JPS6323244A

JPS6323244A - 光カ−ドの製造方法

Info

Publication number: JPS6323244A
Application number: JP16757286A
Authority: JP
Inventors: Mitsuru Takita; 多気田　満; Takashi Wada; 隆和田; Yuji Kondo; 祐司近藤
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1986-07-16
Filing date: 1986-07-16
Publication date: 1988-01-30

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

及匪卑旦荀［産業上の利用分野］本発明は、キャッシュカード、クレジットカード、ＩＤ
カニドなどにおいて、必要な情報の書き込みおよび読み
出しを光学的な記録および再生手段によって行なう光カ
ードの製造方法に関する。［従来の技術］たとえばテルル、ビスマスのような低融点金属の薄膜を
基材上に設け、レーザービームなどを照射して薄膜の一
部に変化を生じさせて記録を行ない、記録された情報を
光学的に再生する光記録再生の技術を、各種のカード類
に適用することが試みられている。種々のカードの中でも、発行枚数の多いキャッシュカー
ド、クレジットカード、ＩＤカードなどを対象にこの技
術を実用化するには、量産が容易で、コストの低い光カ
ードを開発する必要がある。出願人は、上記の要望にこたえた光カードおよびその製
造方法を発明し、すでに提案した（特願昭６０−２８３
２６８号）。　その光カードは、カード基材上に光情報
パターンを有する金属薄膜層および保護層を積層してな
る。　その製造方法は、カード基材上に金属薄膜層およ
びフォトレジスト層をこの順で積層し、光情報パターン
を書き込んだフォトマスクを介して露光し、現像および
エツチングして光情報パターンを有する金属薄膜層を形
成し、その上に保護層を設け、所定の寸法のカードに打
抜いて、カード素材を得ることを特徴とする。　金属薄
膜層は、保護層上に設けてから、カード基材と貼り合わ
せる製造方法もある。いずれの方法をとるにせよ、この光カードでは、各カー
ドに共通な情報パターンの形成は一括してフォトレジス
ト層のエツチングで行ない、固有の情報パターンは１枚
ごとにレーザービームに坐り書き込むわけである。一方、読みとり専用の光カードの製造にリフトオフを利
用した技術が特開昭６１−８０６３２号「光読み取りカ
ード及びその製造方法」に開示されている。　その製造
方法の要旨は、基板上にフォトレジスト組成物を塗布し
、データビットや案内トラックなどのパターンを形成し
であるマスクを介して露光し現像してパターンを転写し
、その上に金属などの高反射率の膜層を形成した後、レ
ジスト層およびその上の金属などの高反射率の膜層をリ
フトオフし、上記のパターンを有する膜層をもった媒体
を作成し、この媒体をカード基材に貼着することにある
。前記した本発明者らの光カードの製造に当って、共通な
情報パターンの形成にこのリフトオフ方式を利用するこ
とを着想し、光カードを試作してみたところ、試用の過
程で、情報の書き込みや読み取りの誤りが生じることが
経験された。　その光カードを調査したところ、金Ｒａ
膜層の平滑性がよくないことが判明した。　その原因は
、ポリカーボネートなどの保護層の表面が、その上にレ
ジスト層を形成する際に試用するフォトレジスト組成物
とくにその中の右派溶剤により荒らされて、平滑性が低
下するものと推測される。（発明が解決しようとする問題点］本発明の目的は、各カードに共通な情報パターンの形成
は一括してフォトレジスト層のエツチングで行ない、固
有の情報パターンは１枚ごとにレーザービームにより書
き込む光カードの製造において、エツチングをリフトオ
フに置換した製造方法を確立し、情報の書き込みや読み
取りの誤りが生じないような光カードを与える製造方法
を提供することにある。及肌五員感

【問題点を解決するための手段】

本発明の光カードの製造方法は、第１図Ａまたは第２図
ａに示すように、カード基材１または保護層７の上にフ
ォトレジスト組成物２を塗布し、第１図Ｂまたは第２図
すに示すように、光情報パターンをもつフォトマスク３
を介して露光してから、第１図Ｃおよび第２図Ｃに示す
ように、現像してレジスト層４を形成し、第１図りまた
は第２図ｄに示すように、その上に金属薄膜層５を積層
した後２、リフトオフ方式でレジスト層４およびその上
の金属ａ膜層５を除去することにより、第１図Ｅまたは
第２図ｅに示すように、光情報パターン６を書き込んだ
金属薄膜層５を形成し、第１図Ｆに示すように、その上
に直接に保護層７を設けるか、または第２図ｆに示すよ
うに、接着剤層８を介して基材１上に接着し、所定の寸
法のカードに打扱くことからなる光カードの製造方法で
あって、フォトレジスト組成物２として、カード基材１
または保護層７を損なうことのないキノンジアジド化合
物、クレゾール樹脂およびアルコール系溶媒からなるも
のを使用することを特徴とする。カード基材には、必要に応じて他の記録手段、たとえば
磁気記録層などが施されていてもよい。カード基材の材質は、常用の磁気カードと同様でよく、
硬質のポリ塩化ビニル樹脂、とくに色彩を施したり印刷
を行なうため、白色のものが適当である。　もちろん、
その他の合成樹脂も使用できるし、シート状であれば他
の材料を使用してもよい。　折り曲げに対する抵抗が必
要ならば、金属の板や網、織布や不織布を用いて補強し
てもよい。カード基材は積層材であってもよい。保護層は、カードの金属薄膜層を保護するものである。　保護層に要求される特性は、透明性が高いこと、平滑
であること、および厚みムラのないことでおる。　最も
好ましい保護層材料の一例として、ポリカーボネート樹
脂フィルムが挙げられる。　適切な厚さは、数μ〜８０
０μ程度である。　そのほかに好ましい保護フィルムの
例としては、セルロース系樹脂（たとえばセルロースト
リアセテート）、ポリエチレンテレフタレート、ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル
、ポリエーテルサルホン等のポリサルフォン樹脂、ポリ
メチルペンテン等の樹脂のフィルムがある。　また、こ
れらの樹脂を適宜の溶剤にとかして金属薄膜層上に塗布
して形成してもよい。保護フィルムの面には、積層する他の材料との接着力を
向上させるため、コロナ放電、プラズマ処理等の物理的
な処理、酸を用いた酸化処理やプライマーの塗布などの
処理を、必要に応じて行なうとよい。所望であれば、保護層の上にざらに硬化樹脂層を設けて
、表面の保護の完全をはかることもできる。　硬化樹脂
層は、カードの携帯時や使用時に傷がつくことと、それ
に伴ない傷の中に汚染物質がつまることを防止し、光カ
ードの耐久性、記録精度および再生の精度を向上させる
。硬化樹脂層の材質としては、保ｒ！を層の特性を低下さ
せない限り、任意のものを使用できる。　たとえば、シ
リコーン系、アクリル系、メラミン系、ポリウレタン系
、エポキン系等の硬化樹脂、Ａｇ２Ｏ３や５ｉ０２等の
金属酸化物、プラズマ重合による重合膜が具体的材質と
して挙げられる。本発明で使用するフォトレジスト組成物としては、出願
人がすでに提案した発明「フォトレジスト組成物」（Ｒ１＝アルキル基、Ｒ２＝アルキル基）で表わされる
キノンジアジド化合物、クレゾール樹脂およびアルコー
ル系溶媒からなるものが好適である。　塗布には、ロー
ルコート法など任意の方法が利用できる。金属薄膜層は、下記のような金属または合金を使用し、
蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、イオンブレーティング
、あるいは分子線エピタキシー、めっき等の手段により
形成する。（１）　光反射性のすぐれた金属、たとえばＡｆＪ、Ｎ
ｉ　、　Ｃｒ　、　Ａ（１、ＡＵ　、およびこれらを主
体とする合金。（２）　低融点金属であるＴｅ　、Ｚｎ　、Ｐｂ、ｃｄ
、３ｉ１３ｎ、３ｅ、ｉｎ、Ｑａ、Ｒｂ、およびこれら
を主成分とする合金、好ましい合金の例としては、Ｔｅ
　−３ｅ　、　Ｔｅ　−３ｅ　−Ｐｂ　、Ｔｅ　−Ｐｂ
　、Ｔｅ　−３ｎ−３，Ｓｎ　−ＣＵ　、Ｔｅ　−Ｃｕ
−Ｐｂなトカ挙ケラレル。レーザービーム等の照射により相転移を生じて光の反射
率が変化する、Ｔｅｍ化物、Ｓｂ酸化物、Ｍａｒ！ｌｔ
化物、Ｇｅ酸化物、■酸化物、３ｍ酸化物、あるいはｌ
”ｅ酸化物−Ｇｅ　５Ｔｅ−３ｎなどの化合物も、金属
薄膜を形成するものとして使用できる。上記金属と有職化合物または無機酸化物との複合物た反
えばＴｅ　　ＣＨ、Ｔｅ、　　Ｏ３２、Ｔｅ〜スチレン
、３ｎ　　ｓｏ２、Ｇｅ　３　３ｎ　。Ｓｎ　Ｓ−３などの薄膜、あるいはＳｉ　０２　／Ｔｉ
／Ｓｉ　０２　／ＡＮなどの多層膜も、反射性金属薄膜
として用い得る。ざらに、光磁気記録材料であるＧｄ　Ｃｏ、Ｔｂ　Ｃｏ
　、Ｇｄ　Ｆｅ　、ＤＶ　Ｆｅ　、Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ、
Ｇｄ　Ｆｅ　Ｂｉ　、Ｔｂ　Ｄｙ　Ｆｅ　、　Ｍｎ　Ｃ
ｕ　１３ｉなども、反射性金属薄膜として使用可能であ
る。厚さは、２００人〜１０，０００人、好ましくは１．０
００人〜５，０００人である。光情報パターンを書き込んだ金属薄膜層の形成は、リフ
トオフ方式の常法に従って実施すればよい。接着剤層は、カード基材とその上にある層との９を接着
するために使用する。　光情報パターンを書き込んだ金
属薄膜層が保護層よりも小さければ、保護層とカード基
材とが接着することもある。従って、接着剤層の接着剤は、カード基材の材質と金属
薄膜層の材質に加えて、保護層の材質も考慮して選択す
る。　接着剤の具体的な例は、エポキシ系、ウレタン系
、アクリル系もしくはシアノアクリレート系のものであ
る。（作　用］本発明の光カードの製造に使用するフォトレジスト組成
物は、キノンジアジド化合物、クレゾール樹脂およびア
ルコール系溶媒からなり、カード基材または保護層の表
面を荒らす物質を含んでいないので、フォトレジスト組
成物を塗布した表面が損なわれず、平滑性が保たれる。　従って、その上に積層する金属薄膜層も平滑性が高い
。

【実施例】

厚さ４００μの透明ポリカーボネートシートの片面に、
前記の式でＲ１−Ｒ２＝ＣＨ３のキノンジアジド化合物
５％を含有し、クレゾール樹脂３０％およびアルコール
系溶媒６５％からなるフォトレジスト組成物（諸星イン
キ）を、ロールコータ−で、乾燥時の厚さが１μになる
ように塗布し、１００’Ｃで３０分間プリベーキングし
てフォトレジスト層を形成した。露光用マスクとして、電子線描画装置により光情報パタ
ーンを書き込んだものを用い、このマスクを上記のフォ
トレジスト層に密着させ、超高圧水銀灯３ｋｗを使用し
、１ｍ離れた距離からマスクを通して１０秒間、紫外線
を照射してパターン露光した。露光後、ケイ酸ナトリウムを主成分とするアルカリ水溶
液からなる現像液ｒＭＲ−ＤＪ　　（諸星インキ）に浸
漬し、露光部のフォトレジストを溶解除去してレジスト
層を形成した。このレジスト層の上に、真空蒸着により厚さ０゜２μの
アルミニウム層を形成した。次に、このシートをエチルセロソルブ溶液に１分間浸漬
して、リフトオフによりレジスト層およびその上のアル
ミニウム層を除去し、光情報パターンをパターニングし
た金属薄膜−を形成した。一方、厚さ３００μの白色硬質ポリ塩化ビニルシートの
表面にオフセット印刷で印刷を施し、裏面には磁気スト
ライプを転写法で設けたシートを用意した。このシートの表面と前記のポリカーボネートシートの金
属薄膜層とが相対するようにして、アクリル樹脂系感熱
接着剤を介して貼り合わせ、表面温度１１０℃の熱ロー
ルを用いて圧着し、光カード素材を形成した。次に、この素材を打抜き金型により打抜き、書き込みや
読み取りに支障がない光カードを得た。発明の効果本発明の光カードの製造方法によれば、各カードに共通
な情報パターンの形成は一括してリフトオフ方式で行な
い、光情報パターンを書き込んだ平滑性の高い金属薄膜
層を形成することができる。従って、情報の書き込みや読み取りの誤りが生じない光
カードが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図へないしＦおよび第２図ａないしｆは、ともに本
発明の光カードの製造方法の各工程を説明するための、
カード材料の模式的な断面図である。１・・・カード基材２・・・フォトレジスト組成物３・・・フォトマスク４・・・レジスト層５・・・金属薄膜層６・・・光情報パターン７・・・保護層８・・・接着剤層特許出願人　　　大日本印刷株式会社代理人　　弁理士　　須　賀　総　夫第１図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）カード基材または保護層の上にフォトレジスト組
成物を塗布し、光情報パターンをもつフォトマスクを介
して露光してから現像してレジスト層を形成し、その上
に金属薄膜層を積層した後、リフトオフ方式でレジスト
層およびその上の金属薄膜層を除去することにより光情
報パターンを書き込んだ金属薄膜層を形成し、その上に
直接に保護層を設けるか、または接着剤層を介して基材
上に接着し、所定の寸法のカードに打抜くことからなる
光カードの製造方法であつて、フォトレジスト組成物と
して、カード基材または保護層を損なうことのないキノ
ンジアジド化合物、クレゾール樹脂およびアルコール系
溶媒からなるものを使用することを特徴とする光カード
の製造方法。
（２）保護層の表面に硬化樹脂層を設ける工程を含む特
許請求の範囲第１項に記載の製造方法。