JPS62291730A - 光情報記録体の製造方法 - Google Patents

光情報記録体の製造方法

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JPS62291730A
JPS62291730A JP61134585A JP13458586A JPS62291730A JP S62291730 A JPS62291730 A JP S62291730A JP 61134585 A JP61134585 A JP 61134585A JP 13458586 A JP13458586 A JP 13458586A JP S62291730 A JPS62291730 A JP S62291730A
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Mitsuru Takita
多気田 満
Wataru Kuramochi
倉持 渉
Nobuhiko Sakai
酒井 順彦
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は記録されている情報を光学的に再生して読み取
る即ち光記録再生方式の光情報記録体に関するものであ
り、優れた耐久性すなわち記録の再生(読み取り)精度
が高くしかも長期間に亘って前記優れた再生精度を維持
すると共に、外観が良好で体裁の良い光情報記録体を提
供するものである。
〔従来の技術〕
光情報記録部を光学的に再生して読み取る光情報記録体
は、記録され得る情報密度が従来の磁気方式によるもの
や近年検討されているIC方式によるものと比較して飛
躍的に大きく、各種の情報記録カードやテープとして多
用され始めている。
ところで、前記光情報記録体は、表面に光情報記録層を
有するシートと別製のシートとを前記光情報記録層を介
して接着剤で接着、積層した構成、すなわち、合成樹脂
層−光情報記録層−合成樹脂層からなる積層体が極く一
般的な構成である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
然して、前記合成樹脂層−光情報記録層−合成樹脂層か
らなる光情報記録体における光情報記録層は、一般に、
テルルやビスマス等の低融点金属の薄膜にレーザービー
ム等を照射し、前記薄膜の所定部所のみに変化を生じさ
せる(情報の記録を行なう)ことによって形成されてい
るものである。
従って、前述の光情報記録体においては、該記録体の四
周端面に前記情報記録されている金属の薄膜からなる光
情報記録層の端面が露出しており、これが光情報記録体
の使用中に空気や水と接触して前記光情報記録層に錆び
や腐蝕を発生させることとなり、読み取シ精度を低下さ
せる要因となる。特に情報密度を高くし得ることが光情
報記録体の利点とされているが、高密度記録の読み取り
に対しては厳密な再生操作が要求されるものであるため
、前記光情報記録層に発生する錆びや腐蝕は、正確な再
生(読み取り)を行ない得なくなるという致命的な欠点
となるものである。また、更に、前記情報記録されてい
る金属の薄膜からなる光情報記録層の端面が露出してい
る光情報記録体においては、該光情報記録層の端面が違
物感を与えるものであるため、体裁が悪く、外観を不良
ならしめるものでもある。
これに対して本発明は、記録の再生精度の低下が無く、
しかも外観が良好で体裁の良い光情報記録体を提供し得
たものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の光情報記録体は、保護層と、裏面層と、前記保
護層と裏面層との間に形成されている光情報記録層とか
らなる積層構成を具備するものであり、かつ、前記光情
報記録層の四周端面が前記保護層と裏面層との各四周端
面よりも内方に後退した位置とされているものである。
すなわち、本発明の光情報記録体における光情報記録層
は、その平面形状が保護層や裏面層の平面形状に対して
アイランド(island )形状とされているもので
ある。
第1図に示される光情報記録体1は本発明の光情報記録
体の代表的な構成であり、ポリカーボネート樹脂シート
からなる保護層2と、前記ポリカーボネート樹脂シート
からなる保護層2の裏面に形成されている光反射性金属
薄膜からなる光情報記録層3と、前記光情報記録層3を
被覆するようにして前記ポリカーボネート樹脂シート2
の裏面に積層されているポリ塩化ビニル樹脂層による裏
面層4とからなる積層体であり、光反射性金属薄膜から
なる光情報記録層3の端面5が前記保護層2の端面6や
裏面層4の端面7よりも内方に後退した位置とされてい
るもので、第2図における平面図に示されるように、光
情報記録層3の平面形状が保護層2と裏面層4との各平
面形状に対してアイランド(island)形状とされ
ているものである。尚、前記積層体からなる光情報記録
体1において、符号8で表示される部分は前記光情報記
録層3を構成している光反射性金属薄膜に形成されてい
る貫通孔であシ、該貫通孔8.8の集合体が光情報パタ
ーン部を構成しているものである。
また、同じく符号9で表示される部分は必要シて応じて
前記ポリカーボネート樹脂シートからなる保護層2の裏
面に付されている図柄、模様。
文字等の印刷層である。
前記構成からなる本発明の光情報記録体においては、前
記保護層4や裏面層5の外側表面に、更に、硬化性樹脂
や金属酸化物等による表面硬化層が形成されていても良
いことは勿論である。
以下、本発明の光情報記録体における各層の具体的な構
成及び機能等について説明する。
保護層と裏面層 保護層と裏面層とは両者の間に存在する光情報記録層を
担持し且つ保護するものであり、保護層と裏面層との区
別は明確ではなく、両者は便宜的に設けられた呼称上の
差だけのものであるが、少なくとも一方の層にはむらの
無い光透過性が要求されるので、保護層と裏面層とのう
ちの少なくとも一方の層が平滑表面を有する厚みむらの
無い透明層で構成されていることが要求される。従って
、他方の層は、顔料や充填剤等が適宜混合されている不
透明層であっても良い。また、これら保護層や裏面層に
は、光情報記録体の再生(読み増り)に支障が無い限り
において5図柄や文字等の印刷が付されていることが一
般的である。
前記保護層や裏面層は、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、セルロース系樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂
、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリメチルペンテ/樹脂
、ポリエーテルイミド樹脂、ポリ−チルケトン樹脂、ポ
リアミド樹脂等で構成される。
光情報記録層 光情報記録層は、前記保護層や裏面層を構成している合
成樹脂シート面に形成されている金属薄膜に、例えばレ
ーザービーム等を照射して所定箇所のみに変化を生じさ
せることによって光記録したものや、前記合成樹脂シー
ト面に形成されている光反射率の高い(高光反射性の)
金属薄膜に、凹部または貫通孔の集合体からなる光情報
パターン部を形成したもの等である。
前記凹部または貫通孔の集合体からなる光情報パターン
部が光反射性金属薄膜に形成されてなる光情報記録層は
、前記保護層や裏面層となる合成樹脂シート面に光反射
性金属薄膜をスパッタ、真空蒸着、イオンブレーティン
グ、電気メッキ等によって形成した後、得られた光反射
性金属薄膜の所定表面のみにフォトレジスト層を部分的
に形成し、次いでエツチング処理を施して前記フォトレ
ジスト層の無い部分(金属露出部分)の光反射性金属薄
膜全体もしくはその表面部分を腐蝕、除去し、必要に応
じて、残存しているフォトレジスト層を剥離、除去する
ことによって容易に得られるものである。
特に、凹部または貫通孔の集合体からなる光情報パター
ン部が光反射性金属薄膜に形成されてなる光情報記録層
を有する光情報記録体は、従来のこの稚の光情報記録体
、すなわち、低融点金属の薄膜にレーザービーム等を照
射して前記金属の薄膜の一部を変化させることによって
形成されている光情報記録層を有する光情報記録体と比
較して、光情報記録を行なう際のレーザービームの取り
扱いに必要な高度の技術が不要となり、光情報記録層の
形成が簡便となるばかりでなく、光記録の再生のための
レーザービーム照射も不要となり、読み取り操作が簡単
に行える等の特長を有するものである。
以下、凹部または貫通孔の集合体からなる光情報パター
ン部が光反射性金属薄膜に形成されてなる光情報記録層
を、フォトエツチング法により得る場合について詳述す
る。
光反射性金属薄膜 光反射性金属薄膜の材質は、 (り  光反射性の優れた金属、例えばAN 、 Ni
 。
Cr 、 Ag 、 Auなどあるいはこれらを主体と
する合金が第1に挙げられる。このグループに属する金
属もしくは合金を使用すると、得られる光情報記録層に
おける光情報パターン部と非パターン部との光学的コン
トラストが高く、読み出しが容易である。
(2)  低融点金属であるTe、 Zn、 Pb、 
Cd、 Bi。
Sn 、 Se’、 In 、 Ga 、 Rhなどの
金属もしくはこれらを主成分とする合金も使用でき、好
ましい合金の例としては、Te −5e 、 Te −
5e−Pb 。
Te −Pb 、 Te −Sn −S 、 Su −
Cu 、 Te −Cu −pbなどが挙げられるし、
更に5〜40原子数%のCuを含むTe−Cu合金ある
いは5〜40原子数%のCuおよびCuに対して1〜5
0原子数%のPbを含むTe −Cu −Pb合金は、
読み出し用のレーザービームの波長を650 nm以上
とする場合に光情報記録層における光情報パターン部と
非パターン部との光学的コントラストが高く、読み出し
が容易である。
(3)  レーザービーム等の照射により相転移を生じ
て光の反射率が変化する金属、例えばTe酸化物、Sb
酸化物、 Mo酸化物、 Ge酸化物。
■酸化物、 Sn酸化物、あるいはTe酸化物−Ge 
、 Te−3nなどの化合物も使用できる。
(4)上記金属と有機化合物または無機酸化物との複合
物、たとえばTe  CH4、Te  CS21Te−
スチレンr Sn  SO2* GeS  Sn r 
5nS−5などの薄膜あるいはSiO2/Ti/5iC
h/AI! すどの多層膜も光反射性金属薄膜として用
いられうる。
(5)  光磁気記録材料であるGdCo 、 TbC
o 、 GdFe。
DyFe 、 GdTbFe 、 GdFeB1 、 
TbDyFe 、 MnCuB1なども光反射性金属薄
膜として用いられうる。
(6)以上に示したような金属もしくは合金の多層膜、
例えばIn膜とTe膜との多層膜等も光反射性金属薄膜
として使用できる。
尚、以上の各種金属や合金による金属薄膜のうちでは、
光反射性と耐久性との観点から。
Al 、 Cr 、 Ni 、 Ag 、もしくはAu
が好ましいものである。
光反射性金属薄膜は、前述の如き金属もしくは合金を使
用し、蒸着、スパッタリング、CVD、イオンブレーテ
ィング、もしくは分子線エビタキンー、めっき等の手段
により、通常、200′A〜I O,000人、より好
ましくは1,000 A〜5.000λ程度に形成され
るものである。
光情報パターン部 フォトエツチング法による光情報パターン部の形成 l)フォトレジスト層の形成 前述の光反射性金属薄膜の上に該薄膜がフォトエツチン
グを受けることがない部分となるフォトレジスト層を部
分的に形成するものである。
フォトレジスト層を部分的に形成する手段は、露光によ
って不溶性から溶解性へと変化する物質、または溶解性
から不溶解性へと変化する物質によるフォトレジスト層
を前記光反射性金属薄膜の全面に形成し、前者の場合に
は光情報パターン部に相当する部分を露光して光情報パ
ターン部に相当する部分のフォトレジスト層を溶解性と
なすものであり、後者の場合には非光情報パターン部を
露光して非光情報パターン部に相当する部分のフォトレ
ジスト層を不溶性となすものである。
前記フォトレジスト層は、例えば■ジアゾニウム塩もし
くはアジド化合物を含む光分解型感光性樹脂、■シンナ
モイル系、ジアゾ系。
アジド系、もしくはアクリロイル系などの光架橋型感光
性樹脂、■アクリル酸エステル。
アクリルアミドなどの光架橋型感光性樹脂等をはじめ、
卵白、カゼイン、グリユー、PVA。
シェラツクなどの重クロム酸感光液などにより、例えば
、かけ流し法、ホイーラー法、スピンナー法、浸漬法、
ローラーコート法、スプレィ法、静電スプレィ法など、
又はドライフィルムの場合には加熱圧着法で、通常、0
.5〜5.0μm程度に形成されるものである。
尚、前述の露光を部分的に受ける層には、プリベーキン
グと称される加熱が予め行われるのが普通である。
2)エツチング 前記光反射性金属薄膜上に形成されているフォトレジス
ト層に光情報パターン部(または非光情報パターン部)
に相当する部分を露光し、次いで現像して溶解性部分だ
けを除去してレジストパターン層となし、更に腐蝕液を
用いてフォトレジスト層で被覆されていない部分(金属
薄膜の露出部分)を腐蝕し、凹部もしくは貫通孔の集合
体からなる光情報パターン部を前記光反射性金属薄膜に
形成するものである。
尚、前記フォトレジスト層の光情報パターン部(または
非光情報パターン部)に相当する部分への露光は、写真
フィルム、金属マスク等のパターンを介して紫外線等を
照射することKより行なうのが簡便である。この他、金
属マスクを介して電子線を照射する方法によって行なっ
てもよいし、あるいは、パターンを使わず電子線をパタ
ーン状に走査して露光を行なってもよい。
現象は露光を受けることによって溶解不可能から溶解可
能へと変質した部分、または露光を受けることによって
溶解可能から溶解不可能へと変質した部分以外の部分の
フォトレジスト層を溶剤で溶解、除去することであり、
所定の現像液(溶剤)を使用して実施される。
この現像により、エツチングすべき部分の光反射性金属
薄膜の上部のフォトレジスト層がパターン状に除去され
て部分的に金属薄膜の露出部分が形成されるものである
尚、前記エツチング工程後、すなわち光情報パターン部
の形成後、残存しているフォトレジスト層を必要に応じ
て除去することは勿論である。
前記構成からなるフォトエツチング法によって得られた
光情報パターン部は、光反射性金属薄膜の表面に形成さ
れている凹部や該薄膜を貫通する貫通孔の集合体から成
っており、この四部もしくは貫通孔の平面形状は、円、
だ円、長方形、正方形等であシ、それらの直径もしくは
長辺の長さは通常2〜200μm程度で、隣接する各凹
部もしくは貫通孔の中心間距離は通常5〜500μm程
度である。
尚、前記光情報記録層は、光学的濃度の高いインキを用
いて印刷法もしくは塗布法により、あるいは無反射クロ
ムを蒸着する等して形成される光学的低反射層と、前記
光情報パターン部が形成されている光反射性金属薄膜と
の2層構成とすることも可能である。
本発明の光情報記録体は、該記録体における光情報記録
層の平面形状がアイランドフオーム(island f
orm)、すなわち、光情報記録層の四周端面が保護層
と裏面層との端面と接することがなく、保護層や裏面層
の各四周端面より内方へ後退した状態とされているもの
で、光情報記録層の端面が外気と接触することのない構
造とされているものである。前記平面形状がアイランド
フオームをなす光情報記録層の構成は、核層を形成する
ための光反射性金属の薄膜に光情報パターン部ヲフォト
エソチング法によって形成する工程で、前記光情報パタ
ーン部の形成手段と同一手段にて、前記金属の薄膜の四
周端辺部を所定幅に沿ってエツチング処理したり、ちる
いは、該層を形成するだめの光反射性金属の薄膜を形成
する際に、得られる前記光反射性金属の薄膜の四周端面
が、この金属の薄膜が形成される合成樹、脂ンート(即
ち本発明の光情報記録体における保護層または裏面層と
なる合成樹脂シート)の四周端面より、所定幅だけ内方
に後退するように制御する等によって容易に形成される
ものである。尚、前記光情報記録層の四周端面から保護
層や裏面層の四周端面までは、通常0.5 mm以上に
形成されていれば本発明の目的が十分に達成されるもの
である。
また、光情報記録体は記録密度の高い記録体となし得る
ことが特性であるが、高密度記録体の読み取りは読み項
(再生)光の走査を厳密に行わなければならないという
宿命を有している。
かかる観点において、光情報記録体における光情報記録
層を前記フォトエツチング法を利用して形成する際に、
予め光反射性金属薄膜の一部に打ち抜きもしくは裁断の
ためのマークを付して置き、このマークを基準にして光
情報パターン部の形成や光反射性金属薄膜の打ち抜きや
裁断を行なうよう鈍すれば、光情報パターンの記録位置
が一定の光情報記録体となるので、読み取り(再生)光
の精度の良好な光情報記録体となる。
表面硬化層 本発明の光情報記録体において必要に応じて形成されて
いる表面硬化層は、前記光情報記録体の表面硬度を高め
、該記録体の耐久性、記録(書き込み)精度、再生(読
み取り)精度等を向上させる作用を果すものである。
表面硬化層は該層に接する保護層や裏面層の物性を低下
させることの無い物質及び形成条件にて形成されるもの
であシ、例えば、シリコーン系、アクリル系、メラミン
系、ポリウレタン系、エポキシ系等の硬化樹脂、A2□
o3や5io2等の金属酸化物、もしくはプラズマ重合
による重合膜が表面硬化層の具体的材質として挙げられ
る。一般に硬化した膜は傷つきに<<、従って傷の部分
に汚れが詰まることがなく、又、化学的に不活性である
ので表面に汚れが付着しにくく、付着しても除去が容易
である等の作用を奏するものである。
〔実施例〕
以下1本発明の光情報記録体の具体的な構成を製造実施
例を以って説明する。
実施例1 透明なポリカーボネート樹脂フィルム(厚す400μm
)の表面をまずフレオン洗浄し、続いて80℃の温度で
30分間熱処理して前処理した後、フィルムの片面にア
ルミニウムを真空蒸着して厚さ0.3μmのアルミニウ
ム層を形成した。
次いでアルミニウム層の表面に7オトレジスト(富士ハ
ントエレクトロニクステクノロジー社製、WAYCOA
T■HPR204)をロールコータ−にて乾燥時厚みが
18mになるように塗布し、100℃の温度で20分間
ブリベーキングして感光性層(フォトレジスト層)を形
成した。
更に、電子線描画装置によって情報を書き込んだ露光用
マスクを、前記感光性層の四周端面から内方へ1mmの
間隔を残して、前記感光性1層に密着させ、マスク上よ
り紫外線照射を行なうことにより、前記感光性層にパタ
ーン部及び四周端面から内方へllTlTlの幅の帯状
部を露光した。
露光後、現像液(富士ハントエレクトロニクステクノロ
ジー社製、LSI現像i)に浸漬して露光部のフォトレ
ジストを溶解除去し、次いで、100℃の温度で20分
間ポストベーキングし、更に、腐食液(リン酸16部、
酢酸2部。
硝酸1部、および水1部からなる。いずれも部は容量部
を示す)に3分間浸漬し、露光部のアルミニウム層を腐
食、除去し、光情報パターン部を前記アルミニウム層た
る光反射性金属薄膜に形成した。
他方、白色硬質ポリ塩化ビニル樹脂フィルムを所定の寸
法に裁断して銀行カードの形状とし、表面側に所望の印
刷を施し、裏面側には磁気ストライプ層を転写法によシ
設けた樹脂フィルムを形成した。
次いで、前述の光反射性金属薄膜を有するポリカーボネ
ート樹脂フィルムと白色硬質ポリ塩化ビニル樹脂フィル
ムとを、光反射性金属薄膜面と磁気ストライプ層面とが
対向するようにして、アクリル樹脂系感熱接着剤を介し
て貼り合わせ、更に、表面温度110℃の熱ロールを用
いて圧着し、光記録カードからなる光情報記録体を得た
実施例2 厚み400μmのポリカーボネートフィルムの表面に下
引き処理剤〔(信越化学製)プライマーPC−4))を
グラビア法にて塗布し、次にその上にンリコーン系表面
硬化剤〔(信越化学製)X−12−2150囚とX−1
2−2150fB)のlO対対温混合物をグラビア法に
て塗布し、100℃で30分間加熱して表面硬化層を形
成した。
上記のポリカーボネートフィルムの裏面に下引き処理剤
〔(大日本インキ化学製)タフコー)Nal 50 )
をグラビア法にて塗布し、100℃で5分間乾燥し、次
いでその上に真空蒸着法によりI X 10 ’ Lo
rrの条件でアルミニウム蒸着を行った。更に上記のア
ルミニウム蒸着面にフォトレジスト(シブレイ類、マイ
クロボシソ) 1300−27 )をグラビア法にて塗
布し、90℃で25分間加熱処理した。アルミニウムの
膜厚は0.3μm、フォトレジストの膜厚は1.0μm
である。
次いで、前記フォトレジストの塗布面に、ドツト1個の
大きさがたて15μm、よこ5μm。
同列におけるドツトピッチ15μm、列間ピッチ20μ
mの前記ドツト部が光透過性とされているフォトマスク
を、前記フォトレジストの塗布面の四周端面から内方へ
1mの幅の帯状部を残して密着させ、フォトマスク側か
ら超高圧水銀灯(3KW 、距離1m)で5秒間露光し
た。
尚、前記使用したフォトマスクは、ガラス板上にスパッ
タリング法で膜厚3000人のC「の薄膜を形成した後
、フォトレジスト(シブレイ製゛マイクロポジット13
00−27)をスピンナーで塗布、乾燥し、その表面に
、位置制御したXYステージ上でHe −Cdレーザー
をビーム径2μmに絞って照射し、たて15μm、よこ
5μmのドツトが、同列間におけるピッチ15μm1列
間ピッチ20μmで配列されてなるドツト群を形成し1
次いで、レジスト現像液(シブレイ類)で処理し、更に
130℃、25分間の加熱処理、塩化第二鉄液によるエ
ツチング処理を施すことKよって得られたもので、ドツ
ト部が光透過性とされているものである。
次いで、前記パターン露光されたポリカーボネートフィ
ルム上のフォトレジスト層をレジスト現像液(シブレイ
類)に60秒間浸漬、水洗した後、下記組成のアルミニ
ウムエツチング液に90秒間浸漬し、その後、水洗、乾
燥してアルミニウム薄膜に光情報パターン部を形成した
アルミニウムエツチング液の組成 リン酸 1級(85%)     16容量部酢 酸 
1級         2容量部硝 酸 1級    
   l容量部 純 水            1容量部他方、表裏両
面に文字及び図案のパターンをスクリーン印刷法にて印
刷した厚さ150μm11の白色硬質ポリ塩化ビニルフ
ィルムと、片側表面の一部に幅6.5 MIの磁気記録
層を形成した厚さ100μの透明硬質ポリ塩化ビニルフ
ィルムとを、前記磁気記録層が外表面となるようにして
二枚のステンレス板間にはさみ、プレス機にて140℃
の温度で30分間の加熱、加圧し、裏面層用の積層ノー
トを得た。
更に、前記得られた裏面層用の積層/−トと、前記光情
報パターン部を有するアルミニウムの薄膜が積層されて
いるポリカーボネートフィルムとを、前記積層シートに
おけるスクリーン印刷面と前記ポリカーボネートフィル
ムに形成されているアルミニウム薄膜面とが対向するよ
うKして、両者の間にエポキン系樹脂(日本ベルノック
ス製ベルノックスMG150とベルキュアHY306の
10対4混合物)を介して重ね合わせ、ロールにより圧
着した。圧着後24時間放置し、更に打ち抜き金型によ
り打抜き、書き込みや読み取りに支障がない光カードか
らなる光情報記録体を得た。
実施例3 厚さ750μmの透明アクリルシートの表面に真空蒸着
法を用いてAffi膜(膜厚zoooR)を設け、さら
にその上層にフォトレジスト(シラブレー社製、マイク
ロポジット)をスピンナーで塗布したのち、90℃で2
5分間ベーキングし、膜厚1μmのフォトレジスト層を
形成した。
次いで情報パターンと同一形状のパターンが形成されて
いるフォトマスクを前記レジスト層に、該レジスト層の
四周端面から内方へ1mn+の幅の帯状部を残して密着
して重ね、超高圧水銀灯(3KW :距離80cm)で
10秒間露光した。
露光径、現像液(シラプレー社製:マイクロポジットデ
ベロッパー)に浸漬して露光部のフォトレジスト層を溶
解除去し、除去後、100℃で20分間ポストベーキン
グしたのち、更に、腐食液(リン酸16部、酢酸2部、
硝酸1部および水1部からなる。部:容量部)に3分間
浸漬し、露光部のアルミニウム層を腐食、除去して、光
情報パターン部を有する光反射性金属薄膜からなる光情
報記録層を得だ。
更に、前記透明アクリルシートの余白部に、スクリーン
印刷により印刷層を設け、さらにこれら金属薄膜と印刷
層とを被覆するようにして保護層を塗布、形成し、本発
明の1実施例品たる光情報記録体を得た。
尚、前記保護層は、白色顔料が分散されているアクリル
系紫外線硬化型樹脂からなるコーティング剤の塗布層に
紫外線を照射して形成したものである。
実施例4 厚さ100μmの透明ポリエステルフィルム(帝人製、
テトロンフィルムdタイプ)上に、族11用プライマー
としてアクリル樹脂(大日本インキ化学社製:タフコー
ト)をロールコート方式により塗布、乾燥し、その上に
真空蒸着法によりAQ膜(膜厚: 200λ)を形成し
た。更に前記Aρ模膜上、前記実施例3における光情報
記録層の形成手段と同一手段を施し、光情報パターン部
を有する光反射性金属薄膜からなる光情報記録層を形成
した。
次いで、前記光反射性金属薄膜の表面全面に透明アクリ
ル系紫外線硬化型樹脂(スリーボンド社製: tJVX
−HM196 )を塗布した後、紫外線を照射、硬化し
て、薄くかつフレキシブル性を有する本発明の1実施例
品たる光情報記録体を得た。
実施例5 厚さ14μのポリエーテルサルフォンフイルム(住友ベ
ークライト社製)上に蒸着用プライマーとしてアクリル
樹脂(大日本インキ化学社製:タフコート)をロールコ
ート方式により冷布、乾燥し、その上に真空蒸着法によ
りAl膜(膜厚:2ooA)を形成した。更に前記A2
膜上に、前記実施例3における光情報記録層の形成手段
と同一手段を施し、光情報パターン部を有する光反射性
金属薄膜からなる光情報記録層を形成した。
次いで、前記光反射性金属薄膜の表面全面に透明アクリ
ル系紫外線硬化型樹脂(スリーボンド社製: UVX−
HM196 )を塗布した後、紫外線を照射、硬化させ
、薄くかつフレキシブルタイプの本発明の1実施例品た
るテープ状の光情報記録体を得た。
〔発明の作用及び効果〕
本発明の光情報記録体は、保護層と、裏面層と、前記保
護層と裏面層との間に形成されている光情報記録層とか
らなる積層構成を具備するものであり、かつ、前記光情
報記録層の四周端面が前記保護層と裏面層との各卯周端
面よりも内方に後退した位置とされているものである。
すなわち、本発明の光情報記録体における光情報記録層
は、その平面形状が保護層や裏面層の平面形状に対して
アイランド(island)形状とされているもので光
情報記録層の端面が光情報記録体の端面に露出すること
のないものである。
従って、本発明の光情報記録体は該記録体における光情
報記録層に錆びや腐蝕が発生することが無いので、正確
な再生(読み取り)能を長期に亘って維持し得るという
作用、効果を奏するものである。
また、本発明の光情報記録体は、該記録体の端面に光情
報記録層の露出がないので外観の体裁が良好であシ、意
匠的観点からの作用、効果も有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光情報記録体の1実施例品を示す模型
断面図、第2図は第1図の光情報記録体の平面図である
。 1:光情報記録体、2:保護層、3.光情報記録層、4
.裏面層、5 光情報記録層4の端面、6゛保護2の端
面、7.裏面層4の端面、8:光情報記録層3に形成さ
れている貫通孔。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)保護層と、裏面層と、前記保護層と裏面層との間
    に形成されている光情報記録層とからなる積層構成を具
    備する光情報記録体において、前記光情報記録層の四周
    端面が前記保護層と裏面層とにおける各四周端面よりも
    内方に後退した位置とされており、光情報記録層の平面
    形状が保護層と裏面層との各平面形状に対してアイラン
    ド(island)形状とされていることを特徴とする
    光情報記録体。
  2. (2)保護層と、裏面層と、前記保護層と裏面層との間
    に形成されている光情報記録層とからなる積層構成を具
    備する光情報記録体が、前記保護層の外側面に表面硬化
    層を具備する特許請求の範囲第1項記載の光情報記録体
  3. (3)光情報記録層がフォトエッチング法により形成さ
    れている光情報パターン部を有する金属薄膜で構成され
    ている特許請求の範囲第1項または第2項記載の光情報
    記録体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6168325U (ja) * 1984-10-11 1986-05-10
JPS61115187A (ja) * 1984-11-09 1986-06-02 Tdk Corp 光記録カ−ド

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