JP2001351856A5 - - Google Patents

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Claims (60)

  1. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つにおける対向側面に沿って配置された第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第１モータ(18)および第２モータ(17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第２の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに、機能できる状態で関連付けられている、第１モータ(18)および第２モータ(17)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)から実質的に独立した支持構造によって支持されている投影装置。
  2. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１方向(Y)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)が移動する方向と実質的に平行である投影装置。
  3. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記支持構造の上部表面は平面状である投影装置。
  4. 請求項３に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、軸受を備えており、
    当該軸受は、前記平面状の上部表面に作用して、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を実質的に摩擦なしに前記支持構造に対して相対的に移動させることができるように構成されている投影装置。
  5. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を前記第１方向(Y)に実質的に直交する方向に移動させ、かつ、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を少なくとも前記第１方向(Y)に関して回転させるように構成されたアクチュエータを備えた投影装置。
  6. 請求項１に記載する投影装置において、
    さらに、上部表面が実質的に平坦かつ水平である基盤構造(40,50)を含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、前記実質的に平坦で水平な上部表面に作用する複数の軸受(21,22,23,31,32,33)によって、前記第１方向(Y)に実質的に直交する第３方向(Z)で支持されている投影装置。
  7. 請求項６に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、実質的に広い移動範囲に亘って前記第１方向(Y)に移動することができる投影装置。
  8. 請求項６に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、前記第１方向(Y)および前記第３方向(Z)に実質的に直交する第２方向(X)に移動することができ、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)の前記第２方向(X)への移動は、基盤構造(40,50)の実質的に垂直な壁(42,52)に対して作用する柔軟な軸受(24,25,34,35)により供給される投影装置。
  9. 請求項６に記載する投影装置において、
    前記基盤構造(40,50)の実質的に平坦で水平な上部表面に作用する前記軸受(21,22,23,31,32,33)の独立した運動は、前記第１および第２平衡質量(20,30)を前記第１方向(Y)および前記第３方向(Z)の回りに回転運動させる投影装置。
  10. 請求項６に記載する投影装置において、
    前記軸受(21,22,23,31,32,33)は、前記第３方向(Z)に低剛性であり、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つは、前記第３方向(Z)に移動できるようになっている投影装置。
  11. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)の質量は、それぞれ、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の質量の２〜１０倍である投影装置。
  12. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)の質量中心と、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の質量中心とは、前記第１方向(Y)に直交する方向に、１００ｍｍ未満の間隔で位置している投影装置。
  13. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)と前記第１平衡質量(20)との間に作用する前記第１のモータ(18)、および、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)と前記第２平衡質量(30)との間に作用する前記第２のモータ(17)によって、前記第１方向(Y)に駆動される投影装置。
  14. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２のモータ(18,17)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に装着されたアーマチュアと、前記第１および第２平衡質量(20,30)のそれぞれに装着された長尺状のステータとを含むリニアモータを含む投影装置。
  15. 請求項１３に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、第３のモータ(19)によって、前記第１方向(Y)に実質的に直交する方向に移動することができ、当該第３のモータ(19)の作用線は、少なくとも、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の質量中心を通過する作用線である投影装置。
  16. 請求項１に記載する投影装置において、
    さらに、前記第１および第２平衡質量(20,30)の長期累積並進（ドリフト）を制限するためのドリフト制御システム(130)を含む投影装置。
  17. 請求項１６に記載する投影装置において、
    前記ドリフト制御システム(130)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)に力を加えることができる、サーボ制御システム(132)とアクチュエータ(133)とを含み、それにより、前記第１平衡質量(20)、前記第２平衡質量(30)、および、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)の組合せ質量中心を所望の位置に偏倚するようになっている投影装置。
  18. 請求項１７に記載する投影装置において、
    前記ドリフト制御システム(130)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)および前記投影装置のベースの最低共振周波数よりも、少なくとも５倍小さいサーボ帯域幅を有する投影装置。
  19. 請求項１６に記載する投影装置において、
    前記ドリフト制御システム(130)は、能動的システムを含む投影装置。
  20. 請求項１６に記載する投影装置において、
    前記ドリフト制御システム(130)は、負帰還サーボシステムを含む投影装置。
  21. 請求項１６に記載する投影装置において、
    前記ドリフト制御システム(130)は、受動的システムを含む投影装置。
  22. 請求項１６に記載する投影装置において、
    前記ドリフト制御システム(130)は、少なくとも１つのばねを含む投影装置。
  23. 放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つにおける対向側面に沿って配置された第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第１モータ(18)および第２モータ(17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第２の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに、機能できる状態で関連付けられている、第１モータ(18)および第２モータ(17)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)から実質的に独立した第３平衡質量(60)によって支持されている投影装置。
  24. 請求項１に記載する投影装置において、
    さらに、前記支持構造により支持されるショートストロークフレーム(80)を含む投影装置。
  25. 請求項２４に記載する投影装置において、
    前記ショートストロークフレーム(80)は、前記第１方向(Y)と前記第１方向(Y)に直交する第２方向(X)とに移動することができる投影装置。
  26. 請求項２４に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記ショートストロークフレーム(80)に対して６つの自由度で駆動される投影装置。
  27. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第１物体テーブル(MT)を含む投影装置。
  28. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第２物体テーブル(WT)を含む投影装置。
  29. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１の電磁部材はコイルを含み、前記第２の電磁部材は磁石を含む投影装置。
  30. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１の電磁部材は磁石を含み、前記第２の電磁部材はコイルを含む投影装置。
  31. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２モータ(18,17)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を回転させるように構成されている投影装置。
  32. 請求項１に記載する投影装置において、
    前記第１および第２モータ(18,17)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を前記支持構造の平面状の表面に直交する軸(Z)の周りに回転(Rz)させるように構成されている投影装置。
  33. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つにおける対向側面に沿って配置された第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第１モータ(18)および第２モータ(17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第２の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに、機能できる状態で関連付けられている、第１モータ(18)および第２モータ(17)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)から独立した支持構造によって支持されている投影装置。
  34. 請求項３３に記載する投影装置において、
    前記支持構造の上部表面は水平である投影装置。
  35. 請求項３３に記載する投影装置において、
    前記支持構造および前記第１および第２平衡質量(20,30)は、共通のベースフレームに支持されている投影装置。
  36. 請求項３３に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、空気軸受によって支持されている投影装置。
  37. 請求項３３に記載する投影装置において、
    前記各モータ(18,17)は、さらに、ロングストローク位置決めモジュールおよびショートストローク位置決めモジュールを含む投影装置。
  38. 請求項３３に記載する投影装置において、
    前記第１および第２モータ(18,17)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を回転させるように構成されている投影装置。
  39. 請求項３４に記載する投影装置において、
    前記第１および第２モータ(18,17)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を前記水平な上部表面に直交する軸(Z)の周りに回転(Rz)させるように構成されている投影装置。
  40. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つにおける対向側面に沿って配置された第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第１モータ(18)および第２モータ(17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第２の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに、機能できる状態で関連付けられている、第１モータ(18)および第２モータ(17)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっており、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)とは異なる支持構造によって、少なくとも部分的に支持されている投影装置。
  41. 請求項４０に記載する投影装置において、
    前記支持構造の上部表面は平面状かつ水平である投影装置。
  42. 請求項４０に記載する投影装置において、
    前記支持構造と前記第１および第２平衡質量(20,30)とは、共通のベースフレームに支持されている投影装置。
  43. 請求項４０に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、空気軸受によって支持されている投影装置。
  44. 請求項４０に記載する投影装置において、
    前記各モータ(18,17)は、さらに、ロングストローク位置決めモジュールおよびショートストローク位置決めモジュールを含む投影装置。
  45. 請求項４０に記載する投影装置において、
    前記第１および第２モータ(18,17)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を回転させるように構成されている投影装置。
  46. 放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つにおける対向側面に沿って配置された第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を支持するための支持構造と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第１モータ(18)および第２モータ(17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第２の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに、機能できる状態で関連付けられている、第１モータ(18)および第２モータ(17)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっている投影装置。
  47. 請求項４６に記載する投影装置において、
    前記支持構造の上部表面は平面状かつ水平である投影装置。
  48. 請求項４６に記載する投影装置において、
    前記支持構造と前記第１および第２平衡質量(20,30)とは、共通のベースフレームに支持されている投影装置。
  49. 請求項４６に記載する投影装置において、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)は、空気軸受によって支持されている投影装置。
  50. 請求項４６に記載する投影装置において、
    前記各モータ(18,17)は、さらに、ロングストローク位置決めモジュールおよびショートストローク位置決めモジュールを含む投影装置。
  51. 請求項４６に記載する投影装置において、
    前記第１および第２モータ(18,17)は、前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向の力を加えて、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を回転させるように構成されている投影装置。
  52. 請求項４６に記載する投影装置において、
    さらに、基盤構造と、当該基盤構造に結合され、実質的に平坦で水平な上部表面を有する平行レール(40,50)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、前記実質的に平坦で水平な上部表面に作用する複数の軸受(21,22,23,31,32,33)によって、前記第１方向(Y)に実質的に直交する第３方向(Z)に支持される投影装置。
  53. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つを位置決めするための平衡物体テーブル位置決めシステムとを含み、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムは、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)と、
    第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)を支持するための支持構造と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)が少なくとも第１方向(Y)に移動できるようにそれらの各々を支持するための軸受と、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)と前記第１または第２平衡質量(20,30)との間に作用して、前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)を前記第１方向(Y)に直交する軸(Z)の周りに回転(Rz)させるアクチュエータ(81,82,83,84,85,86)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)に偏倚力を加えることができるようになっており、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)、前記アクチュエータおよび前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)の組み合わせ質量中心を所望の位置に向けて偏倚して、前記第１および第２平衡質量(20,30)のドリフトを制限するためのドリフト制御システム(130)と、
    を含む投影装置。
  54. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つを支持するための支持構造と、
    前記支持構造により支持される物体テーブル(MT,WT)を位置決めするための平衡物体テーブル位置決めシステムとを含み、ここで、前記支持構造により支持される物体テーブル(MT,WT)は前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも1つによって少なくとも部分的に支持され、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムは、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)が少なくとも第１方向(Y)に移動できるようにそれらの各々を支持するための軸受と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向に力を加えることによって、前記支持構造により支持される物体テーブル(MT,WT)を回転（Ｒｚ）させるように配置されているアクチュエータ(81,82,83,84,85,86)と、
    を含む投影装置。
  55. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つを支持するための支持構造と、
    前記支持構造により支持される物体テーブル(MT,WT)を位置決めするための平衡物体テーブル位置決めシステムとを含み、ここで、前記支持構造により支持される物体テーブル(MT,WT)は前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも1つによって少なくとも部分的に支持され、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムは、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)が少なくとも第１方向(Y)に移動できるようにそれらの各々を支持するための軸受と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)に互いに反対方向に力を加えることによって、前記支持構造により支持される物体テーブル(MT,WT)を回転（Ｒｚ）させるように配置されているアクチュエータ(81,82,83,84,85,86)であって、当該アクチュエータ(81,82,83,84,85,86)によって前記支持構造により支持される物体テーブル(MT,WT)に加えられる力が、当該アクチュエータ(81,82,83,84,85,86)によって前記第１および第２平衡質量(20,30)に加えられる反力に等しくなるように構成され、かつ、配置されているアクチュエータ(81,82,83,84,85,86)と、
    を含む投影装置。
  56. リソグラフィ投影装置であって、
    パターニング手段と、
    基板(W)を保持するための物体テーブル(WT)と、
    前記パターニング手段の被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(WT)における対向側面に沿って配置された第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記物体テーブル(WT)を支持するための支持構造と、
    前記物体テーブル(WT)を移動させるための第１モータ(18)および第２モータ(17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は、前記物体テーブル(WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第２の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに、機能できる状態で関連付けられている、第１モータ(18)および第２モータ(17)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記物体テーブル(WT)を平衡状態にすることができるようになっている投影装置。
  57. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    パターニング手段を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記パターニング手段の被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つにおける対向側面に沿って配置された第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を支持するための支持構造と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を移動させるための第１モータ(18)および第２モータ(17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)に、機能できる状態で関連付けられており、第２の電磁部材は、前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに、機能できる状態で関連付けられている、第１モータ(18)および第２モータ(17)とを含み、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)は、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっており、それにより、前記第１および第２平衡質量(20,30)がその対向側面に沿って配置された物体テーブル(MT,WT)を平衡状態にすることができるようになっている投影装置。
  58. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つを位置決めするための平衡物体テーブル位置決めシステムと、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)における対向側面に沿って配置される第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)であって、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっている第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)とを含み、
    ここで、前記平衡物体テーブル位置決めシステムは、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)を移動させるための一対のモータ(18,17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)に搭載され、第２の電磁部材は前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに搭載されている、一対のモータ、
    を含む投影装置。
  59. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するためのマスクテーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するためのウェハテーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記マスクテーブル(MT)を位置決めするための平衡マスクテーブル位置決めシステムとを含み、
    前記平衡マスクテーブル位置決めシステムは、
    前記マスクテーブル(MT)と、
    前記マスクテーブル(MT)の対向側面に沿って独立して配置される第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)であって、少なくとも第１方向(Y)に移動できるようになっている第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)を支持する少なくとも１つの軸受と、
    前記マスクテーブル(MT)を移動させるための一対のモータ(18,17)であって、各モータは２つの協働する電磁部材を有し、第１の電磁部材は前記マスクテーブル(MT)に搭載され、第２の電磁部材は前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つに搭載されている、一対のモータと、
    を含む投影装置。
  60. リソグラフィ投影装置であって、
    放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA,IL)と、
    マスク(MA)を保持するための第１物体テーブル(MT)と、
    基板(W)を保持するための第２物体テーブル(WT)と、
    前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL)と、
    前記物体テーブル(MT,WT)の少なくとも１つを位置決めするための平衡物体テーブル位置決めシステムとを含み、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムは、
    前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)における対向側面に沿って配置される第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)であって、前記対向側面に直交した断面は実質的に中実である第１平衡質量(20)および第２平衡質量(30)と、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)が少なくとも第１方向(Y)に移動できるように支持するための軸受と、
    個別のアクチュエータであって、それぞれが、前記平衡物体テーブル位置決めシステムにより位置決めされる物体テーブル(MT,WT)と前記第１および第２平衡質量(20,30)の少なくとも１つとに力を加えることができるようになっている個別のアクチュエータと、
    前記第１および第２平衡質量(20,30)のドリフトを制限するドリフト制御システム(130)と、
    を含む投影装置。
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