JP2554862B2

JP2554862B2 - 光情報記録体の製造方法

Info

Publication number: JP2554862B2
Application number: JP61134585A
Authority: JP
Inventors: 満多気田; 渉倉持; 順彦酒井
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1986-06-10
Filing date: 1986-06-10
Publication date: 1996-11-20
Anticipated expiration: 2011-11-20
Also published as: JPS62291730A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は記録されている情報を光学的に再生して読み
取る光情報記録体の製造方法に関するものであり、記録
の読み取り精度が高く、しかも長期に亙って前記の優れ
た読み取り精度を維持することができ、かつ外観が良好
で体裁が良く、更に光情報記録の書き込みと読み取りが
容易な光情報記録体の製造方法を提供するものである。

［従来の技術］情報記録部を光学的に再生して読み取る光情報記録体
は、記録し得る情報密度が従来の磁気方式による情報記
録体や近年検討されているIC方式による情報記録体に比
較して飛躍的に大きく、各種の情報記録カードやテープ
として多用され始めている。

上記の光情報記録体は、表面に光情報パターン部を有
する光反射性金属薄膜が積層されている合成樹脂シート
と別製の合成樹脂シートとを、前記光情報パターン部が
形成されている光反射性金属薄膜が内側になるようにし
て接着剤で接着、積層してなる「合成樹脂層−光情報パ
ターン部が形成されている金属薄膜−合成樹脂層」の積
層構成が極く一般的なものである。

［発明が解決しようとする問題点］前記の「合成樹脂層−光情報パターン部が形成されて
いる金属薄膜−合成樹脂層」の積層構成からなる光情報
記録体における光情報パターン部は、合成樹脂シートの
上に形成した光反射性金属薄膜に部分的な変化を生じさ
せ、これによって情報の記録を行なってある。

従って、光情報記録体の四周端面に前記光情報パター
ン部を有する光反射性金属薄膜の端面が露出しており、
これが光情報記録体の使用中に空気や水と接触して錆や
腐食を発生させ、光情報記録体の読み取り制度を低下さ
せる要因になる。

特に情報密度を高くできることが光情報記録体の特長
であり、高密度記録した情報の読み取りに対しては厳密
な再生操作が要求されるため、上記の光情報記録体にお
ける光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜に発生
する錆や腐食は、正確な情報の読み取りが行なえなくな
るという致命的な欠点に繋る。

又、前記の四周端面に前記光情報パターン部を有する
光反射性金属薄膜の端面が露出している光情報記録体
は、該端面に露出した光反射性金属薄膜が違和感を与え
るものになっているため、体裁が悪く、外観不良の原因
にもなっている。

これに対して本発明は、記録の読み取り精度が高く、
しかも長期に亙って前記の優れた読み取り精度を維持す
ることができ、かつ外観が良好で体裁がよく、更に情報
の読み取り際しては必ずしも煩雑なレーザー光の照射を
必要とすることのない光情報記録体を、容易かつ確実に
得られる光情報記録体の製造方法を提供するものであ
る。

［問題点を解決するための手段］上記問題点は以下に記載する本発明の光情報記録体の
製造方法によって達成される。

すなわち本発明は、基材の片面全面に光反射性金属薄
膜を形成した後、該光反射性金属薄膜にフォトエッチン
グ法により光情報パターン部を形成すると共に、前記光
反射性金属薄膜の四周縁辺部に沿う小幅部分を前記光情
報パターン部の形成工程と同時工程でのフォトエッチン
グ法によって除去し、続いて、前記光情報パターン部を
有する光反射性金属薄膜、及び光反射性金属薄膜を除去
した四周縁辺部に沿う小幅部分の全表面の上に保護層を
積層することにより、基材と保護層との各四周端面より
も光情報パターン部を形成した光反射性金属薄膜の四周
端面が内方に後退した位置にある光情報記録体を得る光
情報記録体の製造方法からなる。

又本発明は、その製造工程中に、基材又は保護層の外
側表面に表面硬化層を形成する工程を設ける光情報記録
体の製造方法からなる。

第１図にて符号１示される光情報記録体は、本発明の
光情報記録体の製造方法によって得られる光情報記録体
の代表的な構成であり、ポリカーボネート樹脂シートか
らなる基材２と、該基材２の片面に積層されているフォ
トエッチング法による光情報パターン部を有する光反射
性金属薄膜３と、該光反射性金属薄膜３を被覆するよう
にして前記ポリカーボネート樹脂シートからなる基材２
に積層されているポリ塩化ビニル樹脂による保護層４と
の積層構成からなる。

光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３の四周
縁辺部に沿う小幅部分は、通常0.5mm以上であれば十分
であり、該部分の光反射性金属薄膜は、光反射性金属薄
膜３に対する光情報パターン部の形成工程と同一工程で
のフォトエッチング法によって除去してあり、これによ
って光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３の四
周端面５が前記基材２の四周端面６や保護層４の四周端
面７よりも約0.5mm以上の距離で以って内方に後退した
位置にある。すなわち、第２図の平面図で示されるよう
に、光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３の平
面形状が、基材２と保護層４との各平面形状に対してア
イランド（islnd）形状になっている。

なお、上記光情報記録体１において、符号８で示され
る部分は光反射性金属薄膜３に形成してある貫通孔であ
り、該貫通孔8,8の集合体が光情報パターン部である。

又、同じく符号９で表示される部分は、前記ポリカー
ボネート樹脂シートからなる基材２に必要に応じて付さ
れている図柄、模様、文字等の印刷層である。

又、光情報記録体１には、基材２や保護層４の外側表
面に、硬化性樹脂や金属酸化物等による表面硬化層を適
宜設け得ることは勿論である。

以下、本発明の光情報記録体の製造方法によって得ら
れる光情報記録体における各層の具体的な構成及び機能
について説明する。

基材２及び保護層４基材２及び保護層４は、これらの両者の間に存在する
光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３を担持
し、且つ保護するものであり、光情報パターン部を形成
する前の光反射性金属薄膜を積層させた部分を基材と
し、光情報パターン部を形成した後の光反射性金属薄膜
の上に積層した部分を保護層としている。

基材２と保護層４とのこれらの両者の素材についての
区別はないが、基材２と保護層４との少なくとも一方の
層は斑のない光透過性を有していること必要であり、し
たがって他方の層は、顔料や充填材等を適宜混入した不
透明層であってもよい。

基材２や保護層４は、例えばポリ塩化ビニル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、セルロース系樹脂、ポリエチレン
テレフタレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、
ポリエーテルサルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、
ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポ
リアミド樹脂等からなる。

光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３は、前
記基材２に形成した光反射性光反射性金属薄膜に対し
て、フォトエッチング法によって貫通孔の集合体からな
る光情報パターン部を形成してなるものである。

例えば、前記基材２をなす合成樹脂シートに200〜100
00Å、好ましくは1000〜5000Åの厚さの光反射性金属薄
膜を、スパッタリング、真空蒸着、CVD、イオンプレー
ティング、電気メッキ、分子線エポタキシー等によって
形成した後、この光反射性金属薄膜の所定部分のみにフ
ォトレジスト層を部分的に形成し、次いでエッチング処
理によって、前記のフォトレジスト層の無い部分（金属
露出部分）の光反射性金属薄膜の全体を腐触、除去し、
更に必要に応じて残存しているフォトレジスト層を剥
離、除去することによって、貫通孔の集合体からなる光
情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３を形成す
る。

光反射性金属薄膜は、例えばAl、Ni、Cr、Ag、Auな
ど、あるいはこれらを主体とした合金等によって形成さ
れる。これらの材質によって形成された光反射性金属薄
膜は、光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３に
したときに、光情報パターン部と非パターン部との光学
的なコントラストが高く、光情報記録体の情報記録の読
み出しがより容易になる。

光反射性金属薄膜の上に形成するフォトレジスト層
は、該光反射性金属薄膜にフォトエッチングを受けるこ
との無い部分を部分的に形成するために設けるものであ
る。

フォトレジスト層は、露光によって不溶解性から溶解
性へと変化する物質、又は溶解性から不溶解性へと変化
する物質による層を、前記光反射性金属薄膜の上に全面
に形成し、前者の場合には光情報パターン部に相当する
部分を露光して光情報パターン部に相当する部分を溶解
性にしたフォトレジスト層にし、又後者の場合には非光
情報パターン部に相当する部分を露光して非光情報パタ
ーン部に相当する部分を不溶解性にしたフォトレジスト
層にする。

なお本発明の光情報記録体の製造方法においては、フ
ォトレジスト層が露光によって不溶解性から溶解性へと
変化する物質のときには、光反射性金属薄膜の四周縁辺
部に沿う小幅部分も、前記光情報パターン部に相当する
部分の露光と同時に露光し、該小幅部分のフォトレジス
ト層も露光によって溶解性にする。

又、フォトレジスト層が露光によって溶解性から不溶
解性へと変化する物質のときには、光反射性金属薄膜の
四周縁辺部に沿う小幅部分は露光することなく、該小幅
部分のフォトレジスト層を溶解性のままにして残してお
く。

前記フォトレジスト層は、例えばジアゾニウム塩又はアジド化合物を含有する光分解
型感光性樹脂、シンナモイル系、ジアゾ系、アジド系、あるいはア
クリロイル系などの光架橋型感光性樹脂、アクリル酸エステル、アクリルアミドなどの光重合
型感光性樹脂等、卵白、カゼイン、グリュー、PVA、シェラックなど
の重クロム酸感光液等により、例えば、かけ流し法、ホイーラー法、スピン
ナー法、浸漬法、ローラーコート法、スプレイ法、静電
スプレイ法等による塗工層として、あるいはドライフィ
ルムの加熱圧着層として、0.5〜5.0μｍ程度の厚さに形
成する。

なお、前記の露光処理に先立って、フォトレジスト層
にはプリベーキングと称される加熱処理を予め施すのが
普通である。

フォトレジスト層に部分的な露光を行なうには、写真
フィルムや金属マスク等のパターンを介して紫外線を照
射するのが簡便であるが、金属マスクを介して電子線を
照射する方法、あるいはパターンを使用することなく電
子線をパターン状に走査する等の露光方法も利用し得
る。

フォトレジスト層に部分的な露光を施した後、現像し
て溶解性部分だけを除去してレジストパターン層を形成
し、次いで腐食液によってレジストパターン層の無い部
分の光反射性金属薄膜、すなわち光反射性金属薄膜の露
出部分を腐食させ、貫通孔の集合体からなる光情報パタ
ーン部を形成する。

現像は、フォトレジスト層の溶解性部分だけを所定の
溶剤からなる現像液で溶解、除去するものであり、この
現像によってエッチングするべき部分の光反射性金属薄
膜の上のフォトレジスト層を除去し、パターン状に光反
射性金属薄膜を露出させる。

エッチング後には、残存しているフォトレジスト層を
必要に応じて除去することは勿論である。

以上の工程からなるフォトエッチング法によって形成
した光情報パターン部は、光反射性金属薄膜に形成した
貫通孔の集合体からなっており、この貫通孔の平面形状
は、円、楕円、長方形、正方形等であり、それらの直径
もしくは長辺の長さが２〜200μｍ程度、隣接する各貫
通孔の中心点同士の距離が５〜500μｍ程度である。

更に、前記光反射性金属薄膜にフォトエッチング法に
よって貫通孔の集合体からなる光情報パターン部を形成
する際に、光反射性金属薄膜の１部に予め打ち抜き又は
裁断のためのマークを付しておき、このマークを基準に
して露光を行なうようにすれば、光情報パターン部の形
成位置及び光反射性金属薄膜が存在しない小幅部分の位
置が一定になるため、情報記録の書き込み精度や読み取
り精度をさらに高めることができる。

基材や保護層の上に必要に応じて設ける表面硬化層
は、この光情報記録体の表面硬度を高め、該光情報記録
体の耐久性、情報記録の書き込み精度、情報記録の読み
取り精度を向上させる作用を果たす。

この表面硬化層は、該層と接する基材や保護層の物性
を低下させることの無い物質及び形成条件で以って形成
する。例えば、シリコーン系、アクリル系、メラミン
系、ウレタン系、エポキシ系等の硬化性樹脂の硬化膜、
Al₂O₃やSiO₂等の金属酸化物による硬化膜、プラズマ重
合による重合硬化膜等からなる。

これらの硬化膜による表面硬化層は傷付き難く、した
がって傷部分に汚れが詰まる弊害を無くすことができ、
又化学的に不活性であるため、表面に汚れが付着し難
く、しかも付着した汚れの除去が容易である等の作用を
奏する。

［実施例］以下、本発明の光情報記録体の製造方法の具体的な構
成を実施例に基づいて説明する。

実施例１透明なポリカーボネート樹脂フイルム（厚さ400μ
ｍ）の表面をまずフレオン洗浄し、続いて80℃の温度で
30分間熱処理して前処理した後、フイルムの片面にアル
ミニウムを真空蒸着して厚さ0.3μｍのアルミニウム層
を形成した。

次いでアルミニウム層の表面にフオトレジスト（冨士
ハントエレクトロニクステクノロジー社製、WAYCOATH
PR204）をロールコーターにて乾燥時厚みが１μｍにな
るように塗布し、100℃の温度で20分間プリベーキング
して感光性層（フオトレジスト層）を形成した。

更に、電子線描画装置によつて情報を書き込んだ露光
用マスクを、前記感光性層の四周端面から内方へ1mmの
間隔を残して、前記感光性層に密着させ、マスク上より
紫外線照射を行なうことにより、前記感光性層にパター
ン部及び四周端面から内方へ1mmの幅の帯状部を露光し
た。

露光後、現像液（冨士ハントエレクトロニクステクノ
ロジー社製、LSI現像液）に浸漬して露光部のフオトレ
ジストを溶解除去し、次いで、100℃の温度で20分間ポ
ストベーキングし、更に、腐食液（リン酸16部，酢酸２
部，硝酸１部，および水１部からなる。いずれも部は容
量部を示す）に３分間浸漬し、露光部のアルミニウム層
を腐食，除去し、光情報パターン部を前記アルミニウム
層たる光反射性金属薄膜に形成した。

他方、白色硬質ポリ塩化ビニル樹脂フイルムを所定の
寸法に裁断して銀行カードの形状とし、表面側に所望の
印刷を施し、裏面側には磁気ストライプ層を転写法によ
り設けた樹脂フイルムを形成した。

次いで、前述の光反射性金属薄膜を有するポリカーボ
ネート樹脂フイルムと白色硬質ポリ塩化ビニル樹脂フイ
ルムとを、光反射性金属薄膜面と磁気ストライプ層面と
が対向するようにして、アクリル樹脂系感熱接着剤を介
して貼り合わせ、更に、表面温度110℃の熱ロールを用
いて圧着し、光記録カードからなる光情報記録体を得
た。

実施例２厚み400μｍのポリカーボネートフイルムの一方の面
に下引き処理剤〔（信越化学製）プライマーPC−４）〕
をグラビア法にて塗布し、次にその上にシリコーン系表
面硬化剤〔（信越化学製）Ｘ−12−2150（Ａ）とＸ−12
−2150（Ｂ）の10対１混合物〕をグラビア法にて塗布
し、100℃で30分間加熱して表面硬化層を形成した。

上記のポリカーボネートフイルムの他方の面に下引き
処理剤〔（大日本インキ化学製）タフコートNo.150〕を
グラビア法にて塗布し、100℃で５分間乾燥し、次いで
その上に真空蒸着法により１×10^-5torrの条件でアルミ
ニウム蒸着を行つた。更に上記のアルミニウム蒸着面に
フオトレジスト（シプレイ製、マイクロポジツト1300−
27）をグラビア法にて塗布し、90℃で25分間加熱処理し
た。アルミニウムの膜厚は0.3μｍ、フオトレジストの
膜厚は1.0μｍである。

次いで、前記フオトレジストの塗布面に、ドツト１個
の大きさがたて15μm,よこ５μｍ、同列におけるドツト
ピツチ15μｍ、列間ピツチ20μｍの前記ドツト部が光透
過性とされているフオトマスクを、前記フオトレジスト
の塗布面の四周端面から内方へ1mmの幅の帯状部を残し
て密着させ、フオトマスク側から超高圧水銀灯（3KW,距
離1m）で５秒間露光した。尚、前記使用したフオトマス
クは、ガラス板上にスパツタリング法で膜厚3000ÅのCr
の薄膜を形成した後、フオトレジスト（シプレイ製：マ
イクロポジツト1300−27）をスピンナーで塗布，乾燥
し、その表面に、位置制御したXYステージ上でHe−Cdレ
ーザーをビーム径２μｍに絞つて照射し、たて15μm,よ
こ５μｍのドツトが、同列間におけるピツチ15μｍ、列
間ピツチ20μｍで配列されてなるドツト群を形成し、次
いで、レジスト現像液（シプレイ製）で処理し、更に13
0℃,25分間の加熱処理、塩化第二鉄液によるエツチング
処理を施すことによつて得られたもので、ドツト部が光
透過性とされているものである。

次いで、前記パターン露光されたポリカーボネートフ
イルム上のフオトレジスト層をレジスト現像液（シプレ
イ製）に60秒間浸漬、水洗した後、下記組成のアルミニ
ウムエツチング液に90秒間浸漬し、その後、水洗，乾燥
してアルミニウム薄膜に光情報パターン部を形成した。

アルミニウムエツチング液の組成リン酸１級（85％） 16容量部酢酸１級 2容量部硝酸１級 1容量部純水 1容量部他方、表裏両面に文字及び図案のパターンをスクリー
ン印刷法にて印刷して厚さ150μｍの白色硬質ポリ塩化
ビニルフイルムと、片側表面の一部に幅6.5mmの磁気記
録層を形成した厚さ100μの透明硬質ポリ塩化ビニルフ
イルムとを、前記磁気記録層が外表面となるようにして
二枚のステンレス板間にはさみ、プレス機にて140℃の
温度で30分間の加熱，加圧し、保護層用の積層シートを
得た。

更に、前記得られた保護層用の積層シートと、前記光
情報パターン部を有するアルミニウムの薄膜が積層され
ているポリカーボネートフイルムとを、前記積層シート
におけるスクリーン印刷面と前記ポリカーボネートフイ
ルムに形成されているアルミニウム薄膜面とが対向する
ようにして、両者の間にエポキシ系樹脂（日本ペルノツ
クス製ペルノツクスMG150とペルキユアHY306の10対４混
合物）を介して重ね合わせ、ロールにより圧着した。圧
着後24時間放置し、更に打ち抜き金型により打抜き、書
き込みや読み取りに支障がない光カードからなる光情報
記録体を得た。

実施例３厚さ750μｍの透明アクリルシートの表面に真空蒸着
法を用いてAl膜（膜厚2000Å）を設け、さらにその上層
にフオトレジスト（シツプレー社製：マイクロポジツ
ト）をスピンナーで塗布したのち、90℃で25分間ベーキ
ングし、膜厚１μｍのフオトレジスト層を形成した。

次いで情報パターンと同一形状のパターンが形成され
ているフオトマスクを前記レジスト層に、該レジスト層
の四周端面から内方へ1mmの幅の帯状部を残して密着し
て重ね、超高圧水銀灯（3KW:距離80cm）で10秒間露光し
た。

露光径，現像液（シツプレー社製：マイクロポジツト
デベロツパー）に浸漬して露光部のフオトレジスト層を
溶解除去し、除去後、100℃で20分間ポストベーキング
したのち、更に、腐食液（リン酸16部，酢酸２部，硝酸
１部および水１部からなる。部：容量部）に３分間浸漬
し、露光部のアルミニウム層を腐食，除去して、光情報
パターン部を有する光反射性金属薄膜を得た。

更に、前記透明アクリルシートの余白部に、スクリー
ン印刷により印刷層を設け、さらにこれら金属薄膜と印
刷層とを被覆するようにして保護層を塗布，形成し、本
発明の１実施例品たる光情報記録体を得た。

尚、前記保護層は、白色顔料が分散されているアクリ
ル系紫外線硬化型樹脂からなるコーテイング剤の塗布層
に紫外線を照射して形成したものである。

実施例４厚さ100μｍの透明ポリエステルフイルム（帝人製、
テトロンフイルムタイプ）上に、蒸着用プライマーと
してアクリル樹脂（大日本インキ化学社製：タフコー
ト）をロールコート方式により塗布，乾燥し、その上に
真空蒸着法によりAl膜（膜厚:200Å）を形成した。更に
前記Al膜上に、前記実施例３における光情報パターン部
の形成手段と同一手段を施し、光情報パターン部を有す
る光反射性金属薄膜を形成した。

次いで、前記光情報パターン部を有する金属薄膜、及
び金属薄膜を除去した四周縁辺部に沿う小幅部分の表面
全面に透明アクリル系紫外線硬化型樹脂（スリーボンド
社製:UVX−HM196）を塗布した後、紫外線を照射，硬化
して、薄くかつフレキシブル性を有する本発明の１実施
例品たる光情報記録体を得た。

実施例５厚さ14μのポリエーテルサルフオンフイルム（住友ベ
ークライト社製）上に蒸着用プライマーとしてアクリル
樹脂（大日本インキ化学社製：タフコート）をロールコ
ート方式により塗布，乾燥し、その上に真空蒸着法によ
りAl膜（膜厚:200Å）を形成した。更に前記Al膜上に、
前記実施例３における光情報パターン部の形成手段と同
一手段を施し、光情報パターン部を有する光反射性金属
薄膜を形成した。

次いで、前記光情報パターン部を有する金属薄膜、及
び金属薄膜を除去した四周縁辺部に沿う小幅部分の表面
全面に透明アクリル系紫外線硬化型樹脂（スリーボンド
社製:UVX−HM196）を塗布した後、紫外線を照射，硬化
させ、薄くかつフレキシブルタイプの本発明の１実施例
品たるテープ状の光情報記録体を得た。

［発明の作用及び効果］本発明の光情報記録体の製造方法は、基材の片面全面
に光反射性金属薄膜を形成した後、該光反射性金属薄膜
にフォトエッチング法により光情報パターン部を形成す
ると共に、前記光反射性金属薄膜の四周縁辺部に沿う小
幅部分を前記光情報パターン部の形成工程と同時工程で
のフォトエッチング法によって除去し、続いて、前記光
情報パターン部を有する光反射性金属薄膜、及び光反射
性金属薄膜を除去した四周縁辺部に沿う小幅部分の全表
面の上に保護層を積層することにより、基材と保護層と
の各四周端面よりも光情報パターン部を形成した光反射
性金属薄膜の四周端面が内方に後退した位置にある光情
報記録体を得る光情報記録体の製造方法からなる。

従って、本発明方法によって得られる光情報記録体
は、基材と、保護層と、該基材と保護層との間に位置す
る光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜とを具備
する積層構成を具備しており、前記光情報パターン部を
有する光反射性金属薄膜の四周端面が基材と保護層との
各四周端面よりも内方に後退した位置にあって、光情報
パターン部を有する光反射性金属薄膜の平面形状が基材
と保護層との各平面形状に対してアイランド（island）
形状になっている。

すなわち、本発明の光情報記録体の製造方法によって
得られる光情報記録体は、上記の積層構成により、光情
報パターン部を有する光反射性金属薄膜の端面が光情報
記録体の端面に露出することがない。

このため本発明方法によって得られる光情報記録体
は、該光情報記録体の使用中に光反射性金属薄膜が空気
や水と接触することがなく、該光反射性金属薄膜の端面
が空気や水と接触することによって生ずる錆や腐食の虞
れがなく、正確な読み取りを長期に亙って維持すること
のできる優れた耐久性を有するものになる。

又、本発明方法によって得られる光情報記録体は、光
情報パターン部を有する光反射性金属薄膜が光情報記録
体の四周端面から隠されているために、光情報記録体の
四周端面において異物感を与える光反射性金属薄膜の存
在がなく、体裁の良い好ましい外観の光情報記録体にな
る。

更に本発明方法によって得られる光情報記録体は、該
光情報記録体における光情報記録層が、フォトエッチン
グ法によって形成されている光情報パターン部を有する
光反射性金属薄膜からなるものであるため、従来のテル
ルやビスマス等の低融点金属の薄膜にレーザービーム等
を照射して、該低融点金属の薄膜の所定部分のみに変化
を生じさせる情報記録を行なうことによって光情報記録
層を形成するものに比較して、光情報記録を行なうに際
して高度の技術を要するレーザービームを取り扱う必要
がなく、又情報記録の再生のためのレーザービームの照
射が必要になることがなく、したがって光情報記録の書
き込みが容易であって、しかも光情報記録の読み取り操
作が容易な光情報記録体になる。

更に又、本発明の光情報記録体の製造方法において
は、基材の片面全面に光反射性金属薄膜を形成した後、
該光反射性金属薄膜にフォトエッチング法による光情報
パターン部を形成すると同時に、前記光反射性金属薄膜
の四周縁辺部に沿う小幅部分を前記光情報パターン部の
形成工程と同一工程でのフォトエッチング法によって除
去しているので、光反射性金属薄膜の四周縁辺部に沿う
小幅部分を金属薄膜の存在しない部分にするための特別
の工程を設ける必要がなく、しかも該金属薄膜が存在し
ない部分の形成が容易である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光情報記録体の製造方法によって得ら
れる光情報記録体の１実施例品を示す模型断面図、第２
図は第１図の光情報記録体の平面図である。 1:光情報記録体 2:基材 3:光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜（光情報
記録層） 4:保護層 5:光情報パターン部を有する光反射性金属薄膜３の端面 6:基材２の端面 7:保護層の端面 8:光反射性金属薄膜に形成されている貫通孔

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基材の片面全面に光反射性金属薄膜を形成
した後、該光反射性金属薄膜にフォトエッチング法によ
る光情報パターン部を形成すると共に、前記光反射性金
属薄膜の四周縁辺部に沿う小幅部分を前記光情報パター
ン部の形成工程と同時工程でのフォトエッチング法によ
って除去し、続いて、前記光情報パターン部を有する光
反射性金属薄膜、及び光反射性金属薄膜を除去した四周
縁辺部に沿う小幅部分の全表面の上に保護層を積層する
ことにより、基材と保護層との各四周端面よりも光情報
パターン部を形成した光反射性金属薄膜の四周端面が内
方に後退した位置にある光情報記録体を得ることを特徴
とする光情報記録体の製造方法。
【請求項２】基材又は保護層の外側表面に表面硬化層を
形成する工程を設ける請求項１に記載の光情報記録体の
製造方法。