JP2812758B2

JP2812758B2 - 光記録体及びその製造方法

Info

Publication number: JP2812758B2
Application number: JP1504201A
Authority: JP
Inventors: 和夫梅田; 祐司近藤; 俊治石川
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1988-04-12
Filing date: 1989-04-12
Publication date: 1998-10-22
Anticipated expiration: 2013-10-22

Description

【発明の詳細な説明】技術分野本発明は、光学的な情報記録が可能な光記録体に関
し、さらに詳しくは、レーザ光により情報ビットを読取
るリード・オンリー・メモリ（ROM）タイプ、レーザ光
による情報の書込みが可能なダイレクト・リード・アフ
ター・ライト（DRAW）タイプ、あるいは消去ならびに書
込みが可能なタイプの光記録体およびその製造方法に関
する。

背景技術従来、クレジットカード、バンクカード等のカード類
に埋設される記録材料としては、磁気記録材料が主とし
て用いられている。この磁気記録材料は、情報の書込み
ならびに読出しが容易に行なえるという利点があるが、
その反面、情報の改竄が比較的容易であり、しかも高密
度の情報記録ができないという問題があった。

近年、高密度情報の記録再生の観点からICカードや光
カードの開発が進められている。なかでも光学的な記録
再生方式による光カードによれば記録される情報密度が
従来の磁気方式によるものやIC方式によるもに比べて飛
躍的に高いという利点がある。

ところでこのような光カードに用いられる光記録体乃
至光記録材料としては従来以下のようなものが提案され
ている。

例えば第19図（Ａ）に示す例はいわゆるROM（リード
・オンリーメモリ）型の光記録体の例であり、この場合
は光カード50の上に高反射率部分51と低反射率部分52に
よって構成される光記録体が形成されており、低反射率
部分52によって情報記録ビットが構成されている。

第19図（Ｂ）は光カード50の断面図であり、透明基板
54上に写真製版法（ホトリソグラフィー）によって情報
記録パターンに応じた光反射材料55を形成し、一方基材
58上に黒色の印刷層57が形成されたものを接着剤層56を
介して接合することによって光カード50が形成されてい
る。従ってこの場合は光反射材料55と印刷層57との光反
射率の差異を検知することによって情報の読取りが行わ
れる。

また第20図は特公昭58−48357号公報に開示されたROM
型の光記録体の例であり、この例の場合は、一定の基材
上に形成されたハロゲン化銀乳剤の膜60に対して記録情
報に応じたパターン露光ならびに現像を行うことによっ
て、周囲の部分61と光反射率のことなる情報記録ビット
62に形成されている。

また第21図に示す例は情報の書込みの後に現像処理の
必要はなく、書いた後に直読することができるいわゆる
DRAW型（ダイレクト・リード・アフター・ライトタイ
プ）の光記録体の例であり、この場合はホトポリマー71
の片面を凹凸状に形成し、この凹凸面に沿ってTe等の光
記録材料72の薄膜を設け、これを接着剤73により基板74
に接着すると共に、ホトポリマー71の上面には光透過性
のアクリル樹脂75等を積層することによって光記録体が
構成されている。

そしてこの光記録体への情報の書込みは、第22図に示
すように照射されたレーザービーム76により光記録材料
72に凹凸部を走査して、例えば凸部に位置を合わせて位
置を確認した後、光記録材料72の凸部にビット情報を書
込んでいくことによって行われる。

また第23図は特公昭58−48357号公報に開示されたDRA
W型の光記録体を示すもので、この場合は基材上にハロ
ゲン化銀乳剤の膜80を形成し、この膜80に対してパター
ン露光と現像を行うことによって光反射率の異なる81お
よび82を形成し、光反射率の相違により部分81の位置を
確認して部分81上にビット情報を書込むものである。

また、このような光記録体をカードとして適用し、カ
ード表面に別途作成したホログラムを貼付するようにし
たものも提案されている。

しかしながら、これら従来の光記録体はいずれも製造
工程が比較的煩雑であり、大量に製造、複製を行う場
合、必ずしも経済的な方法であるとは言えず、また得ら
れる光記録体の経時的な保存性、耐久性の点でも十分満
足のいくものではない。

例えば第19図に示した光記録体においては、光反射材
料のパターニングを強酸等による湿式エッチングにより
行うため、エッチング液の洗浄ならびに乾燥工程が煩雑
で長時間を要し、また洗浄が不十分の場合には完成後に
経時的に腐食が進行し、光記録体の寿命を短くする。ま
たエッチング液のpH管理は通常困難であって、さらにエ
ッチング液中の異物による障害が発生する等の問題もあ
る。

また第20図に示す光記録体においては、凸面の形成に
おいてその高さならびに幅に一定以上の精度を要求され
ることから、その制御方法はいきおい困難になるという
問題を有し、またそのために製造工程が複雑化し、コス
トが増大するという問題がある。

また第23図に示した光記録体においては、トラックの
幅のみにおいて精度を要求される点で第20図の記録体よ
りも製造が容易であると言えるものの、特殊なハロゲン
化銀乳剤等の特定の写真材料を必要とするため、製造コ
ストが増大するという問題を有している。

そして、このような何れの方法により作成した光記録
体を光カードに適用した場合には、情報記録パターンを
顕微鏡等で容易に見ることができるため、光学的手法に
より偽造が可能であるという問題がある。この点、光カ
ード表面に別途作成したホログラムを貼付するようにし
たものは、ホログラム部分が電子顕微鏡で読めない効果
はあるが、表面に露出していると型取りや光学的手法で
複製が可能であると共に、簡単に剥がされてしまうため
同様に偽造防止に対して必ずしも充分な効果はない。

発明の開示本発明は上記問題点を解決するためのもので、光記録
体の性能に何ら影響を及ぼすことなく、情報記録パター
ンを形成した記録体の少なくとも一部に回折格子或いは
ホログラムより成る別種の情報を重畳させることによ
り、作成が容易で低コスト化が可能であり、光記録体の
偽造を防止すると共に装飾的効果も得ることが可能な光
記録体及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明の光記録体は、基材上に、光反射率の差異によ
って識別され得る情報記録パターンが形成された光記録
体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低
反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パタ
ーンの少なくとも一部分が回折格子またはホログラムに
よって構成されていることを特徴としている。

さらに、本発明の光記録体の製造方法は、基材上に、
光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターン
を形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録
パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成す
るとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分を
回折格子またはホログラムに形成することを特徴として
いる。

本発明は光反射率の差異によって識別される情報記録
パターン部を有する光記録体は、例えば、光カード、光
ディスク等において、記録体の少なくとも一部、例えば
情報記録パターンの低反射率部分に回折格子あるいはホ
ログラムからなる別の情報を記録するようにしたもので
あり、製造コストを低減化すると共に、光学的手法によ
る偽造を防止し、また色彩的に非常に美しく、装飾体を
も兼ねられる効果が得られる。また、回折格子またはホ
ログラムは情報パターンと同一面内に形成され、記録体
内に埋没しているため、電子顕微鏡で情報パターンは読
めたとしても回折格子またはホログラムを読むことがで
きず、光学的に読んだとしても埋没した深さのためにボ
ケが生じて完全な再生を行うことはできず、さらにカー
ドに使用して過酷な環境に置かれてもキズがつきにく
い。

図面の簡単な説明第１図は本発明の光記録体をROMタイプの光カードと
して構成した場合の例を示す図、第２図は光カードの情
報記録部にホログラムを重ねて記録した場合を示す図、
第３図は本発明の光記録体をDRAWタイプの光カードとし
て構成した場合の例を示す図、第４図はROMタイプの光
カード全面に回折格子を形成した場合を示す図、第５図
は回折格子のピッチ幅を変えてパターンを形成した場合
を示す図、第６図は第５図の回折格子のピッチ幅を変え
て形成したパターンを情報記録部に重ねて記録した場合
を示す図、第７図は光カードの断面図、第８図は干渉縞
記録方法を示す図、第９図、第10図、第11図、第12図、
第13図、第14図、第15図、第16図は本発明の光記録体の
製造方法の例を説明するための図、第17図は本発明の光
記録体の書込み方式を説明するための図、第18図は本発
明の光記録体の製造工程で用いる装置の断面図、第19図
は従来の光カードの一例を示す図で、第19図（Ａ）は平
面図、第19図（Ｂ）は断面図、第20図、第21図は従来の
光カードの他の例を示す図、第22図は第21図の書込み方
式を説明するための図、第23図は従来の光記録体の他の
例を示す図である。

発明を実施するための最良の形態以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。

第１図は本発明の光記録体をROMタイプの光カードと
して構成した場合の例を示す図で、１は光カード、２は
情報記録部、2aは高反射率部分、2bは低反射率部分、Ｐ
は情報記録ビット、３はホログラムを示している。

この光カード１では、高反射率部分2aに対して低反射
率部分2bからなる情報記録部２が形成されると共に、情
報記録部２とは別の場所に後述する方法でホログラム３
が形成されている。

第２図は光カードの情報記録部にホログラム３を重ね
て記録した場合を示す図である。

第２図の光カードの場合には、後述するように情報記
録部の低反射率部分2bにホログラムを形成したもので、
人の目には装飾的効果のある像が観察できるが、この情
報をレーザー光で読み取る場合に、ホログラム記録部分
はレーザー光を回折ないし散乱するために黒い部分とし
て認識され、情報の読取り性能の向上に役立ち、何等の
悪影響を与えない。

第３図は本発明の光記録体をDRAWタイプの光カードと
して構成した場合の例を示す図で、情報記録部にホログ
ラムを重ねて記憶すると共に、情報記録部以外の場所に
もホログラムを記録させた場合を示している。

第３図において、高反射率部分2aは光により書込み可
能な光記録トラックを形成し、低反射率部分2bは案内ト
ラックを形成している。そして、この案内トラック部分
にホログラムを形成している。なお、第３図においては
光記録トラックと案内トラックが交互に形成されている
が、案内トラックの本数を減少させることも可能であ
る。また、低反射率部分をビット化したプレフォーマッ
トを形成しておいてもよい。

第４図はROMタイプの光カード全面に回折格子を形成
した場合を示し、回折格子と直交方向に色分散が生じて
見る角度により色々な色で光カードが見えることにな
る。また、第２図で説明したように読取り用のレーザー
光に対しては回折格子は回折ないし散乱要素として機能
する。

第５図は回折格子のピッチ幅を変えた5a部分と5b部分
を形成し、それによりパターンを形成したものである。

また第６図は、第５図の回折格子のピッチ幅を変えて
形成したパターンを情報記録部に重ねて記録したもので
ある。なお、回折格子のピッチ幅を変えてパターンを形
成する方法の他に、一部回折格子の角度を異ならせる方
法、或いは角度の異なる回折格子を一部二重焼きする方
法によってパターンを形成してもよい。

第７図は上記光カードの断面図を示す図で、第７図
（Ａ）は第１図、第３図、第４図、第５図の場合の天地
断面図、第７図（Ｂ）は微細凹凸の拡大図、第７図
（Ｃ）は回折格子の場合の凹凸の拡大図、第７図（Ｄ）
はホログラムの場合の凹凸の拡大図である。更に第７図
（Ｅ）は、別の態様の回折格子の表面凹凸を示す断面図
である。図中、101は透明基材、102は型取剤またはフォ
トレジスト層、103は光反射材料または光記録材料層、1
04は接着剤層、105は支持基材、106は情報パターン、10
7、108は微細凹凸である。

透明基材101は光透過性のあるプラスチックフィルム
シート、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカー
ボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリスチレ
ン、エポキシ等のシート、フィルム或いはガラス等から
なり、その厚みは、0.2〜0.7mm程度である。この透明基
材は、記録媒体を強度的に支持すると共に、この厚みに
より、微細凹凸108を偽造の目的のために光学的に複写
することができなくなる。

なお、透明基材の外側表面に表面硬化層を設けること
が可能で、この層はUV硬化性樹脂あるいは電子線硬化性
樹脂により形成すればよい。

102の層は、表面に（ａ）ホログラム干渉縞による凹
凸、（ｂ）回折格子縞による凹凸もしくはマスキングパ
ターン露光による凹凸、（ｃ）スリガラス等の粗面を通
しての露光により形成した単なる微細な凹凸（低反射率
部）107を有する情報パターン（DRAW型、ROM型）106か
らなる情報記録部と（ｄ）ホログラム干渉縞による凹
凸、（ｅ）回折格子縞からなる凹凸もしくはマスキング
パターン露光による凹凸108とを有する層であり、この
層は後述する電子線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂あるいは
熱硬化性樹脂またはフォトレジスト等により後述する方
法で形成される。この層に記録される情報パターンは、
例えばROM型であれば（５〜15）×（５〜20）μｍ程の
ビット、DRAW型であれば巾３〜10μｍでピッチ10〜20μ
ｍ程のトラッキング溝と記録溝である。さらに、この上
に形成される微細凹凸107は上記（ａ）、（ｂ）の凹凸
であれば0.3〜1.0μｍ、上記（ｃ）の凹凸であれば0.8
μｍ程度のピッチを持ち、深さ（山谷間）は0.1〜５μ
ｍ程度のものである。層としての厚みは、最大の厚みを
持つパターン部の高さで10〜40μｍ程度である。また、
微細凹凸108は通常のレリーフホログラムのものと同じ
であり、記録されるホログラムは後述される種々のホロ
グラムである。この様に微細凹凸108（特にホログラ
ム）と情報パターン106とが同一部材で構成されている
ので、従来のホログラムラベルの貼着による偽造防止と
異なり、ホログラムと情報パターンを分離させることが
できずに、極めて高いセキュリティーを持つ。

なお、透明基材の型取剤との面にはこの両者の接着を
高めるために必要に応じてプライマー層を設けることが
できる。この層はUV硬化性、電子線硬化性樹脂あるいは
熱硬化性樹脂等の樹脂で形成される。

103の層は、ROM、DRAW型によって後述する光反射材料
または光記録材料を後述する方法によって形成させるも
のであり、この層により微細凹凸108（特にホログラ
ム）反射型ホログラムとして観察されることになる。

104の層は、支持基材と情報パターン106等が形成され
ている透明基材101とを接着させるもので、通常の種々
の型の感圧、感熱、常温反応型接着剤、二液硬化タイ
プ、ウレタン系、エポキシ系、塩酢ビ等により形成され
る。

105の支持基材は、ある意味で情報パターン106と微細
凹凸108を保護するものであり、かつ、記録媒体の一例
であるカードにおいてはカードの体をなすものである。
この層105は通常プラスチックフィルムシートが用いら
れ、塩化ビニルフィルムが加工上の点から好的に用いら
れる。この層105には、印刷等により、絵柄、文字を設
けることができる。又、この厚みが記録媒体の形態によ
り異なるが、カードであれば0.1〜0.5mm程度である。

こうして形成した第７図（Ｂ）に示す微細な凹凸が回
折格子の場合は第７図（Ｃ）に示すように正弦波状もし
くはブレーズド形状となり、ホログラムの場合は第７図
（Ｄ）のようになる。

また、マスクパターン露光によって微細凹凸を形成す
る場合は、凹凸形状を第７図（Ｅ）に示すような規則的
な矩形波形状にすることができる。この場合は、低反射
領域と高反射領域の境界がシャープになるため、より高
精度のパターンが得られる。

以上のように本発明は、情報パターンと共に回折格子
或いはホログラムを記録したもので、言わずミクロパタ
ーンとマクロパターンとを同時に記録しているので、ミ
クロパターンは電子顕微鏡で観察できたとしてもマクロ
パターンは観察することはできず、また後述するように
マクロパターンは情報パターンと同じ面内に埋没されて
形成されるので、光学的に読みだしても記録深さのため
にボケが生じ、完全な再生を行うことができず偽造を防
止することができる。

次に、回折格子の作成方法及び、ホログラム作成方法
について簡単に説明する。

第８図は回折格子作成方法を示す図で、レーザー６か
らの光をミラー7aで反射させ、ハーフミラー7bで２分
し、さらにビームエキスパンダー8a、8bで拡大した２光
束を感光材料９上で干渉させて形成する。この際、２光
束の交差角θを大きくすると格子のピッチは小さくな
り、θを小さくすると格子のピッチは大きくなる。従っ
てθを変えることにより回折格子のピッチ幅を選択する
ことができる。

第８図はホログラムの記録方法を示す図で、物体波と
参照波を感光材料９に照射することにより、感光材料９
上には物体波の振幅と位相情報が記録され、これに再生
用照明波を照射するとその回折波は物体波で変調された
ものとなり、元の物体が再生されて観測することができ
る。

なお、本発明で使用するホログラムとしては、物体を
透過または反射するフレネル回折波を物体波とし、感光
材料面から任意の距離にある平行光或いは拡散光を参照
波として記録されるフレネルホログラム、物体を透過、
あるいは反射する波がフランホォーファー回折波になる
場合に記録されるフランホォーファーホログラム、記録
しようとする物体をレンズ等の結像光学系により感光材
料上に結像するように配置して記録するイメージホログ
ラム、白色光の再生を可能にしたレインボーホログラ
ム、感光材料に対して反対方向から物体波と参照波を照
射し、感光材料の厚み方向に干渉縞を形成するようにし
たリップマンホログラム等のホログラムを適用すること
が可能であるが、複製を行う場合はリップマンホログラ
ム以外のレリーフタイプである必要がある。

また、本発明の光記録体においては、ホログラムの少
なくとも一部分が、レーザー光の照射によってホログラ
ムの再生画像が出現するタイプのホログラム（レーザー
光再生型ホログラム）によって構成されていてもよい。
このようなホログラムは、通常の白色光では結像され
ず、レーザー光の照射によってホログラムの再生画像が
出現するので、偽造防止効果においてすぐれている。

次に、本発明の光記録体の主たる構成材料について説
明する。

基材基材としては、従来公知の材料が適宜用いられ得る。
特に光透過性の材料としては、ポリメチルメタクリレー
ト（PMMA）、ポリカーボネート、ポリエステル、エポキ
シ樹脂、ポリオレフィン、ポリスチレンなどの樹脂やガ
ラスが用いられ得る。これらの基材の詳細については、
後述する製造方法（Ｉ）〜（VIII）においても詳述す
る。

光反射材料上記ROMタイプに用いる光反射材料としては基材と屈
折率が異なる材料であればいずれの材料でも使用可能で
あり、例えば、Al、Ti、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Se、
Mo、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、Pt、Au等の金属及びこれ
らの合金、化合物、その他TiO₂、TiN等に代表される酸
化物、窒化物、有機系色素薄膜等反射率の高い材料が使
用され得る。

光記録材料上記DRAWタイプに用いる光記録材料としては、例え
ば、金属系（Ta、Bi、In、Al、C/Al、Cr/Al、Zn/Al、S
i、GeSmS等）、カルコゲン系（Te,Te−As、Te−Se、Te
−Se−As、Te−CS₂、Te−Ｃ、Te複合物、As−Se−Ｓ−G
e等酸化物系（TeOx、GeOx、MoOx、VO₂等）、有機物系
（色素薄膜＋樹脂、Ag＋ポリマー、熱可塑性樹脂、Cu−
Pc/Te等）が用いられる。

なお、消去、書き込みが可能なタイプに用いる光記録
材料としては、光照射により膜を構成する原子間の秩序
状態が可逆的に変化し、かつ、両者間の光反射率が異な
る材料として、例えば、Te−As、Te−Se、Te−Se−As、
Te−CS₂、Te−Ｃ、As−Se−Ｓ−Ge等の材料が用いられ
る。

上記のうちでも、本発明において、DRAW型の光記録材
料としては、一般式TeOx（ｘは正の実数）で表させるテ
ルルの酸化物からなる第１の層と、一般式TeOy（ｙは正
の実数）で表されるテルルの酸化物からなる第２の層と
が積層されてなり、上記一般式においてｘ＜ｙなる関係
を有するものが特に好ましく用いられ得る。通常、上記
一般式において、０＜ｘ≦1.5であり、0.5≦ｙ≦２の範
囲である。

上記のようなテルルの酸化物からなる光記録材料層
は、DRAW型記録層としての安定性、耐候性に特にすぐ
れ、光記録体を密閉型の光カードとして構成する場合の
記録感度、再生感度にすぐれている。

上記のような光記録材料層を製造するにあたっては、
上記第１ならびに第２の層を反応性スパッタリング法に
より容易に作製することができる。あるいはその他の方
法としては、基材上に真空蒸着によりテルルを蒸発させ
ると同時に含酸素ガスからなるイオンビームを該基材上
に照射することによって上記のような組成を有する各層
を作製することができ、いずれにしても簡易かつ迅速な
方法により比較的安価に光記録材料層を作製することが
できる。

次に、本発明の光記録体の製造方法について具体的に
説明する。なお、本発明においては回折格子またはホロ
グラムの記録は記録媒体の任意の場所でよいが、以下で
は情報記録部に形成し、回折格子またはホログラムが低
反射率部分を構成する例について説明する。

製造方法（Ｉ）本発明の第一の態様に係る製造方法においては基材上
に、高反射率部分と低反射率部分とから構成される情報
記録パターンが形成された光記録体を製造するにあた
り、前記低反射率部分を、情報記録パターンに応じた回
析格子またはホログラムの記録による粗面化処理によっ
て形成するものであり、この情報記録パターンに応じて
干渉縞が形成されて低反射率部分の形成工程が、以下の
工程からなる。

（イ）基材上にフォトレジスト層を形成する工程、（ロ）情報記録パターンに応じたマスクを介して上記フ
ォトレジスト層に対して第１の露光（パターニング露
光）を行う工程、（ハ）次いで、上記第１の露光が行われたフォトレジス
ト層に対して、回析格子またはホログラムの記録のため
の第２の露光（干渉縞形成粗面化露光）を行う工程、（ニ）上記第２の露光が行われたフォトレジスト層に対
して現像を行うことによって、表面に干渉縞を形成され
た低反射率部分からなる情報記録パターンを得る工程。

さらに、本発明の方法においては、上記工程で得られ
た低反射率部分を覆うようにして基材の全面または一部
に前述した光反射材料層または光記録材料層を積層する
工程を含んでいてもよい。

第９図は、上記製造方法の具体例を示す工程断面図で
あり、この図に従って具体的に説明するとまず、光透過
性の基材10上に回転フォトレジスト塗布機によりフォト
レジスト層11を4000〜2000Åの厚さで均一に塗布する。
次にマスク合わせ装置を用いて、情報記録パターンに応
じて形成したフォトマスク12をフォトレジスト層11に重
ね合わせた後、第１の露光（パターニング露光）を行う
（第９図（ａ））。

次に、第９図（ｂ）に示すように、回析格子またはホ
ログラムの記録のために再び露光（干渉縞形成による粗
面化露光）する。

次いで、第９図（ｃ）に示すように、フォトレジスト
層11を現像すると、ポジタイプのレジストを用いた場合
では、紫外線の当たったところのフォトレジストは流れ
去り、当たらない部分のレジストが残り、フォトマスク
12のパターンが光透過性の基材10上に転写される。これ
により、表面が粗面化されたフォトレジスト層11が、第
１図で示した情報記録ビットＰあるいは第３図で示した
案内トラックの形状として、例えば、幅５μ程度、ピッ
チ15μ程度で形成される。

次に、第９図（ｄ）に示すように、光反射材料または
光記録材料13の薄膜層を蒸留、スパッタリング或いは化
学的方法等により形成する。

次に、第９図（ｅ）に示すように、ポリ塩化ビニール
等の基板15を接着し、高反射率部分13bと低反射率部分1
3cを有する光記録体を得る。なお、上記露光工程（ａ）
および（ｂ）の間に現像工程を設け、一旦フォトレジス
トを残した後該フォトレジストに干渉縞形成のための露
光をするようにしてもよいし、露光過程（ａ）および
（ｂ）の順序を逆にしてもよい。また、上記例において
は、基材10が光透過性材料からなっているが、基板15を
光透過性にして基板15側から光を照射して読み取ること
も可能であり、この場合、基材10は光透過性材料でなく
てもよい。

本発明においては、第９図（ｂ）に示すような露光方
法の代わりに、第９図（ｆ）に示すように、フォトマス
ク12よりもさらに微細な規則的パターンを有するマスク
120を介して露光を行うことにより回析格子の形成を行
うこともできる。また、この場合のマスク120のパター
ン形状の例としては、情報記録パターンピットの径が10
μｍの場合、これより微細なピッチであれば足りるが、
ピッチ径が0.1μｍ以下になると逆に粗面化効果が不十
分となる。したがって、通常は、0.3〜３μｍの範囲が
好ましい。第９図（ｇ）、（ｈ）および（ｉ）は、上記
の回析格子形成用のマスクパターンの形状の例である。
たとえば、第９図（ｇ）の例の場合は、ピッチ径を0.5
μｍとすると、一つの情報ピット中に200個の凹部ない
し凸部が形成されることになる。なお、本発明において
は、これら格子状の形状の他に、任意の形状のものが使
用できる。

また、上述したような露光用のマスクパターンは、フ
ォトリソグラフィー法に使用される通常のマスク作製方
法によって製造され得る。例えば、クロム原版上にEB
（エレクトロン・ビーム）用のレジストを塗布し、EB描
画装置によって任意のパターンを露光して、現像エッチ
ングを行うことにより、所望パターンのクロムマスクを
製作することができる。この他にも、ドライエッチング
法を用いる方法、銀塩フィルムを用いる方法によっても
微細パターンを有するマスクを作成することができる。

本発明においては、上記のようなフォトマスクを用い
て露光を行う場合、情報記録パターンを、（ａ）該情報
記録パターンを構成する情報ピットのサイズからなるパ
ターンと（ｂ）前記情報記録パターンを構成する情報ピ
ットのサイズよりも小さい規則的パターン、の双方を同
一マスク中に有するマスクを介して露光することによっ
て、種類のことなる情報を同時に形成することが可能と
なる。上記の第９図の例について言えば、第９図（ａ）
のフォトマスク12中に、さらに第９図（ｇ）、（ｈ）あ
るいは（ｉ）に示すような微細パターンが複合的に形成
されたマスクを用いて露光することによって、一回の露
光によって、視覚情報とビット情報を同時に形成するこ
とが可能となる。

この他にも、本発明においては、上述したマスク12と
マスク120とを重ね、これらのマスクにさらに絵柄など
のマクロサイズのマスクを重ねて露光してもよい。ま
た、マスク120とはピッチの異なる別のフォトマスクを
用意し、このマスクを上記マスク120とは異なる領域に
配置して露光することもできる。さらに、本発明におい
ては、上記のような複数種類の形状ないしピッチのパタ
ーンを同一マスク中に形成したマスクを用いて露光を行
ってもよい。

本発明の光記録体は、光透過性の基材10から光が入射
されると、例えば、高反射率部分13bにおいては光が強
く反射され、低反射率部分13cにおいては表面が干渉縞
形成により粗面化されたフォトレジストの存在により、
反射率が低下することになる。そしてROMタイプのカー
ドを製造する場合には、層13として前述した光反射材料
を採用することにより、低反射率部分13cに第１図で示
した情報記録ビットＰを形成し、一方、DRAWタイプのカ
ードを製造することにより、高反射率部分13bに第３図
で示した光記録トラックを形成し、低反射率部分13cに
案内トラックを形成することができる。

上記方法で使用するフォトレジスト11としては、オル
ソキノンジアジド／ノボラック系、アジド／ゴム系、ｐ
−ジアゾジフェニルアミン・パラホルムアルデヒド縮合
系、アジドポリマー系、ポリケイ皮酸ビニル系、ポリシ
ンナミリデン酢酸ビニル系等の材料が用いられる。

そして、上記のようにして製造したROMタイプの光記
録体においては、低光反射率の情報記録ビットをライン
センサ（例えばCCDラインセンサ）或いはレーザビーム
により読み取ることになる。なお、ROMタイプの光記録
体においては、案内トラックは必ずしも必要でなく、情
報記録ビット列を案内トラックとして使用できる。

また、上記のようにして製造したDRAWタイプの光記録
体においては、光記録トラック13bと案内トラック13cと
の光反射率を、400〜700nmの白色光ランプを用いて測定
した結果、例えば、光記録トラック13bは50％程度、案
内トラック13cは10％程度の光反射率となった。光記録
体にビット情報を書き込む場合には、２ビーム或いは３
ビームを用いるが、３ビームを用いる例においては第17
図に示すように、両側のビームＡ、Ｃにより案内トラッ
ク13cと光記録体トラック13bの反射率の差を検出するこ
とにより、案内トラック13c、13cの位置を確認して左右
にずれないようにして、真中のビームＢにより光記録ト
ラック13bにビット情報を書き込むもので、制御方式が
１ビームのものと比較して簡単となる。なお、案内トラ
ック13cは必ずしも光記録トラック13bと交互に形成する
ことなく、案内トラックの本数を間引いてもよい。この
場合には、案内トラック13cの距離を演算して光記録ト
ラック13bの位置を決め、ビット情報を書き込むもので
ある。

製造方法（II）本発明の第２の態様に係る製造方法においては基材上
に、高反射率部分と低反射率部分とから構成される情報
記録パターンが形成された光記録体を製造するにあた
り、前記低反射率部分を、情報記録パターンに応じた回
析格子またはホログラムの記録による粗面化処理によっ
て形成するものであり、この情報記録パターンに応じて
粗面化された低反射率部分の形成工程が、以下の工程か
らなる。

（イ）回析格子またはホログラムの記録によって表面に
微細な凹凸が形成された原版基材上にフォトレジスト層
を形成する工程、（ロ）情報記録パターンに応じたマスクを介して上記フ
ォトレジスト層に対してパターニング露光を行う工程、（ハ）上記パターニング露光が行われたフォトレジスト
層に対して現像を行うことによって微細な凹凸面を有す
る基材の表面を情報記録パターンに応じて露出させて、
情報記録パターンが形成された光記録体を得る工程。

第10図は、上記製造方法の具体例を示す工程断面図で
あり、この図に従って具体的に説明するとまず、第10図
（ａ）に示すように、別途回析格子またはホログラムの
記録によって微細に粗面化したガラス板17上に、回転式
フォトレジスト塗布機によりフォトレジスト層11を4000
〜20000Åの厚さで均一に塗布した後、マスク合わせ装
置を用いてフォトレジスト12をフォトレジスト層11に重
ね合わせた後、露光する。次に第５図（ｂ）に示すよう
に、フォトレジスト層11を現像すると、ポジタイプのレ
ジストでは、紫外線が照射されたところのフォトレジス
トは流れ去り、当たらない部分のレジストが残り、フォ
トマスク12のパターンがガラス板17上に転写される。こ
れにより、フォトレジスト層11に幅５μ程度、ピッチ15
μ程度の開口が形成されてガラス板17の粗面がパターン
状に露出することによって本発明の光記録体を得る。

さらに、本発明においては、上記光記録体を原版とし
てさらに光記録体を複製することができる。

すなわち、第10図（ｃ）に示すように、光透過性の基
材10上に、例えば電離性放射線硬化樹脂或いは熱硬化樹
脂の成型樹脂からなる型取り剤16を介して第10図（ｂ）
で作った原版を積層してプレス機でプレスを行った後、
第10図（ｄ）に示すように、原版と型取り剤16とを剥
離、硬化または、第10図（ｃ）の状態で所定の硬化手段
にて硬化後剥離させることにより、型取り剤16上に突部
の表面が粗面化された例えば情報記録ビットが幅５μ程
度、長さ20μ程度で形成される。

次いで、第10図（ｅ）に示すように、膜厚500〜1000
Åの光反射材料または光記録材料13の薄膜層を蒸留、ス
パッタリング或いは化学的方法等により形成させる。次
に、第10図（ｆ）に示すように、ポリ塩化ビニル等の基
板15を接着剤等を使用して接着し、高反射率部分13bと
低反射率部分13cを有する光記録体を製造する。そし
て、第９図の具体例と同様に、ROMタイプのカードを製
造する場合には、層13として光反射材料を採用すること
により、低反射率部分13cに第１図で示した情報記録ビ
ットＰを形成し、一方、DRAWタイプのカードを製造する
場合には、層13として光記録材料を採用することによ
り、高反射率部分13bに第３図で示した光記録トラック
を形成し、低反射率部分13cに案内トラックを形成する
ものである。

なお、上記具体例において、光反射率部分13bには図
示のように樹脂部分16が存在しているが、これは必ずし
も必要ではなく、低反射率部分13cに粗面化された樹脂
が存在していれば足りる。

上記方法において用いる型取り用樹脂としては以下の
ようなものが用いられ得る。

（Ａ）電離性放射線光樹脂電子線硬化型樹脂ウレタンアクリレート、オリゴエステルアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、エポキシアクリレー
トポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレー
ト、メラミンアクリレート等アクリロイル基をもつ重合
性オリゴマーモノマーとアクリル酸、アクリルアミド、
アクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基を含む単
官能もしくは多官能モノマーとを配合したもの。

紫外線硬化樹脂上記の樹脂組成に光重合開始剤、増感剤もしくは所
望の添加剤を添加したもの。

（Ｂ）熱硬化性樹脂エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、アミド樹脂、フェノー
ル／フォルマリン樹脂。

製造方法（III）第３に態様に係る製造方法においては、情報記録パタ
ーンの形成は次のように行われ得る。

（イ）回析格子またはホログラムの記録により表面に微
細な凹凸が形成された基材上にフォトレジスト層を形成
する工程、（ロ）情報パターンに応じたマスクを介して上記フォト
レジスト層に対してパターニング露光を行う工程、（ハ）次いで、現像ならびにエッチングを行うことによ
って、基材のレジスト層が存在しない部分を選択的に粗
面化もしくは平面化することによって、情報記録パター
ンが形成された光記録体を得る。

第11図および第12図は、上記第10図の具体例と同様の
型取りタイプの他の例を示している。これらの具体例に
おいてはプレス型の耐久性が向上するメリットを有す
る。

第11図において、回析格子またはホログラムの記録に
よって微細に粗面化したガラス板17上に、フォトレジス
ト層11を塗布した後、フォトマスク12をフォトレジスト
層11に重ね合わせたのち露光し（第11図（ａ））、次
に、フォトレジスト層11を現像（第11図（ｂ））後、フ
ッ化アンモニウム／硝酸の水溶液等のガラスのエッチン
グ液にて湿式エッチングを１分〜１時間行い（第11図
（ｃ））、ガラス板17のフォトレジストがない開口部分
の粗面を平滑化する。この際、ガラスのエッチング液は
エッチング面が平滑化されるものであれば他のものでも
よく、エッチング深さも平面化されるまで行いとくに規
定されない。この状態で光記録体として使用し得る。

さらに本発明においては、第11図（ｄ）に示すよう
に、レジストを除去した後、第11図（ｅ）に示すよう
に、光透過性の基材10上に、後述する電離性放射線硬化
樹脂或いは熱硬化樹脂からなる型取り剤16を介して第11
図（ｄ）で作った原版を積層してプレス機でプレスを行
った後、電子線、紫外線を照射または加熱し、硬化後、
第11図（ｆ）に示すように、原版と型取り剤16とを剥離
させることにより、型取り剤16上の一部に干渉縞により
表面が粗面化された例えば情報記録ビットが形成され、
その後、第10図（ｅ）および（ｆ）の工程と同様にして
光記録体を製造する。

前記型取り剤16の例を下記に示す。

（Ａ）電離性放射線光樹脂電子線硬化型樹脂ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリ
エステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メ
ラミンアクリレート等アクリロイル基をもつ重合性オリ
ゴマー、モノマーと、アクリル酸、アクリルアミド、ア
クリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基を含む単官
能又は多官能モノマーを配合したもの。

紫外線硬化樹脂上記の樹脂組成に光重合開始剤を添加したもの。

第12図に示す具体例が上記第11図の具体例と相違する
点は、第12図（ｃ）のエッチングによりガラス板17上
に、粗面を形成し、情報記録ビットまたは案内トラック
部分を形成する点である。この場合のエッチングとして
は、ドライエッチング、湿式エッチングのいずれもが用
いられ得る。ドライエッチング法としては、CF4プラズ
マ、HFガス等を用いてガラスのエッチング面が粗面化す
る様にエッチングすることにより行われ得る。さらに、
湿式エッチングとしては、上記第11図の例で用いたエッ
チング液の他に高濃度のフッ酸溶液、たとえば、酸性フ
ッ化アンモニウム／鉱酸系溶液が用いられ得る。

第13図の具体例は、第10図〜12図の具体例が光反射材
料または光記録材料13を型取り剤16上に形成したものに
対して、基材10上に光反射材料または光記録材料13を蒸
留、スパッタリング、メッキ法により形成し、粗面を形
成した型取り剤16および基材15を積層したものの例であ
る。

第10図〜12図、第14図の具体例においては、基材10、
基材15のどちら側からでも読み込み、書き込みが可能で
あるが、本具体例においては、基板15側からのみ読み込
み、書き込みを行う。

製造方法（IV）次に、第14図に示した具体例について説明する。本具
体例においては、第10図（ｃ）の型取り工程の前に、第
14図（ｃ）に示すように、メッキ工程を設けフォトレジ
スト層11を覆うように金属メッキ層18を形成した後、該
金属メッキ層18を剥離して、金属メッキ層18上に回析格
子またはホログラムの記録により表面が粗面化された情
報記録ビットまたは案内トラックのパターンを形成す
る。次いでこれを原版として第14図（ｄ）に示すよう
に、成型樹脂19にプレスを行なった後、同（ｅ）に示す
ように、原版と成型樹脂19とを剥離、硬化させることに
より、成型樹脂19上に干渉縞が形成されて表面が粗面化
された情報記録パターンが形成され、次いで、光反射材
料または光記録材料13の薄膜層を形成させるものであ
る。

なお、上記具体例においては、プレスの原版として金
属メッキ18を用いているが、精密エッチングされた金板
をプレス型として用いてもよい。また、上記金板に応用
し射出成形により、表面に回析格子またはホログラムの
記録により粗面化された情報記録パターンが形成された
成形樹脂を得ることもできる。さらに、第15図に示すよ
うに、基材10に光反射材料または光記録材料13を蒸留、
スパッタリング、メッキ法により形成し、前記金板をプ
レス型としてパターンを型押した後基板15を積層するよ
うにしてもよい。

製造方法（Ｖ）本発明においては、情報パターンに応じて粗面化され
た低反射率部分の形成工程を、第16A図に示すように、
以下の工程に従って行うことができる。

（イ）光透過性基材30上に情報記録パターンに応じたマ
スクパターン31を形成する工程（第16A図（ａ））、（ロ）上記光透過性基材30の表面に、前記マスクパター
ン31を覆うようにしてフォトレジスト層33を形成する工
程（第16A図（ｂ））、（ハ）上記光透過性基材30のフォトレジスト層33と反対
側の面から第１の露光（パターニング露光）を行う工程
（同（ｂ））、（ニ）次いで、上記第１の露光が行われたフォトレジス
ト層33に対して、回析格子またはホログラムの記録のた
め、該フォトレジスト層33側から第２の露光（粗面化露
光）を行う工程（同（ｃ））、（ホ）上記第２の露光が行われたフォトレジスト層33に
対して現像を行うことにより干渉縞が形成され表面が粗
面化された低反射率部分からなる情報記録パターンを得
る工程（同（ｄ））。

上記方法をさらに具体的に説明すると、例えばガラス
等の光透過性基板の表面に、常法に従って、所望の金
属、たとえばCr薄膜のパターンからなるCr製マスクパタ
ンを形成する。さらにこのCrマスクパターン上に、ポジ
型フォトレジストをスピンナーによってコートし、90〜
100℃で30秒程度プリベークする。

次に、このようにして形成されたフォトレジスト層に
対して、裏面の光透過性基板側から超高圧水銀灯（4k
W）によって80cmの距離から８秒間露光する（パターニ
ング露光）。次いで、フォトレジスト層側の表面に回析
格子またはホログラムの記録のための第２露光（干渉縞
形成による粗面化露光）を行う。さらに、所定の現像液
（たとえばアルカリ現像液）を用いて30分程度で現像処
理を施して、Crマスクパターン上に粗面化された表面を
有するレジスト層が積層された構造の情報パターンを得
ることができる。

上記の方法は、パターニングの際の密着むらが解消さ
れる点で極めてすぐれていいる。すなわち、上記の方法
によれば、粗面化露光がレジスト層パターンの精度を上
げると共にレジスト層の表面を良好な粗面化状態に仕上
げることが可能となる。

この具体例を次に説明する。

ガラス板上に案内トラック幅５μｍ、情報トラック幅
10μｍの所定のパターンをフトリソグラフィー法により
形成したCrスパッタマスクに、ポジ型フォトレジストを
以下の条件で塗布した。

スピンコート:2000rpm、20秒レジスト：シプレーマイクロポジット1400 厚み:1.5μｍ塗布後、プリベークを90℃で20分間行った。

次に、Crマスクのガラス側よりパターン露光を以下の
条件で行った。

超高圧水銀灯:4kW（80W/cm）、８秒次に、回析格子またはホログラムの記録により粗面化
露光をCrマスクのレジスト側より行った。

露光後、シプレーマイクロポジットデベロッパに60秒
浸漬し、水洗して現像を行った。

ポストベークは90℃で20分行い、これにより粗面化原
版が得られた。

さらに複製について説明する。

マザーマスク複製材料基材：透明性のある平面性の良い基板、12m/mアクリ
ル板（上記の他、上記特性のあるものであれば特に材質
は問わない。）マザーマスク樹脂： UV硬化性樹脂（諸星インキ製、SEL−XA（ポリエステ
ルアクリレートオリゴマーとネオペンチルグリコールジ
アクリレートモノマーを主体とし、光重合開始剤（イル
ガキュアー184を添加したもの。）粘度100cps（低粘度50〜1000cps程度であれば他のUV
硬化性樹脂でも可能である。離型性によっては離型剤等
を添加する。）複製方法上記透明基材と、（で作製したレジスト粗面化原版
の間にマザーマスク樹脂をはさみ込み、プレス5kg/c
m²、30sec後、UV2kW高圧水銀灯距離400m/mで１分間照射
後レジスト粗面化原版と透明基材を離型し透明基材側に
パターンを複製する。

複製材料複製用樹脂としてUV硬化性樹脂（スリーボンド用、SS
−120、ウレタンアクリレート系）を使用。

粘度80〜100cps（低粘度であれば他のUV硬化性樹脂で
も可能である。）複製方法 0.4mm厚のアクリル板にUV硬化性プライマー（スリー
ボンドＲ−428−20）を１μｍ設けた透明基材のプライ
マー側と、で作製したマザーマスクのUV硬化樹脂側の
間に複製用樹脂（SS−120）をはさみ込み、プレス5kg/c
m²、30sec後、UV（2kW高圧水銀灯）距離400m/mで１分間
照射後、透明基材とマザーマスクを剥離し透明基材側に
パターンを複製した。尚UV硬化樹脂層の厚みは25μｍで
あった。

光記録材料層の形成 TeOx膜とTeOy膜（但し、ｘ＝0.5、ｙ＝1.8）の積層膜
を形成した。

上記積層膜の形成は下記の条件で行った。例えば、反
応性スパッタリング装置を用いた。

（イ）TeOx膜（１）チャンバー内を１×10^-5Torr程度の真空度まで排
気する。

（２）ArとO₂ガスを以下の流量でチャンバー内に導入
し、真空度を５×10^-3に調整する。

Ar:3cc/min、O₂:0.5cc/min （３）スパッタリング開始投入電力 100W 成膜時間 20秒（ロ）TeOx膜（１）同上（２）Ar:2cc/min、 O₂:1.5cc/min （３）投入電力 100W 成膜時間 20秒ラミネート方法塩化ビニル、PET等0.3m/mの基材に印刷されたカード
基材と上記（５）で作製した記録層を設けた基材に接着
剤（二液硬化タイプ、ウレタン系、東レ製UH−12060C）
を介してラミネートを行い本発明の一例であるDRAW型光
カードを得た。

さらに、次のようにしてROM型光カードを得ることが
できる。

のパターンを10×20μｍのピットパターンとした以外
はの工程まで同様に行った。

の工程まで同様に行った。

の工程は、透明基板として0.4μｍのポリカーボネ
ート板を使った以外同様に行った。

の光反射材料層は以下の様に行った。

の次に、光反射材料層の形成を以下の条件で行い、UV
硬化樹脂層上に形成した。直流２極スパッタリング装置
を用いて厚さ500Åの層を形成（Alスパッタリング）のラミネート工程はDRAW型の場合と同様に行いROM型
光カードを得た。

製造方法（VI）本発明においては、情報パターンに応じて粗面化され
た低反射率部分の形成工程を、第16B図に示すように、
以下の工程で行うことができる。

（イ）光透過性基材30上に金属マスク層31を形成する工
程（第16B図（ａ））、（ロ）上記金属マスク層31の表面にフォトレジスト層33
を形成する工程（同（ｂ））、（ハ）上記フォトレジスト層33の側からフォトマスク12
を介して第１の露光（パターニング露光）を行う工程
（同（ｃ））、（ニ）次いで、上記第１の露光が行われたフォトレジス
ト層33に対して現像を行うことによって情報記録パター
ンに応じたフォトレジスト層33を形成する工程（同
（ｄ））、（ホ）更に、金属マスク層31をエッチングすることによ
って、情報記録パターンに応じたフォトレジスト層33と
金属マスク層31の積層物を形成する工程（同（ｅ））、（ヘ）フォトレジスト層33に対して、回析格子またはホ
ログラムの記録のための第２の露光（干渉縞形成による
粗面化露光）を行う工程（同（ｆ））、（ト）上記第２の露光が行われたフォトレジスト層33に
対して更に現像を行うことによって表面が粗面化された
低反射率部分からなる情報記録パターンを得る工程（同
（ｇ））、なお、上記光透過性基材、マスク層等の材料として
は、前記製造方法（Ｖ）の材料が同様に用いられ得る。

製造方法（VII）本発明に係る光記録体は、それ自体、製造工程の簡略
化においてすぐれているが、本発明においては次のよう
な方法を採用することによって、工業的規模における大
量生産、大量複製に一層適したものとなる。

たとえば、この態様における製造方法においては、前
記製造方法（Ｉ）ないし（VI）において得られたところ
の、回析格子またはホログラムの記録により表面が粗面
化された低反射率部分からなる情報記録パターンが形成
されてなる光記録体を粗面化用原版とし、さらにこの粗
面化用原版から型取りプレス等の方法により光記録体を
複製することができる。

さらに、本発明においては、上記粗面化原版から一旦
マザーマスクを作製し、このマザーマスクを大量複製用
の複製原版として用いて、型取りによって光記録体を得
ることができる。

このようなマザーマスクを介して光記録体の製造方法
は、粗面化用原版が機械的ないし化学的に弱い材料によ
って形成される場合において特に有用である。

上記のようなマザーマスクを複製用原版として用いて
型取りによって得られた光記録体は、さらに光記録体の
低反射率部分を覆うようにして基材の全面または一部に
光反射材料層または光記録材料層を積層することができ
る。

また、大量複製に関して言えば、第18図に示すよう
に、マザーマスク210を円筒体ロール200に設置し、ロー
ル204から供給された支持フィルムに樹脂液201を塗布し
て紫外光源206からの紫外線照射により樹脂液を硬化さ
せ、回析格子またはホログラムをマザーマスク206から
転写記録してロール207bで巻き取ることにより、例えば
ROM型の光カードを、巻き取り方式で連続的に大量に製
造することが可能となる。なお、樹脂塗布量、樹脂や支
持フィルムの性質等により光源206だけでは硬化が充分
でない場合は、さらに光源208により紫外線照射して硬
化するようにしてもよい。

製造方法（VIII）本発明においては、上記製造方法（Ｉ）〜（IX）で得
られた各々の光記録体を原版として、この原版からメッ
キ、プレス法等によりスタンパーを作成し、このスタン
パーを用いて、さらにインジェクション法、熱圧プレス
法あるいは前述したような樹脂型取り法により、光記録
体を複製することができる。

この場合に用いるスタンパーの材質としては、Ni、A
l、Cu,Crなどの金属が挙げられる。一方、複製用の樹脂
としては、特に限定されるものではないが、特に熱圧プ
レス法において熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。

本発明の使用するホログラムとしては、物体を透過ま
たは反射するフレネル回析波を物体波とし、感光材料面
から任意の距離にある点光源から生ずる波を参照波とし
て記録されるフレネルホログラム、物体を透過、あるい
は反射する波がフランホォーファー回析波になる場合に
記録されるフランホォーファーホログラム、記録使用と
する物体をレンズ等の結像光学系により感光材料上に結
像するように配置して記録するイメージホログラム、白
色光の再生を可能にしたレインボーホログラム、感光材
料に対して反対方向から物体波と参照波を照射し、感光
材料の厚み方向に干渉縞を形成するようにしたリップホ
ログラム等各種のホログラムを適用することが可能であ
る。

なお、上記説明では情報記録部を構成する低反射率部
分を回析格子またはホログラムの記録による粗面化処理
のみによって形成する例について述べたが、例えば第１
図においては情報記録部の低反射率部分はスリガラスの
微細の凹凸、微細な明暗パターンを有する透明体を利用
して形成した微細な凹凸等他の粗面化処理により形成す
る等、適宜他の粗面化処理と組合せるようにしてもよ
い。

以上のように本発明によれば、光反射率の差異によっ
て識別される情報記録パターン部を有する光記録体の少
なくとも一部、例えば情報記録パターンの低反射率部分
に回析格子あるいはホログラムからなる別の情報を記録
することにより、エッチング等による工程の煩雑化を極
力避けることができ、製造工程が簡易化し、かつ原料に
関しても特定の光記録材料に限定されることがなく、更
に工業的規模での大量複製にも適しているので製造コス
トの低減化の点でも優れた効果を有している。また保存
性、耐久性ならびに経時的な安定性の点でも優れてい
る。さらに、光学的手法による偽造を防止し、色彩的に
も非常に美しく、装飾体をも兼ねられる効果が得られ
る。また、回析格子またはホログラムを情報パターンと
同一面内に形成したので、電子顕微鏡で情報パターンは
読めたとしても回析格子またはホログラムを読むことが
できず、また回析格子またはホログラムは記録体内に埋
没して情報パターンと同一層に形成されているため、光
学的に読んだとしても埋没した深さのためにボケが生じ
て完全な再生を行うことはできず、その結果偽造防止に
多大な効果が得られ、またカードに使用して過酷な環境
に置かれてもキズがつかないという利点がある。

産業上の利用可能性本発明の光記録体はフレキシブルディスク、カード、
テープ等の様々な形態の光記録材料として利用すること
ができ、例えば以下の用途に適用される。

（１）金属流通産業：キャッシングカード、クレジット
カード、プリペイドカード。

（２）医療健康産業：健康証書、カルテ、医療カード、
緊急カード。

（３）娯楽産業：ソフトウェア媒体、会員カード、入場
券、遊戯機械制御媒体、テレビゲーム用媒体、カラオケ
用媒体、ゴルフスコアカード。

（４）運輸旅行産業：旅行者カード、免許証、定期券、
パスポート、運転記録カード。

（５）出版産業：電子出版。

（６）情報処理産業：電子機械の外部記憶装置、フアイ
リング。

（７）教育産業：教材プログラム、成績管理カード、キ
ャンパスカード、身分証明書、図書館の入出管理および
書籍管理。

（８）自動車産業：整備記録、運行管理、動作記録カー
ド、ナビゲート用カード。

（９）FA:MC、NC、ロボット等のプログラム記録媒体、
メンテナンスパーツカード。

（10）その他：ビルコントロール、ホームコントロー
ル、IDカード、自動販売機用媒体、住所録カード、クッ
キングカード、社員カード。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭63−98690（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−256248（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−259244（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−283383（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 7/24 G11B 7/26

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基材上に、光反射率の差異によって識別さ
れ得る情報記録パターンが形成された光記録体であっ
て、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部
分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少
なくとも一部分が回析格子またはホログラムによって構
成されている光記録体。
【請求項２】前記情報記録パターンの低反射率部分が、
回析格子またはホログラムからなる、請求項１の光記録
体。
【請求項３】前記情報記録パターンが回析格子を含み、
該回析格子の一部のピッチ幅を変化させるようにしてパ
ターンを形成してなる、請求項１の光記録体。
【請求項４】前記情報記録パターンが回析格子を含み、
該回析格子の角度の一部を変化させるようにしてパター
ンを形成してなる、請求項１の光記録体。
【請求項５】前記情報記録パターンが回析格子を含み、
角度の異なる回析格子を一部分２重焼きすることによっ
て形成されたパターンが形成されてなる、請求項１の光
記録体。
【請求項６】前記光記録体が光カードである、請求項１
の光記録体。
【請求項７】前記光記録体が光ディスクである、請求項
１の光記録体。
【請求項８】前記情報記録パターン部分を被覆するよう
にして基材の全面もしくは一部に光反射性材料層が積層
されてなる、請求項１の光記録体。
【請求項９】前記情報記録パターン部分を被覆するよう
にして基材の全面もしくは一部に光記録材料層が積層さ
れてなる、請求項１の光記録体。
【請求項１０】前記ホログラムの少なくとも一部分が、
レーザー光の照射によってホログラムの再生画像が出現
するタイプのホログラムからなる、請求項１の光記録
体。
【請求項１１】基材上に、光反射率の差異によって識別
され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方
法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低
反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パタ
ーンの少なくとも一部分を回析格子またはホログラムに
形成する光記録体の製造方法。
【請求項１２】前記情報記録パターンの低反射率部分
を、干渉性のある２光束あるいは物体波と参照波とで露
光することにより形成する、請求項11の光記録体の製造
方法。
【請求項１３】前記情報記録パターンの低反射率部分
を、該低反射率部分のサイズよりも小さい規則的パター
ンを有するマスクを介して露光することにより形成す
る、請求項11の光記録体の製造方法。
【請求項１４】前記情報記録パターンの低反射率部分
を、（ａ）該情報記録パターンを構成する情報ピットの
サイズからなるパターンと（ｂ）前記情報記録パターン
を構成する情報ピットのサイズよりも小さい規則的パタ
ーン、の双方を同一マスク中に有するマスクを介して露
光することにより形成する、請求項11の光記録体の製造
方法。