JPS62291731A - 光情報記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は記録された情報を光学的に再生して読み取る光
記録再生方式の光情報記録体に関するものであり、薄手
で且つ製造容易な光情報記録カードやテープからなる光
情報記録体を提供するものである。

〔従来の技術〕

光情報記録部を光学的に再生して読み取る光情報記録体
は、記録され得る情報密度が従来の磁気方式によるもの
や近年検討されているｔＣ方式によるものと比較して飛
躍的に大きく、各種の情報記録カードやテープとして多
用され始めている。

然して、前記光情報記録体は、表面に光情報記録層が形
成されている基材シートの前記光情報記録層面に別製の
保護層用フィルムを接着剤で接着、積層したものや、裏
面に光情報記録層が形成されている保護層用フィルムの
前記光情報記録層面に別製の基材シートを接着剤で接着
。

積層したものが一般的なものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、前記光情報記録体は、光情報記録層が形成さ
れているシートｔたはフィルムと別製のフィルムまたは
シートを接着剤で接着、積層したものであるから、得ら
れる光情報記録体の厚さが大きくなるため情報記録テー
プの型態になし得ないばかりでなく、貼り合わせの為の
手間が掛かることが量産面での欠点ともなっている。

これに対して本発明の光情報記録体は前記従来の光情報
記録体に比較してその肉厚を遥かに薄くなし得るため、
情報記録カードのみならず情報記録テープの形態とする
ことも出来、また、その製造工程中には貼り合わせ工程
を含むことがないので製造工程が簡略である等の特長を
有するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の光情報記録体は、保護層と、裏面層と、前記保
護層と裏面層との間に形成されている光情報記録層とか
らなる積層構成を具備するものであり、前記保護層と裏
面層とのうちのいずれかの一方が既製の合成樹脂シート
で構成され、他方が合成樹脂のコーティング層で構成さ
れ、且つ前記光情報記録層が、前記保護層と裏面層との
うちのいずれかの一方を構成している前記合成樹脂シー
ト面に形成されているものである。

図に示される光情報記録体１は本発明の光情報記録体の
代表的な構成であり、裏面に、光情報パターン部２を具
備する光反射性金属薄膜からなる光情報記録層３が形成
されているポリカーボネート樹脂ノート（保護層）４と
、前記ポリカーボネート樹脂シート４の光情報記録層３
面にコーティング手段で形成されているポリ塩化ビニル
樹脂による裏面層５とからなるものである。尚、前記図
面に示される光情報記録体１において、符号６で表示さ
れる部分は必要に応じて前記ポリカーボネート樹脂シー
ト４の裏面に形成されている図柄、模様、会社名等の印
刷層である。

前記構成からなる本発明の光情報記録体においては、更
に、前記保護層４や裏面層５の外側表面に、硬化性樹脂
や金属酸化物等による表面硬化層が形成されていても良
いことは勿論である。

以下、本発明の光情報記録体における各層の具体的な構
成及び機能等について説明する。

保護層と裏面層 保護層と裏面層とは両者の間に存在する光情報記録層を
担持し且つ保護するものであり、保護層と裏面層との区
別は明確ではなく、両者は便宜的に設けられた呼称上の
差だけのものであるが、少なくとも一方の層にはむらの
無い光透過性が要求されるので、保護層と裏面層とのう
ちの少なくとも一方の層が平滑表面を有する厚みむらの
無い透明層で構成されていることが要求される従って、
他方の層は顔料や充填剤等が適宜混合されている不透明
層であっても良いことは勿論である。

前記保護層や裏面層は、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、セルロース系樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂
、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂
、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂。

ポリアミド樹脂等で構成される。

尚、保護層と裏面層とのうちのいずれかの一方が構成さ
れる合成樹脂シートには、得られる光情報記録体の読み
取りに支障が無い限り、図面１文字等の印刷が付されて
いても良いものである。

光情報記録層 光情報記録層は、前記保護層と裏面層とのうちのいずれ
かの一方を構成している合成樹脂シート面に形成されて
いるもので、例えば、前記合成樹脂シート面に形成され
ている低融点の金属薄膜にレーザービーム等を照射して
所定箇所のみに変化を生じさせることによって光記録し
たものや、前記合成樹脂シート面に形成されている光反
射率の高い（高光反射性の）金属薄膜に凹部または貫通
孔の集合体からなる光情報パターン部を形成したもの等
である。この凹部または貫通孔の集合体からなる光情報
パターン部が光反射性金属薄膜に形成されてなる光情報
記録層は、前述の保護層と裏面層とのうちのいずれかの
一方を構成する合成樹脂シート面に、スパッタ、真空蒸
着、イオンブレーティング、電気メッキ等により光反射
性金属薄膜を形成した後、該光反射性金属薄膜の所定表
面のみにフォトレジスト層を部分的に形成し、次いでエ
ツチングを施し、フォトレジスト層の無い部分の光反射
性金属薄膜全体もしくはその表面部分を腐蝕、除去し、
必要に応じて、残存しているフォトレジスト層を剥離、
除去することによって容易に形成されるものである。

前記光情報記録層が、特に前記光反射性金属薄膜に光情
報パターン部を形成したもので構成されている場合には
、従来のこの種の光情報記録体、すなわち、低融点金属
の薄膜にレーザービーム等を照射して前記薄膜の一部を
変化させることにより形成されている光情報記録層を有
する光情報記録体と比較して、光記録を再生する際に必
要とされていたレーザービームが不要となるため読み取
りが簡便となるばかりでなく、光情報記録を行なう際の
レーザービーム取り扱いに必要とされている高度の技術
が不要となるため、光情報記録層の形成も簡便となる等
の特徴を有する。

以下に、光反射性金属薄膜に前記フォトエツチング法で
光情報パターン部を形成した光情報記録層の具体的な構
成を説明する。

光反射性金属薄膜 光反射性金属薄膜の材質は、 （１）光反射性の優れた金属、例えばＡ４　Ｎ　＋％Ｃ
ｒ。

Ａｇ、　Ａｕなどあるいはこれらを主体とする合金が第
１に挙げられる。このグループに属する金属もしくは合
金を使用すると、得られる光情報記録層における光情報
パターン部と非パターン部との光学的コントラストが高
く、読み出しが容易である。

（２）低融点金属であるＴｅ％Ｚｎ、　Ｐｂ、　Ｃｄ％
Ｂｉ、　Ｓｎ。

Ｓｅ、Ｉｎ、　Ｇａ、　Ｒｈなどの金属もしくはこれら
を主成分とする合金も使用でき、好ましい合金の例とし
ては、Ｔｅ−３ｅ、　Ｔｅ−５ｅ−Ｐｂ、　Ｔｅ−Ｐｂ
。

Ｔｅ−Ｐｂ、　Ｔｅ−３ｎ−Ｓ１Ｓｎ−Ｃｕ、　Ｔｅ−
Ｃｕ−Ｐｂなどが挙げられるし、更に５〜４０原子数チ
のＣｕを含むＴｅ−Ｃｕ合金あるいは５〜４０原子数係
のＣｕおよびＣｕに対して１〜５０原子数チのｐｂを含
むＴｅ−Ｃｕ−Ｐｂ　合金は、読み出し用のレーザービ
ームの波長を６５０　ｎｍ以上とする場合に光情報記録
層における光情報パターン部と非パターン部との光学的
コントラストが高く、読み、出しが容易である。

（３）　　レーザービーム等の照射により相転移を生じ
て光の反射率が変化する金属、例えばＴｅ酸化物、ｓｂ
酸化物、ＭＯ酸化物、Ｇｅ酸ｆヒ物、■酸化物、　Ｓｎ
酸化物、あるいはＴｅ酸化物−Ｇｅ、　Ｔｅ−５ｎなど
の化合物も使用できる。

（４）上記金属と有機化合物または無機酸化物との複合
物、たとえばＴｅ　−ＣＨ４、Ｔｅ　−Ｃ３２、Ｔｅ−
スチレン、５ｎ−５Ｏ２、Ｇｅ５−５ｎ、　５ｎＳ−３
などの薄膜あるいはＳ　ｉ　０２　／Ｔ　ｉ／Ｓ　ｉ　
Ｏｚ　／Ａｔなどの多層膜も光反射性金属薄膜として用
いられうる。

（５）光磁気記録材料であるＧｄＣｏ、　ＴｂＣｏ、　
ＧｄＦｅ。

ＤｙＦｅ、　ＧｄＴｂＦｅ、　ＧｄＦｅＢ１、ＴｂＤｙ
Ｆｅ、　ＭｎＣｕＢ１なども光反射性金属薄膜として用
いられうる。

（６）以上に示したような金属もしくは合金の多層膜、
例えばＩｎ膜とＴｅ膜との多層膜等も光反射性金属薄膜
として使用できる。

尚、以上の各種金属や合金による金属薄膜のうちでは、
光反射性と耐久性との観点から、ＡＩ、　Ｏｒ、　Ｎｉ
、　Ａｇ、もしくはＡｕが好ましいものである。

光反射性金属薄膜は、前述の如き金属もしくは合金を使
用し、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、イオンブレーテ
ィング、もしくは分子線エビタキ・／−１めっき等の手
段により、通常、２００λ〜１０，０００人、より好ま
しくは１，０００人〜ｓ、ｏｏｏＸ程度に形成されるも
のである。

光情報パターン部 フォトエツチング法による光情報パターン部の形成 １）　フォトレジスト層の形成 前述の光反射性金属薄膜の上に該薄膜がフォトエツチン
グを受けることがない部分となるフォトレジスト層を部
分的に形成するものである。

フォトレジスト層を部分的に形成する手段は、露光によ
って不溶性から溶解性へと変化する物質、または溶解性
から不溶性へと変化する物質によるフォトレジスト層を
前記光反射性金属薄膜の全面に形成し、前者の場合には
光情報パターン部を露光して光情報パターン部に相当す
る部分のフォトレジスト層を溶解性となすものであり、
後者の場合には非光情報パターン部を露光して非光情報
パターン部に相当する部分のフォトレジスト層を不溶性
となすものである。

前記フォトレジスト層は、例えば、■ジアゾニウム塩も
しくはアジド化合物を含む光分解型感光性樹脂、■／ン
ナモイル系、ジアゾ系、アジド系、もしくはアクリロイ
ル系などの光架橋型感光性樹脂、■アクリル酸エステル
、アクリルアミドなどの光重合型感光性樹脂等をはじめ
、卵白、カゼイン、グリユー、ＰＶＡ　、シェラツクな
どの重クロム酸感光液などにより、例えば、かけ流し法
、ホイーラー法、スピンナー法、浸漬法、ローラーコー
ト法、スプレィ法、静電スプレィ法など、又はドライフ
ィルムの場合には加熱圧着法で、通常、０．５〜５．０
μｍ程度に形成されるものである。尚、前述のフォトレ
ジスト層にはプリベーキングと称する予備加熱を行なっ
ておくことが普通である。

２）エツチング 前記光反射性金属薄膜上に形成されているフォトレジス
ト層に光情報パターン部（または非光端パターン部）に
相当する部分を露光し、次いで現像して部分レジストパ
ターン層となし、その後腐食液を用いてフォトレジスト
層で被覆されていない部分（金属露出部分）を腐蝕し、
凹部もしくは貫通孔の集合体からなる光情報パターン部
を形成するものである。

尚、光情報パターン部（または非光端パターン部）に相
当する部分への露光は、写真フィルム、金属マスク等の
パターンを介して紫外線等を照射することにより行なう
のが簡便である。この他、金属マスクを介して電子線を
照射する方法によって行なってもよいし、あるいは、パ
ターンを使わず電子線をパターン状に走査して露光を行
なってもよい。

現像は露光を受けることによって生成した溶解可能な部
分、まだは露光を受けることに　。

よって生成した溶解不可能部分以外の部分のフォトレジ
スト層を溶剤で溶解し除去することであり、所定の現像
液を用いて行なわれる。

この現像により、エツチングすべき部分の光反射性金属
薄膜の上部のフォトレジスト層がパターン状に除去され
て部分的に金属薄膜の露出部分が形成されるものである
。

尚、光情報パターン部の形成後、残っているフォトレジ
スト層を必要があれば除去することは勿論である。

前記構成からなるフォトエツチング法によって得られた
光情報パターン部は、光反射性金属薄膜の表面に形成さ
れている凹部や該薄膜を貫通する貫通孔の集合体から成
っており、この凹部もしくは貫通孔の平面形状は、だ円
、長方形、正方形等であり、それらの直径もしくは長辺
の長さは通常２〜２００μｍ程度で、隣接する各凹部も
しくは貫通孔の中心間距離は通常５〜５００μｍ程度で
ある。

尚、前記光情報記録層は、光学的濃度の高いインキを用
いて印刷法もしくは塗布法により、あるいは無反射クロ
ムを蒸着する等して形成される光学的低反射層と、前記
光情報パターン部が形成されている光反射性金属薄膜と
の２層構成で構成させることも可能である。

また、光情報記録層は、その平面形状がアイランドフォ
ー・ム（１ｓｌａｎｄ　ｆｏｒｍ　）、すなわち、光情
報記録層の円周端面が保護層と裏面層との端面と接する
ことがなく、保護層や裏面層の端面より内方へ後退した
状態に形成されることが好ましく、光情報記録層の端面
が外気と接触するのを排除することにより、該層の耐食
性を向上させると共に光情報記録体の美感を向上させ得
るものである。

更に、光情報記録体は記録密度を高くすることが出来る
という特性を有するものであるが、この高密度記録体の
読み取りは、読み取シ（再生）光の走査を厳密に行わな
くてはならないという宿命を有する。かかる観点で、前
記光反射性金属薄膜にフォトエツチングによる光情報パ
ターン部を形成する際に、前記光反射性金属薄膜の一部
に打ち抜きもしくは裁断のためのマークを付して置き、
このマークを基準にして打ち抜きや裁断を行々うように
すれば、光情報パターンの記録位置が一定とされている
光情報記録体となるので、読み取り（再生）光の走査の
精度の良い光情報記録体となる。

表面硬化層　　　゛ 本発明の光情報記録体において必要に応じて形成される
表面硬化層は、前記光情報記録体の表面硬度を高め、該
記録体の耐久性、記録（書き込み）精度、再生（読み取
り）精度等を向上させる作用を果すものである。

表面硬化層は該層に接する保護層や裏面層の物性を低下
させることの無い物質及び形成条件ばて形成されるもの
であり、例えば、シリコーン系、アクリル系、メラミン
系、ポリウレタン系、エボキン系等の硬化樹脂、Ａ１２
０ｉ３やＳｉＯ２等の金属酸化物、もしくはプラズマ重
合による重合膜が表面硬化層の具体的材質として挙げら
れる。一般に硬化した膜は傷つきにくく、従って傷の部
分に汚れが詰まることがなく、又、化学的に不活性であ
るので表面に汚れが付着しに＜＜、付着しても除去が容
易でちる等の作用を奏するものである。

〔実施例〕

以下、本発明の光情報記録体の具体的な構成を製造実施
例を以って説明する。

実施例１ 厚さ７５０μｍの透明アクリルシートの表面に真空蒸着
法を用いてＡＩ膜（膜厚２ｏｏｏＸ）を設け、さらにそ
の上層にフォトレジスト（シラプレー社製：マイクロポ
ジット）をスピンナーで塗布したのち、９０°Ｃで２５
分間ベーキングし、膜厚１μｍのフォトレジスト層を形
成した。

次いで、情報パターン部と同一形状のパターンが形成さ
れているフォトマスクを上記レジスト層に密着して重ね
、超高圧水銀灯（３ＫＷ：距離８０ｃｍ）で１０秒間露
光した。

露光後、現像液（シラプレー社製二マイクロポジットデ
ペロノパー）に浸漬して露光部のフォトレジスト層を溶
解除去し、除去後、１００℃で２０分間ポストベーキン
グしたのち、更に、腐食液（リン酸１６部、酢酸２部、
硝酸１部および水１部からなる。部：容量部）に３分間
浸漬し、露光部のアルミニウム層を腐食除去して、光情
報パターン部を有する光反射性金属薄膜からなる光情報
記録層を得た。

更に、前記透明アクリルシートの余白部に、スクリーン
印刷により印刷層を設け、さらにこれら金属薄膜と印刷
層とを被覆するようにして保護層を塗布、形成し、本発
明の１実施例品たる光情報記録体を得た。

尚、前記保護層は、白色顔料が分散されているアクリル
系紫外線硬化型樹脂からなるコーティング剤の塗布層に
紫外線を照射して形成したものである。

実施例２ 厚さ１００μｍの透明ポリエステルフィルム（今人製、
テトロンフィルム０タイプ）上に、蒸着用プライマーと
してアクリル樹脂（犬日本インキ化学社製：タフコート
）をロールコート方式により塗布、乾燥し、その上に真
空蒸着法によりＡＩ膜（膜厚：２ｏｏＸ）を形成した。

更に前記ＡＩ膜上に、前記実施例１における光情報記録
層の形成手段と同一手段を施し、光情報パターン部を有
する光反射性金属薄膜からなる光情報記録層を形成した
。

次いで、前記光反射性金属薄膜の表面全面に透明アクリ
ル系紫外線硬化型樹脂（スリーポンド社製：　ＵＶＸ−
ＨＭＩ　９６　）を塗布した後、紫外線を照射、硬化し
て、薄くかつフレキンプルタイプの本発明の１実施例品
たる光情報記録体を得た。

実施例３ 厚さ１４　ｔｘｍのポリエーテルサルフォノフィルム（
住友ベークライト社製）上に蒸着用プライマーとしてア
クリル樹脂（犬日本インキ化学社製°タフコート）をロ
ールコート方式により塗布、乾燥し、その上に真空蒸着
法によりＡＩ　膜（膜厚：２００″Ａ）を形成した。更
に前記ＡＩ膜上に、前記実・流側１における光情報記録
層の形成手段と同一手段を施し、光情報パターン部を有
する光反射性金属薄膜からなる光情報記録層を形成した
。

次いで、前記光反射性金属薄膜の表面全面に透明アクリ
ル系紫外線硬化型樹脂（スリーボンド社製：　ＵＶＸ−
ＨＭＩ　９　ａ　）を塗布した後、紫外線を照射、硬化
させ、薄くかつフレキシブルタイプの本発明の１実施例
品たるテープ状の光情報記録体を得た。

〔発明の作用及び効果〕

本発明の光情報記録体は、保護層と、裏面層と、前記保
護層と裏面層との間に形成されている光情報記録層とか
らなる積層構成を具備するもので、保護層と裏面層との
うちのいずれかの一方が合成樹脂シートで構成されると
共に他方が合成樹脂のコーティング層で構成されており
、且つ、前記保護層と裏面層との間の光情報記録層が、
前記保護層と裏面層とのうちのいずれかを構成している
前記合成樹脂シート面に形成されているものであるから
、従来の貼り合わせや積層体からなる光情報記録体に比
較して遥かに肉薄となし得るものであり、例えばテープ
状の光情報記録体ともできるものである。

また、本発明の光情報記録体は、構造上、その製作工程
中に貼り合わせを経ることなく得られるものであるから
、製造が簡便であるという作用、効果をも有するもので
ある。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の光情報記録体の１実施例品の断面模型図で
ある。 １：光情報記録体、２°光情報パタ一ン部（貫通孔）、
３：光情報記録層（光反射性金属薄膜）、４：保護層、
５．裏面層。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）保護層と、裏面層と、前記保護層と裏面層との間
   に形成されている光情報記録層とからなる積層構成を具
   備する光情報記録体において、保護層と裏面層とのうち
   のいずれかの一方が合成樹脂シートで構成されると共に
   他方が合成樹脂のコーティング層で構成されており、且
   つ、前記保護層と裏面層との間の光情報記録層が、前記
   保護層と裏面層とのうちのいずれかを構成している前記
   合成樹脂シート面に形成されていることを特徴とする光
   情報記録体。
2. （２）保護層と、裏面層と、前記保護層と裏面との間に
   形成されている光情報記録層とからなる積層構成を具備
   する光情報記録体が、前記保護層の外側面に表面硬化層
   を具備する特許請求の範囲第１項記載の光情報記録体。
3. （３）光情報記録層がフォトエッチング法により形成さ
   れている光情報パターン部を有する金属薄膜で構成され
   ている特許請求の範囲第１項または第２項記載の光情報
   記録体。