JP2006520923A - ミクロ構造およびミクロ構造の形成方法 - Google Patents
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Abstract
一つの凹凸構造と少なくとも一つの回折構造との重ね合わせにより、光を回折させるミクロ構造を形成する方法は、
a)露出した表面に第1の凹凸構造を備えたホトレジスト層(2)を平坦なサブストレート(1)上に形成し、
b)コーヒレントな光を用いて第1の凹凸構造(5)上に干渉縞を形成し、
c)干渉縞に対する第1の凹凸構造(5)の方向を決定し、
d)凹凸構造を干渉縞で露光し、
e)ホトレジストを現像し、露光作業で変質されたホトレジスト材料を除去して、回折構造の凹部例えば溝を凹凸構造上に形成し、
f)ホトレジストを乾燥させる、諸工程を有してなる。
Description
2 ホトレジスト層
4 凹凸母型
5 凹凸構造
6 光ビーム
7 レーザー光源
8 ビームスプリッタ
9 分岐ビーム
10 参照ビーム
12 ミクロ構造
13 溝
Claims (20)
- 第1の凹凸構造を、少なくとも一つの第2の凹凸構造と重ね合わせることによって形成されるミクロ構造であって、
前記第1の凹凸構造(5)が層(2)に機械的に形成された構造であり、前記少なくとも一つの第2の凹凸構造が、前記第1の凹凸構造(5)の表面上に光化学的に形成された凹部(13)を備えた回折構造(12)であることを特徴とするミクロ構造。 - 前記回折構造(12)が回折格子であることを特徴とする請求項1記載のミクロ構造。
- 前記回折構造(12)の凹部(13)の深さ(t)が最大で500nmであることを特徴とする請求項1または2記載のミクロ構造。
- 前記回折構造(12)の格子周期が最大400nmであることを特徴とする請求項2または3記載のミクロ構造。
- 前記1の凹凸構造(5)が周期的格子構造であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のミクロ構造。
- 前記回折格子(12)が、前記1の凹凸構造(5)の周期的格子構造の空間周波数の少なくとも5倍に相当する空間周波数を有することを特徴とする請求項5記載のミクロ構造。
- 前記回折格子(12)と前記1の凹凸構造(5)の格子構造とが、所定の方位角をなすように回転されていることを特徴とする請求項5または6記載のミクロ構造。
- 前記第1の凹凸構造(5)がマット構造であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項記載のミクロ構造。
- 第1の凹凸構造(5)に、回折構造(12)として働く少なくとも一つの第2の凹凸構造を重ね合わせることによって、サブストレート(1)上のホトレジスト層(2)に、光を回折させるミクロ構造(13)を形成する方法であって、
a)露出した表面に第1の凹凸構造(5)が配置されたホトレジスト層(2)を平坦なサブストレート(1)上に形成し、
b)コーヒレントな光を分岐ビーム(9)と参照ビーム(10)とに分解し、該分岐ビーム(9)および参照ビーム(10)を、所定の交角をもって干渉させることによって前記第1の凹凸構造(5)上に干渉縞を形成し、
c)前記第1の凹凸構造(5)を照らす、暗い光の縞によって分離された明るい光の縞を備えた干渉縞に対する前記第1の凹凸構造(5)の方向を決定し、
d)該第1の凹凸構造(5)を備えた前記ホトレジスト層(2)を前記干渉縞で所定時間露光して、前記明るい光の縞で露光されたホトレジスト材料を変質させ、
e)前記ホトレジストを所定時間現像し、前記露光によって変質されたホトレジスト材料を除去して前記回折構造の凹部(13)を形成し、
f)前記ホトレジストを乾燥させる、
諸工程を有してなることを特徴とするミクロ構造の形成方法。 - 前記e)工程における前記ホトレジストの現像時間は、前記回折構造の凹部(13)が最大で500nmに達するような時間であることを特徴とする請求項9記載の方法。
- 前記a)工程において、型押しスタンプ(3)に設けられた凹凸母型(4)を前記ホトレジスト層(2)の表面に降下させて、前記第1の凹凸構造(5)の形状を前記凹凸母型(4)の陰画として形成することを特徴とする請求項9または10記載の方法。
- 前記a)工程において、液状ホトレジストを前記サブストレート(1)と前記凹凸母型(4)との間に注入し、前記ホトレジストを加熱して硬化させ、離型後、前記ホトレジスト層(2)の露出した表面が、前記凹凸母型(4)の陰画としての前記第1の凹凸構造(5)を備えることを特徴とする請求項9または10記載の方法。
- 前記a)工程において、周期的格子を前記第1の凹凸構造(5)として前記ホトレジスト層(2)に形成することを特徴とする請求項9から12のいずれか1項記載の方法。
- 前記第1の凹凸構造(5)の空間周波数の少なくとも5倍に相当する空間周波数を有する回折格子が形成されるように、前記b)工程において、前記分岐ビーム(9)と前記参照ビーム(10)との間の交角を設定することを特徴とする請求項13記載の方法。
- 前記c)工程において、前記サブストレート(1)の平面に対する法線(15)の周りで前記サブストレート(1)を回転させることによって、前記第1の凹凸構造(5)を、前記干渉縞に対して所定の方位値を有する方位に配向することを特徴とする請求項13または14記載の方法。
- 前記a)工程において、マット構造を前記第1の凹凸構造(5)として前記ホトレジスト層(2)に形成することを特徴とする請求項9から12のいずれか1項記載の方法。
- 少なくとも一つのさらなる回折構造を露光によって作製するために、前記b)工程から前記e)工程までを反復することを特徴とする請求項9から16のいずれか1項記載の方法。
- 前記b)工程において、前記分岐ビーム(9)と前記参照ビーム(10)との間の交角を変化させることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 前記サブストレート(1)の平面に対する法線(15)の周りで前記サブストレート(1)を回転させることによって、第1の回折構造に対する前記第1の凹凸構造(5)の方位値を変更することを特徴とする請求項17または18記載の方法。
- 最大400nmの格子周期をもった回折格子が回折構造として形成されるように、前記b)工程において、前記分岐ビーム(9)と前記参照ビーム(10)との間の交角を設定することを特徴とする請求項9から19のいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10318105A DE10318105B4 (de) | 2003-03-21 | 2003-04-22 | Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturen |
PCT/EP2004/002822 WO2004083911A1 (de) | 2003-03-21 | 2004-03-18 | Mikrostruktur und verfahren zur herstellung von mikrostrukturen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006520923A true JP2006520923A (ja) | 2006-09-14 |
JP2006520923A5 JP2006520923A5 (ja) | 2007-07-19 |
JP4495722B2 JP4495722B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=37052560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006504729A Expired - Fee Related JP4495722B2 (ja) | 2003-04-22 | 2004-03-18 | ミクロ構造の作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4495722B2 (ja) |
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JP4495722B2 (ja) | 2010-07-07 |
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