JP3314243B2

JP3314243B2 - 光カード

Info

Publication number: JP3314243B2
Application number: JP22923292A
Authority: JP
Inventors: 寿一佐藤
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1992-08-05
Filing date: 1992-08-05
Publication date: 2002-08-12
Anticipated expiration: 2017-08-12
Also published as: JPH0655884A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学的な情報記録が可
能な光カードに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、情報記録部をプラスチックカード
に内蔵した光学式のメモリーカードとしていわゆる光カ
ードが知られている。その中でも、製造工程が簡単で、
原料に関しても特定の光記録材料に限定されることがな
く、さらに工業的規模での大量複製にも適した製造コス
トの低い光記録媒体を用いた光カードとして、低反射率
部分を光散乱性を有する粗面化部分で構成した光カード
が提案されている（例えば、特開平１−１０５７９１号
公報参照）。

【０００３】上記光カードのＷＯＲＭ（ＷｒｉｔｅＯ
ｎｃｅＲｅａｄＭａｎｙ）タイプの一例を示すと図
４のようである。図４に示す光カードは、光透過性の基
材４０における粗面化された低反射率部分４２と、高反
射率を有する光記録可能部４１と、この光記録可能部４
１と低反射率部分４２を覆うようにして基材４０の表面
に光記録材料層４３が積層形成されており、さらにこの
表面には、接着剤層４４、及びカード基材４５が積層さ
れ、一方、反対側には、透明基材層（保護層）４６並び
に表面硬化層４７が積層形成されている。そして、光記
録材料層４３がカードの端部に露出しておらず、全体と
して空隙のない密閉型なので経時的な安定性に特に優れ
たものである。

【０００４】この光カードへの記録は、前記光記録可能
部４１上に、レーザー光を用いて孔４８ａをあけること
によっておこなわれる。記録した情報は、光記録部４８
ａと未記録部４８ｂとの反射率のコントラストによって
読み取ることができる。従って、光記録部４８ａと未記
録部４８ｂとの反射率のコントラストが大きい程、読み
取りは容易になる。

【０００５】この光記録可能部４３上にレーザー光にて
あけられた孔４８ａからは、光記録材料層の下のカード
基材４５の色相がそのまま識別されるため、カード基材
４５の色相がそのまま光記録部の色相となる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、現在使用さ
れているカード基材は、その殆どが白色であり、反射率
が高い。また、光記録材料層も高反射率を示す材料より
形成されているため、光記録部と非記録部は、どちらも
反射率の高いものとなっている。そのため、光記録の読
み取りが困難で、読み取りエラーが発生しやすいという
問題があった。

【０００７】本発明は、上記の諸問題点を解決し、光記
録が読み取り易く、読み取りエラー等のない光カードを
提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、光透過性の基材の片面に形成された、
光記録をおこなうための光記録材料層の表面に接着剤層
を介してカード基材が積層され、前記基材の光記録材料
層が設けられた側と反対側の表面には透明保護層及び表
面硬化層が積層されてなる光カードにおいて、前記カー
ド基材上の、前記光記録材料層に対応する部分に低反射
率のベタ印刷が施されており、前記光記録材料層におけ
る光記録部の反射率が、非記録部の反射率より低いこと
を特徴とする。更に、本発明は、光記録部の反射率を
Ｂ、非記録部の反射率をＡとすると、コントラスト値
（Ａ−Ｂ）／Ａが０．８以上であることを特徴とする。

【０００９】

【作用】上記構成からなる光カードは、光記録材料層に
おける光記録部の反射率が、非記録部の反射率より低く
なるように、カード基材上に、反射率の低いインキによ
るベタ印刷が施されていることで、光記録部の反射率を
低くおさえることができる。一方、非記録部は高反射率
であるため、両者の反射率のコントラストにより、光記
録が読み取り易いカードとなる。

【００１０】

【実施例】図１は本発明の一実施例であるＷＯＲＭタイ
プの光カードの断面図であり、これは図２に示す光カー
ドＣのｘ−ｙ断面図に相当する。図１に示される光カー
ドは、光透過性の基材１の片面に形成された光記録材料
層２の表面に接着剤層３を介してカード基材４が積層さ
れ、前記基材１の光記録材料層２が設けられた側と反対
側の表面には透明保護層５及び表面硬化層６が積層され
た構成となっている。そして、前記カード基材４はオー
バーシート４ａ、コアシート４ｂ、オーバーシート４ｃ
を積層した３層構造のものが使用され、前記光記録材料
層３側のオーバーシート４ａとコアシート４ｂとの間に
印刷層７ａ，７ｂが、またオーバーシート４ｃとコアシ
ート４ｂとの間に印刷層７ｃが施されている。

【００１１】本願発明では、このコアシート４ｂ上の、
光記録材料層２に対応する部分に、低反射率のベタ印刷
層７ｂを設ける。ここで用いる低反射率を示すインクと
しては、ミロリブルー（Ｆｅ錯体）やカーボンブラック
等の顔料を含有した、アクリル用・硬質塩化ビニル用・
軟質塩化ビニル用のシルクスクリーン用インキ等のイン
クが挙げられる。これらのインクをシルクスクリーン印
刷により、コアシート上に印刷する。カード上への印刷
は、通常シルクスクリーン印刷とオフセット印刷が用い
られているが、オフセット印刷では、熱プレス時にオー
バーシート４ａがコアシート４ｂと接合しない。よっ
て、熱プレス時に接合のよいシルクスクリーン印刷によ
り印刷層を形成する。

【００１２】このときの、光記録部８ａの反射率をＢ、
非記録部８ｂの反射率をＡとする。反射率は、例えば、
レーザーディスク用透過率・反射率測定装置ＴＲＦ−３
００型（（株）溝尻光学工業所）等の装置にて測定する
ことができる。本願発明はこれらの反射率ＡとＢの値に
差をつけることによって、光記録を読み取り易くすると
いう目的を達成する。目的達成のためには、両反射率の
コントラスト値（Ａ−Ｂ）／Ａが０．８以上であること
が好ましい。

【００１３】上記図１の光カードＣは、図３に示す工程
で作成されたものである。以下、この工程を順に説明す
る。

【００１４】まず、情報記録パターンに応じて粗面化さ
れた低反射率部分を有する粗面化原版を作成する。

【００１５】第１段階として、透明基材（厚さ４００μ
ｍのアクリル板）に回転型フォトレジスト塗布機により
フォトレジストを５０００Åの厚さで均一にコーティン
グしてフォトレジスト層を形成する。フォトレジストと
しては、ポジ型レジスト（キノンジアジド系）である
「シプレー社製マイクロポジット１４００」を使用し
た。次に、第２段階として、マスク合わせ装置を用いて
情報記録パターンに応じて形成したフォトマスクをフォ
トレジスト層に重ね合わせた後、紫外線による最初の露
光（パターニング露光）を行う。

【００１６】続いて、第３段階として、片面が微細な凹
凸状に粗面化されたガラス板（平均粗さ０．３μｍ、＃
３０００研磨ガラス）を用いて再び露光（粗面化露光）
する。露光後、第４段階として、フォトレジスト層を現
像すると、紫外線の当たったところのフォトレジストは
流れ去り、当たらない部分のフォトレジストが残り、フ
ォトマスクのパターンが透明基材の上に転写される。こ
れにより、表面が粗面化されたフォトレジスト層が案内
トラックの形状として、例えば、幅２．５μｍ程度、ピ
ッチ１４．５μｍ程度で形成される。

【００１７】次に、表面が粗面化された低反射率部分か
らなる情報記録パターンが形成されている光記録体を粗
面化原版とし、この粗面化原版から型取りプレスにより
マザーマスクを複製する。

【００１８】具体的には、透明基材（厚さ１．２ｍｍの
アクリル板）の上に、電離性放射線硬化樹脂或いは熱硬
化樹脂の成型樹脂からなる型取り剤を介して、上記で作
成した粗面化原版を積層してプレス機でプレスを行った
状態で紫外線を照射した後、粗面化原版と透明基材を離
型して、透明基材側にパターンを複製してマザーマスク
を形成する。本実施例では、成型樹脂としてＵＶ硬化性
樹脂（ザ・インクテック製、ＳＥＬ−ＸＡ（ポリエステ
ルアクリレートオリゴマーとネオペンチルグリコールジ
アクリレートモノマーを主体とし、イルガキュアー１８
４（光重合開始剤）を添加したもの））を使用した。

【００１９】一方、光カードＣの透明保護層となる透明
基材５に表面硬化層６を形成しておく。

【００２０】ここで、透明保護層５となる基材として、
厚さ４００μｍのポリカーボネイト（ＰＣ）を使用し
た。他に、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、アク
リロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、セルロ
ースプロピオネート（ＣＰ）、セルロースアセテートブ
チレート（ＣＡＢ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ
エステル等が使用できるが、本実施例では複屈折の少な
いＰＣを使用している。表面硬化層６としては、アクリ
ル系のＵＶ硬化性ハードコート剤（東レ製、ＵＨ−００
１）を使用した。他に、ＵＶ硬化性樹脂（オリゴマー、
モノマー開始剤）、メラミン系等の熱硬化性樹脂等を使
用することもできる。そして、ＰＣの基板の上にスピン
ナーコートにより上記ハードコート剤を塗布し、紫外線
を照射して硬化させた。なお、通常の場合、後述する複
製用樹脂との接着性を持たせるために表面硬化層と反対
側の面にプライマーコートを施しておく必要があるが、
基材としてＰＣを用いた場合には複製用樹脂との接着性
が良好なためプライマーコートを施していない。

【００２１】次いで、上記マザーマスクを大量複製用の
複製原版として用いて、型取りによって前記透明保護層
となる基材５の裏面側に光記録体を複製する。

【００２２】具体的には、基材の裏側面とマザーマスク
のパターン面との間に複製用樹脂を挟み込み、プレス機
でプレスした状態で紫外線を照射した後、基材とマザー
マスクを離型し基材側にパターンを複製する。このよう
にして複製用樹脂の表面に低反射率部分が形成され、こ
の複製用樹脂が光カードにおける光透過性の基材１とな
る。本実施例では、複製樹脂として紫外線硬化樹脂（ス
リーボンド社製、ＳＳ−１２０、ウレタンアクリレート
系）を使用した。

【００２３】続いて、複製用樹脂で構成された光透過性
の基材における低反射率部分を覆うようにして基材の一
部に光記録材料層２を積層する。

【００２４】具体的には、ＴｅＯｘ膜とＴｅＯｙ膜（但
し、ｘ＝０．５、ｙ＝１．８）の積層膜を反応性スパッ
タリング装置を用いて、５００Åの厚さで光記録材料層
２を形成した。この光記録材料層２の反射率Ａは２７〜
３３％程度の高い反射率を有する。

【００２５】上記一連の工程とは別に、カード基材４を
作成しておく。本実施例でのカード基材は、コアシート
４ｂの両面に印刷層７ａ，７ｂ，７ｃを施し、その上に
オーバーシート層４ａ，４ｂを貼り合わせて形成する。

【００２６】コアシート４ｂとしては、乳白塩化ビニ
ル、ポリカーボネイト、セルロースアセテートブチレー
ト（ＣＡＢ）、セスロースアセテートプロピオネート
（ＣＡＰ）等の物質が使用でき、厚さは１８０〜２２０
μｍ程度であればよい。

【００２７】本願発明では、このコアシート４ｂ上の、
光記録材料層２に対応する部分に、低反射率のベタ印刷
層７ｂを設ける。ここで用いる低反射率を示すインクと
しては、ミロリブルー（Ｆｅ錯体）やカーボンブラック
等の顔料を含有した、アクリル用・硬質塩化ビニル用・
軟質塩化ビニル用のシルクスクリーン用インキ等のイン
クが挙げられる。これらのインクをシルクスクリーン印
刷により、コアシート上に印刷する。印刷後の印刷層７
ｂの光反射率Ｂは、５％以下となるのが好ましい。

【００２８】カード上への印刷は、通常シルクスクリー
ン印刷とオフセット印刷が用いられているが、オフセッ
ト印刷では、熱プレス時にオーバーシート４ａがコアシ
ート４ｂと接合しない。よって、熱プレス時に接合のよ
いシルクスクリーン印刷により印刷層を形成する。

【００２９】また、低反射率のベタ印刷層７ｂ以外の部
分の印刷層７ａや、コアシート反対側の印刷層７ｃに
は、従来どうりの、文字・図形・模様等の印刷を施すこ
とができる。

【００３０】７ａ，７ｂ，７ｃの印刷層を保護する目的
で、印刷層の上にさらにオーバーシート層４ａ，４ｃを
設ける。このオーバーシート層は、透明塩化ビニルや、
透明ＣＡＢ、透明ＣＡＰ等の材料からなる。厚さは、４
５〜５５μｍ程度でよい。オーバーシート層をコアシー
トの両側に設けることにより、カード基材４は３層構造
となるので、熱プレス時に反りを生ずることがない。

【００３１】そして、光記録材料層２を設けた基材１に
接着剤層３を介して上記カード基材４を接着ラミネート
する。具体的には「東レ製ＵＨ−１２６０Ｃ」（二液硬
化タイプ）を使用し、常温で６０μｍの厚さで接着し
た。この場合、接着剤層３はカード基材４のオーバーシ
ート４ａ（透明ポリ塩化ビニル）と全面に渡って直に接
しているので、しっかりと接着される。以上のようにし
て作製された原反をカード基材上に打抜き加工して、図
１に示す光カードＣを作製する。

【００３２】以上のようにして形成した光カードＣに、
例えば光カード用リーダーライター機ＬＣ−３０４モデ
ル（（株）日本コンラックス社製）にて穿孔し、情報記
録をおこなう。穿孔８ａからは、接着剤層３を介して印
刷層７ｂの色相が識別でき、その反射率Ｂは５％、また
非記録部の反射率Ａは２７％となった。そのコントラス
ト値（Ａ−Ｂ）／Ａは０．８２であるため、記録した情
報を、間違いなく読み取ることができた。

【００３３】

【発明の効果】以上の説明のとうり、本発明によって、
光記録材料層に対応するカード基材上に、低反射率のベ
タ印刷が施されているので、光記録部と未記録部の反射
率の差が明確となり、読み取り誤差のないカードを提供
できる。印刷により、カード基材上に低反射率層を設け
ることは、カード基材にあわせた種々の印刷材料を選択
できる点、反射率を自由に設定することができる点で大
きな利点を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である光カードの断面図であ
る。

【図２】本発明の一実施例である光カードの平面図であ
る。

【図３】図１に示す光カードＣを作製する工程図であ
る。

【図４】従来の光カードを示す断面図である。

【図５】光記録部の拡大図である。

【符号の説明】

Ｃ光カード１光透過性の基材２光記録材料層３接着剤層４カード基材４ａ，４ｃオーバーシート４ｂコアシート５透明保護層６表面硬化層７ａ，７ｃ印刷層７ｂ低反射率の印刷層８ａ光記録部８ｂ非記録部

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光透過性の基材の片面に形成された、光
記録をおこなうための光記録材料層の表面に接着剤層を
介してカード基材が積層され、前記基材の光記録材料層
が設けられた側と反対側の表面には透明保護層及び表面
硬化層が積層されてなる光カードにおいて、前記カード
基材上の、前記光記録材料層に対応する部分に低反射率
のベタ印刷が施されており、前記光記録材料層における
光記録部の反射率が、非記録部の反射率より低いことを
特徴とする光カード。
【請求項２】光記録部の反射率をＢ、非記録部の反射
率をＡとすると、コントラスト値（Ａ−Ｂ）／Ａが０．
８以上である請求項１記載の光カード。