JPH0325734A - 光メモリ素子 - Google Patents

光メモリ素子

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JPH0325734A
JPH0325734A JP1160407A JP16040789A JPH0325734A JP H0325734 A JPH0325734 A JP H0325734A JP 1160407 A JP1160407 A JP 1160407A JP 16040789 A JP16040789 A JP 16040789A JP H0325734 A JPH0325734 A JP H0325734A
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知之 三宅
Hiroyuki Katayama
博之 片山
Kazuo Ban
和夫 伴
Kenji Ota
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学的に情報の記録、再生および消去のうち
少なくとも一つを行う光メモリ素子に関するものである
。
〔従来の技術〕
例えば、コンパクトディスク（ＣＤ）等の光メモリ素子
は、光学的に情報の記録、再生および消去のうちの少な
くとも一つを行うことができる。
基本的には、第３図ないし第６図に示すように、１枚の
透明基板２０と反射層２１とから構威され、或いは１枚
の透明基板２４と記録層２５とから構成される片面タイ
プの光メモリ素子１９・２３と、２枚の透明基Ｆｉ２８
・３２およびその間に介在ずる反射層２９・３１とから
構威され、或いは２枚の透明基板３６・４０およびその
間に介在する記録Ｎ３７・３９とから構戒される両面タ
イプの光メモリ素子２７・３５とがある。
片面タイプの光メモリ素子１９・２３における基板２０
と反射層２１、並びに基板２４と記録層２５は、それぞ
れ一体的に接合され、反射層２１と記録層２５上には更
に、各々例えば紫外線硬化樹脂などからなるコーティン
グ層２２、コーティング層２６が重装されて形成されて
いる。
一方、両面タイプの光メモリ素子２７・３５における基
板２８と反射Ｍ２９および基板３２と反射層３１、並び
に、基板３６と記録層３７および基板４０と記録層３９
は、それぞれ一体的に接合され、各々光ディスク３３・
３４並びに光ディスク４１・４２を構威している。
これら光ディスク３３・３４の間、並びに光ディスク４
１・４２の間には、それぞれ、例えば紫外線硬化樹脂な
どからなる接着剤層３０・３８が介在し、これら接着剤
層３０・３８によってそれぞれ２枚の光ディスク３３・
３４および２枚の光ディスク４１・４２が接着されてい
る。
上記のように、基板２０・２４の一方の面にコーティン
グ層２２・２６を設けて構威された片面タイプの光メモ
リ素子ｌ９・２３では、コーティング層２２・２６は反
射層２１および記録層２５を保護するようになっている
。また、２枚の光ディスク３３・３４並びに２枚の光デ
ィスク４１・４２を重ねて横威された光メモリ素子２７
・３５では、表と裏の両面に情報を記録することができ
、これによって記録容量が２倍になるという利点、およ
び反射Ｍ２９・３１並びに記録層３７・３９を保護でき
るという利点がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記従来の構造では、例えば光メモリ素子ｌ
９の製造工程においては、透明基板２０に反射層２１を
形成した後、さらにコーティング層２２を形或させる必
要がある。また、例えば、光メモリ素子３５の製造工程
においては、透明基板３６・４０にそれぞれ記録Ｎ３７
・３９を形成した後、さらに接着剤層３日を形成する必
要がある。これらの理由により、生産性の低下およびこ
れに伴うコストアップを招来するという問題点を有して
いる。
〔課題を解決するための手段〕
請求項第１項の発明に係る光メモリ素子は、上記の課題
を解決するために、少なくとも１枚の基板を有し、この
基板の一方の面に光を反射させるための反射層が形成さ
れている光メモリ素子において、上記の反射層が、反射
性金属を混入した有機系硬化樹脂からなることを特徴と
している。
請求項第２項の発明に係る光メモリ素子は、上記の課題
を解決するために、少なくとも１枚の基板を有し、この
基板の一方の面に記録層が形成されている光メモリ素子
において、上記の記録層が、記録材料を混入した有機系
硬化樹脂からなることを特徴としている。
［作　用］ 上記のように構或するこどにより、基板の一方の面に反
射層あるいは記録層を形或すると同時に、有機系硬化樹
脂からなるコーティング層あるいは接着剤層を形成する
ことができ、光メモリ素子の反射層または記録層の形戒
工程を省略することが可能となる。
〔実施例１〕 本発明の一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以下
のとおりである。
本発明に係る光メモリ素子ｌは、第１図に示すように、
透明基板２の一方の面に有機系硬化樹脂からなるコーテ
ィング層３が設けられた構造である。透明基板２は、ポ
リカーボネイトあるいはアクリルなどからなり、ディス
ク威型過程においてスタンパ等で既に情報が転写されて
いる。コーティングＭ３は、例えばＡｆｆｉ，　Ａｕ等
の反射性金属が混入されたアクリレート系光硬化樹脂か
らなり、上記透明基板２における情報が転写された側の
面に形戒されている。
上記の構威において、本光メモリ素子ｌの製造方法につ
いて、以下に説明する。
先ず、透明基板２における既に情報が転写されている側
の面に、上記の反射性金属が混入された光硬化樹脂を設
ける。次に、紫外線等の光で」二記光硬化樹脂を硬化さ
せてコーティング層３を形成し、これにより光メモリ素
子ｌを得る。
これにより、コーティング層３は、透明基板２を保；１
するとともに、反射層となる。従って、光を透明基板２
のコーティング層３と反対の側から照射すると、上記の
反１１層を兼ねたコーティング層３によって光が反射さ
れ、情報を再生することができる。
〔実施例２］ 本発明の他の実施例を第２図（ａ）および第２図（ｂ）
に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
本発明に係る光メモリ素子４は、第２図（ａ）に示すよ
うに、，２枚の透明基板５・７が、これら透明基板５・
７間に介装された有機系硬化樹脂からなる接着剤層６に
よって貼着された構造である。透明基板５・７はガラス
等からなり、接着剤層６は、例えば、Ｄｒｅｘｏｎ”　
（特開昭５５−１０８９９５号公報、あるいはＪ．　Ｖ
ａｃ．　Ｓｃｉ．　Ｔｅｃｈｎｏ１、，Ｖｏ１．　１８
，　Ｎｏ．　１．　１９８１，第８７頁〜第９１頁）等
のハロゲン化銀エマルジジンからなる記録材料が混入さ
れたアクリレート系光硬化樹脂にて形成されている。こ
れは、基本的には、透明基１反５・７のそれぞれ一方の
面に記録層が形戒された構或である。
上記の構成において、光メモリ素子４の製造方法につい
て以下に説明する。
２枚の透明基仮５・７を、接着剤層６となる上記記録材
料が混入された光硬化樹脂を介して重ね合わせ、透明基
板５・７の間に接着剤層６が介装された状態とする。こ
の状態で、紫外線等の光を照射して接着剤層６を硬化さ
せ、上記透明基板５・７同士を貼着させる。次に、接着
剤層６を介して貼着された透明基板５・７を大気中で少
なくとも２５０゜Ｃまで加熱して記録層を形成させ、光
メモリ素子４を得る。これにより、接着剤Ｎ６は、透明
基板５・７を貼着するとともに記録層となる。
尚、光メモリ素子４は、上記のように複数の透明基板５
・７を接着剤１！６により貼着した構成の両面タイプに
限定されることはなく、例えば第２図（ｂ）に示すよう
に、透明基板５の一方の面に、接着剤層６により、記録
層を兼ねた接着剤層６を保護する金属製の基板９が貼着
された構或であってもよい。尚、上記の基板９は、プラ
スチック等からなるものであってもよい。また、上記の
基板９のない片面タイプのものであってもよい。
〔実施例３〕 本発明の更に他の実施例を第２図（ａ）に基づいて説明
すれば、以下のとおりである。尚、説明の便宜上、実施
例２で用いた第２図（ａ）を再び用いて説明する。
本発明に係る光メモリ素子は、２枚の透明基板１０・ｉ
２が、これら透明基板ｌＯ・１２問に介装された有機系
硬化樹脂からなる接着剤層１１によって貼着された構造
である。透明基板１０・ｌ２はガラス等からなり、接着
剤層１１は、例えば一般に次の化学式で表されるシアニ
ン色素からなる記録材料が混入されたアクリレート系光
硬化樹脂にて形成されている。
（以下余白） 上記の構戒において、本光メモリ素子を製造する場合、
先ず、２枚の透明基仮１０・１２を、接着剤層１１とな
る上記記録材料が混入された光硬化樹脂を介して重ね合
わせ、透明基板１０・１２の間に接着剤層１１が介装さ
れた状態とする。この状態で、紫外線等の光を照射して
接着剤層１１を硬化させることにより、上記透明基板１
０・１２同士が貼着して、光メモリ素子が得られる。こ
れにより、接着剤層１１は、透明基板１０・１２を貼着
するとともに記録層となる。
尚、記録材料としては、上記シアニン色素に限定される
ことなく、例えば、スクワリウム系、ナフトキノン系、
フタ口シアニン系、アントラキノン系等、有機系色素で
あれば、その具体的材料を問わない。
〔実施例４〕 本発明の更に他の実施例を、再び第２図（ａ）を用いて
説明する。
本発明に係る光メモリ素子は、２枚の透明基板ｔ３・１
５が、これら透明基仮１３・１５間に介装された有機系
硬化樹脂からなる接着剤層１４によって貼着された構造
である。透明基仮１３・１５はガラス等からなり、接着
剤層１４は、例えば、Ｂ　ｉｘ　Ｄ’ｊ３−ｘ　Ｆ　ｅ
ｓ−ｙ　Ａｆｙ　Ｏ＋ｇ　（川西ら、１９８５年応用磁
気学会学術講演概要集、ｐ３Ｌ３）や、Ｂ　ｉｘ　Ｙｘ
−ｘ　Ｆ　ｅｓ−ｙ　Ｇａ，　Ｏ＋ｚ　（阿部ら、１９
８５年応用磁気学会学術講演概要集、ｐ３１４）の化学
式で表されるガーネットからなる記録材料が混入された
アクリレート系光硬化樹脂にて形成されている。
上記の構成において、本光メモリ素子を製造する場合、
先ず、記録材料の硝酸塩をアルコール、水および硝酸に
溶かしたものを光硬化樹脂と混合する。次に、透明基板
１３・ｌ５を、接着剤層ｌ４となる上記記録材料が混入
された光硬化樹脂を介して重ね合わせ、透明基板１３・
１５の間に接着剤層ｌ４が介装された状態とする。この
状態で、紫外線等の光を照射して接着剤層１４を硬化さ
せ、上記透明基板１３・１５同士を貼着させる。次に、
接着剤層１４を介して貼着された透明基板１３・１５を
、大気中で少なくとも５００゜Ｃまで加熱して上記記録
材料を結晶化することにより記録層を形成させ、光メモ
リ素子を得る。これにより、接着剤層ｌ４は、透明基板
ｌ３・■５を貼着ずるとともに記録層となる。
尚、上記の記録材料は、上記組成のガーネットに限定さ
れることはなく、ガーネットであれば、その具体的な組
成を問わない。
〔実施例５〕 本発明の更に他の実施例を、再び第２図（ａ）を用いて
説明する。本発明に係る光メモリ素子は、２枚の透明基
板１６・１８が、これら透明基板１６・ｌ８間に介装さ
れた有機系硬化樹脂からなる接着剤層１７によって貼着
された構造である。
透明基板ｌ６・１８はガラス等からなり、接着剤層ｌ７
は、例えば、一般に次の化学式で表されるスチルベン誘
導体からなるフォトクロミック材料を記録材料とし、こ
の記録材料が混入されたアクリレート系光硬化樹脂にて
形成されている。
（ａ） Ｏ ／　＼ 上記（ａ）、（ｂ）は互いに異性体であり、波長λ＋＝
４０５ｎｍの光を照射すると、（ａ）の状態となり、青
紫色を呈する。また、波長λ２−６３３ｎｍの光を照射
すると、（ｂ）の状態となり、無色になる。
上記の構成において、本光メモリ素子を製造する場合、
先ず、透明基板１６・１８を、接着剤層１７となる上記
記録材料が混入された光硬化樹脂を介して重ね合わせ、
透明基板１６・ｌ８のｌ１に接着剤層１７が介装された
状態とする。この状態で、紫外線等の光を＋ｔａ射して
接着剤層ｌ７を硬化させることにより、上記透明基板１
６・１８同士が貼着されて光メモリ素子が得られる。こ
れにより、接着剤層１７は、透明基板１６・１８を貼着
するとともに記録層となる。
尚、フォトク口ごツタ材料は、上記スチルベン講導体に
銀定されることなく、フルギド、スビロビラン、トリア
リルメタン、アブベンゼン、チオインジゴ、サリチリデ
ンアニリン、ジヒドロキシアン１・ラキノン、ジチゾン
水銀等、照射した光の波長の違いによって吸収波長が異
なる異性体となるものであれば、その具体的な種類を問
わない。
〔発明の効果〕
請求項第ｌ項の発明に係る光メモリ素子は、以上のよう
に、少なくとも１枚の基板を有し、この基板の一方の面
に光を反射させるための反射層が形或されている光メモ
リ素子において、上記の反射層が、反射性金属を混入し
た有機系硬化樹脂からなる構成である。
それゆえ、少なくとも１枚の基板における一方の面に光
を反射するための反射層を形成すると同時に、有機系硬
化樹脂からなるコーティング層あるいは接着剤層を形戒
することができる。従って、光メモリ素子の反射層形成
工程が不要となり、量産化およびコストダウンに寄与す
るという効果を奏する。
請求項第２項の発明に係る光メモリ素子は、以上のよう
に、少なくとも１枚の基板を有し、この基板の一方の面
に記録層が形成されている光メモリ素子において、上記
の記録層が、記録材料を混入した有機系硬化樹脂からな
る構戒である。
それゆえ、少なくともＩ枚の基板における一方の面に記
録層を形或すると同時に、有機系硬化樹脂からなるコー
ティング層あるいは接着剤層を形成ずることができる。
従って、光メモリ素子の記録層形戒工程が不要となり、
量産化およびコストダウンに寄与するという効果を奏す
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す光メモリ素子の断面図
である。 第２図（ａ）および第２図（ｂ）は、それぞれ本発明の
他の実施例を示す光メモリ素子の断面図である。 第３図ないし第６図はそれぞれ従来例を示すものである
。 第３図は基板の一方の面に反射層とコーティング層とを
形成した光メモリ素子の断面図である。 第４図は基板の一方の面に記録層とコーティング層とを
形成した光メモリ素子の断面図である。 第５図は２枚の基板の間に反射層と接着剤層とを形成し
た光メモリ素子の断面図である。 第６図は２枚の基板の間に記録層と接着剤層とを形成し
た光メモリ素子の断面図である。 １・４・８は光メモリ素子、２・５・７・１０・ｌ２・
ｌ３・ｌ５・１６・１８は透明基板、９は基板、３はコ
ーティング層（反射層）、６・１１・１４・１７は接着
剤層（記録層）である。 １９ 第 ３ 図 第 ４ 口

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも１枚の基板を有し、この基板の一方の面
    に光を反射させるための反射層が形成されている光メモ
    リ素子において、 上記の反射層が、反射性金属を混入した有機系硬化樹脂
    にて形成されていることを特徴とする光メモリ素子。 ２、少なくとも１枚の基板を有し、この基板の一方の面
    に記録層が形成されている光メモリ素子において、 上記の記録層が、記録材料を混入した有機系硬化樹脂に
    て形成されていることを特徴とする光メモリ素子。
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