空気の圧縮
／膨張性に対抗し得る範囲で第１の駆動手段１８０７の
位置を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還す
るクローズドループ制御であり、また第１の駆動手段１
８０７はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高
い系が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定
な位置制御を行える。
【００７５】この位置決めの時の発熱であるが、エアシ
リンダはステップ時同様に発熱しない。リニアモータに
はステージを振動させる外乱に対抗する力と上述のシリ
ンダ内の空気の圧縮／膨張性に対抗する力が必要である
が、位置決めの時の変位量は非常に小さい（例えば１０
分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発熱
は非常に小さく、移動ステージ１８０５には悪影響を及
ぼさない。
リンダはステップ時同様に発熱しない。リニアモータに
はステージを振動させる外乱に対抗する力と上述のシリ
ンダ内の空気の圧縮／膨張性に対抗する力が必要である
が、位置決めの時の変位量は非常に小さい（例えば１０
分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発熱
は非常に小さく、移動ステージ１８０５には悪影響を及
ぼさない。
【００７６】又位置決めの時にはエアシリンダを定圧力
大容量チャンバと連通させることにより空気の圧縮／膨
張性に対抗する力をさらに小さくすることができる。
大容量チャンバと連通させることにより空気の圧縮／膨
張性に対抗する力をさらに小さくすることができる。
【００７７】つづいて、本実施例の、第１の駆動手段で
ある、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹ
リニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂと、第２の駆動手
段である、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３
ＢおよびＹ非接触エアシリンダ１４１５との駆動制御部
について説明する。
ある、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹ
リニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂと、第２の駆動手
段である、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３
ＢおよびＹ非接触エアシリンダ１４１５との駆動制御部
について説明する。
【００７８】なお、Ｘ方向とＹ方向とでは同様に考える
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
【００７９】まず、Ｘステージ１４０４のＸ方向への移
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図１
９および図２０（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図１
９および図２０（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
【００８０】図１９は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２０は図１９に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
１９０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電流を示している。
図、図２０は図１９に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
１９０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電流を示している。
【００８１】本例の場合、真空源１９０６あるいは圧力
源１９０７から切替バルブ１９０８および制御バルブ１
９０９を介して、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１
４１３Ｂに対し給，排気を行なうことで、ステップ移動
を行なう。また、前記ステップ移動の際、比較器１９０
４にてＸステージ１４０４の位置を目標位置との偏差
を、予め定めた許容値と比較し、前記偏差が許容値の範
囲内となったところで、切替スイッチ１９０３を接続状
態にし、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの電
流印加を開始させる。
源１９０７から切替バルブ１９０８および制御バルブ１
９０９を介して、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１
４１３Ｂに対し給，排気を行なうことで、ステップ移動
を行なう。また、前記ステップ移動の際、比較器１９０
４にてＸステージ１４０４の位置を目標位置との偏差
を、予め定めた許容値と比較し、前記偏差が許容値の範
囲内となったところで、切替スイッチ１９０３を接続状
態にし、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの電
流印加を開始させる。
【００８２】本例において、前記Ｘステージ１４０４の
目標位置に対する許容値はＸ非接触エアシリンダ１４１
３Ａ，１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定め
るものであるので、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂによる最終位置決めのための移動は容易に達成され
る。このとき、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂ
は空気を圧縮／膨張させてその反力に対抗しながら、Ｘ
ステージ１４０４を振動させようとする外乱を吸収する
力を発さなければならない。図２０（ｃ）において、オ
フセットが空気圧力に対抗する力に、また、切替スイッ
チ１９０３切替え後の電流波形の振幅が外乱を吸収する
力に相当し、これは以下に示す例についても同様に言え
ることである。
目標位置に対する許容値はＸ非接触エアシリンダ１４１
３Ａ，１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定め
るものであるので、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂによる最終位置決めのための移動は容易に達成され
る。このとき、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂ
は空気を圧縮／膨張させてその反力に対抗しながら、Ｘ
ステージ１４０４を振動させようとする外乱を吸収する
力を発さなければならない。図２０（ｃ）において、オ
フセットが空気圧力に対抗する力に、また、切替スイッ
チ１９０３切替え後の電流波形の振幅が外乱を吸収する
力に相当し、これは以下に示す例についても同様に言え
ることである。
【００８３】次に、Ｘステージ１４０４のＸ方向への駆
動時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図２
１および図２２（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
動時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図２
１および図２２（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
【００８４】図２１は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２２は図２１に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）は切替スイッチ２１０３の切替えタイ
ミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
図、図２２は図２１に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）は切替スイッチ２１０３の切替えタイ
ミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
【００８５】本例においても、ステップ移動の場合は前
述の移動距離を基準にした例と同様である。
述の移動距離を基準にした例と同様である。
【００８６】ただし、本例において、Ｘリニアモータ１
４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ２１０３の切替えを、比較器２１０４による、
Ｘステージ１４０４に対する駆動時間と予め定めた、目
標位置に達すると考えられる設定時間との比較の結果、
駆動時間が設定時間を越えたときに行なう。これによ
り、前記Ｘステージ１４０４はほぼ目標位置に達した時
点で最終位置決めに移ることができる。本例において
も、前記設定時間はＸ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，
１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定める。
４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ２１０３の切替えを、比較器２１０４による、
Ｘステージ１４０４に対する駆動時間と予め定めた、目
標位置に達すると考えられる設定時間との比較の結果、
駆動時間が設定時間を越えたときに行なう。これによ
り、前記Ｘステージ１４０４はほぼ目標位置に達した時
点で最終位置決めに移ることができる。本例において
も、前記設定時間はＸ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，
１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定める。
【００８７】つづいて、Ｘステージ１４０４が目標位置
に達するまで、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４
０６Ｂを駆動している例について、図２３および図２４
（ａ），（ｂ）を参照して説明する。
に達するまで、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４
０６Ｂを駆動している例について、図２３および図２４
（ａ），（ｂ）を参照して説明する。
【００８８】図２３は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２４は図２３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
図、図２４は図２３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
【００８９】本例の駆動制御部は、前述の第１実施例に
おいて図８にて示した駆動制御部と同様に考えることが
でき、ステップ動作中、電流制限器２３０３にて駆動電
流を制限しながら、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，
１４０６Ｂに印加する。そして、Ｘステージ１４０４が
ほぼ目標位置に達し、ステップ動作が終了した時点で、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力を位
置決めに寄与させる。
おいて図８にて示した駆動制御部と同様に考えることが
でき、ステップ動作中、電流制限器２３０３にて駆動電
流を制限しながら、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，
１４０６Ｂに印加する。そして、Ｘステージ１４０４が
ほぼ目標位置に達し、ステップ動作が終了した時点で、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力を位
置決めに寄与させる。
【００９０】つづいて、本実施例の変形例について、図
２５を参照して説明する。
２５を参照して説明する。
【００９１】本例の場合、前述の図１８に示した移動ス
テージの反エアシリンダ（反第２の駆動手段）側に切替
えバルブ２５０８を介して定圧大容量チャンバ２５０９
を連結したものであり、切替えバルブ２５０８を開放す
ることで定圧大容量チャンバ２５０９とエアシリンダ２
５０６が連通する構成となっている。
テージの反エアシリンダ（反第２の駆動手段）側に切替
えバルブ２５０８を介して定圧大容量チャンバ２５０９
を連結したものであり、切替えバルブ２５０８を開放す
ることで定圧大容量チャンバ２５０９とエアシリンダ２
５０６が連通する構成となっている。
【００９２】上述のような構成の移動ステージ装置にお
ける、エアシリンダとリニアモータとの駆動制御部につ
いて、図２６および図２７（ａ）〜（ｆ）を参照して説
明する。
ける、エアシリンダとリニアモータとの駆動制御部につ
いて、図２６および図２７（ａ）〜（ｆ）を参照して説
明する。
【００９３】図２６は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２７は図２６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は前記駆動時間
に対する切替スイッチ２６０３の切替えタイミングを、
（ｃ）はリニアモータへの印加電流を、（ｄ）はエアシ
リンダ内の圧力の変化を、（ｅ）は切替えバルブ２６１
１の切替えタイミングを、（ｆ）はエアシリンダ内の剛
性の変化を示している。
図、図２７は図２６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は前記駆動時間
に対する切替スイッチ２６０３の切替えタイミングを、
（ｃ）はリニアモータへの印加電流を、（ｄ）はエアシ
リンダ内の圧力の変化を、（ｅ）は切替えバルブ２６１
１の切替えタイミングを、（ｆ）はエアシリンダ内の剛
性の変化を示している。
【００９４】本例の駆動制御部において、Ｘリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための
切替スイッチ２６０３の切替え制御は、Ｘステージ１４
０４の移動距離を基準とした場合と同様に行なう。
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための
切替スイッチ２６０３の切替え制御は、Ｘステージ１４
０４の移動距離を基準とした場合と同様に行なう。
【００９５】また、定圧大容量チャンバ２６１２をＸ非
接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂと連通させる
ための切替バルブ２６１１の開放は、ステップ動作終了
か否かを判断する比較器２６１０のコントロールによっ
て行なう。
接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂと連通させる
ための切替バルブ２６１１の開放は、ステップ動作終了
か否かを判断する比較器２６１０のコントロールによっ
て行なう。
【００９６】まず、ステップ動作が進行して、Ｘステー
ジ１４０４がほぼ目標位置に達し、偏差が所定の許容値
の範囲内になると、前記切替スイッチ２６０３が接続状
態とされ、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆
動電流が印加されて最終位置決めが始まる。
ジ１４０４がほぼ目標位置に達し、偏差が所定の許容値
の範囲内になると、前記切替スイッチ２６０３が接続状
態とされ、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆
動電流が印加されて最終位置決めが始まる。
【００９７】前記ステップ動作中において、Ｘ非接触エ
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ内の圧力は、ステッ
プ動作開始直後増加し、その後徐々に減少する。また、
該Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂの剛性
の変化もほぼ圧力の変化と同様な軌跡を辿る。
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ内の圧力は、ステッ
プ動作開始直後増加し、その後徐々に減少する。また、
該Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂの剛性
の変化もほぼ圧力の変化と同様な軌跡を辿る。
【００９８】前記最終位置決めが始まると、比較器２６
１０にてステップ動作終了を認識し、切替バルブ２６１
１を開放して定圧大容量チャンバ２６１２とＸ非接触エ
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂを連通させる。これ
により、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ
において、見掛上、体積が増加したようになる。その結
果、リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力のうち
空気を圧縮／膨張させる際の反力は無視できるようにな
り、該リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電
流は外乱を吸収する力に相当した電流分のみとなる。
１０にてステップ動作終了を認識し、切替バルブ２６１
１を開放して定圧大容量チャンバ２６１２とＸ非接触エ
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂを連通させる。これ
により、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ
において、見掛上、体積が増加したようになる。その結
果、リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力のうち
空気を圧縮／膨張させる際の反力は無視できるようにな
り、該リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電
流は外乱を吸収する力に相当した電流分のみとなる。
【００９９】本例においては、切替スイッチ２６０３を
切替えた後、切替バルブ２６１１を開放させるようタイ
ミングを設定したが、両者の切替えタイミングはほぼ同
時刻であれば前後しても同様の効果を得ることができ
る。
切替えた後、切替バルブ２６１１を開放させるようタイ
ミングを設定したが、両者の切替えタイミングはほぼ同
時刻であれば前後しても同様の効果を得ることができ
る。
【０１００】＜実施例４＞次に、本発明の第４実施例に
ついて、図２８および図２９を参照して説明する。
ついて、図２８および図２９を参照して説明する。
【０１０１】図２８は本実施例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図２９は図２８に示す移動ステージ装置の正
面図である。
す斜視図、図２９は図２８に示す移動ステージ装置の正
面図である。
【０１０２】本実施例の移動ステージ装置も、同様に、
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用したも
のであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング１から放射され、
マスク２８００を通して入射するＳＲ光に対してウエハ
２８０１の位置決めを行なう。
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用したも
のであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング１から放射され、
マスク２８００を通して入射するＳＲ光に対してウエハ
２８０１の位置決めを行なう。
【０１０３】本実施例の移動ステージ装置は、第１の駆
動手段として、前述の図１３に示したものと同様な、
Ｘ，Ｙおよびθ方向への移動を可能とするＸ，Ｙおよび
θの各方向についてのインダクションモータを、ＸＹス
テージ２８０４のステージ定盤２８０２との接触面に備
えている。第２の駆動手段としては、前述の図１６に示
したものと同様な、Ｘ方向に復動可能とするＸ非接触エ
アシリンダ２８１４と、図１７に示したものと同様なＹ
非接触エアシリンダ２８１９とを備えている。
動手段として、前述の図１３に示したものと同様な、
Ｘ，Ｙおよびθ方向への移動を可能とするＸ，Ｙおよび
θの各方向についてのインダクションモータを、ＸＹス
テージ２８０４のステージ定盤２８０２との接触面に備
えている。第２の駆動手段としては、前述の図１６に示
したものと同様な、Ｘ方向に復動可能とするＸ非接触エ
アシリンダ２８１４と、図１７に示したものと同様なＹ
非接触エアシリンダ２８１９とを備えている。
【０１０４】前記Ｘ非接触エアシリンダ２８１４に係合
するＸ非接触エアシリンダロッド２８０７の、Ｙアシス
トベース２８０６Ａ，２８０６Ｂに接する端部には、そ
れぞれ、Ｙ予圧磁石２８１７Ａ，２８１７ＢおよびＹ静
圧軸受加圧系２８１８Ａ，２８１８Ｂ（２８１７Ａ，２
８１８Ａは不図示）を有するＹ軸静圧軸受２８０９Ａ，
２８０９Ｂが設けられており、これにより、Ｙ方向へＸ
Ｙステージ２８０４が移動する際、前記Ｙアシストベー
ス２８０６Ａ，２８０６Ｂに対して非接触に移動するこ
とになる。
するＸ非接触エアシリンダロッド２８０７の、Ｙアシス
トベース２８０６Ａ，２８０６Ｂに接する端部には、そ
れぞれ、Ｙ予圧磁石２８１７Ａ，２８１７ＢおよびＹ静
圧軸受加圧系２８１８Ａ，２８１８Ｂ（２８１７Ａ，２
８１８Ａは不図示）を有するＹ軸静圧軸受２８０９Ａ，
２８０９Ｂが設けられており、これにより、Ｙ方向へＸ
Ｙステージ２８０４が移動する際、前記Ｙアシストベー
ス２８０６Ａ，２８０６Ｂに対して非接触に移動するこ
とになる。
【０１０５】一方、前記Ｙ非接触エアシリンダ２８１９
に係合するＹ非接触エアシリンダロッド２８０８の、Ｘ
アシストベース２８０５との接触面には、同様に、Ｘ予
圧磁石２８１５およびＸ静圧軸受加圧系２８１６を有す
るＸ静圧軸受２８１０が設けられており、Ｘ方向へＸＹ
ステージ２８０４が移動する際、Ｘアシストベース２８
０５に対して非接触に移動することになる。
に係合するＹ非接触エアシリンダロッド２８０８の、Ｘ
アシストベース２８０５との接触面には、同様に、Ｘ予
圧磁石２８１５およびＸ静圧軸受加圧系２８１６を有す
るＸ静圧軸受２８１０が設けられており、Ｘ方向へＸＹ
ステージ２８０４が移動する際、Ｘアシストベース２８
０５に対して非接触に移動することになる。
【０１０６】なお、本実施例の、Ｘ，Ｙ方向の各非接触
エアシリンダ２８１４，２８１９と前記インダクション
モータとの駆動制御は前述した実施例と同様に考えるこ
とができる。
エアシリンダ２８１４，２８１９と前記インダクション
モータとの駆動制御は前述した実施例と同様に考えるこ
とができる。
【０１０７】＜実施例５＞次に、本発明の第５実施例に
ついて、図３０および図３１（ａ），（ｂ）を参照して
説明する。
ついて、図３０および図３１（ａ），（ｂ）を参照して
説明する。
【０１０８】図３０は本実施例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図３１（ａ）は図３０に示す移動ステージ装
置の正面図、図３１（ｂ）は図３１（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
す斜視図、図３１（ａ）は図３０に示す移動ステージ装
置の正面図、図３１（ｂ）は図３１（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
【０１０９】本実施例の移動ステージ装置も、前述の各
実施例と同様に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング
１から放射され、マスク３０００を通して入射するＳＲ
光に対してウエハ３００１の位置決めを行なう。
実施例と同様に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、Ｘ線源であるＳＯＲリング
１から放射され、マスク３０００を通して入射するＳＲ
光に対してウエハ３００１の位置決めを行なう。
【０１１０】本実施例の場合、第１の駆動手段として、
前述と同様なＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂお
よびＹリニアモータ３０１５Ａ，３０１５Ｂを備えてい
る。また、第２の駆動手段としては、２つのＹドラムユ
ニット３００８Ａ，３００８Ｂ間に張設したＹベルト３
００６Ａ，３００６Ｂにて、イコライズ３００９Ａ，３
００９Ｂを介して、Ｙステージ３００５をＹ方向に保持
し、Ｙモータ３００７の動力によって前記Ｙドラムユニ
ット３００８Ｂを回転させることで前記Ｙステージ３０
０５をＹ方向に移動させる手段と、同様に、２つのＸド
ラムユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂ間に張設したＸベ
ルト３０２０にＸステージ３００４を連結し、Ｘモータ
３０２１の動力によって前記Ｘドラムユニット３０２２
Ａを回転させることで前記Ｘステージ３００４をＸ方向
に移動させる手段とを備えている。
前述と同様なＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂお
よびＹリニアモータ３０１５Ａ，３０１５Ｂを備えてい
る。また、第２の駆動手段としては、２つのＹドラムユ
ニット３００８Ａ，３００８Ｂ間に張設したＹベルト３
００６Ａ，３００６Ｂにて、イコライズ３００９Ａ，３
００９Ｂを介して、Ｙステージ３００５をＹ方向に保持
し、Ｙモータ３００７の動力によって前記Ｙドラムユニ
ット３００８Ｂを回転させることで前記Ｙステージ３０
０５をＹ方向に移動させる手段と、同様に、２つのＸド
ラムユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂ間に張設したＸベ
ルト３０２０にＸステージ３００４を連結し、Ｘモータ
３０２１の動力によって前記Ｘドラムユニット３０２２
Ａを回転させることで前記Ｘステージ３００４をＸ方向
に移動させる手段とを備えている。
【０１１１】前記Ｘステージ３００４については、ステ
ージ定盤３００２との接触面にＸ静圧パッド３０２６、
Ｘ予圧磁石３０２７およびＸ静圧軸受加圧系３０２８を
備えた静圧軸受部が設けられ、さらにＹステージ３００
５との接触面についても同様な構成の静圧軸受部が設け
られて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙステージ３
００５に対して非接触で移動が可能となっている。
ージ定盤３００２との接触面にＸ静圧パッド３０２６、
Ｘ予圧磁石３０２７およびＸ静圧軸受加圧系３０２８を
備えた静圧軸受部が設けられ、さらにＹステージ３００
５との接触面についても同様な構成の静圧軸受部が設け
られて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙステージ３
００５に対して非接触で移動が可能となっている。
【０１１２】一方、Ｙステージ３００５については、前
記ステージ定盤３００２上に固設されているＹヨーガイ
ド３０１３Ａ，３０１３Ｂとの接触面に、それぞれ、Ｙ
静圧パッド３０２３Ａ，３０２３Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系
３０２４Ａ，３０２４ＢおよびＹ予圧磁石３０２５Ａ，
３０２５Ｂ（３０２３Ｂ，３０２４Ｂ，３０２５Ｂは不
図示）を備えた静圧軸受部が設けられ、さらに、前記ス
テージ定盤３００２との接触面にも同様な構成の静圧軸
受部が設けられて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙ
ヨーガイド３０１３Ａ，３０１３Ｂに対して非接触で移
動が可能となっている。
記ステージ定盤３００２上に固設されているＹヨーガイ
ド３０１３Ａ，３０１３Ｂとの接触面に、それぞれ、Ｙ
静圧パッド３０２３Ａ，３０２３Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系
３０２４Ａ，３０２４ＢおよびＹ予圧磁石３０２５Ａ，
３０２５Ｂ（３０２３Ｂ，３０２４Ｂ，３０２５Ｂは不
図示）を備えた静圧軸受部が設けられ、さらに、前記ス
テージ定盤３００２との接触面にも同様な構成の静圧軸
受部が設けられて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙ
ヨーガイド３０１３Ａ，３０１３Ｂに対して非接触で移
動が可能となっている。
【０１１３】ここで、本実施例による位置決めの原理に
ついて、図３２を参照して説明する。
ついて、図３２を参照して説明する。
【０１１４】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段３２０２に移動ステージ３２０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段３２０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力は直接、移動ステージ３０００
に伝わり、移動ステージ３２００をステップさせる。こ
の時第１の駆動手段３２０１は出力がスイッチで切断さ
れて全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値
に推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑え
られる。第２の駆動手段３２０２については冷却手段を
設けて発熱を吸収し、移動ステージ３２００に熱エネル
ギを伝えないようになっている。
時、先ず第２の駆動手段３２０２に移動ステージ３２０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段３２０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力は直接、移動ステージ３０００
に伝わり、移動ステージ３２００をステップさせる。こ
の時第１の駆動手段３２０１は出力がスイッチで切断さ
れて全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値
に推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑え
られる。第２の駆動手段３２０２については冷却手段を
設けて発熱を吸収し、移動ステージ３２００に熱エネル
ギを伝えないようになっている。
【０１１５】ステップしている間、第２の駆動手段３２
０２の制御系は位置を帰還するクローズドループ制御で
あるがゲインを落とすことにより安定なステップ動作を
行なう。
０２の制御系は位置を帰還するクローズドループ制御で
あるがゲインを落とすことにより安定なステップ動作を
行なう。
【０１１６】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
３２０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段３２０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
３２０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段３２０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
【０１１７】又、この時第２の駆動手段３２０２は上述
のクローズドループから切り離し定電流（Ｙ方向は移動
ステージ３２００の重力に釣り合うトルクを与える電
流、Ｘ方向はゼロ）で駆動するように切り替える。これ
により移動ステージ３２００には第２の駆動手段３２０
２からは力が働かなくなり、第１の駆動手段３２０１に
より移動ステージ３２００の位置を制御できる。また制
御系はステージ位置を帰還するクローズドループ制御で
あリ、また第１の駆動手段３２０１はリニアモータであ
るので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲイン
（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
のクローズドループから切り離し定電流（Ｙ方向は移動
ステージ３２００の重力に釣り合うトルクを与える電
流、Ｘ方向はゼロ）で駆動するように切り替える。これ
により移動ステージ３２００には第２の駆動手段３２０
２からは力が働かなくなり、第１の駆動手段３２０１に
より移動ステージ３２００の位置を制御できる。また制
御系はステージ位置を帰還するクローズドループ制御で
あリ、また第１の駆動手段３２０１はリニアモータであ
るので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲイン
（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
【０１１８】この位置決めの時の発熱であるが、第２の
駆動手段３２０２は冷却されているので発熱しない（Ｘ
方向は電流がゼロなのでもともと発熱しない）。第１の
駆動手段３２０１には移動ステージ３２００を振動させ
る外乱に対抗する力が必要であるが、位置決め時の変位
量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）のでこ
れらの力を発生するための発熱は非常に小さく、移動ス
テージ３２００には悪影響を及ぼさない。
駆動手段３２０２は冷却されているので発熱しない（Ｘ
方向は電流がゼロなのでもともと発熱しない）。第１の
駆動手段３２０１には移動ステージ３２００を振動させ
る外乱に対抗する力が必要であるが、位置決め時の変位
量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）のでこ
れらの力を発生するための発熱は非常に小さく、移動ス
テージ３２００には悪影響を及ぼさない。
【０１１９】つづいて、本実施例におけるリニアモータ
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
【０１２０】なお、Ｘ方向とＹ方向では同様に考えるこ
とができるので、ここではＸ方向について説明する。
とができるので、ここではＸ方向について説明する。
【０１２１】まず、Ｘステージ３００４のＸ方向への移
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図３
３および図３４（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照
して説明する。
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図３
３および図３４（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照
して説明する。
【０１２２】図３３は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図３４は図３３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すフローチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は第１切替スイ
ッチ３３０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニア
モータ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｄ）
は第２切替スイッチ３３０８の切替えタイミングを、
（ｅ）はＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対す
る抵抗力の変化を、示している。
図、図３４は図３３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すフローチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は第１切替スイ
ッチ３３０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニア
モータ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｄ）
は第２切替スイッチ３３０８の切替えタイミングを、
（ｅ）はＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対す
る抵抗力の変化を、示している。
【０１２３】本例の駆動制御部では、Ｘリニアモータ３
０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第１
切替スイッチ３３０３は、比較器３３０４がＸステージ
３００４の位置と目標位置との偏差を予め定めた許容値
と比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となっ
たとき、接続状態に切替えられる。
０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第１
切替スイッチ３３０３は、比較器３３０４がＸステージ
３００４の位置と目標位置との偏差を予め定めた許容値
と比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となっ
たとき、接続状態に切替えられる。
【０１２４】一方、Ｘモータ３０２１への印加電流は、
ステップ動作時とステップ終了後で切替えられる。ステ
ップ動作中は指令値に応じた駆動電流がフィルタ３３０
５、第２切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０
９を介してＸモータ３０２１への印加される。ステップ
動作終了後は、Ｘステージ３００４を、ステップ動作終
了時の位置に保ったために、定電流源３３０６から第２
切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０９を介し
てＸモータ３０２１に定電流が印加される。ただし、Ｘ
方向の場合、印加電流を“０”としてもよい。Ｙ方向の
場合はＸステージ３００５等の自重が存在するため、そ
れと平衡を保つような値の定電流をＹモータ３００７に
印加する必要がある。
ステップ動作時とステップ終了後で切替えられる。ステ
ップ動作中は指令値に応じた駆動電流がフィルタ３３０
５、第２切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０
９を介してＸモータ３０２１への印加される。ステップ
動作終了後は、Ｘステージ３００４を、ステップ動作終
了時の位置に保ったために、定電流源３３０６から第２
切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０９を介し
てＸモータ３０２１に定電流が印加される。ただし、Ｘ
方向の場合、印加電流を“０”としてもよい。Ｙ方向の
場合はＸステージ３００５等の自重が存在するため、そ
れと平衡を保つような値の定電流をＹモータ３００７に
印加する必要がある。
【０１２５】前記Ｘモータ３０２１への印加電流の切替
えは第２切替スイッチ３５０８にてなされ、該第２切替
スイッチ３５０８の切替え制御は、ステップ動作が終了
したか否かを判断する比較器３３０７にて行なわれる。
えは第２切替スイッチ３５０８にてなされ、該第２切替
スイッチ３５０８の切替え制御は、ステップ動作が終了
したか否かを判断する比較器３３０７にて行なわれる。
【０１２６】上述した本例の駆動制御部によれば、ステ
ップ動作時には、Ｘモータ３０２１の回転動作がドラム
ユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂを介して直線運動に変
換されて、Ｘステージ３００４をＸ方向に移動させるこ
とになる。その後の、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０
１０Ｂによる最終位置決め時は、前述の実施例と同様に
考えることができ、その時の該Ｘリニアモータ３０１０
Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力は、前記Ｘステージ３０
０４に働く、その他の力が“０”とみなせるので、ほぼ
“０”となり、容易に移動させることができる。このと
き、本例において、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１
０ＢはＸステージ３００４を振動させようとする外乱を
吸収する力のみを発すれば良く、その力は図３４（ｃ）
に示す、第１切替スイッチ３３０３切替え後の電流波形
の振幅に相当する。
ップ動作時には、Ｘモータ３０２１の回転動作がドラム
ユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂを介して直線運動に変
換されて、Ｘステージ３００４をＸ方向に移動させるこ
とになる。その後の、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０
１０Ｂによる最終位置決め時は、前述の実施例と同様に
考えることができ、その時の該Ｘリニアモータ３０１０
Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力は、前記Ｘステージ３０
０４に働く、その他の力が“０”とみなせるので、ほぼ
“０”となり、容易に移動させることができる。このと
き、本例において、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１
０ＢはＸステージ３００４を振動させようとする外乱を
吸収する力のみを発すれば良く、その力は図３４（ｃ）
に示す、第１切替スイッチ３３０３切替え後の電流波形
の振幅に相当する。
【０１２７】つづいて、Ｘステージ３００４のＸ方向へ
の駆動時間を基準にして駆動制御を行なう例について図
３５を参照して説明する。
の駆動時間を基準にして駆動制御を行なう例について図
３５を参照して説明する。
【０１２８】図３５は本例の駆動制御部を示すブロック
図である。
図である。
【０１２９】本例の駆動制御部の場合、Ｘリニアモータ
３０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第
１切替スイッチ３５０３を、Ｘモータ３０２１によるス
テップ動作後の駆動時間が、予め定めた、Ｘステージ３
００４が目標位置へ到達すると考えられる設定時間を越
えたときに切替える構成としており、その他は前述の図
３３に示した例の場合と同様である。本例において、前
記駆動時間と前記設定時間との比較を比較器３５０４に
て行ない、さらに、該比較器３５０４が前記第１切替ス
イッチ３５０３を切替え制御する。
３０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第
１切替スイッチ３５０３を、Ｘモータ３０２１によるス
テップ動作後の駆動時間が、予め定めた、Ｘステージ３
００４が目標位置へ到達すると考えられる設定時間を越
えたときに切替える構成としており、その他は前述の図
３３に示した例の場合と同様である。本例において、前
記駆動時間と前記設定時間との比較を比較器３５０４に
て行ない、さらに、該比較器３５０４が前記第１切替ス
イッチ３５０３を切替え制御する。
【０１３０】つづいて、Ｘステージ３００４が目標位置
に到達するまで、常に、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３
０１０Ｂを駆動している例について、図３６および図３
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
に到達するまで、常に、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３
０１０Ｂを駆動している例について、図３６および図３
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
【０１３１】図３６は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図３７は図３６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＸリニアモー
タ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｃ）は切
替スイッチの切替えタイミングを、（ｄ）はＸリニアモ
ータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力の変化を、
示している。
図、図３７は図３６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＸリニアモー
タ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｃ）は切
替スイッチの切替えタイミングを、（ｄ）はＸリニアモ
ータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力の変化を、
示している。
【０１３２】本例の駆動制御部による、Ｘリニアモータ
３０１０Ａ，３０１０Ｂの駆動制御は、前述の第１実施
例の図８にて示した駆動制御部と同様に考えることがで
き、該Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂによる最
終位置決めの際、それらに対する抵抗力は前述と同様に
ほとんど“０”となるので、容易にＸステージ３００４
を移動させることが可能となる。このとき、本例におい
て、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０ＢはＸステー
ジ３００４を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は図３７（ｃ）に示す、切替ス
イッチ３６０８切替え後の電流波形の振幅に相当する。
３０１０Ａ，３０１０Ｂの駆動制御は、前述の第１実施
例の図８にて示した駆動制御部と同様に考えることがで
き、該Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂによる最
終位置決めの際、それらに対する抵抗力は前述と同様に
ほとんど“０”となるので、容易にＸステージ３００４
を移動させることが可能となる。このとき、本例におい
て、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０ＢはＸステー
ジ３００４を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は図３７（ｃ）に示す、切替ス
イッチ３６０８切替え後の電流波形の振幅に相当する。
【０１３３】＜実施例６＞次に、本発明の移動ステージ
装置の第６実施例について、図３８〜図４０を参照して
説明する。
装置の第６実施例について、図３８〜図４０を参照して
説明する。
【０１３４】図３８は本実施例の移動ステージ装置を示
す正面図、図３９は図３８に示す移動ステージ装置のＡ
−Ａ線断面図、図４０は、図３８に示す移動ステージ装
置のＢ−Ｂ線断面図である。
す正面図、図３９は図３８に示す移動ステージ装置のＡ
−Ａ線断面図、図４０は、図３８に示す移動ステージ装
置のＢ−Ｂ線断面図である。
【０１３５】本実施例の移動ステージ装置も、同様に、
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置に設けられるアライメント装置に
適用したものであり、不図示のマスクを通して入射する
ＳＲ光に対してウエハ３８０１の位置決めを行なう。
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置に設けられるアライメント装置に
適用したものであり、不図示のマスクを通して入射する
ＳＲ光に対してウエハ３８０１の位置決めを行なう。
【０１３６】本実施例の場合、前述した第１実施例（図
１および図２（ａ）参照）と同様に、Ｘリニアモータ
（不図示）およびＹリニアモータ３８１０Ａ，３８１０
Ｂ（３８１０Ａは不図示）からなる第１の駆動手段と、
Ｘモータ３８０４およびＹモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂの動力を、それぞれＸねじ軸３８１２およびＹねじ軸
３８０９Ａ，３８０９Ｂを介してＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３に伝える構成の第２の駆動手段
とを備えている。
１および図２（ａ）参照）と同様に、Ｘリニアモータ
（不図示）およびＹリニアモータ３８１０Ａ，３８１０
Ｂ（３８１０Ａは不図示）からなる第１の駆動手段と、
Ｘモータ３８０４およびＹモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂの動力を、それぞれＸねじ軸３８１２およびＹねじ軸
３８０９Ａ，３８０９Ｂを介してＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３に伝える構成の第２の駆動手段
とを備えている。
【０１３７】また、前記Ｙステージ３８０３は、ステー
ジ定盤３８０６に取り付けられている定張力ばねドラム
３８１７に巻着された２本の定張力ばね３８０８によっ
て、イコライズ３８１３を介して吊下げ保持されてい
る。前記定張力ばね３８０８は、Ｘステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重を零バランスに保つため
のばねであり、常に一定の力を＋Ｙ方向に発生してい
る。この定張力ばね３８０８は、前記Ｙステージ３８０
３のＹ方向の移動に伴なって、前記定張力ばねドラム３
８１７にて巻き取りあるいは巻き戻しが行なわれる。
ジ定盤３８０６に取り付けられている定張力ばねドラム
３８１７に巻着された２本の定張力ばね３８０８によっ
て、イコライズ３８１３を介して吊下げ保持されてい
る。前記定張力ばね３８０８は、Ｘステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重を零バランスに保つため
のばねであり、常に一定の力を＋Ｙ方向に発生してい
る。この定張力ばね３８０８は、前記Ｙステージ３８０
３のＹ方向の移動に伴なって、前記定張力ばねドラム３
８１７にて巻き取りあるいは巻き戻しが行なわれる。
【０１３８】Ｘねじ軸３８１２と係合するＸナット３８
２０は、Ｘステージ３８０２との間に設けたＸクラッチ
３８２２によって、ステップ動作時には前記Ｘステージ
３８０２に対して剛に締結され、最終位置決めの時は切
離されて前記Ｘステージ３８０２を自由に状態にする構
成となっている。これはＹねじ軸３８０９Ａ，３８０９
ＢとＹステージ３８０３についても同様に考えることが
でき、Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂ（３８３１Ａ
は不図示）が設けられている。
２０は、Ｘステージ３８０２との間に設けたＸクラッチ
３８２２によって、ステップ動作時には前記Ｘステージ
３８０２に対して剛に締結され、最終位置決めの時は切
離されて前記Ｘステージ３８０２を自由に状態にする構
成となっている。これはＹねじ軸３８０９Ａ，３８０９
ＢとＹステージ３８０３についても同様に考えることが
でき、Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂ（３８３１Ａ
は不図示）が設けられている。
【０１３９】ここで、本実施例による位置決めの原理に
ついて図４１を参照して説明する。
ついて図４１を参照して説明する。
【０１４０】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段４１０２に移動ステージ４１０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段４１０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力はクラッチ４１０３を介して移
動ステージ４１００に伝わり、移動ステージ４１００を
ステップさせる。この時第１の駆動手段４１０１は出力
がスイッチで切断されて全く推力を発生しないか、ある
いは非常に小さい値に推力が制限されており、発熱は無
視できる程度に抑えられる。第２の駆動手段４１０２は
発熱しないか、または発熱しても冷却手段を設けるなど
して移動ステージ４１００に熱エネルギを伝えないよう
になっている。
時、先ず第２の駆動手段４１０２に移動ステージ４１０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段４１０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力はクラッチ４１０３を介して移
動ステージ４１００に伝わり、移動ステージ４１００を
ステップさせる。この時第１の駆動手段４１０１は出力
がスイッチで切断されて全く推力を発生しないか、ある
いは非常に小さい値に推力が制限されており、発熱は無
視できる程度に抑えられる。第２の駆動手段４１０２は
発熱しないか、または発熱しても冷却手段を設けるなど
して移動ステージ４１００に熱エネルギを伝えないよう
になっている。
【０１４１】ステップしている間、第２の駆動手段４１
０２の制御系はステージ位置を帰還するクローズドルー
プ制御であるがゲインを落とすことにより安定なステッ
プ動作を行なう。
０２の制御系はステージ位置を帰還するクローズドルー
プ制御であるがゲインを落とすことにより安定なステッ
プ動作を行なう。
【０１４２】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
４１０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段４１０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
４１０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段４１０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
【０１４３】又この時、クラッチ４１０３を切り離して
第２の駆動手段４１０２と移動ステージ４１００との結
合を切ってやる。これにより移動ステージ４１００には
第２の駆動手段４１０２からは力が働かなくなり、第１
の駆動手段４１０１により移動ステージ４１００の位置
を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還するク
ローズドループ制御であリ、また第１の駆動手段４１０
１はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高い系
が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定な位
置制御を行える。
第２の駆動手段４１０２と移動ステージ４１００との結
合を切ってやる。これにより移動ステージ４１００には
第２の駆動手段４１０２からは力が働かなくなり、第１
の駆動手段４１０１により移動ステージ４１００の位置
を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還するク
ローズドループ制御であリ、また第１の駆動手段４１０
１はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高い系
が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定な位
置制御を行える。
【０１４４】この位置決めの時の発熱であるが、第２の
駆動手段４１０２はもともと発熱しないか冷却されてい
る上、ステップがほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段４１０１には移動ス
テージ４１００を振動させる外乱に対抗する力が必要で
あるが、位置決め時の変位量は非常に小さい（例えば１
０分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発
熱は非常に小さく、移動ステージ４１００には悪影響を
及ぼさない。
駆動手段４１０２はもともと発熱しないか冷却されてい
る上、ステップがほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段４１０１には移動ス
テージ４１００を振動させる外乱に対抗する力が必要で
あるが、位置決め時の変位量は非常に小さい（例えば１
０分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発
熱は非常に小さく、移動ステージ４１００には悪影響を
及ぼさない。
【０１４５】つづいて、本実施例におけるリニアモータ
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
【０１４６】なお、Ｘ方向とＹ方向とでは同様に考える
ことができるので、ここではＹ方向について説明する。
ことができるので、ここではＹ方向について説明する。
【０１４７】まず、Ｙステージ３８０３のＹ方向への移
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４
２および図４３（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），
（ｅ）を参照して説明する。
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４
２および図４３（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），
（ｅ）を参照して説明する。
【０１４８】図４２は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図４３は図４２に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４２０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
図、図４３は図４２に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４２０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
【０１４９】本例の駆動制御部では、Ｙリニアモータ３
８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ４２０３は、比較器４２０４がＹステージ３８
０３の位置と目標位置との偏差を、予め定めた許容値と
比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となった
とき、接続状態に切替えられる。
８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ４２０３は、比較器４２０４がＹステージ３８
０３の位置と目標位置との偏差を、予め定めた許容値と
比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となった
とき、接続状態に切替えられる。
【０１５０】一方、Ｙモータ３８０５Ａ，３８０５Ｂに
対する、ステップ動作中、指令値に応じた駆動電流が電
流増幅器４２０５を介して印加される。また、比較器４
２０６において、前記ステップ動作が終了したか否かが
判断されており、該比較器４２０６によってＹクラッチ
３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替え制御を行なう。
対する、ステップ動作中、指令値に応じた駆動電流が電
流増幅器４２０５を介して印加される。また、比較器４
２０６において、前記ステップ動作が終了したか否かが
判断されており、該比較器４２０６によってＹクラッチ
３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替え制御を行なう。
【０１５１】この比較器４２０６によって、ステップ動
作終了時に前記Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂを切
離すことにより、Ｙステージ３８０３は、ステップ動作
終了時の位置（ほぼ目標位置）にて、自由状態になり、
前記定張力ばね３８０８によってＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重と平衡を保った状態とな
る。そして、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力はほとんど“０”となるので、容易に、最
終位置決めのための移動を行なうことができる。このと
き、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９ＢはＹステー
ジ３８０３を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は、図４３（ｃ）に示す、切替
スイッチ４２０３切替え後の電流波形の振幅に相当し、
これは、以下に示す例についても同様に言えることであ
る。
作終了時に前記Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂを切
離すことにより、Ｙステージ３８０３は、ステップ動作
終了時の位置（ほぼ目標位置）にて、自由状態になり、
前記定張力ばね３８０８によってＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重と平衡を保った状態とな
る。そして、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力はほとんど“０”となるので、容易に、最
終位置決めのための移動を行なうことができる。このと
き、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９ＢはＹステー
ジ３８０３を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は、図４３（ｃ）に示す、切替
スイッチ４２０３切替え後の電流波形の振幅に相当し、
これは、以下に示す例についても同様に言えることであ
る。
【０１５２】つづいて、指令入力後の経過時間を基準に
して駆動制御する例について、図４４および図４５
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）を参照して説
明する。
して駆動制御する例について、図４４および図４５
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）を参照して説
明する。
【０１５３】図４４は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図４５は図４４に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４４０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
図、図４５は図４４に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４４０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
【０１５４】本例の駆動制御部の場合、Ｙリニアモータ
３８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切
替スイッチ４４０３を、Ｙモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂによるステップ動作開始後の駆動時間が、予め定め
た、Ｙステージ３８０３が目標位置へ到達すると考えら
れる設定時間を越えたときに切替える構成としており、
その他は前述の図４２に示した例の場合と同様である。
本例において、前記駆動時間と前記設定時間との比較を
比較器４４０４にて行ない、さらに、該比較器４４０４
が前記切替スイッチ４４０３を切替え制御する。
３８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切
替スイッチ４４０３を、Ｙモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂによるステップ動作開始後の駆動時間が、予め定め
た、Ｙステージ３８０３が目標位置へ到達すると考えら
れる設定時間を越えたときに切替える構成としており、
その他は前述の図４２に示した例の場合と同様である。
本例において、前記駆動時間と前記設定時間との比較を
比較器４４０４にて行ない、さらに、該比較器４４０４
が前記切替スイッチ４４０３を切替え制御する。
【０１５５】つづいて、Ｙステージ３８０３が目標位置
に到達するまで、常に、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３
８１９Ｂを駆動している例について、図４６および図４
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
に到達するまで、常に、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３
８１９Ｂを駆動している例について、図４６および図４
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
【０１５６】図４６は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図４７は図４６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｃ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｄ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
図、図４７は図４６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｃ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｄ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
【０１５７】本例の駆動制御部によるＹリニアモータ３
８１９Ａ，３８１９Ｂの駆動制御は、前述の第１実施例
の図８にて示した駆動制御部におけるＸリニアモータの
駆動制御の場合と同様に考えることができ、該Ｙリニア
モータ３８１９Ａ，３８１９Ｂによる最終位置決めの
際、それらに対する抵抗力は前述と同様にほとんど
“０”となるので、容易にＹステージ３８０３を移動さ
せることが可能となる。
８１９Ａ，３８１９Ｂの駆動制御は、前述の第１実施例
の図８にて示した駆動制御部におけるＸリニアモータの
駆動制御の場合と同様に考えることができ、該Ｙリニア
モータ３８１９Ａ，３８１９Ｂによる最終位置決めの
際、それらに対する抵抗力は前述と同様にほとんど
“０”となるので、容易にＹステージ３８０３を移動さ
せることが可能となる。
【０１５８】＜実施例７＞次に第７実施例を説明する。
ステージ装置全体の構成は先の第１実施例（図１乃至図
３）と同様であるため装置構成の説明は省略する。本実
施例では板ばねの変位量を検出してこれをステージ駆動
制御にフィードバックするようにしたことを特徴とす
る。
ステージ装置全体の構成は先の第１実施例（図１乃至図
３）と同様であるため装置構成の説明は省略する。本実
施例では板ばねの変位量を検出してこれをステージ駆動
制御にフィードバックするようにしたことを特徴とす
る。
【０１５９】リニアモータが所望の位置に位置決めされ
たとき、第２の駆動手段の駆動制御系はステージ位置の
帰還ではないので、ばね要素にはたわみ（オフセット）
が生じることがある。するとリニアモータにはこのオフ
セットの分、ばねによって発生する力に対抗し続けるた
めの推力を発生することが必要となり、発熱量が増大す
る可能性がある。
たとき、第２の駆動手段の駆動制御系はステージ位置の
帰還ではないので、ばね要素にはたわみ（オフセット）
が生じることがある。するとリニアモータにはこのオフ
セットの分、ばねによって発生する力に対抗し続けるた
めの推力を発生することが必要となり、発熱量が増大す
る可能性がある。
【０１６０】そこで本例では、ばね要素の変位を検出し
て、この変位量を第２の駆動手段の制御系への指令値に
フィードバックして加えることにより、オフセットを取
り除くようにしたものである。先に説明したように本実
施例のステージ装置には、Ｘ板ばね及びＹ板ばねのぞれ
ぞれの変位量を検出するセンサ（歪みゲージあるいはギ
ャップセンサ）が設けられている。よってこのセンサ出
力からばねの変位量が分かる。
て、この変位量を第２の駆動手段の制御系への指令値に
フィードバックして加えることにより、オフセットを取
り除くようにしたものである。先に説明したように本実
施例のステージ装置には、Ｘ板ばね及びＹ板ばねのぞれ
ぞれの変位量を検出するセンサ（歪みゲージあるいはギ
ャップセンサ）が設けられている。よってこのセンサ出
力からばねの変位量が分かる。
【０１６１】図４８は本実施例の制御系の具体的な構成
を示すブロック線図である。切替スイッチ２をオンにす
ることでフィードバックを行なうことができる。センサ
の出力をフィードバックするためのトリガのタイミング
は、リニアモータの制御系の位置偏差と第２の駆動手段
の制御系の位置偏差が共にある許容値に入った時として
も良いし、あるいはリニアモータに位置決め用の推力を
発生させてからの経過時間に基づいて決定しても良い。
リニアモータの制御系は高ゲインの帰還であるので、第
２の駆動手段が動くことによる位置決め精度への影響は
なく、リニアモータに流れる電流もオフセットが小さく
なるにつれて減少し、発熱を抑えることができる。
を示すブロック線図である。切替スイッチ２をオンにす
ることでフィードバックを行なうことができる。センサ
の出力をフィードバックするためのトリガのタイミング
は、リニアモータの制御系の位置偏差と第２の駆動手段
の制御系の位置偏差が共にある許容値に入った時として
も良いし、あるいはリニアモータに位置決め用の推力を
発生させてからの経過時間に基づいて決定しても良い。
リニアモータの制御系は高ゲインの帰還であるので、第
２の駆動手段が動くことによる位置決め精度への影響は
なく、リニアモータに流れる電流もオフセットが小さく
なるにつれて減少し、発熱を抑えることができる。
【０１６２】図４９は上記実施例の変形例のブロック線
図を示すもので、ばね変位量とそのときのリニアモータ
に流れる電流値との対照テーブルを予め用意しておき、
リニアモータに流れる電流を検出して、この電流とテー
ブルとからばね変位量を算出している。そして算出した
ばね変位量を第２の駆動手段の指令値にフィードバック
することで、図４８と同様の作用を得るようにしたもの
である。これによればばね変位量を検出するセンサを設
ける必要がなくなる。
図を示すもので、ばね変位量とそのときのリニアモータ
に流れる電流値との対照テーブルを予め用意しておき、
リニアモータに流れる電流を検出して、この電流とテー
ブルとからばね変位量を算出している。そして算出した
ばね変位量を第２の駆動手段の指令値にフィードバック
することで、図４８と同様の作用を得るようにしたもの
である。これによればばね変位量を検出するセンサを設
ける必要がなくなる。
【０１６３】ばね変位量を制御にフィードバックする本
実施例によれば、リニアモータは位置決め時の外乱によ
る振動のみを抑えれば良く、発熱が非常に小さくなると
いう利点がある。
実施例によれば、リニアモータは位置決め時の外乱によ
る振動のみを抑えれば良く、発熱が非常に小さくなると
いう利点がある。
【０１６４】なお、本実施例の技術思想は図１のような
板ばねを有する系に限らず、先の第３実施例（図１４乃
至図１８）のようなエアシリンダを有する系（エアシリ
ンダ内の空気がばねに相当する）にも同様に適用するこ
とができる。
板ばねを有する系に限らず、先の第３実施例（図１４乃
至図１８）のようなエアシリンダを有する系（エアシリ
ンダ内の空気がばねに相当する）にも同様に適用するこ
とができる。
【０１６５】＜実施例８＞本発明の第８実施例を以下に
説明する。ステージ装置全体の構成は先の第１実施例
（図１乃至図３）と同様であるため装置構成の説明は省
略する。
説明する。ステージ装置全体の構成は先の第１実施例
（図１乃至図３）と同様であるため装置構成の説明は省
略する。
【０１６６】第２の駆動手段によるステップ中に急峻な
加速がかかると、ばねを介しているため残留振動が発生
する。ばねをたわめる力を小さくするためには、ばね定
数を小さく設計することが望ましいが、このような設計
は残留振動が発生しやすくなってしまう。残留振動が発
生すると整定するまで時間がかかり、速く整定させよう
とするとリニアモータの発熱が増大する。
加速がかかると、ばねを介しているため残留振動が発生
する。ばねをたわめる力を小さくするためには、ばね定
数を小さく設計することが望ましいが、このような設計
は残留振動が発生しやすくなってしまう。残留振動が発
生すると整定するまで時間がかかり、速く整定させよう
とするとリニアモータの発熱が増大する。
【０１６７】そこで本例では、ステージに対して微分可
能な加速度指令を与えることによって、残留振動が発生
しないようにしたものである。以下これについて詳述す
る。図３のモデルにおいて、ｘステージの運動方程式は
次式のようになる。
能な加速度指令を与えることによって、残留振動が発生
しないようにしたものである。以下これについて詳述す
る。図３のモデルにおいて、ｘステージの運動方程式は
次式のようになる。
【０１６８】
【外１】
【０１６９】つまり、ｘステージの加速度ｄ2ｘ1／ｄｔ
2 は、ｘ板ばねの歪量（ｘ2−ｘ1）に比例している。上
式を変形すると、ｘネジ軸先端の移動変位量ｘ２は次式
のようになる。
2 は、ｘ板ばねの歪量（ｘ2−ｘ1）に比例している。上
式を変形すると、ｘネジ軸先端の移動変位量ｘ２は次式
のようになる。
【０１７０】
【外２】
【０１７１】ｘ2はモータの回転量に比例する量であ
り、セミクローズ制御系にフィードバックされて制御さ
れる。セミクローズ制御系に追従して残留振動を抑制す
るには、上式において少なくともネジ先端速度
（ｘ2）′が連続である必要がある。好ましくは
（ｘ2）″も連続であることが望ましい。ネジ先端速度
（ｘ2）′が連続であるためには、ステージ加速度の微
分（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）′が連続である必要、つまりステ
ージ加速度（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）が微分可能である必要が
ある。以上を図にまとめたものが図５０である。
り、セミクローズ制御系にフィードバックされて制御さ
れる。セミクローズ制御系に追従して残留振動を抑制す
るには、上式において少なくともネジ先端速度
（ｘ2）′が連続である必要がある。好ましくは
（ｘ2）″も連続であることが望ましい。ネジ先端速度
（ｘ2）′が連続であるためには、ステージ加速度の微
分（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）′が連続である必要、つまりステ
ージ加速度（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）が微分可能である必要が
ある。以上を図にまとめたものが図５０である。
【０１７２】図５１は上記の加速度パターンを持つ制御
系の具体例を示す。まず微分可能なステージ加速度指令
（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）を生成し、これに基づいて以下の指
令値を生成する。
系の具体例を示す。まず微分可能なステージ加速度指令
（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）を生成し、これに基づいて以下の指
令値を生成する。
【０１７３】
【外３】
【０１７４】そしてこの指令値をｘモータの回転量に変
換したものと、実際のｘモータの回転量の差を取り、こ
れを基に例えばＰＬＬのような制御系によってモータを
駆動する。
換したものと、実際のｘモータの回転量の差を取り、こ
れを基に例えばＰＬＬのような制御系によってモータを
駆動する。
【０１７５】図５２はステージの移動曲線を示してい
る。同図に示すように、モータが停止する時に、ｘステ
ージの加速度ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 と速度ｄｘ1／ｄｔ、及びｘ
板ばねの歪量（ｘ1−ｘ2）も零になっている。つまり振
動を生成する運動エネルギもばね要素の歪エネルギも無
い状態でモータは停止する。
る。同図に示すように、モータが停止する時に、ｘステ
ージの加速度ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 と速度ｄｘ1／ｄｔ、及びｘ
板ばねの歪量（ｘ1−ｘ2）も零になっている。つまり振
動を生成する運動エネルギもばね要素の歪エネルギも無
い状態でモータは停止する。
【０１７６】なお、移動開始時のｘステージ速度と移動
時間の積の分だけ、移動終了位置に誤差が現れるが、移
動開始直前までリニアモータによって静止状態を維持し
ているので、移動開始時のステージ速度は殆ど零に近く
なり、移動終了時の位置誤差も殆ど零である。
時間の積の分だけ、移動終了位置に誤差が現れるが、移
動開始直前までリニアモータによって静止状態を維持し
ているので、移動開始時のステージ速度は殆ど零に近く
なり、移動終了時の位置誤差も殆ど零である。
【０１７７】なお、以上はｘ方向の制御についての説明
であるが、ｙ方向の制御も同様に行なう。
であるが、ｙ方向の制御も同様に行なう。
【０１７８】図５３は本実施例の変形例の制御系を示す
構成図である。これは下式に基づいてばねのたわみ量を
制御するセミクローズ制御系である。
構成図である。これは下式に基づいてばねのたわみ量を
制御するセミクローズ制御系である。
【０１７９】
【外４】
【０１８０】まず、前記と同様にステージに対する微分
可能な加速度指令（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）を生成する。する
と上式によりばねに対するたわみ指令パターン（ｘ2−
ｘ1）が求まる。先に説明したように、本実施例のステ
ージ装置は、ばねの変位量を検出するセンサ（歪ゲージ
やギャップセンサ）が設けられており、常にばねのたわ
み量が計測できる。
可能な加速度指令（ｄ2ｘ1／ｄｔ 2 ）を生成する。する
と上式によりばねに対するたわみ指令パターン（ｘ2−
ｘ1）が求まる。先に説明したように、本実施例のステ
ージ装置は、ばねの変位量を検出するセンサ（歪ゲージ
やギャップセンサ）が設けられており、常にばねのたわ
み量が計測できる。
【０１８１】ここで、たわみ指令パターンと、各時刻に
おいてセンサにより計測される実際のたわみ量との差を
取り、これを例えばＰＬＬのような制御系で演算してモ
ータを駆動する。
おいてセンサにより計測される実際のたわみ量との差を
取り、これを例えばＰＬＬのような制御系で演算してモ
ータを駆動する。
【０１８２】なお、図５１、図５３に示された微分可能
な関数パターンは、例えば指数関数や三角関数あるいは
べき級数などで構成されたものである。この関数パター
ンはコントローラ内部のメモリに予め記憶されている
か、外部のコントローラから随時入力される。
な関数パターンは、例えば指数関数や三角関数あるいは
べき級数などで構成されたものである。この関数パター
ンはコントローラ内部のメモリに予め記憶されている
か、外部のコントローラから随時入力される。
【０１８３】＜実施例９＞次に第９実施例を説明する。
ステージ装置全体の構成は先の第３実施例（図１４乃至
図１８）と同様であるため装置構成の説明は省略する。
ステージ装置全体の構成は先の第３実施例（図１４乃至
図１８）と同様であるため装置構成の説明は省略する。
【０１８４】図５４、図５５は図１４におけるエアシリ
ンダが縦型（Ｙ方向）、横型（Ｘ方向）の各々の場合の
エアシリンダの駆動系を示したものである。図５４、図
５５において体積Ａに対して体積Ｂは非常に小さいもの
とみなすことができるので体積Ｂは無視できるものとす
る。
ンダが縦型（Ｙ方向）、横型（Ｘ方向）の各々の場合の
エアシリンダの駆動系を示したものである。図５４、図
５５において体積Ａに対して体積Ｂは非常に小さいもの
とみなすことができるので体積Ｂは無視できるものとす
る。
【０１８５】ここではまず、エアシリンダの駆動原理に
ついて説明する。図５６はエアシリンダの駆動原理を説
明するモデル図である。なお、図５６では縦型のエアシ
リンダの例であるが横型のエアシリンダであっても同様
の原理が働く。ただし横型の場合、重力項ｇ は関係な
いので無視できる。同図においてエアシリンダ内の空気
の流量Ｑ（ｔ）は以下のように与えられる。
ついて説明する。図５６はエアシリンダの駆動原理を説
明するモデル図である。なお、図５６では縦型のエアシ
リンダの例であるが横型のエアシリンダであっても同様
の原理が働く。ただし横型の場合、重力項ｇ は関係な
いので無視できる。同図においてエアシリンダ内の空気
の流量Ｑ（ｔ）は以下のように与えられる。
【０１８６】 Ｑ（ｔ） ＝ （ＭＹ（ｔ）Ｙ（ｔ） ＋ ＭＹ（ｔ）Ｙ（ｔ） ＋ ＭｇＹ （ｔ） ＋ ＭＹ（ｔ）Ｙ（０） ＋ ＰＡＹ（ｔ））／ＲＴ （縦型） Ｑ（ｔ） ＝ （ＭＹ（ｔ）Ｙ（ｔ） ＋ ＭＹ（ｔ）Ｙ（ｔ） ＋ ＭＹ（ ｔ）Ｙ（０） ＋ＰＡＹ（ｔ））／ＲＴ （横型）
【０１８７】上式よりエアシリンダの位置変化曲線は３
回連続微分可能であり、エアシリンダの初期位置（即
ち、エアシリンダの現在位置）が常時計測されていれ
ば、エアシリンダへ送る流量パターンを求めることがで
きる。更に流量を常時計測することによって流量パター
ンに沿ってエアシリンダの制御を行なうことができ、エ
アシリンダを目標位置まで正確に駆動させることができ
る。
回連続微分可能であり、エアシリンダの初期位置（即
ち、エアシリンダの現在位置）が常時計測されていれ
ば、エアシリンダへ送る流量パターンを求めることがで
きる。更に流量を常時計測することによって流量パター
ンに沿ってエアシリンダの制御を行なうことができ、エ
アシリンダを目標位置まで正確に駆動させることができ
る。
【０１８８】図５７はエアシリンダの駆動を制御するた
めの制御系のブロック図を示している。又、図５８はエ
アシリンダの３回連続微分可能な位置変化曲線の例を示
したものである。図５８に示すように、エアシリンダの
停止時点におけるエアシリンダの速度Ｙ（ｔ）、加速度
Ｙ（ｔ）、加速度の変化量Ｙ（ｔ）が各々零になるよう
にすれば、エアシリンダの駆動による残留振動を抑える
事ができる。
めの制御系のブロック図を示している。又、図５８はエ
アシリンダの３回連続微分可能な位置変化曲線の例を示
したものである。図５８に示すように、エアシリンダの
停止時点におけるエアシリンダの速度Ｙ（ｔ）、加速度
Ｙ（ｔ）、加速度の変化量Ｙ（ｔ）が各々零になるよう
にすれば、エアシリンダの駆動による残留振動を抑える
事ができる。
【０１８９】図５９は図５８のようなエアシリンダの３
回連続微分可能な位置変化曲線に対してエアシリンダの
初期位置が様々に変化した場合の空気の流量曲線を求め
たものである。又、図６０及び図６１は図５９の流量曲
線が正のときと負のときに分けたグラフである。即ち、
図６０及び図６１の二つのグラフを重ね合わせると図５
９のグラフとなる。
回連続微分可能な位置変化曲線に対してエアシリンダの
初期位置が様々に変化した場合の空気の流量曲線を求め
たものである。又、図６０及び図６１は図５９の流量曲
線が正のときと負のときに分けたグラフである。即ち、
図６０及び図６１の二つのグラフを重ね合わせると図５
９のグラフとなる。
【０１９０】次に上記のエアシリンダの駆動原理に従
い、図５４、図５５におけるエアシリンダの駆動方法を
説明する。まず、図５４、図５５のエアシリンダの駆動
方法の両者に共通している事として、エアシリンダの現
在値は常時計測され、かつ駆動の目標位置でエアシリン
ダの速度、加速度、加速度の１回微分がそれぞれ零にな
るような３回連続微分可能な位置変化曲線が与えられる
と、初期位置を考慮してエアシリンダへ送る空気の流量
曲線の計算を行なう。そしてこれに応じて流量曲線に沿
った流量の空気をシリンダ内へ送る制御を施すことで、
エアシリンダを目標位置まで駆動させる事ができる。こ
の時、エアシリンダへ送られる流量は常時流量センサに
よって計測されている。
い、図５４、図５５におけるエアシリンダの駆動方法を
説明する。まず、図５４、図５５のエアシリンダの駆動
方法の両者に共通している事として、エアシリンダの現
在値は常時計測され、かつ駆動の目標位置でエアシリン
ダの速度、加速度、加速度の１回微分がそれぞれ零にな
るような３回連続微分可能な位置変化曲線が与えられる
と、初期位置を考慮してエアシリンダへ送る空気の流量
曲線の計算を行なう。そしてこれに応じて流量曲線に沿
った流量の空気をシリンダ内へ送る制御を施すことで、
エアシリンダを目標位置まで駆動させる事ができる。こ
の時、エアシリンダへ送られる流量は常時流量センサに
よって計測されている。
【０１９１】まず、与えられた流量曲線（図５９参照）
に沿ってエアシリンダが駆動をさせるためのバルブ１と
２の開閉のタイミングについて説明すると、流量曲線図
を示して（図６０参照）はバルブ１を開き、正の流量曲
線にあったバルブ１の制御を行なう。この際バルブ２は
閉じている。又、流量曲線が負のとき（図６１参照）は
バルブ２を開き、負の流量曲線に沿ったバルブ２の制御
を行ない、ポンプによって空気を排出する。この際バル
ブ１は閉じている。こうしてバルブの開閉と制御を施す
ことでエアシリンダの駆動を目標値に近付けることがで
きる。そして停止させるときはバルブ１と２は共に閉じ
る。
に沿ってエアシリンダが駆動をさせるためのバルブ１と
２の開閉のタイミングについて説明すると、流量曲線図
を示して（図６０参照）はバルブ１を開き、正の流量曲
線にあったバルブ１の制御を行なう。この際バルブ２は
閉じている。又、流量曲線が負のとき（図６１参照）は
バルブ２を開き、負の流量曲線に沿ったバルブ２の制御
を行ない、ポンプによって空気を排出する。この際バル
ブ１は閉じている。こうしてバルブの開閉と制御を施す
ことでエアシリンダの駆動を目標値に近付けることがで
きる。そして停止させるときはバルブ１と２は共に閉じ
る。
【０１９２】以上の本実施例によれば、エアシリンダが
停止した際、エアシリンダの運動エネルギは無い状態に
なり、又、リニアモータは停止しているか非常に小さな
値に制限されていた推力が作用するのみであるため、移
動ステージに対して殆ど残留振動を生じない。よって高
速で且つ発熱の少ないステージ装置を提供できる。
停止した際、エアシリンダの運動エネルギは無い状態に
なり、又、リニアモータは停止しているか非常に小さな
値に制限されていた推力が作用するのみであるため、移
動ステージに対して殆ど残留振動を生じない。よって高
速で且つ発熱の少ないステージ装置を提供できる。
【０１９３】＜実施例１０＞次に本発明の第１０実施例
について説明する。本実施例は第２の駆動手段とステー
ジとを隙間を有する隙間継手で接続したことを特徴とす
る。図６２は本実施例のステージ装置の全体構成図、図
６３はＹ方向の第２の駆動手段の構造図、図６４はＸ方
向の第２の駆動手段の構造図である。
について説明する。本実施例は第２の駆動手段とステー
ジとを隙間を有する隙間継手で接続したことを特徴とす
る。図６２は本実施例のステージ装置の全体構成図、図
６３はＹ方向の第２の駆動手段の構造図、図６４はＸ方
向の第２の駆動手段の構造図である。
【０１９４】図６２において、定盤面が縦方向（重力方
向）に配置されたステージ定盤５００１の上にロの字形
状のＹステージ５００１が滑動自在に取り付けられてい
る。ステージ定盤５０００とＹステージ５００１とはＹ
静圧軸受け加圧系５００２とＹ静圧パッド５００３から
構成されるリニアエアベアリングによりガイドされる。
又、縦置された定盤５０００からステージ５００１が剥
れ落ちないようにＹ予圧磁石５００９が設けられ、Ｙス
テージ５００１を定盤５０００に保持している。又、Ｙ
ステージ５００１にはイコライズ機構５００４を介して
Ｙステージ５００１の重力成分をキャンセルするための
定張力ばね５００５が取り付けられ、定張力ばね５００
５の他端はステージ定盤上５０００に回転自在に取り付
けられた定張力ばねドラム５００６に接続される。これ
によってＹステージ５００１はＹ方向の任意の位置で重
力の影響を受けず静止できるようになっている。
向）に配置されたステージ定盤５００１の上にロの字形
状のＹステージ５００１が滑動自在に取り付けられてい
る。ステージ定盤５０００とＹステージ５００１とはＹ
静圧軸受け加圧系５００２とＹ静圧パッド５００３から
構成されるリニアエアベアリングによりガイドされる。
又、縦置された定盤５０００からステージ５００１が剥
れ落ちないようにＹ予圧磁石５００９が設けられ、Ｙス
テージ５００１を定盤５０００に保持している。又、Ｙ
ステージ５００１にはイコライズ機構５００４を介して
Ｙステージ５００１の重力成分をキャンセルするための
定張力ばね５００５が取り付けられ、定張力ばね５００
５の他端はステージ定盤上５０００に回転自在に取り付
けられた定張力ばねドラム５００６に接続される。これ
によってＹステージ５００１はＹ方向の任意の位置で重
力の影響を受けず静止できるようになっている。
【０１９５】ステージ定盤５０００にはＹステージ５０
０１をＹ方向に動かすための第２の駆動手段である２組
のＹ電動シリンダ５００７が固定される。図６３はＹ電
動シリンダの構造を示す。駆動源であるＹモータ５１０
０にはエンコーダ５１０１が取り付けられ、ギヤ５１０
２を介して回転するＹ駆動ねじ５１０３によってＹロッ
ド５１０５をＹ方向に駆動する。これら部材はケーシン
グ５１０６の中に納められＹ電動シリンダ５００７を構
成している。Ｙロッド５１０５の先端にはアクチュエー
タ側ブロック５１０７が、又、Ｙステージ５００１には
ステージ側ブロック５１０８が設けられ、ステージ側ブ
ロック５１０８がアクチュエータ側ブロック５１０７を
被っている。ここでアクチュエータ側ブロック５１０７
のＹ方向の厚みは、ステージ側ブロック５１０８のＹ方
向のスペースより若干小さい寸法に設定され、隙間継手
を構成している。この隙間継手によってＹ電動シリンダ
５００７は若干の隙間を有してＹステージ５００１に接
続される。
０１をＹ方向に動かすための第２の駆動手段である２組
のＹ電動シリンダ５００７が固定される。図６３はＹ電
動シリンダの構造を示す。駆動源であるＹモータ５１０
０にはエンコーダ５１０１が取り付けられ、ギヤ５１０
２を介して回転するＹ駆動ねじ５１０３によってＹロッ
ド５１０５をＹ方向に駆動する。これら部材はケーシン
グ５１０６の中に納められＹ電動シリンダ５００７を構
成している。Ｙロッド５１０５の先端にはアクチュエー
タ側ブロック５１０７が、又、Ｙステージ５００１には
ステージ側ブロック５１０８が設けられ、ステージ側ブ
ロック５１０８がアクチュエータ側ブロック５１０７を
被っている。ここでアクチュエータ側ブロック５１０７
のＹ方向の厚みは、ステージ側ブロック５１０８のＹ方
向のスペースより若干小さい寸法に設定され、隙間継手
を構成している。この隙間継手によってＹ電動シリンダ
５００７は若干の隙間を有してＹステージ５００１に接
続される。
【０１９６】又、Ｙ方向の第１の駆動手段として、ステ
ージ定盤５０００には２組のＹリニアモータコイル５０
２０が固定され、これと対向して２組の可動磁石がＹス
テージ５００１に固定され、Ｙリニアモータを構成して
いる。Ｙステージ５００１の内部にはＸステージ５０１
０がＹリニアモータ連結板５０３０を介して支持されて
いる。
ージ定盤５０００には２組のＹリニアモータコイル５０
２０が固定され、これと対向して２組の可動磁石がＹス
テージ５００１に固定され、Ｙリニアモータを構成して
いる。Ｙステージ５００１の内部にはＸステージ５０１
０がＹリニアモータ連結板５０３０を介して支持されて
いる。
【０１９７】Ｘ方向については、図６４に示すように、
Ｘステージ５０１０はＹステージ５００１の内部の一部
とステージ定盤５０００をガイド面としてＸ静圧軸受け
加圧系５０１１とＸ静圧パッド５０１２から構成される
リニアエアベアリングでガイドされる。又、Ｘステージ
５０１０もＹステージ５００１と同様、ステージ定盤５
０００から剥れ落ちないように、Ｘステージ５０１０に
設けられた予圧磁石５００９によりステージ定盤５００
０に保持されようになっている。
Ｘステージ５０１０はＹステージ５００１の内部の一部
とステージ定盤５０００をガイド面としてＸ静圧軸受け
加圧系５０１１とＸ静圧パッド５０１２から構成される
リニアエアベアリングでガイドされる。又、Ｘステージ
５０１０もＹステージ５００１と同様、ステージ定盤５
０００から剥れ落ちないように、Ｘステージ５０１０に
設けられた予圧磁石５００９によりステージ定盤５００
０に保持されようになっている。
【０１９８】Ｙステージ５００１にはＸステージ５０１
０をＸ方向に動かすための第２の駆動手段として、Ｘモ
ータ５０１４が取り付けられ、Ｘモータ５０１４にはカ
ップリング５０１５を介してＸねじ軸５０１６が接続さ
れる。図６４の部分拡大図に示すように、Ｘねじ軸５０
１６はアクチュエータブロック５０１８にねじ結合さ
れ、Ｘネジ軸５０１６の回転によってアクチュエータ側
ブロック５０１８をＸ方向に移動させる。アクチュエー
タ側ブロック５０１８と、Ｘステージ５０１０に固定さ
れたステージ側ブロックとは隙間を持って結合し、隙間
継手を構成している。よって、アクチュエータ側ブロッ
ク５０１８からステージ側ブロック５０１９に駆動力が
伝達され、Ｘステージ５０１９をＸ方向に駆動する。
０をＸ方向に動かすための第２の駆動手段として、Ｘモ
ータ５０１４が取り付けられ、Ｘモータ５０１４にはカ
ップリング５０１５を介してＸねじ軸５０１６が接続さ
れる。図６４の部分拡大図に示すように、Ｘねじ軸５０
１６はアクチュエータブロック５０１８にねじ結合さ
れ、Ｘネジ軸５０１６の回転によってアクチュエータ側
ブロック５０１８をＸ方向に移動させる。アクチュエー
タ側ブロック５０１８と、Ｘステージ５０１０に固定さ
れたステージ側ブロックとは隙間を持って結合し、隙間
継手を構成している。よって、アクチュエータ側ブロッ
ク５０１８からステージ側ブロック５０１９に駆動力が
伝達され、Ｘステージ５０１９をＸ方向に駆動する。
【０１９９】又、Ｙステージ５００１にはＸ方向の第１
の駆動手段であるＸリニアモータを構成するＸリニアモ
ータコイル５００８が設けらている。Ｘステージ５０１
０上にはウエハチャック５１００及びＸＹの座標をレー
ザ干渉計で測定するためのスコヤミラー５１０１が搭載
されている。
の駆動手段であるＸリニアモータを構成するＸリニアモ
ータコイル５００８が設けらている。Ｘステージ５０１
０上にはウエハチャック５１００及びＸＹの座標をレー
ザ干渉計で測定するためのスコヤミラー５１０１が搭載
されている。
【０２００】なお、図６３、図６４に示した隙間継手に
は、接触部分に衝撃を吸収するためのゴム等の薄い層を
設けると、ステージを加減速する際の衝撃力を緩和でき
る。更に隙間継手をベローズの様な柔軟なシール材でシ
ールするとゴミの発生を極力抑えることができ、より好
ましい。
は、接触部分に衝撃を吸収するためのゴム等の薄い層を
設けると、ステージを加減速する際の衝撃力を緩和でき
る。更に隙間継手をベローズの様な柔軟なシール材でシ
ールするとゴミの発生を極力抑えることができ、より好
ましい。
【０２０１】次に上記構成において、Ｘ方向の位置決め
制御の場合について説明する。なおＹ方向の制御につい
ても考え方は全く同様である。先ず第２の駆動手段であ
る回転モータ５０１４にＸステージ５０１０をステップ
するための電気エネルギを投入する。するとＸネジ軸５
０１６の回転によってアクチュエータブロック５０１８
が移動し、ステージ側ブロック５０１９に押し当てるこ
とに推力が伝わり、Ｘステージ５０１０がステップ移動
する。この際、第１の駆動手段（リニアモータ）は出力
がスイッチで切断されて全く推力を発生しないか、ある
いは非常に小さい値に推力が制限されており、発熱は無
視できる程度に抑えられる。ステップが終了に近づく
と、第１の駆動手段（リニアモータ）が位置決めの推力
を発生するように切り替える。この切替のトリガとして
は、ステージ位置、時間などが利用できる。
制御の場合について説明する。なおＹ方向の制御につい
ても考え方は全く同様である。先ず第２の駆動手段であ
る回転モータ５０１４にＸステージ５０１０をステップ
するための電気エネルギを投入する。するとＸネジ軸５
０１６の回転によってアクチュエータブロック５０１８
が移動し、ステージ側ブロック５０１９に押し当てるこ
とに推力が伝わり、Ｘステージ５０１０がステップ移動
する。この際、第１の駆動手段（リニアモータ）は出力
がスイッチで切断されて全く推力を発生しないか、ある
いは非常に小さい値に推力が制限されており、発熱は無
視できる程度に抑えられる。ステップが終了に近づく
と、第１の駆動手段（リニアモータ）が位置決めの推力
を発生するように切り替える。この切替のトリガとして
は、ステージ位置、時間などが利用できる。
【０２０２】ここで、隙間継手の隙間は該位置精度より
大きな値に設定されている。これは第１の駆動手段（リ
ニアモータ）でステージの位置決めを行ったときステー
ジが隙間継手に接触しないための必要条件である。隙間
は具体的には数μｍから数十μｍに設定するのが望まし
い。この隙間によりステージはモータ及びネジ軸とは結
合が切断され、ステージと第１の駆動手段（リニアモー
タ）のみが結合された状態になる。この状態でステージ
位置を帰還するクローズドル−プ制御によってリニアモ
ータを駆動することにより、容易に機械剛性の高い系が
実現でき、高ゲインつまり高精度でかつ安定した位置制
御が行える。このリニアモータによる位置決め時の発熱
は、モータ及びネジ軸はもともと発熱しないか冷却され
ている上にステップがほぼ終了しているため、ステップ
時よりさらに発熱は少ない。
大きな値に設定されている。これは第１の駆動手段（リ
ニアモータ）でステージの位置決めを行ったときステー
ジが隙間継手に接触しないための必要条件である。隙間
は具体的には数μｍから数十μｍに設定するのが望まし
い。この隙間によりステージはモータ及びネジ軸とは結
合が切断され、ステージと第１の駆動手段（リニアモー
タ）のみが結合された状態になる。この状態でステージ
位置を帰還するクローズドル−プ制御によってリニアモ
ータを駆動することにより、容易に機械剛性の高い系が
実現でき、高ゲインつまり高精度でかつ安定した位置制
御が行える。このリニアモータによる位置決め時の発熱
は、モータ及びネジ軸はもともと発熱しないか冷却され
ている上にステップがほぼ終了しているため、ステップ
時よりさらに発熱は少ない。
【０２０３】図６５は本実施例の制御系の具体的なブロ
ック図である。図６６（ａ）はステップ指令が入った後
の時間と位置の関係を示すタイムチャート、図６６
（ｂ）はステップ指令が入った後の時間と切替スイッチ
位置の関係を示すタイムチャート、図６６（ｃ）はステ
ップ指令が入力された後の時間とリニアモータ電流の関
係を示すタイムチャートである。
ック図である。図６６（ａ）はステップ指令が入った後
の時間と位置の関係を示すタイムチャート、図６６
（ｂ）はステップ指令が入った後の時間と切替スイッチ
位置の関係を示すタイムチャート、図６６（ｃ）はステ
ップ指令が入力された後の時間とリニアモータ電流の関
係を示すタイムチャートである。
【０２０４】今、ステップ指令が入力されたとする。こ
の時点では図６５において切替スイッチ１は開いてい
る。このため、駆動電流は図６５の下半分に示す第２の
駆動手段のモータにのみ与えられる。この結果、モータ
の発生する推力は隙間継手を介してステージに伝わり、
ステージを加速し、図６６（ａ）に示す曲線のような位
置と時間の関係で目標位置に向かってステップする。こ
の時点、すなわち図６６（ｂ）において切替スイッチ１
がリニアモータをオフ側の時は、図６６（ｃ）に示すよ
うにリニアモータには電流は流れない。
の時点では図６５において切替スイッチ１は開いてい
る。このため、駆動電流は図６５の下半分に示す第２の
駆動手段のモータにのみ与えられる。この結果、モータ
の発生する推力は隙間継手を介してステージに伝わり、
ステージを加速し、図６６（ａ）に示す曲線のような位
置と時間の関係で目標位置に向かってステップする。こ
の時点、すなわち図６６（ｂ）において切替スイッチ１
がリニアモータをオフ側の時は、図６６（ｃ）に示すよ
うにリニアモータには電流は流れない。
【０２０５】図６６（ａ）に示す曲線に従ってステージ
が目標位置に近付き、目標位置との差が予め設定した許
容値よりも小さくなったら、図６６（ｂ）に示すように
切替スイッチ１はリニアモータをオンする側に閉じる。
すると図６６（ｃ）に示すようにリニアモータに電流が
流れ、リニアモータはステージに推力を伝えるようにな
り、一方、第２の駆動手段はステージとは別系統のサー
ボ機構により位置決めされており、ステージとは接触し
ておらず推力は伝えなくなる。つまりステージはリニア
モータのみにより位置制御される。この時、リニアモー
タはステージを振動させようとする外乱を吸収する力の
みを出せばよい。この外乱を吸収する力は、図６６
（ｃ）における振動波形の振幅に相当する。
が目標位置に近付き、目標位置との差が予め設定した許
容値よりも小さくなったら、図６６（ｂ）に示すように
切替スイッチ１はリニアモータをオンする側に閉じる。
すると図６６（ｃ）に示すようにリニアモータに電流が
流れ、リニアモータはステージに推力を伝えるようにな
り、一方、第２の駆動手段はステージとは別系統のサー
ボ機構により位置決めされており、ステージとは接触し
ておらず推力は伝えなくなる。つまりステージはリニア
モータのみにより位置制御される。この時、リニアモー
タはステージを振動させようとする外乱を吸収する力の
みを出せばよい。この外乱を吸収する力は、図６６
（ｃ）における振動波形の振幅に相当する。
【０２０６】図６７、図６８は上記実施例の変形例を示
すブロック図及びタイムチャートであり、上記において
リニアモータの駆動開始タイミングをステップ開始から
の時間に変えただけで、他は上記実施例と同様である。
すブロック図及びタイムチャートであり、上記において
リニアモータの駆動開始タイミングをステップ開始から
の時間に変えただけで、他は上記実施例と同様である。
【０２０７】又、図６９、図７０は更に別の変形例を示
すブロック図及びタイムチャートであり、リニアモータ
を常に電流制限しながら駆動させ、特に駆動開始スイッ
チを設けない点以外は上記実施例と同様である。
すブロック図及びタイムチャートであり、リニアモータ
を常に電流制限しながら駆動させ、特に駆動開始スイッ
チを設けない点以外は上記実施例と同様である。
【０２０８】なお、以上は位置決め制御の例を説明した
が、速度制御の場合は以下のようにする好ましい。例え
ばＸステージをＸ方向に一定速度で移動させる場合、ま
ずアクチュエータ側ブロックをステージ側ブロックに押
し当てて目標速度になるまで加速する。目標速度になっ
たかどうかは不図示の速度検出手段で常時速度を監視す
る。そして目標速度に達したらアクチュエータ側ブロッ
クとステージ側ブロックが接しないようにモータを制御
する。両ブロック同士が接触しないようにするには、両
ブロック間に近接センサを設けてこの出力を帰還してモ
ータを制御しても良いし、あるいはステージ位置とモー
タ位置を別個に検出して両者の値を帰還してモータを制
御しても良い。この状態ではステージには空気抵抗及び
リニアエアベアリングからの煎断抵抗だけである。これ
らを吸収する力のみをリニアモータで出すようにすれば
良い。この方式の利点は、一定速度で制御中にはモータ
は両ブロックを接触させないように制御するだけでよい
事である。これは隙間に多少の誤差があってもよいとい
うこと、つまり制御にそれほど高精度が要求されない事
を意味する。従来のようにモータとステージが常に結合
されている系ではモータの速度とステージの速度が完全
に一致し、モータ自身がよほど高精度に制御されてない
とモータがステージに対して擾乱として作用する可能性
もあるが、本実施例のように定速時にモータとステージ
の結合が切れる系ではステージに対する擾乱は極めて少
なくなる。
が、速度制御の場合は以下のようにする好ましい。例え
ばＸステージをＸ方向に一定速度で移動させる場合、ま
ずアクチュエータ側ブロックをステージ側ブロックに押
し当てて目標速度になるまで加速する。目標速度になっ
たかどうかは不図示の速度検出手段で常時速度を監視す
る。そして目標速度に達したらアクチュエータ側ブロッ
クとステージ側ブロックが接しないようにモータを制御
する。両ブロック同士が接触しないようにするには、両
ブロック間に近接センサを設けてこの出力を帰還してモ
ータを制御しても良いし、あるいはステージ位置とモー
タ位置を別個に検出して両者の値を帰還してモータを制
御しても良い。この状態ではステージには空気抵抗及び
リニアエアベアリングからの煎断抵抗だけである。これ
らを吸収する力のみをリニアモータで出すようにすれば
良い。この方式の利点は、一定速度で制御中にはモータ
は両ブロックを接触させないように制御するだけでよい
事である。これは隙間に多少の誤差があってもよいとい
うこと、つまり制御にそれほど高精度が要求されない事
を意味する。従来のようにモータとステージが常に結合
されている系ではモータの速度とステージの速度が完全
に一致し、モータ自身がよほど高精度に制御されてない
とモータがステージに対して擾乱として作用する可能性
もあるが、本実施例のように定速時にモータとステージ
の結合が切れる系ではステージに対する擾乱は極めて少
なくなる。
【０２０９】＜実施例１１＞図７１は先の実施例１０
（図６２、図６３）を変形した第１１実施例の構成図で
ある。先の実施例１０ではＹステージの重力キャンセル
手段として定張力ばね系を用いたが、本実施例ではＹ電
動シリンダロッドの先端とＹステージとをコイルばね５
２００で結合して、重力をキャンセルするものである。
その他の構成は実施例１０と同一である。
（図６２、図６３）を変形した第１１実施例の構成図で
ある。先の実施例１０ではＹステージの重力キャンセル
手段として定張力ばね系を用いたが、本実施例ではＹ電
動シリンダロッドの先端とＹステージとをコイルばね５
２００で結合して、重力をキャンセルするものである。
その他の構成は実施例１０と同一である。
【０２１０】図７２はコイルばね５２００の詳細図であ
る。コイルばね５２００の一端はＹロッド５１０５の先
に、もう一端はＹステージ５００１に接続されている。
そしてこのコイルばね５２００とは並列に、Ｙロッド５
１０５とＹステージ５００１とは隙間継手によって接続
されている。Ｙ電動シリンダのモータ５１００はＹステ
ージ５００１の重力に相当するトルクを発生し続けるこ
とにより、Ｙステージ５００１の重力をキャンセルする
ようになっている。
る。コイルばね５２００の一端はＹロッド５１０５の先
に、もう一端はＹステージ５００１に接続されている。
そしてこのコイルばね５２００とは並列に、Ｙロッド５
１０５とＹステージ５００１とは隙間継手によって接続
されている。Ｙ電動シリンダのモータ５１００はＹステ
ージ５００１の重力に相当するトルクを発生し続けるこ
とにより、Ｙステージ５００１の重力をキャンセルする
ようになっている。
【０２１１】＜実施例１２＞図７３は第１２実施例のス
テージ装置の全体構成図、図７４はＸ方向の第２の駆動
手段の拡大図である。ベース６０００上にＸステージ６
００１がリニアエアベアリングを介してＸ方向に滑動自
在に搭載され、Ｘステージ６００１の内部にはＹステー
ジ６００２がリニアエアベアリングを介してＹ方向に滑
動自在に設けられている。Ｘステージ６００１の駆動系
は２系統あり、リニアモータ（固定子６００８、６００
９、及び可動子６０１０）から構成される第１の駆動手
段と、ベース６０００上に固定されたＸモータ６００
３、キャプスタン６００４、駆動ブロック６００５、ガ
イドバー６００６から構成される第２の駆動手段であ
る。駆動ブロック６００５はベース６０００上のバーブ
ロック６００７に固定されたガイドバー６００６に沿っ
てＸ方向に滑動自在であり、Ｘモータ６００３の回転駆
動力がキャプスタン６００４を介して伝達され、駆動ブ
ロック６００５はＸ方向に駆動される。
テージ装置の全体構成図、図７４はＸ方向の第２の駆動
手段の拡大図である。ベース６０００上にＸステージ６
００１がリニアエアベアリングを介してＸ方向に滑動自
在に搭載され、Ｘステージ６００１の内部にはＹステー
ジ６００２がリニアエアベアリングを介してＹ方向に滑
動自在に設けられている。Ｘステージ６００１の駆動系
は２系統あり、リニアモータ（固定子６００８、６００
９、及び可動子６０１０）から構成される第１の駆動手
段と、ベース６０００上に固定されたＸモータ６００
３、キャプスタン６００４、駆動ブロック６００５、ガ
イドバー６００６から構成される第２の駆動手段であ
る。駆動ブロック６００５はベース６０００上のバーブ
ロック６００７に固定されたガイドバー６００６に沿っ
てＸ方向に滑動自在であり、Ｘモータ６００３の回転駆
動力がキャプスタン６００４を介して伝達され、駆動ブ
ロック６００５はＸ方向に駆動される。
【０２１２】図７４に示すように、駆動ブロック６００
５はＸステージ６００１の両端をはさみ込むような形状
を有し、ここには若干の隙間が形成されている。結果と
して、Ｘ方向に駆動される駆動ブロック６００５は若干
の隙間を有してＸステージ６００１に接続される。
５はＸステージ６００１の両端をはさみ込むような形状
を有し、ここには若干の隙間が形成されている。結果と
して、Ｘ方向に駆動される駆動ブロック６００５は若干
の隙間を有してＸステージ６００１に接続される。
【０２１３】又、Ｙステージ６００２の駆動系について
は、第１の駆動手段としてＹリニアモータ（固定子６０
１２、可動子６０１３）、第２の駆動手段としてＹエア
シリンダ６０１１の２系統である。Ｙエアシリンダ６０
１１の構造は先に説明した図２８、２９のものと同様で
ある。
は、第１の駆動手段としてＹリニアモータ（固定子６０
１２、可動子６０１３）、第２の駆動手段としてＹエア
シリンダ６０１１の２系統である。Ｙエアシリンダ６０
１１の構造は先に説明した図２８、２９のものと同様で
ある。
【０２１４】以上の構成を有する本実施例のステージ装
置の制御方法については、Ｘ方向については図６２乃至
図６４の場合と同様、Ｙ方向については図２８及び図２
９の場合と同様である。
置の制御方法については、Ｘ方向については図６２乃至
図６４の場合と同様、Ｙ方向については図２８及び図２
９の場合と同様である。
【０２１５】＜実施例１３＞次に上記説明したステージ
装置を含む露光装置を利用した、半導体デバイスの製造
方法の実施例を説明する。図７５は半導体デバイス（Ｉ
ＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄
膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示
す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路
設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した
回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステ
ップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウ
エハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工
程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リ
ソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成す
る。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ス
テップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作
製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイ
スが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
装置を含む露光装置を利用した、半導体デバイスの製造
方法の実施例を説明する。図７５は半導体デバイス（Ｉ
ＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄
膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示
す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路
設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した
回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステ
ップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウ
エハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工
程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リ
ソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成す
る。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ス
テップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作
製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイ
スが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【０２１６】図７６は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方
法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導
体デバイスを製造することができる。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方
法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導
体デバイスを製造することができる。
【０２１７】
【発明の効果】以上の本発明によれば、高速・高精度で
低発熱のステージ装置を提供することができる。又、本
発明を半導体等のデバイス製造に応用すれば、高集積度
デバイスを提供することができる。
低発熱のステージ装置を提供することができる。又、本
発明を半導体等のデバイス製造に応用すれば、高集積度
デバイスを提供することができる。
【図１】本発明の移動ステージ装置の第１実施例を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】図２（ａ）は図１に示す移動ステージ装置の正
面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。
面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。
【図３】図１に示す移動ステージ装置の動作原理を説明
するための図である。
するための図である。
【図４】図１に示す移動ステージ装置における駆動制御
部の第１の例を示すブロック図である。
部の第１の例を示すブロック図である。
【図５】図４に示す駆動制御部の動作の一例を示すタイ
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
【図６】図１に示す移動ステージ装置における駆動制御
部の第２の例を示すブロック図である。
部の第２の例を示すブロック図である。
【図７】図６に示す駆動制御部の動作の一例を示すタイ
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
【図８】図１に示す移動ステージ装置における駆動制御
部の第３の例を示すブロック図である。
部の第３の例を示すブロック図である。
【図９】図８に示す駆動制御部の動作の一例を示すタイ
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印加電
流を示す図である。
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印加電
流を示す図である。
【図１０】図１に示す移動ステージ装置の変形例を示す
断面図である。
断面図である。
【図１１】本発明の移動ステージ装置の第１実施例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図１２】図１１に示す移動ステージ装置の正面図であ
る。
る。
【図１３】図１１に示す移動ステージ装置における第１
の駆動手段を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は
断面図である。
の駆動手段を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は
断面図である。
【図１４】本発明の移動ステージ装置の第３実施例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図１５】図１４に示す移動ステージ装置の正面図であ
る。
る。
【図１６】図１４に示す移動ステージ装置におけるＸ方
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
【図１７】図１４に示す移動ステージ装置におけるＹ方
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
【図１８】図１４に示す移動ステージ装置の動作原理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図１９】図１４に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第１の例を示すブロック図である。
制御部の第１の例を示すブロック図である。
【図２０】図１９に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
【図２１】図１４に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第２の例を示すブロック図である。
制御部の第２の例を示すブロック図である。
【図２２】図２１に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
【図２３】図１４に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第３の例を示すブロック図である。
制御部の第３の例を示すブロック図である。
【図２４】図２３に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図である。
【図２５】図１４に示す移動ステージ装置の変形例に関
る動作原理を説明するための図である。
る動作原理を説明するための図である。
【図２６】図２５に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の一例を示すブロック図である。
制御部の一例を示すブロック図である。
【図２７】図２６に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はエアシリンダ内の圧力変化を示
す図、（ｅ）は切替バルブの切替えタイミングを示す
図、（ｆ）はエアシリンダの剛性変化を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はエアシリンダ内の圧力変化を示
す図、（ｅ）は切替バルブの切替えタイミングを示す
図、（ｆ）はエアシリンダの剛性変化を示す図である。
【図２８】本発明の移動ステージ装置の第４実施例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２９】図２８に示す移動ステージ装置の正面図であ
る。
る。
【図３０】本発明の移動ステージ装置の第５実施例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図３１】（ａ）は図３０に示す移動ステージ装置の正
面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図３２】図３０に示す移動ステージ装置の動作原理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図３３】図３０に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第１の例を示すブロック図である。
制御部の第１の例を示すブロック図である。
【図３４】図３３に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は第１の切替スイッチ
の切替えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへ
の印加電流を示す図、（ｄ）は第２の切替スイッチの切
替えタイミングを示す図、（ｅ）はリニアモータに対す
る抵抗力の変化を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は第１の切替スイッチ
の切替えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへ
の印加電流を示す図、（ｄ）は第２の切替スイッチの切
替えタイミングを示す図、（ｅ）はリニアモータに対す
る抵抗力の変化を示す図である。
【図３５】図３０に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第２の例を示すブロック図である。
制御部の第２の例を示すブロック図である。
【図３６】図３０に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第３の例を示すブロック図である。
制御部の第３の例を示すブロック図である。
【図３７】図３６に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）は切替スイッチの切替えタイミ
ングを示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の
変化を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）は切替スイッチの切替えタイミ
ングを示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の
変化を示す図である。
【図３８】本発明の移動ステージ装置の第６実施例を示
す正面図である。
す正面図である。
【図３９】図３８に示す移動ステージ装置のＡ−Ａ線断
面図である。
面図である。
【図４０】図３８に示す移動ステージ装置のＢ−Ｂ線断
面図である。
面図である。
【図４１】図３８に示す移動ステージ装置の動作原理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図４２】図３８に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第１の例を示すブロック図である。
制御部の第１の例を示すブロック図である。
【図４３】図４２に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
【図４４】図３８に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第２の例を示すブロック図である。
制御部の第２の例を示すブロック図である。
【図４５】図４４に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
【図４６】図３８に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第３の例を示すブロック図である。
制御部の第３の例を示すブロック図である。
【図４７】図４６に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）はクラッチの切替えタイミング
を示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の変化
を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）はクラッチの切替えタイミング
を示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の変化
を示す図である。
【図４８】第７実施例の制御系のブロック図である。
【図４９】制御系の変形例のブロック図である。
【図５０】第８実施例の概念をまとめた図である。
【図５１】第８実施例の制御系のブロック図である。
【図５２】ステージの移動曲線を示す図である。
【図５３】図５１の制御系の変形例のブロック図であ
る。
る。
【図５４】縦型のエアシリンダの駆動系を示す図であ
る。
る。
【図５５】横型のエアシリンダの駆動系を示す図であ
る。
る。
【図５６】エアシリンダの駆動原理を説明するための図
である。
である。
【図５７】エアシリンダを駆動するための制御系のブロ
ック図である。
ック図である。
【図５８】エアシリンダの駆動制御を説明するためのグ
ラフ図である。
ラフ図である。
【図５９】エアシリンダの駆動制御を説明するためのグ
ラフ図である。
ラフ図である。
【図６０】エアシリンダの駆動制御を説明するためのグ
ラフ図である。
ラフ図である。
【図６１】エアシリンダの駆動制御を説明するためのグ
ラフ図である。
ラフ図である。
【図６２】第１０実施例の全体構成図である。
【図６３】第１０実施例の部分詳細図である。
【図６４】第１０実施例の部分詳細図である。
【図６５】第１０実施例の制御系のブロック図である。
【図６６】図６５の制御系を説明するためのタイムチャ
ート図である。
ート図である。
【図６７】制御系の変形例のブロック図である。
【図６８】図６７の制御系を説明するためのタイムチャ
ート図である。
ート図である。
【図６９】制御系の更なる変形例のブロック図である。
【図７０】図６９の制御系を説明するためのタイムチャ
ート図である。
ート図である。
【図７１】第１１実施例の全体構成図である。
【図７２】第１１実施例の部分詳細図である。
【図７３】第１２実施例の全体構成図である。
【図７４】第１２実施例の部分詳細図である。
【図７５】半導体デバイスの製造フローを示す図であ
る。
る。
【図７６】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図であ
る。
る。
１００，１１００，１４００，２８００，３０００ マ
スク １０１，１１０１，１４０１，２８０１，３００１，３
８０１ ウェハ １０２，１４０２，２８０２，３００２，３８０６ ス
テージ定盤 １０３，１１０３，１４０３，２８０３，３００３，３
８１８ ウェハチャック １０４，１４０４，３００４，３８０２ Ｘステージ １０５，１４０５，３００５，３８０３ Ｙステージ １０６，１４０６，３０１０ Ｘリニアモータ １０７，１４０７，３０１５，３８１９ Ｙリニアモー
タ １０８，３０２１，３８０４ Ｘモータ １０９，３００７，３８０５ Ｙモータ １１０，３８１２ Ｘねじ軸 １１１ 軸受ユニット １１２，３８２３ カップリングユニット １１３，３８２７ 転動軸受 １１４，３８２０ Ｘナット １１５ Ｘ板ばね １１６，１４０９，３０１１ Ｘリニアモータ連結板 １１７，１４０８，３０１２，３８０７ Ｘリニアモー
タコイル １１８，１１１６，１４２３，２８１６，３０２８，３
８２４ Ｘ静圧軸受加圧系 １１９，１１１８，１４２２，２８１５，３０２７，３
８２５ Ｙ予圧磁石 １２０，１４２１，３０２６，３８２６ Ｘ静圧パッド １２１，３８０９ Ｙねじ軸 １２２，１４１０，３０１４ Ｙリニアモータコイル １２３，１４１１，３０１６，３８１１ Ｙリニアモー
タ連結板 １２４，３８１０ Ｙリニアモータコイル １２５，１４２４，３０２３，３８１５，３８３０ Ｙ
静圧パッド １２６，１４２６，２８１８，３０２４，３８１６，３
８２９ Ｙ静圧軸受加圧系 １２７，１４２５，２８１７，３０２５，３８２８ Ｙ
予圧磁石 １２８，１１１３，１４１８，２８１２，３０１８ Ｘ
軸レーザ干渉計ユニット １２９，１１１４，１４１９，２８１３，３０１９ Ｙ
軸レーザ干渉計ユニット １３０，１１１２，１４１７，２８１１，３０１７，３
８１４ スコヤミラー １３１，３８２２，３８３１，４１０３ クラッチ １３２，３８２１，３８３２ 駆動プレート ３００，１８０５，３２００，４１００ 移動ステージ ３０１，１８０７，３２０１，４１０１ 第１の駆動手
段 ３０２，１８０６，３２０２，４１０２ 第２の駆動手
段 ３０３ ばね部材 ４０１，４０４，６０１，６０４，８０１，８０４，１
９０１，１９０５，２１０１，２１０５，２３０１，２
３０４，２６０１，２６０５，３３０１，３３０５，３
５０１，３５０５，３６０１，３６０４，４２０１，４
４０１，４６０１ フィルタ ４０２，４０５，６０２，６０５，８０２，８０５，１
９０２，２１０２，２３０２，２６０２，３３０２，３
３０９，３５０２，３５０９，３６０２，３６０８，４
２０２，４２０５，４４０２，４４０５，４６０２，４
６０４ 電流増幅器 ４０３，６０３，１９０３，２１０３，２６０３，３３
０３，３３０８，３５０３，３５０８，４２０３，４４
０３ 切替スイッチ ４０６，６０６，１９０４，２１０４，３３０４，３３
０７，３５０４，３５０７，３６０６，４２０４，４２
０６，４４０４，４４０６，４６０５ 比較器 ８０３，２３０３，３６０３，４６０３ 電流制限器 １１０４，２８０４ ＺＹステージ １１０５ シリンダ固定盤 １１０６ Ｘ電動シリンダ １１０７ Ｘ電動シリンダロッド １１０８ Ｘ平行板ばね １１０９ Ｙ電動シリンダ １１１０ Ｙ電動シリンダロッド １１１１，２８０５ Ｘアシストベース １１１５ Ｙ平行板ばね １１１７，１４１２，２８１０ Ｘ静圧軸受 １３０１ パッド １３０２ コア １３０３ コイル １３０４ ギャップセンサ １３０５ Ｘインダクションモータ １３０６，１３０７，１３０９，１３１０，１３１２，
１３１３ コイル １３０８ Ｙインダクションモータ １３１１ θインダクションモータ １４１３，２８１４ Ｘ非接触エアシリンダ １４１４，２８０７ Ｘ非接触エアシリンダロッド １４１５，２８１９ Ｙ非接触エアシリンダ １４１６ Ｙ非接触エアシリンダロッド １４２０ Ｘヨーガイド １６０１，１６１２，１７０５ 非接触エアシリンダ排
気系 １６０２，１６１１，１７０４ 非接触エアシリンダ給
気系 １６０３，１６０４，１６０９，１６１０，１７０１，
１７０３ ラビリンス １６０５ 静圧軸受加圧系 １６０６ 静圧軸受 １６０７，１６０８，１７０２ 真空排気系 １８０１，１９０６，２１０６，２３０５，２５０１，
２６０６ 真空源 １８０２，１９０７，２１０７，２３０６，２５０２，
２６０７ 圧力源 １８０３，１９０８，２１０８，２３０７，２５０３，
２５０８，２６０８，２６１１ 切替バルブ １８０４，１９０９，２１０９，２３０８，２５０４，
２６０９ 制御バルブ ２５０６ エアシリンダ ２５０７ リニアモータ ２５０９，２６１２ 定圧大容量チャンバ ２８０６ Ｙアシストベース ２８１０ Ｘ静圧軸受 ３００６ Ｙベルト ３００８ Ｙドラムユニット ３００９，３８１３ イコライズ ３０１３ Ｙヨーガイド ３０２０ Ｘベルト ３０２２ Ｘドラムユニット ３３０６，３５０６，３６０５ 定電流源 ３８０８ 定張力ばね ３８１７ 定張力ばねドラム ３８３３ Ｙナット
スク １０１，１１０１，１４０１，２８０１，３００１，３
８０１ ウェハ １０２，１４０２，２８０２，３００２，３８０６ ス
テージ定盤 １０３，１１０３，１４０３，２８０３，３００３，３
８１８ ウェハチャック １０４，１４０４，３００４，３８０２ Ｘステージ １０５，１４０５，３００５，３８０３ Ｙステージ １０６，１４０６，３０１０ Ｘリニアモータ １０７，１４０７，３０１５，３８１９ Ｙリニアモー
タ １０８，３０２１，３８０４ Ｘモータ １０９，３００７，３８０５ Ｙモータ １１０，３８１２ Ｘねじ軸 １１１ 軸受ユニット １１２，３８２３ カップリングユニット １１３，３８２７ 転動軸受 １１４，３８２０ Ｘナット １１５ Ｘ板ばね １１６，１４０９，３０１１ Ｘリニアモータ連結板 １１７，１４０８，３０１２，３８０７ Ｘリニアモー
タコイル １１８，１１１６，１４２３，２８１６，３０２８，３
８２４ Ｘ静圧軸受加圧系 １１９，１１１８，１４２２，２８１５，３０２７，３
８２５ Ｙ予圧磁石 １２０，１４２１，３０２６，３８２６ Ｘ静圧パッド １２１，３８０９ Ｙねじ軸 １２２，１４１０，３０１４ Ｙリニアモータコイル １２３，１４１１，３０１６，３８１１ Ｙリニアモー
タ連結板 １２４，３８１０ Ｙリニアモータコイル １２５，１４２４，３０２３，３８１５，３８３０ Ｙ
静圧パッド １２６，１４２６，２８１８，３０２４，３８１６，３
８２９ Ｙ静圧軸受加圧系 １２７，１４２５，２８１７，３０２５，３８２８ Ｙ
予圧磁石 １２８，１１１３，１４１８，２８１２，３０１８ Ｘ
軸レーザ干渉計ユニット １２９，１１１４，１４１９，２８１３，３０１９ Ｙ
軸レーザ干渉計ユニット １３０，１１１２，１４１７，２８１１，３０１７，３
８１４ スコヤミラー １３１，３８２２，３８３１，４１０３ クラッチ １３２，３８２１，３８３２ 駆動プレート ３００，１８０５，３２００，４１００ 移動ステージ ３０１，１８０７，３２０１，４１０１ 第１の駆動手
段 ３０２，１８０６，３２０２，４１０２ 第２の駆動手
段 ３０３ ばね部材 ４０１，４０４，６０１，６０４，８０１，８０４，１
９０１，１９０５，２１０１，２１０５，２３０１，２
３０４，２６０１，２６０５，３３０１，３３０５，３
５０１，３５０５，３６０１，３６０４，４２０１，４
４０１，４６０１ フィルタ ４０２，４０５，６０２，６０５，８０２，８０５，１
９０２，２１０２，２３０２，２６０２，３３０２，３
３０９，３５０２，３５０９，３６０２，３６０８，４
２０２，４２０５，４４０２，４４０５，４６０２，４
６０４ 電流増幅器 ４０３，６０３，１９０３，２１０３，２６０３，３３
０３，３３０８，３５０３，３５０８，４２０３，４４
０３ 切替スイッチ ４０６，６０６，１９０４，２１０４，３３０４，３３
０７，３５０４，３５０７，３６０６，４２０４，４２
０６，４４０４，４４０６，４６０５ 比較器 ８０３，２３０３，３６０３，４６０３ 電流制限器 １１０４，２８０４ ＺＹステージ １１０５ シリンダ固定盤 １１０６ Ｘ電動シリンダ １１０７ Ｘ電動シリンダロッド １１０８ Ｘ平行板ばね １１０９ Ｙ電動シリンダ １１１０ Ｙ電動シリンダロッド １１１１，２８０５ Ｘアシストベース １１１５ Ｙ平行板ばね １１１７，１４１２，２８１０ Ｘ静圧軸受 １３０１ パッド １３０２ コア １３０３ コイル １３０４ ギャップセンサ １３０５ Ｘインダクションモータ １３０６，１３０７，１３０９，１３１０，１３１２，
１３１３ コイル １３０８ Ｙインダクションモータ １３１１ θインダクションモータ １４１３，２８１４ Ｘ非接触エアシリンダ １４１４，２８０７ Ｘ非接触エアシリンダロッド １４１５，２８１９ Ｙ非接触エアシリンダ １４１６ Ｙ非接触エアシリンダロッド １４２０ Ｘヨーガイド １６０１，１６１２，１７０５ 非接触エアシリンダ排
気系 １６０２，１６１１，１７０４ 非接触エアシリンダ給
気系 １６０３，１６０４，１６０９，１６１０，１７０１，
１７０３ ラビリンス １６０５ 静圧軸受加圧系 １６０６ 静圧軸受 １６０７，１６０８，１７０２ 真空排気系 １８０１，１９０６，２１０６，２３０５，２５０１，
２６０６ 真空源 １８０２，１９０７，２１０７，２３０６，２５０２，
２６０７ 圧力源 １８０３，１９０８，２１０８，２３０７，２５０３，
２５０８，２６０８，２６１１ 切替バルブ １８０４，１９０９，２１０９，２３０８，２５０４，
２６０９ 制御バルブ ２５０６ エアシリンダ ２５０７ リニアモータ ２５０９，２６１２ 定圧大容量チャンバ ２８０６ Ｙアシストベース ２８１０ Ｘ静圧軸受 ３００６ Ｙベルト ３００８ Ｙドラムユニット ３００９，３８１３ イコライズ ３０１３ Ｙヨーガイド ３０２０ Ｘベルト ３０２２ Ｘドラムユニット ３３０６，３５０６，３６０５ 定電流源 ３８０８ 定張力ばね ３８１７ 定張力ばねドラム ３８３３ Ｙナット
フロントページの続き (72)発明者 浅野 俊哉 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 高橋 悟 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−181198（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−181522（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G12B 5/00 H01L 21/68
Claims (13)
- 【請求項１】 可動ステージを、所定範囲に渡って駆動
可能な、微移動用の第１駆動手段と、 前記可動ステージを、前記所定範囲と実質的に同一範囲
に渡って駆動可能な、粗移動用の第２駆動手段と、 前記第２駆動手段と可動ステージとを連結し、移動方向
に変形可能な弾性部材と を有することを特徴とするステ
ージ装置。 - 【請求項２】 第１駆動手段はリニアモータを含む請求
項１のステージ装置。 - 【請求項３】 第２駆動手段は、回転モータの回転駆動
力を利用したものである請求項１のステージ装置。 - 【請求項４】 第２駆動手段は、空気圧力を利用したも
のである請求項１のステージ装置。 - 【請求項５】 第２駆動手段はエアシリンダを有し、該
エアシリンダへの供給流量を制御する制御手段を有する
請求項４のステージ装置。 - 【請求項６】 可動ステージを、所定範囲に渡って駆動
可能な、微移動用の第１駆動手段と、 前記可動ステージを、前記所定範囲と実質的に同一範囲
に渡って駆動可能な、粗移動用の第２駆動手段と、 前記第２駆動手段と可動ステージとを連結し、移動方向
に変形可能な弾性部材と、 前記弾性部材の変位を検出する検出手段と、 該検出手段の出力を基に可動ステージの駆動を行う制御
手段を有することを特徴とするステージ装置。 - 【請求項７】 可動ステージを、所定範囲に渡って駆動
可能な、微移動用の第１駆動手段と、 前記可動ステージを、前記所定範囲と実質的に同一範囲
に渡って駆動可能な、粗移動用の第２駆動手段と、 前記第２駆動手段と可動ステージとを連結し、移動方向
に変形可能な弾性部材 と、 時間微分可能な加速度曲線によって第２駆動手段を駆動
する制御手段を有することを特徴とするステージ装置。 - 【請求項８】 可動ステージを、所定範囲に渡って駆動
可能な、微移動用の第１駆動手段と、 前記可動ステージを、前記所定範囲と実質的に同一範囲
に渡って駆動可能な、粗移動用の第２駆動手段と、 前記第２駆動手段と可動ステージとを、切り離し可能に
連結するクラッチとを有することを特徴とするステージ
装置。 - 【請求項９】 第２駆動手段と可動ステージとが、移動
方向に隙間を有する継手を介して連結されている請求項
１のステージ装置。 - 【請求項１０】 可動ステージの駆動方向は、重力方向
の成分を有する方向である請求項１のステージ装置。 - 【請求項１１】 被転写物を載置する可動ステージを、
所定範囲に渡って駆動可能な、微移動用の第１駆動手段
と、 前記可動ステージを、前記所定範囲と実質的に同一範囲
に渡って駆動可能な、粗移動用の第２駆動手段と、前記第２駆動手段と可動ステージとを連結し、移動方向
に変形可能な弾性部材と、 パターンを前記可動ステージに載置された被転写物に転
写する手段とを有することを特徴とするパターン転写シ
ステム。 - 【請求項１２】 被転写物を載置する可動ステージを、
所定範囲に渡って駆動可能な、微移動用の第１駆動手段
と、 前記可動ステージを、前記所定範囲と実質的に同一範囲
に渡って駆動可能な、粗移動用の第２駆動手段と、 前記第２駆動手段と可動ステージとを、切り離し可能に
連結するクラッチと、 パターンを前記可動ステージに載置された被転写物に転
写する手段とを有することを特徴とするパターン転写シ
ステム。 - 【請求項１３】 被転写物は半導体ウエハであり、回路
パターンが転写される請求項１１または１２のシステ
ム。
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| DE69308347T DE69308347T2 (de) | 1992-03-31 | 1993-03-30 | Vorlagenbühne und Musterübertragungssystem hierfür |
| ES93302498T ES2097976T3 (es) | 1992-03-31 | 1993-03-30 | Dispositivo portaobjetos y sistema de transferencia de dibujo que lo utiliza. |
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016155144A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 蛇の目ミシン工業株式会社 | サーボプレス、制御方法およびプログラム |
| CN114619411A (zh) * | 2022-03-29 | 2022-06-14 | 苏州矽行半导体技术有限公司 | 一种柔性运动台及载台系统 |
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| JP4721325B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2011-07-13 | 株式会社ソディック | 形彫放電加工機 |
| KR102051842B1 (ko) * | 2009-05-15 | 2019-12-04 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 장치, 용력 전달 장치, 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
| TWI398931B (zh) * | 2009-07-03 | 2013-06-11 | Wecon Automation Corp | 驅動裝置及固晶機 |
| JP6655925B2 (ja) * | 2015-09-24 | 2020-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | ステージ装置及びプローブ装置 |
-
1993
- 1993-02-22 JP JP05032053A patent/JP3135404B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016155144A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 蛇の目ミシン工業株式会社 | サーボプレス、制御方法およびプログラム |
| CN114619411A (zh) * | 2022-03-29 | 2022-06-14 | 苏州矽行半导体技术有限公司 | 一种柔性运动台及载台系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06252026A (ja) | 1994-09-09 |
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