JPH05179210A - 熱伝導性接着フィルム、熱伝導性接着剤層を有する積層品及びそれらの使用品 - Google Patents

熱伝導性接着フィルム、熱伝導性接着剤層を有する積層品及びそれらの使用品

Info

Publication number
JPH05179210A
JPH05179210A JP12934192A JP12934192A JPH05179210A JP H05179210 A JPH05179210 A JP H05179210A JP 12934192 A JP12934192 A JP 12934192A JP 12934192 A JP12934192 A JP 12934192A JP H05179210 A JPH05179210 A JP H05179210A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laminate
adhesive layer
thermally conductive
thermal conductivity
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12934192A
Other languages
English (en)
Inventor
Patrice Dr Bujard
ビュジャール パトリス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPH05179210A publication Critical patent/JPH05179210A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3737Organic materials with or without a thermoconductive filler
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3736Metallic materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H01L23/433Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
    • H01L23/4334Auxiliary members in encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/303Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
    • H05K3/305Affixing by adhesive
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • H05K1/0203Cooling of mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0104Properties and characteristics in general
    • H05K2201/0129Thermoplastic polymer, e.g. auto-adhesive layer; Shaping of thermoplastic polymer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0209Inorganic, non-metallic particles
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10621Components characterised by their electrical contacts
    • H05K2201/10689Leaded Integrated Circuit [IC] package, e.g. dual-in-line [DIL]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
    • H05K3/3421Leaded components
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/901Printed circuit
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249955Void-containing component partially impregnated with adjacent component
    • Y10T428/249958Void-containing component is synthetic resin or natural rubbers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2913Rod, strand, filament or fiber
    • Y10T428/2918Rod, strand, filament or fiber including free carbon or carbide or therewith [not as steel]
    • Y10T428/292In coating or impregnation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2913Rod, strand, filament or fiber
    • Y10T428/2933Coated or with bond, impregnation or core
    • Y10T428/294Coated or with bond, impregnation or core including metal or compound thereof [excluding glass, ceramic and asbestos]
    • Y10T428/2942Plural coatings
    • Y10T428/2949Glass, ceramic or metal oxide in coating

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 (a)少なくとも10W/mKの熱伝導率及び1
0〜100μm の厚さを有する支持体と、(b)該支持
体の少なくとも一つの表面に適用され、熱伝導充填剤を
含有し、5〜500μm の厚さと少なくとも1W/mKの熱
伝導率を有する誘電接着剤層とを含む積層品及び同積層
品を用いた電気・電子部品。 【効果】 金属及び合成樹脂成形材料等を組合わせた電
気・電子部品は、発熱の際、各構成材料の熱膨張率が大
きく異り、熱機械的応力が発生し、その効率及び寿命が
制限されるが、本積層品は熱伝導率が極めて高く、また
金属製等の熱放散部品と異り、熱機械的応力による損傷
を避けることができ、電気・電子部品の長い寿命が確保
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、(a)熱伝導性支持体
と(b)該支持体の少なくとも一つの表面に適用され、
熱伝導性充填剤を含有する誘電接着剤層とを含む積層品
に関し、電気及び電子部品から除熱するための該積層品
又は熱伝導性充填剤を含有する誘電接着フィルムの使用
に関し、そして放熱用の熱ブリッジとして該積層品又は
該接着フィルムを含むリードフレームに関し、更に、該
リードフレームを有するデュアルインラインプラスチッ
クパッケージ(DIP)に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】プラス
チック封入電子部品の熱抵抗は、その効率的機能にとっ
て重要な要因である。ΘJAで表され、K/W で測定される
熱抵抗は、熱出力1ワットによって生じる部品とその周
囲環境との間の温度差を表す。最大許容熱抵抗は、部品
のエネルギー損失、周囲環境の温度及び部品が耐えられ
る最高温度により表される。要求される規格は、ある程
度まで構成と同様に材料の選択により満たすことができ
る。
【0003】電子部品の小型化の進行により、作動中に
発生する熱の効果的伝導が求められている。非可撓性の
金属板を、電気的に絶縁してリードフレーム下に装着す
る熱拡散体として用いて、熱を放散させるという提案が
既になされている。熱拡散体に用いられる材料は、金属
及び合金[ジェイ・エイ・アンドリュース(J.A. Andre
ws)等によるIEEE Tarnsactions on Components, Hybri
ds and ManufacturingTechnology 、CHMT−4巻、
第4号、第455〜461頁(1981年)参照]又は
セラミック材、例えば、Sic[ジェイ・ダブリュー・
マクファーソン(J.W. McPherson)等によるInternatio
nal Reliability Physical Symposium、第224〜22
8頁(1987年)参照]である。この方法により、熱
抵抗は最大50%だけ減少させることができる。しか
し、リードフレーム、熱拡散体及び合成樹脂成形材料の
熱膨張率は非常に大きく異なるので、そのような部品に
かかる熱機械的(thermomechanical)応力によりその効
率及び寿命が制限され得る。
【0004】
【課題を解決するための手段】熱伝導性支持体と、接着
剤層とを含む可撓性積層品すなわち熱伝導性自己支持接
着フィルムという手段を用いることにより、金属リード
フレーム及びそのリード線の電気的に絶縁された部分
を、該積層品又は該接着フィルムに接着してリードフレ
ームを介して良好な放熱を達成すること及び熱機械的応
力による損傷を実質的に低減し得ることが見出された。
熱伝導が非常に大きいので、充填剤の添加量の大きい封
入用樹脂を用いなくてもすみ、その代りに、充填剤を含
有しないかあるいは少量だけ含有する樹脂を用いること
ができ、それによって熱機械的応力による損傷をさらに
低減することができる。
【0005】本発明は、その一態様において、(a)少
なくとも10W/mKの熱伝導率及び10〜100μm の厚
さを有する支持体と、(b)該支持体の少なくとも一つ
の表面に適用され、熱伝導性充填剤を含有し、5〜50
0μm の厚さと1W/mKの熱伝導率を有する誘電接着剤層
とを含む積層品に関する。
【0006】前記支持体は、高い熱伝導率と約150℃
より高い融点を有する金属、合金もしくは合成樹脂形成
材料のフィルム、箔及び布又は炭素もしくはセラミック
繊維の布であっても好都合である。良好な電気的絶縁を
達成するためには表面を酸化させ得る金属及び合金が好
ましい。好ましい金属及び合金は、銅、ニッケル、亜
鉛、アルミニウム並びに銅及びニッケルの合金である。
最も好ましくは、前記支持体は、表面が酸化されていて
もよいアルミニウム又は銅からなる。
【0007】前記支持体の熱伝導率は、20W/mKである
ことが好ましく、厚さは10〜70μm であることが好
ましく、20〜60μm であることが最も好ましい。
【0008】前記接着剤層の厚さは、好ましくは20〜
300μm であり、最も好ましくは50〜250μm で
ある。該接着剤層の熱伝導率は、少なくとも1.5W/mK
であることが好ましく、約5W/mKに達してもよい。
【0009】数多くの接着剤が当業者に公知であり良く
知られている。それらは、ペースト状の、粘稠な又は固
体の接着剤でもよく、前記接着剤層には、加工前に取り
除かれる保護膜を設けてもよい。また、加工前に液体の
又は溶融した接着剤を前記支持体に塗布することも可能
である。さらに、フィルム状接着剤及びホットメルト接
着剤も使用することができる。好適な接着剤は、典型的
には、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアクリル酸エ
ステル、シリコーン並びに例えばポリアミド及びポリエ
ステル等の熱可塑性樹脂に基づくものである。
【0010】好ましい接着剤は、エポキシ樹脂であり、
特に潜在性硬化剤そしておそらく硬化促進剤も含有する
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル又は最新のジ
グリシジルエールに基づいたエポキシ樹脂である。エポ
キシ樹脂のフィルム状接着剤は、とりわけエル・エム・
ルング(L.M. Leung)によりHybrid Circuits 、第18
号、第22〜24頁(1989年)に記載されている。
【0011】充填剤は微粒状であってもよく、その場合
接着剤層の厚さ以下の、好ましくはそれより小さい粒径
を通常有するであろう。高い熱伝導率を達成するために
は高添加量の充填剤を有する系を用いることが好都合で
ある。微粒状充填剤の添加量は、典型的には25〜90
重量%であってよく、30〜80重量%であることが好
ましい。添加量は、本質的には該微粒状充填剤の熱伝導
率により決まるであろう。充填剤は、小板状、針状又は
繊維状であってもよい。そのような充填剤の場合は、通
常接着剤層の熱伝導率がより高くなるので、より少ない
添加量、典型的には5〜40重量%の充填剤を使用する
ことができる。添加量は接着剤層の重量に基づく。該充
填剤は導電体ではなく、すなわち誘電体であることが好
ましい。
【0012】好適なそしてしばしば用いられる熱伝導性
かつ誘電性充填剤は、典型的には、ダイヤモンド、ルチ
ル、石英、タルク、ケイ酸塩、けい藻土、ウォラストナ
イト、ジルコニウム、窒化アルミニウム、アルミナ、窒
化ホウ素、酸化亜鉛、窒化ケイ素及び炭化ケイ素を始め
とする天然又は合成の鉱物質及びセラミック材料、並び
にこれらの充填剤の混合物である。発明の好ましい態様
においては、充填剤は窒化アルミニウムである。
【0013】充填剤を含む接着剤は、当該技術分野でよ
く知られた混合方法により調製され、また前記積層品は
既知の塗装法(はけ塗、ナイフ塗布、流し塗、スピン塗
又は成形)により製造することができる。
【0014】前記の新規な積層品は平面状であるか、又
は接着される部品(典型的にはリードフレーム)の凸面
状又は凹面状の部分に適合するように好ましく成形され
てもよい。
【0015】本発明の特に有利な態様においては、熱伝
導性充填剤を含有する誘電自己支持接着フィルムを用い
て熱ブリッジを形成することができる。前記の新規な積
層品の接着フィルムに関して前に述べたのと同じ前記接
着フィルム及び充填剤に関する好ましい態様が当てはま
る。接着フィルムも平面状であるか、又は部品、典型的
にはリードフレームの凸面状及び/又は凹面状の部分に
適合するように好ましく成形することが可能である。接
着フィルムの除熱は、驚くべきことに、前記の新規な積
層品に見出された数値範囲にある。
【0016】前記の新規な積層品に対して特に有利な点
は、金属支持体の省略により、一方において熱機械的応
力を低減させることができ、他方において結合材料間に
非常に良好な接着を達成することが可能になるが、前記
樹脂接着剤及び他の合成樹脂成形材料、例えばリードフ
レーム用の封入用樹脂が、同じ基剤、例えばエポキシ樹
脂でできている場合には特にそうである。さらに、リー
ドフレーム及びデュアルインラインプラスチックパッケ
ージの製造が簡単になりより経済的になる。
【0017】前記接着フィルムは少なくとも1W/mKの熱
伝導率を有し、好ましくは5〜500μm の厚さを有す
る。
【0018】他の態様においては、本発明は、リード線
と電気及び電子部品用の電気的に絶縁された接触面とを
有するリードフレームであって、該リードフレームの前
記リード線及び前記接触面の裏側が、新規な積層品、又
は熱伝導性充填剤を含有し、少なくとも1W/mKの熱伝導
率を有する誘電自己支持接着フィルムに接着されるリー
ドフレームに関する。
【0019】前記リードフレームは、一側面をその全面
で前記積層品又は接着フィルムに接着することができ
る。金属又は合金、典型的には銅、アルミニウムもしく
は銅/ニッケル合金製のリード線は、良好な熱伝導体で
あるので、部分接着で十分である。本発明の好ましい態
様においては、前記接触面に連らなるリード線の先端部
のみが積層品又は接着フィルムに接着される。
【0020】前記の新規なリードフレームは、既知の方
法により、熱及び/又は圧力を加えて又は加えることな
く、前記積層品又は前記接着フィルムに接着することに
より製作することができる。
【0021】他の態様においては、本発明は、前記積層
品又は前記接着フィルムに接着されたリードフレームを
用いて製作された電子部品、特にDIPに関する。その
ような部品の製作は知られている。例えば、製造方法
は、電気又は電子部品、典型的には半導体を、接着剤を
用いて又は用いることなく前記接触面に固定し、該部品
を前記リード線に接触させ、続いて合成樹脂成形材料を
用いて封入することを含んでよい。電気及び電子部品を
封入するための合成樹脂成形材料は、一般に知られてい
る。エポキシ樹脂がその有用性のため、しばしばこの用
途に用いられる。
【0022】さらに他の態様によれば、本発明は、合成
樹脂成形材料を用いて封入されたリードフレームの電気
及び電子部品、好ましくはデュアルインラインプラスチ
ックパッケージ用の電気的に絶縁された接触面の領域か
ら除熱する方法であって、前記リードフレームの接触面
の裏側及びリード線を、放熱層としての本発明の積層
品、又は熱伝導性充填剤を含有し、少なくとも1W/mKの
熱伝導率を有する誘電自己支持接着フィルムに接着する
ことを含む方法に関する。
【0023】前記の新規なリードフレームは、作動中の
効果的な放熱が望まれるDIPの製作に特に適してい
る。さらに他の態様においては、本発明は、半導体部品
用の電気的に絶縁された接触面の裏側及びリード線が、
本発明の積層品又は熱伝導性充填剤を含有し、少なくと
も1W/mKの熱伝導率を有する誘電自己支持接着フィルム
に接着されたリードフレームを含むDIPに関する。リ
ード線の先端部のみが積層品又は接着フィルムに接着さ
れることが好ましい。本発明のデュアルインラインプラ
スチックパッケージの好ましい態様においては、積層品
又は接着フィルムの形状は、積層品又は接着フィルムが
リードフレームの凸面状及び凹面状の部分に適合するよ
うな形状になっている。この設計により、熱機械的引張
応力による割れを防止する。
【0024】前記積層品に関して述べられた好ましい態
様は、本発明の他の対象にも当てはまる。
【0025】
【実施例】図1は、封入されたチップを有する新規なデ
ュアルインラインプラスチックパッケージの断面を示
す。リードフレーム2が基板1に適用され、該リードフ
レームは金属リード線8及び接触面7からなる。封入用
樹脂3は熱伝導性ペースト4を介して前記基板1に接着
される。チップ5は、接着剤層6により前記リードフレ
ーム2の前記接触面7上に固定される。前記接触面7は
前記積層品9又は熱伝導性充填剤を含有する誘電自己支
持接着フィルム9によりリードフレーム2の金属リード
線8に接着される。
【0026】図2は、前記積層品9の代わりに、金属プ
レート10が、封入用樹脂3中の接触面7の下方に埋め
込まれている対応するDIPを示す。
【0027】下記の実施例は、本発明をさらに詳細に説
明するものである。
【0028】実施例1:積層品の製造 平均粒径30μm 及び最大粒径100μm を有する窒化
アルミニウム67.2重量%を、最新のエポキシ樹脂
[ビスフェノールAのジグリシジルエーテル66.4重
量%、ビスフェノールA30.5重量%及びp−ter
t−ブチルフェノール(登録商標Araldit 7097)3.1
重量%からなる予備付加物73.73重量%を、カルボ
キシル末端ポリブタジエン/アクリロニトリル共重合体
(登録商標Hycar CTBN1300X13 )19.82重量%及び
ビスフェノールA6.45重量%と反応させた樹脂]1
4.92重量%、ビスフェノールAのジグリシジルエー
テル4.4重量%、ポリエーテル−ポリアミドブロック
共重合体(登録商標Pebax 2533、Atochem)0.28重量
%、エラストマー変性エポキシ樹脂[Araldit 7097(登
録商標)34.89重量%、Hycar CTBN1300X13 (登録
商標)16.79重量%、固形ビスフェノールAエポキ
シ樹脂(登録商標Araldit B )34.76重量%及びビ
スフェノールAの反応生成物0.56重量%、1.1エ
ポキシ当量/kg]9.33重量%、Araldit 7097(登録
商標)0.47重量%、カシューナット油(CNSL
油)1重量%、Aerosil (登録商標)0.28重量%、
トリメトキシ(グリシジルオキシプロピル)シラン(接
着増進剤)0.46重量%、ターシャリーカルボン酸:
登録商標Versatic10のグリシジルエステル(登録商標Ca
rdura E10 )0.46重量%、ジシアンジアミド0.9
2重量%、クロルトルロン0.06重量%並びにポリ
(p−ビニルフェノール)、ジメチルアミン及びホルム
アルデヒドからなるマンニッヒ塩基(EP797 、Shell)
0.22重量%を含む組成物に配合した。
【0029】溶融フィルム状接着剤を、得られた柔らか
い粘着性の組成物からナイフ塗布により調製し、厚さ3
5μm を有する銅箔に圧力下積層した。この積層品の接
着剤層の熱伝導率は1.5W/mKであり、厚さは240μ
m であった。
【0030】実施例2:実施例1の積層品を用いたリー
ドフレームの製作 実施例1の積層品を16ピン銅製リードフレームの電気
的に絶縁された接触面の裏側に、リード線の先端部を覆
うように固定した。接着は180℃で半時間硬化させる
ことにより行った。その後で、積層品をしっかりとリー
ドフレームに接着した。
【0031】実施例3:DIPの製作 発熱体及び熱電対を実施例2のリードフレームのチップ
側に接着した。該リードフレームを、次に熱伝導率0.
2W/mKを有し、ビスフェノールAのジグリシジルエーテ
ル(登録商標AralditGY260)185g 及び硬化剤として
のトリメチルヘキサメチレンジアミン29.5g からな
るエポキシ樹脂を用いて金型中で封入した。該樹脂を、
該金型に注ぎ込み、温度180℃で硬化し、前記リード
フレームが0.2cmの樹脂層に完全に封入されるように
した。熱抵抗ΘJAは21K/W であった。
【0032】実施例4:積層品及び自己支持接着フィル
ムの製造 次の成分を実施例1と同様に混合した:ビスフェノール
Aのジグリシジルエーテル43.7重量%、エポキシフ
ェノールノボラック9.7重量%、エポキシクレゾール
ノボラック26.1重量%、ビスフェノールAのジグリ
シジルエーテル50重量部及びジシアンジアミド50重
量部からなる硬化剤12.3重量%、ビスフェノールA
のジグリシジルエーテル73重量部及び2,4,6−ト
リス(ジメチルアミノメチル)フェノール52.3重量
部とポリ(4−ビニルフェノール)47.7重量部との
混合物27重量部からなる促進剤5.2重量%、並びに
フェノキシ樹脂(ポリビスフェノールAのジグリシジル
エーテル)3重量%。
【0033】前記混合物の一部をAIN(74重量%が
粒径40μm を有し、26重量%が粒径1μm を有す
る)と混合した(総組成:AIN75.4重量%と樹脂
24.6重量%)。前記混合物の別の一部を石英粉末
(粒径30μm)と混合した(総組成:充填剤70重量%
と樹脂30重量%)。
【0034】これらの混合物から実施例1と同様にして
200μm の厚さを有する自己支持接着フィルムを作製
した。該接着フィルムのあるものは、さらに直接加工さ
れ、あるものは、実施例1にしたがって、銅箔(厚さ3
5μm)及びアルミニウム箔(厚さ10μm)に積層した。
次の接着フィルム及び積層品が得られた。 接着フィルムA(充填剤AIN) 接着フィルムB(充填剤石英粉末) 積層品C(接着フィルムAを有する銅箔) 積層品D(接着フィルムBを有する銅箔) 積層品E(接着フィルムAを有するアルミニウム箔)
【0035】これらの接着フィルム及び積層品を実施例
2と同様にしてリードフレームに接着し、これらのリー
ドフレームから実施例3に記述されるようにしてDIP
を製作した。下記の熱抵値ΘJAが測定された。 接着フィルムA:25K/W 接着フィルムB:37K/W 積層品C:20K/W 積層品D:22K/W 積層品E:25K/W
【0036】
【発明の効果】本発明の積層品は、リードフレームのリ
ード線をその電気的に絶縁された領域に接着して熱ブリ
ッジを形成するのに非常に良く適している。それにより
驚くほど高度の除熱が電気及び電子封入部品において達
成される。熱抵抗ΘJAは、空気冷却の有無に関わらず従
来の部品のそれよりも最大3倍低くすることが可能であ
る。リード線の先端部に接着するだけでも効果的な除熱
にとっては充分であろう。積層品の形状を適合させ、材
料を選択することにより、熱膨張係数を考慮に入れて熱
機械的応力を実質的に防止すること、そして、デュアル
インラインプラスチックパッケージ等の封入された電子
部品の長い寿命を確保することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の熱伝導性接着フィルム及び熱伝導性接
着剤層を使用したデュアルインラインプラスチックパッ
ケージ(DIP)の断面図である。
【図2】積層品9の代わりに金属プレート10が、封入
用樹脂3中の接触面7の下方に埋め込まれている、図1
に示したDIPに対応するDIPの断面図である。
【符号の説明】
1 基板 2 リードフレーム 3 封入用樹脂 4 熱伝導性ペースト 5 チップ 6 接着剤層 7 接触面 8 金属リード線 9 積層品 10 金属プレート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/50 U 9272−4M

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)少なくとも10W/mKの熱伝導率及
    び10〜100μmの厚さを有する支持体と、(b)該
    支持体の少なくとも一つの表面に適用され、熱伝導性充
    填剤を含有し、5〜500μm の厚さと少なくとも1W/
    mKの熱伝導率を有する誘電接着剤層とを含む積層品。
  2. 【請求項2】 支持体が、高い熱伝導率及び約150℃
    より高い融点を有する金属、合金もしくは合成樹脂成形
    材料のフィルム、箔及び布、並びに炭素もしくはセラミ
    ック繊維の布からなる群から選択される請求項1の積層
    品。
  3. 【請求項3】 支持体が、金属及び合金からなる群から
    選択される請求項1の積層品。
  4. 【請求項4】 支持体が、銅、ニッケル、亜鉛、アルミ
    ニウム並びに銅及びニッケルの合金からなる群から選択
    される請求項3の積層品。
  5. 【請求項5】 支持体が、少なくとも20W/mKの熱伝導
    率を有する請求項1の積層品。
  6. 【請求項6】 支持体が、10〜70μm の厚さを有す
    る請求項1の積層品。
  7. 【請求項7】 接着剤層が、ペースト状の、粘稠な又は
    固体の接着剤から形成される請求項1の積層品。
  8. 【請求項8】 接着剤層が、フィルム状接着剤又はホッ
    トメルト接着剤から形成される請求項1の積層品。
  9. 【請求項9】 接着剤層が、接着剤としてエポキシ樹脂
    を含有する請求項1の積層品。
  10. 【請求項10】 接着剤層の厚さが、20〜300μm
    である請求項1の積層品。
  11. 【請求項11】 接着剤層が、少なくとも1.5W/mKの
    熱伝導率を有する請求項1の積層品。
  12. 【請求項12】 接着剤層が、微粒状であり、該接着剤
    層の厚さ以下の、好ましくはそれ未満の粒径を有する熱
    伝導性充填剤を含有する請求項1の積層品。
  13. 【請求項13】 熱伝導性充填剤が、天然又は合成の鉱
    物質もしくはセラミック材料である請求項12の積層
    品。
  14. 【請求項14】 熱伝導性充填剤が、窒化アルミニウム
    である請求項12の積層品。
  15. 【請求項15】 接着される部品の凸状又は凹状域に適
    合するように成形される請求項1の積層品。
  16. 【請求項16】 リード線と電気及び電子部品用の電気
    的に絶縁された接触面とを有するリードフレームであっ
    て、該リードフレームの前記リード線及び前記接触面の
    裏側が、請求項1に記載の積層品、又は熱伝導性充填剤
    を含有し、少なくとも1W/mKの熱伝導率を有する誘電自
    己支持接着フィルムに接着されるリードフレーム。
  17. 【請求項17】 接触面に連らなるリード線の先端部の
    みが積層品又は接着フィルムに接着される請求項16の
    リードフレーム。
  18. 【請求項18】 請求項16のリードフレームを使用し
    た電気又は電子部品。
  19. 【請求項19】 デュアルインラインプラスチックパッ
    ケージである請求項18の電気又は電子部品。
  20. 【請求項20】 合成樹脂成形材料を用いて封入された
    リードフレームの電気及び電子部品用の電気的に絶縁さ
    れた接触面の領域から除熱する方法であって、前記リー
    ドフレームの接触面の裏側及びリード線を、放熱層とし
    ての請求項1の積層品又は熱伝導性充填剤を含有し少な
    くとも1W/mKの熱伝導率を有する誘電自己支持接着フィ
    ルムに接着することを含む方法。
  21. 【請求項21】 半導体部品用の電気的に絶縁された接
    触面の裏側及びリード線が、請求項1の積層品又は熱伝
    導性充填剤を含有し、少なくとも1W/mKの熱伝導率を有
    する誘電自己支持接着フィルムに接着されたリードフレ
    ームを含むデュアルインラインプラスチックパッケー
    ジ。
JP12934192A 1991-04-24 1992-04-23 熱伝導性接着フィルム、熱伝導性接着剤層を有する積層品及びそれらの使用品 Pending JPH05179210A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1226/91-1 1991-04-24
CH122691 1991-04-24
CH2056/91-7 1991-07-10
CH205691 1991-07-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05179210A true JPH05179210A (ja) 1993-07-20

Family

ID=25687047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12934192A Pending JPH05179210A (ja) 1991-04-24 1992-04-23 熱伝導性接着フィルム、熱伝導性接着剤層を有する積層品及びそれらの使用品

Country Status (5)

Country Link
US (2) US5290624A (ja)
EP (1) EP0511162A1 (ja)
JP (1) JPH05179210A (ja)
KR (1) KR920019530A (ja)
CA (1) CA2066867A1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06299129A (ja) * 1993-04-12 1994-10-25 Nec Corp 電子デバイス用接着剤
JP2004339633A (ja) * 2003-05-14 2004-12-02 Nitto Boseki Co Ltd 繊維強化接着シート、その製造方法及び被着体の仮固定方法
JP2005320483A (ja) * 2004-05-11 2005-11-17 Nitta Ind Corp 熱伝導性組成物および熱伝導性シート
JP2008069195A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd 熱伝導性湿気硬化型接着剤、及びその施工方法
JP2008131006A (ja) * 2006-11-24 2008-06-05 Nitto Denko Corp 半導体装置製造用の耐熱性粘着テープ
JP2011236435A (ja) * 2011-08-10 2011-11-24 Hitachi Chem Co Ltd フィルム状回路接続材料の製造方法
JP2013515113A (ja) * 2009-12-21 2013-05-02 テーザ・ソシエタス・ヨーロピア 熱活性により接着可能な平面要素
JP2017066233A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社巴川製紙所 電子部品用接着テープ

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5627107A (en) * 1992-06-08 1997-05-06 The Dow Chemical Company Semiconductor devices encapsulated with aluminum nitride-filled resins and process for preparing same
US5589714A (en) * 1992-06-08 1996-12-31 The Dow Chemical Company Epoxy polymer filled with aluminum nitride-containing polymer and semiconductor devices encapsulated with a thermosetting resin containing aluminum nitride particles
US5637176A (en) * 1994-06-16 1997-06-10 Fry's Metals, Inc. Methods for producing ordered Z-axis adhesive materials, materials so produced, and devices, incorporating such materials
US5601874A (en) * 1994-12-08 1997-02-11 The Dow Chemical Company Method of making moisture resistant aluminum nitride powder and powder produced thereby
JP3401107B2 (ja) * 1995-01-23 2003-04-28 松下電器産業株式会社 パッケージicのモジュール
US5769989A (en) * 1995-09-19 1998-06-23 International Business Machines Corporation Method and system for reworkable direct chip attach (DCA) structure with thermal enhancement
DE19543920C2 (de) * 1995-11-24 2000-11-16 Eupec Gmbh & Co Kg Leistungshalbleiter-Modul
US5900312A (en) * 1996-11-08 1999-05-04 W. L. Gore & Associates, Inc. Integrated circuit chip package assembly
DE19701165C1 (de) * 1997-01-15 1998-04-09 Siemens Ag Chipkartenmodul
US6646354B2 (en) 1997-08-22 2003-11-11 Micron Technology, Inc. Adhesive composition and methods for use in packaging applications
US6353268B1 (en) 1997-08-22 2002-03-05 Micron Technology, Inc. Semiconductor die attachment method and apparatus
US6391442B1 (en) * 1999-07-08 2002-05-21 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Phase change thermal interface material
US6312972B1 (en) * 1999-08-09 2001-11-06 International Business Machines Corporation Pre-bond encapsulation of area array terminated chip and wafer scale packages
US6794030B1 (en) * 1999-11-30 2004-09-21 3M Innovative Properties Company Heat conductive sheet and method of producing the sheet
US6510059B2 (en) * 1999-12-17 2003-01-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Conductive resin, electronic module using conductive resin, and method of manufacturing electronic module
DE10050125A1 (de) * 2000-10-11 2002-04-25 Zeiss Carl Vorrichtung zum Temperaturausgleich für thermisch belastete Körper mit niederer Wärmeleitfähigkeit, insbesondere für Träger reflektierender Schichten oder Substrate in der Optik
US7147367B2 (en) 2002-06-11 2006-12-12 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Thermal interface material with low melting alloy
US7229683B2 (en) * 2003-05-30 2007-06-12 3M Innovative Properties Company Thermal interface materials and method of making thermal interface materials
US7744991B2 (en) * 2003-05-30 2010-06-29 3M Innovative Properties Company Thermally conducting foam interface materials
US7309838B2 (en) * 2004-07-15 2007-12-18 Oki Electric Industry Co., Ltd. Multi-layered circuit board assembly with improved thermal dissipation
JP5287154B2 (ja) * 2007-11-08 2013-09-11 パナソニック株式会社 回路保護素子およびその製造方法
JP2011516694A (ja) * 2008-04-11 2011-05-26 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 一液型エポキシ系構造用接着剤
JP5676444B2 (ja) * 2008-07-23 2015-02-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 二液型エポキシ系構造接着剤
WO2010011710A2 (en) 2008-07-23 2010-01-28 3M Innovative Properties Company Two-part epoxy-based structural adhesives
CN102159534B (zh) * 2008-07-23 2014-05-07 3M创新有限公司 反应性液体改性剂
DE102009008457A1 (de) * 2009-02-11 2010-08-12 Continental Automotive Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sensors mit nahtloser Umspritzung eines Sensorelementes
DE102010042567B3 (de) * 2010-10-18 2012-03-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen eines Chip-Package und Chip-Package
US8900503B2 (en) 2011-09-28 2014-12-02 International Business Machines Corporation Method of forming an overmolded dual in-line memory module cooling structure
KR101519717B1 (ko) * 2013-08-06 2015-05-12 현대자동차주식회사 전자 제어 유닛용 방열 장치
JP2016062904A (ja) 2014-09-12 2016-04-25 株式会社東芝 半導体装置
CN108493170A (zh) * 2018-04-27 2018-09-04 北京比特大陆科技有限公司 散热结构及其实现方法、散热装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3399268A (en) * 1966-06-07 1968-08-27 Photocircuits Corp Chemical metallization and products produced thereby
US4207369A (en) * 1977-01-31 1980-06-10 Beckman Instruments, Inc. Conductor compositions comprising aluminum, silicon and glass
JPS5635494A (en) * 1979-08-30 1981-04-08 Showa Denko Kk High heat transfer electric insulating substrate
US4410927A (en) * 1982-01-21 1983-10-18 Olin Corporation Casing for an electrical component having improved strength and heat transfer characteristics
FR2597261B1 (fr) * 1986-04-11 1988-10-14 Aix Les Bains Composants Boitier d'encapsulation de circuits integres a dissipation thermique amelioree, et procede de fabrication
US4888247A (en) * 1986-08-27 1989-12-19 General Electric Company Low-thermal-expansion, heat conducting laminates having layers of metal and reinforced polymer matrix composite
DE3630066C1 (de) * 1986-09-04 1988-02-04 Heraeus Gmbh W C Verfahren zur Herstellung von gesinterten metallisierten Aluminiumnitrid-Keramikkoerpern
JPS63254032A (ja) * 1987-04-10 1988-10-20 三井金属鉱業株式会社 セラミツク配線基板用材料およびその製造法
EP0309982A3 (en) * 1987-09-30 1990-09-12 E.I. Du Pont De Nemours And Company Polymer-ceramic composite plies
US5061549A (en) * 1990-03-20 1991-10-29 Shores A Andrew Substrate attach adhesive film, application method and devices incorporating the same

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06299129A (ja) * 1993-04-12 1994-10-25 Nec Corp 電子デバイス用接着剤
JP4639575B2 (ja) * 2003-05-14 2011-02-23 日東紡績株式会社 繊維強化接着シート、その製造方法及び被着体の仮固定方法
JP2004339633A (ja) * 2003-05-14 2004-12-02 Nitto Boseki Co Ltd 繊維強化接着シート、その製造方法及び被着体の仮固定方法
JP2005320483A (ja) * 2004-05-11 2005-11-17 Nitta Ind Corp 熱伝導性組成物および熱伝導性シート
JP4729266B2 (ja) * 2004-05-11 2011-07-20 ニッタ株式会社 熱伝導性組成物および熱伝導性シート
JP2008069195A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd 熱伝導性湿気硬化型接着剤、及びその施工方法
JP2008131006A (ja) * 2006-11-24 2008-06-05 Nitto Denko Corp 半導体装置製造用の耐熱性粘着テープ
JP2013515113A (ja) * 2009-12-21 2013-05-02 テーザ・ソシエタス・ヨーロピア 熱活性により接着可能な平面要素
JP2016000813A (ja) * 2009-12-21 2016-01-07 テーザ・ソシエタス・ヨーロピア 熱活性により接着可能な平面要素
JP2017222870A (ja) * 2009-12-21 2017-12-21 テーザ・ソシエタス・ヨーロピア 熱活性により接着可能な平面要素
US10633559B2 (en) 2009-12-21 2020-04-28 Tesa Se Heat-activated, glueable surface elements
JP2011236435A (ja) * 2011-08-10 2011-11-24 Hitachi Chem Co Ltd フィルム状回路接続材料の製造方法
JP2017066233A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社巴川製紙所 電子部品用接着テープ
WO2017057519A1 (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社巴川製紙所 電子部品用接着テープ

Also Published As

Publication number Publication date
CA2066867A1 (en) 1992-10-25
US5399416A (en) 1995-03-21
US5290624A (en) 1994-03-01
EP0511162A1 (de) 1992-10-28
KR920019530A (ko) 1992-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05179210A (ja) 熱伝導性接着フィルム、熱伝導性接着剤層を有する積層品及びそれらの使用品
US5097317A (en) Resin-sealed semiconductor device
US5483098A (en) Drop-in heat sink package with window frame flag
US6285075B1 (en) Integrated circuit package with bonding planes on a ceramic ring using an adhesive assembly
JPH08501414A (ja) アルミニウム製放熱体を備えたプラスチック製半導体パッケージ
WO1997031394A1 (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
JP2006233149A (ja) 低誘電膜形成素子封止用樹脂組成物及び半導体装置
JPH09157440A (ja) 樹脂組成物およびその樹脂組成物により封止された樹脂モールドモータ、樹脂封止型半導体装置、並びに、その樹脂組成物の硬化方法
JPH10289969A (ja) 半導体装置およびそれに用いる封止用樹脂シート
JPH1192624A (ja) エポキシ樹脂組成物および樹脂封止型半導体装置
JPH08191120A (ja) パワー半導体素子用基板とその製造方法
JP2001002830A (ja) 高熱伝導性組成物
JPH11147936A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2001131517A (ja) 熱硬化性接着材料とその製造方法及び用途
JPH1171444A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
EP3937227A9 (en) A semiconductor device package comprising a thermal interface material with improved handling properties
JP4281104B2 (ja) 樹脂組成物及び電子部品装置
JPS6191243A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JPH08162573A (ja) 半導体装置
JPH0855867A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2001291804A (ja) 半導体素子及び半導体装置並びに半導体実装構造
JPH01143346A (ja) 半導体装置
JPH0239443A (ja) 半導体装置
JPH0536864A (ja) 半導体素子パツケージ
JP4249366B2 (ja) 金属ベース回路基板と電子モジュールの製造方法