JP3059786B2 - 光カード - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学的な情報記録が可
能な光カードに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、情報記録部をプラスチックカード
に内蔵した光学式のメモリーカードとしていわゆる光カ
ードが知られている。その中でも、製造工程が簡単で、
原料に関しても特定の光記録材料に限定されることがな
く、さらに工業的規模での大量複製にも適した製造コス
トの低い光記録媒体を用いた光カードとして、低反射率
部分を光散乱性を有する粗面化部分で構成した光カード
が提案されている（例えば、特開平１−１０５７９１号
公報参照）。

【０００３】上記光カードのＷＯＲＭ（Write Once Rea
d Many）タイプの一例を示すと図１０のようである。図
１０に示す光カードは、光透過性の基材１００ａにおけ
る粗面化された低反射率部分１０２とこの低反射率部分
１０２を覆うようにして基材１００ａの表面に光記録材
料層１０３が積層形成されており、さらにこの表面に
は、接着剤層１０４、印刷層１０５及びカード基材１０
６が積層され、一方、反対側には、プライマー層１０７
を介して透明基材層（保護層）１０８並びに表面硬化層
１０９が積層形成されている。そして、光記録材料層１
０３がカードの端部に露出しておらず、全体として空隙
のない密閉型なので経時的な安定性に特に優れたもので
ある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図１０に示
す如き構成の光カードでは、光記録材料層１０３と接す
る接着剤層１０４にウレタン系の接着剤が使用されてい
る。このウレタン系の接着剤が光記録材料層１０３の下
側にあると、レーザー光により光記録材料層１０３に孔
がうまく形成されて記録が良好に行われるという利点は
あるものの、ウレタン系の接着剤は印刷層１０５に使用
されるインキの種類によって接着性が不安定になるた
め、使用中に境界面で剥離を起こすという問題点があっ
た。

【０００５】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、ウレタン系の接着剤を用いてカード
基材を接着しても接着が良好な光カードを提供しようと
するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、光透過性の基材の片面に形成された光記
録材料層の表面に接着剤層を介してカード基材が積層さ
れ、前記基材の光記録材料層が設けられた側と反対側の
表面には透明保護層及び表面硬化層が積層されてなる光
カードにおいて、前記接着剤層としてウレタン系樹脂が
使用されており、前記カード基材は乳白ポリ塩化ビニル
からなるコアシートの両面に透明ポリ塩化ビニルからな
るオーバーシートを積層した３層構造であって、前記光
記録材料層側のオーバーシートとコアシートの間に印刷
層が施されていることを特徴としている。

【０００７】

【作用】上記構成からなる光カードでは、ウレタン系樹
脂の接着剤層がカード基材の透明ポリ塩化ビニル（オー
バーシート）と全面に渡って直に接してしっかりと接着
した状態になる。さらに、乳白色ポリ塩化ビニル（コア
シート）の両面に印刷を施す場合、印刷層の上に透明ポ
リ塩化ビニル（オーバーシート）を熱プレスで積層して
おくと、印刷面が保護され、長期の使用に対して印刷面
の磨耗を防ぐことができる。さらには、製作上の利点と
して、乳白色ポリ塩化ビニル（コアシート）の上下に透
明ポリ塩化ビニル（オーバーシート）を積層することに
より、プレス時のカールが防止され、このことは光記録
材料層を接着するときに平面同士の接着となり、接着工
程が容易となる。

【０００８】

【実施例】図１は本発明の一実施例であるＷＯＲＭタイ
プの光カードの断面図である。図１に示される光カード
Ｃは、光透過性の基材１の片面に形成された光記録材料
層２の表面に接着剤層３を介してカード基材４が積層さ
れ、前記基材１の光記録材料層２が設けられた側と反対
側の表面には透明保護層５及び表面硬化層６が積層され
た構成となっている。そして、前記接着剤層３としてウ
レタン系樹脂が使用されており、前記カード基材４は透
明ポリ塩化ビニルからなるオーバーシート４ａ、乳白ポ
リ塩化ビニルからなるコアシート４ｂ、透明塩化ビニル
からなるオーバーシート４ｃを積層した３層構造のもの
が使用され、前記光記録材料層３側のオーバーシート４
ａとコアシート４ｂとの間に印刷層７ａが、またオーバ
ーシート４ｃとコアシート４ｂとの間に印刷層７ｃが施
されている。

【０００９】上記図１の光カードＣは図２に示す工程で
作製されたものである。以下、この工程を順に説明す
る。

【００１０】まず、情報記録パターンに応じて粗面化さ
れた低反射率部分を有する粗面化原版を作製する。

【００１１】第１段階として、図３の（ａ）に示すよう
に、透明基材１１（厚さ４００μｍのアクリル板）に回
転型フォトレジスト塗布機によりフォトレジストを５０
００Åの厚さで均一にコーティングしてフォトレジスト
層１２を形成する。フォトレジストとしては、ポジ型レ
ジスト（キノンジアジド系）である「シプレー社製マイ
クロポジット１４００」を使用した。次に、第２段階と
して、図３の（ｂ）に示すように、マスク合わせ装置を
用いて情報記録パターンに応じて形成したフォトマスク
１３をフォトレジスト層１２に重ね合わせた後、最初の
露光（パターニング露光）を行う。続いて、第３段階と
して、図３の（ｃ）に示すように、片面が微細な凹凸状
に粗面化されたガラス板１４（平均粗さ０．３μｍ、＃
３０００研磨ガラス）を用いて再び露光（粗面化露光）
する。露光後、第４段階として、フォトレジスト層１２
を現像すると、図３の（ｄ）に示すように、紫外線の当
たったところのフォトレジストは流れ去り、当たらない
部分のフォトレジストが残り、フォトマスク１３のパタ
ーンが透明基材１１の上に転写される。これにより、表
面が粗面化されたフォトレジスト層１２が案内トラック
の形状として、例えば、幅２．５μｍ程度、ピッチ１
４．５μｍ程度で形成される。

【００１２】次に、表面が粗面化された低反射率部分か
らなる情報記録パターンが形成されている光記録体（図
３の（ｄ）に示すもの）を粗面化原版１５とし、この粗
面化原版１５から型取りプレスによりマザーマスクを複
製する。

【００１３】具体的には、図４の（ａ）に示すように、
透明基材２１（厚さ１．２ｍｍのアクリル板）の上に、
電離性放射線硬化樹脂或いは熱硬化樹脂の成型樹脂から
なる型取り剤２２を介して、上記で作成した粗面化原版
１５を積層してプレス機でプレスを行った状態で紫外線
を照射した後、粗面化原版１５と透明基材２１を離型し
て、図４の（ｂ）に示すように、透明基材２１側にパタ
ーンを複製してマザーマスク２３を形成する。本実施例
では、成型樹脂としてＵＶ硬化性樹脂（諸星インキ製、
ＳＥＬ−ＸＡ（ポリエステルアクリレートオリゴマーと
ネオペンチルグリコールジアクリレートモノマーを主体
とし、イルガキュアー１８４（光重合開始剤）を添加し
たもの））を使用した。

【００１４】一方、図５に示すように、光カードＣの透
明保護層５となる透明基材に表面硬化層６を形成してお
く。

【００１５】ここで、透明保護層５となる基材として、
厚さ４００μｍのポリカーボネイト（ＰＣ）を使用し
た。他に、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、アク
リロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、セルロ
ースプロピオネート（ＣＰ）、セルロースアセテートブ
チレート（ＣＡＢ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ
エステル等が使用できるが、本実施例では複屈折の少な
いＰＣを使用している。表面硬化層６としては、アクリ
ル系のＵＶ硬化性ハードコート剤（東レ製、ＵＨ−００
１）を使用した。他に、ＵＶ硬化性樹脂（オリゴマー、
モノマー開始剤）、メラミン系等の熱硬化性樹脂等を使
用することもできる。そして、ＰＣの基板の上にスピン
ナーコートにより上記ハードコート剤を塗布し、紫外線
を照射して硬化させた。なお、通常の場合、後述する複
製用樹脂との接着性を持たせるために表面硬化層６と反
対側の面にプライマーコートを施しておく必要がある
が、基材５としてＰＣを用いた場合には複製用樹脂との
接着性が良好なためプライマーコートを施していない。

【００１６】次いで、上記マザーマスク２３を大量複製
用の複製原版として用いて、型取りによって前記透明保
護層５となる基材の裏側面に光記録体を複製する。

【００１７】具体的には、図６の（ａ）に示すように、
基材５の裏側面とマザーマスク２３のパターン面との間
に複製用樹脂３１を挟み込み、プレス機でプレスした状
態で紫外線を照射した後、図６の（ｂ）示すように、基
材５とマザーマスク２３を離型し基材５側にパターンを
複製する。このようにして複製用樹脂３１の表面に低反
射率部分が形成され、この複製用樹脂３１が光カードＣ
における光透過性の基材１となる。本実施例では、複製
樹脂３１として紫外線硬化樹脂（スリーボンド社製、Ｓ
Ｓ−１２０、ウレタンアクリレート系）を使用した。

【００１８】続いて、複製用樹脂３１で構成された光透
過性の基材１における低反射率部分を覆うようにして基
材の一部に光記録材料層２を積層する。

【００１９】具体的には、図７に示すように、ＴｅＯ_x
膜とＴｅＯ_y 膜（但し、ｘ＝０．５、ｙ＝１．８）の積
層膜を反応性スパッタリング装置を用いて、５００Åの
厚さで光記録材料層２を形成した。

【００２０】上記一連の工程とは別に、図８に示す如き
カード基材４を作成しておく。このカード基材は、乳白
塩化ビニルからなるコアシート４ｂ（２００μｍ）の両
面に印刷層７ａ，７ｂを施し、その上に透明塩化ビニル
からなるオーバーシート４ａ，４ｃ（５０μｍ）を貼り
合わせて形成される。この場合、カード基材４は３層構
造となるので、熱プレス時に反りを生ずることがない。
また、オフセットインキによりベタに印刷すると、熱プ
レス時にオーバーシート４ａはコアシート４ｂと接合し
ないが、シルクスクリーンインキを使用すると接合する
ので、シルクスクリーン印刷により印刷層７ａ，７ｂを
形成するようにする。

【００２１】そして、光記録材料層２を設けた基材１に
ウレタン系樹脂からなる接着剤層３を介して上記カード
基材４を図９の如く接着ラミネートする。具体的には
「東レ製ＵＨ−１２６０Ｃ」（二液硬化タイプ）を使用
し、常温で６０μｍの厚さで接着した。この場合、接着
剤層３はカード基材４のオーバーシート４ａ（透明ポリ
塩化ビニル）と全面に渡って直に接しているので、しっ
かりと接着される。以上のようにして作製された原反を
にカード形状に打抜加工して、図１に示す光カードＣを
作製する。

【００２２】なお、レーザーにより書込みで形成される
ピットの径が１μｍより大きくなるような場合には、ピ
ットの底からの反射光を防止するため、レーザーダイオ
ードの波長に対して吸収特性を有する顔料や染料を印刷
により設けておくようにすることが好ましい。具体的に
は、黒色等の反射率の低い色を印刷層７の部分に設けて
おくようにする。

【００２３】以上のようにして形成した光カードＣは、
ＩＳＯ ７８１６／１ ４．２．４，ＩＳＯ ７８１０
／１ の規格である、カードの長辺方向２０ｍｍ、短辺
方向１０ｍｍの曲げ試験を３０回／分で表裏各２５０回
行い、合計１０００回テスト後に、剥離を生じないこと
が確認できた。

【００２４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光カード
は、光透過性の基材の片面に形成された光記録材料層の
表面に貼り合わせるカード基材として印刷層を挟み込ん
だ３層構造のポリ塩化ビニルを使用し、しかも接着剤層
としてウレタン系樹脂を使用しているので、カード基材
は光記録材料層としっかりと接着した状態となり、安定
した形態で使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である光カードの断面図であ
る。

【図２】図１に示す光カードＣを作製する工程図であ
る。

【図３】粗面化原版を作成する工程図である。

【図４】粗面化原版からマザーマスクを複製する工程図
である。

【図５】透明保護層に表面硬化層が形成された状態を示
す断面図である。

【図６】透明保護層となる基板の裏側面に光記録体を複
製する工程図である。

【図７】光透過性の基材の一部に光記録材料層を積層し
た状態を示す断面図である。

【図８】カード基材の断面図である。

【図９】光記録材料層を設けた光透過性の基材に接着剤
層を介してカード基材を接着ラミネートした状態を示す
断面図である。

【図１０】従来の光カードを示す断面図である。

【符号の説明】

Ｃ 光カード １ 光透過性の基材 ２ 光記録材料層 ３ 接着剤層 ４ カード基材 ４ａ，４ｃ オーバーシート ４ｂ コアシート ５ 透明保護層 ６ 表面硬化層 ７ａ，７ｃ 印刷層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G06K 19/06 G06K 19/077 B42D 15/10

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光透過性の基材の片面に形成された光記
   録材料層の表面に接着剤層を介してカード基材が積層さ
   れ、前記基材の光記録材料層が設けられた側と反対側の
   表面には透明保護層及び表面硬化層が積層されてなる光
   カードにおいて、前記接着剤層としてウレタン系樹脂が
   使用されており、前記カード基材は乳白ポリ塩化ビニル
   からなるコアシートの両面に透明ポリ塩化ビニルからな
   るオーバーシートを積層した３層構造であって、前記光
   記録材料層側のオーバーシートとコアシートの間に印刷
   層が施されていることを特徴とする光カード。