JPH02186694A - 電子基板 - Google Patents
電子基板Info
- Publication number
- JPH02186694A JPH02186694A JP1004923A JP492389A JPH02186694A JP H02186694 A JPH02186694 A JP H02186694A JP 1004923 A JP1004923 A JP 1004923A JP 492389 A JP492389 A JP 492389A JP H02186694 A JPH02186694 A JP H02186694A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- ground
- electronic board
- power supply
- layers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 claims description 16
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 46
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 17
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 28
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 25
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002470 thermal conductor Substances 0.000 description 14
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 11
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 9
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
- H05K1/0203—Cooling of mounted components
- H05K1/0207—Cooling of mounted components using internal conductor planes parallel to the surface for thermal conduction, e.g. power planes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/46—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
- H01L23/467—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing gases, e.g. air
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5383—Multilayer substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5384—Conductive vias through the substrate with or without pins, e.g. buried coaxial conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/429—Plated through-holes specially for multilayer circuits, e.g. having connections to inner circuit layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4641—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards having integrally laminated metal sheets or special power cores
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
- H05K1/0203—Cooling of mounted components
- H05K1/0204—Cooling of mounted components using means for thermal conduction connection in the thickness direction of the substrate
- H05K1/0206—Cooling of mounted components using means for thermal conduction connection in the thickness direction of the substrate by printed thermal vias
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0206—Materials
- H05K2201/0209—Inorganic, non-metallic particles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0352—Differences between the conductors of different layers of a multilayer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/06—Thermal details
- H05K2201/062—Means for thermal insulation, e.g. for protection of parts
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/0929—Conductive planes
- H05K2201/09327—Special sequence of power, ground and signal layers in multilayer PCB
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/09581—Applying an insulating coating on the walls of holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/09654—Shape and layout details of conductors covering at least two types of conductors provided for in H05K2201/09218 - H05K2201/095
- H05K2201/0969—Apertured conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/09654—Shape and layout details of conductors covering at least two types of conductors provided for in H05K2201/09218 - H05K2201/095
- H05K2201/09718—Clearance holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09818—Shape or layout details not covered by a single group of H05K2201/09009 - H05K2201/09809
- H05K2201/09881—Coating only between conductors, i.e. flush with the conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10621—Components characterised by their electrical contacts
- H05K2201/10689—Leaded Integrated Circuit [IC] package, e.g. dual-in-line [DIL]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3447—Lead-in-hole components
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は放熱性にすぐれたコンパクトな構造をもつ電子
基板、その実装基板および電子基板の実装方法に関する
。
基板、その実装基板および電子基板の実装方法に関する
。
〔従来の技術〕
作動中の電子回路チップは黙殺発生するが、これを冷却
しないままにしておくと、電子回路の温度が上昇して、
ついには正常動作しなくなる。そこで、電子回路が正常
に動作するよう、チップを冷却する必要があるが、電子
回路チップは電子基板上に実装されて用いられるのが一
般的である。
しないままにしておくと、電子回路の温度が上昇して、
ついには正常動作しなくなる。そこで、電子回路が正常
に動作するよう、チップを冷却する必要があるが、電子
回路チップは電子基板上に実装されて用いられるのが一
般的である。
従来電子基板に実装された電子回路チップを冷却する方
法として、電子回路パッケージにフィンを取付け、この
フィンを空冷または水冷する方法の他、特開昭60−3
5598号公報、特開昭61−248500号公報に記
載のように、電子基板の外側に冷却板を取りつけること
によって、電子回路パッケージを冷却したり、特開昭6
2−198200号公報に記載のように、電子基板の裏
面又は内部に冷却液を封入した箱形形状のヒートパネル
を密着または挿入して冷却していた。
法として、電子回路パッケージにフィンを取付け、この
フィンを空冷または水冷する方法の他、特開昭60−3
5598号公報、特開昭61−248500号公報に記
載のように、電子基板の外側に冷却板を取りつけること
によって、電子回路パッケージを冷却したり、特開昭6
2−198200号公報に記載のように、電子基板の裏
面又は内部に冷却液を封入した箱形形状のヒートパネル
を密着または挿入して冷却していた。
上記従来技術は冷却設備に要するスペースとコストにつ
いての配慮がされておらず、電子回路チップを実装した
電子基板を高密度実装することが困難な上、−電子基板
当りのコストが高いという問題があった。
いての配慮がされておらず、電子回路チップを実装した
電子基板を高密度実装することが困難な上、−電子基板
当りのコストが高いという問題があった。
本発明の目的は、その上に実装している電子回路が正常
動作するに足る冷却能力を有しコンパクトな冷却設備を
備えた電子基板その実装基板およびそれを用いたシステ
ムを提供することにある。
動作するに足る冷却能力を有しコンパクトな冷却設備を
備えた電子基板その実装基板およびそれを用いたシステ
ムを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、クロストークによるノイズ
を低減することができる電子基板を提供することにある
。
を低減することができる電子基板を提供することにある
。
さらに、本発明の他の目的は温度、電源、グランド等の
動作環境が電子基板内で均質化された電子基板を提供す
ることにある。
動作環境が電子基板内で均質化された電子基板を提供す
ることにある。
本発明の電子基板は、配線層、グランド層、゛電源層が
それぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置されてい
る電子基板において、前記配線層は両側に前記グランド
層又は前記電源層が配置されている層を含めて複数層配
されている。
それぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置されてい
る電子基板において、前記配線層は両側に前記グランド
層又は前記電源層が配置されている層を含めて複数層配
されている。
また、本発明の電子基板は配線層、グランド層。
電源層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置
されている電子基板において、前記配線層を複数層有し
、前記電源層と前記グランド層の数の和は前記配線層の
数よりも多いことを構成をとる。
されている電子基板において、前記配線層を複数層有し
、前記電源層と前記グランド層の数の和は前記配線層の
数よりも多いことを構成をとる。
さらに、本発明の電子基板は配線層、グランド層、電源
層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置され
ている電子基板において、前記配線層を複数層有し、前
記電源層または前記グランド層を複数層有している。
層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置され
ている電子基板において、前記配線層を複数層有し、前
記電源層または前記グランド層を複数層有している。
さらに本発明の電子基板は、配線層、グランド層、電源
層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置され
ている電子基板において、前記グランド層又は前記電源
層の厚さは前記配線層の厚さよりも大きい構成にある。
層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置され
ている電子基板において、前記グランド層又は前記電源
層の厚さは前記配線層の厚さよりも大きい構成にある。
本発明の実装電子基板は、配線層、グランド層。
電源層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置
されている電子基板に電子回路チップの実装を行った実
装電子基板において、前記電子回路のチップの内部回路
と電気的に絶縁されているピンまたは使用しない入力ピ
ンを前記グランド層または前記電源層に接続している。
されている電子基板に電子回路チップの実装を行った実
装電子基板において、前記電子回路のチップの内部回路
と電気的に絶縁されているピンまたは使用しない入力ピ
ンを前記グランド層または前記電源層に接続している。
また、本発明の実装電子基板は、配線層、グランド層、
電源層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置
されている電子基板上に冷却用流体が流通させて電子基
板上の電子回路チップから発生する熱を冷却する実装電
子基板装置において、前記冷却用流体が流通する上流側
端部に複数のコネクターを間隔をもって配置し、前記コ
ネクターによって冷却用流体の流速が大きくなった部分
に高発熱のチップを配置している。
電源層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置
されている電子基板上に冷却用流体が流通させて電子基
板上の電子回路チップから発生する熱を冷却する実装電
子基板装置において、前記冷却用流体が流通する上流側
端部に複数のコネクターを間隔をもって配置し、前記コ
ネクターによって冷却用流体の流速が大きくなった部分
に高発熱のチップを配置している。
本発明の電子基板装置は、配線層、グランド層。
電源層がそれぞれの層の間に絶縁層を介して多層に配置
されている電子基板の電子基板装置において、前記電子
基板のグランド線、vIX源線、信号線をそれぞれマザ
ーボードの対応するグランド線。
されている電子基板の電子基板装置において、前記電子
基板のグランド線、vIX源線、信号線をそれぞれマザ
ーボードの対応するグランド線。
電源線、信号線と接続し、前記マザーボードの電源層と
電源板とを伝導板で接続し、前記マザーボードのグラン
ド層とグランド板とを伝導板で接続している。
電源板とを伝導板で接続し、前記マザーボードのグラン
ド層とグランド板とを伝導板で接続している。
本発明の電子基板中の配線層のうち絶縁層を介して隣接
する層にグランド層または電源層を配した配線層におい
ては、配線のインピーダンスを小さくできるので、平行
に走る配線間の静電結合によるクロストークによるノイ
ズを低減できる。この効果は、配線層とこれに絶縁層を
介して隣接するグランド層または電源層との距離が近い
ほどよく現れ、また、配線層の絶縁層を介した隣接層に
グランド層を配した時の方が、電源層を配した時よりも
効果的である。また、本発明の電子基板において、電源
層、グランド層を多層に設けたことにより、電源層、グ
ランド層そのもののインピーダンスをさらに小さくでき
、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、グラン
ド電位の変動を基板内で小さく抑えることができる。
する層にグランド層または電源層を配した配線層におい
ては、配線のインピーダンスを小さくできるので、平行
に走る配線間の静電結合によるクロストークによるノイ
ズを低減できる。この効果は、配線層とこれに絶縁層を
介して隣接するグランド層または電源層との距離が近い
ほどよく現れ、また、配線層の絶縁層を介した隣接層に
グランド層を配した時の方が、電源層を配した時よりも
効果的である。また、本発明の電子基板において、電源
層、グランド層を多層に設けたことにより、電源層、グ
ランド層そのもののインピーダンスをさらに小さくでき
、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、グラン
ド電位の変動を基板内で小さく抑えることができる。
本発明の電子基板、実装電子基板においては、ある発熱
チップからの熱は主にそのチップのピンのうち、グラン
ド層または電源層に熱抵抗が小さい方法で接続されてい
るピンを通じて、グランド層、電源層に伝わる。これら
の層は厚いか、または多層設けられているので熱伝導性
が良く基板全体に熱が伝わる。このうち電子基板表面に
伝わった熱は電子基板表面を流れる流体によって冷却さ
れる。このとき、電源層、グランド層を各1枚ずつにす
る場合に比べて、これらの層を複数に分けた場合の方が
基板表面に近い場所に、熱の良導体であるグランド層ま
たは電源層を多く配することができ、冷却に関して有利
である。また、本発明の電子基板装置ではグランド層に
伝わった熱は伝導板を通じて主にグランド板に流れる。
チップからの熱は主にそのチップのピンのうち、グラン
ド層または電源層に熱抵抗が小さい方法で接続されてい
るピンを通じて、グランド層、電源層に伝わる。これら
の層は厚いか、または多層設けられているので熱伝導性
が良く基板全体に熱が伝わる。このうち電子基板表面に
伝わった熱は電子基板表面を流れる流体によって冷却さ
れる。このとき、電源層、グランド層を各1枚ずつにす
る場合に比べて、これらの層を複数に分けた場合の方が
基板表面に近い場所に、熱の良導体であるグランド層ま
たは電源層を多く配することができ、冷却に関して有利
である。また、本発明の電子基板装置ではグランド層に
伝わった熱は伝導板を通じて主にグランド板に流れる。
電源層に伝わった熱は伝導板を通じて主に電源板に伝わ
る。
る。
このようにしてグランド板、電源板に伝わった熱は、そ
の表面で冷却される。
の表面で冷却される。
この時、グランド板、電源板の表面に冷却用流体を流し
たり、グランド板、電源板の表面に凹凸またはフィンを
つけ表面積を増せば、これら両板表面での冷却をより効
果的に行うことができる。
たり、グランド板、電源板の表面に凹凸またはフィンを
つけ表面積を増せば、これら両板表面での冷却をより効
果的に行うことができる。
さらに、この装置では、電源ユニットは電源板。
グランド板に接続されており、マザーボードへの電源供
給は、これら両板を介して行われ、電源板。
給は、これら両板を介して行われ、電源板。
グランド板上で装置全体の基準となる電源電位。
グランド電位を安定させることができるので、マザーボ
ード、ドーターボード上の電源電位、グランド電位を安
定させることができる。
ード、ドーターボード上の電源電位、グランド電位を安
定させることができる。
また、本発明の実装電子基板においては発熱する電子回
路チップからの熱が、内層のグランド層。
路チップからの熱が、内層のグランド層。
電源層等の熱伝導性のよい層を伝わって基板全体に広が
る上、高発熱チップは冷却用流体の流速を速めた場所、
乱れを発生させた場所に配し、他の低発熱チップに比べ
、より効果的に冷却しているため、基板の温度を均一化
することができる。
る上、高発熱チップは冷却用流体の流速を速めた場所、
乱れを発生させた場所に配し、他の低発熱チップに比べ
、より効果的に冷却しているため、基板の温度を均一化
することができる。
本発明の電子基板の実装方法によれば、電子基板を予め
加熱しておき、グランド層、電源層の熱伝導性の良い層
の温度を高めて、ハンダ融点との温度差を小さくした状
態でハンダ付けを行うと、電源層、グランド層すなわち
熱伝導性の良い層へ熱が逃げにくくなり良好にハンダ付
けを行うことができる。
加熱しておき、グランド層、電源層の熱伝導性の良い層
の温度を高めて、ハンダ融点との温度差を小さくした状
態でハンダ付けを行うと、電源層、グランド層すなわち
熱伝導性の良い層へ熱が逃げにくくなり良好にハンダ付
けを行うことができる。
また、絶縁層を熱の良導体で構成すれば、発熱チップか
ら本発明の電子基板、実装電子基板表面に伝わる熱量は
増し、伝導板を通じてグランド板。
ら本発明の電子基板、実装電子基板表面に伝わる熱量は
増し、伝導板を通じてグランド板。
電源板に伝わる熱量も増すので、発熱チップの冷却によ
り効果的である。
り効果的である。
以下、本発明の第1の実施例を第1図により説明する。
第1実施例の電子基板は配線層1,4、グランド層2、
電源層3、絶縁層5から成っており、スルーホール6は
グランド層2に、スルーホール7は配線層1,4に、ス
ルーホール8は電源層3にそれぞれ接続されている。グ
ランド層2および電源層3は電気抵抗が小さくかつ熱伝
導率のよい物質、例えば銅で構成されており、電子基板
−面に広がっている。また、スルーホールによる切欠穴
、スルーホールからの逃げ穴等の切欠部はコストとのか
ね合いを図りなからなるべく小さくし、導体面積を大き
くしている。また、電子回路チップ12からグランドピ
ン9、信号ピン1o、電源ピン11が出ており、グラン
ドピン9はスルーホール6に、信号ピン10はスルーホ
ール7に、電源ピン11はスルーホール8に熱抵抗が小
さくなる方法で接続されている。
電源層3、絶縁層5から成っており、スルーホール6は
グランド層2に、スルーホール7は配線層1,4に、ス
ルーホール8は電源層3にそれぞれ接続されている。グ
ランド層2および電源層3は電気抵抗が小さくかつ熱伝
導率のよい物質、例えば銅で構成されており、電子基板
−面に広がっている。また、スルーホールによる切欠穴
、スルーホールからの逃げ穴等の切欠部はコストとのか
ね合いを図りなからなるべく小さくし、導体面積を大き
くしている。また、電子回路チップ12からグランドピ
ン9、信号ピン1o、電源ピン11が出ており、グラン
ドピン9はスルーホール6に、信号ピン10はスルーホ
ール7に、電源ピン11はスルーホール8に熱抵抗が小
さくなる方法で接続されている。
以上のような電子基板において、電子回路チップ12か
ら発する熱は次のようにして運ばれ、電子回路チップ1
2は冷却される。電子回路チップ12で発生した熱は一
方でグランドピン9を伝わつてグランド層2に運ばれ、
他方で電源ピン1]を伝わって電源層3に運ばれる。グ
ランド層2および電源層3は電気抵抗が小さくかつ熱伝
導率の良い物質で構成されているので、これらの層に伝
わった熱は内層であるこれらの層を伝わって、主に次の
3つの方法で冷却される。
ら発する熱は次のようにして運ばれ、電子回路チップ1
2は冷却される。電子回路チップ12で発生した熱は一
方でグランドピン9を伝わつてグランド層2に運ばれ、
他方で電源ピン1]を伝わって電源層3に運ばれる。グ
ランド層2および電源層3は電気抵抗が小さくかつ熱伝
導率の良い物質で構成されているので、これらの層に伝
わった熱は内層であるこれらの層を伝わって、主に次の
3つの方法で冷却される。
1つは、グランド層2および電源層3の先に設けられた
冷却部で冷却され、2っめは電子基板の表面へと伝わっ
て表面でそこを流れる流体によって冷却される。
冷却部で冷却され、2っめは電子基板の表面へと伝わっ
て表面でそこを流れる流体によって冷却される。
3つめは、この内層グランド層、電源層よりも温度の低
い低発熱チップのグランドピン、電源ピンを伝わって低
発熱チップ表面へと伝わり、ピンおよびチップ表面でそ
こを流れる流体によって冷却される。
い低発熱チップのグランドピン、電源ピンを伝わって低
発熱チップ表面へと伝わり、ピンおよびチップ表面でそ
こを流れる流体によって冷却される。
このとき、チップ実装時のピンおよびチップの表面積は
、非実装時の基板表面積より大きくなるので伝熱面積が
広がり冷却に有利である。
、非実装時の基板表面積より大きくなるので伝熱面積が
広がり冷却に有利である。
この他、内層を経由せずに発熱チップから該チップ表面
へと伝わり、チップ表面で冷却される熱、および該チッ
プのピン表面に伝わりそこで冷却される熱がある。
へと伝わり、チップ表面で冷却される熱、および該チッ
プのピン表面に伝わりそこで冷却される熱がある。
さらに、各表面からの輻射、対流によって冷却される効
果もある。このような方法によって電子回路チップ12
を冷却することができる。
果もある。このような方法によって電子回路チップ12
を冷却することができる。
以上のようにすれば、グランド電位を電子回路チップ1
2に供給する機能をもつグランド層2に電子回路チップ
12から発生する熱を伝導するという機能を付加するこ
とができ、電源電位を電子回路チップ12に供給する機
能をもつ電源層3に電子回路チップ12から発生する熱
を伝導するという機能を付加することができる。つまり
、本提案の電子基板においてはグランド層2.電源層3
に各電位供給と熱の伝導という2つの機能をもたせてい
る上、これら各層は基板内にあり基板の外側に附属設偉
をっけないため、従来技術より低コストで、よりコンパ
クトなチップ中の電子回路を正常動作させるに十分な冷
却機能をもった電子基板を得ることができる。また、第
1図では、グランド層を2、電源層を3としたが、電源
層を2、グランド層を3としても、所定のピンを所定の
層につなぎかえれば同等の効果が得られる。
2に供給する機能をもつグランド層2に電子回路チップ
12から発生する熱を伝導するという機能を付加するこ
とができ、電源電位を電子回路チップ12に供給する機
能をもつ電源層3に電子回路チップ12から発生する熱
を伝導するという機能を付加することができる。つまり
、本提案の電子基板においてはグランド層2.電源層3
に各電位供給と熱の伝導という2つの機能をもたせてい
る上、これら各層は基板内にあり基板の外側に附属設偉
をっけないため、従来技術より低コストで、よりコンパ
クトなチップ中の電子回路を正常動作させるに十分な冷
却機能をもった電子基板を得ることができる。また、第
1図では、グランド層を2、電源層を3としたが、電源
層を2、グランド層を3としても、所定のピンを所定の
層につなぎかえれば同等の効果が得られる。
また、本実施例では、グランド層、電源層を一層ずつと
したが、これら各層の層数を増せば、これら各層を伝わ
ることのできる熱量は、各層−層ずつの場合に比べ増し
、冷却により効果的である。
したが、これら各層の層数を増せば、これら各層を伝わ
ることのできる熱量は、各層−層ずつの場合に比べ増し
、冷却により効果的である。
また、電源層、グランド層数を各−層ずつの場合より増
すことにより、電源層、グランド層そのもののインピー
ダンスを小さくすることができ、高周波成分を多く含む
動作に対する電源電位、グランド電位の変動を基板内で
小さく抑えることができる。
すことにより、電源層、グランド層そのもののインピー
ダンスを小さくすることができ、高周波成分を多く含む
動作に対する電源電位、グランド電位の変動を基板内で
小さく抑えることができる。
また、グランド層、電源層を通ることのできる熱量を増
すためには、これら各層の厚みを増すことも効果的であ
る。例えば、グランド層、電源層の厚みを50〜70μ
m程度にすることは通常の工程に特別な工程を加えるこ
となく行うことができて、これにより冷却効果を得るこ
とができる。
すためには、これら各層の厚みを増すことも効果的であ
る。例えば、グランド層、電源層の厚みを50〜70μ
m程度にすることは通常の工程に特別な工程を加えるこ
となく行うことができて、これにより冷却効果を得るこ
とができる。
第2図は本発明の第2の実施例を示している。
第2実施例の電子基板は本発明の電子基板を8層で構成
した例であり、配線層13,15,18゜20、グラン
ド層14,19、電源層16.17、絶縁層500から
成っている。また、配線21゜22は配線層13上の配
線である。配線層13側が部品面側であり、配線層20
側が半田面側であって電子回路チップおよびこのチップ
から出ているグランドピン、電源ピン、信号ピンは第2
図には示していないが、第1図同様、各ピンとも該光層
に熱抵抗が小さくなる方法で接続されている。
した例であり、配線層13,15,18゜20、グラン
ド層14,19、電源層16.17、絶縁層500から
成っている。また、配線21゜22は配線層13上の配
線である。配線層13側が部品面側であり、配線層20
側が半田面側であって電子回路チップおよびこのチップ
から出ているグランドピン、電源ピン、信号ピンは第2
図には示していないが、第1図同様、各ピンとも該光層
に熱抵抗が小さくなる方法で接続されている。
以上のような電子基板においては、第1実施例と同様に
して、電子回路チップを冷却できる上、次のような動作
が可能である。
して、電子回路チップを冷却できる上、次のような動作
が可能である。
一般に、配線層上である区間を平行に走る配線はその間
で静電結合を結成し、クロストークによるノイズを生じ
る心配があるが、第2図に示す如く、配線層の絶縁層を
介した隣りにグランド層または電源層を配し、電線層と
絶縁物を介して隣接するグランド層または電源層との距
離を小さくすれば、配線層における配線のインピーダン
スを小さくできるので、平行な配線間の静電結合による
クロストークによるノイズを低減することができる。こ
の効果は、配線層の絶縁層を介した隣りにグランド層を
配した時の方が、電源層を配した時より効果的で、クロ
ストークによるノイズをより低減することができる。ま
た、配線層13上を平行に走る配線間の距離のうち最小
のものをQl、配線層13とグランド層14の表面間距
離をdlとし、配線層20上を平行に走る配線間の距離
のうち最小のものを122、配線層20とグランド層1
9の表面間距離をd2.とじた時、Q 1> d t
rUn>dxとすればより効果的に配線層13.20上
の配線に生じるクロストークによるノイズを低減できる
。
で静電結合を結成し、クロストークによるノイズを生じ
る心配があるが、第2図に示す如く、配線層の絶縁層を
介した隣りにグランド層または電源層を配し、電線層と
絶縁物を介して隣接するグランド層または電源層との距
離を小さくすれば、配線層における配線のインピーダン
スを小さくできるので、平行な配線間の静電結合による
クロストークによるノイズを低減することができる。こ
の効果は、配線層の絶縁層を介した隣りにグランド層を
配した時の方が、電源層を配した時より効果的で、クロ
ストークによるノイズをより低減することができる。ま
た、配線層13上を平行に走る配線間の距離のうち最小
のものをQl、配線層13とグランド層14の表面間距
離をdlとし、配線層20上を平行に走る配線間の距離
のうち最小のものを122、配線層20とグランド層1
9の表面間距離をd2.とじた時、Q 1> d t
rUn>dxとすればより効果的に配線層13.20上
の配線に生じるクロストークによるノイズを低減できる
。
また、本実施例の電子基板においては、電源層。
グランド層を多層に設けたことにより、電源層。
グランド層そのもののインピーダンスを小さくできるの
で、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、グラ
ンド電位の変動を基板内で小さく抑えることができる。
で、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、グラ
ンド電位の変動を基板内で小さく抑えることができる。
さらに、本実施例の電子基板においては、電子回路チッ
プからの熱が、内層のグランド層、電源層を伝わって基
板全体に広がるため、基板の温度を均一化することがで
きる。
プからの熱が、内層のグランド層、電源層を伝わって基
板全体に広がるため、基板の温度を均一化することがで
きる。
本実施例の基板においては、上記2つの効果を同時に実
現できるため、基板内でグランド電位。
現できるため、基板内でグランド電位。
電源電位の変動を小さく抑えつつ、電源電位、グランド
電位、温度を基板内で均一化できるので、遅延管理等が
行いやすくなり、キメ細かなタイミング設計が可能にな
る。
電位、温度を基板内で均一化できるので、遅延管理等が
行いやすくなり、キメ細かなタイミング設計が可能にな
る。
以上のように、第2実施例においては、第1実施例同様
、従来技術による方法より低コストでかつ冷却設備に要
するスペースをより小さくして電子基板上の電子回路チ
ップを冷却できる上、配線に生じるクロストークによる
ノイズを低減でき、高周波成分を多く含む動作に対する
電源電位、グランド電位の変動を基板内で小さく抑える
ことができ、基板の温度を均一化できる8層基板を得る
ことができる。
、従来技術による方法より低コストでかつ冷却設備に要
するスペースをより小さくして電子基板上の電子回路チ
ップを冷却できる上、配線に生じるクロストークによる
ノイズを低減でき、高周波成分を多く含む動作に対する
電源電位、グランド電位の変動を基板内で小さく抑える
ことができ、基板の温度を均一化できる8層基板を得る
ことができる。
第2実施例で述べたクロストークによるノイズを低減す
る効果は第1実施例においても設められ、第1図におい
て特に配線層lと、グランド層2の距離、配線層4と電
源層3の距離を小さくすると効果的で、さらに配線層1
とグランド層2との表面間距離を配線層1上を平行に走
る配線間の距離のうち最短なものより小さくし、配線層
4と電源層3との表面間距離を配線層4上を平行に走る
配線間の距離のうち最短なものより小さくすると、さら
に効果的にクコストークによるノイズを低減できる。
る効果は第1実施例においても設められ、第1図におい
て特に配線層lと、グランド層2の距離、配線層4と電
源層3の距離を小さくすると効果的で、さらに配線層1
とグランド層2との表面間距離を配線層1上を平行に走
る配線間の距離のうち最短なものより小さくし、配線層
4と電源層3との表面間距離を配線層4上を平行に走る
配線間の距離のうち最短なものより小さくすると、さら
に効果的にクコストークによるノイズを低減できる。
また、基板の温度を均一化する効果は第1実施例におい
ても認められる。
ても認められる。
また、第2図に示したのは、本発明の電子基板を8層で
構成する場合の一例であって、配線層の絶縁層を介した
隣りには電源層またはグランド層を設けた構造になって
いれば、第2図とは層構成の順序が異っていても、本発
明の電子基板を構成したことになる。この時、第2図に
示した実施例同様、ある配線層に絶縁層を介して隣接す
るグランド層または電源層と該配線層の距離を小さくす
れば効果的にクロストークによるノイズを低減できる。
構成する場合の一例であって、配線層の絶縁層を介した
隣りには電源層またはグランド層を設けた構造になって
いれば、第2図とは層構成の順序が異っていても、本発
明の電子基板を構成したことになる。この時、第2図に
示した実施例同様、ある配線層に絶縁層を介して隣接す
るグランド層または電源層と該配線層の距離を小さくす
れば効果的にクロストークによるノイズを低減できる。
この効果は、隣接層がグランド層である時の方が、電源
層である時よりも大きい。また、ある配線層の平行配線
間の距離のうち最小なものをQ、該配線層に絶縁層を介
して隣接するグランド層又は電源層のうち、該配線層と
の距離が小さい方の層と該配線層との距離をdとした時
、ρ〉dとすれば、クロストークによるノイズの低減に
さらに効果的である。
層である時よりも大きい。また、ある配線層の平行配線
間の距離のうち最小なものをQ、該配線層に絶縁層を介
して隣接するグランド層又は電源層のうち、該配線層と
の距離が小さい方の層と該配線層との距離をdとした時
、ρ〉dとすれば、クロストークによるノイズの低減に
さらに効果的である。
本実施例では、配線層に絶縁層を介して隣接する層には
電源層またはグランド層を配することをすべての配線層
について行っているが、これは、本発明の効果を最大限
に利用する場合であって、クロストークのおそれのある
配線を有する配線層だけについて、それに絶縁層を介し
て隣接する層にグランド層または電源層を配し、その他
の配線層の配置は制限しないようにすることもできる。
電源層またはグランド層を配することをすべての配線層
について行っているが、これは、本発明の効果を最大限
に利用する場合であって、クロストークのおそれのある
配線を有する配線層だけについて、それに絶縁層を介し
て隣接する層にグランド層または電源層を配し、その他
の配線層の配置は制限しないようにすることもできる。
例えば、第2図において電源層17の代りに配線層を配
してもよい。この配線層と配線層18上の配線の耐クロ
ストーク性は第2図の場合より下がるが、クロストーク
のおそれのある信号ラインを両側をグランド層と電源層
でガードされている配線層15に配すればよいのであっ
て、このような層構成においても本発明の効果を得るこ
とができる。この手法を用いれば、配線層に絶縁層を介
して隣接する層には電源層またはグランド層を配するこ
とをすべての配線層について行う場合に比べて、同数の
配線層を有する基板を、より少ない層数の基板で実現で
きるためより低コストに製造できる。
してもよい。この配線層と配線層18上の配線の耐クロ
ストーク性は第2図の場合より下がるが、クロストーク
のおそれのある信号ラインを両側をグランド層と電源層
でガードされている配線層15に配すればよいのであっ
て、このような層構成においても本発明の効果を得るこ
とができる。この手法を用いれば、配線層に絶縁層を介
して隣接する層には電源層またはグランド層を配するこ
とをすべての配線層について行う場合に比べて、同数の
配線層を有する基板を、より少ない層数の基板で実現で
きるためより低コストに製造できる。
第3図は本発明の第3の実施例を示している。
第3図に示す電子基板は、本発明の電子基板を6層で構
成した例であり、配線層23.26.28、グランド層
24,27、電源層25、絶縁層501から構成されて
いる。また、配線層23側が部品面側であり、配線層2
8側が半田面側であって、電子回路チップおよびチップ
から出ているグランドピン、電源ピンおよび信号ピンは
第3図には示していないが、第1図同様、各ピンとも該
当層に伝熱抵抗が小さくなる方法で接続されている。
成した例であり、配線層23.26.28、グランド層
24,27、電源層25、絶縁層501から構成されて
いる。また、配線層23側が部品面側であり、配線層2
8側が半田面側であって、電子回路チップおよびチップ
から出ているグランドピン、電源ピンおよび信号ピンは
第3図には示していないが、第1図同様、各ピンとも該
当層に伝熱抵抗が小さくなる方法で接続されている。
以上のように構成すれば、第2実施例同様、従末技術に
よる方法より低コストでかつ冷却設備に要するスペース
をより小さくして電子基板上のチップを冷却できる上、
配線のクロストークによるノイズを低減でき高周波成分
を多く含む動作に対する電源電位、グランド電位の変動
を基板内で小さく抑えることができ、基板の温度を均一
化できる6層電子基板を得ることができる。
よる方法より低コストでかつ冷却設備に要するスペース
をより小さくして電子基板上のチップを冷却できる上、
配線のクロストークによるノイズを低減でき高周波成分
を多く含む動作に対する電源電位、グランド電位の変動
を基板内で小さく抑えることができ、基板の温度を均一
化できる6層電子基板を得ることができる。
但し、第3図に示した例は、本発明の電子基板を6層で
構成する場合の一実施例であって、線層の絶縁層を介し
た両隣りにグランド層または電源層を設けた配線層を少
なくとも1層有する構造になっていれば、第3図に示し
た層構成とは異なっていても本発明の電子基板を構成し
たことになる。
構成する場合の一実施例であって、線層の絶縁層を介し
た両隣りにグランド層または電源層を設けた配線層を少
なくとも1層有する構造になっていれば、第3図に示し
た層構成とは異なっていても本発明の電子基板を構成し
たことになる。
また、第2実施例の場合同様、ある配線層に絶縁層を介
して隣接するグランド層または電源層と該配線層の距離
を小さくすれば効果的にクロストークによるノイズを低
減できる。この効果は、隣接層がグランド層である時の
方が、電源層である時よりも大きい。また、ある配線層
の平行配線間の距離のうち最小なものをQ、該配線層に
絶縁層を介して隣接するグランド層又は電源層のうち、
該配線層との距離が小さい方の層と該配線層との距離を
dとした時、Ω〉dとすれば、クロストークによるノイ
ズの低減にさらに効果的である。
して隣接するグランド層または電源層と該配線層の距離
を小さくすれば効果的にクロストークによるノイズを低
減できる。この効果は、隣接層がグランド層である時の
方が、電源層である時よりも大きい。また、ある配線層
の平行配線間の距離のうち最小なものをQ、該配線層に
絶縁層を介して隣接するグランド層又は電源層のうち、
該配線層との距離が小さい方の層と該配線層との距離を
dとした時、Ω〉dとすれば、クロストークによるノイ
ズの低減にさらに効果的である。
第4図は、本発明の第4の実施例を示している。
第4図に示す電子基板は、本発明の電子基板を12層で
構成した例であり、配線層29,33゜38.40、グ
ランド層30,32,34,37゜39、電源層31,
35,36、絶縁層502から構成されている。また、
配線層29側が部品面側であり、配線層40側が半田面
側であって、電子回路チップおよびチップから出ている
グランドピン、電源ピン、信号ピンは第4図には示して
いないが、第1図同様、各ピンが該当層に熱抵抗が小さ
くなる方法で接続されている。
構成した例であり、配線層29,33゜38.40、グ
ランド層30,32,34,37゜39、電源層31,
35,36、絶縁層502から構成されている。また、
配線層29側が部品面側であり、配線層40側が半田面
側であって、電子回路チップおよびチップから出ている
グランドピン、電源ピン、信号ピンは第4図には示して
いないが、第1図同様、各ピンが該当層に熱抵抗が小さ
くなる方法で接続されている。
以上のように構成すれば、第2実施例同様、従来技術に
よる方法より低コストでかつ冷却設備に要するスペース
をより小さくして電子基板上のチップが冷却できる上、
配線のクロストークによるノイズを低減でき、高周波動
作に対する電源電位。
よる方法より低コストでかつ冷却設備に要するスペース
をより小さくして電子基板上のチップが冷却できる上、
配線のクロストークによるノイズを低減でき、高周波動
作に対する電源電位。
グランド電位の変動を基板内で小さく抑えることができ
、基板の温度を均一化できる12層基板を得ることがで
きる。
、基板の温度を均一化できる12層基板を得ることがで
きる。
但し、第4図に示した例は、本発明の電子基板を12層
で構成する場合の一実施例であって、配線層の両隣りに
絶縁層を介してグランド層または電源層を設けた配線層
を少なくとも1層有する構成になっていれば、本発明の
電子基板を構成したことになる。また、第2実施例の場
合同様、ある配線層に絶縁層を介して隣接するグランド
層または電源層と該配線層の距離を小さくすれば効果的
にクロストークによるノイズを低減できる。この効果は
、隣接層がグランド層である時の方が、電源層である時
よりも大きい。また、ある配線層の平行配線間の距離の
うち最小なものをQ、該配線層に絶縁層を介して隣接す
るグランド層又は電源層のうち、該配線層との距離が小
さい方の層と該配線層との距離をdとした時、Q)dと
すれば、クロストークによるノイズの低減にさらに効果
的である。
で構成する場合の一実施例であって、配線層の両隣りに
絶縁層を介してグランド層または電源層を設けた配線層
を少なくとも1層有する構成になっていれば、本発明の
電子基板を構成したことになる。また、第2実施例の場
合同様、ある配線層に絶縁層を介して隣接するグランド
層または電源層と該配線層の距離を小さくすれば効果的
にクロストークによるノイズを低減できる。この効果は
、隣接層がグランド層である時の方が、電源層である時
よりも大きい。また、ある配線層の平行配線間の距離の
うち最小なものをQ、該配線層に絶縁層を介して隣接す
るグランド層又は電源層のうち、該配線層との距離が小
さい方の層と該配線層との距離をdとした時、Q)dと
すれば、クロストークによるノイズの低減にさらに効果
的である。
以上、第1〜第4の実施例によって、本発明による電子
基板を4層、6層、8層、12層で構成する例を示した
。第1〜第4の実施例で示した各電子基板のもつ配線層
数、電源層数、グランド層数をまとめたものが、次の第
1表である。
基板を4層、6層、8層、12層で構成する例を示した
。第1〜第4の実施例で示した各電子基板のもつ配線層
数、電源層数、グランド層数をまとめたものが、次の第
1表である。
第 1 表
従って、ユーザーは必要配線層数、電源層数。
グランド層数、ノイズマージン等を考慮して、最適な暦
数の電子基板を選べばよい。また、本発明の電子基板を
第1表以外の暦数で構成する場合には、配線層の両隣り
に絶縁層を介してグランド層または電源層を有する配線
層を少なくとも1層有するというルールを守って構成す
れば本発明を実現できる。このとき、ある配線層に絶縁
層を介して隣接するグランド層または電源層と該配線層
の距離を小さくすれば効果的にクロストークによるノイ
ズを低減できる。この効果は、隣接層がグランド層であ
る時の方が、電源層である時よりも大きい。また、ある
配線層の平行配線間の距離のうち最小なものをΩ、該配
線層に絶縁層を介して隣接するグランド層又は電源層の
うち、該配線層との距離が小さい方の層と該配線層との
距離をdとした時、Q>dとすれば、クロストークによ
るノイズの低減にさらに効果的である。また、上記ルー
ルを守る限り、第1表に示した層数をもつ電子基板にお
ける配線層、電源層、グランド層数は第1表の値と異な
っていてもよい。
数の電子基板を選べばよい。また、本発明の電子基板を
第1表以外の暦数で構成する場合には、配線層の両隣り
に絶縁層を介してグランド層または電源層を有する配線
層を少なくとも1層有するというルールを守って構成す
れば本発明を実現できる。このとき、ある配線層に絶縁
層を介して隣接するグランド層または電源層と該配線層
の距離を小さくすれば効果的にクロストークによるノイ
ズを低減できる。この効果は、隣接層がグランド層であ
る時の方が、電源層である時よりも大きい。また、ある
配線層の平行配線間の距離のうち最小なものをΩ、該配
線層に絶縁層を介して隣接するグランド層又は電源層の
うち、該配線層との距離が小さい方の層と該配線層との
距離をdとした時、Q>dとすれば、クロストークによ
るノイズの低減にさらに効果的である。また、上記ルー
ルを守る限り、第1表に示した層数をもつ電子基板にお
ける配線層、電源層、グランド層数は第1表の値と異な
っていてもよい。
第6図は本発明の第5の実施例を示している。
従来スルーホールとグランド層を接続するに際しては、
第5図に示すようにサーマルランドを設けていた。すな
わち、チップのグランドピンはスルーホール41に通さ
れていて、チップからグランドピンを伝わってきた熱は
ランド部44、チャネル部43を介してグランド層45
に伝えていた。
第5図に示すようにサーマルランドを設けていた。すな
わち、チップのグランドピンはスルーホール41に通さ
れていて、チップからグランドピンを伝わってきた熱は
ランド部44、チャネル部43を介してグランド層45
に伝えていた。
この方法では、ランド部44とグランド層45は切欠部
42で囲まれており、ランド部44に伝わった熱は、狭
くて熱抵抗の大きいチャネル部を通る径路しかないので
、なかなかグランド層に伝わらなかった。
42で囲まれており、ランド部44に伝わった熱は、狭
くて熱抵抗の大きいチャネル部を通る径路しかないので
、なかなかグランド層に伝わらなかった。
また、従来スルーホールと電源層を接続する場合もグラ
ンド層の場合同様、第5図に示すようなサーマルランド
を用いていたので、高発熱チップから電源ピンを伝わっ
てきた熱も、なかなか電源層に伝わらなかった。
ンド層の場合同様、第5図に示すようなサーマルランド
を用いていたので、高発熱チップから電源ピンを伝わっ
てきた熱も、なかなか電源層に伝わらなかった。
そこで本例では第6図に示すように、サーマルランドを
廃止し、スルーホール46とグランド層47をスルーホ
ール46の全周にわたってつないだ。
廃止し、スルーホール46とグランド層47をスルーホ
ール46の全周にわたってつないだ。
これにより、スルーホールとグランド層との接続部にお
ける熱抵抗が従来に比べ大幅に減少し、グランドピンを
伝わってきた熱をすみやかにグランド層に伝えることが
できる。また、逆にグランド層より位置のチップのグラ
ンドピンにグランド層を伝ってきた熱を伝え、該チップ
およびピン表面で冷却することができる。その上スルー
ホールとグランド層との接続部のインピーダンスもサー
マルランドを設ける方法よりも小さくなるので、スルー
ホールとグランド層との電位等をより小さくできグラン
ドピンへのグランド電位の供給もより良好に行うことが
できる。
ける熱抵抗が従来に比べ大幅に減少し、グランドピンを
伝わってきた熱をすみやかにグランド層に伝えることが
できる。また、逆にグランド層より位置のチップのグラ
ンドピンにグランド層を伝ってきた熱を伝え、該チップ
およびピン表面で冷却することができる。その上スルー
ホールとグランド層との接続部のインピーダンスもサー
マルランドを設ける方法よりも小さくなるので、スルー
ホールとグランド層との電位等をより小さくできグラン
ドピンへのグランド電位の供給もより良好に行うことが
できる。
電源層においても同様で、本例では第6図に示すグラン
ド層の場合同様、スルーホール全周にわたって電源層と
接続する。これによりスルーホールと電源層との接続部
における熱抵抗が従来に比べ大幅に減少し、高発熱チッ
プから電源ピンを伝わってきた熱をすみやかに電源層に
伝えることができる。また、逆に電源層より低温のチッ
プの電源ピンに、電源層を伝ってきた熱を伝え、該チッ
プおよびピン表面で冷却することができる。その上、ス
ルーホールと電源層との接続部のインピーダンスもサー
マルランドを設ける方法よりも小さくなるので、スルー
ホールと電源層との電位層をより小さくでき電源ピンへ
の電源電位の供給もより良好に行うことができる。
ド層の場合同様、スルーホール全周にわたって電源層と
接続する。これによりスルーホールと電源層との接続部
における熱抵抗が従来に比べ大幅に減少し、高発熱チッ
プから電源ピンを伝わってきた熱をすみやかに電源層に
伝えることができる。また、逆に電源層より低温のチッ
プの電源ピンに、電源層を伝ってきた熱を伝え、該チッ
プおよびピン表面で冷却することができる。その上、ス
ルーホールと電源層との接続部のインピーダンスもサー
マルランドを設ける方法よりも小さくなるので、スルー
ホールと電源層との電位層をより小さくでき電源ピンへ
の電源電位の供給もより良好に行うことができる。
以上により高発熱チップからグランドピン、電源ピンを
伝わってきた熱はすみやかにグランド層。
伝わってきた熱はすみやかにグランド層。
電源層に伝わりまた、グランド層、電源層を通ってきた
熱の一部は各層より低温の電子回路チップのグランドピ
ン、電源ピンを伝わって、該チップおよびピン表面で冷
却されるので発熱チップを効果的に冷却できる上、電気
的にも良好な接続が得られる。
熱の一部は各層より低温の電子回路チップのグランドピ
ン、電源ピンを伝わって、該チップおよびピン表面で冷
却されるので発熱チップを効果的に冷却できる上、電気
的にも良好な接続が得られる。
この効果は電源層に接続されているスルーホールのうち
、任意のスルーホールAの半径をr、このスルーホール
の中心とこれに最近接するスルーホールBの中心との距
離を2R1とした時、スルーホールAの中心を中心とし
た半径rの円と半径Rの円によって囲まれる電源層の部
分をすべて電源層を構成する物質によって構成すること
によっても得られる。
、任意のスルーホールAの半径をr、このスルーホール
の中心とこれに最近接するスルーホールBの中心との距
離を2R1とした時、スルーホールAの中心を中心とし
た半径rの円と半径Rの円によって囲まれる電源層の部
分をすべて電源層を構成する物質によって構成すること
によっても得られる。
また、上記効果はグランド層に接続されているスルーホ
ールのうち任意のスルーホールAの半径をr、このスル
ーホールの中心と、これに最も近接するスルーホールB
の中心との距離を2Rとした時、スルーホールAの中心
を中心とした半径rの円と半径Rの円によって囲まれる
グランド層の部分が、すべてグランド層を構成する物質
によって構成することによっても得られる。
ールのうち任意のスルーホールAの半径をr、このスル
ーホールの中心と、これに最も近接するスルーホールB
の中心との距離を2Rとした時、スルーホールAの中心
を中心とした半径rの円と半径Rの円によって囲まれる
グランド層の部分が、すべてグランド層を構成する物質
によって構成することによっても得られる。
第13図は本発明の第6の実施例を示している。
第5実施例の所で述べたように、スルーホールとグラン
ド層または電源層との接続方法において、従来のサーマ
ルランドを用いる方法だと、スルーホールランド部とグ
ランド層または電源層の間の熱の伝導が妨げられる。そ
こで第5実施例の如くサーマルランドレスで行うと、今
度はスルーホール部からグランドまたは電源層に熱が逃
げすぎて、部品のハンダ付けが困難になる場合がある。
ド層または電源層との接続方法において、従来のサーマ
ルランドを用いる方法だと、スルーホールランド部とグ
ランド層または電源層の間の熱の伝導が妨げられる。そ
こで第5実施例の如くサーマルランドレスで行うと、今
度はスルーホール部からグランドまたは電源層に熱が逃
げすぎて、部品のハンダ付けが困難になる場合がある。
そこで、熱抵抗を小さくしつつ、ハンダ付けを容易にす
るため、第13図に示すようにスルーホール153を従
来例よりも小さな切欠き154でグランド層156から
切り離す。これにより、高発熱チップからグランドピン
を伝ってきた熱を従来よりもすみやかにグランド内層に
伝えることができる上、ハンダ付けを第5実施例よりも
容易に行うことができる。その上、接続部の電気抵抗は
従来例よりも小さいので、従来よりも良好にグランド電
位をグランドピンに供給することができる。
るため、第13図に示すようにスルーホール153を従
来例よりも小さな切欠き154でグランド層156から
切り離す。これにより、高発熱チップからグランドピン
を伝ってきた熱を従来よりもすみやかにグランド内層に
伝えることができる上、ハンダ付けを第5実施例よりも
容易に行うことができる。その上、接続部の電気抵抗は
従来例よりも小さいので、従来よりも良好にグランド電
位をグランドピンに供給することができる。
電源層とスルーホールの接続も第13図に示すグランド
層の場合と全く同様に行う。効果も同様である。
層の場合と全く同様に行う。効果も同様である。
切欠き部の面積は必ずしも第13図に示す如くでなくて
もよく、接続部の熱抵抗が第5図に示す従来例よりも小
さく、第6図に示す第5実施例よりも大きければよい。
もよく、接続部の熱抵抗が第5図に示す従来例よりも小
さく、第6図に示す第5実施例よりも大きければよい。
すなわち、任意のスルーホールAの半径をr、スルーホ
ールAの中心とこれに最も近接するスルーホールBの中
心との距離を2Rとしたとき、スルーホールAの中心を
中心とした半径rの円と、半径Rの円によって囲まれる
電源層の領域の面積をSo、この領域内で電源層を構成
する物質が占める面積を81とした時、ているスルーホ
ールのうち、任意のスルーホールCの半径をr′、スル
ーホールCの中心と、これに最も近接するスルーホール
Dの中心との距離を2R’ としたとき、スルーホール
Cの中心を中心とした半径r′の円と半径R′の円によ
って囲まれるグランド層の領域の面積をSo この領
域内でグランド層を構成する物質が占める面積をS工O 以上により、高発熱チップからグランドピン。
ールAの中心とこれに最も近接するスルーホールBの中
心との距離を2Rとしたとき、スルーホールAの中心を
中心とした半径rの円と、半径Rの円によって囲まれる
電源層の領域の面積をSo、この領域内で電源層を構成
する物質が占める面積を81とした時、ているスルーホ
ールのうち、任意のスルーホールCの半径をr′、スル
ーホールCの中心と、これに最も近接するスルーホール
Dの中心との距離を2R’ としたとき、スルーホール
Cの中心を中心とした半径r′の円と半径R′の円によ
って囲まれるグランド層の領域の面積をSo この領
域内でグランド層を構成する物質が占める面積をS工O 以上により、高発熱チップからグランドピン。
電源ピンを伝ってきた熱は従来例よりすみやかにグラン
ド層、電源層に伝わり、またグランド層または電源層に
伝わった熱の一部は両層よりも低温のチップのグランド
ピン、電源ピンを伝わって、該低温チップおよびピン表
面で冷却されるので発熱チップを効果的に冷却できる上
、電気的にも良好な接続が得られる。加えて、ハンダ付
けも第5実施例よりも容易にできる。
ド層、電源層に伝わり、またグランド層または電源層に
伝わった熱の一部は両層よりも低温のチップのグランド
ピン、電源ピンを伝わって、該低温チップおよびピン表
面で冷却されるので発熱チップを効果的に冷却できる上
、電気的にも良好な接続が得られる。加えて、ハンダ付
けも第5実施例よりも容易にできる。
第1〜第6実施例では、グランドピン、電源ピンを通し
て冷却を行ってきたが、本発明の第7の実施例において
はグランドピンはグランド層に、電源ピンは電源層に接
続した上、電子回路チップの内部回路と電気的に絶縁さ
れているピンまたは使用していない入力ピンまたは高イ
ンピーダンスになっている出力ピンをグランド層または
電源層のうち適切な方に熱抵抗が小さくなる方法で接続
する。この時の接続方法は実施例5または6の方法によ
ってもよい。
て冷却を行ってきたが、本発明の第7の実施例において
はグランドピンはグランド層に、電源ピンは電源層に接
続した上、電子回路チップの内部回路と電気的に絶縁さ
れているピンまたは使用していない入力ピンまたは高イ
ンピーダンスになっている出力ピンをグランド層または
電源層のうち適切な方に熱抵抗が小さくなる方法で接続
する。この時の接続方法は実施例5または6の方法によ
ってもよい。
第7の実施例においては、高発熱チップから出た熱の一
部は、グランドピン、電源ピンおよび電子回路チップの
内部回路と電気的に絶縁されているピンまたは使用して
いない入力ピンまたは高インピーダンスになっている出
力ピンを伝ってグランド層または電源層に伝導され、チ
ップは冷却される。本例は、グランドピン、電源ピンの
みを各グランド層、電源層に接続した場合に比べ、チッ
プとグランド層、電源層を結ぶ伝熱経路が多いので、よ
り効果的に冷却を行うことができる。
部は、グランドピン、電源ピンおよび電子回路チップの
内部回路と電気的に絶縁されているピンまたは使用して
いない入力ピンまたは高インピーダンスになっている出
力ピンを伝ってグランド層または電源層に伝導され、チ
ップは冷却される。本例は、グランドピン、電源ピンの
みを各グランド層、電源層に接続した場合に比べ、チッ
プとグランド層、電源層を結ぶ伝熱経路が多いので、よ
り効果的に冷却を行うことができる。
また、ピンに限らず熱伝導性の良い材料の一部を高発熱
電子回路チップに内部回路から電気的に絶縁して取り付
け、該材料の他の一部をスルーホール等に通してグラン
ド層または電源層に接続することによっても、同様の冷
却効果が得られる。
電子回路チップに内部回路から電気的に絶縁して取り付
け、該材料の他の一部をスルーホール等に通してグラン
ド層または電源層に接続することによっても、同様の冷
却効果が得られる。
第7図は本発明の第8実施例を示している。電子回路チ
ップ57の信号ピン56はスルーホール52に通されて
いて、ハンダ53によって配線層48.51に接続され
ている。グランド層49、電源層50は絶縁層518に
よって、互いにそして配線層48.51と絶縁されてい
る。また、グランド層49は電気的には絶縁性であるが
、熱伝導性は良い材料54によってスルーホール52に
接続されている。さらに、電源層50は電気的には絶縁
性であるが、熱伝導性は良い材料55によってスルーホ
ール52に接続されている。また、図示していないが、
電源ピン、グランドピンは伝熱抵抗が低い方法で各電源
層、グランド層に接続されており、さらに必要に応じて
第7実施例のように内部電子回路と電気的に絶縁してい
るピン、使用していない入力ピン、高インピーダンス状
態の出力ピンをグランド層または電源層のうち適切な方
に熱抵抗が小さくなる方法で接続してもよい。
ップ57の信号ピン56はスルーホール52に通されて
いて、ハンダ53によって配線層48.51に接続され
ている。グランド層49、電源層50は絶縁層518に
よって、互いにそして配線層48.51と絶縁されてい
る。また、グランド層49は電気的には絶縁性であるが
、熱伝導性は良い材料54によってスルーホール52に
接続されている。さらに、電源層50は電気的には絶縁
性であるが、熱伝導性は良い材料55によってスルーホ
ール52に接続されている。また、図示していないが、
電源ピン、グランドピンは伝熱抵抗が低い方法で各電源
層、グランド層に接続されており、さらに必要に応じて
第7実施例のように内部電子回路と電気的に絶縁してい
るピン、使用していない入力ピン、高インピーダンス状
態の出力ピンをグランド層または電源層のうち適切な方
に熱抵抗が小さくなる方法で接続してもよい。
以上のような電子基板においては、所定の信号は信号ピ
ン56と配線層48.51の間を伝わるが、グランド層
49、電源層50とは電気的に絶縁されているため、こ
れらの層には伝わらず、逆に、これらの層からも伝わら
ない。しかし、ピン56とグランド層49、電源層50
の間の熱抵抗は小さいため、電子回路チップ57が高発
熱チップであった場合、チップ57から出た熱の一部は
ピン56を伝わって電気絶縁性がありかつ熱の良導体5
4.55を伝わってグランド層49、電源層50に伝わ
り、チップは冷却される。また、電子回路チップ57が
低発熱チップであった場合には、高発熱チップから出て
グランド層、電源層を通ってきた熱が、電気絶縁かつ熱
良導体54゜55を通ってピン56に伝わり、チップ5
7および信号ピン56の表面から放出される。いずれの
場合も、電子基板全体をみた時チップの冷却に寄与して
いる。第8実施例においては、グランドピン、電源ピン
さらに必要によっては内部電子回路と電気的に絶縁して
いるピン、使用していない入力ピン、高インピーダンス
状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもとより信号ピン
までも熱の径路として用いているため、これを実施しな
い他の場合に比べて、チップと電子基板のグランド層、
電源層との熱抵抗を小さくすることができ、チップ冷却
に有効である。電源層が49、グランド層が50になっ
た時も全く同様に本方法を用いればチップ冷却に有効で
ある。
ン56と配線層48.51の間を伝わるが、グランド層
49、電源層50とは電気的に絶縁されているため、こ
れらの層には伝わらず、逆に、これらの層からも伝わら
ない。しかし、ピン56とグランド層49、電源層50
の間の熱抵抗は小さいため、電子回路チップ57が高発
熱チップであった場合、チップ57から出た熱の一部は
ピン56を伝わって電気絶縁性がありかつ熱の良導体5
4.55を伝わってグランド層49、電源層50に伝わ
り、チップは冷却される。また、電子回路チップ57が
低発熱チップであった場合には、高発熱チップから出て
グランド層、電源層を通ってきた熱が、電気絶縁かつ熱
良導体54゜55を通ってピン56に伝わり、チップ5
7および信号ピン56の表面から放出される。いずれの
場合も、電子基板全体をみた時チップの冷却に寄与して
いる。第8実施例においては、グランドピン、電源ピン
さらに必要によっては内部電子回路と電気的に絶縁して
いるピン、使用していない入力ピン、高インピーダンス
状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもとより信号ピン
までも熱の径路として用いているため、これを実施しな
い他の場合に比べて、チップと電子基板のグランド層、
電源層との熱抵抗を小さくすることができ、チップ冷却
に有効である。電源層が49、グランド層が50になっ
た時も全く同様に本方法を用いればチップ冷却に有効で
ある。
信号ピンとグランド層、電源層間を電気的に絶縁しつつ
、熱伝導が良好に行われるように接続する方法としては
、第8実施例に示した方法の他に、第8図に示す第9実
施例の方法がある。第8図において、グランド層59、
電源層60は絶縁層519によって互いに、そして配線
層58.61と絶縁されており、また電気的には絶縁性
であるが熱伝導性は良い材料505,64.68によっ
て各信号ピン507,66.71と電気的には絶縁され
ているが、熱は互いによく伝導する。配線層58.61
上にランド部516,62,67゜517.65.70
があり、ランド部516゜517はハンダ504,50
6によって信号ピン507に接続されている。ランド部
62はハンダ63によって信号ピン66に接続されてい
る。ランド部70はハンダ69によって信号ピン71に
接続されている。また、図示していないが、グランドピ
ン、電源ピンは各該当層に熱抵抗が小さくなる方法で接
続されており、さらに必要に応じて第7実施例のように
内部電子回路と電気的に絶縁しているピン、使用してい
ない入力ピン、高インピーダンス状態の出力ピンをグラ
ンド層または電源層のうち適切な方に熱抵抗が小さくな
る方法で接続してもよい。
、熱伝導が良好に行われるように接続する方法としては
、第8実施例に示した方法の他に、第8図に示す第9実
施例の方法がある。第8図において、グランド層59、
電源層60は絶縁層519によって互いに、そして配線
層58.61と絶縁されており、また電気的には絶縁性
であるが熱伝導性は良い材料505,64.68によっ
て各信号ピン507,66.71と電気的には絶縁され
ているが、熱は互いによく伝導する。配線層58.61
上にランド部516,62,67゜517.65.70
があり、ランド部516゜517はハンダ504,50
6によって信号ピン507に接続されている。ランド部
62はハンダ63によって信号ピン66に接続されてい
る。ランド部70はハンダ69によって信号ピン71に
接続されている。また、図示していないが、グランドピ
ン、電源ピンは各該当層に熱抵抗が小さくなる方法で接
続されており、さらに必要に応じて第7実施例のように
内部電子回路と電気的に絶縁しているピン、使用してい
ない入力ピン、高インピーダンス状態の出力ピンをグラ
ンド層または電源層のうち適切な方に熱抵抗が小さくな
る方法で接続してもよい。
以上のように構成した電子基板において、グランドピン
、電源ピンさらに、必要によっては内部電子回路と電気
的に絶縁しているピン、使用していない入力ピン、高イ
ンピーダンス状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもと
より、信号ピンまでもが伝熱径路となるため、電子回路
チップ72とグランド層59、電源層60の間の熱伝導
が第8実施例と同様に、良好に行われる。従って、本電
子基板は電子回路チップを冷却するのに効果的である。
、電源ピンさらに、必要によっては内部電子回路と電気
的に絶縁しているピン、使用していない入力ピン、高イ
ンピーダンス状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもと
より、信号ピンまでもが伝熱径路となるため、電子回路
チップ72とグランド層59、電源層60の間の熱伝導
が第8実施例と同様に、良好に行われる。従って、本電
子基板は電子回路チップを冷却するのに効果的である。
なお、信号ピンとグランド層、電源層を接続する方法と
しては、第8図に示す信号ピン507゜66.71の場
合のいずれの方法を採用してもよいし、それらを組み合
わせて用いてもよい。また、電源層が59.グランド層
が60になった場合でも、全く同様に本方法を用いれば
、チップの冷却に有効である。
しては、第8図に示す信号ピン507゜66.71の場
合のいずれの方法を採用してもよいし、それらを組み合
わせて用いてもよい。また、電源層が59.グランド層
が60になった場合でも、全く同様に本方法を用いれば
、チップの冷却に有効である。
第12図は本発明の第10実施例を示している。
第12図において、グランド層137,140、電源層
138は絶縁層152によって互いに、そして配線層1
36,139,141から絶縁されている。また、グラ
ンド層137,140.電源層138はスルーホール1
43と、電気的に絶縁性でかつ熱伝導性の良い材料14
6,147゜148によって電気的には絶縁されている
が、熱は互いに良く伝導するようになっている。また、
信号ピン150はスルーホール143を通っており、ハ
ンダ149によって、ランド部142゜144.145
と接続されている。また、図示していないが、グランド
ピン、電源ピンは各該当層に熱抵抗が小さくなる方法で
接続されており、必要に応じて第7実施例のように内部
電子回路と電気的に絶縁しているピン、使用していない
入力ピン、高インピーダンス状態の出力ピンをグランド
層または電源層のうち適切な方に熱抵抗が小さくなる方
法で接続してもよい。
138は絶縁層152によって互いに、そして配線層1
36,139,141から絶縁されている。また、グラ
ンド層137,140.電源層138はスルーホール1
43と、電気的に絶縁性でかつ熱伝導性の良い材料14
6,147゜148によって電気的には絶縁されている
が、熱は互いに良く伝導するようになっている。また、
信号ピン150はスルーホール143を通っており、ハ
ンダ149によって、ランド部142゜144.145
と接続されている。また、図示していないが、グランド
ピン、電源ピンは各該当層に熱抵抗が小さくなる方法で
接続されており、必要に応じて第7実施例のように内部
電子回路と電気的に絶縁しているピン、使用していない
入力ピン、高インピーダンス状態の出力ピンをグランド
層または電源層のうち適切な方に熱抵抗が小さくなる方
法で接続してもよい。
以上のような配線板においては、グランドピン、電源ピ
ンさらに、必要によっては、内部電子回路と電気的に絶
縁しているピン、使用していない入力ピン、高インピー
ダンス状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもとより、
信号ピンまでもが伝熱径路となるため、電子回路チップ
151とグランド層137,140、電源層138の間
の熱伝導が第8実施例と同様に、良好に行われる。従っ
て、本電子基板は電子回路チップを冷却するのに効果的
である。
ンさらに、必要によっては、内部電子回路と電気的に絶
縁しているピン、使用していない入力ピン、高インピー
ダンス状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもとより、
信号ピンまでもが伝熱径路となるため、電子回路チップ
151とグランド層137,140、電源層138の間
の熱伝導が第8実施例と同様に、良好に行われる。従っ
て、本電子基板は電子回路チップを冷却するのに効果的
である。
また、第8実施例では内層に配線層のある場合の例を示
していなかったが、本実施例においては内層に配線層が
ある場合に信号ピンとグランド層。
していなかったが、本実施例においては内層に配線層が
ある場合に信号ピンとグランド層。
電源層との間を電気的には絶縁したまま熱伝導がt41
) 良好に行われるように接続する方法を示した。これと同
様の手法を用いることによって、第12図よりも配線層
、グランド層、電源層が増えても、また層構成の順序が
変っても、信号ピンと電源層。
) 良好に行われるように接続する方法を示した。これと同
様の手法を用いることによって、第12図よりも配線層
、グランド層、電源層が増えても、また層構成の順序が
変っても、信号ピンと電源層。
グランド層を電気的に絶縁しながら、互いに良好に熱伝
導できるように接続することができ、電子回路チップの
冷却に有効な電子基板を得ることができる。
導できるように接続することができ、電子回路チップの
冷却に有効な電子基板を得ることができる。
第16図は本発明の第11実施例を示している。
第16図において、グランド層184,187、電源層
185、および配線層183,186゜188は絶縁層
199によって互いに絶縁されている。また、電子回路
チップ197の信号ピン198はハンダ194,195
,196により各配線層183,186,188上のラ
ンド189〜191に接続されており、また、電子基板
のグランド層184,187、電源層185は信号ピン
198と、電気絶縁性にすぐれかつ熱伝導性の良い材料
192,193によって、電気的には絶縁されているが
、熱はお互いよく伝わるようになつている。また、図示
していないが、グランドピン、電源ピンは各該当層に熱
抵抗が小さくなる方法で接続されており、必要に応じて
第7実施例のように内部電子回路と電気的に絶縁してい
るピン、使用していない入力ピン、高インピーダンス状
態の出力ピンをグランド層または電源層のうち適切な方
に、熱抵抗が小さくなる方法で接続してもよし1゜ 以上のような電子基板においては、グランドピン、電源
ピン、さらに必要によっては内部電子回路と電気的に絶
縁しているピン、使用していない入力ピン、高インピー
ダンス状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもとより、
信号ピンまでもが伝熱径路となるため、電子回路チップ
197とグランド層184,187、電源層185の間
の熱伝導が第9実施例と同様に良好に行われる。従って
、本電子基板は電子回路チップを冷却するのに効果的で
ある。
185、および配線層183,186゜188は絶縁層
199によって互いに絶縁されている。また、電子回路
チップ197の信号ピン198はハンダ194,195
,196により各配線層183,186,188上のラ
ンド189〜191に接続されており、また、電子基板
のグランド層184,187、電源層185は信号ピン
198と、電気絶縁性にすぐれかつ熱伝導性の良い材料
192,193によって、電気的には絶縁されているが
、熱はお互いよく伝わるようになつている。また、図示
していないが、グランドピン、電源ピンは各該当層に熱
抵抗が小さくなる方法で接続されており、必要に応じて
第7実施例のように内部電子回路と電気的に絶縁してい
るピン、使用していない入力ピン、高インピーダンス状
態の出力ピンをグランド層または電源層のうち適切な方
に、熱抵抗が小さくなる方法で接続してもよし1゜ 以上のような電子基板においては、グランドピン、電源
ピン、さらに必要によっては内部電子回路と電気的に絶
縁しているピン、使用していない入力ピン、高インピー
ダンス状態の出力ピンが伝熱径路となるのはもとより、
信号ピンまでもが伝熱径路となるため、電子回路チップ
197とグランド層184,187、電源層185の間
の熱伝導が第9実施例と同様に良好に行われる。従って
、本電子基板は電子回路チップを冷却するのに効果的で
ある。
また、第9実施例では内層に配線層のある場合の例を示
していなかったが、本実施例においては。
していなかったが、本実施例においては。
内層に配線層がある場合に信号ピンとグランド層。
電源層の間を電気的には絶縁したまま、熱伝導が良好に
行われるように接続する方法を示した。
行われるように接続する方法を示した。
これと同様の手法を用いることによって、第16図より
も配線層、グランド層、電源層が増えても、また層構成
の順序が変っても、信号ピンと電源層、グランド層を電
気的には絶縁しながら、互いに良好に熱伝導できるよう
に接続することができ、電子回路チップの冷却に有効な
電子基板を得ることができる。
も配線層、グランド層、電源層が増えても、また層構成
の順序が変っても、信号ピンと電源層、グランド層を電
気的には絶縁しながら、互いに良好に熱伝導できるよう
に接続することができ、電子回路チップの冷却に有効な
電子基板を得ることができる。
第9図は本発明の第12の実施例を示している。
第12実施例は第9図に示す如くコネクター73〜82
、ZIP型メ子メモリ83〜86発熱電子回路チップ8
7〜105,503、および図示していない低発熱電子
回路チップを電子基板106上に配することにより構成
される。
、ZIP型メ子メモリ83〜86発熱電子回路チップ8
7〜105,503、および図示していない低発熱電子
回路チップを電子基板106上に配することにより構成
される。
このような電子基板を冷却するため、ファン等で冷却用
流体、例えば空気を第9図の右方向(コネクター76〜
78側)から左方向(コネクター82側)へ流す。一般
に電子基板を複数組込むシステムにおいては信号の遅延
、ノイズの混入を防ぐため、信号線を短くしたい上、シ
ステムをコンパクトにしたいため等の理由によってでき
るだけ基板の実装密度を上げる。第9図に示すような電
子基板を高密度実装した場合、第14図に示すような状
態となり、矢印方向に流体を流した場合、コネクター1
57,158,159と隣接する電子基板とのすき間は
、隣接する電子基板間の距離に比べ小さいので、流体の
この部分における通過抵抗は大きくなる。従って流体は
第14図中のB。
流体、例えば空気を第9図の右方向(コネクター76〜
78側)から左方向(コネクター82側)へ流す。一般
に電子基板を複数組込むシステムにおいては信号の遅延
、ノイズの混入を防ぐため、信号線を短くしたい上、シ
ステムをコンパクトにしたいため等の理由によってでき
るだけ基板の実装密度を上げる。第9図に示すような電
子基板を高密度実装した場合、第14図に示すような状
態となり、矢印方向に流体を流した場合、コネクター1
57,158,159と隣接する電子基板とのすき間は
、隣接する電子基板間の距離に比べ小さいので、流体の
この部分における通過抵抗は大きくなる。従って流体は
第14図中のB。
D、F部に絞られ、B、D、F部を通過する流体の速さ
は、絞られる前に比べ速くなる。第14図に示す電子基
板106における流体の流れの概略を示したものが第1
0図である。第10図において、コネクター73〜82
、ZIP型メ子メモリ83〜86子基板106の部品面
表面からの高さが高く隣接する電子基板との間隔が小さ
くなっている。従って、コネクター73〜82.ZIP
型メ子メモリ83〜86体の流れの障害物として作用す
る。その結果、電子基板106の部品面上では第10図
に矢印で示すような流体の流れとなっている。そこで、
このような電子基板上に高発熱電子回路チップ87〜1
05,503を配置する際には、第9図に示す如く配す
る。また、図示していないが、低発熱チップは、第9図
において、高発熱チップを配した残りのスペースに配す
る。
は、絞られる前に比べ速くなる。第14図に示す電子基
板106における流体の流れの概略を示したものが第1
0図である。第10図において、コネクター73〜82
、ZIP型メ子メモリ83〜86子基板106の部品面
表面からの高さが高く隣接する電子基板との間隔が小さ
くなっている。従って、コネクター73〜82.ZIP
型メ子メモリ83〜86体の流れの障害物として作用す
る。その結果、電子基板106の部品面上では第10図
に矢印で示すような流体の流れとなっている。そこで、
このような電子基板上に高発熱電子回路チップ87〜1
05,503を配置する際には、第9図に示す如く配す
る。また、図示していないが、低発熱チップは、第9図
において、高発熱チップを配した残りのスペースに配す
る。
以上のように実装を行った電子基板においては、チップ
93〜96はコネクター76と77間の領域りに絞られ
流速の増した流体にあたり、チップ99〜102はコネ
クター77と78の間の領域Bに絞られ流速の増した流
体にあたる。一般に発熱体を流体により冷却する場合、
流体の流速が大きいほど熱伝達率が向上し、冷却の効果
が増すため、これらのチップは、コネクター76〜78
によって流体を絞らない場合に比べて、より効果的に冷
却される。
93〜96はコネクター76と77間の領域りに絞られ
流速の増した流体にあたり、チップ99〜102はコネ
クター77と78の間の領域Bに絞られ流速の増した流
体にあたる。一般に発熱体を流体により冷却する場合、
流体の流速が大きいほど熱伝達率が向上し、冷却の効果
が増すため、これらのチップは、コネクター76〜78
によって流体を絞らない場合に比べて、より効果的に冷
却される。
また、高発熱チップ89〜91,503の配置されてい
る位置においては、領域D、領域Fを通過した流体がぶ
つかり、乱れが生じている。従って、この位置において
はチップ表面と流体との間の熱伝達は乱流熱伝達の状態
となり、乱れが生じない場合に比べて、熱伝達率は著し
く向上するためチップはより効果的に冷却される。
る位置においては、領域D、領域Fを通過した流体がぶ
つかり、乱れが生じている。従って、この位置において
はチップ表面と流体との間の熱伝達は乱流熱伝達の状態
となり、乱れが生じない場合に比べて、熱伝達率は著し
く向上するためチップはより効果的に冷却される。
また、高発熱チップ87.88はZIP型メ子メモリ8
34間に絞られ、流速の増した流体にあたり、高発熱チ
ップ92はZIP型メ子メモリ845間に絞られ、流速
の増した流体にあたる。高発熱チップ97.98はZI
P型メセメモリ856の間に絞られ、流速の増した流体
にあたり、高発熱チップ103〜105はZIP型メ子
メモリ86ネクター79〜81の間に絞られ、流速の増
した流体にあたる。従って、高発熱チップ87.88,
92,97,98,103〜105はいずれもコネクタ
ーまたはZIP型メモリを第9図の如く配さない場合に
比べ、速い流速の流体にあたるため、より効果的に冷却
される。
34間に絞られ、流速の増した流体にあたり、高発熱チ
ップ92はZIP型メ子メモリ845間に絞られ、流速
の増した流体にあたる。高発熱チップ97.98はZI
P型メセメモリ856の間に絞られ、流速の増した流体
にあたり、高発熱チップ103〜105はZIP型メ子
メモリ86ネクター79〜81の間に絞られ、流速の増
した流体にあたる。従って、高発熱チップ87.88,
92,97,98,103〜105はいずれもコネクタ
ーまたはZIP型メモリを第9図の如く配さない場合に
比べ、速い流速の流体にあたるため、より効果的に冷却
される。
以上、第9図に示す本発明の第12実施例においては、
電子基板上に必ず配置しなければならないコネクターや
ZIP型メモリ等の流体の流れの障害物をむしろ積極的
に利用して、これらによる絞りによって流速の増した冷
却用流体や、これらによって生じた冷却用流体の乱れに
よって効果的にチップを冷却することができる。また、
チップを実装した基板はチップを実装していない基板に
比べ表面積が増していること、またチップ自体によって
流体の流れに乱れが生じていることも効果的冷却に寄与
している。
電子基板上に必ず配置しなければならないコネクターや
ZIP型メモリ等の流体の流れの障害物をむしろ積極的
に利用して、これらによる絞りによって流速の増した冷
却用流体や、これらによって生じた冷却用流体の乱れに
よって効果的にチップを冷却することができる。また、
チップを実装した基板はチップを実装していない基板に
比べ表面積が増していること、またチップ自体によって
流体の流れに乱れが生じていることも効果的冷却に寄与
している。
尚、流体の流れを制御する障害物としてはコネクター、
ZIP型メモリに限らず、この他、本来基板上に配さね
ばならない部品やその他何を利用してもよい。
ZIP型メモリに限らず、この他、本来基板上に配さね
ばならない部品やその他何を利用してもよい。
はた、冷却用流体は絶縁性の気体であってもよいし、絶
縁性の液体であってもよい。冷却用流体が液体である場
合には、基板を該液体中に浸漬させてもよい。
縁性の液体であってもよい。冷却用流体が液体である場
合には、基板を該液体中に浸漬させてもよい。
第11図は本発明の第13実施例を示している。
第11図において、電子基板107〜109は各、コネ
クター118,119,120によってマザーボード1
21に接続されている。また、電子基板107のグラン
ド層は伝導板110,114によって伝導板113,1
17に接続されており、電子基板107の電源層は伝導
板511によって伝導板510にまた別の伝導板により
伝導板515に接続されている。電子基板108のグラ
ンド層は伝導板111.1・15によって伝導板113
゜117に接続されており、電子基板108の電源層は
伝導板512によって伝導板510にまた別の伝導板に
より伝導板515に接続されている。
クター118,119,120によってマザーボード1
21に接続されている。また、電子基板107のグラン
ド層は伝導板110,114によって伝導板113,1
17に接続されており、電子基板107の電源層は伝導
板511によって伝導板510にまた別の伝導板により
伝導板515に接続されている。電子基板108のグラ
ンド層は伝導板111.1・15によって伝導板113
゜117に接続されており、電子基板108の電源層は
伝導板512によって伝導板510にまた別の伝導板に
より伝導板515に接続されている。
電子基板109のグランド層は伝導板112゜116に
よって伝導板113,117に接続されており、電子基
板109の電源層は伝導板513゜514によって伝導
板510,515に接続されている。ここで、全ての伝
導板は電気および熱の良導体で構成されており、伝導板
との接続は電気抵抗および熱抵抗が小さくなるように行
う。マザーボード121のグランド層は伝導板127゜
128.129、その他の伝導板によってグランド板1
22に接続され、マザーボード121の電源層は伝導板
130,131,132、その他の伝導板によって、電
源板123に接続されている。
よって伝導板113,117に接続されており、電子基
板109の電源層は伝導板513゜514によって伝導
板510,515に接続されている。ここで、全ての伝
導板は電気および熱の良導体で構成されており、伝導板
との接続は電気抵抗および熱抵抗が小さくなるように行
う。マザーボード121のグランド層は伝導板127゜
128.129、その他の伝導板によってグランド板1
22に接続され、マザーボード121の電源層は伝導板
130,131,132、その他の伝導板によって、電
源板123に接続されている。
ここで、グランド板122、および電源板123は電気
および熱の良導体で構成されている。伝導板113,1
17は伝導板124,125によってグランド板122
に接続されており、伝導板510.515は伝導板50
8,509によって電源板123に接続されている。ま
た、冷却のための流体は第11図中に矢印で示しである
如く、紙面手前から奥へと流す。また、各電子基板の上
には高発熱チップ126がいくつか実装されている。
および熱の良導体で構成されている。伝導板113,1
17は伝導板124,125によってグランド板122
に接続されており、伝導板510.515は伝導板50
8,509によって電源板123に接続されている。ま
た、冷却のための流体は第11図中に矢印で示しである
如く、紙面手前から奥へと流す。また、各電子基板の上
には高発熱チップ126がいくつか実装されている。
各電子基板は第1〜第12実施例に示した構造のうちの
いずれかまたはその組合せを採用している。
いずれかまたはその組合せを採用している。
以上のような構造をもつシステムにおいて、電子基板1
09上に実装された電子回路チップから発生した熱は、
以下の径路をたどって冷却される。
09上に実装された電子回路チップから発生した熱は、
以下の径路をたどって冷却される。
(a)該発熱チップ表面に伝導し、チップ表面に流れる
流体によって冷却される。
流体によって冷却される。
(b)該発熱チップから出ているピンに伝わりピン表面
で冷却される。
で冷却される。
(C)発熱チップから該チップのピンのうちグランド層
または電源層に熱抵抗が小さい方法で接続されているピ
ンを通じて内層グランド層、電源層に伝わり、これを通
してこの両層よりも低温の低発熱チップの表面に伝わり
、チップ表面およびこの低発熱チップのピン表面で冷却
される。
または電源層に熱抵抗が小さい方法で接続されているピ
ンを通じて内層グランド層、電源層に伝わり、これを通
してこの両層よりも低温の低発熱チップの表面に伝わり
、チップ表面およびこの低発熱チップのピン表面で冷却
される。
(d)発熱チップから該チップのピンのうちグランド層
または電源層に熱抵抗が小さい方法で接続されているピ
ンを通じて内層グランド層、電源層に伝わってさらにこ
こを通じて、電子基板全体に伝わり、次第に電子基板表
面に伝わって、表面冷却される。
または電源層に熱抵抗が小さい方法で接続されているピ
ンを通じて内層グランド層、電源層に伝わってさらにこ
こを通じて、電子基板全体に伝わり、次第に電子基板表
面に伝わって、表面冷却される。
(e)発熱チップから内層グランド層に伝わり、伝導板
112,116を伝わって伝導板113゜117に伝わ
り、さらに伝導板124,125を伝わって、グランド
板122に伝わる。この経路を伝わる熱は各伝導板の表
面およびグランド板122の表面で冷却される。
112,116を伝わって伝導板113゜117に伝わ
り、さらに伝導板124,125を伝わって、グランド
板122に伝わる。この経路を伝わる熱は各伝導板の表
面およびグランド板122の表面で冷却される。
また、内層グランド層に伝わった熱の一部は、コネクタ
ー120を通じてマザーボード121(5工) に伝わり、さらに伝導板127〜129、その他の伝導
板を通じて、グランド板122に伝わる。この経路を伝
わる熱は、各伝導板の表面。
ー120を通じてマザーボード121(5工) に伝わり、さらに伝導板127〜129、その他の伝導
板を通じて、グランド板122に伝わる。この経路を伝
わる熱は、各伝導板の表面。
マザーボード表面およびグランド板表面において冷却さ
れる。また、マザーボードよりも低温の電子基板(ドー
ターボード)があれば、そこにもマザーボードから熱が
伝わりここに伝わった熱はドーターボード内で冷却され
る。
れる。また、マザーボードよりも低温の電子基板(ドー
ターボード)があれば、そこにもマザーボードから熱が
伝わりここに伝わった熱はドーターボード内で冷却され
る。
(f)発熱チップから内層電源層に伝わり、伝導板51
3.514を伝わって伝導板510,515に伝わり、
さらに伝導板508,509を伝わって電源板123に
伝わる。この径路を伝わる熱は各伝導板の表面および電
源板123の表面で冷却される。
3.514を伝わって伝導板510,515に伝わり、
さらに伝導板508,509を伝わって電源板123に
伝わる。この径路を伝わる熱は各伝導板の表面および電
源板123の表面で冷却される。
また、内層電源層に伝わった熱の一部は、コネクター1
20を通じてマザーボード121に伝わり、さらに伝導
板130〜132、その他の伝導板を通じて、電源板1
23に伝わる。この経路を伝わる熱は各伝導板の表面、
マザーボード表面、および電源板表面において冷却され
(52ン る。また、マザーボードより低温のドーターボードがあ
れば、そこにもマザーボードから熱が伝わりここに伝わ
った熱はドーターボード内で冷却される。
20を通じてマザーボード121に伝わり、さらに伝導
板130〜132、その他の伝導板を通じて、電源板1
23に伝わる。この経路を伝わる熱は各伝導板の表面、
マザーボード表面、および電源板表面において冷却され
(52ン る。また、マザーボードより低温のドーターボードがあ
れば、そこにもマザーボードから熱が伝わりここに伝わ
った熱はドーターボード内で冷却される。
(g)この他、各チップ、ピン伝導板、電子基板。
マザーボード、電源板、グランド板からの輻射。
対流による冷却効果もある。
以上により、電子基板109上に電子回路チップを冷却
することができる。また、電子基板107゜108上の
電子回路チップについても同様の方法にて冷却できる。
することができる。また、電子基板107゜108上の
電子回路チップについても同様の方法にて冷却できる。
また、第11図に示すシステムにおいては、マザーボー
ド121に電源を供給するに際し、電源ユニットから電
源板123、グランド板122を介して、マザーボード
の電源層、グランド層に供給されている。ここで、電源
板123.グランド板122上で各、システム全体の基
準となる電源電位、グランド層に供給されている。ここ
で、電源板123.グランド板122上で各、システム
全体の基準となる電源電位、グランド電位を安定化させ
ることができるので、マザーボード121゜ドーターボ
ードたる基板107〜109上に電源電位、グランド電
位を安定させることができる。
ド121に電源を供給するに際し、電源ユニットから電
源板123、グランド板122を介して、マザーボード
の電源層、グランド層に供給されている。ここで、電源
板123.グランド板122上で各、システム全体の基
準となる電源電位、グランド層に供給されている。ここ
で、電源板123.グランド板122上で各、システム
全体の基準となる電源電位、グランド電位を安定化させ
ることができるので、マザーボード121゜ドーターボ
ードたる基板107〜109上に電源電位、グランド電
位を安定させることができる。
また、マザーボード121にも第1〜第4の実施例に示
した構造を採用している。従って、マザーボード121
においてもドーターボードたる基板107〜109同様
、電源層、グランド層を多層に設けたことにより、電源
層、グランド層そのもののインピーダンスを小さくでき
、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、グラン
ド電位の変動を基板内で小さく抑えることができる。
した構造を採用している。従って、マザーボード121
においてもドーターボードたる基板107〜109同様
、電源層、グランド層を多層に設けたことにより、電源
層、グランド層そのもののインピーダンスを小さくでき
、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、グラン
ド電位の変動を基板内で小さく抑えることができる。
また、マザーボード121においてもドーターボードた
る基板107〜109同様、発熱チップ。
る基板107〜109同様、発熱チップ。
高温のコネクターピンからの熱が、主に内層のグランド
層、電源層を伝わって基板全体に広がるため、基板の温
度を均一化することができる。
層、電源層を伝わって基板全体に広がるため、基板の温
度を均一化することができる。
第11図ではマザーボード121に接続されているドー
ターボードは基板107〜109の3枚であるが、ドー
ターボード数がこれより増えても、上記と全く同様の効
果がある。
ターボードは基板107〜109の3枚であるが、ドー
ターボード数がこれより増えても、上記と全く同様の効
果がある。
また、マザーボード121とグランド板122を結小径
路、およびマザーボード121と電源板123を結ぶ径
路をできるだけ短くした方が、チップの冷却および電子
基板上にグランド電位、電源電位、信号の安定化に効果
的である。
路、およびマザーボード121と電源板123を結ぶ径
路をできるだけ短くした方が、チップの冷却および電子
基板上にグランド電位、電源電位、信号の安定化に効果
的である。
また、グランド板122、電源板123は本例ではマザ
ーボード121の下側に配置しているが、上記条件を満
たす限り、どこに何枚配してもよい。
ーボード121の下側に配置しているが、上記条件を満
たす限り、どこに何枚配してもよい。
さらに、グランド板122.電源板123の表面に凸凹
あるいはフィン等を設けてもよく、この時、チップの冷
却がより効果的に行われる。
あるいはフィン等を設けてもよく、この時、チップの冷
却がより効果的に行われる。
また、第11図においては、各電子基板のグランド層と
グランド板122を伝導板110〜117゜124.1
25によって接続し、各電子基板の電源層と電源板12
3を伝導板510〜515゜508.509、その他の
伝導板によって接続しているが、必ずしもグランド層、
電源層ともに各。
グランド板122を伝導板110〜117゜124.1
25によって接続し、各電子基板の電源層と電源板12
3を伝導板510〜515゜508.509、その他の
伝導板によって接続しているが、必ずしもグランド層、
電源層ともに各。
グランド板122.電源板123に接続する必要はなく
、グランド層とグランド板122のみを接続してもよく
、また電源層と電源板123のみを接続してもよい。
、グランド層とグランド板122のみを接続してもよく
、また電源層と電源板123のみを接続してもよい。
また、伝導板の位置は必ずしも第11図と同じである必
要はなく、必要に応じて適切な位置に適当な数を配置し
てよい。また、本電子基板装置のマザーボード、ドータ
ーボードを本発明の電子基板、実装電子基板を用いて構
成すれば、ここで述べた効果はより効果的になる。
要はなく、必要に応じて適切な位置に適当な数を配置し
てよい。また、本電子基板装置のマザーボード、ドータ
ーボードを本発明の電子基板、実装電子基板を用いて構
成すれば、ここで述べた効果はより効果的になる。
第3図を用いて、本発明の第14実施例について説明す
る。本実施例の電子基板は配線層23゜26.28グラ
ンド層24,27、電源層25および絶縁層501から
成っている。ここで、絶縁層501は電気絶縁性にすぐ
れかつエポキシ樹脂より熱伝導性が良好な材料(例えば
セラミックス)または構造から成っている。はだ、配線
層23側が部品面側であり、配線層28側が牛用面であ
る。
る。本実施例の電子基板は配線層23゜26.28グラ
ンド層24,27、電源層25および絶縁層501から
成っている。ここで、絶縁層501は電気絶縁性にすぐ
れかつエポキシ樹脂より熱伝導性が良好な材料(例えば
セラミックス)または構造から成っている。はだ、配線
層23側が部品面側であり、配線層28側が牛用面であ
る。
本実施例における電子基板に実装される電子回路チップ
およびチップから出ているグランドピン。
およびチップから出ているグランドピン。
電源ピン、および信号ピンと本実施例における電子基板
との接続状況を示したものが、第15図である。
との接続状況を示したものが、第15図である。
第15図において、電子回路チップ175の信号ピン1
70の通るスルーホール520は各配線層、23,26
.28にあるランド部167〜169につながっている
。また、絶縁層501とスルーホール520は隣接して
おり、両者間の熱伝導は良好に行われる。また、グラン
ド層24゜27、電源層25と絶縁層501も隣接して
おり、両者間の熱伝導は良好に行われる。また、グラン
ド層24.27とスルーホール520は空間172゜1
74によって絶縁されており、電源層25とスルーホー
ル520は空間173によって絶縁されている。
70の通るスルーホール520は各配線層、23,26
.28にあるランド部167〜169につながっている
。また、絶縁層501とスルーホール520は隣接して
おり、両者間の熱伝導は良好に行われる。また、グラン
ド層24゜27、電源層25と絶縁層501も隣接して
おり、両者間の熱伝導は良好に行われる。また、グラン
ド層24.27とスルーホール520は空間172゜1
74によって絶縁されており、電源層25とスルーホー
ル520は空間173によって絶縁されている。
グランドピン161の通るスルーホール163は各配線
層23.28上にあるランド部177゜178に電気的
に接続されている。絶縁層501とスルーホール163
は隣接しており、両者間の熱伝導は良好に行われる。ま
た、グランド層24゜27とスルーホール163は電気
的に接続されている。また、電源層25とスルーホール
163は空間164によって絶縁されている。
層23.28上にあるランド部177゜178に電気的
に接続されている。絶縁層501とスルーホール163
は隣接しており、両者間の熱伝導は良好に行われる。ま
た、グランド層24゜27とスルーホール163は電気
的に接続されている。また、電源層25とスルーホール
163は空間164によって絶縁されている。
/E’?)
電源ピン162の通るスルーホール165は各、配線層
23.28上にあるランド部180,181に電気的に
接続されている。また、電源層25は電気的にスルーホ
ール165に接続されている。
23.28上にあるランド部180,181に電気的に
接続されている。また、電源層25は電気的にスルーホ
ール165に接続されている。
絶縁層501はスルーホール165に隣接しており、両
者間の熱伝導は良好に行われる。グランド層24.27
とスルーホール165は空間166゜176によって絶
縁されている。
者間の熱伝導は良好に行われる。グランド層24.27
とスルーホール165は空間166゜176によって絶
縁されている。
以上にように構成した電子基板において、基板に実装さ
れた電子回路チップ175から発生した熱は次のように
して冷却される。まず、発生した熱の一部は該チップ1
75表面へと伝わり、そこで冷却される。残りの熱は、
信号ピン170.グランドピン161.電源ピン162
を伝わる。ここで、一部の熱はピン表面で冷却される。
れた電子回路チップ175から発生した熱は次のように
して冷却される。まず、発生した熱の一部は該チップ1
75表面へと伝わり、そこで冷却される。残りの熱は、
信号ピン170.グランドピン161.電源ピン162
を伝わる。ここで、一部の熱はピン表面で冷却される。
ピン170を伝わった熱はハンダ171.スルーホール
520を伝わって、絶縁層501に伝わる。ここで、絶
縁層501は電気の絶縁体であるが、熱の良導体である
ので、スルーホール520と絶縁層501の間の熱抵抗
は絶縁層501が熱の不良導体である場合に比べて小さ
く、両者間の熱伝導は良好に行われる。
520を伝わって、絶縁層501に伝わる。ここで、絶
縁層501は電気の絶縁体であるが、熱の良導体である
ので、スルーホール520と絶縁層501の間の熱抵抗
は絶縁層501が熱の不良導体である場合に比べて小さ
く、両者間の熱伝導は良好に行われる。
ピン161を伝わった熱はハンダ179.スルーホール
163を伝わって電気的に接続されているグランド層2
4.27に伝わり、また隣接している絶縁層501にも
伝わる。ここで、絶縁層501は電気の絶縁体であるが
、熱の良導体であるので、スルーホール163と絶縁層
501の間の熱抵抗は、絶縁層501が熱の不良導体で
ある場合に比べて小さく、両者間の熱伝導は良好に行わ
れる。
163を伝わって電気的に接続されているグランド層2
4.27に伝わり、また隣接している絶縁層501にも
伝わる。ここで、絶縁層501は電気の絶縁体であるが
、熱の良導体であるので、スルーホール163と絶縁層
501の間の熱抵抗は、絶縁層501が熱の不良導体で
ある場合に比べて小さく、両者間の熱伝導は良好に行わ
れる。
ピン162を伝わった熱は、ハンダ182.スルーホー
ル165を伝わって、接続されている電源層25に伝わ
り、また隣接している絶縁層501にも伝わる。
ル165を伝わって、接続されている電源層25に伝わ
り、また隣接している絶縁層501にも伝わる。
ここで絶縁層501は電気の絶縁体であるが、熱の良導
体であるので、スルーホール165と絶縁層501の間
の熱抵抗は、絶縁層501が熱の不良導体である場合に
比べて小さく、両者間の熱伝導は良好に行われる。
体であるので、スルーホール165と絶縁層501の間
の熱抵抗は、絶縁層501が熱の不良導体である場合に
比べて小さく、両者間の熱伝導は良好に行われる。
以上のようにして、グランド層24,27、電源層25
、絶縁層501に伝わった熱は、次の径路のいずれかに
よって冷却される。
、絶縁層501に伝わった熱は、次の径路のいずれかに
よって冷却される。
まず、第1にグランド層24,27、電源層25、絶縁
層501から電子基板の厚み方向に熱が伝わり、電子基
板表面に達して、そこで冷却される。ここで絶縁層50
1は熱の良導体であるので、絶縁層に熱の不良導体を用
いた場合に比べてすみやかに熱が基板表面に伝わるため
、より良好に冷却される。
層501から電子基板の厚み方向に熱が伝わり、電子基
板表面に達して、そこで冷却される。ここで絶縁層50
1は熱の良導体であるので、絶縁層に熱の不良導体を用
いた場合に比べてすみやかに熱が基板表面に伝わるため
、より良好に冷却される。
第2に、グランド層24,27、電源層25゜絶縁層5
01よりも低い温度のグランドピン、電源ピン、信号ピ
ンを伝わって、該ピンの表面および該ピンをもつチップ
の表面にて冷却される。ここで、絶縁層501が熱の不
良導体である場合は、熱のグランド層、電源層を伝わり
グランドピン。
01よりも低い温度のグランドピン、電源ピン、信号ピ
ンを伝わって、該ピンの表面および該ピンをもつチップ
の表面にて冷却される。ここで、絶縁層501が熱の不
良導体である場合は、熱のグランド層、電源層を伝わり
グランドピン。
電源ピンを伝わってチップ表面に至る径路が主であるが
、本実施例では絶縁層501の熱の良導体を用いている
ので、上記径路のばか絶縁層を伝わってグランドピン、
電源ピンを伝わってチップ表面に至る径路、絶縁層を伝
わって信号ピンを伝わりチップ表面に至る径路があり、
径路が増した分だけ熱伝導が促進されより良好に冷却さ
れる。
、本実施例では絶縁層501の熱の良導体を用いている
ので、上記径路のばか絶縁層を伝わってグランドピン、
電源ピンを伝わってチップ表面に至る径路、絶縁層を伝
わって信号ピンを伝わりチップ表面に至る径路があり、
径路が増した分だけ熱伝導が促進されより良好に冷却さ
れる。
第3に、グランド層、電源層、絶縁層を伝わって、これ
らの層の先に設けられた冷却設備において冷却される。
らの層の先に設けられた冷却設備において冷却される。
ここで、絶縁層501が熱の不良導体である場合に比べ
て、本実施例の方が絶縁層501を通って先の冷却設備
に達する熱量が多く、発熱チップの冷却により有効であ
る。
て、本実施例の方が絶縁層501を通って先の冷却設備
に達する熱量が多く、発熱チップの冷却により有効であ
る。
また、グランド層、電源層を第15図に示す如く多層に
配しであるため、クロストークによるノイズを低減する
効果は第3実施例と同様であり、その効果をより顕著に
する方法も同様である。
配しであるため、クロストークによるノイズを低減する
効果は第3実施例と同様であり、その効果をより顕著に
する方法も同様である。
また、グランド層、電源層を第15図に示す如く多層に
配すると、多層にわたるグランド層、電源層全体と同じ
厚みのグランド層、電源層を一層ずつにした場合に比べ
て、基板表面から近い場所に熱の良導体であるグランド
層、電源層を多く配することができるので、基板表面で
の冷却に有利である。これは絶縁層501が熱の不良導
体である場合についても同様である。
配すると、多層にわたるグランド層、電源層全体と同じ
厚みのグランド層、電源層を一層ずつにした場合に比べ
て、基板表面から近い場所に熱の良導体であるグランド
層、電源層を多く配することができるので、基板表面で
の冷却に有利である。これは絶縁層501が熱の不良導
体である場合についても同様である。
また、電源層、グランド層を多層に設けたことにより、
電源層、グランド層のインピーダンスを小さくでき、高
周波動作に対する電源電位、グランド電位の変動を基板
内で小さく抑えることができる。
電源層、グランド層のインピーダンスを小さくでき、高
周波動作に対する電源電位、グランド電位の変動を基板
内で小さく抑えることができる。
また、本実施例においては、発熱する電子回路チップ1
75からの熱が内層のグランド層24゜27、電源層2
5はもちろん、熱伝導性のよい絶縁層501をも伝わっ
て基板全体に広がるため、絶縁層501が熱の不良導体
である場合に比べて、より効果的に基板の温度の均一化
を図ることができる。
75からの熱が内層のグランド層24゜27、電源層2
5はもちろん、熱伝導性のよい絶縁層501をも伝わっ
て基板全体に広がるため、絶縁層501が熱の不良導体
である場合に比べて、より効果的に基板の温度の均一化
を図ることができる。
また、ここでは、領域172〜174,164゜166
.176は空間であったが、この部分も、電気的絶縁性
にすぐれかつ熱の良導体である材料または構造で構成し
てもよい。このような構造においてはこの部分も熱の伝
導に寄与できるようになるので、上記効果がより効果的
にあられれる。
.176は空間であったが、この部分も、電気的絶縁性
にすぐれかつ熱の良導体である材料または構造で構成し
てもよい。このような構造においてはこの部分も熱の伝
導に寄与できるようになるので、上記効果がより効果的
にあられれる。
また、第3図の例は本発明を6層板で構成する場合の一
実施例であって、配線層の絶縁層を介した隣りにグラン
ド層または電源層を設けており、しかも絶縁層が電気的
な絶縁性をもちかつ熱の良導性をもつ材料または構造か
ら成っているならば、第3図に示した層構成とは順序が
異っていてもまた層数が第3図と異なっていても、本発
明の電子基板を構成したことになる。
実施例であって、配線層の絶縁層を介した隣りにグラン
ド層または電源層を設けており、しかも絶縁層が電気的
な絶縁性をもちかつ熱の良導性をもつ材料または構造か
ら成っているならば、第3図に示した層構成とは順序が
異っていてもまた層数が第3図と異なっていても、本発
明の電子基板を構成したことになる。
例えば、第1図において絶縁層5が電気的な絶縁性をも
ちかつ熱の良導性をもつ材料または構造から成っている
ならば、本発明を4層板で構成した一実施例となり、第
2図において絶縁層500が電気的な絶縁性をもちかつ
熱の良導性をもつ材料または構造から成っているならば
、本発明を8層板で構成した一実施例となる。また、第
4図において、絶縁層502が電気的な絶縁性をもちか
つ熱の良導性をもつ材料または構造から成っているなら
ば、本発明を12層板で構成した一実施例となる。これ
らの効果は第14実施例と同様である。
ちかつ熱の良導性をもつ材料または構造から成っている
ならば、本発明を4層板で構成した一実施例となり、第
2図において絶縁層500が電気的な絶縁性をもちかつ
熱の良導性をもつ材料または構造から成っているならば
、本発明を8層板で構成した一実施例となる。また、第
4図において、絶縁層502が電気的な絶縁性をもちか
つ熱の良導性をもつ材料または構造から成っているなら
ば、本発明を12層板で構成した一実施例となる。これ
らの効果は第14実施例と同様である。
実施例1〜14のいずれかまたはそのうちいくつかを組
合わせた電子基板を予め加熱しておいて、その後、部品
のハンダ付けを行う実装方法が本発明の第15実施例で
ある。
合わせた電子基板を予め加熱しておいて、その後、部品
のハンダ付けを行う実装方法が本発明の第15実施例で
ある。
このような電子基板を本方式を用いずに、予熱しないま
ま部品のハンダ付けを行おうとすると、グランド層、電
源層等の熱伝導性の良い層に熱抵抗が低くなるような方
法で接続されたスルーホールに加わった熱はすぐにグラ
ンド層、電源層等の熱伝導性のよい層に逃げてしまって
ハンダ付けが良好に行われないが、本方式を用いると、
予めグランド層、電源層等の熱伝導性の良い層は加熱さ
れて温度が高くなっているから、該スルーホールに加わ
った熱はグランド層、電源層等の熱伝導性の良い層に逃
げにくくなって、ハンダ付けを良好に行うことができる
。
ま部品のハンダ付けを行おうとすると、グランド層、電
源層等の熱伝導性の良い層に熱抵抗が低くなるような方
法で接続されたスルーホールに加わった熱はすぐにグラ
ンド層、電源層等の熱伝導性のよい層に逃げてしまって
ハンダ付けが良好に行われないが、本方式を用いると、
予めグランド層、電源層等の熱伝導性の良い層は加熱さ
れて温度が高くなっているから、該スルーホールに加わ
った熱はグランド層、電源層等の熱伝導性の良い層に逃
げにくくなって、ハンダ付けを良好に行うことができる
。
実施例1〜14のいずれかまたはそのうちのいくつかを
組合わせた電子基板に部品を実装するに際し、予めIC
,LSI等用のソケットを該電子基板に組込み、第15
実施例の如くこの電子基板を予め加熱した後にハンダ付
けを行ない、十分冷却した後にIC,LSI等をソケッ
トにはめ込む実装方法が、本発明の第16の実施例であ
る。
組合わせた電子基板に部品を実装するに際し、予めIC
,LSI等用のソケットを該電子基板に組込み、第15
実施例の如くこの電子基板を予め加熱した後にハンダ付
けを行ない、十分冷却した後にIC,LSI等をソケッ
トにはめ込む実装方法が、本発明の第16の実施例であ
る。
このような電子基板において第15実施例のような方法
で部品の実装を行つ・た場合、予熱時間が長いかまたは
予熱温度が高いと組み込んだICまたはLSI等が故障
し、正常動作しなくなる可能性がある。
で部品の実装を行つ・た場合、予熱時間が長いかまたは
予熱温度が高いと組み込んだICまたはLSI等が故障
し、正常動作しなくなる可能性がある。
そこで、本方法を用いれば、ICまたはLSIを高温に
さらすことなく部品の実装を行うことができる。
さらすことなく部品の実装を行うことができる。
〔発明の効果〕
本発明の電子基板によれば、電子基板内部に設けたグラ
ンド層、電源層によって熱をその先に設けられた冷却部
に伝導することができる。
ンド層、電源層によって熱をその先に設けられた冷却部
に伝導することができる。
また、配線層に絶縁層を介して隣接する層には、グラン
ド層または電源層を配することにより、この配線層にお
ける配線のインピーダンスを小さくできるので、この配
線層上を平行に走る配線間の静電結合によるクロストー
クによるノイズを低減できる。
ド層または電源層を配することにより、この配線層にお
ける配線のインピーダンスを小さくできるので、この配
線層上を平行に走る配線間の静電結合によるクロストー
クによるノイズを低減できる。
本発明の電子基板装置によれば、電源ユニットから電源
板、グランド板を介して、マザーボードに電源が供給さ
れており、電源板、グランド板上で各、システム全体の
基準となる電源電位、グランド電位を安定化させること
ができるので、マザーボード、ドーターボード上の電源
電位、グランド電位を安定させることができる。
板、グランド板を介して、マザーボードに電源が供給さ
れており、電源板、グランド板上で各、システム全体の
基準となる電源電位、グランド電位を安定化させること
ができるので、マザーボード、ドーターボード上の電源
電位、グランド電位を安定させることができる。
また、マザーボード、ドーターボードの各電子基板にお
いては、電源層、グランド層を多層に設けたことにより
、電源層、グランド層そのもののインピーダンスを小さ
くでき、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、
グランド電位の変動を基板内で小さく抑えることができ
る。
いては、電源層、グランド層を多層に設けたことにより
、電源層、グランド層そのもののインピーダンスを小さ
くでき、高周波成分を多く含む動作に対する電源電位、
グランド電位の変動を基板内で小さく抑えることができ
る。
さらに本発明の他の実装電子基板によれば、発熱する電
子回路チップからの熱が、内層のグランド層、電源層等
の熱伝導性のよい層を伝わって基板全体に広がる上、高
発熱チップは冷却用流体の流速を速めた場所、冷却用流
体に乱れを発生させた場所に配し、他の低発熱チップに
比べ、より効果的に冷却しているため、基板の温度を均
一化することかできる。
子回路チップからの熱が、内層のグランド層、電源層等
の熱伝導性のよい層を伝わって基板全体に広がる上、高
発熱チップは冷却用流体の流速を速めた場所、冷却用流
体に乱れを発生させた場所に配し、他の低発熱チップに
比べ、より効果的に冷却しているため、基板の温度を均
一化することかできる。
本発明の電子基板の実装方法によれば、グランド層電源
層等の熱伝導率のよい層に熱抵抗の小さい方法で接続さ
れたスルーホールを通る電子回路チップのピンを該スル
ーホールにハンダ付けする際に、グランド層、電源層等
の熱伝導性のよい層を予め加熱しておくので、これらの
層とハンダの融点との温度差が小さくなって、ハンダ付
けの際に該スルーホールから熱を逃げにくくすることが
できるので良好にハンダ付けを行うことができる。
層等の熱伝導率のよい層に熱抵抗の小さい方法で接続さ
れたスルーホールを通る電子回路チップのピンを該スル
ーホールにハンダ付けする際に、グランド層、電源層等
の熱伝導性のよい層を予め加熱しておくので、これらの
層とハンダの融点との温度差が小さくなって、ハンダ付
けの際に該スルーホールから熱を逃げにくくすることが
できるので良好にハンダ付けを行うことができる。
第1図は本発明の第1実施例を示す断面図、第2図は本
発明の第2実施例を示す断面図、第3図は本発明の第3
参か参葉十→実施例を示す断面図、第4図は本発明は本
発明の第4実施例を示す断面図である。第5図は従来技
術によるサーマルランドを示す図、第6図は本発明の第
5実施例を示す図、第7図は本発明の第8実施例を示す
断面図、第8図は本発明の第9実施例を示す断面図、第
9図、第10図および第14図は本発明の第12実流側
を示す図、第11図は本発明の第13実施例を示す図、
第12図は本発明の第10実施例を示す断面図、第13
図は本発明の第6実施例を示す5・・・絶縁層、9・・
・グランドピン、10・・・信号ピン、11・・・電源
ピン、1.3,15,18.20・・・配線層、14.
19・・・グランド層、16.17・・・電源層、21
.22・・・配線、23,26,28・・・配線層、2
4.27・・・グランド層、25・・・電源層、29.
33,38,40・・・配線層、30,32゜34.3
7.39・・・グランド層、31,35゜36・・・電
源層、41.46・・・スルーホール、42・・・切欠
部、43・・・チャネル部、44・・・ランド部、45
.47・・・グランド層、48.51・・・配線層、4
9・・・グランド層、50・・・電源層、56・・・信
号ピン、58.61・・・n己線層、59・・・グラン
ド層、60・・・電源層、66.71,507・・・信
号ピン、73〜82・・・コネクター、83〜86・・
・ZIP・・・メモリ、87〜105・・・高発熱電子
回路チップ、107〜109・・・電子基板、110〜
117・・・伝導板、121・・・マザーボード、12
2・・・グランド板、123・・・電源板、124,1
25,127〜132・・・伝導板、136,139,
141・・・配線層、137,140・・・グランド層
、138・・・電源層、150・・・信号ピン、152
・・・絶縁層、153・・・スルーホール、156・・
・グランド層、157〜159・・・コネクター 16
1・・・グランドピン、162・・・電源ピン、17o
・・・信号ピン、183゜186.188・・・配線層
、184,187・・・グランド層、185・・・電源
層、500〜502・・・絶縁層、503・・・高発熱
電子回路チップ、508〜515・・・伝導板。 /83.186./絽 1B4 、/8’/ 18.5 /89〜/91 /’?2.193 /’?4〜/?6 へンタパ /98 信号ピン /99 絆l休4
発明の第2実施例を示す断面図、第3図は本発明の第3
参か参葉十→実施例を示す断面図、第4図は本発明は本
発明の第4実施例を示す断面図である。第5図は従来技
術によるサーマルランドを示す図、第6図は本発明の第
5実施例を示す図、第7図は本発明の第8実施例を示す
断面図、第8図は本発明の第9実施例を示す断面図、第
9図、第10図および第14図は本発明の第12実流側
を示す図、第11図は本発明の第13実施例を示す図、
第12図は本発明の第10実施例を示す断面図、第13
図は本発明の第6実施例を示す5・・・絶縁層、9・・
・グランドピン、10・・・信号ピン、11・・・電源
ピン、1.3,15,18.20・・・配線層、14.
19・・・グランド層、16.17・・・電源層、21
.22・・・配線、23,26,28・・・配線層、2
4.27・・・グランド層、25・・・電源層、29.
33,38,40・・・配線層、30,32゜34.3
7.39・・・グランド層、31,35゜36・・・電
源層、41.46・・・スルーホール、42・・・切欠
部、43・・・チャネル部、44・・・ランド部、45
.47・・・グランド層、48.51・・・配線層、4
9・・・グランド層、50・・・電源層、56・・・信
号ピン、58.61・・・n己線層、59・・・グラン
ド層、60・・・電源層、66.71,507・・・信
号ピン、73〜82・・・コネクター、83〜86・・
・ZIP・・・メモリ、87〜105・・・高発熱電子
回路チップ、107〜109・・・電子基板、110〜
117・・・伝導板、121・・・マザーボード、12
2・・・グランド板、123・・・電源板、124,1
25,127〜132・・・伝導板、136,139,
141・・・配線層、137,140・・・グランド層
、138・・・電源層、150・・・信号ピン、152
・・・絶縁層、153・・・スルーホール、156・・
・グランド層、157〜159・・・コネクター 16
1・・・グランドピン、162・・・電源ピン、17o
・・・信号ピン、183゜186.188・・・配線層
、184,187・・・グランド層、185・・・電源
層、500〜502・・・絶縁層、503・・・高発熱
電子回路チップ、508〜515・・・伝導板。 /83.186./絽 1B4 、/8’/ 18.5 /89〜/91 /’?2.193 /’?4〜/?6 へンタパ /98 信号ピン /99 絆l休4
Claims (21)
- 1. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の間
に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板におい
て、前記配線層は両側に前記グランド層又は前記電源層
が配置されている層を含めて複数層配されていることを
特徴とする電子基板。 - 2. 請求項1記載の電子基板において、前記電源層を
複数層有することを特徴とする電子基板。 - 3. 請求項1記載の電子基板において、前記グランド
層を複数層有することを特徴とする電子基板。 - 4. 請求項2記載の電子基板において、前記電源層の
少なくとも一層の厚さは前記配線層の厚さよりも大きい
ことを特徴とする電子基板。 - 5. 請求項3記載の電子基板において、前記グランド
層の少なくとも一層の厚さは前記配線層の厚さよりも大
きいことを特徴とする電子基板。 - 6. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の間
に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板におい
て、前記配線層を複数層有し、前記電源層と前記グラン
ド層の数の和は前記配線層の数よりも多いことを特徴と
する電子基板。 - 7. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の間
に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板におい
て、前記配線層を複数層有し、前記電源層または前記グ
ランド層を複数層有していることを特徴とする電子基板
。 - 8. 請求項6または請求項7記載の電子基板において
、前記配線層の1つは両側に前記グランド層または配線
層が配置されていることを特徴とする電子基板。 - 9. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の間
に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板におい
て、前記グランド層又は前記電源層の厚さは前記配線層
の厚さよりも大きいことを特徴とする電子基板。 - 10. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の
間に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板にお
いて、前記電源層に形成されているあるスルーホールと
他のスルーホールとの直線間は直接接続されていること
を特徴とする電子基板。 - 11. 請求項10記載の電子基板において、前記電源
層に形成された各スルーホールの直線間は直接接続され
ていることを特徴とする電子基板。 - 12. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の
間に絶縁間を介して多層に配置されている電子基板にお
いて、前記グランド層に形成されているあるスルーホー
ルと他のスルーホールとの直線間は直接接続されている
ことを特徴とする電子基板。 - 13. 請求項12記載の電子基板において、前記グラ
ンド層に形成された各スルーホールの直線間は直接接続
されていることを特徴とする電子基板。 - 14. 請求項1ないし請求項13のいずれか記載の電
子基板において、前記配線層に配線された平行配線間の
最小距離を前記配線層とそれに隣接する前記グランド層
または前記電源層の距離よりも大きくしたことを特徴と
する電子基板。 - 15. 請求項1ないし請求項14のいずれか記載の電
子基板の前記電源層の少なくとも1つに電子回路のチッ
プの電源ピンが接続されていることを特徴とする実装電
子基板。 - 16. 請求項1ないし請求項14のいずれか記載の電
子基板の前記電源層の少なくとも1つに電子回路のチッ
プの電源ピンが接続されていることを特徴とする実装電
子基板。 - 17. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の
間に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板に電
子回路チップの実装を行つた実装電子基板において、前
記電子回路のチップの内部回路と電気的に絶縁されてい
るピンまたは使用しない入力ピンを前記グランド層また
は前記電源層に接続したことを特徴とする実装電子基板
。 - 18. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の
間に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板上に
冷却用流体を流通させて電子基板上の電子回路チップか
ら発生する熱を冷却する実装電子基板装置において、前
記冷却用流体が流通する上流側端部に複数のコネクター
を間隔をもつて配置し、前記コネクターによつて冷却用
流体の流速が大きくなつた部分または乱れが生じる部分
に高発熱のチップを配置したことを特徴とする実装電子
基板。 - 19. 配線層,グランド層,電源層がそれぞれの層の
間に絶縁層を介して多層に配置されている電子基板の電
子基板装置において、前記電子基板のグランド線,電源
線,信号線をそれぞれマザーボードの対応するグランド
線,電源線,信号線と接続し、前記マザーボードの電源
層と電源板とを伝導板で接続し、前記マザーボードのグ
ランド層とグランド板とを伝導板で接続したことを特徴
とする電子基板装置。 - 20. 請求項19記載の電子基板装置において、前記
グランド板または前記電源板の表面に凹凸またはフィン
を設けたことを特徴とする電子基板装置。 - 21. 請求項1ないし請求項15のいずれか記載の電
子基板に部品を実装する電子基板の実装方法において、
前記電子基板を予め加熱し、前記グランド層及び前記電
源層の温度を上げた状態で部品を前記電子基板にハンダ
付けをすることを特徴とする電子基板の実装方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1004923A JP2760829B2 (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 電子基板 |
EP19900100520 EP0378211A3 (en) | 1989-01-13 | 1990-01-11 | Circuit board, electronic circuit chip-mounted circuit board and circuit board apparatus |
US08/029,919 US5371653A (en) | 1989-01-13 | 1993-03-11 | Circuit board, electronic circuit chip-mounted circuit board and circuit board apparatus |
US08/291,893 US5590030A (en) | 1989-01-13 | 1994-08-17 | Circuit board capable of efficiently conducting heat through an inside thereof using thermal lands surrounding through-hole connections |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1004923A JP2760829B2 (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 電子基板 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9214390A Division JPH1093237A (ja) | 1997-08-08 | 1997-08-08 | 電子基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02186694A true JPH02186694A (ja) | 1990-07-20 |
JP2760829B2 JP2760829B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=11597131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1004923A Expired - Lifetime JP2760829B2 (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 電子基板 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5371653A (ja) |
EP (1) | EP0378211A3 (ja) |
JP (1) | JP2760829B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996022008A1 (fr) * | 1995-01-10 | 1996-07-18 | Hitachi, Ltd. | Appareil electronique a faible interference electromagnetique, carte de circuit a faible interference electromagnetique et procede de fabrication de la carte de circuit a faible interference |
WO2001005201A1 (fr) * | 1999-07-09 | 2001-01-18 | Fujitsu Limited | Carte a circuit imprime, substrat auxiliaire de montage hierarchique et dispositif electronique |
US6639155B1 (en) * | 1997-06-11 | 2003-10-28 | International Business Machines Corporation | High performance packaging platform and method of making same |
JP2012256714A (ja) * | 2011-06-09 | 2012-12-27 | Toyota Industries Corp | 放熱装置 |
WO2016088291A1 (ja) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | ソニー株式会社 | センサ素子、ジャイロセンサ及び電子機器 |
JP2020167311A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日本ケミコン株式会社 | バスバー積層体及びそれを備える電子部品実装モジュール、電子部品実装モジュールの製造方法 |
JP2021089992A (ja) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 三菱電機株式会社 | 電力変換装置 |
Families Citing this family (69)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2760829B2 (ja) * | 1989-01-13 | 1998-06-04 | 株式会社日立製作所 | 電子基板 |
US5768109A (en) * | 1991-06-26 | 1998-06-16 | Hughes Electronics | Multi-layer circuit board and semiconductor flip chip connection |
JP2501266B2 (ja) * | 1991-11-15 | 1996-05-29 | 株式会社東芝 | 半導体モジュ―ル |
US5723908A (en) * | 1993-03-11 | 1998-03-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multilayer wiring structure |
JPH07235775A (ja) * | 1994-02-21 | 1995-09-05 | Mitsubishi Electric Corp | 多層プリント配線基板 |
JPH0823149A (ja) * | 1994-05-06 | 1996-01-23 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US6981316B2 (en) * | 1994-08-08 | 2006-01-03 | Cooper Technologies Company | Method of manufacturing vehicle electric power distribution system |
JP2926689B2 (ja) * | 1995-06-07 | 1999-07-28 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 電子構成要素のパッケージ化のための多層モジュール |
JP2734447B2 (ja) * | 1995-09-14 | 1998-03-30 | 日本電気株式会社 | 多層プリント基板 |
KR20040108691A (ko) * | 1996-01-11 | 2004-12-24 | 이비덴 가부시키가이샤 | 프린트 배선판 및 그의 제조방법 |
US5981880A (en) * | 1996-08-20 | 1999-11-09 | International Business Machines Corporation | Electronic device packages having glass free non conductive layers |
US7336468B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-02-26 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
US9054094B2 (en) | 1997-04-08 | 2015-06-09 | X2Y Attenuators, Llc | Energy conditioning circuit arrangement for integrated circuit |
US7321485B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-01-22 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
US6201701B1 (en) * | 1998-03-11 | 2001-03-13 | Kimball International, Inc. | Integrated substrate with enhanced thermal characteristics |
US6181551B1 (en) * | 1998-04-15 | 2001-01-30 | Dell Usa, L.P. | Pin soldering enhancement and method |
US6235994B1 (en) | 1998-06-29 | 2001-05-22 | International Business Machines Corporation | Thermal/electrical break for printed circuit boards |
US6246582B1 (en) | 1998-12-30 | 2001-06-12 | Honeywell Inc. | Interchangeable stiffening frame with extended width wedgelock for use in a circuit card module |
US6212075B1 (en) | 1998-12-30 | 2001-04-03 | Honeywell Inc. | Adapter kit to allow extended width wedgelock for use in a circuit card module |
US6303500B1 (en) * | 1999-02-24 | 2001-10-16 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for electroless plating a contact pad |
US6574108B1 (en) * | 1999-08-31 | 2003-06-03 | Seagate Technology Llc | Selective PCB via location to enhance cooling |
US6539449B1 (en) * | 2000-03-14 | 2003-03-25 | Intel Corporation | Capacitively loaded continuity module |
US7170361B1 (en) | 2000-04-13 | 2007-01-30 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus of interposing voltage reference traces between signal traces in semiconductor devices |
US6445590B1 (en) * | 2000-06-15 | 2002-09-03 | Intel Corporation | Capacitor for DRAM connector |
US6516954B2 (en) | 2000-06-29 | 2003-02-11 | Servervault Corp. | Equipment rack with integral HVAC and power distribution features |
JP2002164713A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Tdk Corp | 被覆シート、該シートを用いたトリプレート線路、該シートを用いたコンピュータ用信号バス及び該シートを用いた電子回路被覆構造 |
GB2374984B (en) * | 2001-04-25 | 2004-10-06 | Ibm | A circuitised substrate for high-frequency applications |
US6521842B2 (en) * | 2001-06-20 | 2003-02-18 | International Business Machines Corporation | Hybrid surface mount and pin thru hole circuit board |
US6900992B2 (en) * | 2001-09-18 | 2005-05-31 | Intel Corporation | Printed circuit board routing and power delivery for high frequency integrated circuits |
US6545872B1 (en) * | 2001-10-12 | 2003-04-08 | Compaq Information Technologies Group, L.P. | Heat sink for edge connectors |
US6534854B1 (en) * | 2001-11-08 | 2003-03-18 | Conexant Systems, Inc. | Pin grid array package with controlled impedance pins |
US20030123238A1 (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-03 | Chia-Hsing Yu | Enhanced PCB and stacked substrate structure |
US20040108130A1 (en) * | 2002-12-09 | 2004-06-10 | Yazaki Corporation | Mounting structure for electronic component |
JP4062168B2 (ja) * | 2003-05-19 | 2008-03-19 | ソニー株式会社 | 端子部材の構造 |
US7242592B2 (en) * | 2003-06-24 | 2007-07-10 | Amphenol Corporation | Printed circuit board for high speed, high density electrical connector with improved cross-talk minimization, attenuation and impedance mismatch characteristics |
US7378598B2 (en) * | 2004-02-19 | 2008-05-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Printed circuit board substrate and method for constructing same |
JP4105148B2 (ja) * | 2004-12-10 | 2008-06-25 | 株式会社ケーヒン | プリント基板 |
GB2439862A (en) | 2005-03-01 | 2008-01-09 | X2Y Attenuators Llc | Conditioner with coplanar conductors |
JP4284287B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2009-06-24 | 株式会社東芝 | 電子機器、回路基板および被支持部材 |
CA2565644C (en) * | 2005-10-26 | 2014-05-20 | Pentair Water Pool And Spa, Inc. | Led pool and spa light |
US7785270B2 (en) * | 2006-03-02 | 2010-08-31 | Crs Medical Diagnostics, Inc. | Catheter testing system and uses thereof |
JP2008021637A (ja) * | 2006-06-12 | 2008-01-31 | Fujikura Ltd | ソケットとその製造方法及び半導体装置 |
DE202007001079U1 (de) * | 2007-01-18 | 2008-05-21 | Eichenauer Heizelemente Gmbh & Co. Kg | Kraftfahrzeugheizung |
JP2008227272A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Fujitsu Ltd | プリント配線板および電子装置 |
US7808788B2 (en) * | 2007-06-29 | 2010-10-05 | Delphi Technologies, Inc. | Multi-layer electrically isolated thermal conduction structure for a circuit board assembly |
US20090091889A1 (en) * | 2007-10-09 | 2009-04-09 | Oman Todd P | Power electronic module having improved heat dissipation capability |
KR101238370B1 (ko) * | 2008-06-20 | 2013-03-08 | 삼성전자주식회사 | 최적 방열을 위한 회로기판의 부품배치 방법 및 그 부품배치 방법에 의해 부품이 배치된 회로 장치 |
JP5415846B2 (ja) * | 2009-07-01 | 2014-02-12 | アルプス電気株式会社 | 電子回路ユニット |
US9036365B2 (en) | 2009-10-20 | 2015-05-19 | Nec Corporation | Interconnection substrate design supporting device, method of designing interconnection substrate, program, and interconnection substrate |
CN102056402B (zh) * | 2009-10-28 | 2013-10-09 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 具有防散热凹槽的印刷电路板及其制作方法 |
US7902465B1 (en) * | 2009-12-31 | 2011-03-08 | Oracle America, Inc. | Optimizing PCB power and ground connections for lead free solder processes |
TWI446839B (zh) * | 2010-07-23 | 2014-07-21 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 印刷電路板 |
CN102387657A (zh) * | 2010-08-31 | 2012-03-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 电路板 |
EP2716142A1 (en) | 2011-06-01 | 2014-04-09 | Telefonaktiebolaget LM Ericsson (PUBL) | Thermo/electrical conductor arrangement for multilayer printed circuit boards |
CN102811549A (zh) * | 2011-06-03 | 2012-12-05 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 电路板 |
CN103379727A (zh) * | 2012-04-26 | 2013-10-30 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 具有静电防护结构的电路板 |
GB2512378A (en) * | 2013-03-28 | 2014-10-01 | Ibm | Device and method for cooling electronic components and for supplying power to the electronic components |
CN104968138B (zh) * | 2015-06-02 | 2018-03-02 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 一种印刷电路板 |
US9706639B2 (en) * | 2015-06-18 | 2017-07-11 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Circuit board and method of manufacturing the same |
US10157907B2 (en) * | 2015-12-03 | 2018-12-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
FR3062273B1 (fr) * | 2017-01-20 | 2021-03-19 | Delphi Int Operations Luxembourg Sarl | Carte a circuit imprime multicouche et methode pour sa fabrication |
JP6981022B2 (ja) * | 2017-03-17 | 2021-12-15 | セイコーエプソン株式会社 | プリント回路板および電子機器 |
JP6984442B2 (ja) * | 2018-01-25 | 2021-12-22 | 富士通株式会社 | 基板、電子装置、及び基板の設計支援方法 |
US10736218B1 (en) * | 2019-06-10 | 2020-08-04 | Mellanox Technologies, Ltd. | Networking cards with increased thermal performance |
US11140780B2 (en) * | 2019-06-10 | 2021-10-05 | Mellanox Technologies, Ltd. | Networking cards with increased performance |
JP7381323B2 (ja) * | 2019-12-17 | 2023-11-15 | 日東電工株式会社 | 両面配線回路基板の製造方法および両面配線回路基板 |
US11284502B2 (en) * | 2020-02-11 | 2022-03-22 | Western Digital Technologies, Inc. | Thermal relief for through-hole and surface mounting |
EP3937337B1 (en) | 2020-07-09 | 2022-11-09 | Japan Tobacco Inc. | Power supply unit for aerosol inhaler comprising a temperature sensor |
US11412610B2 (en) * | 2020-11-04 | 2022-08-09 | Juniper Networks, Inc | Apparatus, system, and method for mitigating the swiss cheese effect in high-current circuit boards |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6158297A (ja) * | 1984-08-29 | 1986-03-25 | 沖電気工業株式会社 | 多層印刷配線板 |
JPS61248500A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-05 | オ−ケ−プリント配線株式会社 | 電子装置 |
JPS634695A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-09 | 日立超エル・エス・アイエンジニアリング株式会社 | 多層プリント配線基板 |
JPS6395278U (ja) * | 1986-12-11 | 1988-06-20 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3436604A (en) * | 1966-04-25 | 1969-04-01 | Texas Instruments Inc | Complex integrated circuit array and method for fabricating same |
FR1552207A (ja) * | 1967-11-22 | 1969-01-03 | ||
US4030190A (en) * | 1976-03-30 | 1977-06-21 | International Business Machines Corporation | Method for forming a multilayer printed circuit board |
US4054483A (en) * | 1976-12-22 | 1977-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Additives process for producing plated holes in printed circuit elements |
JPS6011840B2 (ja) * | 1980-04-22 | 1985-03-28 | 日本電気株式会社 | 電子回路パッケ−ジの冷却構造 |
EP0052738A1 (de) * | 1980-11-25 | 1982-06-02 | Contraves Ag | Leiterplatte |
EP0054597A1 (fr) * | 1980-12-18 | 1982-06-30 | International Business Machines Corporation | Dispositif pour le refroidissement des broches de modules |
JPS582054A (ja) * | 1981-06-26 | 1983-01-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
US4485429A (en) * | 1982-06-09 | 1984-11-27 | Sperry Corporation | Apparatus for cooling integrated circuit chips |
DE3321321A1 (de) * | 1982-06-19 | 1983-12-22 | Ferranti plc, Gatley, Cheadle, Cheshire | Elektrische schaltungsanordnung |
US4498122A (en) * | 1982-12-29 | 1985-02-05 | At&T Bell Laboratories | High-speed, high pin-out LSI chip package |
US4535385A (en) * | 1983-04-22 | 1985-08-13 | Cray Research, Inc. | Circuit module with enhanced heat transfer and distribution |
US4628407A (en) * | 1983-04-22 | 1986-12-09 | Cray Research, Inc. | Circuit module with enhanced heat transfer and distribution |
JPS6156493A (ja) * | 1984-08-28 | 1986-03-22 | 日本電気株式会社 | 多層回路基板の電源配線構造 |
JPS61174754A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-06 | Toshiba Corp | 半導体パツケ−ジ |
JPS61220499A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-09-30 | 株式会社日立製作所 | 混成多層配線基板 |
JPS62133743A (ja) * | 1985-12-06 | 1987-06-16 | Nec Corp | 多層配線基板 |
EP0228212B1 (en) * | 1985-12-16 | 1991-08-07 | Hitachi, Ltd. | Integrated circuit device |
JPS62198200A (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-01 | 日立化成工業株式会社 | 配線板 |
US5136471A (en) * | 1987-02-26 | 1992-08-04 | Nec Corporation | Laminate wiring board |
JPS63307768A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体搭載用多層回路板 |
US4916260A (en) * | 1988-10-11 | 1990-04-10 | International Business Machines Corporation | Circuit member for use in multilayered printed circuit board assembly and method of making same |
JP2760829B2 (ja) * | 1989-01-13 | 1998-06-04 | 株式会社日立製作所 | 電子基板 |
US4954929A (en) * | 1989-08-22 | 1990-09-04 | Ast Research, Inc. | Multi-layer circuit board that suppresses radio frequency interference from high frequency signals |
JPH04291999A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-16 | Fujitsu Ltd | 部品冷却構造 |
-
1989
- 1989-01-13 JP JP1004923A patent/JP2760829B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-01-11 EP EP19900100520 patent/EP0378211A3/en not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-03-11 US US08/029,919 patent/US5371653A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-08-17 US US08/291,893 patent/US5590030A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6158297A (ja) * | 1984-08-29 | 1986-03-25 | 沖電気工業株式会社 | 多層印刷配線板 |
JPS61248500A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-05 | オ−ケ−プリント配線株式会社 | 電子装置 |
JPS634695A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-09 | 日立超エル・エス・アイエンジニアリング株式会社 | 多層プリント配線基板 |
JPS6395278U (ja) * | 1986-12-11 | 1988-06-20 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996022008A1 (fr) * | 1995-01-10 | 1996-07-18 | Hitachi, Ltd. | Appareil electronique a faible interference electromagnetique, carte de circuit a faible interference electromagnetique et procede de fabrication de la carte de circuit a faible interference |
US6353540B1 (en) | 1995-01-10 | 2002-03-05 | Hitachi, Ltd. | Low-EMI electronic apparatus, low-EMI circuit board, and method of manufacturing the low-EMI circuit board. |
US6707682B2 (en) | 1995-01-10 | 2004-03-16 | Hitachi, Ltd. | Low-EMI electronic apparatus, low-EMI circuit board, and method of manufacturing the low-EMI circuit board |
US6639155B1 (en) * | 1997-06-11 | 2003-10-28 | International Business Machines Corporation | High performance packaging platform and method of making same |
WO2001005201A1 (fr) * | 1999-07-09 | 2001-01-18 | Fujitsu Limited | Carte a circuit imprime, substrat auxiliaire de montage hierarchique et dispositif electronique |
US6717824B2 (en) | 1999-07-09 | 2004-04-06 | Fujitsu Limited | Printed wiring board unit, auxiliary substrate for hierarchical mounting, and electronic apparatus |
JP2012256714A (ja) * | 2011-06-09 | 2012-12-27 | Toyota Industries Corp | 放熱装置 |
WO2016088291A1 (ja) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | ソニー株式会社 | センサ素子、ジャイロセンサ及び電子機器 |
JPWO2016088291A1 (ja) * | 2014-12-01 | 2017-09-21 | ソニー株式会社 | センサ素子、ジャイロセンサ及び電子機器 |
US10775168B2 (en) | 2014-12-01 | 2020-09-15 | Sony Corporation | Sensor device, gyro sensor, and electronic apparatus |
JP2020167311A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日本ケミコン株式会社 | バスバー積層体及びそれを備える電子部品実装モジュール、電子部品実装モジュールの製造方法 |
JP2021089992A (ja) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 三菱電機株式会社 | 電力変換装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5590030A (en) | 1996-12-31 |
US5371653A (en) | 1994-12-06 |
JP2760829B2 (ja) | 1998-06-04 |
EP0378211A3 (en) | 1992-01-08 |
EP0378211A2 (en) | 1990-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02186694A (ja) | 電子基板 | |
US8971045B1 (en) | Module having at least one thermally conductive layer between printed circuit boards | |
US6670699B2 (en) | Semiconductor device packaging structure | |
US6292366B1 (en) | Printed circuit board with embedded integrated circuit | |
CA1210519A (en) | Circuit module with enhanced heat transfer and distribution | |
US5933324A (en) | Apparatus for dissipating heat from a conductive layer in a circuit board | |
EP2023390A1 (en) | Semiconductor device | |
JPH0821647B2 (ja) | 高密度パツケージ | |
JPH05502322A (ja) | 内部直接チップ接続を有する3次元メモリ・カード構造 | |
JPH04229645A (ja) | 電子回路パッケージ・モジュール | |
JPH1093237A (ja) | 電子基板 | |
JP2803603B2 (ja) | マルチチップパッケージ構造 | |
WO2017107480A1 (zh) | 一种热电制冷模块、集成光接口芯片和通信设备 | |
US20090159315A1 (en) | Wiring substrate | |
JP3068488B2 (ja) | プリント基板 | |
JP4899903B2 (ja) | プリント配線板、電子装置、およびプリント配線板の製造方法 | |
JP6871752B2 (ja) | プリント回路基板及びプリント回路装置 | |
JP2605785B2 (ja) | 多層配線基板の冷却構造 | |
JP2526970B2 (ja) | 集積回路パッケ―ジの冷却構造 | |
JPS6271299A (ja) | 電子装置の冷却構造 | |
JPH08288600A (ja) | コイル部品用放熱装置 | |
CN116156733A (zh) | 印刷线路板、算力板和电子设备 | |
JP2022099258A (ja) | 電子装置とともに使用するための信号伝達ルーティングを有する熱管理システム | |
JPS6046053A (ja) | 冷却構造 | |
JPH0430497A (ja) | プリント配線板ユニット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090320 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |