JPS63183638A - 光記録体およびその製造方法 - Google Patents
光記録体およびその製造方法Info
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- JPS63183638A JPS63183638A JP62014842A JP1484287A JPS63183638A JP S63183638 A JPS63183638 A JP S63183638A JP 62014842 A JP62014842 A JP 62014842A JP 1484287 A JP1484287 A JP 1484287A JP S63183638 A JPS63183638 A JP S63183638A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ光により書き込みが可能なダイレクト
・リード・アフタ・ライト （ＤＲＡＷ）タイプの光記
録体およびその製造方法に関する。
・リード・アフタ・ライト （ＤＲＡＷ）タイプの光記
録体およびその製造方法に関する。
従来のレーザ光により書き込みが可能な光記録体を第３
図により説明すると、フォトポリマｌの片面を凹凸状に
形成し、この凹凸面に沿ってＴｅ等の光記録材料２の薄
膜を設け、これを接着剤３により基板４に接着すると共
に、フォトポリマ１の上面には光透過性のアクリル樹脂
５等を積層することにより光記録体が形成されている。
図により説明すると、フォトポリマｌの片面を凹凸状に
形成し、この凹凸面に沿ってＴｅ等の光記録材料２の薄
膜を設け、これを接着剤３により基板４に接着すると共
に、フォトポリマ１の上面には光透過性のアクリル樹脂
５等を積層することにより光記録体が形成されている。
そして、第４図に示すように、例えば一本のレーザビー
ム６により光記録材料２の凹凸部を走査して、例えば凸
部に焦点を合わせて位置を確認した後、光記録材料２の
凸部にピント情報を書き込んでいる。
ム６により光記録材料２の凹凸部を走査して、例えば凸
部に焦点を合わせて位置を確認した後、光記録材料２の
凸部にピント情報を書き込んでいる。
また、特公昭５ Ｂ−４８３５７号公報に示されている
従来の光記録体を第５図により説明すると、基材上にハ
ロゲン化銀乳剤の膜７を形成し、この膜７に対してパタ
ーン露光および特殊現像により、光反射率の異なる部分
８および９を形成し、光反射率の異なる部分８および９
とにおける光の反射率の相違により部分８の位置を確認
して、部分８上にビット情報を書き込むものである。
従来の光記録体を第５図により説明すると、基材上にハ
ロゲン化銀乳剤の膜７を形成し、この膜７に対してパタ
ーン露光および特殊現像により、光反射率の異なる部分
８および９を形成し、光反射率の異なる部分８および９
とにおける光の反射率の相違により部分８の位置を確認
して、部分８上にビット情報を書き込むものである。
しかしながら、上記第３図に示す凹凸面に沿って光記録
材料を形成する光記録体においては、凸面の形成におい
て、その高さ、幅等の精度が要求されることから、その
制御方式が困難になるという問題を有し、また、製造工
程が複雑化しコストが増大するという問題を有している
。
材料を形成する光記録体においては、凸面の形成におい
て、その高さ、幅等の精度が要求されることから、その
制御方式が困難になるという問題を有し、また、製造工
程が複雑化しコストが増大するという問題を有している
。
また、上記第５図に示す例においては、トラックの幅の
みの精度が要求される点においては、上記の第３図に示
すものより製造は容易であるが、特殊なハロゲン化銀乳
剤等の特定の写真材料を必要とするため、製造コストが
増大するという問題を有している。
みの精度が要求される点においては、上記の第３図に示
すものより製造は容易であるが、特殊なハロゲン化銀乳
剤等の特定の写真材料を必要とするため、製造コストが
増大するという問題を有している。
本発明は上記問題を解決するものであって、制御方式が
簡単であり、かつ、特定の光記録材料に限定されること
なく製造コストを低減できる光記録体およびその製造方
法を優供することを目的とするものである。
簡単であり、かつ、特定の光記録材料に限定されること
なく製造コストを低減できる光記録体およびその製造方
法を優供することを目的とするものである。
そのために本発明の光記録体は、レーザ光により書き込
みが可能な光記録体において、光透過性の基材上に光記
録材料と反射率が相違する複数の案内トラックが形成さ
れると共に、該案内トラックを覆うように光記録材料層
が形成され、互いに反射率の異なる情報記録トラックと
案内トラックが交互に形成されることを特徴とする。
みが可能な光記録体において、光透過性の基材上に光記
録材料と反射率が相違する複数の案内トラックが形成さ
れると共に、該案内トラックを覆うように光記録材料層
が形成され、互いに反射率の異なる情報記録トラックと
案内トラックが交互に形成されることを特徴とする。
また、本発明の光記録体の製造方法は、レーザ光により
書き込みが可能な光記録体であって、光透過性の基材上
に光記録材料と反射率が相違する複数の案内トラック力
（形成されると共に、該案内トラックを覆うように光記
録材料層が形成され、互いに反射率の異なる情報記録ト
ラックと案内トラ、りが交互に形成される光記録体の製
造方法において、前記基材上に光記録材料と反射率が相
違する層を形成した後フォトレジストを塗布し、マスク
露光および現像により前記案内トラック部分にフォトレ
ジストを残した後、エツチングにより案内トラック部分
に前記光記録材料と反射率が相違する層を残し、次に基
材全面に光記録材料の層を設けることを特徴とするレー
ザ光により書き込みが可能な光記録体において、光透過
性の基材上にフォトレジストおよび金属層からなる複数
の案内トラックが形成されると共に、該案内トラックを
覆うように基材全面に光記録材料層が形成され、互いに
反射率の異なる情報記録トラックと案内トラックが交互
に形成されることを特徴とするものである。
書き込みが可能な光記録体であって、光透過性の基材上
に光記録材料と反射率が相違する複数の案内トラック力
（形成されると共に、該案内トラックを覆うように光記
録材料層が形成され、互いに反射率の異なる情報記録ト
ラックと案内トラ、りが交互に形成される光記録体の製
造方法において、前記基材上に光記録材料と反射率が相
違する層を形成した後フォトレジストを塗布し、マスク
露光および現像により前記案内トラック部分にフォトレ
ジストを残した後、エツチングにより案内トラック部分
に前記光記録材料と反射率が相違する層を残し、次に基
材全面に光記録材料の層を設けることを特徴とするレー
ザ光により書き込みが可能な光記録体において、光透過
性の基材上にフォトレジストおよび金属層からなる複数
の案内トラックが形成されると共に、該案内トラックを
覆うように基材全面に光記録材料層が形成され、互いに
反射率の異なる情報記録トラックと案内トラックが交互
に形成されることを特徴とするものである。
本発明においては、光透過性の基材上に光記録材料と反
射率が相違する複数の案内トラックが形成されると共に
、該案内トラックを覆うように光記録材料層が形成され
、互いに反射率の異なる情報記録トラックと案内トラッ
クが交互に形成され、例えば第２図に示すように、両側
のビームＡ、Ｃにより案内トラック１４ｃと情報記録ト
ラック１４ｂの反射率の差を検出することにより、案内
トラック１４Ｃ％１４Ｃの位置を確認にして左右にずれ
ないようにして、真中のビームＢにより情報記録トラッ
ク１４ｂにビット情報が書き込まれる。
射率が相違する複数の案内トラックが形成されると共に
、該案内トラックを覆うように光記録材料層が形成され
、互いに反射率の異なる情報記録トラックと案内トラッ
クが交互に形成され、例えば第２図に示すように、両側
のビームＡ、Ｃにより案内トラック１４ｃと情報記録ト
ラック１４ｂの反射率の差を検出することにより、案内
トラック１４Ｃ％１４Ｃの位置を確認にして左右にずれ
ないようにして、真中のビームＢにより情報記録トラッ
ク１４ｂにビット情報が書き込まれる。
以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ説明す
る。第１図は本発明の光記録体およびその製造方法の１
実施例を説明するための図、第２図は本発明の光記録体
の書き込み方式を説明するための図である。図中、１０
は光透過性の基材、１１は金属層、１２はフォトレジス
ト層、１３はフォトマスク、Ｉ４ば光記録材料、１４ｂ
は情報記録トラック、１４Ｃは案内トラック、１５はｗ
仮、１６は光記録体を示す。
る。第１図は本発明の光記録体およびその製造方法の１
実施例を説明するための図、第２図は本発明の光記録体
の書き込み方式を説明するための図である。図中、１０
は光透過性の基材、１１は金属層、１２はフォトレジス
ト層、１３はフォトマスク、Ｉ４ば光記録材料、１４ｂ
は情報記録トラック、１４Ｃは案内トラック、１５はｗ
仮、１６は光記録体を示す。
第１図（ａ）において光透過性の基材１０は、ポリメチ
ルメタアクリルエイト（ＰＭＭＡ） 、ポリカードネイ
ト、ポリエステル等の・所望の精度に加工可能であり、
かつ、途中の工程で腐食しない高分子材料等から形成さ
れ、この光透過性の基材１０上にＡＩ等の金属の薄膜層
１１を蒸着、スパッタリング或いは化学的方法等により
形成させる。
ルメタアクリルエイト（ＰＭＭＡ） 、ポリカードネイ
ト、ポリエステル等の・所望の精度に加工可能であり、
かつ、途中の工程で腐食しない高分子材料等から形成さ
れ、この光透過性の基材１０上にＡＩ等の金属の薄膜層
１１を蒸着、スパッタリング或いは化学的方法等により
形成させる。
次に（ｂ）図に示すように、回転式フォトレジスト塗布
機によりフォトレジスト層１２を４０００〜１５０００
人の厚さで均一に塗布する０次にマスク合わせ装置を用
いてフォトマスク１３をフォトレジスト層１２に重ね合
わせた後、露光する。
機によりフォトレジスト層１２を４０００〜１５０００
人の厚さで均一に塗布する０次にマスク合わせ装置を用
いてフォトマスク１３をフォトレジスト層１２に重ね合
わせた後、露光する。
次に（ｅ）図に示すように、フォトレジスト層１２を現
像すると、ポジタイプのレジストでは、紫外線の当たっ
たところのフォトレジストは流れ去り、当たらない部分
のレジストが残り、フォトマスク１３のパターンが光透
過性の基材１０上に転写され、これによりフォトレジス
ト層１２に幅４μ程度、ピッチ３μ程度の開口が形成さ
れる。次いで（ｄ）図に示すように、フォトレジストｒ
ｉｉ２をマスクとして開口下の金属Ｎ１１をエツチング
処理してこれを除去し、フォトレジストＮ１２下のみに
金属Ｎ１１を残す０次に（ｅ）図に示すように、光記録
材料１４のｒ！Ｊ膜層を薄着、スバ・２タリング或いは
化学的方法等により形成させる。
像すると、ポジタイプのレジストでは、紫外線の当たっ
たところのフォトレジストは流れ去り、当たらない部分
のレジストが残り、フォトマスク１３のパターンが光透
過性の基材１０上に転写され、これによりフォトレジス
ト層１２に幅４μ程度、ピッチ３μ程度の開口が形成さ
れる。次いで（ｄ）図に示すように、フォトレジストｒ
ｉｉ２をマスクとして開口下の金属Ｎ１１をエツチング
処理してこれを除去し、フォトレジストＮ１２下のみに
金属Ｎ１１を残す０次に（ｅ）図に示すように、光記録
材料１４のｒ！Ｊ膜層を薄着、スバ・２タリング或いは
化学的方法等により形成させる。
光記録材料１４は、ダイレクト・リード・アフタ・ライ
ト（ＤＲＡＷ）タイプのために開発されている反射性金
属材料であり、例えばＴｅ、Ｔｅ系合金或いはカルコゲ
ナイド、カルコゲナイド系合金等が採用される６次に（
ｆ）図に示すように、ポリ塩化ビニール等の基板１５を
接着し、光反射率の異なる情報記録トラック１４ｂと案
内トラック１４ｃを有する光記録体１６を製造する。
ト（ＤＲＡＷ）タイプのために開発されている反射性金
属材料であり、例えばＴｅ、Ｔｅ系合金或いはカルコゲ
ナイド、カルコゲナイド系合金等が採用される６次に（
ｆ）図に示すように、ポリ塩化ビニール等の基板１５を
接着し、光反射率の異なる情報記録トラック１４ｂと案
内トラック１４ｃを有する光記録体１６を製造する。
上記のようにして製造した光記録体１６の情報記録トラ
ック１４ｂと案内トラック１４ｃとの光反射率を４００
〜７００ｎｍの白色光ランプを用いて測定した結果、情
報記録トラック１４ｂは４０％程度、案内トラック１４
ｃは９５％程度の光反射率となった。光記録体１６にビ
ット情報を書き込む場合には、２ビーム或いは３ビーム
を用いるが、３ビームを用いる例においては第２図に示
すように、両側のビームＡ、Ｃにより案内トラック１４
ｅと情報記録トラック１４ｂの反射率の差を検出するこ
とにより、案内トラック１４ｃ、１４ｃの位置を確認に
して左右にずれないようにして、真中のビームＢにより
情報記録トラック１４ｂにビット情報を書き込むもので
、制御方式が１ビームのものと比較して簡単となる。
ック１４ｂと案内トラック１４ｃとの光反射率を４００
〜７００ｎｍの白色光ランプを用いて測定した結果、情
報記録トラック１４ｂは４０％程度、案内トラック１４
ｃは９５％程度の光反射率となった。光記録体１６にビ
ット情報を書き込む場合には、２ビーム或いは３ビーム
を用いるが、３ビームを用いる例においては第２図に示
すように、両側のビームＡ、Ｃにより案内トラック１４
ｅと情報記録トラック１４ｂの反射率の差を検出するこ
とにより、案内トラック１４ｃ、１４ｃの位置を確認に
して左右にずれないようにして、真中のビームＢにより
情報記録トラック１４ｂにビット情報を書き込むもので
、制御方式が１ビームのものと比較して簡単となる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
種々の変形が可能であることは勿論である。
種々の変形が可能であることは勿論である。
例えば、上記実施例においては、金属層１１にアルミニ
ウムを用いて案内トラック１４ｃとしているが、銀、錫
等の反射率の高い金属を用いてもよいし、カーボン、シ
リコン、クロム（黒化処理）、ゲルマニウム等の低反射
率の材料を用いてもよい。要は情報記録トラック１４ｂ
との反射率の差が大きい材料であればよい。
ウムを用いて案内トラック１４ｃとしているが、銀、錫
等の反射率の高い金属を用いてもよいし、カーボン、シ
リコン、クロム（黒化処理）、ゲルマニウム等の低反射
率の材料を用いてもよい。要は情報記録トラック１４ｂ
との反射率の差が大きい材料であればよい。
そして、本発明の光記録体は、例えば、銀行カード、医
療カード、プリペイドカード、ＩＤカード、顧客整理カ
ード等の各種カード或いは光ディスク、光テープ等に採
用されるものである。
療カード、プリペイドカード、ＩＤカード、顧客整理カ
ード等の各種カード或いは光ディスク、光テープ等に採
用されるものである。
以上説明したように本発明によれば、光Ｉ１４性の基材
上に光記録材料と反射率が相違する複数の案内トラック
が形成されると共に、該案内トラックを覆うように光記
録材料層が形成されるため、制御方式が簡単であり、か
つ、特定の光記録材料に限定されることなく製造コスト
を低減させることができる。
上に光記録材料と反射率が相違する複数の案内トラック
が形成されると共に、該案内トラックを覆うように光記
録材料層が形成されるため、制御方式が簡単であり、か
つ、特定の光記録材料に限定されることなく製造コスト
を低減させることができる。
第１図は本発明の光記録体およびその製造方法の１実施
例を説明するための図、第２図は本発明の光記録体の書
き込み方式を説明するための図、第３図は従来の光記録
体の断面図、第４図は第３図の書き込み方式を説明する
ための図、第５図は従来の光記録体の他側を示す斜視図
である。 １０・・・光透過性の基材、１１・・・金属層、Ｉ２・
・・フォトレジスト層、１３・・・フォトマスク、１４
・・・光記録材料、１４ｂ・・・情報記録トラック、１
４ｃ・・・案内トラック、１５・・・基板、１６・・・
光記録体。 −−斌 ｉ − 大− ハト・■、＼゛ぺ Ｋｐ臥フンヘト第４図
例を説明するための図、第２図は本発明の光記録体の書
き込み方式を説明するための図、第３図は従来の光記録
体の断面図、第４図は第３図の書き込み方式を説明する
ための図、第５図は従来の光記録体の他側を示す斜視図
である。 １０・・・光透過性の基材、１１・・・金属層、Ｉ２・
・・フォトレジスト層、１３・・・フォトマスク、１４
・・・光記録材料、１４ｂ・・・情報記録トラック、１
４ｃ・・・案内トラック、１５・・・基板、１６・・・
光記録体。 −−斌 ｉ − 大− ハト・■、＼゛ぺ Ｋｐ臥フンヘト第４図
Claims (2)
- （１）レーザ光により書き込みが可能な光記録体におい
て、光透過性の基材上に光記録材料と反射率が相違する
複数の案内トラックが形成されると共に、該案内トラッ
クを覆うように光記録材料層が形成され、互いに反射率
の異なる情報記録トラックと案内トラックが交互に形成
されることを特徴とする光記録体。 - （２）レーザ光により書き込みが可能な光記録体であっ
て、光透過性の基材上に光記録材料と反射率が相違する
複数の案内トラックが形成されると共に、該案内トラッ
クを覆うように光記録材料層が形成され、互いに反射率
の異なる情報記録トラックと案内トラックが交互に形成
される光記録体の製造方法において、前記基材上に光記
録材料と反射率が相違する層を形成した後フォトレジス
トを塗布し、マスク露光および現像により前記案内トラ
ック部分にフォトレジストを残した後、エッチングによ
り案内トラック部分に前記光記録材料と反射率が相違す
る層を残し、次に基材全面に光記録材料の層を設けるこ
とを特徴とする光記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62014842A JPS63183638A (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 光記録体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62014842A JPS63183638A (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 光記録体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63183638A true JPS63183638A (ja) | 1988-07-29 |
Family
ID=11872291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62014842A Pending JPS63183638A (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 光記録体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63183638A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0404599A2 (en) * | 1989-06-22 | 1990-12-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical memory device |
-
1987
- 1987-01-24 JP JP62014842A patent/JPS63183638A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0404599A2 (en) * | 1989-06-22 | 1990-12-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical memory device |
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