JP3137717B2 - 移動ステージ装置 - Google Patents
移動ステージ装置Info
- Publication number
- JP3137717B2 JP3137717B2 JP7755992A JP7755992A JP3137717B2 JP 3137717 B2 JP3137717 B2 JP 3137717B2 JP 7755992 A JP7755992 A JP 7755992A JP 7755992 A JP7755992 A JP 7755992A JP 3137717 B2 JP3137717 B2 JP 3137717B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving stage
- stage
- moving
- driving means
- stage device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は移動ステージ装置に関す
るものである。
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、移動ステージ装置は、Ｘ線露光装
置等のアライメント装置として用いられるものが知られ
ている。
置等のアライメント装置として用いられるものが知られ
ている。
【０００３】Ｘ線露光装置の場合、大容量の記憶素子等
の作製において、極めて高い露光精度、生産性を向上す
るためのスループットを高くすることが常に要求され、
ウエハをステップ移動させるステージに対しては、高い
精度での位置決めやスループットを高くするための高速
性が要求される。さらには、近年のウエハの大型化に伴
って移動距離、すなわちストロークの大きなものが要求
される。
の作製において、極めて高い露光精度、生産性を向上す
るためのスループットを高くすることが常に要求され、
ウエハをステップ移動させるステージに対しては、高い
精度での位置決めやスループットを高くするための高速
性が要求される。さらには、近年のウエハの大型化に伴
って移動距離、すなわちストロークの大きなものが要求
される。
【０００４】従来、これらの要求をすべて満たす移動ス
テージ装置では移動用の駆動手段としてリニアモータを
用いたものが知られており、広く用いられている。
テージ装置では移動用の駆動手段としてリニアモータを
用いたものが知られており、広く用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の技術の場合、リニアモータは上記の大ストロー
ク、高精度および高速性をすべて満たすものであるが、
その効率の悪さから移動の際に発生する熱量が大きいと
いう問題点がある。この発熱量は、ステージ位置を保持
する状態のときには特に問題とならないが、移動初期の
加速時には極めて大きなものとなる。リニアモータに発
生した熱は、前述のようなＸ線露光装置については、ス
テージを介してステージ上のウエハに伝わることになる
ので、スループットを高くするために露光を頻繁に行う
場合にはウエハに伝わる熱量が蓄積されて熱歪が発生す
るという問題点がある。
た従来の技術の場合、リニアモータは上記の大ストロー
ク、高精度および高速性をすべて満たすものであるが、
その効率の悪さから移動の際に発生する熱量が大きいと
いう問題点がある。この発熱量は、ステージ位置を保持
する状態のときには特に問題とならないが、移動初期の
加速時には極めて大きなものとなる。リニアモータに発
生した熱は、前述のようなＸ線露光装置については、ス
テージを介してステージ上のウエハに伝わることになる
ので、スループットを高くするために露光を頻繁に行う
場合にはウエハに伝わる熱量が蓄積されて熱歪が発生す
るという問題点がある。
【０００６】本発明は、上述したような従来の技術に鑑
みてなされたものであって、高速、高精度であり、スト
ロークが大きく低発熱な移動ステージ装置を実現するこ
とを目的とする。
みてなされたものであって、高速、高精度であり、スト
ロークが大きく低発熱な移動ステージ装置を実現するこ
とを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、所定の移動範
囲を有する移動ステージを備えた移動ステージ装置にお
いて、前記移動ステージを、所定の許容範囲内で駆動可
能な第１の駆動手段と、該第１の駆動手段と異なる機構
によってなり、前記移動ステージを、前記移動範囲全体
にわたって、前記第１の駆動手段による移動方向と同一
方向に駆動可能な第２の駆動手段とを有し、該第２の駆
動手段と前記移動ステージとが、移動方向に変形可能な
ばね部材を介して連結されていることを特徴とする移動
ステージ装置である。
囲を有する移動ステージを備えた移動ステージ装置にお
いて、前記移動ステージを、所定の許容範囲内で駆動可
能な第１の駆動手段と、該第１の駆動手段と異なる機構
によってなり、前記移動ステージを、前記移動範囲全体
にわたって、前記第１の駆動手段による移動方向と同一
方向に駆動可能な第２の駆動手段とを有し、該第２の駆
動手段と前記移動ステージとが、移動方向に変形可能な
ばね部材を介して連結されていることを特徴とする移動
ステージ装置である。
【０００８】上記移動ステージ装置において、第１の駆
動手段がリニアモータであるものと、移動ステージが略
水平方向と略鉛直方向とに移動範囲を有するものとがあ
る。
動手段がリニアモータであるものと、移動ステージが略
水平方向と略鉛直方向とに移動範囲を有するものとがあ
る。
【０００９】
【００１０】
【００１１】さらに、本発明は、所定の移動範囲を有す
る移動ステージを備えた移動ステージ装置において、前
記移動ステージを、所定の許容範囲内で移動可能な、電
磁力を利用した第１の駆動手段と、該第１の駆動手段と
異なる機構によってなり、前記移動ステージを、前記移
動範囲全体にわたって、前記第１の駆動手段による移動
方向と同一方向に駆動可能な、電磁力を利用した第２の
駆動手段とを有することを特徴とする移動ステージ装置
である。
る移動ステージを備えた移動ステージ装置において、前
記移動ステージを、所定の許容範囲内で移動可能な、電
磁力を利用した第１の駆動手段と、該第１の駆動手段と
異なる機構によってなり、前記移動ステージを、前記移
動範囲全体にわたって、前記第１の駆動手段による移動
方向と同一方向に駆動可能な、電磁力を利用した第２の
駆動手段とを有することを特徴とする移動ステージ装置
である。
【００１２】上記移動ステージ装置において、第１の駆
動手段はリニアモータであり、第２の駆動手段は回転型
モータであるものと、移動ステージが略水平方向と略鉛
直方向とに移動範囲を有するものとがある。
動手段はリニアモータであり、第２の駆動手段は回転型
モータであるものと、移動ステージが略水平方向と略鉛
直方向とに移動範囲を有するものとがある。
【００１３】また、本発明は、所定の移動範囲を有する
移動ステージを備えた移動ステージ装置において、前記
移動ステージを、所定の許容範囲内で駆動可能な第１の
駆動手段と、該第１の駆動手段と異なる機構によってな
り、前記移動ステージを、前記移動範囲全体にわたっ
て、前記第１の駆動手段による移動方向と同一方向に駆
動可能な、第２の駆動手段とを有し、該第２の駆動手段
と前記移動ステージとが、それらを切離し可能にするク
ラッチを介して連結されていることを特徴とする移動ス
テージ装置である。
移動ステージを備えた移動ステージ装置において、前記
移動ステージを、所定の許容範囲内で駆動可能な第１の
駆動手段と、該第１の駆動手段と異なる機構によってな
り、前記移動ステージを、前記移動範囲全体にわたっ
て、前記第１の駆動手段による移動方向と同一方向に駆
動可能な、第２の駆動手段とを有し、該第２の駆動手段
と前記移動ステージとが、それらを切離し可能にするク
ラッチを介して連結されていることを特徴とする移動ス
テージ装置である。
【００１４】上記移動ステージ装置において、第１の駆
動手段がリニアモータであるものと、 移動ステージが
略水平方向と略鉛直方向とに移動範囲を有するものとが
ある。
動手段がリニアモータであるものと、 移動ステージが
略水平方向と略鉛直方向とに移動範囲を有するものとが
ある。
【００１５】
【作用】請求項１に記載の、第２の駆動手段と移動ステ
ージとの連結部分にばね部材を設けたものの場合、第２
の駆動手段による移動ステージの駆動終了後、第２の駆
動手段が停止した状態で、前記ばね部材のばね力に対抗
し得る範囲内で第１の駆動手段によって移動ステージを
移動させることが可能となる。
ージとの連結部分にばね部材を設けたものの場合、第２
の駆動手段による移動ステージの駆動終了後、第２の駆
動手段が停止した状態で、前記ばね部材のばね力に対抗
し得る範囲内で第１の駆動手段によって移動ステージを
移動させることが可能となる。
【００１６】
【００１７】請求項４に記載の、第１および第２の駆動
手段として電磁力を利用したものを用いたものの場合、
該第２の駆動手段による移動ステージの移動終了後、該
第２の駆動手段を駆動することでその移動方向につい
て、前記移動ステージを平衡状態に保つことができ、そ
の状態で第１の駆動手段に対する第２の駆動手段の抵抗
力が非常に小さくなるので、該第１の駆動手段によって
容易に移動ステージを移動させることができる。ただ
し、前記第２の駆動手段による移動方向が略水平方向で
ある場合は、該第２の駆動手段を非駆動状態として、前
記移動ステージを、前記第２の駆動手段による移動終了
時の位置に保つことができる。
手段として電磁力を利用したものを用いたものの場合、
該第２の駆動手段による移動ステージの移動終了後、該
第２の駆動手段を駆動することでその移動方向につい
て、前記移動ステージを平衡状態に保つことができ、そ
の状態で第１の駆動手段に対する第２の駆動手段の抵抗
力が非常に小さくなるので、該第１の駆動手段によって
容易に移動ステージを移動させることができる。ただ
し、前記第２の駆動手段による移動方向が略水平方向で
ある場合は、該第２の駆動手段を非駆動状態として、前
記移動ステージを、前記第２の駆動手段による移動終了
時の位置に保つことができる。
【００１８】請求項７に記載の、第２の駆動手段と移動
ステージとの連結部にクラッチを設けたものの場合、第
２の駆動手段による移動ステージの移動終了後に、前記
クラッチによって第２の駆動手段と移動ステージとを切
離すことで、該移動ステージを前記移動終了時の位置に
て自由な状態にすることができるので、第１の駆動手段
に対する第２の駆動手段の抵抗力が無くなって、該第１
の駆動手段により容易に移動ステージを移動させること
ができる。
ステージとの連結部にクラッチを設けたものの場合、第
２の駆動手段による移動ステージの移動終了後に、前記
クラッチによって第２の駆動手段と移動ステージとを切
離すことで、該移動ステージを前記移動終了時の位置に
て自由な状態にすることができるので、第１の駆動手段
に対する第２の駆動手段の抵抗力が無くなって、該第１
の駆動手段により容易に移動ステージを移動させること
ができる。
【００１９】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００２０】まず、第１実施例について説明する。
【００２１】図１は本発明の移動ステージ装置の第１実
施例を示す斜視図、図２（ａ）は図１に示す移動ステー
ジ装置の正面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
施例を示す斜視図、図２（ａ）は図１に示す移動ステー
ジ装置の正面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
【００２２】本実施例は、軌道放射光（ＳＯＲ−Ｘ線）
を利用して、マスク１００上の半導体素子製造用パター
ンをウエハ１０１上のレジストに焼付けを行なうＳＯＲ
−Ｘ線露光装置に設けられ、前記マスク１００に対して
前記ウエハ１０１を位置決めするアライメント装置に適
用したものである。
を利用して、マスク１００上の半導体素子製造用パター
ンをウエハ１０１上のレジストに焼付けを行なうＳＯＲ
−Ｘ線露光装置に設けられ、前記マスク１００に対して
前記ウエハ１０１を位置決めするアライメント装置に適
用したものである。
【００２３】本実施例の移動ステージ装置は、Ｘ方向お
よびＹ方向それぞれに対する最終位置決めのための微動
用の、第１の駆動手段であるＸリニアモータ１０６Ａ，
１０６ＢおよびＹリニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂと、
Ｘ方向およびＹ方向に対する粗動（ステップ）用の第２
の駆動手段であるＸモータ１０８およびＹモータ１０９
Ａ，１０９Ｂとを備えている。
よびＹ方向それぞれに対する最終位置決めのための微動
用の、第１の駆動手段であるＸリニアモータ１０６Ａ，
１０６ＢおよびＹリニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂと、
Ｘ方向およびＹ方向に対する粗動（ステップ）用の第２
の駆動手段であるＸモータ１０８およびＹモータ１０９
Ａ，１０９Ｂとを備えている。
【００２４】前記ウエハ１０１は、Ｘステージ１０４上
に設けられたウエハチャック１０３に吸着保持され、前
記第１および第２の駆動手段の微動および粗動によって
マスク１００を通したＳＲ光へ位置合わせされる。
に設けられたウエハチャック１０３に吸着保持され、前
記第１および第２の駆動手段の微動および粗動によって
マスク１００を通したＳＲ光へ位置合わせされる。
【００２５】前記Ｘステージ１０４は、Ｙステージ１０
５に固定されている前記Ｘモータ１０８にカップリング
１１２および転動軸受１１３からなる軸受ユニット１１
１にて結合されたＸネジ軸１１０と、Ｘナット１１４に
よって連結され、前記Ｘモータ１０８が正，逆転するこ
とで、＋Ｘ，−Ｘ方向に移動される。さらに、前記Ｘス
テージ１０１は、その上側および下側に取付けられたＸ
リニアモータ連結板１１６Ａ、Ｘリニアモータ１０６Ａ
およびＸリニアモータ連結板１１７Ａ、Ｘリニアモータ
１０６Ｂによって、Ｙステージ１０５上にＸ方向に並設
されたＸリニアモータコイル１１７ＡおよびＸリニアモ
ータコイル１１７Ｂと連結され、同様に＋Ｘ，−Ｘ方向
に移動される。また、前記Ｘステージ１０１と前記Ｘナ
ット１１４との間にはＸ板ばね１１５が取付けられて、
両者間に弾性を持たせて連結した構成としている。その
ため、前記Ｘモータ１０８によるステップ動作後の、該
Ｘモータ１０８が停止した状態での最終位置決めの際
は、前記Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂの動力によ
り、前記Ｘ板ばね１１５のばね力に対抗し得る範囲内で
移動可能となる。
５に固定されている前記Ｘモータ１０８にカップリング
１１２および転動軸受１１３からなる軸受ユニット１１
１にて結合されたＸネジ軸１１０と、Ｘナット１１４に
よって連結され、前記Ｘモータ１０８が正，逆転するこ
とで、＋Ｘ，−Ｘ方向に移動される。さらに、前記Ｘス
テージ１０１は、その上側および下側に取付けられたＸ
リニアモータ連結板１１６Ａ、Ｘリニアモータ１０６Ａ
およびＸリニアモータ連結板１１７Ａ、Ｘリニアモータ
１０６Ｂによって、Ｙステージ１０５上にＸ方向に並設
されたＸリニアモータコイル１１７ＡおよびＸリニアモ
ータコイル１１７Ｂと連結され、同様に＋Ｘ，−Ｘ方向
に移動される。また、前記Ｘステージ１０１と前記Ｘナ
ット１１４との間にはＸ板ばね１１５が取付けられて、
両者間に弾性を持たせて連結した構成としている。その
ため、前記Ｘモータ１０８によるステップ動作後の、該
Ｘモータ１０８が停止した状態での最終位置決めの際
は、前記Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂの動力によ
り、前記Ｘ板ばね１１５のばね力に対抗し得る範囲内で
移動可能となる。
【００２６】さらに、前記Ｘステージ１０４には、Ｙス
テージ１０５に対して、Ｘ静圧軸受加圧系１１８Ａ，１
１８Ｂ、Ｘ予圧磁石１１９Ａ，１１９ＢおよびＸ静圧パ
ッド１２０Ａ，１２０Ｂ、（１１８Ａ，１１９Ａおよび
１２０Ａは不図示）からなる一対の静圧軸受部が設けら
れている。
テージ１０５に対して、Ｘ静圧軸受加圧系１１８Ａ，１
１８Ｂ、Ｘ予圧磁石１１９Ａ，１１９ＢおよびＸ静圧パ
ッド１２０Ａ，１２０Ｂ、（１１８Ａ，１１９Ａおよび
１２０Ａは不図示）からなる一対の静圧軸受部が設けら
れている。
【００２７】一方、Ｙステージ１０５は、ステージ定盤
１０２に固定されている前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９
Ｂに対して、前述と同様な軸受ユニットで結合されたＹ
ねじ軸１２１Ａ，１２１Ｂと、Ｙナット（不図示）にて
連結され、前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが正転，逆
転することで＋Ｙ，−Ｙ方向へ移動される。
１０２に固定されている前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９
Ｂに対して、前述と同様な軸受ユニットで結合されたＹ
ねじ軸１２１Ａ，１２１Ｂと、Ｙナット（不図示）にて
連結され、前記Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが正転，逆
転することで＋Ｙ，−Ｙ方向へ移動される。
【００２８】さらに、前記Ｙステージ１０５の右側部お
よび左側部には、Ｙリニアモータ連結板１２３Ａ、Ｙリ
ニアモータ１０７ＡおよびＹリニアモータ連結板１２３
Ｂ、Ｙリニアモータ１０７Ｂが取付けられており、該Ｙ
リニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂにて、ステージ定盤１
０２上にＹ方向に並設された一対のＹヨーガイド１２２
Ａ，１２２Ｂに設けられているＹリニアモータコイル１
２４Ａ，１２４Ｂと連結されて、同様に＋Ｙ，−Ｙ方向
に移動可能となっている。
よび左側部には、Ｙリニアモータ連結板１２３Ａ、Ｙリ
ニアモータ１０７ＡおよびＹリニアモータ連結板１２３
Ｂ、Ｙリニアモータ１０７Ｂが取付けられており、該Ｙ
リニアモータ１０７Ａ，１０７Ｂにて、ステージ定盤１
０２上にＹ方向に並設された一対のＹヨーガイド１２２
Ａ，１２２Ｂに設けられているＹリニアモータコイル１
２４Ａ，１２４Ｂと連結されて、同様に＋Ｙ，−Ｙ方向
に移動可能となっている。
【００２９】また、前記Ｙステージ１０５についても、
前記Ｘステージ１０４と同様に、前記Ｙナットとの間
に、それぞれＹ板ばね（不図示）が取付けられて、両者
間に弾性を持たせて連結した構成としている。そのた
め、Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂによればステップ動作
後の、該Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが停止した状態で
の最終位置決めの際は、前記Ｙリニアモータ１０７Ａ，
１０７Ｂの動力により、前記Ｙ板ばねのばね力に対抗し
得る範囲内で移動可能となる。
前記Ｘステージ１０４と同様に、前記Ｙナットとの間
に、それぞれＹ板ばね（不図示）が取付けられて、両者
間に弾性を持たせて連結した構成としている。そのた
め、Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂによればステップ動作
後の、該Ｙモータ１０９Ａ，１０９Ｂが停止した状態で
の最終位置決めの際は、前記Ｙリニアモータ１０７Ａ，
１０７Ｂの動力により、前記Ｙ板ばねのばね力に対抗し
得る範囲内で移動可能となる。
【００３０】さらに、前記Ｙステージ１０５には、前記
Ｙヨーガイド１２２Ａ，１２２Ｂに対して、Ｙ静圧パッ
ド１２５Ａ，１２５Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系１２６Ａ，１
２６ＢおよびＹ予圧磁石１２７Ｂからなる一対の静圧軸
受部が設けられている。
Ｙヨーガイド１２２Ａ，１２２Ｂに対して、Ｙ静圧パッ
ド１２５Ａ，１２５Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系１２６Ａ，１
２６ＢおよびＹ予圧磁石１２７Ｂからなる一対の静圧軸
受部が設けられている。
【００３１】なお、図１に示すＸ軸レーザ干渉計ユニッ
ト１２８およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１２９は、Ｘ
ステージ１０４上のスコヤミラー１３０から反射するレ
ーザ光が入射してそれにより、Ｘステージ１０４のＸ方
向およびＹ方向の位置を計測するためのものである。
ト１２８およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１２９は、Ｘ
ステージ１０４上のスコヤミラー１３０から反射するレ
ーザ光が入射してそれにより、Ｘステージ１０４のＸ方
向およびＹ方向の位置を計測するためのものである。
【００３２】ここで、本実施例の位置決めの原理につい
て、図３を参照して説明する。
て、図３を参照して説明する。
【００３３】上述した本実施例の構成は、図３に示すよ
うに、第２の駆動手段３０２と移動ステージ３００との
間にばね部材３０３を取付けた構成となる。
うに、第２の駆動手段３０２と移動ステージ３００との
間にばね部材３０３を取付けた構成となる。
【００３４】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段３０２にステージをステップす
るための電力等のエネルギを投入する。すると第２の駆
動手段３０２は投入エネルギに応じた推力を発生し、こ
の推力はばね部材３０３を介して移動ステージ３００に
伝わり、移動ステージ３００をステップさせる。この時
第１の駆動手段３０１は出力がスイッチで切断されて全
く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に推力
が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えられ
る。第２の駆動手段３０２は発熱しないか、又は発熱し
ても冷却手段を設けるなどして移動ステージ３００に熱
エネルギを伝えないようになっている。
時、先ず第２の駆動手段３０２にステージをステップす
るための電力等のエネルギを投入する。すると第２の駆
動手段３０２は投入エネルギに応じた推力を発生し、こ
の推力はばね部材３０３を介して移動ステージ３００に
伝わり、移動ステージ３００をステップさせる。この時
第１の駆動手段３０１は出力がスイッチで切断されて全
く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に推力
が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えられ
る。第２の駆動手段３０２は発熱しないか、又は発熱し
ても冷却手段を設けるなどして移動ステージ３００に熱
エネルギを伝えないようになっている。
【００３５】ステップしている間、第２の駆動手段３０
２の制御系は位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々第２の駆動手段３０２の変位を帰還す
るセミクローズドループ制御を行ない、安定なステップ
動作を行なう。
２の制御系は位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々第２の駆動手段３０２の変位を帰還す
るセミクローズドループ制御を行ない、安定なステップ
動作を行なう。
【００３６】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
３０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続す
る側に切り替わって第１の駆動手段３０１が位置決めの
推力を発生するようになる（スイッチを切り替えるトリ
ガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるいは非
常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄与す
るようになる。一方この頃には第２の駆動手段３０２は
ほとんど動かなくなっているが、移動ステージ３００と
第２の駆動手段３０２との間にばね部材３０３があるの
で、そのばねの力に対抗し得る範囲で第１の駆動手段３
０１により移動ステージ３００の位置を制御できる。ま
た制御系はステージ位置を帰還するクローズドループ制
御であり、さらに第１の駆動手段３０１はリニアモータ
であるので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲ
イン（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
３０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続す
る側に切り替わって第１の駆動手段３０１が位置決めの
推力を発生するようになる（スイッチを切り替えるトリ
ガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるいは非
常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄与す
るようになる。一方この頃には第２の駆動手段３０２は
ほとんど動かなくなっているが、移動ステージ３００と
第２の駆動手段３０２との間にばね部材３０３があるの
で、そのばねの力に対抗し得る範囲で第１の駆動手段３
０１により移動ステージ３００の位置を制御できる。ま
た制御系はステージ位置を帰還するクローズドループ制
御であり、さらに第１の駆動手段３０１はリニアモータ
であるので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲ
イン（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
【００３７】この位置決めの時の発熱であるが、第２の
駆動手段３０２はもともと発熱しないか冷却されている
上に、ステップはほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段３０１には移動ステ
ージ３００を振動させる外乱に対抗する力と上述のばね
部材３０３をたわめる力が必要であるが、位置決めの時
の変位量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）
のでこれらの力を発生するための発熱は非常に小さく、
移動ステージ３００には悪影響を及ぼさない。
駆動手段３０２はもともと発熱しないか冷却されている
上に、ステップはほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段３０１には移動ステ
ージ３００を振動させる外乱に対抗する力と上述のばね
部材３０３をたわめる力が必要であるが、位置決めの時
の変位量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）
のでこれらの力を発生するための発熱は非常に小さく、
移動ステージ３００には悪影響を及ぼさない。
【００３８】ここで、第１の駆動手段である、Ｘリニア
モータ１０６Ａ，１０６ＢおよびＹリニアモータ１０７
Ａ，１０７Ｂと、第２の駆動手段である、Ｘモータ１０
８およびＹモータ１０９Ａ，１０９Ｂとの駆動制御部に
ついて説明する。
モータ１０６Ａ，１０６ＢおよびＹリニアモータ１０７
Ａ，１０７Ｂと、第２の駆動手段である、Ｘモータ１０
８およびＹモータ１０９Ａ，１０９Ｂとの駆動制御部に
ついて説明する。
【００３９】なお、Ｘ方向とＹ方向とでは同様に考える
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
【００４０】まず、Ｘステージ１０４のＸ方向への移動
距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４お
よび図５（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４お
よび図５（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
【００４１】図４は、本例の駆動制御部を示すブロック
図、図５は図４に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）はＸステージ１０４の駆動
時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ４０３
の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流を示している。
図、図５は図４に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）はＸステージ１０４の駆動
時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ４０３
の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流を示している。
【００４２】本例の駆動制御部は、２つのフィルタ４０
１，４０２と、２つの電流増幅器４０２，４０５と、切
替スイッチ４０３と、比較器４０６とを備えている。
１，４０２と、２つの電流増幅器４０２，４０５と、切
替スイッチ４０３と、比較器４０６とを備えている。
【００４３】前記Ｘモータ１０８に対して、Ｘステージ
１０４の目標位置までの移動量に相当する指令値がフィ
ルタ４０４および電流増幅器４０５を通して供給され
る。これにより、前記Ｘモータ１０８の推力がＸねじ軸
１１０およびＸ板ばね１１５を介してＸステージ１０４
に伝えられて、該Ｘステージ１０４が移動することにな
る。
１０４の目標位置までの移動量に相当する指令値がフィ
ルタ４０４および電流増幅器４０５を通して供給され
る。これにより、前記Ｘモータ１０８の推力がＸねじ軸
１１０およびＸ板ばね１１５を介してＸステージ１０４
に伝えられて、該Ｘステージ１０４が移動することにな
る。
【００４４】前記切替スイッチ４０３は、Ｘリニアモー
タ１０６Ａ，１０６Ｂへの駆動電流印加のオン，オフを
切替えるためのスイッチであり、該切替スイッチ４０３
が接続状態にあるとき、前記指令値がフィルタ４０１お
よび電流増幅器４０２を介して、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへ印加される。
タ１０６Ａ，１０６Ｂへの駆動電流印加のオン，オフを
切替えるためのスイッチであり、該切替スイッチ４０３
が接続状態にあるとき、前記指令値がフィルタ４０１お
よび電流増幅器４０２を介して、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへ印加される。
【００４５】前記比較器４０６は、前記Ｘモータ１０８
によるＸステージ１０４の移動位置と前記目標位置との
偏差が予め定めた許容範囲内であるか否かを判断し、前
記偏差が前記許容範囲内であるとき、前記切替スイッチ
４０３を接続状態にする。前記許容範囲は、Ｘ板ばね１
１５のばね力に応じて設定される。
によるＸステージ１０４の移動位置と前記目標位置との
偏差が予め定めた許容範囲内であるか否かを判断し、前
記偏差が前記許容範囲内であるとき、前記切替スイッチ
４０３を接続状態にする。前記許容範囲は、Ｘ板ばね１
１５のばね力に応じて設定される。
【００４６】本例の駆動制御部の場合、Ｘモータ１０８
によるＸステージ１０４のステップ移動にて、該Ｘステ
ージ１０４が目標位置に対して所定の許容範囲内まで移
動した後、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを駆動し
て最終位置決めを行なう。目標位置に対する許容範囲は
上述したように、Ｘ板ばね１１５のばね力に応じて設定
されているので、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂに
よる最終位置決めのための移動は容易になされる。
によるＸステージ１０４のステップ移動にて、該Ｘステ
ージ１０４が目標位置に対して所定の許容範囲内まで移
動した後、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを駆動し
て最終位置決めを行なう。目標位置に対する許容範囲は
上述したように、Ｘ板ばね１１５のばね力に応じて設定
されているので、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂに
よる最終位置決めのための移動は容易になされる。
【００４７】このとき、Ｘリニアモータ１０６Ａ，１０
６Ｂは前記ばね力に対抗しながらＸステージ１０４を振
動させようとする外乱を吸収する力も出さなければなら
ない。なお、図５（ｃ）において、オフセットがばね力
に対抗する力に、また、切替スイッチ４０３切替え後の
電流波形の振幅が外乱を吸収する力に相当し、これは以
下に示す例についても同様に言えることである。
６Ｂは前記ばね力に対抗しながらＸステージ１０４を振
動させようとする外乱を吸収する力も出さなければなら
ない。なお、図５（ｃ）において、オフセットがばね力
に対抗する力に、また、切替スイッチ４０３切替え後の
電流波形の振幅が外乱を吸収する力に相当し、これは以
下に示す例についても同様に言えることである。
【００４８】次に、Ｘステージ１０４のＸ方向への駆動
時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図６お
よび図７（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図６お
よび図７（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明する。
【００４９】図６は、本例の駆動制御部を示すブロック
図、図７は図６に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）は切替スイッチ６０３の切替えタイミング
を、（ｃ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの印
加電流を示している。
図、図７は図６に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）は切替スイッチ６０３の切替えタイミング
を、（ｃ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの印
加電流を示している。
【００５０】本例の駆動制御部は、前述の図４に示した
例の場合と同様な、２つのフィルタ６０１，６０４と２
つの電流増幅器６０２，６０５と切替スイッチ６０３を
備えるとともに、比較器６０６を備えている。
例の場合と同様な、２つのフィルタ６０１，６０４と２
つの電流増幅器６０２，６０５と切替スイッチ６０３を
備えるとともに、比較器６０６を備えている。
【００５１】本例の場合、所定の駆動電流をＸモータ１
０８に印加することでＸステージ１０４が目標位置付近
に到達する時間を設定時間として予め定める。そして、
前記比較器６０６にて、ステップ移動時の、Ｘモータ１
０８によるＸステージ１０４の駆動時間を前記設定時間
と比較し、駆動時間が設定時間を越えたとき、前記切替
スイッチ６０３を接続状態にすることでＸリニアモータ
１０６Ａ，１０６Ｂへ電流を印加させて最終位置決めを
行なう。
０８に印加することでＸステージ１０４が目標位置付近
に到達する時間を設定時間として予め定める。そして、
前記比較器６０６にて、ステップ移動時の、Ｘモータ１
０８によるＸステージ１０４の駆動時間を前記設定時間
と比較し、駆動時間が設定時間を越えたとき、前記切替
スイッチ６０３を接続状態にすることでＸリニアモータ
１０６Ａ，１０６Ｂへ電流を印加させて最終位置決めを
行なう。
【００５２】つづいて、Ｘステージ１０４が目標位置に
到達するまで常にＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを
駆動している例について図８および図９（ａ），（ｂ）
を参照して説明する。
到達するまで常にＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂを
駆動している例について図８および図９（ａ），（ｂ）
を参照して説明する。
【００５３】図８は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図９は図８に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの
印加電流を示している。
図、図９は図８に示す駆動制御部の動作の一例を示すタ
イムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動距
離を、（ｂ）はＸリニアモータ１０６Ａ，１０６Ｂへの
印加電流を示している。
【００５４】本例の駆動制御部は、前述の図４に示した
例の場合と同様な、２つのフィルタ８０１，８０４と２
つの電流増幅器８０２，８０５を備えるとともに、電流
制限器８０３を備えている。
例の場合と同様な、２つのフィルタ８０１，８０４と２
つの電流増幅器８０２，８０５を備えるとともに、電流
制限器８０３を備えている。
【００５５】リニアモータは、常にステージ位置を帰還
するクローズドループで制御されている。このため、目
標位置との偏差が大きいときは、常に加速する方向に電
流が流れている。この場合も、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流は前記電流制限器８０３によ
って制限されている。そして、前記Ｘステージ１０４が
ほぼ目標位置に達すると、前記Ｘモータ１０８はほとん
ど推力を発生しなくなり、一方、電流制限器８０３によ
り電流制限を受けていたＸリニアモータ１０６Ａ、１０
６Ｂが位置決め動作に寄与するようになる。ステージ位
置はＸリニアモータ１０６Ａ、１０６Ｂにのみ帰還され
るので、目標位置付近では、図８において、Ｘリニアモ
ータ１０６Ａ、１０６Ｂによるクローズドループ制御の
みが存在するのと等価になって、最終位置決めが行なわ
れる。
するクローズドループで制御されている。このため、目
標位置との偏差が大きいときは、常に加速する方向に電
流が流れている。この場合も、Ｘリニアモータ１０６
Ａ，１０６Ｂへの印加電流は前記電流制限器８０３によ
って制限されている。そして、前記Ｘステージ１０４が
ほぼ目標位置に達すると、前記Ｘモータ１０８はほとん
ど推力を発生しなくなり、一方、電流制限器８０３によ
り電流制限を受けていたＸリニアモータ１０６Ａ、１０
６Ｂが位置決め動作に寄与するようになる。ステージ位
置はＸリニアモータ１０６Ａ、１０６Ｂにのみ帰還され
るので、目標位置付近では、図８において、Ｘリニアモ
ータ１０６Ａ、１０６Ｂによるクローズドループ制御の
みが存在するのと等価になって、最終位置決めが行なわ
れる。
【００５６】本例において、Ｘリニアモータ１０６Ａ，
１０６Ｂへ印加される駆動電流は電流制限器８０３によ
って制限され、その推力は、非常に小さなものとなる
が、前記Ｘモータ１０８が停止することで、Ｘ板ばね１
１５のばね力に対抗し得る範囲内で位置決めに寄与する
ことになる。
１０６Ｂへ印加される駆動電流は電流制限器８０３によ
って制限され、その推力は、非常に小さなものとなる
が、前記Ｘモータ１０８が停止することで、Ｘ板ばね１
１５のばね力に対抗し得る範囲内で位置決めに寄与する
ことになる。
【００５７】本例において、Ｘリニアモータ１０６Ａ，
１０６Ｂへの印加電流の最大値は、Ｘステージ１０４を
振動させようとする、外乱を吸収する力に相当する電流
と、Ｘモータ１０８による位置決め誤差（数μｍ程度）
と板ばね１１５のばね定数との積で求められる力に相当
する電流と、の和と同程度に設定されており、その値は
ステップ動作のための電流に比較して無視できるほど小
さいものである。
１０６Ｂへの印加電流の最大値は、Ｘステージ１０４を
振動させようとする、外乱を吸収する力に相当する電流
と、Ｘモータ１０８による位置決め誤差（数μｍ程度）
と板ばね１１５のばね定数との積で求められる力に相当
する電流と、の和と同程度に設定されており、その値は
ステップ動作のための電流に比較して無視できるほど小
さいものである。
【００５８】前述した実施例においては、Ｘステージ１
０４のステップ駆動時および最終位置決め時、常に、Ｘ
板ばね１１５に対して応力が加わることにより、該Ｘ板
ばね１１５に変形が発生することが考えられる。
０４のステップ駆動時および最終位置決め時、常に、Ｘ
板ばね１１５に対して応力が加わることにより、該Ｘ板
ばね１１５に変形が発生することが考えられる。
【００５９】そのため、図１０に示すように、Ｘモータ
１０８に連結されたＸねじ軸１１０と係合するＸナット
１１４とＸステージ１０４との間にクラッチ１３１およ
び駆動プレート１３２を設けて、前記Ｘ板ばね１１５に
対してより大きな応力が加わるステップ移動時には前記
Ｘステージ１０４とＸナット１１４とを固定する。これ
により、前記Ｘ板ばね１１５には、最終位置決め時に応
力が加わるのみとなるので、前記Ｘ板ばね１１５の変形
とともにＸステージ１０４のオーバシュートを抑止する
ことができる。これは、Ｙステージ１０５側についても
同様に言えることである。
１０８に連結されたＸねじ軸１１０と係合するＸナット
１１４とＸステージ１０４との間にクラッチ１３１およ
び駆動プレート１３２を設けて、前記Ｘ板ばね１１５に
対してより大きな応力が加わるステップ移動時には前記
Ｘステージ１０４とＸナット１１４とを固定する。これ
により、前記Ｘ板ばね１１５には、最終位置決め時に応
力が加わるのみとなるので、前記Ｘ板ばね１１５の変形
とともにＸステージ１０４のオーバシュートを抑止する
ことができる。これは、Ｙステージ１０５側についても
同様に言えることである。
【００６０】次に、本発明の第２実施例について図１１
〜図１３を参照して説明する。
〜図１３を参照して説明する。
【００６１】図１１は本実施例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図１２は図１１に示す移動ステージ装置の正
面図、図１３は本実施例の第１の駆動手段を示す図であ
り、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図である。
す斜視図、図１２は図１１に示す移動ステージ装置の正
面図、図１３は本実施例の第１の駆動手段を示す図であ
り、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図である。
【００６２】本実施例の移動ステージ装置も、前述の第
１実施例と同様にＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、マスク１１００を通して入
射するＳＲ光に対してウエハ１１０１の位置決めを行な
う。
１実施例と同様にＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、マスク１１００を通して入
射するＳＲ光に対してウエハ１１０１の位置決めを行な
う。
【００６３】本実施例の場合、Ｘ，Ｙ，θ（ωX ，ω
Y ，ωZ ）の各方向についての位置調整を可能とする、
第１の駆動手段である、Ｘインダクションモータ１３０
５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダクションモータ１３０８
Ａ，１３０８Ｂおよびθインダクションモータ１３１１
Ａ，１３１１Ｂと、第２の駆動手段である、Ｘ電動シリ
ンダ１１０６Ａ，１１０６ＢおよびＹ電動シリンダ１１
０９Ａ，１１０９Ｂとを備えている。
Y ，ωZ ）の各方向についての位置調整を可能とする、
第１の駆動手段である、Ｘインダクションモータ１３０
５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダクションモータ１３０８
Ａ，１３０８Ｂおよびθインダクションモータ１３１１
Ａ，１３１１Ｂと、第２の駆動手段である、Ｘ電動シリ
ンダ１１０６Ａ，１１０６ＢおよびＹ電動シリンダ１１
０９Ａ，１１０９Ｂとを備えている。
【００６４】前記ウエハ１１０１は、Ｘアシストベース
１１１１上に載置されたＸＹステージ１１０４に設けら
れているウエハチャック１１０３に吸着保持される。
１１１１上に載置されたＸＹステージ１１０４に設けら
れているウエハチャック１１０３に吸着保持される。
【００６５】前記Ｘアシストベース１１１１は、ステー
ジ定盤１１０２に固設されているシリンダ固定盤１１０
５の底部に固定されたＹ電動シリンダ１１０９Ａ，１１
０９ＢからのＹ電動シリンダロッド１１１０Ａ，１１１
０Ｂによって、それぞれ、Ｙ平行板ばね１１１５Ａ，１
１１５Ｂを介してＹ方向に支持されている。
ジ定盤１１０２に固設されているシリンダ固定盤１１０
５の底部に固定されたＹ電動シリンダ１１０９Ａ，１１
０９ＢからのＹ電動シリンダロッド１１１０Ａ，１１１
０Ｂによって、それぞれ、Ｙ平行板ばね１１１５Ａ，１
１１５Ｂを介してＹ方向に支持されている。
【００６６】また、前記ＸＹステージ１１０４は、その
両側面を、前記シリンダ固定盤１１０５の両側部にそれ
ぞれ固定されたＸ電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ
からのＸ電動シリンダロッド１１０７Ａ，１１０７Ｂに
よって、それぞれ、Ｘ平行板ばね１１０８Ａ，１１０８
Ｂを介して支持されている。
両側面を、前記シリンダ固定盤１１０５の両側部にそれ
ぞれ固定されたＸ電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ
からのＸ電動シリンダロッド１１０７Ａ，１１０７Ｂに
よって、それぞれ、Ｘ平行板ばね１１０８Ａ，１１０８
Ｂを介して支持されている。
【００６７】前記ＸＹステージ１１０４の、Ｘアシスト
ベース１１１１との接触面にはＸ静圧軸受加圧系１１１
６およびＸ予圧磁石１１１８を有するＸ静圧軸受１１１
７が設けられており、さらに、前記Ｘ電動シリンダロッ
ド１１０７Ａ，１１０７Ｂの、前記ＸＹステージ１１０
４との接触部には、それぞれ、Ｙ静圧軸受加圧系１１１
９Ａ，１１１９ＢおよびＹ予圧磁石１１２１Ａ，１１２
１Ｂを有するＹ静圧軸受１１２０Ａ，１１２０Ｂ（１１
１９Ａ，１１２０Ａ，１１２１Ａは不図示）が設けられ
ている。
ベース１１１１との接触面にはＸ静圧軸受加圧系１１１
６およびＸ予圧磁石１１１８を有するＸ静圧軸受１１１
７が設けられており、さらに、前記Ｘ電動シリンダロッ
ド１１０７Ａ，１１０７Ｂの、前記ＸＹステージ１１０
４との接触部には、それぞれ、Ｙ静圧軸受加圧系１１１
９Ａ，１１１９ＢおよびＹ予圧磁石１１２１Ａ，１１２
１Ｂを有するＹ静圧軸受１１２０Ａ，１１２０Ｂ（１１
１９Ａ，１１２０Ａ，１１２１Ａは不図示）が設けられ
ている。
【００６８】また、本実施例の移動ステージ装置におい
ても前記ＸＹステージ１１０４の位置を計測するため
の、スコヤミラー１１１２、Ｘ軸レーザ干渉計ユニット
１１１３およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１１１４を備
えている。
ても前記ＸＹステージ１１０４の位置を計測するため
の、スコヤミラー１１１２、Ｘ軸レーザ干渉計ユニット
１１１３およびＹ軸レーザ干渉計ユニット１１１４を備
えている。
【００６９】つづいて、本実施例の第１の駆動手段につ
いて説明する。
いて説明する。
【００７０】本実施例の第１の駆動手段である、Ｘイン
ダクションモータ１３０５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダク
ションモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂおよびθインダク
ションモータ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、前記ＸＹステ
ージ１１０４の、ステージ定盤１１０２との接触面に設
けられている。
ダクションモータ１３０５Ａ，１３０５Ｂ、Ｙインダク
ションモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂおよびθインダク
ションモータ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、前記ＸＹステ
ージ１１０４の、ステージ定盤１１０２との接触面に設
けられている。
【００７１】Ｘインダクションモータ１３０５Ａ，１３
０５Ｂは、共に同じ構成であり、それぞれ、第１のコイ
ル１３０６Ａ，１３０６Ｂおよび第２のコイル１３０７
Ａ，１３０７Ｂとを有している。同様に、Ｙインダクシ
ョンモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂは、それぞれ、第１
のコイル１３０９Ａ，１３０９Ｂおよび第２のコイル１
３１０Ａ，１３１０Ｂから成り、θインダクションモー
タ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、それぞれ、第１のコイル
１３１２Ａ，１３１２Ｂおよび第２のコイル１３１３
Ａ，１３１３Ｂから成る。
０５Ｂは、共に同じ構成であり、それぞれ、第１のコイ
ル１３０６Ａ，１３０６Ｂおよび第２のコイル１３０７
Ａ，１３０７Ｂとを有している。同様に、Ｙインダクシ
ョンモータ１３０８Ａ，１３０８Ｂは、それぞれ、第１
のコイル１３０９Ａ，１３０９Ｂおよび第２のコイル１
３１０Ａ，１３１０Ｂから成り、θインダクションモー
タ１３１１Ａ，１３１１Ｂは、それぞれ、第１のコイル
１３１２Ａ，１３１２Ｂおよび第２のコイル１３１３
Ａ，１３１３Ｂから成る。
【００７２】また、前記ＸＹステージ１１０４のステー
ジ定盤１１０２との接触面には、３箇所に、それぞれ、
加圧気体吹出用のパッド１３０１Ａ，１３０１Ｂ，１３
０１Ｃと、電磁石のコア１３０２Ａ，１３０２Ｂ，１３
０２Ｃおよびコイル１３０３Ａ，１３０３Ｂ，１３０３
Ｃとを備えた静圧軸受部が設けられるとともに、それら
に対応するように３つのギャップセンサ１３０４Ａ，１
３０４Ｂ，１３０４Ｃが設けられており、これらによっ
て、前記ＸＹステージ１１０４のＺ方向に対して所定ギ
ャップに保持される。
ジ定盤１１０２との接触面には、３箇所に、それぞれ、
加圧気体吹出用のパッド１３０１Ａ，１３０１Ｂ，１３
０１Ｃと、電磁石のコア１３０２Ａ，１３０２Ｂ，１３
０２Ｃおよびコイル１３０３Ａ，１３０３Ｂ，１３０３
Ｃとを備えた静圧軸受部が設けられるとともに、それら
に対応するように３つのギャップセンサ１３０４Ａ，１
３０４Ｂ，１３０４Ｃが設けられており、これらによっ
て、前記ＸＹステージ１１０４のＺ方向に対して所定ギ
ャップに保持される。
【００７３】前記Ｘ，Ｙ，θの各インダクションモータ
１３０５Ａ，１３０５Ｂ，１３０８Ａ，１３０８Ｂ，１
３１１Ａ，１３１１Ｂによる最終位置決めは、前記Ｘ，
Ｙの各電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ，１１０９
Ａ，１１０９Ｂによるステップ移動後に行なうものであ
り、何れも同様な動作であるので、Ｘインダクションモ
ータ１３０５Ａについて説明する。
１３０５Ａ，１３０５Ｂ，１３０８Ａ，１３０８Ｂ，１
３１１Ａ，１３１１Ｂによる最終位置決めは、前記Ｘ，
Ｙの各電動シリンダ１１０６Ａ，１１０６Ｂ，１１０９
Ａ，１１０９Ｂによるステップ移動後に行なうものであ
り、何れも同様な動作であるので、Ｘインダクションモ
ータ１３０５Ａについて説明する。
【００７４】第１のコイル１３０６Ａに交流電流を印加
し、第２のコイル１３０７Ａに前記第１のコイル１３０
６Ａに印加した交流電流よりも９０°位相を遅らせた交
流電流を印加する。この場合、第１および第２のコイル
１３０６Ａ，１３０７Ａに発生する磁束のピークが−Ｘ
方向に進行し、その際、ステージ定盤１１０２の良導体
にうず電流が生じる。このうず電流と前記第１および第
２のコイル１３０６Ａ，１３０７Ａに交流電流を印加す
ることで生じた磁束との相互作用によって、前記ＸＹス
テージ１１０４が＋Ｘ方向に移動することになる。一
方、−Ｘ方向への移動は、第１および第２のコイル１３
０６Ａ，１３０７Ａに印加する交流電流の位相を前述と
逆転させることで達成できる。
し、第２のコイル１３０７Ａに前記第１のコイル１３０
６Ａに印加した交流電流よりも９０°位相を遅らせた交
流電流を印加する。この場合、第１および第２のコイル
１３０６Ａ，１３０７Ａに発生する磁束のピークが−Ｘ
方向に進行し、その際、ステージ定盤１１０２の良導体
にうず電流が生じる。このうず電流と前記第１および第
２のコイル１３０６Ａ，１３０７Ａに交流電流を印加す
ることで生じた磁束との相互作用によって、前記ＸＹス
テージ１１０４が＋Ｘ方向に移動することになる。一
方、−Ｘ方向への移動は、第１および第２のコイル１３
０６Ａ，１３０７Ａに印加する交流電流の位相を前述と
逆転させることで達成できる。
【００７５】Ｘ，Ｙ方向の位置およびθ方向の角度制御
は、前記Ｘ軸、Ｙ軸およびθ軸（θ軸のみ不図示）の各
レーザ干渉計ユニット１１１３，１１１４による計測位
置と目標位置および角度との偏差を演算して前述の各イ
ンダクションモータにフィードバックすることで行な
う。
は、前記Ｘ軸、Ｙ軸およびθ軸（θ軸のみ不図示）の各
レーザ干渉計ユニット１１１３，１１１４による計測位
置と目標位置および角度との偏差を演算して前述の各イ
ンダクションモータにフィードバックすることで行な
う。
【００７６】本実施例では、Ｚ方向の調整を３つのギャ
ップセンサを設けることで検出しながら行なう構成を示
したが、マスクとウエハとの間にギャップを直接計測す
るオートフォーカス方式のセンサを用いた場合でも同様
に考えることができる。
ップセンサを設けることで検出しながら行なう構成を示
したが、マスクとウエハとの間にギャップを直接計測す
るオートフォーカス方式のセンサを用いた場合でも同様
に考えることができる。
【００７７】次に、第１参考例について、図１４および
図１５を参照して説明する。
図１５を参照して説明する。
【００７８】図１４は本参考例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図１５は図１４に示す移動ステージ装置の正
面図である。
す斜視図、図１５は図１４に示す移動ステージ装置の正
面図である。
【００７９】本参考例の場合も、前述の各実施例と同様
に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用し
たものであり、マスク１４００を通して入射するＳＲ光
に対してウエハ１４０１の位置決めを行なう。
に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用し
たものであり、マスク１４００を通して入射するＳＲ光
に対してウエハ１４０１の位置決めを行なう。
【００８０】本参考例の移動ステージ装置は、第１の駆
動手段として、前述の第１実施例と同様な構成の、Ｘリ
ニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモー
タ１４０７Ａ，１４０７Ｂを備え、第２の駆動手段とし
ては、Ｘ方向に復動可能な２つのＸ非接触エアシリンダ
１４１３Ａ，１４１３ＢとＹ方向についてのＹ非接触エ
アシリンダ１４１５とを備えている。
動手段として、前述の第１実施例と同様な構成の、Ｘリ
ニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモー
タ１４０７Ａ，１４０７Ｂを備え、第２の駆動手段とし
ては、Ｘ方向に復動可能な２つのＸ非接触エアシリンダ
１４１３Ａ，１４１３ＢとＹ方向についてのＹ非接触エ
アシリンダ１４１５とを備えている。
【００８１】前記Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１
４１３ＢとＹ非接触エアシリンダ１４１５の構成の一例
を、それぞれ、図１６，図１７に示す。
４１３ＢとＹ非接触エアシリンダ１４１５の構成の一例
を、それぞれ、図１６，図１７に示す。
【００８２】本参考例の場合、前記Ｘ非接触エアシリン
ダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触エアシリンダ
１４１５によるステップ移動にて、Ｘステージ１４０４
およびＹステージ１４０５がほぼ目標位置に達した後、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリ
ニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂによる最終位置決め
を行なう。その際、本参考例では、第１実施例および第
２実施例のような板ばねを備えていないが、前記Ｘ非接
触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触
エアシリンダ１４１５内の空気によって、ＸおよびＹス
テージ１４０４，１４０５との間に弾性が生じ、該空気
の圧縮／膨張性に対抗し得る範囲で、前記Ｘリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモータ１４０
７Ａ，１４０７Ｂによる位置決めが可能となる。
ダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触エアシリンダ
１４１５によるステップ移動にて、Ｘステージ１４０４
およびＹステージ１４０５がほぼ目標位置に達した後、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリ
ニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂによる最終位置決め
を行なう。その際、本参考例では、第１実施例および第
２実施例のような板ばねを備えていないが、前記Ｘ非接
触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３ＢおよびＹ非接触
エアシリンダ１４１５内の空気によって、ＸおよびＹス
テージ１４０４，１４０５との間に弾性が生じ、該空気
の圧縮／膨張性に対抗し得る範囲で、前記Ｘリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹリニアモータ１４０
７Ａ，１４０７Ｂによる位置決めが可能となる。
【００８３】ここで、本参考例の位置決めの原理につい
て図１８を参照して説明する。
て図１８を参照して説明する。
【００８４】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段１８０６に移動ステージ１８０
５をステップするための空気を供給する。すると第２の
駆動手段１８０６は供給された空気の量に応じた推力を
発生し、移動ステージ１８０５をステップさせる。この
時第１の駆動手段１８０７は出力がスイッチで切断され
て全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に
推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えら
れる。第２の駆動手段１８０６はエアシリンダなので発
熱しない。
時、先ず第２の駆動手段１８０６に移動ステージ１８０
５をステップするための空気を供給する。すると第２の
駆動手段１８０６は供給された空気の量に応じた推力を
発生し、移動ステージ１８０５をステップさせる。この
時第１の駆動手段１８０７は出力がスイッチで切断され
て全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値に
推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑えら
れる。第２の駆動手段１８０６はエアシリンダなので発
熱しない。
【００８５】ステップしている間、エアシリンダの制御
系はステージ位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々空気の流量やシリンダ内の圧力を帰還
するセミクローズドループ制御を行ない、安定なステッ
プ動作を行なう。また、エアシリンダを加速するには空
気を流入し、減速するには空気を流出させる必要が有る
のので、エアシリンダでステップ中は切替バルブ１８０
３により圧力源と真空源を適当に切替えて空気の流れる
方向を制御している。
系はステージ位置を直接には帰還しないオープンループ
制御、または高々空気の流量やシリンダ内の圧力を帰還
するセミクローズドループ制御を行ない、安定なステッ
プ動作を行なう。また、エアシリンダを加速するには空
気を流入し、減速するには空気を流出させる必要が有る
のので、エアシリンダでステップ中は切替バルブ１８０
３により圧力源と真空源を適当に切替えて空気の流れる
方向を制御している。
【００８６】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
１８０７の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段１８０７が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。一方この頃にはエアシリンダにはほ
とんど空気の出入りは無くなっているので、空気の圧縮
／膨張性に対抗し得る範囲で第１の駆動手段１８０７の
位置を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還す
るクローズドループ制御であり、また第１の駆動手段１
８０７はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高
い系が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定
な位置制御を行える。
１８０７の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段１８０７が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。一方この頃にはエアシリンダにはほ
とんど空気の出入りは無くなっているので、空気の圧縮
／膨張性に対抗し得る範囲で第１の駆動手段１８０７の
位置を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還す
るクローズドループ制御であり、また第１の駆動手段１
８０７はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高
い系が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定
な位置制御を行える。
【００８７】この位置決めの時の発熱であるが、エアシ
リンダはステップ時同様に発熱しない。リニアモータに
はステージを振動させる外乱に対抗する力と上述のシリ
ンダ内の空気の圧縮／膨張性に対抗する力が必要である
が、位置決めの時の変位量は非常に小さい（例えば１０
分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発熱
は非常に小さく、移動ステージ１８０５には悪影響を及
ぼさない。
リンダはステップ時同様に発熱しない。リニアモータに
はステージを振動させる外乱に対抗する力と上述のシリ
ンダ内の空気の圧縮／膨張性に対抗する力が必要である
が、位置決めの時の変位量は非常に小さい（例えば１０
分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発熱
は非常に小さく、移動ステージ１８０５には悪影響を及
ぼさない。
【００８８】又位置決めの時にはエアシリンダを定圧力
大容量チャンバと連通させることにより空気の圧縮／膨
張性に対抗する力をさらに小さくすることができる。
大容量チャンバと連通させることにより空気の圧縮／膨
張性に対抗する力をさらに小さくすることができる。
【００８９】つづいて、本参考例の、第１の駆動手段で
ある、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹ
リニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂと、第２の駆動手
段である、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３
ＢおよびＹ非接触エアシリンダ１４１５との駆動制御部
について説明する。
ある、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６ＢおよびＹ
リニアモータ１４０７Ａ，１４０７Ｂと、第２の駆動手
段である、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３
ＢおよびＹ非接触エアシリンダ１４１５との駆動制御部
について説明する。
【００９０】なお、Ｘ方向とＹ方向とでは同様に考える
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
ことができるので、Ｘ方向についてのみ説明する。
【００９１】まず、Ｘステージ１４０４のＸ方向への移
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図１
９および図２０（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図１
９および図２０（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
【００９２】図１９は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２０は図１９に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
１９０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電流を示している。
図、図２０は図１９に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
１９０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電流を示している。
【００９３】本例の場合、真空源１９０６あるいは圧力
源１９０７から切替バルブ１９０８および制御バルブ１
９０９を介して、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１
４１３Ｂに対し給，排気を行なうことで、ステップ移動
を行なう。また、前記ステップ移動の際、比較器１９０
４にてＸステージ１４０４の位置を目標位置との偏差
を、予め定めた許容値と比較し、前記偏差が許容値の範
囲内となったところで、切替スイッチ１９０３を接続状
態にし、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの電
流印加を開始させる。
源１９０７から切替バルブ１９０８および制御バルブ１
９０９を介して、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１
４１３Ｂに対し給，排気を行なうことで、ステップ移動
を行なう。また、前記ステップ移動の際、比較器１９０
４にてＸステージ１４０４の位置を目標位置との偏差
を、予め定めた許容値と比較し、前記偏差が許容値の範
囲内となったところで、切替スイッチ１９０３を接続状
態にし、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの電
流印加を開始させる。
【００９４】本例において、前記Ｘステージ１４０４の
目標位置に対する許容値はＸ非接触エアシリンダ１４１
３Ａ，１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定め
るものでるので、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６
Ｂによる最終位置決めのための移動は容易に達成され
る。このとき、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂ
は空気を圧縮／膨張させてその反力に対抗しながら、Ｘ
ステージ１４０４を振動させようとする外乱を吸収する
力を発さなければならない。図２０（ｃ）において、オ
フセットが空気圧力に対抗する力に、また、切替スイッ
チ１９０３切替え後の電流波形の振幅が外乱を吸収する
力に相当し、これは以下に示す例についても同様に言え
ることである。
目標位置に対する許容値はＸ非接触エアシリンダ１４１
３Ａ，１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定め
るものでるので、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６
Ｂによる最終位置決めのための移動は容易に達成され
る。このとき、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂ
は空気を圧縮／膨張させてその反力に対抗しながら、Ｘ
ステージ１４０４を振動させようとする外乱を吸収する
力を発さなければならない。図２０（ｃ）において、オ
フセットが空気圧力に対抗する力に、また、切替スイッ
チ１９０３切替え後の電流波形の振幅が外乱を吸収する
力に相当し、これは以下に示す例についても同様に言え
ることである。
【００９５】次に、Ｘステージ１４０４のＸ方向への駆
動時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図２
１および図２２（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
動時間を基準にして駆動制御を行なう例について、図２
１および図２２（ａ），（ｂ），（ｃ）を参照して説明
する。
【００９６】図２１は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２２は図２１に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）は切替スイッチ２１０３の切替えタイ
ミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
図、図２２は図２１に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）は切替スイッチ２１０３の切替えタイ
ミングを、（ｃ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
【００９７】本例においても、ステップ移動の場合は前
述の移動距離を基準にした例と同様である。
述の移動距離を基準にした例と同様である。
【００９８】ただし、本例において、Ｘリニアモータ１
４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ２１０３の切替えを、比較器２１０４による、
Ｘステージ１４０４に対する駆動時間と予め定めた、目
標位置に達すると考えられる設定時間との比較の結果、
駆動時間が設定時間を越えたときに行なう。これによ
り、前記Ｘステージ１４０４はほぼ目標位置に達した時
点で最終位置決めに移ることができる。本例において
も、前記設定時間はＸ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，
１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定める。
４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ２１０３の切替えを、比較器２１０４による、
Ｘステージ１４０４に対する駆動時間と予め定めた、目
標位置に達すると考えられる設定時間との比較の結果、
駆動時間が設定時間を越えたときに行なう。これによ
り、前記Ｘステージ１４０４はほぼ目標位置に達した時
点で最終位置決めに移ることができる。本例において
も、前記設定時間はＸ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，
１４１３Ｂ内の空気の圧縮／膨張性に応じて定める。
【００９９】つづいて、Ｘステージ１４０４が目標位置
に達するまで、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４
０６Ｂを駆動している例について、図２３および図２４
（ａ），（ｂ）を参照して説明する。
に達するまで、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４
０６Ｂを駆動している例について、図２３および図２４
（ａ），（ｂ）を参照して説明する。
【０１００】図２３は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２４は図２３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
図、図２４は図２３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移
動距離を、（ｂ）はＸリニアモータ１４０６Ａ，１４０
６Ｂへの印加電流を示している。
【０１０１】本例の駆動制御部は、前述の第１実施例に
おいて図８にて示した駆動制御部と同様に考えることが
でき、ステップ動作中、電流制限器２３０３にて駆動電
流を制限しながら、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，
１４０６Ｂに印加する。そして、Ｘステージ１４０４が
ほぼ目標位置に達し、ステップ動作が終了した時点で、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力を位
置決めに寄与させる。
おいて図８にて示した駆動制御部と同様に考えることが
でき、ステップ動作中、電流制限器２３０３にて駆動電
流を制限しながら、常に、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，
１４０６Ｂに印加する。そして、Ｘステージ１４０４が
ほぼ目標位置に達し、ステップ動作が終了した時点で、
前記Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力を位
置決めに寄与させる。
【０１０２】つづいて、本参考例の変形例について、図
２５を参照して説明する。
２５を参照して説明する。
【０１０３】本例の場合、前述の図１８に示した移動ス
テージの反エアシリンダ（反第２の駆動手段）側に切替
えバルブ２５０８を介して定圧大容量チャンバ２５０９
を連結したものであり、切替えバルブ２５０８を開放す
ることで定圧大容量チャンバ２５０９とエアシリンダ２
５０６が連通する構成となっている。
テージの反エアシリンダ（反第２の駆動手段）側に切替
えバルブ２５０８を介して定圧大容量チャンバ２５０９
を連結したものであり、切替えバルブ２５０８を開放す
ることで定圧大容量チャンバ２５０９とエアシリンダ２
５０６が連通する構成となっている。
【０１０４】上述のような構成の移動ステージ装置にお
ける、エアシリンダとリニアモータとの駆動制御部につ
いて、図２６および図２７（ａ）〜（ｆ）を参照して説
明する。
ける、エアシリンダとリニアモータとの駆動制御部につ
いて、図２６および図２７（ａ）〜（ｆ）を参照して説
明する。
【０１０５】図２６は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図２７は図２６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は前記駆動時間
に対する切替スイッチ２６０３の切替えタイミングを、
（ｃ）はリニアモータへの印加電流を、（ｄ）はエアシ
リンダ内の圧力の変化を、（ｅ）は切替えバルブ２６１
１の切替えタイミングを、（ｆ）はエアシリンダ内の剛
性の変化を示している。
図、図２７は図２６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ１４０４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は前記駆動時間
に対する切替スイッチ２６０３の切替えタイミングを、
（ｃ）はリニアモータへの印加電流を、（ｄ）はエアシ
リンダ内の圧力の変化を、（ｅ）は切替えバルブ２６１
１の切替えタイミングを、（ｆ）はエアシリンダ内の剛
性の変化を示している。
【０１０６】本例の駆動制御部において、Ｘリニアモー
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための
切替スイッチ２６０３の切替え制御は、Ｘステージ１４
０４の移動距離を基準とした場合と同様に行なう。
タ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆動電流を印加するための
切替スイッチ２６０３の切替え制御は、Ｘステージ１４
０４の移動距離を基準とした場合と同様に行なう。
【０１０７】また、定圧大容量チャンバ２６１２をＸ非
接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂと連通させる
ための切替バルブ２６１１の開放は、ステップ動作終了
か否かを判断する比較器２６１０のコントロールによっ
て行なう。
接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂと連通させる
ための切替バルブ２６１１の開放は、ステップ動作終了
か否かを判断する比較器２６１０のコントロールによっ
て行なう。
【０１０８】まず、ステップ動作が進行して、Ｘステー
ジ１４０４がほぼ目標位置に達し、偏差が所定の許容値
の範囲内になると、前記切替スイッチ２６０３が接続状
態とされ、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆
動電流が印加されて最終位置決めが始まる。
ジ１４０４がほぼ目標位置に達し、偏差が所定の許容値
の範囲内になると、前記切替スイッチ２６０３が接続状
態とされ、Ｘリニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへ駆
動電流が印加されて最終位置決めが始まる。
【０１０９】前記ステップ動作中において、Ｘ非接触エ
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ内の圧力は、ステッ
プ動作開始直後増加し、その後徐々に減少する。また、
該Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂの剛性
の変化もほぼ圧力の変化と同様な軌跡を辿る。
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ内の圧力は、ステッ
プ動作開始直後増加し、その後徐々に減少する。また、
該Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂの剛性
の変化もほぼ圧力の変化と同様な軌跡を辿る。
【０１１０】前記最終位置決めが始まると、比較器２６
１０にてステップ動作終了を認識し、切替バルブ２６１
１を開放して定圧大容量チャンバ２６１２とＸ非接触エ
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂを連通させる。これ
により、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ
において、見掛上、体積が増加したようになる。その結
果、リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力のうち
空気を圧縮／膨張させる際の反力は無視できるようにな
り、該リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電
流は外乱を吸収する力に相当した電流分のみとなる。
１０にてステップ動作終了を認識し、切替バルブ２６１
１を開放して定圧大容量チャンバ２６１２とＸ非接触エ
アシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂを連通させる。これ
により、Ｘ非接触エアシリンダ１４１３Ａ，１４１３Ｂ
において、見掛上、体積が増加したようになる。その結
果、リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂの推力のうち
空気を圧縮／膨張させる際の反力は無視できるようにな
り、該リニアモータ１４０６Ａ，１４０６Ｂへの印加電
流は外乱を吸収する力に相当した電流分のみとなる。
【０１１１】本例においては、切替スイッチ２６０３を
切替えた後、切替バルブ２６１１を開放させるようタイ
ミングを設定したが、両者の切替えタイミングはほぼ同
時刻であれば前後しても同様の効果を得ることができ
る。
切替えた後、切替バルブ２６１１を開放させるようタイ
ミングを設定したが、両者の切替えタイミングはほぼ同
時刻であれば前後しても同様の効果を得ることができ
る。
【０１１２】次に、第２参考例について、図２８および
図２９を参照して説明する。
図２９を参照して説明する。
【０１１３】図２８は本参考例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図２９は図２８に示す移動ステージ装置の正
面図である。
す斜視図、図２９は図２８に示す移動ステージ装置の正
面図である。
【０１１４】本参考例の移動ステージ装置も、同様に、
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用したも
のであり、マスク２８００を通して入射するＳＲ光に対
してウエハ２８０１の位置決めを行なう。
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント装置に適用したも
のであり、マスク２８００を通して入射するＳＲ光に対
してウエハ２８０１の位置決めを行なう。
【０１１５】本参考例の移動ステージ装置は、第１の駆
動手段として、前述の図１３に示したものと同様な、
Ｘ，Ｙおよびθ方向への移動を可能とするＸ，Ｙおよび
θの各方向についてのインダクションモータを、ＸＹス
テージ２８０４のステージ定盤２８０２との接触面に備
えている。第２の駆動手段としては、前述の図１６に示
したものと同様な、Ｘ方向に復動可能とするＸ非接触エ
アシリンダ２８１４と、図１７に示したものと同様なＹ
非接触エアシリンダ２８１９とを備えている。
動手段として、前述の図１３に示したものと同様な、
Ｘ，Ｙおよびθ方向への移動を可能とするＸ，Ｙおよび
θの各方向についてのインダクションモータを、ＸＹス
テージ２８０４のステージ定盤２８０２との接触面に備
えている。第２の駆動手段としては、前述の図１６に示
したものと同様な、Ｘ方向に復動可能とするＸ非接触エ
アシリンダ２８１４と、図１７に示したものと同様なＹ
非接触エアシリンダ２８１９とを備えている。
【０１１６】前記Ｘ非接触エアシリンダ２８１４に係合
するＸ非接触エアシリンダロッド２８０７の、Ｙアシス
トベース２８０６Ａ，２８０６Ｂに接する端部には、そ
れぞれ、Ｙ予圧磁石２８１７Ａ，２８１７ＢおよびＹ静
圧軸受加圧系２８１８Ａ，２８１８Ｂ（２８１７Ａ，２
８１８Ａは不図示）を有するＹ軸静圧軸受２８０９Ａ，
２８０９Ｂが設けられており、これにより、Ｙ方向へＸ
Ｙステージ２８０４が移動する際、前記Ｙアシストベー
ス２８０６Ａ，２８０６Ｂに対して非接触に移動するこ
とになる。
するＸ非接触エアシリンダロッド２８０７の、Ｙアシス
トベース２８０６Ａ，２８０６Ｂに接する端部には、そ
れぞれ、Ｙ予圧磁石２８１７Ａ，２８１７ＢおよびＹ静
圧軸受加圧系２８１８Ａ，２８１８Ｂ（２８１７Ａ，２
８１８Ａは不図示）を有するＹ軸静圧軸受２８０９Ａ，
２８０９Ｂが設けられており、これにより、Ｙ方向へＸ
Ｙステージ２８０４が移動する際、前記Ｙアシストベー
ス２８０６Ａ，２８０６Ｂに対して非接触に移動するこ
とになる。
【０１１７】一方、前記Ｙ非接触エアシリンダ２８１９
に係合するＹ非接触エアシリンダロッド２８０８の、Ｘ
アシストベース２８０５との接触面には、同様に、Ｘ予
圧磁石２８１５およびＸ静圧軸受加圧系２８１６を有す
るＸ静圧軸受２８１０が設けられており、Ｘ方向へＸＹ
ステージ２８０４が移動する際、Ｘアシストベース２８
０５に対して非接触に移動することになる。
に係合するＹ非接触エアシリンダロッド２８０８の、Ｘ
アシストベース２８０５との接触面には、同様に、Ｘ予
圧磁石２８１５およびＸ静圧軸受加圧系２８１６を有す
るＸ静圧軸受２８１０が設けられており、Ｘ方向へＸＹ
ステージ２８０４が移動する際、Ｘアシストベース２８
０５に対して非接触に移動することになる。
【０１１８】なお、本参考例の、Ｘ，Ｙ方向の各非接触
エアシリンダ２８１４，２８１９と前記インダクション
モータとの駆動制御は前述した実施例と同様に考えるこ
とができる。
エアシリンダ２８１４，２８１９と前記インダクション
モータとの駆動制御は前述した実施例と同様に考えるこ
とができる。
【０１１９】次に、本発明の第３実施例について、図３
０および図３１（ａ），（ｂ）を参照して説明する。
０および図３１（ａ），（ｂ）を参照して説明する。
【０１２０】図３０は本実施例の移動ステージ装置を示
す斜視図、図３１（ａ）は図３０に示す移動ステージ装
置の正面図、図３１（ｂ）は図３１（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
す斜視図、図３１（ａ）は図３０に示す移動ステージ装
置の正面図、図３１（ｂ）は図３１（ａ）のＡ−Ａ線断
面図である。
【０１２１】本実施例の移動ステージ装置も、前述の各
実施例と同様に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、マスク３０００を通して入
射するＳＲ光に対してウエハ３００１の位置決めを行な
う。
実施例と同様に、ＳＯＲ−Ｘ線露光装置のアライメント
装置に適用したものであり、マスク３０００を通して入
射するＳＲ光に対してウエハ３００１の位置決めを行な
う。
【０１２２】本実施例の場合、第１の駆動手段として、
前述と同様なＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂお
よびＹリニアモータ３０１５Ａ，３０１５Ｂを備えてい
る。また、第２の駆動手段としては、２つのＹドラムユ
ニット３００８Ａ，３００８Ｂ間に張設したＹベルト３
００６Ａ，３００６Ｂにて、イコライズ３００９Ａ，３
００９Ｂを介して、Ｙステージ３００５をＹ方向に保持
し、Ｙモータ３００７の動力によって前記Ｙドラムユニ
ット３００８Ｂを回転させることで前記Ｙステージ３０
０５をＹ方向に移動させる手段と、同様に、２つのＸド
ラムユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂ間に張設したＸベ
ルト３０２０にＸステージ３００４を連結し、Ｘモータ
３０２１の動力によって前記Ｘドラムユニット３０２２
Ａを回転させることで前記Ｘステージ３００４をＸ方向
に移動させる手段とを備えている。
前述と同様なＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂお
よびＹリニアモータ３０１５Ａ，３０１５Ｂを備えてい
る。また、第２の駆動手段としては、２つのＹドラムユ
ニット３００８Ａ，３００８Ｂ間に張設したＹベルト３
００６Ａ，３００６Ｂにて、イコライズ３００９Ａ，３
００９Ｂを介して、Ｙステージ３００５をＹ方向に保持
し、Ｙモータ３００７の動力によって前記Ｙドラムユニ
ット３００８Ｂを回転させることで前記Ｙステージ３０
０５をＹ方向に移動させる手段と、同様に、２つのＸド
ラムユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂ間に張設したＸベ
ルト３０２０にＸステージ３００４を連結し、Ｘモータ
３０２１の動力によって前記Ｘドラムユニット３０２２
Ａを回転させることで前記Ｘステージ３００４をＸ方向
に移動させる手段とを備えている。
【０１２３】前記Ｘステージ３００４については、ステ
ージ定盤３００２との接触面にＸ静圧パッド３０２６、
Ｘ予圧磁石３０２７およびＸ静圧軸受加圧系３０２８を
備えた静圧軸受部が設けられ、さらにＹステージ３００
５との接触面についても同様な構成の静圧軸受部が設け
られて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙステージ３
００５に対して非接触で移動が可能となっている。
ージ定盤３００２との接触面にＸ静圧パッド３０２６、
Ｘ予圧磁石３０２７およびＸ静圧軸受加圧系３０２８を
備えた静圧軸受部が設けられ、さらにＹステージ３００
５との接触面についても同様な構成の静圧軸受部が設け
られて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙステージ３
００５に対して非接触で移動が可能となっている。
【０１２４】一方、Ｙステージ３００５については、前
記ステージ定盤３００２上に固設されているＹヨーガイ
ド３０１３Ａ，３０１３Ｂとの接触面に、それぞれ、Ｙ
静圧パッド３０２３Ａ，３０２３Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系
３０２４Ａ，３０２４ＢおよびＹ予圧磁石３０２５Ａ，
３０２５Ｂ（３０２３Ｂ，３０２４Ｂ，３０２５Ｂは不
図示）を備えた静圧軸受部が設けられ、さらに、前記ス
テージ定盤３００２との接触面にも同様な構成の静圧軸
受部が設けられて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙ
ヨーガイド３０１３Ａ，３０１３Ｂに対して非接触で移
動が可能となっている。
記ステージ定盤３００２上に固設されているＹヨーガイ
ド３０１３Ａ，３０１３Ｂとの接触面に、それぞれ、Ｙ
静圧パッド３０２３Ａ，３０２３Ｂ、Ｙ静圧軸受加圧系
３０２４Ａ，３０２４ＢおよびＹ予圧磁石３０２５Ａ，
３０２５Ｂ（３０２３Ｂ，３０２４Ｂ，３０２５Ｂは不
図示）を備えた静圧軸受部が設けられ、さらに、前記ス
テージ定盤３００２との接触面にも同様な構成の静圧軸
受部が設けられて、前記ステージ定盤３００２と前記Ｙ
ヨーガイド３０１３Ａ，３０１３Ｂに対して非接触で移
動が可能となっている。
【０１２５】ここで、本実施例による位置決めの原理に
ついて、図３２を参照して説明する。
ついて、図３２を参照して説明する。
【０１２６】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段３２０２に移動ステージ３２０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段３２０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力は直接、移動ステージ３０００
に伝わり、移動ステージ３２００をステップさせる。こ
の時第１の駆動手段３２０１は出力がスイッチで切断さ
れて全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値
に推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑え
られる。第２の駆動手段３２０２については冷却手段を
設けて発熱を吸収し、移動ステージ３２００に熱エネル
ギを伝えないようになっている。
時、先ず第２の駆動手段３２０２に移動ステージ３２０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段３２０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力は直接、移動ステージ３０００
に伝わり、移動ステージ３２００をステップさせる。こ
の時第１の駆動手段３２０１は出力がスイッチで切断さ
れて全く推力を発生しないか、あるいは非常に小さい値
に推力が制限されており、発熱は無視できる程度に抑え
られる。第２の駆動手段３２０２については冷却手段を
設けて発熱を吸収し、移動ステージ３２００に熱エネル
ギを伝えないようになっている。
【０１２７】ステップしている間、第２の駆動手段３２
０２の制御系は位置を帰還するクローズドループ制御で
あるがゲインを落とすことにより安定なステップ動作を
行なう。
０２の制御系は位置を帰還するクローズドループ制御で
あるがゲインを落とすことにより安定なステップ動作を
行なう。
【０１２８】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
３２０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段３２０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
３２０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段３２０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
【０１２９】又この時第２の駆動手段３２０２は上述の
クローズドループから切り離し定電流（Ｙ方向は移動ス
テージ３２００の重力に釣り合うトルクを与える電流、
Ｘ方向はゼロ）で駆動するように切り替える。これによ
り移動ステージ３２００には第２の駆動手段３２０２か
らは力が働かなくなり、第１の駆動手段３２０１により
移動ステージ３２００の位置を制御できる。また制御系
はステージ位置を帰還するクローズドループ制御であ
リ、また第１の駆動手段３２０１はリニアモータである
ので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲイン
（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
クローズドループから切り離し定電流（Ｙ方向は移動ス
テージ３２００の重力に釣り合うトルクを与える電流、
Ｘ方向はゼロ）で駆動するように切り替える。これによ
り移動ステージ３２００には第２の駆動手段３２０２か
らは力が働かなくなり、第１の駆動手段３２０１により
移動ステージ３２００の位置を制御できる。また制御系
はステージ位置を帰還するクローズドループ制御であ
リ、また第１の駆動手段３２０１はリニアモータである
ので、容易に機械剛性の高い系が実現でき、高ゲイン
（つまり高精度）でかつ安定な位置制御を行える。
【０１３０】この位置決めの時の発熱であるが、第２の
駆動手段３２０２は冷却されているので発熱しない（Ｘ
方向は電流がゼロなのでもともと発熱しない）。第１の
駆動手段３２０１には移動ステージ３２００を振動させ
る外乱に対抗する力が必要であるが、位置決め時の変位
量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）のでこ
れらの力を発生するための発熱は非常に小さく、移動ス
テージ３２００には悪影響を及ぼさない。
駆動手段３２０２は冷却されているので発熱しない（Ｘ
方向は電流がゼロなのでもともと発熱しない）。第１の
駆動手段３２０１には移動ステージ３２００を振動させ
る外乱に対抗する力が必要であるが、位置決め時の変位
量は非常に小さい（例えば１０分の１μｍ程度）のでこ
れらの力を発生するための発熱は非常に小さく、移動ス
テージ３２００には悪影響を及ぼさない。
【０１３１】つづいて、本実施例におけるリニアモータ
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
【０１３２】なお、Ｘ方向とＹ方向では同様に考えるこ
とができるので、ここではＸ方向について説明する。
とができるので、ここではＸ方向について説明する。
【０１３３】まず、Ｘステージ３００４のＸ方向への移
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図３
３および図３４（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照
して説明する。
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図３
３および図３４（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照
して説明する。
【０１３４】図３３は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図３４は図３３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すフローチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は第１切替スイ
ッチ３３０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニア
モータ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｄ）
は第２切替スイッチ３３０８の切替えタイミングを、
（ｅ）はＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対す
る抵抗力の変化を、示している。
図、図３４は図３３に示す駆動制御部の動作の一例を示
すフローチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は第１切替スイ
ッチ３３０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＸリニア
モータ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｄ）
は第２切替スイッチ３３０８の切替えタイミングを、
（ｅ）はＸリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対す
る抵抗力の変化を、示している。
【０１３５】本例の駆動制御部では、Ｘリニアモータ３
０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第１
切替スイッチ３３０３は、比較器３３０４がＸステージ
３００４の位置と目標位置との偏差を予め定めた許容値
と比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となっ
たとき、接続状態に切替えられる。
０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第１
切替スイッチ３３０３は、比較器３３０４がＸステージ
３００４の位置と目標位置との偏差を予め定めた許容値
と比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となっ
たとき、接続状態に切替えられる。
【０１３６】一方、Ｘモータ３０２１への印加電流は、
ステップ動作時とステップ終了後で切替えられる。ステ
ップ動作中は指令値に応じた駆動電流がフィルタ３３０
５、第２切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０
９を介してＸモータ３０２１への印加される。ステップ
動作終了後は、Ｘステージ３００４を、ステップ動作終
了時の位置に保ったために、定電流源３３０６から第２
切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０９を介し
てＸモータ３０２１に定電流が印加される。ただし、Ｘ
方向の場合、印加電流を“０”としてもよい。Ｙ方向の
場合はＸステージ３００５等の自重が存在するため、そ
れと平衡を保つような値の定電流をＹモータ３００７に
印加する必要がある。
ステップ動作時とステップ終了後で切替えられる。ステ
ップ動作中は指令値に応じた駆動電流がフィルタ３３０
５、第２切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０
９を介してＸモータ３０２１への印加される。ステップ
動作終了後は、Ｘステージ３００４を、ステップ動作終
了時の位置に保ったために、定電流源３３０６から第２
切替スイッチ３５０８および電流増幅器３３０９を介し
てＸモータ３０２１に定電流が印加される。ただし、Ｘ
方向の場合、印加電流を“０”としてもよい。Ｙ方向の
場合はＸステージ３００５等の自重が存在するため、そ
れと平衡を保つような値の定電流をＹモータ３００７に
印加する必要がある。
【０１３７】前記Ｘモータ３０２１への印加電流の切替
えは第２切替スイッチ３５０８にてなされ、該第２切替
スイッチ３５０８の切替え制御は、ステップ動作が終了
したか否かを判断する比較器３３０７にて行なわれる。
えは第２切替スイッチ３５０８にてなされ、該第２切替
スイッチ３５０８の切替え制御は、ステップ動作が終了
したか否かを判断する比較器３３０７にて行なわれる。
【０１３８】上述した本例の駆動制御部によれば、ステ
ップ動作時には、Ｘモータ３０２１の回転動作がドラム
ユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂを介して直線運動に変
換されて、Ｘステージ３００４をＸ方向に移動させるこ
とになる。その後の、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０
１０Ｂによる最終位置決め時は、前述の実施例と同様に
考えることができ、その時の該Ｘリニアモータ３０１０
Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力は、前記Ｘステージ３０
０４に働く、その他の力が“０”とみなせるので、ほぼ
“０”となり、容易に移動させることができる。このと
き、本例において、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１
０ＢはＸステージ３００４を振動させようとする外乱を
吸収する力のみを発すれば良く、その力は図３４（ｃ）
に示す、第１切替スイッチ３３０３切替え後の電流波形
の振幅に相当する。
ップ動作時には、Ｘモータ３０２１の回転動作がドラム
ユニット３０２２Ａ，３０２２Ｂを介して直線運動に変
換されて、Ｘステージ３００４をＸ方向に移動させるこ
とになる。その後の、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０
１０Ｂによる最終位置決め時は、前述の実施例と同様に
考えることができ、その時の該Ｘリニアモータ３０１０
Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力は、前記Ｘステージ３０
０４に働く、その他の力が“０”とみなせるので、ほぼ
“０”となり、容易に移動させることができる。このと
き、本例において、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１
０ＢはＸステージ３００４を振動させようとする外乱を
吸収する力のみを発すれば良く、その力は図３４（ｃ）
に示す、第１切替スイッチ３３０３切替え後の電流波形
の振幅に相当する。
【０１３９】つづいて、Ｘステージ３００４のＸ方向へ
の駆動時間を基準にして駆動制御を行なう例について図
３５を参照して説明する。
の駆動時間を基準にして駆動制御を行なう例について図
３５を参照して説明する。
【０１４０】図３５は本例の駆動制御部を示すブロック
図である。
図である。
【０１４１】本例の駆動制御部の場合、Ｘリニアモータ
３０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第
１切替スイッチ３５０３を、Ｘモータ３０２１によるス
テップ動作後の駆動時間が、予め定めた、Ｘステージ３
００４が目標位置へ到達すると考えられる設定時間を越
えたときに切替える構成としており、その他は前述の図
３３に示した例の場合と同様である。本例において、前
記駆動時間と前記設定時間との比較を比較器３５０４に
て行ない、さらに、該比較器３５０４が前記第１切替ス
イッチ３５０３を切替え制御する。
３０１０Ａ，３０１０Ｂへ駆動電流を印加するための第
１切替スイッチ３５０３を、Ｘモータ３０２１によるス
テップ動作後の駆動時間が、予め定めた、Ｘステージ３
００４が目標位置へ到達すると考えられる設定時間を越
えたときに切替える構成としており、その他は前述の図
３３に示した例の場合と同様である。本例において、前
記駆動時間と前記設定時間との比較を比較器３５０４に
て行ない、さらに、該比較器３５０４が前記第１切替ス
イッチ３５０３を切替え制御する。
【０１４２】つづいて、Ｘステージ３００４が目標位置
に到達するまで、常に、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３
０１０Ｂを駆動している例について、図３６および図３
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
に到達するまで、常に、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３
０１０Ｂを駆動している例について、図３６および図３
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
【０１４３】図３６は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図３７は図３６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＸリニアモー
タ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｃ）は切
替スイッチの切替えタイミングを、（ｄ）はＸリニアモ
ータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力の変化を、
示している。
図、図３７は図３６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＸステージ３００４
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＸリニアモー
タ３０１０Ａ，３０１０Ｂへの印加電流を、（ｃ）は切
替スイッチの切替えタイミングを、（ｄ）はＸリニアモ
ータ３０１０Ａ，３０１０Ｂに対する抵抗力の変化を、
示している。
【０１４４】本例の駆動制御部による、Ｘリニアモータ
３０１０Ａ，３０１０Ｂの駆動制御は、前述の第１実施
例の図８にて示した駆動制御部と同様に考えることがで
き、該Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂによる最
終位置決めの際、それらに対する抵抗力は前述と同様に
ほとんど“０”となるので、容易にＸステージ３００４
を移動させることが可能となる。このとき、本例におい
て、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０ＢはＸステー
ジ３００４を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は図３７（ｃ）に示す、切替ス
イッチ３６０８切替え後の電流波形の振幅に相当する。
３０１０Ａ，３０１０Ｂの駆動制御は、前述の第１実施
例の図８にて示した駆動制御部と同様に考えることがで
き、該Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０Ｂによる最
終位置決めの際、それらに対する抵抗力は前述と同様に
ほとんど“０”となるので、容易にＸステージ３００４
を移動させることが可能となる。このとき、本例におい
て、Ｘリニアモータ３０１０Ａ，３０１０ＢはＸステー
ジ３００４を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は図３７（ｃ）に示す、切替ス
イッチ３６０８切替え後の電流波形の振幅に相当する。
【０１４５】次に、本発明の移動ステージ装置の第４実
施例について、図３８〜図４０を参照して説明する。
施例について、図３８〜図４０を参照して説明する。
【０１４６】図３８は本実施例の移動ステージ装置を示
す正面図、図３９は図３８に示す移動ステージ装置のＡ
−Ａ線断面図、図４０は、図３８に示す移動ステージ装
置のＢ−Ｂ線断面図である。
す正面図、図３９は図３８に示す移動ステージ装置のＡ
−Ａ線断面図、図４０は、図３８に示す移動ステージ装
置のＢ−Ｂ線断面図である。
【０１４７】本実施例の移動ステージ装置も、同様に、
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置に設けられるアライメント装置に
適用したものであり、不図示のマスクを通して入射する
ＳＲ光に対してウエハ３８０１の位置決めを行なう。
ＳＯＲ−Ｘ線露光装置に設けられるアライメント装置に
適用したものであり、不図示のマスクを通して入射する
ＳＲ光に対してウエハ３８０１の位置決めを行なう。
【０１４８】本実施例の場合、前述した第１実施例（図
１および図２（ａ）参照）と同様に、Ｘリニアモータ
（不図示）およびＹリニアモータ３８１０Ａ，３８１０
Ｂ（３８１０Ａは不図示）からなる第１の駆動手段と、
Ｘモータ３８０４およびＹモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂの動力を、それぞれＸねじ軸３８１２およびＹねじ軸
３８０９Ａ，３８０９Ｂを介してＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３に伝える構成の第２の駆動手段
とを備えている。
１および図２（ａ）参照）と同様に、Ｘリニアモータ
（不図示）およびＹリニアモータ３８１０Ａ，３８１０
Ｂ（３８１０Ａは不図示）からなる第１の駆動手段と、
Ｘモータ３８０４およびＹモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂの動力を、それぞれＸねじ軸３８１２およびＹねじ軸
３８０９Ａ，３８０９Ｂを介してＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３に伝える構成の第２の駆動手段
とを備えている。
【０１４９】また、前記Ｙステージ３８０３は、ステー
ジ定盤３８０６に取り付けられている定張力ばねドラム
３８１７に巻着された２本の定張力ばね３８０８によっ
て、イコライズ３８１３を介して吊下げ保持されてい
る。前記定張力ばね３８０８は、Ｘステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重を零バランスに保つため
のばねであり、常に一定の力を＋Ｙ方向に発生してい
る。この定張力ばね３８０８は、前記Ｙステージ３８０
３のＹ方向の移動に伴なって、前記定張力ばねドラム３
８１７にて巻き取りあるいは巻き戻しが行なわれる。
ジ定盤３８０６に取り付けられている定張力ばねドラム
３８１７に巻着された２本の定張力ばね３８０８によっ
て、イコライズ３８１３を介して吊下げ保持されてい
る。前記定張力ばね３８０８は、Ｘステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重を零バランスに保つため
のばねであり、常に一定の力を＋Ｙ方向に発生してい
る。この定張力ばね３８０８は、前記Ｙステージ３８０
３のＹ方向の移動に伴なって、前記定張力ばねドラム３
８１７にて巻き取りあるいは巻き戻しが行なわれる。
【０１５０】Ｘねじ軸３８１２と係合するＸナット３８
２０は、Ｘステージ３８０２との間に設けたＸクラッチ
３８２２によって、ステップ動作時には前記Ｘステージ
３８０２に対して剛に締結され、最終位置決めの時は切
離されて前記Ｘステージ３８０２を自由に状態にする構
成となっている。これはＹねじ軸３８０９Ａ，３８０９
ＢとＹステージ３８０３についても同様に考えることが
でき、Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂ（３８３１Ａ
は不図示）が設けられている。
２０は、Ｘステージ３８０２との間に設けたＸクラッチ
３８２２によって、ステップ動作時には前記Ｘステージ
３８０２に対して剛に締結され、最終位置決めの時は切
離されて前記Ｘステージ３８０２を自由に状態にする構
成となっている。これはＹねじ軸３８０９Ａ，３８０９
ＢとＹステージ３８０３についても同様に考えることが
でき、Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂ（３８３１Ａ
は不図示）が設けられている。
【０１５１】ここで、本実施例による位置決めの原理に
ついて図４１を参照して説明する。
ついて図４１を参照して説明する。
【０１５２】例えば、ステップ移動して位置決めする
時、先ず第２の駆動手段４１０２に移動ステージ４１０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段４１０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力はクラッチ４１０３を介して移
動ステージ４１００に伝わり、移動ステージ４１００を
ステップさせる。この時第１の駆動手段４１０１は出力
がスイッチで切断されて全く推力を発生しないか、ある
いは非常に小さい値に推力が制限されており、発熱は無
視できる程度に抑えられる。第２の駆動手段４１０２は
発熱しないか、または発熱しても冷却手段を設けるなど
して移動ステージ４１００に熱エネルギを伝えないよう
になっている。
時、先ず第２の駆動手段４１０２に移動ステージ４１０
０をステップするための電力等のエネルギを投入する。
すると第２の駆動手段４１０２は投入エネルギに応じた
推力を発生し、この推力はクラッチ４１０３を介して移
動ステージ４１００に伝わり、移動ステージ４１００を
ステップさせる。この時第１の駆動手段４１０１は出力
がスイッチで切断されて全く推力を発生しないか、ある
いは非常に小さい値に推力が制限されており、発熱は無
視できる程度に抑えられる。第２の駆動手段４１０２は
発熱しないか、または発熱しても冷却手段を設けるなど
して移動ステージ４１００に熱エネルギを伝えないよう
になっている。
【０１５３】ステップしている間、第２の駆動手段４１
０２の制御系はステージ位置を帰還するクローズドルー
プ制御であるがゲインを落とすことにより安定なステッ
プ動作を行なう。
０２の制御系はステージ位置を帰還するクローズドルー
プ制御であるがゲインを落とすことにより安定なステッ
プ動作を行なう。
【０１５４】ステップが終了に近づくと第１の駆動手段
４１０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段４１０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
４１０１の出力を切断していたスイッチが、出力を接続
する側に切り替わって第１の駆動手段４１０１が位置決
めの推力を発生するようになる（スイッチを切り替える
トリガとしては、ステージ位置、時間がある）。あるい
は非常に小さい値に制限されていた推力が位置決めに寄
与するようになる。
【０１５５】又この時、クラッチ４１０３を切り離して
第２の駆動手段４１０２と移動ステージ４１００との結
合を切ってやる。これにより移動ステージ４１００には
第２の駆動手段４１０２からは力が働かなくなり、第１
の駆動手段４１０１により移動ステージ４１００の位置
を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還するク
ローズドループ制御であリ、また第１の駆動手段４１０
１はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高い系
が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定な位
置制御を行える。
第２の駆動手段４１０２と移動ステージ４１００との結
合を切ってやる。これにより移動ステージ４１００には
第２の駆動手段４１０２からは力が働かなくなり、第１
の駆動手段４１０１により移動ステージ４１００の位置
を制御できる。また制御系はステージ位置を帰還するク
ローズドループ制御であリ、また第１の駆動手段４１０
１はリニアモータであるので、容易に機械剛性の高い系
が実現でき、高ゲイン（つまり高精度）でかつ安定な位
置制御を行える。
【０１５６】この位置決めの時の発熱であるが、第２の
駆動手段４１０２はもともと発熱しないか冷却されてい
る上、ステップがほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段４１０１には移動ス
テージ４１００を振動させる外乱に対抗する力が必要で
あるが、位置決め時の変位量は非常に小さい（例えば１
０分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発
熱は非常に小さく、移動ステージ４１００には悪影響を
及ぼさない。
駆動手段４１０２はもともと発熱しないか冷却されてい
る上、ステップがほぼ終了しているためステップ時より
さらに発熱しない。第１の駆動手段４１０１には移動ス
テージ４１００を振動させる外乱に対抗する力が必要で
あるが、位置決め時の変位量は非常に小さい（例えば１
０分の１μｍ程度）のでこれらの力を発生するための発
熱は非常に小さく、移動ステージ４１００には悪影響を
及ぼさない。
【０１５７】つづいて、本実施例におけるリニアモータ
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
とＸ，Ｙモータを駆動するための駆動制御部について説
明する。
【０１５８】なお、Ｘ方向とＹ方向とでは同様に考える
ことができるので、ここではＹ方向について説明する。
ことができるので、ここではＹ方向について説明する。
【０１５９】まず、Ｙステージ３８０３のＹ方向への移
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４
２および図４３（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），
（ｅ）を参照して説明する。
動距離を基準にして駆動制御を行なう例について、図４
２および図４３（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），
（ｅ）を参照して説明する。
【０１６０】図４２は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図４３は図４２に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４２０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
図、図４３は図４２に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４２０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
【０１６１】本例の駆動制御部では、Ｙリニアモータ３
８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ４２０３は、比較器４２０４がＹステージ３８
０３の位置と目標位置との偏差を、予め定めた許容値と
比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となった
とき、接続状態に切替えられる。
８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切替
スイッチ４２０３は、比較器４２０４がＹステージ３８
０３の位置と目標位置との偏差を、予め定めた許容値と
比較した結果、前記偏差が前記許容値の範囲内となった
とき、接続状態に切替えられる。
【０１６２】一方、Ｙモータ３８０５Ａ，３８０５Ｂに
対する、ステップ動作中、指令値に応じた駆動電流が電
流増幅器４２０５を介して印加される。また、比較器４
２０６において、前記ステップ動作が終了したか否かが
判断されており、該比較器４２０６によってＹクラッチ
３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替え制御を行なう。
対する、ステップ動作中、指令値に応じた駆動電流が電
流増幅器４２０５を介して印加される。また、比較器４
２０６において、前記ステップ動作が終了したか否かが
判断されており、該比較器４２０６によってＹクラッチ
３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替え制御を行なう。
【０１６３】この比較器４２０６によって、ステップ動
作終了時に前記Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂを切
離すことにより、Ｙステージ３８０３は、ステップ動作
終了時の位置（ほぼ目標位置）にて、自由状態になり、
前記定張力ばね３８０８によってＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重と平衡を保った状態とな
る。そして、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力はほとんど“０”となるので、容易に、最
終位置決めのための移動を行なうことができる。このと
き、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９ＢはＹステー
ジ３８０３を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は、図４３（ｃ）に示す、切替
スイッチ４２０３切替え後の電流波形の振幅に相当し、
これは、以下に示す例についても同様に言えることであ
る。
作終了時に前記Ｙクラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂを切
離すことにより、Ｙステージ３８０３は、ステップ動作
終了時の位置（ほぼ目標位置）にて、自由状態になり、
前記定張力ばね３８０８によってＸステージ３８０２お
よびＹステージ３８０３の自重と平衡を保った状態とな
る。そして、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力はほとんど“０”となるので、容易に、最
終位置決めのための移動を行なうことができる。このと
き、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３８１９ＢはＹステー
ジ３８０３を振動させようとする外乱を吸収する力のみ
を発すれば良く、その力は、図４３（ｃ）に示す、切替
スイッチ４２０３切替え後の電流波形の振幅に相当し、
これは、以下に示す例についても同様に言えることであ
る。
【０１６４】つづいて、指令入力後の経過時間を基準に
して駆動制御する例について、図４４および図４５
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）を参照して説
明する。
して駆動制御する例について、図４４および図４５
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）を参照して説
明する。
【０１６５】図４４は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図４５は図４４に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４４０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
図、図４５は図４４に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）は切替スイッチ
４４０３の切替えタイミングを、（ｃ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｄ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｅ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
【０１６６】本例の駆動制御部の場合、Ｙリニアモータ
３８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切
替スイッチ４４０３を、Ｙモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂによるステップ動作開始後の駆動時間が、予め定め
た、Ｙステージ３８０３が目標位置へ到達すると考えら
れる設定時間を越えたときに切替える構成としており、
その他は前述の図４２に示した例の場合と同様である。
本例において、前記駆動時間と前記設定時間との比較を
比較器４４０４にて行ない、さらに、該比較器４４０４
が前記切替スイッチ４４０３を切替え制御する。
３８１９Ａ，３８１９Ｂへ駆動電流を印加するための切
替スイッチ４４０３を、Ｙモータ３８０５Ａ，３８０５
Ｂによるステップ動作開始後の駆動時間が、予め定め
た、Ｙステージ３８０３が目標位置へ到達すると考えら
れる設定時間を越えたときに切替える構成としており、
その他は前述の図４２に示した例の場合と同様である。
本例において、前記駆動時間と前記設定時間との比較を
比較器４４０４にて行ない、さらに、該比較器４４０４
が前記切替スイッチ４４０３を切替え制御する。
【０１６７】つづいて、Ｙステージ３８０３が目標位置
に到達するまで、常に、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３
８１９Ｂを駆動している例について、図４６および図４
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
に到達するまで、常に、Ｙリニアモータ３８１９Ａ，３
８１９Ｂを駆動している例について、図４６および図４
７（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）を参照して説明す
る。
【０１６８】図４６は本例の駆動制御部を示すブロック
図、図４７は図４６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｃ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｄ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
図、図４７は図４６に示す駆動制御部の動作の一例を示
すタイムチャートであり、（ａ）はＹステージ３８０３
の駆動時間に対する移動距離を、（ｂ）はＹリニアモー
タ３８１９Ａ，３８１９Ｂへの印加電流を、（ｃ）はＹ
クラッチ３８３１Ａ，３８３１Ｂの切替えタイミング
を、（ｄ）はＹリニアモータ３８１９Ａ，３８１９Ｂに
対する抵抗力の変化を、示している。
【０１６９】本例の駆動制御部によるＹリニアモータ３
８１９Ａ，３８１９Ｂの駆動制御は、前述の第１実施例
の図８にて示した駆動制御部におけるＸリニアモータの
駆動制御の場合と同様に考えることができ、該Ｙリニア
モータ３８１９Ａ，３８１９Ｂによる最終位置決めの
際、それらに対する抵抗力は前述と同様にほとんど
“０”となるので、容易にＹステージ３８０３を移動さ
せることが可能となる。
８１９Ａ，３８１９Ｂの駆動制御は、前述の第１実施例
の図８にて示した駆動制御部におけるＸリニアモータの
駆動制御の場合と同様に考えることができ、該Ｙリニア
モータ３８１９Ａ，３８１９Ｂによる最終位置決めの
際、それらに対する抵抗力は前述と同様にほとんど
“０”となるので、容易にＹステージ３８０３を移動さ
せることが可能となる。
【０１７０】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので下記のような効果を奏する。 （１）請求項１に記載の移動ステージ装置の場合、第１
の駆動手段はばね部材のばね力に対抗し得る範囲内で移
動ステージを移動させることが可能であるので、該移動
ステージの最終位置決めの際の微動用に用いることがで
き、第１の駆動手段としてリニアモータを使用した場
合、小さな発熱量で高精度な位置決めを行なうことがで
きる。また、第２の駆動手段について精度を要求する必
要が無くなるので、装置として設計の自由度が向上す
る。（２）請求項４ に記載の移動ステージ装置の場合、第２
の駆動手段によってその移動方向に対し移動ステージを
平衡状態に保つことで、第１の駆動手段に対する抵抗力
が非常に小さなものとなるので、第１の駆動手段として
リニアモータを用いた場合でも小さな発熱量で高精度な
位置決めを行なうことができる。（３）請求項７ に記載の移動ステージ装置の場合、クラ
ッチによって移動ステージと第２の駆動手段とを切離す
ことで前記移動ステージを自由な状態にすることができ
るので、第１の駆動手段に対する抵抗力が非常に小さな
ものとなり、該第１の駆動手段として、リニアモータを
用いた場合でも、小さな発熱量で高精度な位置決めを行
なうことができる。
ているので下記のような効果を奏する。 （１）請求項１に記載の移動ステージ装置の場合、第１
の駆動手段はばね部材のばね力に対抗し得る範囲内で移
動ステージを移動させることが可能であるので、該移動
ステージの最終位置決めの際の微動用に用いることがで
き、第１の駆動手段としてリニアモータを使用した場
合、小さな発熱量で高精度な位置決めを行なうことがで
きる。また、第２の駆動手段について精度を要求する必
要が無くなるので、装置として設計の自由度が向上す
る。（２）請求項４ に記載の移動ステージ装置の場合、第２
の駆動手段によってその移動方向に対し移動ステージを
平衡状態に保つことで、第１の駆動手段に対する抵抗力
が非常に小さなものとなるので、第１の駆動手段として
リニアモータを用いた場合でも小さな発熱量で高精度な
位置決めを行なうことができる。（３）請求項７ に記載の移動ステージ装置の場合、クラ
ッチによって移動ステージと第２の駆動手段とを切離す
ことで前記移動ステージを自由な状態にすることができ
るので、第１の駆動手段に対する抵抗力が非常に小さな
ものとなり、該第１の駆動手段として、リニアモータを
用いた場合でも、小さな発熱量で高精度な位置決めを行
なうことができる。
【図１】本発明の移動ステージ装置の第１実施例を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】図２（ａ）は図１に示す移動ステージ装置の正
面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。
面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。
【図３】図１に示す移動ステージ装置の動作原理を説明
するための図である。
するための図である。
【図４】図１に示す移動ステージ装置における駆動制御
部の第１の例を示すブロック図である。
部の第１の例を示すブロック図である。
【図５】図４に示す駆動制御部の動作の一例を示すタイ
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
【図６】図１に示す移動ステージ装置における駆動制御
部の第２の例を示すブロック図である。
部の第２の例を示すブロック図である。
【図７】図６に示す駆動制御部の動作の一例を示すタイ
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替えタ
イミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加電流
を示す図である。
【図８】図１に示す移動ステージ装置における駆動制御
部の第３の例を示すブロック図である。
部の第３の例を示すブロック図である。
【図９】図８に示す駆動制御部の動作の一例を示すタイ
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印加電
流を示す図である。
ムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動ステ
ージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印加電
流を示す図である。
【図１０】図１に示す移動ステージ装置の変形例を示す
断面図である。
断面図である。
【図１１】本発明の移動ステージ装置の第１実施例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図１２】図１１に示す移動ステージ装置の正面図であ
る。
る。
【図１３】図１１に示す移動ステージ装置における第１
の駆動手段を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は
断面図である。
の駆動手段を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は
断面図である。
【図１４】本発明の移動ステージ装置の第１参考例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図１５】図１４に示す移動ステージ装置の正面図であ
る。
る。
【図１６】図１４に示す移動ステージ装置におけるＸ方
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
【図１７】図１４に示す移動ステージ装置におけるＹ方
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
向についての第２の駆動手段の一例を示す断面図であ
る。
【図１８】図１４に示す移動ステージ装置の動作原理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図１９】図１４に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第１の例を示すブロック図である。
制御部の第１の例を示すブロック図である。
【図２０】図１９に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
【図２１】図１４に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第２の例を示すブロック図である。
制御部の第２の例を示すブロック図である。
【図２２】図２１に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図である。
【図２３】図１４に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第３の例を示すブロック図である。
制御部の第３の例を示すブロック図である。
【図２４】図２３に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図である。
【図２５】図１４に示す移動ステージ装置の変形例に関
る動作原理を説明するための図である。
る動作原理を説明するための図である。
【図２６】図２５に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の一例を示すブロック図である。
制御部の一例を示すブロック図である。
【図２７】図２６に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はエアシリンダ内の圧力変化を示
す図、（ｅ）は切替バルブの切替えタイミングを示す
図、（ｆ）はエアシリンダの剛性変化を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はエアシリンダ内の圧力変化を示
す図、（ｅ）は切替バルブの切替えタイミングを示す
図、（ｆ）はエアシリンダの剛性変化を示す図である。
【図２８】本発明の移動ステージ装置の第２参考例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２９】図２８に示す移動ステージ装置の正面図であ
る。
る。
【図３０】本発明の移動ステージ装置の第３実施例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図３１】（ａ）は図３０に示す移動ステージ装置の正
面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図３２】図３０に示す移動ステージ装置の動作原理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図３３】図３０に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第１の例を示すブロック図である。
制御部の第１の例を示すブロック図である。
【図３４】図３３に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は第１の切替スイッチ
の切替えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへ
の印加電流を示す図、（ｄ）は第２の切替スイッチの切
替えタイミングを示す図、（ｅ）はリニアモータに対す
る抵抗力の変化を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は第１の切替スイッチ
の切替えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへ
の印加電流を示す図、（ｄ）は第２の切替スイッチの切
替えタイミングを示す図、（ｅ）はリニアモータに対す
る抵抗力の変化を示す図である。
【図３５】図３０に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第２の例を示すブロック図である。
制御部の第２の例を示すブロック図である。
【図３６】図３０に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第３の例を示すブロック図である。
制御部の第３の例を示すブロック図である。
【図３７】図３６に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）は切替スイッチの切替えタイミ
ングを示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の
変化を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）は切替スイッチの切替えタイミ
ングを示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の
変化を示す図である。
【図３８】本発明の移動ステージ装置の第４実施例を示
す正面図である。
す正面図である。
【図３９】図３８に示す移動ステージ装置のＡ−Ａ線断
面図である。
面図である。
【図４０】図３８に示す移動ステージ装置のＢ−Ｂ線断
面図である。
面図である。
【図４１】図３８に示す移動ステージ装置の動作原理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図４２】図３８に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第１の例を示すブロック図である。
制御部の第１の例を示すブロック図である。
【図４３】図４２に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
【図４４】図３８に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第２の例を示すブロック図である。
制御部の第２の例を示すブロック図である。
【図４５】図４４に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）は切替スイッチの切替
えタイミングを示す図、（ｃ）はリニアモータへの印加
電流を示す図、（ｄ）はクラッチの切替えタイミングを
示す図、（ｅ）はリニアモータに対する抵抗力の変化を
示す図である。
【図４６】図３８に示す移動ステージ装置における駆動
制御部の第３の例を示すブロック図である。
制御部の第３の例を示すブロック図である。
【図４７】図４６に示す駆動制御部の動作の一例を示す
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）はクラッチの切替えタイミング
を示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の変化
を示す図である。
タイムチャートであり、（ａ）は駆動時間に対する移動
ステージの位置を示す図、（ｂ）はリニアモータへの印
加電流を示す図、（ｃ）はクラッチの切替えタイミング
を示す図、（ｄ）はリニアモータに対する抵抗力の変化
を示す図である。
１００，１１００，１４００，２８００，３０００
マスク １０１，１１０１，１４０１，２８０１，３００１，３
８０１ ウェハ １０２，１４０２，２８０２，３００２，３８０６
ステージ定盤 １０３，１１０３，１４０３，２８０３，３００３，３
８１８ ウェハチャック １０４，１４０４，３００４，３８０２ Ｘステージ １０５，１４０５，３００５，３８０３ Ｙステージ １０６，１４０６，３０１０ Ｘリニアモータ １０７，１４０７，３０１５，３８１９ Ｙリニアモ
ータ １０８，３０２１，３８０４ Ｘモータ １０９，３００７，３８０５ Ｙモータ １１０，３８１２ Ｘねじ軸 １１１ 軸受ユニット １１２，３８２３ カップリングユニット １１３，３８２７ 転動軸受 １１４，３８２０ Ｘナット １１５ Ｘ板ばね １１６，１４０９，３０１１ Ｘリニアモータ連結板 １１７，１４０８，３０１２，３８０７ Ｘリニアモ
ータコイル １１８，１１１６，１４２３，２８１６，３０２８，３
８２４ Ｘ静圧軸受加圧系 １１９，１１１８，１４２２，２８１５，３０２７，３
８２５ Ｙ予圧磁石 １２０，１４２１，３０２６，３８２６ Ｘ静圧パッ
ド １２１，３８０９ Ｙねじ軸 １２２，１４１０，３０１４ Ｙリニアモータコイル １２３，１４１１，３０１６，３８１１ Ｙリニアモ
ータ連結板 １２４，３８１０ Ｙリニアモータコイル １２５，１４２４，３０２３，３８１５，３８３０
Ｙ静圧パッド １２６，１４２６，２８１８，３０２４，３８１６，３
８２９ Ｙ静圧軸受加圧系 １２７，１４２５，２８１７，３０２５，３８２８
Ｙ予圧磁石 １２８，１１１３，１４１８，２８１２，３０１８
Ｘ軸レーザ干渉計ユニット １２９，１１１４，１４１９，２８１３，３０１９
Ｙ軸レーザ干渉計ユニット １３０，１１１２，１４１７，２８１１，３０１７，３
８１４ スコヤミラー １３１，３８２２，３８３１，４１０３ クラッチ １３２，３８２１，３８３２ 駆動プレート ３００，１８０５，３２００，４１００ 移動ステー
ジ ３０１，１８０７，３２０１，４１０１ 第１の駆動
手段 ３０２，１８０６，３２０２，４１０２ 第２の駆動
手段 ３０３ ばね部材 ４０１，４０４，６０１，６０４，８０１，８０４，１
９０１，１９０５，２１０１，２１０５，２３０１，２
３０４，２６０１，２６０５，３３０１，３３０５，３
５０１，３５０５，３６０１，３６０４，４２０１，４
４０１，４６０１ フィルタ ４０２，４０５，６０２，６０５，８０２，８０５，１
９０２，２１０２，２３０２，２６０２，３３０２，３
３０９，３５０２，３５０９，３６０２，３６０８，４
２０２，４２０５，４４０２，４４０５，４６０２，４
６０４電流増幅器 ４０３，６０３，１９０３，２１０３，２６０３，３３
０３，３３０８，３５０３，３５０８，４２０３，４４
０３ 切替スイッチ ４０６，６０６，１９０４，２１０４，３３０４，３３
０７，３５０４，３５０７，３６０６，４２０４，４２
０６，４４０４，４４０６，４６０５比較器 ８０３，２３０３，３６０３，４６０３ 電流制限器 １１０４，２８０４ ＺＹステージ １１０５ シリンダ固定盤 １１０６ Ｘ電動シリンダ １１０７ Ｘ電動シリンダロッド １１０８ Ｘ平行板ばね １１０９ Ｙ電動シリンダ １１１０ Ｙ電動シリンダロッド １１１１，２８０５ Ｘアシストベース １１１５ Ｙ平行板ばね １１１７，１４１２，２８１０ Ｘ静圧軸受 １３０１ パッド １３０２ コア １３０３ コイル １３０４ ギャップセンサ １３０５ Ｘインダクションモータ １３０６，１３０７，１３０９，１３１０，１３１２，
１３１３ コイル １３０８ Ｙインダクションモータ １３１１ θインダクションモータ １４１３，２８１４ Ｘ非接触エアシリンダ １４１４，２８０７ Ｘ非接触エアシリンダロッド １４１５，２８１９ Ｙ非接触エアシリンダ １４１６ Ｙ非接触エアシリンダロッド １４２０ Ｘヨーガイド １６０１，１６１２，１７０５ 非接触エアシリンダ
排気系 １６０２，１６１１，１７０４ 非接触エアシリンダ
給気系 １６０３，１６０４，１６０９，１６１０，１７０１，
１７０３ ラビリンス １６０５ 静圧軸受加圧系 １６０６ 静圧軸受 １６０７，１６０８，１７０２ 真空排気系 １８０１，１９０６，２１０６，２３０５，２５０１，
２６０６ 真空源 １８０２，１９０７，２１０７，２３０６，２５０２，
２６０７ 圧力源 １８０３，１９０８，２１０８，２３０７，２５０３，
２５０８，２６０８，２６１１ 切替バルブ １８０４，１９０９，２１０９，２３０８，２５０４，
２６０９ 制御バルブ ２５０６ エアシリンダ ２５０７ リニアモータ ２５０９，２６１２ 定圧大容量チャンバ ２８０６ Ｙアシストベース ２８１０ Ｘ静圧軸受 ３００６ Ｙベルト ３００８ Ｙドラムユニット ３００９，３８１３ イコライズ ３０１３ Ｙヨーガイド ３０２０ Ｘベルト ３０２２ Ｘドラムユニット ３３０６，３５０６，３６０５ 定電流源 ３８０８ 定張力ばね ３８１７ 定張力ばねドラム ３８３３ Ｙナット
マスク １０１，１１０１，１４０１，２８０１，３００１，３
８０１ ウェハ １０２，１４０２，２８０２，３００２，３８０６
ステージ定盤 １０３，１１０３，１４０３，２８０３，３００３，３
８１８ ウェハチャック １０４，１４０４，３００４，３８０２ Ｘステージ １０５，１４０５，３００５，３８０３ Ｙステージ １０６，１４０６，３０１０ Ｘリニアモータ １０７，１４０７，３０１５，３８１９ Ｙリニアモ
ータ １０８，３０２１，３８０４ Ｘモータ １０９，３００７，３８０５ Ｙモータ １１０，３８１２ Ｘねじ軸 １１１ 軸受ユニット １１２，３８２３ カップリングユニット １１３，３８２７ 転動軸受 １１４，３８２０ Ｘナット １１５ Ｘ板ばね １１６，１４０９，３０１１ Ｘリニアモータ連結板 １１７，１４０８，３０１２，３８０７ Ｘリニアモ
ータコイル １１８，１１１６，１４２３，２８１６，３０２８，３
８２４ Ｘ静圧軸受加圧系 １１９，１１１８，１４２２，２８１５，３０２７，３
８２５ Ｙ予圧磁石 １２０，１４２１，３０２６，３８２６ Ｘ静圧パッ
ド １２１，３８０９ Ｙねじ軸 １２２，１４１０，３０１４ Ｙリニアモータコイル １２３，１４１１，３０１６，３８１１ Ｙリニアモ
ータ連結板 １２４，３８１０ Ｙリニアモータコイル １２５，１４２４，３０２３，３８１５，３８３０
Ｙ静圧パッド １２６，１４２６，２８１８，３０２４，３８１６，３
８２９ Ｙ静圧軸受加圧系 １２７，１４２５，２８１７，３０２５，３８２８
Ｙ予圧磁石 １２８，１１１３，１４１８，２８１２，３０１８
Ｘ軸レーザ干渉計ユニット １２９，１１１４，１４１９，２８１３，３０１９
Ｙ軸レーザ干渉計ユニット １３０，１１１２，１４１７，２８１１，３０１７，３
８１４ スコヤミラー １３１，３８２２，３８３１，４１０３ クラッチ １３２，３８２１，３８３２ 駆動プレート ３００，１８０５，３２００，４１００ 移動ステー
ジ ３０１，１８０７，３２０１，４１０１ 第１の駆動
手段 ３０２，１８０６，３２０２，４１０２ 第２の駆動
手段 ３０３ ばね部材 ４０１，４０４，６０１，６０４，８０１，８０４，１
９０１，１９０５，２１０１，２１０５，２３０１，２
３０４，２６０１，２６０５，３３０１，３３０５，３
５０１，３５０５，３６０１，３６０４，４２０１，４
４０１，４６０１ フィルタ ４０２，４０５，６０２，６０５，８０２，８０５，１
９０２，２１０２，２３０２，２６０２，３３０２，３
３０９，３５０２，３５０９，３６０２，３６０８，４
２０２，４２０５，４４０２，４４０５，４６０２，４
６０４電流増幅器 ４０３，６０３，１９０３，２１０３，２６０３，３３
０３，３３０８，３５０３，３５０８，４２０３，４４
０３ 切替スイッチ ４０６，６０６，１９０４，２１０４，３３０４，３３
０７，３５０４，３５０７，３６０６，４２０４，４２
０６，４４０４，４４０６，４６０５比較器 ８０３，２３０３，３６０３，４６０３ 電流制限器 １１０４，２８０４ ＺＹステージ １１０５ シリンダ固定盤 １１０６ Ｘ電動シリンダ １１０７ Ｘ電動シリンダロッド １１０８ Ｘ平行板ばね １１０９ Ｙ電動シリンダ １１１０ Ｙ電動シリンダロッド １１１１，２８０５ Ｘアシストベース １１１５ Ｙ平行板ばね １１１７，１４１２，２８１０ Ｘ静圧軸受 １３０１ パッド １３０２ コア １３０３ コイル １３０４ ギャップセンサ １３０５ Ｘインダクションモータ １３０６，１３０７，１３０９，１３１０，１３１２，
１３１３ コイル １３０８ Ｙインダクションモータ １３１１ θインダクションモータ １４１３，２８１４ Ｘ非接触エアシリンダ １４１４，２８０７ Ｘ非接触エアシリンダロッド １４１５，２８１９ Ｙ非接触エアシリンダ １４１６ Ｙ非接触エアシリンダロッド １４２０ Ｘヨーガイド １６０１，１６１２，１７０５ 非接触エアシリンダ
排気系 １６０２，１６１１，１７０４ 非接触エアシリンダ
給気系 １６０３，１６０４，１６０９，１６１０，１７０１，
１７０３ ラビリンス １６０５ 静圧軸受加圧系 １６０６ 静圧軸受 １６０７，１６０８，１７０２ 真空排気系 １８０１，１９０６，２１０６，２３０５，２５０１，
２６０６ 真空源 １８０２，１９０７，２１０７，２３０６，２５０２，
２６０７ 圧力源 １８０３，１９０８，２１０８，２３０７，２５０３，
２５０８，２６０８，２６１１ 切替バルブ １８０４，１９０９，２１０９，２３０８，２５０４，
２６０９ 制御バルブ ２５０６ エアシリンダ ２５０７ リニアモータ ２５０９，２６１２ 定圧大容量チャンバ ２８０６ Ｙアシストベース ２８１０ Ｘ静圧軸受 ３００６ Ｙベルト ３００８ Ｙドラムユニット ３００９，３８１３ イコライズ ３０１３ Ｙヨーガイド ３０２０ Ｘベルト ３０２２ Ｘドラムユニット ３３０６，３５０６，３６０５ 定電流源 ３８０８ 定張力ばね ３８１７ 定張力ばねドラム ３８３３ Ｙナット
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G12B 5/00 H01L 21/68
Claims (11)
- 【請求項１】 所定の移動範囲を有する移動ステージを
備えた移動ステージ装置において、 前記移動ステージを、所定の許容範囲内で駆動可能な第
１の駆動手段と、 該第１の駆動手段と異なる機構によってなり、前記移動
ステージを、前記移動範囲全体にわたって、前記第１の
駆動手段による移動方向と同一方向に駆動可能な第２の
駆動手段とを有し、 該第２の駆動手段と前記移動ステージとが、移動方向に
変形可能なばね部材を介して連結されていることを特徴
とする移動ステージ装置。 - 【請求項２】 第１の駆動手段がリニアモータであるこ
とを特徴とする請求項１記載の移動ステージ装置。 - 【請求項３】 移動ステージが略水平方向と略鉛直方向
とに移動範囲を有する請求項１あるいは２記載の移動ス
テージ装置。 - 【請求項４】 所定の移動範囲を有する移動ステージを
備えた移動ステージ装置において、 前記移動ステージを、所定の許容範囲内で駆動可能な、
電磁力を利用した第１の駆動手段と、 該第１の駆動手段と異なる機構によってなり、前記移動
ステージを、前記移動範囲全体にわたって、前記第１の
駆動手段による移動方向と同一方向に駆動可能な、電磁
力を利用した第２の駆動手段とを有することを特徴とす
る移動ステージ装置。 - 【請求項５】 第１の駆動手段はリニアモータであり、
第２の駆動手段は回転型モータであることを特徴とする
請求項４記載の移動ステージ装置。 - 【請求項６】 移動ステージが略水平方向と略鉛直方向
とに移動範囲を有することを特徴とする請求項４あるい
は５記載の移動ステージ装置。 - 【請求項７】 所定の移動範囲を有する移動ステージを
備えた移動ステージ装置において、 前記移動ステージを、所定の許容範囲内で駆動可能な第
１の駆動手段と、 該第１の駆動手段と異なる機構によってなり、前記移動
ステージを、前記移動範囲全体にわたって、前記第１の
駆動手段による移動方向と同一方向に駆動可能な第２の
駆動手段とを有し、 該第２の駆動手段と前記移動ステージとが、それらを切
離し可能にするクラッチを介して連結されている ことを
特徴とする移動ステージ装置。 - 【請求項８】 第１の駆動手段がリニアモータであるこ
とを特徴とする請求項７記載の移動ステージ装置。 - 【請求項９】 移動ステージが略水平方向と略鉛直方向
とに移動範囲を有することを特徴とする請求項７あるい
は８記載の移動ステージ装置。 - 【請求項１０】 前記第１の駆動手段はステージの微動
用の駆動手段であり、前記第２の駆動手段はステージの
粗動用の駆動手段であることを特徴とする請求項１〜９
のいずれか１項に記載の移動ステージ装置。 - 【請求項１１】 露光装置のアライメント装置として用
いることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に
記載の移動ステージ装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7755992A JP3137717B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 移動ステージ装置 |
| EP93302498A EP0564255B1 (en) | 1992-03-31 | 1993-03-30 | Stage device and pattern transfer system using the same |
| DE69308347T DE69308347T2 (de) | 1992-03-31 | 1993-03-30 | Vorlagenbühne und Musterübertragungssystem hierfür |
| ES93302498T ES2097976T3 (es) | 1992-03-31 | 1993-03-30 | Dispositivo portaobjetos y sistema de transferencia de dibujo que lo utiliza. |
| AT93302498T ATE149699T1 (de) | 1992-03-31 | 1993-03-30 | Vorlagenbühne und musterübertragungssystem hierfür |
| US08/275,428 US5684856A (en) | 1991-09-18 | 1994-07-15 | Stage device and pattern transfer system using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7755992A JP3137717B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 移動ステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05283321A JPH05283321A (ja) | 1993-10-29 |
| JP3137717B2 true JP3137717B2 (ja) | 2001-02-26 |
Family
ID=13637381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7755992A Expired - Fee Related JP3137717B2 (ja) | 1991-09-18 | 1992-03-31 | 移動ステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3137717B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101950221B1 (ko) * | 2017-04-12 | 2019-02-20 | 최영주 | 글라스 가드펜스 지지수단 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4430846C2 (de) * | 1994-08-31 | 1997-04-10 | Jenoptik Jena Gmbh | Einrichtung zur Umsetzung eines Transportobjektes zwischen zwei Endlagen |
| JP2002252166A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法 |
| GB2478302B (en) | 2010-03-02 | 2012-02-15 | Cinetic Landis Ltd | A machine axis including a counterbalance and methods of operation thereof |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP7755992A patent/JP3137717B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101950221B1 (ko) * | 2017-04-12 | 2019-02-20 | 최영주 | 글라스 가드펜스 지지수단 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05283321A (ja) | 1993-10-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0977244B1 (en) | Stage system and stage driving method for use in exposure apparatus | |
| US5684856A (en) | Stage device and pattern transfer system using the same | |
| US6271640B1 (en) | Exposure apparatus having reaction frame | |
| US6437463B1 (en) | Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage | |
| US7330093B2 (en) | Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| US7271879B2 (en) | Decoupled planar positioning system | |
| US6408045B1 (en) | Stage system and exposure apparatus with the same | |
| JP2001351856A5 (ja) | ||
| Shinno et al. | Nanometer positioning of a linear motor-driven ultraprecision aerostatic table system with electrorheological fluid dampers | |
| WO2017142481A1 (en) | High precision localizing platforms | |
| JP3135404B2 (ja) | ステージ装置とこれを用いたシステム | |
| JP3137717B2 (ja) | 移動ステージ装置 | |
| US20060061751A1 (en) | Stage assembly including a stage having increased vertical stroke | |
| US7738232B2 (en) | Alignment apparatus | |
| JP2001242937A (ja) | ステージ装置 | |
| JP4012199B2 (ja) | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| EP0564255B1 (en) | Stage device and pattern transfer system using the same | |
| US20030097205A1 (en) | Control scheme and system for active vibration isolation | |
| JP4012198B2 (ja) | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| CN117690852A (zh) | 载台装置、图案形成装置及物品制造方法 | |
| JPH06204106A (ja) | テーブル装置、縮小投影露光装置及び電子線描画装置 | |
| JPS58147134A (ja) | 精密平面移動装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |